JP2000228087A - Dual port ram - Google Patents

Dual port ram

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JP2000228087A
JP2000228087A JP11027940A JP2794099A JP2000228087A JP 2000228087 A JP2000228087 A JP 2000228087A JP 11027940 A JP11027940 A JP 11027940A JP 2794099 A JP2794099 A JP 2794099A JP 2000228087 A JP2000228087 A JP 2000228087A
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Japan
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drain region
source
type mos
mos transistor
node
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JP11027940A
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Shinkyu Jo
震球 徐
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United Microelectronics Corp
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a dual port random access memory(RAM) using a symmetrical layout in which performance is improved to increase recording density. SOLUTION: A dual port random access memory comprises four NMOS transistors NM11-14 and four PMOS transistors PM11-14. The NMOS transistors NM11-14 and the PMOS transistors PM11-14 both are used as a pass gate. In more detail, two NMOS transistors are used as a pass gate of one group of bit line, two PMOS transistors are used as a pass gate of another group of bit line.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、メモリ素子に関す
るもので、特に、デュアルポートスタティックランダム
アクセスメモリ(SRAM)に関するものである。
The present invention relates to a memory device, and more particularly, to a dual-port static random access memory (SRAM).

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロプロセッサの機能が、より汎用
的かつ複雑になっているので、より大きなプログラムや
計算をマイクロプロセッサにより実行することが可能に
なっている。従って大容量のメモリが切実に要求されて
いる。メモリ容量の要求を満足させ、低コストでメモリ
を製造することは、半導体製造者達の主要な話題となっ
ている。
2. Description of the Related Art As the functions of microprocessors have become more general and complex, larger programs and calculations can be executed by the microprocessors. Therefore, a large-capacity memory is urgently required. Satisfying memory capacity requirements and producing memories at low cost is a major topic for semiconductor manufacturers.

【0003】利用される機能によって、メモリはリード
オンリメモリ(ROM)とランダムアクセスメモリ(R
AM)とに分類される。リードオンリメモリは、読み出
し動作のみ実行し、一方ランダムアクセスメモリは書き
込みと読み出しの両方の動作を行うことができる。デー
タアクセスという観点からは、リードオンリメモリは、
さらにマスクリードオンリメモリとプログラマブルリー
ドオンリメモリ(PROM)と消去可能なプログラマブ
ルリードオンリメモリ(EPROM)と電気的に消去可
能なプログラマブルリードオンリメモリ(EEPRO
M)とに分類できる。一方、ランダムアクセスメモリ
は、さらにスタティックランダムアクセスメモリとダイ
ナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)とに分類
できる。
Depending on the functions used, the memory can be a read only memory (ROM) or a random access memory (R).
AM). A read-only memory performs only read operations, while a random access memory can perform both write and read operations. In terms of data access, read-only memory is
Further, a mask read only memory, a programmable read only memory (PROM), an erasable programmable read only memory (EPROM), and an electrically erasable programmable read only memory (EEPRO)
M). On the other hand, random access memories can be further classified into static random access memories and dynamic random access memories (DRAMs).

【0004】SRAMは、半導体メモリ素子の中で最高
速の動作速度を持ったメモリ素子であり、従って応用範
囲は広い。例えば、SRAMは、コンピュータのデータ
アクセスに対してのキャッシュメモリとしても応用する
ことができる。典型的なSRAMセルは、4個のトラン
ジスタと2個の抵抗、あるいは6個のトランジスタから
成る。他のメモリ素子と比較すると、集積度は悪い。
An SRAM is a memory device having the highest operation speed among semiconductor memory devices, and therefore has a wide range of applications. For example, the SRAM can be applied as a cache memory for data access of a computer. A typical SRAM cell consists of four transistors and two resistors, or six transistors. Compared with other memory devices, the degree of integration is poor.

