JP2000229902A - 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 - Google Patents
7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法Info
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- JP2000229902A JP2000229902A JP11033198A JP3319899A JP2000229902A JP 2000229902 A JP2000229902 A JP 2000229902A JP 11033198 A JP11033198 A JP 11033198A JP 3319899 A JP3319899 A JP 3319899A JP 2000229902 A JP2000229902 A JP 2000229902A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 1,7−ジヒドロキシナフタレンより7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンを製造する方法を提供する。 【解決手段】 本発明の製造方法は、1,7−ジヒドロ
キシナフタレンをアルコール溶媒中、還元触媒とアルカ
リ触媒の存在下、加圧下で接触還元することにより、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを得ることからなる。本
発明によれば、従来法に比べて高収率であり、かつ環境
面での負荷が少ないという特長を有する。
ドロキシ−1−テトラロンを製造する方法を提供する。 【解決手段】 本発明の製造方法は、1,7−ジヒドロ
キシナフタレンをアルコール溶媒中、還元触媒とアルカ
リ触媒の存在下、加圧下で接触還元することにより、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを得ることからなる。本
発明によれば、従来法に比べて高収率であり、かつ環境
面での負荷が少ないという特長を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は1,7−ジヒドロキ
シナフタレンを接触還元(即ち、触媒の存在下に水素を
用いて還元する方法)して7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンを製造する方法に関する。より詳しくは、1,7−
ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中で還元触媒
及びアルカリ触媒の存在下、水素ガスを用いて加圧下で
還元することによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを製造する方法に関する。
シナフタレンを接触還元(即ち、触媒の存在下に水素を
用いて還元する方法)して7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンを製造する方法に関する。より詳しくは、1,7−
ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中で還元触媒
及びアルカリ触媒の存在下、水素ガスを用いて加圧下で
還元することによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】7−ヒドロキシ−1−テトラロンは医薬
などの原料として有用な化合物であり、高収率で、かつ
環境面での負荷が少ない製造方法の開発が望まれてい
る。これまでに7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造
方法として、(A)アニソールを無水マレイン酸、塩化
アルミニウムでアシル化し、還元後閉環し、7−メトキ
シ−1−テトラロンを合成し(Journal of A
merican Chemical Society、
1945年 70 331〜334ページ)、臭化水素で
脱メチル化する方法(Journal of Ornga
nic Chemistry、1940年 5 528〜
533ページ)、(B)1−テトラロンを過酸化水素で
酸化する方法(TetrahedronLetter
s、1983年 24巻 No.30 3095〜309
8ページ)などが提案されている。しかしながら、
(A)法はアシル化の際、塩化アルミニウムを使用する
ため廃水処理の負荷が大きく、環境面での問題点を有
し、またメトキシ基に対してp位だけでなく、o位にも
アシル化されるため選択性が低いという欠点がある。
(B)法は7−ヒドロキシ−1−テトラロンへの選択率
が低く、5−ヒドロキシ−1−テトラロンや5,8−ジ
ヒドロキシ−1−テトラロンなどが多く副生し、分離が
困難であるという問題が伴う。
などの原料として有用な化合物であり、高収率で、かつ
環境面での負荷が少ない製造方法の開発が望まれてい
る。これまでに7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造
方法として、(A)アニソールを無水マレイン酸、塩化
アルミニウムでアシル化し、還元後閉環し、7−メトキ
シ−1−テトラロンを合成し(Journal of A
merican Chemical Society、
1945年 70 331〜334ページ)、臭化水素で
脱メチル化する方法(Journal of Ornga
nic Chemistry、1940年 5 528〜
533ページ)、(B)1−テトラロンを過酸化水素で
酸化する方法(TetrahedronLetter
s、1983年 24巻 No.30 3095〜309
8ページ)などが提案されている。しかしながら、
(A)法はアシル化の際、塩化アルミニウムを使用する
ため廃水処理の負荷が大きく、環境面での問題点を有
