JP3558041B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波エネルギを用いて被加熱物を誘電加熱する高周波加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の高周波加熱装置は、被加熱物を均一に加熱することを主眼とした要素技術として、被加熱物を回転させるターンテーブル機構、加熱室内の高周波を攪拌するスターラー機構あるいは特開平11−167986号公報に記載されているように高周波が給電される平板状アンテナを回転させる機構、さらには特公平1−48629号公報に記載されているように給電される高周波と結合させた導波管を回転させる機構などがある。
【0003】
一方、近年は生活スタイルの変化にともない、調理の合理化に対してできあいのお惣菜や冷凍保存食を積極的に利用したり、家族がそれぞれ個別に食事をとる個食化の傾向が進んでいる。このような生活スタイルの変化に対して複数の食材を同時に加熱することが望まれているが、従来の均一加熱を主眼とした加熱方法では複数の食材にほぼ同じ割合の加熱エネルギが供給されるために食材の量が異なると量の多い方は温度上昇が緩く加熱不足になり、同じ食材で同じ量であっても初期の食材温度が異なると低い温度の食材は加熱不足になり、複数の食材を同時に仕上げることが困難であった。
【0004】
この課題に対し、赤外線センサを用いて複数の食材の温度を個別に検出する方法と被加熱物を収納する加熱室内に生じさせた高周波分布の強弱を積極的に利用して異なる温度の食材あるいは異なる複数の食材を同時に加熱して仕上げる装置が提供されてきた。
【0005】
これらの高周波加熱装置は、被加熱物を載置するターンテーブルと、被加熱物の重量を検知する重量センサや被加熱物の表面温度を検知する赤外線センサを備えている。そして、異なる温度の被加熱物を同時に加熱して同じ温度に仕上げる場合、まず特定の視野位置を備えた赤外線センサに対してターンテーブルを回転させることでターンテーブル上全域の温度分布を検出する。そして高温あるいは低温の被加熱物の載置位置を検出し、低温側の被加熱物を高周波の強い位置に回転移動しその位置でターンテーブルを停止して低温側の被加熱物を積極的に加熱したり、高温側の被加熱物が高周波の強い位置に移動した時に高周波出力を低下させて加熱しすぎを防止する方法を採用している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、複数の被加熱物を同時加熱する従来の装置はターンテーブル機構を用いた構成であり、対象となる被加熱物を回転移動させて高周波加熱制御が行われるため、ターンテーブル回転中に個々の被加熱物の高周波による加熱状態を最適に制御することが難しい課題があった。また、個々の被加熱物に生じる高周波加熱がターンテーブルの回転速度に依存するため、量が少ない被加熱物の場合は加熱時間が短いので同時仕上げの作用を十分に活用できる時間がない。また、量が大きく異なる複数の被加熱物の同時加熱に対しては、量の少ない被加熱物が加熱されすぎるという課題を有していた。
【0007】
また、加熱しすぎを防止するために高周波出力を低下させる方法は総加熱時間が長くなり、短時間で被加熱物を加熱できるという高周波加熱のメリットが生かせない。また、上記観点から出力を完全に停止しない場合は、高温になった被加熱物はさらに加熱されてしまう課題を有していた。
【0008】
本発明は、前記従来の課題を解決するものであり、被加熱物を移動させることなく加熱室内の高周波分布を可変制御して、単品はもとより複数の被加熱物の同時仕上げを実現させうる高周波加熱装置を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、複数の被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に高周波を発生するマグネトロンと、前記加熱室の底面に設けた略楕円形の絞り部と、アンテナを有し前記絞り部の略中央部に設けた励振部と、前記マグネトロンが発生する高周波を前記励振部へ導く導波管と、前記アンテナに接続され前記絞り部内に設けた電波放射手段と、前記電波放射手段を回転駆動するモータと、前記被加熱物の位置を検出するための赤外線センサと、前記モータを動作させ前記電波放射手段の回転角度を制御する制御手段を備え、前記電波放射手段は扇型であって根元と両側に高周波伝搬を抑制する折り曲げ部を設け前記扇型のひろがり部の方向に指向性を有する高周波を伝搬させ、前記制御手段は、前記電波放射手段を連続動作させることにより前記加熱室内の高周波分布を平均化させ、前記電波放射手段の回転を前記赤外線センサにより検出した前記被加熱物の位置に停止させることにより前記被加熱物を選択して加熱させ、前記絞り部の略楕円形の長軸方向と短軸方向の異なる電波放射特性を利用することで前記複数の異なる被加熱物の同時加熱における加熱の均一化を図ることができるものである。