【0005】それとは別のデュアルポートSRAMは、
上述したシングルポートSRAMよりもデータ入出力
(I/O)のより強力な機能を持ったものとして開発さ
れた。デュアルポートSRAMは、通常8個のトランジ
スタから成り、その中には6個のN型金属酸化膜半導体
(NMOS)NM1〜NM6と、2個のP型MOS(P
MOS)PM1、PM2が含まれ、これは図1に示され
る。加えて、2本のワード線WL1,Wl2と、4本の
ビット線BL1,−BL1,BL2,−BL2が、書き
込みと読み出し動作に必要となる。6個のNMOSとP
MOSのレイアウトは、非常に非対称でデュアルポート
SRAMの性能に作用する。
Another dual port SRAM is:
It was developed as having a more powerful data input / output (I / O) function than the single-port SRAM described above. A dual-port SRAM generally includes eight transistors, including six N-type metal oxide semiconductors (NMOS) NM1 to NM6 and two P-type MOSs (PMOSs).
MOS) PM1, PM2, which is shown in FIG. In addition, two word lines WL1, W12 and four bit lines BL1, -BL1, BL2, -BL2 are required for the write and read operations. 6 NMOS and P
The MOS layout is very asymmetric and affects the performance of the dual-port SRAM.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、記録密度を
増すために、性能を向上させる様な対称的なレイアウト
を使用したデュアルポートSRAMを提供することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a dual-port SRAM using a symmetrical layout for improving performance in order to increase recording density.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述の目的と利点を得る
ために、デュアルポートSRAMが提供される。デュア
ルポートSRAMは、2個のインバータと、2個のNM
OSと、2個のPMOSを含む。インバータは、第1の
入力端子と第1の出力端子とを備えた第1のインバータ
と、第2の入力端子と第2の出力端子とを備えた第2の
インバータとを含む。第2の入力端子は第1の出力端子
に接続され、一方、第1の入力端子は第2の出力端子に
接続される。第1のN型MOSトランジスタは、第1の
ワード線に接続されるゲートと、第1のビット線に接続
されるソース/ドレイン領域と、第1の出力端子に接続
される別のソース/ドレイン領域を含む。第2のN型M
OSトランジスタは、第1のワード線に接続されるゲー
トと、第2のビット線に接続されるソース/ドレイン領
域と、第1の入力端子に接続される別のソース/ドレイ
ン領域を含む。第1のP型MOSトランジスタは、第2
のワード線に接続されるゲートと、第3のビット線に接
続されるソース/ドレイン領域と、第2の入力端子に接
続される別のソース/ドレイン領域を含む。第2のP型
MOSトランジスタは、第2のワード線に接続されるゲ
ートと、第4のビット線に接続されるソース/ドレイン
領域と、第2の出力端子に接続される別のソース/ドレ
イン領域を含む。
SUMMARY OF THE INVENTION To achieve the above objects and advantages, a dual port SRAM is provided. A dual port SRAM has two inverters and two NMs
It includes an OS and two PMOSs. The inverter includes a first inverter having a first input terminal and a first output terminal, and a second inverter having a second input terminal and a second output terminal. The second input terminal is connected to a first output terminal, while the first input terminal is connected to a second output terminal. The first N-type MOS transistor has a gate connected to a first word line, a source / drain region connected to a first bit line, and another source / drain connected to a first output terminal. Including the region. Second N-type M
The OS transistor includes a gate connected to a first word line, a source / drain region connected to a second bit line, and another source / drain region connected to a first input terminal. The first P-type MOS transistor is connected to the second
, A source / drain region connected to the third bit line, and another source / drain region connected to the second input terminal. The second P-type MOS transistor has a gate connected to a second word line, a source / drain region connected to a fourth bit line, and another source / drain connected to a second output terminal. Including the region.

