JP2000229902A - 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 - Google Patents

7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法

Info

Publication number
JP2000229902A
JP2000229902A JP11033198A JP3319899A JP2000229902A JP 2000229902 A JP2000229902 A JP 2000229902A JP 11033198 A JP11033198 A JP 11033198A JP 3319899 A JP3319899 A JP 3319899A JP 2000229902 A JP2000229902 A JP 2000229902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
dihydroxynaphthalene
tetralone
hydroxy
alcohol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11033198A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Ishino
義夫 石野
Toshinobu Ono
敏信 大野
Toshiyuki Miyata
敏行 宮田
Retsu Kurokawa
烈 黒川
Hiroyuki Matsumoto
裕之 松本
Nobuyori Shibamoto
信頼 芝本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sugai Chemical Industry Co Ltd
Osaka City
Original Assignee
Sugai Chemical Industry Co Ltd
Osaka City
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sugai Chemical Industry Co Ltd, Osaka City filed Critical Sugai Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP11033198A priority Critical patent/JP2000229902A/ja
Publication of JP2000229902A publication Critical patent/JP2000229902A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 1,7−ジヒドロキシナフタレンより7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンを製造する方法を提供する。 【解決手段】 本発明の製造方法は、1,7−ジヒドロ
キシナフタレンをアルコール溶媒中、還元触媒とアルカ
リ触媒の存在下、加圧下で接触還元することにより、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを得ることからなる。本
発明によれば、従来法に比べて高収率であり、かつ環境
面での負荷が少ないという特長を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は1,7−ジヒドロキ
シナフタレンを接触還元(即ち、触媒の存在下に水素を
用いて還元する方法)して7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンを製造する方法に関する。より詳しくは、1,7−
ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中で還元触媒
及びアルカリ触媒の存在下、水素ガスを用いて加圧下で
還元することによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】7−ヒドロキシ−1−テトラロンは医薬
などの原料として有用な化合物であり、高収率で、かつ
環境面での負荷が少ない製造方法の開発が望まれてい
る。これまでに7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造
方法として、(A)アニソールを無水マレイン酸、塩化
アルミニウムでアシル化し、還元後閉環し、7−メトキ
シ−1−テトラロンを合成し(Journal of A
merican Chemical Society、
1945年 70 331〜334ページ)、臭化水素で
脱メチル化する方法(Journal of Ornga
nic Chemistry、1940年 528〜
533ページ)、(B)1−テトラロンを過酸化水素で
酸化する方法(TetrahedronLetter
s、1983年 24巻 No.30 3095〜309
8ページ)などが提案されている。しかしながら、
(A)法はアシル化の際、塩化アルミニウムを使用する
ため廃水処理の負荷が大きく、環境面での問題点を有
し、またメトキシ基に対してp位だけでなく、o位にも
アシル化されるため選択性が低いという欠点がある。
(B)法は7−ヒドロキシ−1−テトラロンへの選択率
が低く、5−ヒドロキシ−1−テトラロンや5,8−ジ
ヒドロキシ−1−テトラロンなどが多く副生し、分離が
困難であるという問題が伴う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の問題点から、本
発明者らは、環境面での負担の少ない方法として、水素
ガスにより1,7−ジヒドロキシナフタレンを接触還元
して7−ヒドロキシ−1−テトラロンを製造するする方
法が好ましいと考えて検討を行った。しかし、1,7−
ジヒドロキシナフタレンの2つの−OH基はナフタレン
環に非対称に結合しているので、上記の接触還元法にお
いて目的物の収率を向上させるには、1位の−OHが結
合した環をより選択的に還元する必要があるという問題
がある。かかる課題を解決するため、本発明者らは、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンを高収率で製造し得る接
触還元条件を鋭意検討した結果、水素ガスによる1,7
−ジヒドロキシナフタレンの接触還元において、アルコ
ール溶媒中で特定の触媒系を使用して反応させることに
よって所期の目的が達成されることを見いだして本発明
に到達した。即ち、本発明は、7−ヒドロキシ−1−テ
トラロンの製造において、従来の技術よりも高収率でか
つ環境面での負荷の少ない製造方法を提供することを目
的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明の要旨は、 1,7−ジヒドロキシナフタレンをアルコール溶媒中
で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、加圧下で接触還
元させることによって、7−ヒドロキシ−1−テトラロ
ンを得ることを特徴とする7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの製造方法; 溶媒として、炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は
環状アルコールを、1,7−ジドロキシナフタレンに対
して2〜100重量倍使用する上記記載の方法; 還元触媒として、パラジウム触媒、ニッケル触媒又は
ロジウム触媒を1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て2〜30重量%使用する上記又は記載の方法; アルカリ触媒として、アルカリ金属水酸化物、低級脂
肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ金属炭酸塩
及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2種以上を、
1,7−ジヒドロキシナフタレンに対して0.1〜2.
