JP2000227310A - 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法 - Google Patents

膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法

Info

Publication number
JP2000227310A
JP2000227310A JP2967099A JP2967099A JP2000227310A JP 2000227310 A JP2000227310 A JP 2000227310A JP 2967099 A JP2967099 A JP 2967099A JP 2967099 A JP2967099 A JP 2967099A JP 2000227310 A JP2000227310 A JP 2000227310A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
refractive index
film thickness
incident angle
incident
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2967099A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Kawasaki
俊之 川崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2967099A priority Critical patent/JP2000227310A/ja
Publication of JP2000227310A publication Critical patent/JP2000227310A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料の膜が単層又は多層に関係なく、その層
数、各層の膜厚及び屈折率を同時に測定できる膜厚及び
屈折率測定装置及びその測定方法を提供することであ
る。 【解決手段】 試料に入射角度を変えながら連続して光
を入射させ、その反射光強度を光検出器で検知し、これ
らを連動する計算機に連続して取り込み、反射光強度の
最大又は最小の極値とその入射角度等から、膜厚、屈折
率、入射角度、干渉次数及び光源の波長等に係わる干渉
波形を演算処理して試料の膜が単層か複層膜かを判定し
ながら、各層の膜厚及び屈折率を同時に測定する装置及
びその測定方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、膜厚及び屈折率の
測定装置に関し、更に詳しくは、特に、多層膜を有する
試料においても、その層数を求めて、各層の膜厚及び屈
折率を同時に測定することができる膜厚及び屈折率の測
定装置及びその測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、薄膜状の試料の屈折率及びそ
の膜厚を測定する装置及びその測定方法がいろいろ知ら
れており、その内の光学的方法には、エリプソメーター
やVAMFO法が挙げられ使用されている。前者の方法
として、例えば、特開平10−38694号公報には、
薄膜試料に偏光された単色光を入射し、その入射角度と
反射光の偏光状態から、試料のいろいろな光学特性を算
出する薄膜評価法が記載されている。このエリプソメー
ターは、試料表面の薄膜の屈折率、膜厚を測定できる
が、この方法は、従来から、膜厚が1μm以下の比較的
に膜厚の薄い試料の測定に適する方法として知られてい
る。一方、後者の方法は、1μmを超える比較的に膜厚
の厚い試料に適する方法として知られており、試料に単
色光を入射角度を連続して変えながら入射させて、反射
光強度の極小値とその時の入射角から、試料の膜厚と屈
折率を測定する方法である。
【0003】しかしながら、前者のエリプソメーター法
では、試料が多層膜の場合に、下層の膜厚や屈折率を同
時に測定することができないので、例えば、試料が多層
になるものについては、下層から各層をそれぞれ成膜し
た時点で、測定をしなければならない。また、後者のV
AMFO法には、2波長VAMFO法として、試料にレ
ーザーの単色光を照射し、その表面で反射光と下層面の
反射光との干渉から、干渉次数の極小値を示す入射光角
度から、膜厚と屈折率を測定される。この方法では、試
料の基板の屈折率や光の吸収係数に係わらないので、基
板のこのような特性が未知であっても、薄膜の膜厚と屈
折率を測定できるが、この方法も多層膜試料について
は、前者のエリプソメーター法と同様に、同時に各層の
膜厚や屈折率を測定することができないものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述するように、従来