【0008】さらに本発明により、他のデュアルポート
スタティックランダムアクセスメモリが提供される。デ
ュアルポートスタティックランダムアクセスメモリに
は、4個のP型MOSトランジスタと、4個のN型MO
Sトランジスタとが含まれる。第1のN型MOSトラン
ジスタには、第1のワード線に接続されるゲートと、第
1のビット線に接続されるソース/ドレイン領域と、第
1のノードに接続される別のソース/ドレイン領域を含
む。第2のN型MOSトランジスタは、第1のワード線
に接続されるゲートと、第2のビット線に接続されるソ
ース/ドレイン領域と、第2のノードに接続される別の
ソース/ドレイン領域を含む。第3のN型MOSトラン
ジスタは、第2のノードに接続されるゲートと、接地電
位に接続されるソース/ドレイン領域と、第1のノード
に接続される別のソース/ドレイン領域を含む。第4の
N型MOSトランジスタは、第1のノードに接続される
ゲートと、接地電位に接続されるソース/ドレイン領域
と、第2のノードに接続される別のソース/ドレイン領
域を含む。第1のP型MOSトランジスタには、第2の
ワード線に接続されるゲートと、第3のビット線に接続
されるソース/ドレイン領域と、第1のノードに接続さ
れる別のソース/ドレイン領域を含む。第2のP型MO
Sトランジスタは、第2のワード線に接続されるゲート
と、第4のビット線に接続されるソース/ドレイン領域
と、第2のノードに接続される別のソース/ドレイン領
域を含む。第3のP型MOSトランジスタは、第2のノ
ードに接続されるゲートと、電源に接続されるソース/
ドレイン領域と、第1のノードに接続される別のソース
/ドレイン領域を含む。第4のP型MOSトランジスタ
は、第1のノードに接続されるゲートと、電源に接続さ
れるソース/ドレイン領域と、第2のノードに接続され
る別のソース/ドレイン領域を含む。
[0008] Further, the present invention provides another dual-port static random access memory. The dual-port static random access memory has four P-type MOS transistors and four N-type MOs.
S transistor. The first N-type MOS transistor has a gate connected to a first word line, a source / drain region connected to a first bit line, and another source / drain connected to a first node. Including the region. The second N-type MOS transistor has a gate connected to the first word line, a source / drain region connected to the second bit line, and another source / drain region connected to the second node including. The third N-type MOS transistor includes a gate connected to the second node, a source / drain region connected to the ground potential, and another source / drain region connected to the first node. The fourth N-type MOS transistor includes a gate connected to the first node, a source / drain region connected to the ground potential, and another source / drain region connected to the second node. The first P-type MOS transistor has a gate connected to the second word line, a source / drain region connected to the third bit line, and another source / drain connected to the first node. Including the region. Second P-type MO
The S transistor includes a gate connected to the second word line, a source / drain region connected to the fourth bit line, and another source / drain region connected to the second node. The third P-type MOS transistor has a gate connected to the second node and a source /
A drain region and another source / drain region connected to the first node. The fourth P-type MOS transistor includes a gate connected to a first node, a source / drain region connected to a power supply, and another source / drain region connected to a second node.

【0009】前述の一般的な記述と、以下の詳細な記述
は、共に、単に代表的かつ説明的なものであり、特許請
求の範囲で示されるように、本発明を限定するものでは
ない。
The foregoing general description and the following detailed description are both representative and explanatory only and are not restrictive of the invention, as set forth in the following claims.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は、従来技術によるデュアル
ポートSRAMの回路図である。図2は、本発明の一実
施形態におけるデュアルポートSRAMの回路図であ
る。図3は、本発明の他実施形態におけるデュアルポー
トSRAMの回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a conventional dual-port SRAM. FIG. 2 is a circuit diagram of a dual port SRAM according to one embodiment of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram of a dual port SRAM according to another embodiment of the present invention.