0モル倍使用する上記〜の何れかに記載の方法; 水素ガスを5〜30kg/cmの圧力で、反応温度
を50〜180℃で接触還元させる上記〜の何れか
に記載の方法;である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明は上記の構成からなり、本
発明の方法は下記の反応式で示され、その基本的操作
は、1,7−ジヒドロキシナフタレン(1)に、アルコ
ール溶媒中で還元触媒及びアルカリ触媒の存在下、水素
ガスを加圧下で接触させ、7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロン(2)を得ることからなる。
【0006】
【化1】
【0007】本発明の方法において、原料として使用す
る1,7−ジヒドロキシナフタレンは、商業的に入手可
能な1,7−ジヒドロキシナフタレン−3−スルホン酸
(いわゆる、ジヒドロキシG酸)を公知の方法で酸加水
分解することによって得ることができる。
【0008】本発明の方法で使用される溶媒としては、
炭素数1〜10の脂肪族アルコール又は環状アルコール
が使用される。炭素数1〜10の脂肪族アルコールとし
ては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、s−ブタノール、t−ブタノールなどが例示され、
環状アルコールとしては例えばシクロヘキサノールなど
が例示され、その使用量は1,7−ジヒドロキシナフタ
レンの2〜100重量倍、好ましくは3〜20重量倍の
範囲で用いられる。これらのアルコール溶媒は2種以上
を併用しても良く、更に必要ならば水で希釈して使用し
ても良く、例えば85〜100%の濃度に希釈して使用
する。
【0009】還元触媒としては、前記の反応式で示され
る反応を進行し得る触媒であれば特に限定されないが、
好ましくはパラジウム触媒、ニッケル触媒又はロジウム
触媒、特にパラジウムカーボンが好適であり、炭素質担
体上で1〜30%、好ましくは5〜10%のパラジウム
触媒が使用される。還元触媒の使用量は、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレンに対して2〜30重量%、好ましく
は5〜15重量%の範囲で使用される。2重量%未満で
は反応の進行が遅く、また30重量%を超えると過度に
還元されたり、タール化し易く、目的物の収率が低下す
るおそれがある。
【0010】アルカリ触媒としては、アルカリ金属水酸
化物、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、アルカ
リ金属炭酸塩及びアルキルアミンから選ばれた1乃至2
種以上の化合物が使用される。アルカリ金属水酸化物と
しては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
が例示され、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩と
しては例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどが例示
され、アルカリ金属炭酸塩としては例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどが例示され、アルキルアミンとし
ては例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどが例示される。これら
のアルカリ触媒は2種以上を併用しても良い。アルカリ
触媒の使用量は1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
て0.1〜2.0モル倍、好ましくは0.5〜1.0モ
ル倍の範囲で用いられ、0.1倍モル未満では反応の進
行が遅く、また2.0モル倍を超えるとタール化し易く
目的物の収率が低下するおそれがある。
【0011】加圧条件としての水素ガスの吹き込み圧は
5〜30kg/cmで、好ましくは5〜20kg/c
の範囲で行われ、5kg/cm未満では反応が遅
く、30kg/cmを超えると過度に還元されたり、
反応系がタール化し易く、目的物の生成率が低下するお
それがある。
【0012】反応温度は50〜180℃で、好ましくは
80〜150℃の範囲で行われ、50℃未満では反応の
進行が遅く、180℃より高ければ反応系がタール化し
易く、目的物の生成率が低下するおそれがある。
【0013】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0014】比較例 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)5
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部を加え、140
℃、水素圧8kg/cmで接触還元を8時間行った。
反応液より触媒を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行
ったところ、7−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率
は28.9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、
1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は75.4%、
7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は38.3%で
あった。なお、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率
は、すべての還元物のうちの7−ヒドロキシ−1−テト
ラロンの比率である(以下同様)。
【0015】実施例1 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)5
部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と共に
ステンレス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカ
ーボン(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナ
トリウム0.61部を加え、140℃、水素圧8kg/
cmで接触還元を8時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は53.0%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は80.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は65.5%であった。
【0016】実施例2 実施例1の99%水酸化ナトリウムの代わりに無水酢酸
カリウム1.47部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は49.8
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は66.7%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は74.7%であった。
【0017】実施例3 実施例1の99%水酸化ナトリウムの代わりに99%水
酸化カリウム0.85部を加え、実施例1と同様に操作
した。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は44.