から、単層及び多層の薄膜試料の膜厚や屈折率を測定す
る方法及びそれに使用される測定装置が提案されている
が、例えば、上記するエリプソメーター法やVAMFO
法からも明らかなように、何れの方法においても、測定
できる試料の膜厚に限定されたり、また、特に多層膜を
有する試料については、同時に各層の膜厚や屈折率を測
定することができず、しかも、その精度も未だ十分に満
足される測定方法でないのが実状である。
【0005】このような状況下で、本発明は、薄膜状の
試料の膜厚、しかも、単層や多層等の層数に限定される
ことなく、従来法とは異なり、試料の膜厚、屈折率を同
時に、精度よく測定できる装置及びその測定方法を提供
することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
鑑み鋭意検討した結果、反射光強度の極値とその入射光
角度に基づく、干渉波形等を演算処理して試料の膜の層
数を判定することのできる計算機を連動させることによ
り、試料の膜厚、膜の層数に影響されずに、同時に各層
の膜厚、屈折率を測定されることを見出し、本発明を完
成させるに至った。すなわち、本発明は、試料に入射角
度を変えながら連続して光を入射させ、その反射光強度
を光検出器で検知し、これらの両値を連続して計算機に
取り込み、試料の膜厚及び屈折率を同時に求める測定装
置において、前記計算機が連動して前記反射光強度の最
大又は最小の極値とその入射角度とに係る、下記(1)
〜(4)式
【0007】
【数1】
【0008】
【数2】
【0009】
【数3】 及び
【0010】
【数4】
【0011】式中、d:試料の膜厚、nf:試料の屈折
率、θ:光の入射角度、m:干渉次数、λ:入射光の波
長、干渉次数m及び入射角度θの添え字1、2は互いに
隣接する2つの極値に係わることを示す。で表される関
係を逐次演算処理して、試料の膜厚及び屈折率を出力さ
せることを特徴とする試料の膜厚及び屈折率の測定装置
を提供する。
【0012】また、上記する本発明による測定装置を用
いることにより、その試料が単層膜及び複層膜の何れで
あっても、その層数を上述するように、測定装置に連動
させた計算機が、取り込む測定データーに基づき、その
層数を演算推測することから、単独膜及び複層膜に限定
されることなく各膜の膜厚及びその屈折率を同時に測定
することができるのである。すなわち、その測定方法と
して、本発明は、試料に入射角度を変えながら連続して
光を入射させ、その反射光強度を連続して検知し、これ
らの両値を連続して計算機に取り込み、試料の膜厚及び
屈折率を同時に求めるに際して、前記計算機が連動して
前記反射光強度の最大又は最小の極値とその入射角度と
に係る、下記(1)〜(4)式
【0013】
【数1】
【0014】
【数2】
【0015】
【数3】 及び
【0016】
【数4】
【0017】式中、d:試料の膜厚、nf:試料の屈折
率、θ:光の入射角度、m:干渉次数、λ:入射光の波
長、干渉次数m及び入射角度θの添え字1、2は互いに
隣接する2つの極値に係わることを示す。で表される関
係を演算処理する計算機に連動させて、前記計算機によ
って反射光強度の前記極値の少なくとも2点とその入射
角度から屈折率と膜厚候補の組み合わせ系列を求め、そ
の態様から試料の膜の層数を判定し、且つ前記判定に基
づいて、前記計算機により前記(3)式又は(4)式と
前記(1)式又は(2)式とに基づく演算処理を行い、
前記各膜の膜厚及びその屈折率を同時に得ることを特徴
とする試料の膜厚及び屈折率の測定方法を提供する。
【0018】本発明によれば、図1に示すように、本発
明による膜厚及び屈折率測定装置及びこの装置を用いる
膜厚、屈折率の測定方法において、その装置は、光源1
から、試料台4上の単層又は多層の薄膜状の試料3面に
入射光6を、入射角度0〜90度又は90〜0度にわた
って連続させて変化させながら入射させ、その反射光7
の強度を光検知器2で検出して、その入射角度8と反射
光強度を連動する計算機5に導入させて、演算処理させ
て目的の上記の値を得る構成である。なお、図1におい
て、9は反射角度である。
【0019】この計算機により、上記(1)式又は
(2)式に係わって図2に示す如く、反射光強度は、そ
の入射角に対して、正弦波的な振動を繰返しながら、極
大値10、12、13及び極小値11、13、15のよ
うにそれぞれ数個の極値を有する関係として処理され
る。ここで、本発明においては、測定する膜の屈折率が
基板の屈折率より小さい場合には、極大値に対して
(1)式が、極小値に対して(2)式の関係で処理さ
れ、膜の屈折率が基板の屈折率より大きい場合には、極
大値と極小値が入れ替わるので、極大値に対して(2)
式が、極小値に対して(1)式の関係で処理されるもの
である。
【0020】その結果、これら(3)式又は(4)式か
ら、膜の屈折率nfを算出され、その極大値又は極小値