【0011】図2において、デュアルポートSRAM
は、4個のNMOSトランジスタNM11〜NM14
と、4個のPMOSトランジスタPM11〜PM14か
ら成る。2個のNMOSと二個のPMOSは、本発明で
はデュアルポートSRAMのパスゲートとして使用され
る。この例では、NMOSトランジスタNM13,NM
14と、PMOSトランジスタPM13,PM14が、
パスゲートとして使用される。
Referring to FIG. 2, a dual port SRAM
Are four NMOS transistors NM11 to NM14
And four PMOS transistors PM11 to PM14. Two NMOSs and two PMOSs are used as pass gates in a dual-port SRAM in the present invention. In this example, the NMOS transistors NM13, NM
14, and the PMOS transistors PM13 and PM14
Used as a pass gate.

【0012】図に示すように、NMOSトランジスタN
M13には、ワード線WL11に接続されるゲートと、
ビット線BL11に接続される1個のソース/ドレイン
領域と、ノードN11に接続される別のソース/ドレイ
ン領域とがある。NMOS(NM14)には、ワード線
WL11に接続されるゲートと、別のビット線−BL1
1に接続される1個のソース/ドレイン領域と、ノード
N2に接続される別のソース/ドレイン領域とがある。
NMOS(NM11)には、ノードN2に接続されるゲ
ートと、接地電位に接続される1個のソース/ドレイン
領域と、ノードN1に接続される別のソース/ドレイン
領域とがある。NMOS(NM12)には、ノードN1
に接続されるゲートと、接地電位に接続される1個のソ
ース/ドレイン領域と、ノードN2に接続される別のソ
ース/ドレイン領域とがある。PMOS(PM13)に
は、ワード線WL12に接続されるゲートと、ビット線
BL12に接続される1個のソース/ドレイン領域と、
ノードN1に接続される別のソース/ドレイン領域とが
ある。PMOS(PM14)には、ワード線WL12に
接続されるゲートと、ビット線−BL12に接続される
1個のソース/ドレイン領域と、ノードN2に接続され
る別のソース/ドレイン領域とがある。PMOS(PM
11)には、ノードN2に接続されるゲートと、電源電
位Vccに接続される1個のソース/ドレイン領域と、
ノードN1に接続される別のソース/ドレイン領域とが
ある。PMOS(PM12)には、ノードN1に接続さ
れるゲートと、電源電位Vccに接続される1個のソー
ス/ドレイン領域と、ノードN2に接続される別のソー
ス/ドレイン領域とがある。ビット線−BL11は、ビ
ット線BL11の相補的なものであり、一方、ビット線
−BL12はビット線BL12の相補的なものである。
As shown in FIG.
M13 has a gate connected to the word line WL11,
There is one source / drain region connected to bit line BL11 and another source / drain region connected to node N11. The NMOS (NM14) has a gate connected to the word line WL11 and another bit line -BL1.
There is one source / drain region connected to node 1 and another source / drain region connected to node N2.
The NMOS (NM11) has a gate connected to the node N2, one source / drain region connected to the ground potential, and another source / drain region connected to the node N1. The NMOS (NM12) has a node N1
, One source / drain region connected to the ground potential, and another source / drain region connected to the node N2. The PMOS (PM13) has a gate connected to the word line WL12, one source / drain region connected to the bit line BL12,
There is another source / drain region connected to node N1. The PMOS (PM14) has a gate connected to the word line WL12, one source / drain region connected to the bit line -BL12, and another source / drain region connected to the node N2. PMOS (PM
11) has a gate connected to the node N2, one source / drain region connected to the power supply potential Vcc,
There is another source / drain region connected to node N1. The PMOS (PM12) has a gate connected to the node N1, one source / drain region connected to the power supply potential Vcc, and another source / drain region connected to the node N2. The bit line -BL11 is complementary to the bit line BL11, while the bit line -BL12 is complementary to the bit line BL12.