9%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−
ジヒドロキシナフタレン転化率は62.6%、7−ヒド
ロキシ−1−テトラロン選択率は71.7%であった。
【0018】実施例4 実施例1の水酸化ナトリウムの代わりに99%トリエチ
ルアミン1.53部を加え、実施例1と同様に操作し
た。7−ヒドロキシ−1−テトラロン生成率は25.6
%(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジ
ヒドロキシナフタレン転化率は33.3%、7−ヒドロ
キシ−1−テトラロン選択率は76.9%であった。
【0019】実施例5 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度96.0%)
1.7部をシクロヘキサノール150部と共にステンレ
ス製オートクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン
(50%ウェット品)0.5部、99%水酸化ナトリウ
ム0.4部を加え、120℃、8kg/cmで水素接
触還元を行った。反応液より触媒を濾別後、濾液をH.
P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒドロキシ−1−
テトラロンの生成率は77.8%(対1,7−ジヒドロ
キシナフタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転
化率は98.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選
択率は79.3%であった。
【0020】実施例6 接触還元の水素圧のみ16kg/cmにした以外は実
施例1と同様に操作した。7−ヒドロキシ−1−テトラ
ロンの生成率は49.6%(対1,7−ジヒドロキシナ
フタレン)、1,7−ジヒドロキシナフタレン転化率は
79.1%、7−ヒドロキシ−1−テトラロン選択率は
62.7%であった。
【0021】実施例7 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化カリウム3.4部と共にステンレス製オート
クレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェ
ット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/c
で接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒を
濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−
ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は69.8%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は72.0%であった。
【0022】実施例8 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と9
9%水酸化ナトリウム2.4部と共にステンレス製オー
トクレーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウ
ェット品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/
cmで接触還元を1.5時間行った。反応液より触媒
を濾別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7
−ヒドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%
(対1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒ
ドロキシナフタレン転化率は98.0%、7−ヒドロキ
シ−1−テトラロン選択率は65.8%であった。
【0023】実施例9 1,7−ジヒドロキシナフタレン(純度98.8%)2
0部を95%のn−ブタノール水溶液121.8部と無
水酢酸カリウム11.8部と共にステンレス製オートク
レーブに入れ、5%パラジウムカーボン(50%ウェッ
ト品)2.0部を加え、140℃、水素圧8kg/cm
で接触還元を2.2時間行った。反応液より触媒を濾
別後、濾液をH.P.L.C.分析を行ったところ、7−ヒ
ドロキシ−1−テトラロンの生成率は64.5%(対
1,7−ジヒドロキシナフタレン)、1,7−ジヒドロ
キシナフタレン転化率は96.9%、7−ヒドロキシ−
1−テトラロン選択率は66.6%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 宮田 敏行 大阪府堺市西野104番地5 (72)発明者 黒川 烈 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 (72)発明者 松本 裕之 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 (72)発明者 芝本 信頼 和歌山県和歌山市宇須4丁目4番6号 ス ガイ化学工業株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC44 BA02 BA21 BA24 BA25 BA29 BA32 BA51 BA69 BB14 BC10 BC11 BC34 BC35 BE20 4H039 CA62 CB10

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1,7−ジヒドロキシナフタレンを
    アルコール溶媒中で還元触媒及びアルカリ触媒の存在
    下、加圧下で接触還元させることにより、7−ヒドロキ
    シ−1−テトラロンを得ることを特徴とする7−ヒドロ
    キシ−1−テトラロンの製造方法。
  2. 【請求項2】 溶媒として、炭素数1〜10の脂肪
    族アルコール又は環状アルコールを、1,7−ジドロキ
    シナフタレンに対して2〜100重量倍使用する請求項
    1記載の方法。
  3. 【請求項3】 還元触媒として、パラジウム触媒、
    ニッケル触媒又はロジウム触媒を1,7−ジヒドロキシ