し、またメトキシ基に対してp位だけでなく、o位にも
アシル化されるため選択性が低いという欠点がある。
(B)法は7−ヒドロキシ−1−テトラロンへの選択率
が低く、5−ヒドロキシ−1−テトラロンや5,8−ジ
ヒドロキシ−1−テトラロンなどが多く副生し、分離が
困難であるという問題が伴う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の問題点から、本
発明者らは、環境面での負担の少ない方法として、水素
ガスにより1,7−ジヒドロキシナフタレンを接触還元
して7−ヒドロキシ−1−テトラロンを製造するする方
法が好ましいと考えて検討を行った。しかし、1,7−
ジヒドロキシナフタレンの2つの−OH基はナフタレン
環に非対称に結合しているので、上記の接触還元法にお
いて目的物の収率を向上させるには、1位の−OHが結
合した環をより選択的に還元する必要があるという問題
がある。かかる課題を解決するため、本発明者らは、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを高収率で製造し得る接
触還元条件を鋭意検討した結果、水素ガスによる1,7
−ジヒドロキシナフタレンの接触還元において、アルコ
ール溶媒中で特定の触媒系を使用して反応させることに
よって所期の目的が達成されることを見いだして本発明
に到達した。即ち、本発明は、7−ヒドロキシ−1−テ
トラロンの製造において、従来の技術よりも高収率でか
つ環境面での負荷の少ない製造方法を提供することを目
的とする。
発明者らは、環境面での負担の少ない方法として、水素
ガスにより1,7−ジヒドロキシナフタレンを接触還元
して7−ヒドロキシ−1−テトラロンを製造するする方
法が好ましいと考えて検討を行った。しかし、1,7−
ジヒドロキシナフタレンの2つの−OH基はナフタレン
環に非対称に結合しているので、上記の接触還元法にお
いて目的物の収率を向上させるには、1位の−OHが結
合した環をより選択的に還元する必要があるという問題
がある。かかる課題を解決するため、本発明者らは、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを高収率で製造し得る接
触還元条件を鋭意検討した結果、水素ガスによる1,7
−ジヒドロキシナフタレンの接触還元において、アルコ
ール溶媒中で特定の触媒系を使用して反応させることに
よって所期の目的が達成されることを見いだして本発明
に到達した。即ち、本発明は、7−ヒドロキシ−1−テ
トラロンの製造において、従来の技術よりも高収率でか
つ環境面での負荷の少ない製造方法を提供することを目
的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明の要旨は、 1,7−ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中
で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、加圧下で接触還
元させることによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを得ることを特徴とする7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの製造方法; 溶媒として、炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は
環状アルコールを、1,7−ジドロキシナフタレンに対
して2〜100重量倍使用する上記記載の方法; 還元触媒として、パラジウム触媒、ニッケル触媒又は
ロジウム触媒を1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て2〜30重量%使用する上記又は記載の方法; アルカリ触媒として、アルカリ金属水酸化物、低級脂
肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ金属炭酸塩
及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2種以上を、
1,7−ジヒドロキシナフタレンに対して0.1〜2.
0モル倍使用する上記〜の何れかに記載の方法; 水素ガスを5〜30kg/cm2の圧力で、反応温度
を50〜180℃で接触還元させる上記〜の何れか
に記載の方法;である。
めになされた本発明の要旨は、 1,7−ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中
で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、加圧下で接触還
元させることによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを得ることを特徴とする7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの製造方法; 溶媒として、炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は
環状アルコールを、1,7−ジドロキシナフタレンに対
して2〜100重量倍使用する上記記載の方法; 還元触媒として、パラジウム触媒、ニッケル触媒又は
ロジウム触媒を1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て2〜30重量%使用する上記又は記載の方法; アルカリ触媒として、アルカリ金属水酸化物、低級脂
肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ金属炭酸塩
及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2種以上を、
1,7−ジヒドロキシナフタレンに対して0.1〜2.