を、それぞれ上記(1)式又は上記(2)式で処理する
ことにより、膜厚dが得られる。ここで、上記(3)式
及び(4)式の式中の次数m、入射角度θに対する添字
1、2は、図2において見られる、互いに隣接する2つ
の極値の入射角度と干渉次数を示している。
【0021】本発明においては、上記する計算機が、演
算処理過程で、図3に示す如くの関係グラフ(実際に
は、計算機からアウトプットされない。)として、干渉
次数mを変化させながら、膜厚dと屈折率nfの組み合
わせの存在が単数個か、又は複数個かを判定(又は推
測)するものである。即ち、図3から明らかなように、
干渉次数mを変化させることにより屈折率nfに対する
膜厚dとの間に、多数個の関係曲線が得られる。これに
より、図3に示される関係曲線群において、曲線16、
17は同じ層の反射光によるものであることが判り、曲
線18は明らかに別の層の反射光によるものと判定さ
れ、その結果、図3に示された試料は、異なる2層から
なる積層膜であることがわかるのである。
【0022】以上から、試料が単層膜である場合には、
ほぼ1つに重なった曲線群となり、2層膜以上の場合に
は、図3に示される如く、明確に別れた2曲線群以上に
なるものである。従って、本発明の装置を用いて測定す
ることにより、反射光強度の極値とその時の入射角度か
ら、層の数を知ることができ、且つその膜厚及び屈折率
を知ることができるものである。
【0023】
【発明の実施の形態】既に述べているように、本発明に
よる装置を用いることにより、従来法とは異なり、試料
が複層膜であっても、その異なる各層の膜厚及びその屈
折率を同時に測定することができることが特徴である。
【0024】以下に、図1〜図6を参照して、実施例に
用いた本発明による測定装置による膜厚、屈折率の測定
方法の実施の形態について詳細に説明する。
【0025】本発明において、図1に示す装置の構成に
おいて、光源1は、試料の膜表面と裏面の光を干渉させ
る観点から、好ましくは、レーザー光のように単色光が
好適であるが、干渉波形が観測されるならば、特に限定
すれることなく、例えば、可視光、赤外線及び紫外線等
を適宜光源として使用することができる。通常、波長が
短いと干渉次数が多くなり、既に図2で上述したように
多数個の極値が観測される。また、膜厚が厚い場合にも
同様に多数個の極値が観測されるので、比較的に試料の
膜厚が薄い場合には、上記する光源種の中での波長の短
い光源を使用し、また、同じ光源の中でも波長の短い領
域の光(狭い波長帯の光)を使用する方が好適である。
また、本発明においては、光検知器2で検出する光につ
いて、試料面で反射する反射光の絶対的な強度を必要と
しないことから、その入射する光の直進性(リニアリテ
イ)よりも、むしろ、計算機5の演算処理を考慮して、
ノイズの少ない検出器が好適である。
【0026】また、本発明に用いる図1に示す計算機5
は、既に述べたように、光の入射角度とその時の反射光
強度との関係において、その反射光の干渉波形を試料の
膜厚d、試料の屈折率nf、光の入射角度θ、干渉次数
m及び光源の入射光の波長λに係る関数関係を満たす
(1)式又は(2)式に基づき、既に図2で示したよう
に極値を有する正弦波の干渉波形として処理されてアウ
トプットされる計算機であれば適宜好適に使用すること
ができる。
【0027】そこで、本発明おいて、試料の膜の層数を
判定するに、図2に示される少なくとも2点の極大又は
極小の極値を用いて演算処理されて、膜厚−屈折率の図
3に示されるような関係曲線群が得られる。図3の関係
曲線群から明らかなように、計算機がより正確に層の数
を判定する観点からすると、好ましくは、極大又は極小
の極値を、2点を超える数で処理し、多数の曲線を得る
ことが好適である。また、計算に用いる入射角度は、よ
り小角度の方(図2において、10、11を示す。)
が、より角度の誤差が少ないので、好ましくは、小角度
域の値を計算機で処理することが好適である。
【0028】また、本発明において、好ましくは、極値
として極大値を用いるよりは、極小値を用いて演算処理
する方が、より精度の高い値が得られる。即ち、極大値
を拡大した図4及び極小値を拡大した図5において、図
4から、曲線19は反射光強度曲線、曲線20は膜がな
い(干渉しない)場合の予想される反射光強度である。
ここで、処理されるべき極大値を示す入射角度は21で
あるが、計算機により単純に極大値の入射角度を求める
と22になって、実際の極大値とは角度にずれを生じ
て、その結果、正しい膜厚、屈折率が得られない。
【0029】一方、図5から、極小値において、反射光
強度の測定下限値を示す曲線20は、入射光角度によら
ず一定であることから、計算機が簡便に求めた極小値
が、計算機で処理されるべき極小値に一致する。よっ
て、本発明において、好ましくは、計算機で処理される
極値として、極小値を使って処理する方が、より計算誤