【0013】ビット線BL12,−BL12へのデータ
の書き込み及びそれらからのデータの読み出しの際に、
ワード線WL12は、低電圧でバイアスされてPMOS
トランジスタPM13,PM14をターンオンする。一
方、ビット線BL11,−BL11へのデータの書き込
み及びそれらからのデータの読み出しの際に、NMOS
トランジスタNM13,NM14をターンオンさせるの
に十分な高電圧が与えられる。
At the time of writing data to the bit lines BL12 and -BL12 and reading data from them,
The word line WL12 is biased at a low voltage to
The transistors PM13 and PM14 are turned on. On the other hand, when writing data to the bit lines BL11 and -BL11 and reading data from them, the NMOS
A high voltage sufficient to turn on the transistors NM13 and NM14 is applied.

【0014】NMOSトランジスタとPMOSトランジ
スタの同一の番号に加えて、ワード線WL11,WL1
2、ビット線BL11,BL12、ビット線−BL1
1,−BL12は、互いに対称である。
In addition to the same numbers of the NMOS transistor and the PMOS transistor, the word lines WL11, WL1
2, bit lines BL11 and BL12, bit line -BL1
1, -BL12 are symmetric to each other.

【0015】図3は、本発明の他の実施形態を示してい
る。この実施形態において、2個のNMOSトランジス
タNM21,NM22と、2個のPMOSトランジスタ
PM21,PM22に加えて、2個のインバータINV
1,INV2が追加されている。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, in addition to two NMOS transistors NM21 and NM22 and two PMOS transistors PM21 and PM22, two inverters INV
1, INV2 are added.

【0016】図3において、インバータINV1には、
第1の入力端子I1と第1の出力端子O1があるが、イ
ンバータINV2には、第2の入力端子I2と第2の出
力端子O2とがある。入力端子I2は、出力端子O1に
接続され、入力端子I1は、第2の出力端子O2に接続
される。NMOS(NM21)には、ワード線WL21
に接続されるゲートと、ビット線BL21に接続される
ソース/ドレイン領域と、第1の出力端子O1に接続さ
れる別のソース/ドレイン領域とがある。NMOS(N
M22)には、ワード線WL21に接続されるゲート
と、ビット線−BL21に接続されるソース/ドレイン
領域と、第1の入力端子I1に接続される別のソース/
ドレイン領域とがある。PMOS(PM21)には、ワ
ード線WL22に接続されるゲートと、ビット線BL2
2に接続されるソース/ドレイン領域と、第2の入力端
子I2に接続される別のソース/ドレイン領域とがあ
る。PMOS(PM22)には、ワード線WL22に接
続されるゲートと、ビット線−BL22に接続されるソ
ース/ドレイン領域と、第2の出力端子O2に接続され
る別のソース/ドレイン領域とがある。
In FIG. 3, the inverter INV1 includes:
Although there is a first input terminal I1 and a first output terminal O1, the inverter INV2 has a second input terminal I2 and a second output terminal O2. The input terminal I2 is connected to the output terminal O1, and the input terminal I1 is connected to the second output terminal O2. The NMOS (NM21) has a word line WL21
, A source / drain region connected to the bit line BL21, and another source / drain region connected to the first output terminal O1. NMOS (N
M22) includes a gate connected to the word line WL21, a source / drain region connected to the bit line -BL21, and another source / drain connected to the first input terminal I1.
There is a drain region. The PMOS (PM21) has a gate connected to the word line WL22 and a bit line BL2.
2 and another source / drain region connected to the second input terminal I2. The PMOS (PM22) has a gate connected to the word line WL22, a source / drain region connected to the bit line -BL22, and another source / drain region connected to the second output terminal O2. .