0モル倍使用する上記〜の何れかに記載の方法; 水素ガスを5〜30kg/cm2の圧力で、反応温度
を50〜180℃で接触還元させる上記〜の何れか
に記載の方法;である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明は上記の構成からなり、本
発明の方法は下記の反応式で示され、その基本的操作
は、1,7−ジヒドロキシナフタレン(1)に、アルコ
ール溶媒中で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、水素
ガスを加圧下で接触させ、7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロン(2)を得ることからなる。
発明の方法は下記の反応式で示され、その基本的操作
は、1,7−ジヒドロキシナフタレン(1)に、アルコ
ール溶媒中で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、水素
ガスを加圧下で接触させ、7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロン(2)を得ることからなる。
【0006】
【化1】
【0007】本発明の方法において、原料として使用す
る1,7−ジヒドロキシナフタレンは、商業的に入手可
能な1,7−ジヒドロキシナフタレン−3−スルホン酸
(いわゆる、ジヒドロキシG酸)を公知の方法で酸加水
分解することによって得ることができる。
る1,7−ジヒドロキシナフタレンは、商業的に入手可
能な1,7−ジヒドロキシナフタレン−3−スルホン酸
(いわゆる、ジヒドロキシG酸)を公知の方法で酸加水
分解することによって得ることができる。
【0008】本発明の方法で使用される溶媒としては、
炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は環状アルコール
が使用される。炭素数1〜10の脂肪族アルコールとし
ては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、s−ブタノール、t−ブタノールなどが例示され、
環状アルコールとしては例えばシクロヘキサノールなど
が例示され、その使用量は1,7−ジヒドロキシナフタ
レンの2〜100重量倍、好ましくは3〜20重量倍の
範囲で用いられる。これらのアルコール溶媒は2種以上
を併用しても良く、更に必要ならば水で希釈して使用し
ても良く、例えば85〜100%の濃度に希釈して使用
する。
炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は環状アルコール
が使用される。炭素数1〜10の脂肪族アルコールとし
ては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、s−ブタノール、t−ブタノールなどが例示され、
環状アルコールとしては例えばシクロヘキサノールなど
が例示され、その使用量は1,7−ジヒドロキシナフタ
レンの2〜100重量倍、好ましくは3〜20重量倍の
範囲で用いられる。これらのアルコール溶媒は2種以上
を併用しても良く、更に必要ならば水で希釈して使用し
ても良く、例えば85〜100%の濃度に希釈して使用
する。
【0009】還元触媒としては、前記の反応式で示され
る反応を進行し得る触媒であれば特に限定されないが、
好ましくはパラジウム触媒、ニッケル触媒又はロジウム
触媒、特にパラジウムカーボンが好適であり、炭素質担
体上で1〜30%、好ましくは5〜10%のパラジウム
触媒が使用される。還元触媒の使用量は、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレンに対して2〜30重量%、好ましく
は5〜15重量%の範囲で使用される。2重量%未満で
は反応の進行が遅く、また30重量%を超えると過度に
還元されたり、タール化し易く、目的物の収率が低下す
るおそれがある。
る反応を進行し得る触媒であれば特に限定されないが、
好ましくはパラジウム触媒、ニッケル触媒又はロジウム
触媒、特にパラジウムカーボンが好適であり、炭素質担
体上で1〜30%、好ましくは5〜10%のパラジウム
触媒が使用される。還元触媒の使用量は、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレンに対して2〜30重量%、好ましく
は5〜15重量%の範囲で使用される。2重量%未満で
は反応の進行が遅く、また30重量%を超えると過度に
還元されたり、タール化し易く、目的物の収率が低下す
るおそれがある。
【0010】アルカリ触媒としては、アルカリ金属水酸
化物、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカ
リ金属炭酸塩及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2
種以上の化合物が使用される。アルカリ金属水酸化物と
しては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
が例示され、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩と
しては例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどが例示
され、アルカリ金属炭酸塩としては例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどが例示され、アルキルアミンとし
ては例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどが例示される。これら
のアルカリ触媒は2種以上を併用しても良い。アルカリ
触媒の使用量は1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て0.1〜2.0モル倍、好ましくは0.5〜1.0モ
ル倍の範囲で用いられ、0.1倍モル未満では反応の進
行が遅く、また2.0モル倍を超えるとタール化し易く
目的物の収率が低下するおそれがある。
化物、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカ
リ金属炭酸塩及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2
種以上の化合物が使用される。アルカリ金属水酸化物と
しては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
が例示され、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩と
しては例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどが例示
され、アルカリ金属炭酸塩としては例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどが例示され、アルキルアミンとし
ては例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどが例示される。これら
のアルカリ触媒は2種以上を併用しても良い。アルカリ
触媒の使用量は1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て0.1〜2.0モル倍、好ましくは0.5〜1.0モ
ル倍の範囲で用いられ、0.1倍モル未満では反応の進
行が遅く、また2.0モル倍を超えるとタール化し易く
目的物の収率が低下するおそれがある。
【0011】加圧条件としての水素ガスの吹き込み圧は
5〜30kg/cm2で、好ましくは5〜20kg/c
m2の範囲で行われ、5kg/cm2未満では反応が遅
く、30kg/cm2を超えると過度に還元されたり、
反応系がタール化し易く、目的物の生成率が低下するお
それがある。
5〜30kg/cm2で、好ましくは5〜20kg/c
m2の範囲で行われ、5kg/cm2未満では反応が遅
く、30kg/cm2を超えると過度に還元されたり、
反応系がタール化し易く、目的物の生成率が低下するお
それがある。
【0012】反応温度は50〜180℃で、好ましくは
80〜150℃の範囲で行われ、50℃未満では反応の
進行が遅く、180℃より高ければ反応系がタール化し
易く、目的物の生成率が低下するおそれがある。
80〜150℃の範囲で行われ、50℃未満では反応の
進行が遅く、180℃より高ければ反応系がタール化し