差が少なく、より正しい膜厚、屈折率が得られる。ま
た、必要に応じて、反射光強度の対数値を用いることに
より、反射光強度曲線19はより先鋭になり、明確な反
射光強度を計算に用いることができるものである。
【0030】また、膜厚、屈折率を測定するに、光源と
して、1つの波長を入射光として入射させ、その反射光
強度を用いて演算処理すると、極値を複数使用して曲線
を多数求めても、各曲線が重なるため、膜厚や屈折率、
及び干渉次数を予め予測して処理しなければならなくな
る。そこで、本発明において、好ましくは、光源の波長
を変えて測定し、処理すると屈折率−膜厚の関係におい
て、図6に示す如く、波長を変えて得られた屈折率−膜
厚曲線22及び23とが交差する曲線として得られる。
この交差点が、求める膜厚、屈折率の組み合わせであ
り、干渉次数も重なっていることが判る。従って、本発
明においては、試料の膜厚、屈折率を求めるに、試料の
膜の層数を判定した後、好ましくは、極値として極小値
を用いて、しかも、2波長の光源を用いる上記する測定
方法を適宜使用することが好適である。
【0031】また、本発明において、上記2波長の光源
を用いる測定方法において、好ましくは、下記(5)式
を計算機に組み入れて、処理することにより、一方の波
長の極値の1点のみから、膜厚、屈折率の系列が演算処
理されて得られ、その系列の交差する点から膜厚、屈折
率が得られる。
【0032】
【数5】
【0033】即ち、1つ目の波長で測定した反射光強度
の極値の2点を用いて演算処理して、膜厚、屈折率の系
列を得る。次いで、2つ目の波長を用いて測定するに際
して、入射光の波長を変えても膜厚は変わらないので、
上記(5)式で演算処理することにより、屈折率が得ら
れるからである。また、同様に、極値として極小値を用
い、しかも、反射光強度についてはその対数値を用いた
方がより好適である。
【0034】更には、この2波長の光源を用いる測定方
法において、1つ目の波長で測定した反射光強度の極値
の少なくとも2点を用いて演算処理して、膜厚、屈折率
の系列を得る。次いで、2つ目の波長を用いて同様に極
値の少なくとも2点を用いて膜厚、屈折率の系列が得ら
れ、図6に示す同様の関係から、その系列の交差する点
から膜厚、屈折率が得られるのである。従って、膜厚、
屈折率及び膜の層数等が全く予想できない試料について
も適宜測定することができるのである。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、薄膜状の試料の膜厚、
屈折率を測定する装置であって、光の入射角度に対して
その反射光強度との関係において、その数個の極値を有
する正弦波の干渉波形を、試料の膜厚d、試料の屈折率
nf、光の入射角度θ、干渉次数m及び光源の波長λに
係る関数関係として演算処理することのできる計算機を
連動させることにより、従来の光学的方法であるエリプ
ソメトリーや、VAMFO法では、測定することができ
なかった、多層膜を有する試料についても、その層膜数
を判定して、単層膜の試料を測定するように、同時に各
層の膜厚及びその屈折率を、しかも、精度よく測定でき
る装置である。
【0036】また、この計算機での演算処理において、
2波長の光源を用いて測定し、その反射光強度の極小値
の少なくとも2点を用いて、且つ入射角度に対す反射光
強度を対数値を用いることにより、膜厚、屈折率を膜厚
−屈折率曲線の交点として、一義的に、しかも、精度よ
く測定できる方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の測定装置を示す概念図である。
【図2】実施例で得られた光の入射角度に対する反射光
強度において、その極値を有する干渉波形を示す。
【図3】実施例で得られた屈折率に対する膜厚の関係グ
ラフにおいて、試料が多層膜を形成していることを示
す。
【図4】図1における極値の拡大極大値を示す。
【図5】図1における極値の拡大極小値を示す。
【図6】2波長を用いる測定方法の実施例における、屈
折率に対する膜厚の関係グラフであり、交差する点が試
料の膜厚及び屈折率を示している。
【符号の説明】
1 光源 2 光検出器 3 薄膜試料 4 試料台 5 計算機 6 入射光 7 反射光 8 入射角度 9 反射角度

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料に入射角度を変えながら連続して光
    を入射させ、その反射光強度を光検出器で検知し、これ
    らの両値を連続して計算機に取り込み、試料の膜厚及び
    屈折率を同時に求める測定装置において、前記計算機が
    連動して前記反射光強度の最大又は最小の極値とその入
    射角度とに係る、下記(1)〜(4)式 【数1】 【数2】 【数3】 及び 【数4】 式中、d:試料の膜厚、nf:試料の屈折率、θ:光の