【0017】図3に示される回路中の各素子は、図2に
示される回路の素子と機能的に対応している。例えば、
インバータINV1は、NMOS(NM11)とPMO
S(PM11)との組み合わせと等価である。インバー
タINV2は、NMOS(NM12)とPMOS(PM
12)との組み合わせと等価である。NMOS(NM2
1,NM22)とPMOS(PM21,PM22)は、
それぞれNMOS(NM13,NM14)とPMOS
(PM13,PM14)に対応する。加えて、ノードN
1は、第1の出力端子O1および第2の入力端子I2と
等価であり、一方、ノードN2は、第2の出力端子O2
と第1の入力端子I1とに対応する。ビット線BL2
1,−BL21,BL22,−BL22は、それぞれビ
ット線BL11,−BL11,BL12,−BL12に
対応し、ワード線WL21,WL22は、ワード線WL
11,WL12とに対応する。従って、図3に示される
回路の動作は再説しない。
Each element in the circuit shown in FIG. 3 functionally corresponds to the element in the circuit shown in FIG. For example,
The inverter INV1 includes an NMOS (NM11) and a PMO
This is equivalent to a combination with S (PM11). The inverter INV2 includes an NMOS (NM12) and a PMOS (PM
This is equivalent to the combination with 12). NMOS (NM2
1, NM22) and PMOS (PM21, PM22)
NMOS (NM13, NM14) and PMOS respectively
(PM13, PM14). In addition, node N
1 is equivalent to the first output terminal O1 and the second input terminal I2, while the node N2 is connected to the second output terminal O2.
And the first input terminal I1. Bit line BL2
1, -BL21, BL22, -BL22 correspond to bit lines BL11, -BL11, BL12, -BL12, respectively, and word lines WL21, WL22 correspond to word lines WL.
11, WL12. Therefore, the operation of the circuit shown in FIG.

【0018】図3に示されるデュアルポートSRAMに
おいて、NMOS(NM21,NM22)とPMOS
(PM21,PM22)は、パスゲートとして使用され
る。さらに、デュアルポートSRAMの対称的なレイア
ウトは、高記録密度のための高密度かつ大容量のメモリ
への要求と両立する。
In the dual port SRAM shown in FIG. 3, an NMOS (NM21, NM22) and a PMOS
(PM21, PM22) are used as pass gates. Further, the symmetrical layout of the dual port SRAM is compatible with the demand for high density and large capacity memory for high recording density.

【0019】本発明の他の実施形態は、ここに開示した
本明細書を熟考し本発明を実践することにより当業者に
は明らかであろう。明細書と例とは典型例として挙げた
もので、本発明の真の範囲と精神とは特許請求の範囲に
よって明らかにされる。
[0019] Other embodiments of the invention will be apparent to those skilled in the art from consideration of the specification and practice of the invention disclosed herein. It is intended that the specification and examples be considered as exemplary, with a true scope and spirit of the invention being indicated by the following claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来技術によるデュアルポートSRAMの回
路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a conventional dual-port SRAM.

【図2】 本発明の一実施形態におけるデュアルポート
SRAMの回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a dual port SRAM according to an embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の他実施形態におけるデュアルポート
SRAMの回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a dual port SRAM according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

NM1,NM2,NM3,NM4,NM5,NM6,N
M11,NM12,NM13,NM14,NM21,N
M22…N型MOSトランジスタ PM1,PM2,PM3,PM4,PM5,PM6,P
M11,PM12,PM13,PM14,PM21,P
M22…P型MOSトランジスタ BL1,BL2,BL11,BL12,BL21,BL
22,−BL1,−BL2,−BL11,−BL12,
−BL21,−BL22…ビット線 WL1,WL2,WL11,WL12,WL21,WL
22,−WL1,−WL2,−WL11,−WL12,
−WL21,−WL22…ワード線 I1,I2…入力端子 O1,O2…出力端子 N1,N2…ノード
NM1, NM2, NM3, NM4, NM5, NM6, N
M11, NM12, NM13, NM14, NM21, N
M22: N-type MOS transistor PM1, PM2, PM3, PM4, PM5, PM6, P
M11, PM12, PM13, PM14, PM21, P
M22: P-type MOS transistor BL1, BL2, BL11, BL12, BL21, BL
22, -BL1, -BL2, -BL11, -BL12,
-BL21, -BL22 ... bit lines WL1, WL2, WL11, WL12, WL21, WL
22, -WL1, -WL2, -WL11, -WL12,
-WL21, -WL22 ... word lines I1, I2 ... input terminals O1, O2 ... output terminals N1, N2 ... nodes