【0010】
そして、電波放射手段の指向性を利用して電波放射手段の回転動作を制御することにより加熱室内全体の高周波分布の強弱を平均化させたり特定の領域の高周波を強くする。これにより、加熱室内に収納した被加熱物に対して被加熱物を移動させることなく、単品の被加熱物はもとより複数の被加熱物の同時加熱に対しては、たとえば量の多い被加熱物側に量の少ない被加熱物に対するよりも時間的に長く電波を放射させることで複数の被加熱物を移動させることなくかつ加熱むらを抑制しながら同時に仕上げることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
請求項1に記載の発明は、複数の被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に高周波を発生するマグネトロンと、前記加熱室の底面に設けた略楕円形の絞り部と、アンテナを有し前記絞り部の略中央部に設けた励振部と、前記マグネトロンが発生する高周波を前記 励振部へ導く導波管と、前記アンテナに接続され前記絞り部内に設けた電波放射手段と、前記電波放射手段を回転駆動するモータと、前記被加熱物の位置を検出するための赤外線センサと、前記モータを動作させ前記電波放射手段の回転角度を制御する制御手段を備え、前記電波放射手段は扇型であって根元と両側に高周波伝搬を抑制する折り曲げ部を設け前記扇型のひろがり部の方向に指向性を有する高周波を伝搬させ、前記制御手段は、前記電波放射手段を連続動作させることにより前記加熱室内の高周波分布を平均化させ、前記電波放射手段の回転を前記赤外線センサにより検出した前記被加熱物の位置に停止させることにより前記被加熱物を選択して加熱させ、前記絞り部の略楕円形の長軸方向と短軸方向の異なる電波放射特性を利用することで前記複数の異なる被加熱物の同時加熱における加熱の均一化を図ることができるものである。これにより、加熱室内に収納した被加熱物に対して被加熱物を移動させることなく、単品の被加熱物はもとより複数の被加熱物の同時加熱に対しては、たとえば量の多い被加熱物側に量の少ない被加熱物に対するよりも時間的に長く電波を放射させることで複数の被加熱物を移動させることなくかつ加熱むらを抑制しながら同時に仕上げることができる。
【0012】
さらに、電波放射手段による加熱室内の高周波分布の可変速度はごく短時間で実行できるので、高周波加熱に伴って変化する被加熱物の温度分布に応じてすばやくかつきめ細やかな加熱分布可変制御を行なうことができ、少量の被加熱物同士や量が大きく異なる複数の被加熱物の同時加熱に対してもそれぞれの被加熱物を同時に加熱仕上げすることができる。また、被加熱物を高速に適温加熱でき供給した高周波エネルギを有効に使用した省エネ機器を提供できる。
【0013】
また、請求項2に記載の発明は、特に、請求項1記載の絞り部が、その周縁部の絞り傾斜角を略45度としたものであり、電波放射手段から放射された高周波を被加熱物の収納された空間に澱みなく伝搬させることができる。
【0014】
また、請求項3に記載の発明は、特に、請求項1記載の絞り部の開口部には電波透過材料からなる封口手段を備えたものであり、加熱室底面を略平坦にして掃除のし易い構成の装置を提供できる。
【0015】
また、請求項4に記載の発明は、特に、請求項1記載の絞り部を加熱室底面の中央から偏心させた位置、または複数の絞り部を併設に配設したものである。
【0016】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
【0017】
(実施例1)
図1は本発明の実施例1を示す高周波加熱装置の断面図、図2は図1の上断面図である。
【0018】
図1、図2において、加熱室10は金属材料から構成された金属境界部である右側壁面11、左側壁面12、奥壁面13、上壁面14、底壁面15及び被加熱物を加熱室10内に出し入れする開閉壁面である開閉扉16により略直方体形状に構成され、給電された高周波をその内部に実質的に閉じ込めるように形成している。底壁面15には断面が略円形の絞り部17を設け、絞り部17の略中央部には加熱室10内に給電する高周波の励振部18を設けている。また、19は加熱室10に給電する高周波を発生する高周波発生手段であるマグネトロン、20はマグネトロン19が発生した高周波を励振部18に導く導波管である。励振部18には導波管20内に延在し導波管20を伝送してきた高周波と結合するアンテナ21を設け、このアンテナ21の一端は導波管タイプの指向性を有する電波放射手段22と接続している。またアンテナ21の他端は電波放射手段22を回転駆動させる駆動手段であるモータ23の出力軸を挿入組立てしている。