易く、目的物の生成率が低下するおそれがある。
【0013】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明は実施例に限定されるものではない。
が、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0014】比較例 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)5
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部を加え、140
℃、水素圧8kg/cm2で接触還元を8時間行った。
反応液より触媒を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行
ったところ、7−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率
は28.9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、
1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は75.4%、
7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は38.3%で
あった。なお、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率
は、すべての還元物のうちの7−ヒドロキシ−1−テト
ラロンの比率である(以下同様)。
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部を加え、140
℃、水素圧8kg/cm2で接触還元を8時間行った。
反応液より触媒を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行
ったところ、7−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率
は28.9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、
1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は75.4%、
7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は38.3%で
あった。なお、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率
は、すべての還元物のうちの7−ヒドロキシ−1−テト
ラロンの比率である(以下同様)。
【0015】実施例1 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)5
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナ
トリウム0.61部を加え、140℃、水素圧8kg/
cm2で接触還元を8時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は53.0%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は80.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は65.5%であった。
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナ
トリウム0.61部を加え、140℃、水素圧8kg/
cm2で接触還元を8時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は53.0%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は80.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は65.5%であった。
【0016】実施例2 実施例1の99%水酸化ナトリウムの代わりに無水酢酸
カリウム1.47部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は49.8
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は66.7%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は74.7%であった。
カリウム1.47部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は49.8
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は66.7%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は74.7%であった。
【0017】実施例3 実施例1の99%水酸化ナトリウムの代わりに99%水
酸化カリウム0.85部を加え、実施例1と同様に操作
した。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は44.
9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−
ジヒドロキシナフタレン転化率は62.6%、7−ヒド
ロキシ−1−テトラロン選択率は71.7%であった。
酸化カリウム0.85部を加え、実施例1と同様に操作
した。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は44.
9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−
ジヒドロキシナフタレン転化率は62.6%、7−ヒド
ロキシ−1−テトラロン選択率は71.7%であった。
【0018】実施例4 実施例1の水酸化ナトリウムの代わりに99%トリエチ
ルアミン1.53部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は25.6
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は33.3%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は76.9%であった。
ルアミン1.53部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は25.6
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は33.3%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は76.9%であった。
【0019】実施例5 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)
1.7部をシクロヘキサノール150部と共にステンレ
ス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン
(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナトリウ
ム0.4部を加え、120℃、8kg/cm2で水素接
触還元を行った。反応液より触媒を濾別後、濾液をH.
P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒドロキシ−1−
テトラロンの生成率は77.8%(対1,7−ジヒドロ
キシナフタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転
化率は98.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選
択率は79.3%であった。
1.7部をシクロヘキサノール150部と共にステンレ
ス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン
(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナトリウ
ム0.4部を加え、120℃、8kg/cm2で水素接
触還元を行った。反応液より触媒を濾別後、濾液をH.