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の入力端子と第1の出力端子とを備
えた第1のインバータと、 前記第1の出力端子に接続された第2の入力端子と、前
記第1の入力端子に接続された第2の出力端子とを備え
た第2のインバータと、 第1のワード線に接続されたゲートと、第1のビット線
に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第1の出力
端子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた
第1のN型MOSトランジスタと、 前記第1のワード線に接続されたゲートと、第2のビッ
ト線に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第1の
入力端子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備
えた第2のN型MOSトランジスタと、 第2のワード線に接続されたゲートと、第3のビット線
に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第2の入力
端子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた
第1のP型MOSトランジスタと、 前記第2のワード線に接続されたゲートと、第4のビッ
ト線に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第2の
出力端子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備
えた第2のP型MOSトランジスタとを備えることを特
徴とするデュアルポートスタティックランダムアクセス
メモリ。
A first inverter having a first input terminal and a first output terminal, a second input terminal connected to the first output terminal, and a first input terminal connected to the first input terminal. A second inverter having a second output terminal connected thereto, a gate connected to a first word line, a source / drain region connected to a first bit line, and the first output. A first N-type MOS transistor having another source / drain region connected to a terminal, a gate connected to the first word line, and a source / drain region connected to a second bit line A second N-type MOS transistor comprising: a source / drain region connected to the first input terminal; a gate connected to a second word line; and a gate connected to a third bit line. Source / drain region and the second input A first P-type MOS transistor having another source / drain region connected to a second word line; a gate connected to the second word line; and a source / drain region connected to a fourth bit line. And a second P-type MOS transistor having another source / drain region connected to the second output terminal.
【請求項2】 前記第1のインバータは、 前記第1の入力端子に接続されたゲートと、電源に接続
されたソース/ドレイン領域と、前記第1の出力端子に
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第3の
P型MOSトランジスタと、 前記第1の入力端子に接続されたゲートと、接地電位に
接続されたソース/ドレイン領域と、前記第1の出力端
子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第
3のN型MOSトランジスタとを備えることを特徴とす
る請求項1記載のデュアルポートスタティックランダム
アクセスメモリ。
2. The first inverter, comprising: a gate connected to the first input terminal; a source / drain region connected to a power supply; and another source / drain connected to the first output terminal. A third P-type MOS transistor having a drain region, a gate connected to the first input terminal, a source / drain region connected to the ground potential, and a first output terminal connected to the first output terminal. 2. The dual port static random access memory according to claim 1, further comprising a third N-type MOS transistor having another source / drain region.
【請求項3】 前記第2のインバータは、 前記第2の入力端子に接続されたゲートと、電源に接続
されたソース/ドレイン領域と、前記第2の出力端子に
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第4の
P型MOSトランジスタと、 前記第2の入力端子に接続されたゲートと、接地電位に
接続されたソース/ドレイン領域と、前記第2の出力端
子に接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第
4のN型MOSトランジスタと、 を備えることを特徴とする請求項1記載のデュアルポー
トスタティックランダムアクセスメモリ。
3. The second inverter, comprising: a gate connected to the second input terminal; a source / drain region connected to a power supply; and another source / drain connected to the second output terminal. A fourth P-type MOS transistor having a drain region, a gate connected to the second input terminal, a source / drain region connected to ground potential, and a second output terminal connected to the second output terminal. The dual port static random access memory according to claim 1, further comprising: a fourth N-type MOS transistor having another source / drain region.
【請求項4】 第1のワード線に接続されたゲートと、
第1のビット線に接続されたソース/ドレイン領域と、
第1のノードに接続された別のソース/ドレイン領域と
を備えた第1のN型MOSトランジスタと、 前記第1のワード線に接続されたゲートと、第2のビッ
ト線に接続されたソース/ドレイン領域と、第2のノー