【0019】
電波放射手段22は扇型形状とし、扇型形状の根元に当たる側と両サイドには折り曲げ部を設けその方向への高周波の伝搬を抑制し扇型のひろがり部分の方向に高周波を伝送させる構成としている。この電波放射手段22はモータ23を駆動させることで扇型の上面が絞り部17の底面に略平行に回転駆動する。
【0020】
また、絞り部17はその周縁部の絞り傾斜角を略45度にて形成し電波放射手段22から放射される高周波を澱みなく上方の加熱室10内に伝搬させている。また、絞り部17の開口部には電波透過材料、たとえばガラス系やセラミックス系の材料からなる封口手段24を設けている。またモータ23の出力軸の回転位置を識別する位置識別手段25を設けている。
【0021】
26は被加熱物を載置する着脱自在な載置皿であり、セラミックス材料で構成している。この載置皿26は加熱室10の底壁面15に対して所望の隙間間隔を持たせて加熱室10内に装着する構成とし加熱室10の右側壁面11と左側壁面12に設けた棚にて支持している。
【0022】
また、27は温度検出手段である赤外線センサであり、加熱室の右側壁面11の上方に設けた凹部28の孔29を介して載置皿26の表面あるいは載置皿26を用いない場合は加熱室の底面の表面を温度検出領域としている。赤外線センサ27は、載置皿26の全域を温度検出領域とするためのセンサ部駆動手段(図示していない)を備えている。なお、この赤外線センサ27は複数の検出素子(例えば4素子、8素子)で構成し加熱室10の前後方向に首振りして載置皿26の全域を温度検出領域とする構成が望ましいが、単素子構成として左右方向とそれに対する垂直方向の2軸可動とした構成にしても構わない。
【0023】
30はマグネトロン19を駆動するインバータ駆動電源部、31は装置全体の動作を制御する制御手段である。赤外線センサ27が検出した信号は制御手段31に入力させている。制御手段31は、操作部32から入力された加熱情報、赤外線センサ27および位置識別手段25からの信号に基いて、インバータ駆動電源部30の動作および電波放射手段22を回転駆動するモータ23の動作を制御して加熱室10内に収納された被加熱物を誘電加熱する。
【0024】
次に以上の構成からなる本発明の高周波加熱装置の動作と作用について説明する。図3は指向性を有する電波放射手段22の性能を示すものであり、被加熱物として水200ccを入れたマグカップを2個用いた。図において、Aは載置皿26の中央の左右方向にマグカップ2個をくっつけて置いた場合、Bは載置皿26を左右方向に2等分しそれぞれの中央にマグカップを置いた場合、Cは載置皿の左右方向の端にそれぞれマグカップを置いた場合を示す。そして、電波放射手段22の扇型形状のひろがり方向を右側に向けた状態で固定してマグカッブ2個を高周波加熱した時に右側のマグカップに給電された高周波エネルギ量の全給電エネルギに対する比率を求めた。図の横軸はこの右側の被加熱物の高周波エネルギ量の比率を示す。
【0025】
また図中の破線33は絞り部17を持たない平坦な壁面に電波放射手段22を配設した時の特性、一方実線34は本発明の絞り部17を設けてその内に電波放射手段22を配設した場合の特性を示す。
【0026】
同図より、絞り部17を設けることで指向性を十分に大きくすることが認められた。絞り部17が略円形の場合、360度のすべての角度に対してこの指向性の高い高周波を伝送させることができる。そして、この高い指向性を利用して加熱室10内に載置されたそれぞれの被加熱物に向けて電波放射手段22の回転角度を規定制御することでそれらの被加熱物に集中的に高周波を供給できる。その結果、被加熱物を移動させることなく被加熱物の加熱状態にすばやく対応させた高周波分布可変制御によって被加熱物の加熱の均一化あるいは被加熱物の特定領域を選択的に加熱することができる。また、複数の異なる被加熱物の同時加熱に対しても赤外線センサ27の検出信号を活用することでそれぞれの被加熱物を適温に仕上げることができる。また、被加熱物の下方直下から電波を供給する構成であり、高周波エネルギを効率よく被加熱物に供給できる効果がある。
【0027】