    入射角度、 m:干渉次数、λ:入射光の波長、干渉次数m及び入射
    角度θの添え字1、2は互いに隣接する2つの極値に係
    わることを示す。 で表される関係を逐次演算処理して、試料の膜厚及び屈
    折率を出力させることを特徴とする試料の膜厚及び屈折
    率の測定装置。
  2. 【請求項2】 試料に入射角度を変えながら連続して光
    を入射させ、その反射光強度を連続して検知し、これら
    の両値を連続して計算機に取り込み、試料の膜厚及び屈
    折率を同時に求めるに際して、前記計算機が連動して前
    記反射光強度の最大又は最小の極値とその入射角度とに
    係る、下記(1)〜(4)式 【数1】 【数2】 【数3】 及び 【数4】 式中、d:試料の膜厚、nf:試料の屈折率、θ:光の
    入射角度、 m:干渉次数、λ:入射光の波長、干渉次数m及び入射
    角度θの添え字1、2は互いに隣接する2つの極値に係
    わることを示す。 で表される関係を演算処理する計算機に連動させて、前
    記計算機によって反射光強度の前記極値の少なくとも2
    点とその入射角度から屈折率と膜厚候補の組み合わせ系
    列を求め、その態様から試料の膜の層数を判定し、且つ
    前記判定に基づいて、前記計算機により前記(3)式又
    は(4)式と前記(1)式又は(2)式とに基づく演算
    処理を行い、その層数に基づく各層の膜厚及びその屈折
    率を同時に得ることを特徴とする試料の膜厚及び屈折率
    の測定方法。
  3. 【請求項3】 前記反射光強度の極値が極小値である請
    求項2に記載する試料の膜厚及び屈折率の測定方法。
  4. 【請求項4】 前記反射光強度の極値が波長の異なる少
    なくとも2光源により得られ、この前記極値とその入射
    角度を用いる請求項2に記載する試料の膜厚及び屈折率
    の測定方法。
  5. 【請求項5】 前記反射光強度の極値が極小値である請
    求項4に記載する試料の膜厚及び屈折率の測定方法。
JP2967099A 1999-02-08 1999-02-08 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法 Pending JP2000227310A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2967099A JP2000227310A (ja) 1999-02-08 1999-02-08 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2967099A JP2000227310A (ja) 1999-02-08 1999-02-08 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000227310A true JP2000227310A (ja) 2000-08-15

Family

ID=12282560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2967099A Pending JP2000227310A (ja) 1999-02-08 1999-02-08 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000227310A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004279296A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Japan Science & Technology Agency 膜厚取得方法
JP2006112884A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Hitachi High-Technologies Corp 薄膜デバイスの膜厚計測方法及び膜厚計測装置
JP2007078608A (ja) * 2005-09-16 2007-03-29 Technos Kk 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
KR100936282B1 (ko) 2007-07-13 2010-01-18 충북대학교 산학협력단 판유리의 굴절률 측정방법
WO2021014689A1 (ja) * 2019-07-24 2021-01-28 国立大学法人北海道大学 厚さ測定装置及び方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004279296A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Japan Science & Technology Agency 膜厚取得方法