P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒドロキシ−1−
テトラロンの生成率は77.8%(対1,7−ジヒドロ
キシナフタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転
化率は98.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選
択率は79.3%であった。
【0020】実施例6 接触還元の水素圧のみ16kg/cm2にした以外は実
施例1と同様に操作した。7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの生成率は49.6%(対1,7−ジヒドロキシナ
フタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は
79.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は
62.7%であった。
施例1と同様に操作した。7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの生成率は49.6%(対1,7−ジヒドロキシナ
フタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は
79.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は
62.7%であった。
【0021】実施例7 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化カリウム3.4部と共にステンレス製オート
クレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェ
ット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/c
m2で接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒を
濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−
ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は69.8%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は72.0%であった。
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化カリウム3.4部と共にステンレス製オート
クレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェ
ット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/c
m2で接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒を
濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−
ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は69.8%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は72.0%であった。
【0022】実施例8 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化ナトリウム2.4部と共にステンレス製オー
トクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウ
ェット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/
cm2で接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒
を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%
(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレン転化率は98.0%、7−ヒドロキ
シ−1−テトラロン選択率は65.8%であった。
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化ナトリウム2.4部と共にステンレス製オー
トクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウ
ェット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/
cm2で接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒
を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%
(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレン転化率は98.0%、7−ヒドロキ
シ−1−テトラロン選択率は65.8%であった。
【0023】実施例9 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と無
水酢酸カリウム11.8部と共にステンレス製オートク
レーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェッ
ト品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/cm
2で接触還元を2.2時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は66.6%であった。
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と無
水酢酸カリウム11.8部と共にステンレス製オートク
レーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェッ
ト品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/cm
2で接触還元を2.2時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は66.6%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 宮田 敏行 大阪府堺市西野104番地5 (72)発明者 黒川 烈 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 (72)発明者 松本 裕之 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 (72)発明者 芝本 信頼 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC44 BA02 BA21 BA24 BA25 BA29 BA32 BA51 BA69 BB14 BC10 BC11 BC34 BC35 BE20 4H039 CA62 CB10
Claims (5)
- 【請求項1】 1,7−ジヒドロキシナフタレンを
アルコール溶媒中で還元触媒及びアルカリ触媒の存在
下、加圧下で接触還元させることにより、7−ヒドロキ
シ−1−テトラロンを得ることを特徴とする7−ヒドロ
キシ−1−テトラロンの製造方法。 - 【請求項2】 溶媒として、炭素数1〜10の脂肪
族アルコール又は環状アルコールを、1,7−ジドロキ
シナフタレンに対して2〜100重量倍使用する請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】 還元触媒として、パラジウム触媒、
ニッケル触媒又はロジウム触媒を1,7−ジヒドロキシ
ナフタレンに対して2〜30重量%使用する請求項1又
は2記載の方法。 - 【請求項4】 アルカリ触媒として、アルカリ金属
水酸化物、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、ア
ルカリ金属炭酸塩及びアルキルアミンから選ばれた1乃
至2種以上を、1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て0.1〜2.0モル倍使用する請求項1〜3の何れか
に記載の方法。 - 【請求項5】 水素ガスを5〜30kg/cm2の
圧力で、反応温度を50〜180℃で接触還元させる請
求項1〜4の何れかに記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11033198A JP2000229902A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11033198A JP2000229902A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000229902A true JP2000229902A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12379795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11033198A Pending JP2000229902A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000229902A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005289981A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-10-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | テトラロン類の製造方法 |
CN115322082A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-11-11 | 郑州药领医药科技有限公司 | 一种四氢萘酮类化合物的制备方法 |
-
1999
- 1999-02-10 JP JP11033198A patent/JP2000229902A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005289981A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-10-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | テトラロン類の製造方法 |
JP4586568B2 (ja) * | 2004-03-11 | 2010-11-24 | 住友化学株式会社 | テトラロン類の製造方法 |
CN115322082A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-11-11 | 郑州药领医药科技有限公司 | 一种四氢萘酮类化合物的制备方法 |
CN115322082B (zh) * | 2022-08-31 | 2024-02-23 | 郑州药领医药科技有限公司 | 一种四氢萘酮类化合物的制备方法 |
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