    ナフタレンに対して2〜30重量%使用する請求項1又
    は2記載の方法。
  4. 【請求項4】 アルカリ触媒として、アルカリ金属
    水酸化物、低級脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩、ア
    ルカリ金属炭酸塩及びアルキルアミンから選ばれた1乃
    至2種以上を、1,7−ジヒドロキシナフタレンに対し
    て0.1〜2.0モル倍使用する請求項1〜3の何れか
    に記載の方法。
  5. 【請求項5】 水素ガスを5〜30kg/cm
    圧力で、反応温度を50〜180℃で接触還元させる請
    求項1〜4の何れかに記載の方法。
JP11033198A 1999-02-10 1999-02-10 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法 Pending JP2000229902A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11033198A JP2000229902A (ja) 1999-02-10 1999-02-10 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11033198A JP2000229902A (ja) 1999-02-10 1999-02-10 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000229902A true JP2000229902A (ja) 2000-08-22

Family

ID=12379795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11033198A Pending JP2000229902A (ja) 1999-02-10 1999-02-10 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000229902A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005289981A (ja) * 2004-03-11 2005-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd テトラロン類の製造方法
CN115322082A (zh) * 2022-08-31 2022-11-11 郑州药领医药科技有限公司 一种四氢萘酮类化合物的制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005289981A (ja) * 2004-03-11 2005-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd テトラロン類の製造方法
JP4586568B2 (ja) * 2004-03-11 2010-11-24 住友化学株式会社 テトラロン類の製造方法
CN115322082A (zh) * 2022-08-31 2022-11-11 郑州药领医药科技有限公司 一种四氢萘酮类化合物的制备方法
CN115322082B (zh) * 2022-08-31 2024-02-23 郑州药领医药科技有限公司 一种四氢萘酮类化合物的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3755423A (en) Process for preparing an unsaturated glycol diester
US3342858A (en) Preparation of alkoxy-alkanoic acids by the oxidation of alkoxy-alkanols
WO2002090312A1 (en) Process for preparing carboxylic acids and derivatives thereof
AU702895B2 (en) Process for the preparation of a dicarboxylic acid dichloride
JPH04225836A (ja) エチリデンジアセテートの製造方法   
US4885409A (en) Process for the hydrogenation of bis-phenols
JP2000229902A (ja) 7−ヒドロキシ−1−テトラロンの製造方法
JP3895372B2 (ja) 3−フェニルプロピオンアルデヒドの製造方法
JPH08500360A (ja) フェニルテレフタル酸の製造方法
JP2573687B2 (ja) イソプロピルアルコールの製造方法
KR101359230B1 (ko) 4-아미노메틸사이클로헥산 카르복실산의 제조방법
JP2001348352A (ja) シクロヘキサンジオン類の製造方法
JPH05222024A (ja) ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の製法
CN111072625A (zh) 一种3,4-亚甲二氧苯乙酮的制备方法
EP0170520B1 (en) Process for the production of cinnamic acid
JP3376419B2 (ja) 硫酸根担持金属酸化物を触媒とするアセトキシ酢酸の合成法
JP3259030B2 (ja) 強酸性固体酸触媒を用いた第三級カルボン酸の製造法
JPH0657670B2 (ja) 粗イブプロフエンの精製方法
JPH06256256A (ja) 高純度2,6−ナフタレンジカルボン酸の製造方法
JP3199618B2 (ja) 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法
JPH02256651A (ja) 炭酸エステルの製造方法
JP2003206253A (ja) アルコキシ置換2−テトラロンの製造法
JPH06157416A (ja) グリオキシル酸エステルの製造方法
JP2903233B2 (ja) 高純度のジフェニルジカルボン酸ジメチルの製造方法
WO1987001700A1 (en) Process for oxidizing 2,6-diisopropylnaphthalene