なお、本発明の実施例で用いた加熱室の形状は幅367mm、奥行320mm(開閉扉含まず)、高さ235mmであり、絞り部開口部の直径は205mm、絞り深さ20mmである。また、電波放射手段22の形状は、回転中心から扇型形状の根元までの距離は27.5mm、その幅が80mm、扇型形状のひろがり部の回転中心からの半径は85mm、ひろがり角度は40度、折り曲げ部の折り曲げ寸法は10mmとした。また、折り曲げ部と絞り部底面との隙間寸法は5mmである。
【0028】
次に上記構成からなる高周波加熱装置を用いた調理加熱試験を行い次の結果を得た。なお電波放射手段22は連続回転制御(毎分35回転)とした。載置皿26の中央に置いた牛乳200ccのあたため加熱の場合、上下温度差8℃、ミックス温度64℃であった。また、市販の冷凍シューマイのあたため加熱の場合、最高温度92℃、最低温度79℃であった。
【0029】
以上より、指向性を有する電波放射手段22を連続動作させることで加熱室10全体の高周波分布を時間的に平均化することで被加熱物を効果的に全体加熱できるとともに指向性を利用して回転を所定位置に停止することで領域選択加熱することができる。
【0030】
(実施例2)
次に図4を用いて本発明の実施例2の説明をする。実施例2が実施例1と相違する構成は、加熱室10の底壁面15に設けた絞り部35の断面の形状を略楕円形状とした点である。なお、実施例1と同一部材または同一相当部材は同一番号を付与している。
【0031】
図4において、絞り部35は長軸寸法が250mm、短軸寸法を200mmとし、その略中央に励振部18を配し励振部18と電波的に結合した導波管タイプの指向性を有する電波放射手段22を配置させている。その他の構成は実施例1相当である。なお、図4は封口手段24は図示していない。
【0032】
このように絞り部35の形状を略楕円形状としたことにより、電波放射手段の放射特性は回転位置に対して異なることを利用し、たとえば電波放射手段22の扇型のひろがり部が略楕円形の長軸方向および短軸方向に向いた状態における電波放射特性を利用して複数の異なる被加熱物の同時加熱における加熱の均一化を図ることができる。
【0033】
なお、被加熱物を載置する載置皿22は、必ずしも使用する必要はないが、一度にたくさんの被加熱物を同時加熱する場合に事前に載置皿22に載せてから加熱室10に収納でき、仕上り後は載置皿22ごと取出して給仕することができる利便性を提供できる。
【0034】
また、絞り部17、35の開口部を封口手段24で覆うことにより載置皿22を取除いた後の加熱室10の底壁面がほぼフラットな状態で構成できるので被加熱物の収納時や加熱室10内を掃除する際の利便性を有する装置を提供できる。
【0035】
また、絞り部17、35は加熱室10の底壁面15の中央部に配設することに限定するものではなく、中央から偏心させた位置に設けても構わないし、さらには複数の小さな絞り部を併設配設しても構わない。
【0036】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば以下の効果を有する。
【0037】
請求項1記載の発明によれば、絞り部とその内部に設けた指向性を有する電波放射手段により、指向性を高くでき、この高い指向性を利用し電波放射手段の回転動作を制御することにより加熱室内全体の高周波分布の強弱を平均化させたり特定の領域の高周波を強くできる。これにより、加熱室内に収納した被加熱物に対して被加熱物を移動させることなく、単品の被加熱物はもとより複数の被加熱物の同時加熱に対しては、たとえば量の多い被加熱物側に量の少ない被加熱物に対するよりも時間的に長く電波を放射させることで複数の被加熱物を移動させることなくかつ加熱むらをすばやく抑制しながら同時に仕上げることができる。
【0038】
さらに、電波放射手段による加熱室内の高周波分布の可変速度はごく短時間で実行できるので、高周波加熱に伴って変化する被加熱物の温度分布に応じてすばやくかつきめ細やかな加熱分布可変制御を行なうことができ、少量の被加熱物同士や量が大きく異なる複数の被加熱物の同時加熱に対してもそれぞれの被加熱物を同時に加熱仕上げすることができる。また、被加熱物を高速に適温加熱でき供給した高周波エネルギを有効に使用した省エネ機器を提供できる。
【0039】
また、請求項2記載の発明によれば、絞り部内で電波放射手段を励振部と電波的に結合させた構成により、可動可能な構成にした電波放射手段の指向性を利用して電波放射手段の回転動作を制御することにより加熱室内全体の高周波分布の強弱を平均化させたり特定の領域の高周波を強くする。これにより、加熱室内に収納した被加熱物に対して被加熱物を移動させることなく、加熱の均一化ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の高周波加熱装置の正面断面図