ドに接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第
2のN型MOSトランジスタと、 前記第2のノードに接続されたゲートと、接地電位に接
続されたソース/ドレイン領域と、前記第1のノードに
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第3の
N型MOSトランジスタと、 前記第1のノードに接続されたゲートと、接地電位に接
続されたソース/ドレイン領域と、前記第2のノードに
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第4の
N型MOSトランジスタと、 第2のワード線に接続されたゲートと、第3のビット線
に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第1のノー
ドに接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第
1のP型MOSトランジスタと、 前記第2のワード線に接続されたゲートと、第4のビッ
ト線に接続されたソース/ドレイン領域と、前記第2の
ノードに接続された別のソース/ドレイン領域とを備え
た第2のP型MOSトランジスタと、 前記第2のノードに接続されたゲートと、前記電源に接
続されたソース/ドレイン領域と、前記第1のノードに
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第3の
P型MOSトランジスタと、 前記第1のノードに接続されたゲートと、前記電源に接
続されたソース/ドレイン領域と、前記第2のノードに
接続された別のソース/ドレイン領域とを備えた第4の
P型MOSトランジスタとを備えたデュアルポートスタ
ティックランダムアクセスメモリ。
4. A gate connected to a first word line;
Source / drain regions connected to the first bit line;
A first N-type MOS transistor having another source / drain region connected to a first node; a gate connected to the first word line; and a source connected to a second bit line A second N-type MOS transistor having a drain / drain region and another source / drain region connected to a second node; a gate connected to the second node; and a ground potential. A third N-type MOS transistor having a source / drain region and another source / drain region connected to the first node; a gate connected to the first node; and a connection to a ground potential A fourth N-type MOS transistor including a source / drain region connected to the second node and another source / drain region connected to the second node; a gate connected to a second word line; of A first P-type MOS transistor including a source / drain region connected to a bit line and another source / drain region connected to the first node; and a first MOS transistor connected to the second word line. A second P-type MOS transistor having a gate, a source / drain region connected to a fourth bit line, and another source / drain region connected to the second node; A third P-type MOS transistor including a gate connected to a node, a source / drain region connected to the power supply, and another source / drain region connected to the first node; A fourth P-type MOS transistor having a gate connected to one node, a source / drain region connected to the power supply, and another source / drain region connected to the second node. Dual-port static random access memory and a register.
【請求項5】 第1から第4のN型MOSトランジスタ
から選んだN型MOSトランジスタと、第1から第4の
P型MOSトランジスタから選んだ同じ数のP型MOS
トランジスタを含むパスゲートを備えることを特徴とす
る請求項4記載のデュアルポートスタティックランダム
アクセスメモリ。
5. An N-type MOS transistor selected from the first to fourth N-type MOS transistors and a same number of P-type MOS transistors selected from the first to fourth P-type MOS transistors.
5. The dual port static random access memory according to claim 4, further comprising a pass gate including a transistor.
【請求項6】 上記の2個のN型MOSトランジスタ
は、第1から第4のビット線の内の1個をパスゲートと
して持つべく選択され、2個のP型MOSトランジスタ
は、第1から第4のビット線の内の1個をパスゲートと
して持つべく選択されることを特徴とする請求項5記載
のデュアルポートスタティックランダムアクセスメモ
リ。
6. The two N-type MOS transistors are selected to have one of first to fourth bit lines as a pass gate, and the two P-type MOS transistors are first to fourth bit lines. 6. The dual-port static random access memory according to claim 5, wherein one of the four bit lines is selected to have a pass gate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100460141B1 (en) * 2002-07-08 2004-12-03 삼성전자주식회사 Dual port static memory cell and semiconductor memory device comprising the cell
JP2013257937A (en) * 2006-11-17 2013-12-26 Freescale Semiconductor Inc Two-port sram performing improved write operation, and operation method thereof
CN113205846A (en) * 2021-05-13 2021-08-03 上海科技大学 SRAM cell suitable for high speed content addressing and memory Boolean logic computation

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