JP2006112884A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Hitachi High-Technologies Corp 薄膜デバイスの膜厚計測方法及び膜厚計測装置
JP2007078608A (ja) * 2005-09-16 2007-03-29 Technos Kk 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
KR100936282B1 (ko) 2007-07-13 2010-01-18 충북대학교 산학협력단 판유리의 굴절률 측정방법
WO2021014689A1 (ja) * 2019-07-24 2021-01-28 国立大学法人北海道大学 厚さ測定装置及び方法
JPWO2021014689A1 (ja) * 2019-07-24 2021-01-28
US20220282966A1 (en) * 2019-07-24 2022-09-08 National University Corporation Hokkaido University Thickness measurement device and method for measuring thickness of first layer of plant leaf
JP7169707B2 (ja) 2019-07-24 2022-11-11 国立大学法人北海道大学 厚さ測定装置及び方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8947673B2 (en) Estimating thickness based on number of peaks between two peaks in scanning white light interferometry
JPH0791921A (ja) 膜厚測定方法
JP2927934B2 (ja) 薄膜測定方法および装置
JP2009031301A (ja) 2次元型検出器を用いた薄膜特性測定装置及びその測定方法
CN111121653B (zh) 一种单层薄膜临界厚度估值计算方法
CN105066889B (zh) 一种便携式薄膜测厚仪及其膜厚测量方法
KR940016660A (ko) 박막 두께 측정 장치 및 방법
JP2637820B2 (ja) 光学式膜厚測定装置
JPH0731050B2 (ja) 光学式膜厚測定装置
US5526117A (en) Method for the determination of characteristic values of transparent layers with the aid of ellipsometry
TWI603053B (zh) 膜厚測定方法及膜厚測定裝置
JP2004085276A (ja) 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
US8917398B2 (en) Method and apparatus for supervision of optical material production
CN101331376A (zh) 确定表面特性的装置和方法
JP2000227310A (ja) 膜厚及び屈折率測定装置及びその測定方法
US20040227955A1 (en) Method and apparatus for measuring thicknesses of layers of multilayer thin film
RU2304759C1 (ru) Дистанционный трехволновой способ измерения толщины тонких пленок
CN109115695B (zh) 一种各向异性体材料光学常数和欧拉角的提取方法
JPS63241321A (ja) 薄膜状試料の分光分析方法
JP2003042722A (ja) 膜厚測定方法
RU2300077C1 (ru) Дистанционный способ измерения толщины толстых пленок нефтепродуктов на поверхности воды
US6687015B1 (en) Method and device for measuring the thickness of a layer
JP2850660B2 (ja) 膜厚測定方法
RU2359220C1 (ru) Дистанционный четырехволновый способ измерения толщины тонких пленок
JP2008051662A (ja) 絶対反射率の測定方法及び測定装置