【図2】同高周波加熱装置の上断面図
【図3】同高周波加熱装置の加熱特性を示す図
【図4】本発明の実施例2の高周波加熱装置の上断面図
【符号の説明】
10 加熱室
17、35 絞り部
18 励振部
22 電波放射手段
23 モータ(駆動手段)
24 封口手段
25 位置識別手段
26 載置皿
31 制御手段
Claims (4)
- 複数の被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に高周波を発生するマグネトロンと、前記加熱室の底面に設けた略楕円形の絞り部と、アンテナを有し前記絞り部の略中央部に設けた励振部と、前記マグネトロンが発生する高周波を前記励振部へ導く導波管と、前記アンテナに接続され前記絞り部内に設けた電波放射手段と、前記電波放射手段を回転駆動するモータと、前記被加熱物の位置を検出するための赤外線センサと、前記モータを動作させ前記電波放射手段の回転角度を制御する制御手段を備え、前記電波放射手段は扇型であって根元と両側に高周波伝搬を抑制する折り曲げ部を設け前記扇型のひろがり部の方向に指向性を有する高周波を伝搬させ、前記制御手段は、前記電波放射手段を連続動作させることにより前記加熱室内の高周波分布を平均化させ、前記電波放射手段の回転を前記赤外線センサにより検出した前記被加熱物の位置に停止させることにより前記被加熱物を選択して加熱させ、前記絞り部の略楕円形の長軸方向と短軸方向の異なる電波放射特性を利用することで前記複数の異なる被加熱物の同時加熱における加熱の均一化を図ることができる高周波加熱装置。
- 絞り部は、その周縁部の絞り傾斜角を略45度とした請求項1記載の高周波加熱装置。
- 絞り部の開口部には電波透過材料からなる封口手段を備える構成とした請求項1記載の高周波加熱装置。
- 絞り部は、加熱室底面の中央から偏心させた位置、または複数の絞り部を併設に配設した構成の請求項1記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001006037A JP3558041B2 (ja) | 2001-01-15 | 2001-01-15 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001006037A JP3558041B2 (ja) | 2001-01-15 | 2001-01-15 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002216944A JP2002216944A (ja) | 2002-08-02 |
JP3558041B2 true JP3558041B2 (ja) | 2004-08-25 |
Family
ID=18873992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001006037A Expired - Fee Related JP3558041B2 (ja) | 2001-01-15 | 2001-01-15 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3558041B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5402406B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2014-01-29 | パナソニック株式会社 | 電子レンジ |
JP5600956B2 (ja) * | 2010-02-12 | 2014-10-08 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱調理器 |
-
2001
- 2001-01-15 JP JP2001006037A patent/JP3558041B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2002216944A (ja) | 2002-08-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040427 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120528 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 9 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |