JP2000218207A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JP2000218207A
JP2000218207A JP11018695A JP1869599A JP2000218207A JP 2000218207 A JP2000218207 A JP 2000218207A JP 11018695 A JP11018695 A JP 11018695A JP 1869599 A JP1869599 A JP 1869599A JP 2000218207 A JP2000218207 A JP 2000218207A
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coating
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coating agent
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die coater
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JP11018695A
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English (en)
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Shigenobu Maruoka
重信 丸岡
Yasunao Miyazawa
靖直 宮沢
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Lintec Corp
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Lintec Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多数の塗布装置の部品やインナーリッケル等
の調整を必要とすることなく、ウエブへの塗布層の調整
を極めて簡単に行うことができる塗布装置を提供する。 【解決手段】 ウエブの表面に塗布剤を塗布する塗工機
用の塗布装置において、前記塗布装置が、前記ウエブの
表面に対して垂直な軸線を中心に回転可能に塗工機に支
持固定され、前記ウエブの表面に対向している細長の直
線状塗布剤流出口を備えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、塗工機用の塗布装置に
係り、特に、紙又は樹脂フィルム等の連続供給される材
料の表面に、流体を塗布幅変更可能に塗布できる塗工機
用の塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、この種の塗布装置を備えた塗
工機においては、連続供給される樹脂フィルム、情報記
録紙、接着テープ等のウエブの表面に、流体、即ち塗布
剤を塗布装置から流出して、所要の塗布層を形成する塗
布技術が知れており、該塗布技術は、例えば、特開昭6
3ー190674号公報、特開平3ー296467号公
報、特開平8ー243461号公報等に所載されてい
る。
【0003】前記特開昭63ー190674号公報に記
載されている塗布技術は、所定長さの切欠を挟んで複数
の塗液流出孔が列状に配置された塗布剤流出口を備え、
該塗布剤流出口部に形成された複数の流出口から塗布剤
を流出して所定の塗布面に複数条の液幕を形成するもの
であり、また、特開平3ー296467号公報に記載さ
れている塗布技術は、塗布剤流出口部にスリットが備え
られた塗布装置を横向きにした配置構成とし、該塗布装
置から横方向に塗布剤を流出して傾斜した塗布面に塗布
層を形成するものであって、これらの塗布技術は、塗布
剤流出口が被塗布材ウエブの所定部位に対抗するように
配置され、特定幅の塗布層のみがウエブに形成されるよ
うに、前記塗布装置が位置固定されているものである。
【0004】更に、特開平8ー243461号公報に記
載されている塗布技術は、塗布剤流出口から塗布剤を霧
化しながら噴射して所定の塗布面に塗布層を形成するも
ので、必要に応じてシム板を取り替えることで塗布幅を
変更できるものである。又ダイコーターのリップ部に調
整可能に狭持された、インナーリッケルによる、調整方
法が知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に、連
続供給されるフィルム等のウエブには、その使用用途に
より種々の幅のものがあり、かつ、該ウエブに塗布する
塗布層の幅も、その目的により種々の幅が要求されるの
で、塗工機の塗布装置も、前記種々の塗布幅の変更に対
応するものでなければならない。
【0006】しかし、前記記載の各塗布技術において
は、塗布幅の調整が困難で、塗布幅を変更する場合には
塗布装置を取り替えることが必要であるか、もしくは、
塗布幅を変更するに当たって、シム板など塗布装置の部
品を変更することが必要である。このため塗布装置の部
品を多種類用意する必要があり、しかも塗布幅の変更に
当たって、前記塗布装置部品の塗工機への取り付け・調
整等の作業も煩わしい問題がある。又、インナーリッケ
ルの調整はハンドル等による調整が可能であるが、リッ
プ部での液漏れ防止用の締付ボルトの締付及び緩め作業
に煩わしさがある。
【0007】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、多数の塗布装置の
交換部品や、インナーリッケルの幅調整作業の煩わしい
作業を必要とすることなく、ウエブへの塗布層の幅の調
整を極めて簡単に行うことができる塗布装置を提供する
ことである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成すべく、
本発明に係る塗布装置は、ウエブの表面に塗布剤を塗布
する塗布装置が、前記ウエブの表面に対して垂直な軸線
を中心に回転可能に支持部材に固定され、前記ウエブの
表面に対向している塗布剤流出口を備えていることを特
徴としている。また、本発明の塗布装置の具体的な態様
は、前記塗布装置が、前記塗布剤流出口の長手方向の中
心、もしくは一端に固定した回転軸を備え、該回転軸で
回転可能に支持固定されていることを特徴としている。
【0009】前記の如く構成された本発明の塗布装置
は、連続移送されるウエブの表面に、該塗布装置の塗布
剤流出口を介して塗布剤を塗布流出するに当たって、前
記回転軸を中心に該塗布装置を回転するのみで、前記塗
布装置の塗布剤流出口の長手方向の位置を、前記ウエブ
の移送方向に対して、その角度位置を変更して、前記ウ
エブへの塗布幅を変更することができる。このため、ウ
エブへの塗布幅の調整時に、インナーリッケル等による
幅調整や複数の部品等を用意する必要がなく、該塗布装
置の回転のみの極めて簡単な作業で行うことができる。
【0010】本発明の塗布装置としては、薄膜状の塗布
剤をウエブ上に衝突させて塗布するカーテン塗布装置や
スライド塗布装置、ロール間に装架されたウエブに対し
て押し出し型ノズルヘッドのノズル先端を突出して対向
塗布するエクストルージョン塗布装置等が挙げられる。
また、塗布剤としては、接着剤、粘着剤、表面保護剤、
下処理剤、クレーコート剤、着色コート剤、磁気処理
剤、感光剤、等各種塗布液やホットメルト剤などが使用
される。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面により本発明の塗布装
置100の実施形態について詳細に説明する。図1と図
2は、本発明の第一の本実施形態の塗布装置100(以
下「ダイコーター」という)を示したものであり、図1
は塗工機200のダイコーター100とウエブFとの斜
視図であり、図2は、図1のG方向から見た平面図であ
る。ダイコーター100は、ダイコーター100全体を
回転させる回転軸2と、塗布剤Dを供給管7を介してウ
エブFの塗布面Aに流出するための細長の直線状塗布剤
流出口1と、前記回転軸2を中心にして前記ダイコータ
ー100を回転駆動するための結合片3に連結された駆
動部材6とを備えている。
【0012】前記ダイコーター100の下部には、駆動
ロール5等によりE方向に連続移送されるウエブFが配
置されており、前記回転軸2は、前記ダイコーター10
0の直線状塗布剤流出口1の長手方向の中心に位置し、
その軸線(Y−Y軸線)を前記ウエブFの塗布面Aに対
して垂直方向に向けて配置されている。ダイコーター1
00は、適宜の塗工機200の支持部材(図示省略)に
前記Y−Y軸線を中心として回転自在に支持固定されて
いる。
【0013】前記ダイコーター100は、方向(イ)も
しくは方向(ロ)に駆動部材6によって作用させること
にとって、前記回転軸2の軸線(Y−Y軸線)を中心と
して(ハ)方向もしくは(ニ)方向に回転する。図1に
おいて、ダイコーター100の直線状塗布剤流出口1
は、該ダイコーター100の下部先端に下方が開放され
た状態で長手方向(X−X軸線)に細長の直線上に形成
されており、供給管7を介して供給される塗布剤Dを、
ウエブFの塗布面Aに向けて、直線上に塗布剤を流出し
て塗布面Aに塗布層Bを形成する。
【0014】次に、本実施形態のダイコーター100の
塗布剤Dの塗布作用について説明すると、ウエブFがE
方向に連続移送されている状態において、該ウエブFの
進行方向(E方向)に対してダイコーター100の直線
状塗布剤流出口1の長手方向(X−X軸線)を直角に位
置させて、前記ウエブFの塗布面Aに供給管7を介して
塗布剤Dを直線状塗布剤流出口1から流出させると、幅
広い塗布層B(図2の実線の斜線部)が形成されること
となる。
【0015】次に、結合部片3に連結された駆動部材6
を(イ)方向もしくは(ロ)方向に作動して、回転軸2
を中心にしてダイコーター100を(ハ)方向もしくは
(ニ)方向に回転させて位置Iもしくは位置IIとする
と、直線状塗布剤流出口1の長手方向(X−X軸線)
が、前記ウエブFの進行方向(E方向)とは、その角度
位置を変更して、前記進行方向(E方向)に対して傾斜
した角度位置の状態となる。該角度位置の状態で、前記
ウエブFの塗布面Aに供給管7を介して塗布剤Dを直線
状塗布剤流出口1から流出させると、幅の狭い塗布層C
(図2の点線の斜線部)が形成される。
【0016】図2から理解されるように、前記直線状塗
布剤流出口1の長手方向(XーX軸線)の傾斜した角度
位置の状態は、該直線状塗布剤流出口1の全幅から塗布
剤が流出しても、前記ウエブFの塗布面Aに塗布される
塗布層Cの幅は、前記ウエブFの進行方向(E方向)に
対してダイコーター100の直線状塗布剤流出口1の長
手方向(XーX軸線)を直角に位置させた状態で塗布さ
れた塗布層Bの幅よりも小さくなる。
【0017】即ち、このウエブFの進行方向(E方向)
に対するダイコーター100の長手方向(XーX軸線)
の相対角度変更は、塗布面Aに対する塗布層(B、C)
の幅を変更することを意味する。また、前記ダイコータ
ー100の回転軸2がダイコーター100の中心部に配
置されていることにより、前記塗布層(B、C)は、前
記ウエブFの幅方向の中央部から左右に振り分け状に形
成されることになり、前記ダイコーター100を回転さ
せることにより、前記ウエブFの幅方向の中央部から左
右に振り分け所望の幅の塗布層(B、C)を自在に選択
形成することが可能である。
【0018】図3は、本発明の第ニの実施形態を塗布装
置100を示す平面図であり、図1と図2の第一の実施
形態の塗布装置100と相違する点は、回転軸4を塗布
装置100の長手方向の一端に固定して回転可能に支持
固定したことであり、その他の構成は、基本的に第一の
実施形態と同じである。前記回転軸4が塗布装置1の長
手方向の一端部に固定されていることから、前記回転軸
4は、前記ウエブFに対してその幅方向の一端に配置さ
れることになり、該回転軸4が回転することにより前記
塗布装置100は、該回転軸4を中心として回動して、
ウエブFの進行方向(E方向)に対して塗布装置100
のダイ1の長手方向(X−X軸線)を直角位置を変更さ
せることで、塗布層B、Cの幅を変更させることができ
る。
【0019】以上、本発明の二つの実施形態について詳
述したが、本発明は、前記実施形態に限定されるもので
はなく、特許請求の範囲に記載された本発明の精神を逸
脱することなく設計において種々の変更ができるもので
ある。例えば、前記実施形態においては、特定幅のウエ
ブFの塗布面Aに、種々の塗布幅の塗布層を形成するも
のについて記載したが、幅の異なる種々のウエブFに塗
布する場合にも、本発明の装置が適用できるものであ
る。
【0020】また、前記実施形態においては、ウエブF
の上部に塗布装置100を配置し、下方に向けて塗布剤
Dを流出する塗布装置100について記載したが、該塗
布装置100に限定されるものではなく、ウエブFに対
して塗布装置100を下部、横等の位置に配置した塗工
機200にも適用できるものである。更に、前記実施形
態においては、塗布剤Dを直接塗布装置100からウエ
ブFに塗布する形式について記載したが、塗布装置から
流出した塗布剤をローラを介してウエブに間接的に塗布
する塗布装置やスプレーにて塗布する塗布装置等にも本
発明は適用できるものである。
【0021】更にまた、前記実施形態においては、固設
された塗布装置100によって移動する塗布面Aに塗布
層を形成する形式について記載したが、固設された塗布
面Aに対して塗布装置100を移動して塗布層を形成す
る装置にも適用できるものである。更にまた、前記実施
形態においては、塗布装置100を駆動部材により回転
するように構成しているが、前記塗布装置100の回転
軸2又は4を直接回転駆動するように構成することもで
きるものであり、特定の駆動手段に限定されるものでは
ない。次に、本実施形態における実施例について説明す
る。
【0022】[実施例1]第一の本実施形態の塗布装置
100を用いた。塗布装置100としては、温度調節装
置機能を有しない直線状塗布剤流出口1(以下「ダイ」
という)を備えたダイコーター100を用い、ウエブF
としては、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート
フィルムを用い、塗布剤Dとしては、温度20℃で、ず
り速度100sec-1を与えた時に粘度2000mPa・se
cを示すアクリルエマルジョン塗布剤を使用して、フリ
ースパン方式で、前記ウエブFの移送方向に対してダイ
1の直線上流出口の長手方向の角度位置を変更して、塗
布を実施した。
【0023】二本の回転ロール上に支持されたウエブF
を、速度120m/minで移送させ、ダイ1を前記ウエブ
Fの垂直線上に位置させると共に、ダイ1の下部先端か
ウエブFの塗布面までの距離を30mmとし、塗布層Bの
量が20g/m2となるようにダイコーター100のマニホ
ールド(図示しない)へ定量ポンプ(図示しない)によ
り塗布剤Dを供給した。
【0024】[実施例2]第二の本実施形態の塗布装置
100を用いた。塗布装置100としては、温度調節装
置機能を有するダイ1を備えたダイコーター100を用
い、ウエブFとしては、厚さ50μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを用い、塗布剤Dとしては、温度
140℃で、粘度1000mPa・secを示すホットメル
ト塗布剤を使用して、フリースパン方式で、前記ウエブ
Fの移送方向に対してダイ1の長手方向の角度位置を変
更して、塗布を実施した。
【0025】二本の回転ロール上に支持されたウエブF
を速度150m/minで移送させ、ダイ1を前記ウエブF
の垂直線上に位置させると共に、ダイ1の下部先端から
ウェーブFの塗布面までの距離を30mmとし、塗布層B
の量が20g/m2となるようにダイコーター100のマニ
ホールド(図示しない)へ定量ポンプにより塗布剤Dを
供給した。前記実施例1及び実施例2においては、ウエ
ブFの移送方向に対してダイ1の長手方向の角度を90
°(直角)の従来の固定角度から30°まで4段階に変
更して、塗布幅と、該塗布幅の変化割合を計測すると共
に、その塗布状態を検証した。計測結果は、次の表1の
ようになった。
【0026】
【表1】 ウエブに対するダ 塗布幅 塗布幅の変化割合 イの回転位置角度 (mm) (%) 90° 1200 100 60° 1044 87 45° 840 70 30° 600 50
【0027】前記表1から理解されるように、ダイ1を
ウエブFの移送方向に対してダイ1の長手方向の角度を
従来の90°(直角)位置から30°位置に回転移動さ
せることにより、塗布層Bの幅を1/2にすることがで
きると共に、ダイ1を従来の90°(直角)位置から3
0°位置に移動させても、塗布層Cの塗布状態にさほど
の変化かなく良好に塗布されていることが確認された。
【0028】
【発明の効果】以上の説明から理解できるように、本発
明の塗布装置は、該塗布装置を、ウエブの塗布面に対し
て垂直な軸線を中心として回動可能に塗工機に支持固定
したので、幅を異にするウエブ等の塗布面や一定幅のウ
エブ等の塗布面内に対して、塗布層の幅を調整して塗布
することが可能となり、一つの塗布装置でウエブ等に種
々の幅の塗布層を簡単に形成することができ、汎用性に
優れ、しかも塗布作業上の準備が迅速、かつ、容易に行
える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施形態の塗布装置とウエブを
示す斜視図。
【図2】図1に示す塗布装置の平面図。
【図3】本発明の第ニの実施形態の塗布装置とウエブを
示す平面図。
【符号の説明】
100 塗布装置 1 直線状塗布剤流出口(ダイ) 2 回転軸 3 結合部片 5 駆動ロール 6 塗布装置の駆動部材 7 供給管 A 塗布面 B 塗布層 C 塗布層 D 塗布剤 F ウエブ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウエブの表面に塗布剤を塗布する塗工機
    用の塗布装置において、 前記塗布装置は、前記ウエブの表面に対して垂直な軸線
    を中心に回転可能に支持部材に固定されていることを特
    徴とする塗布装置。
  2. 【請求項2】 前記塗布装置は、前記ウエブの表面に対
    向して塗布剤流出口を備えると共に該塗布剤流出口の長
    手方向の中心に固定した回転軸を備え、該回転軸で回転
    可能に支持固定されていることを特徴とする請求項1に
    記載の塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記塗布装置は、前記ウエブの表面に対
    向して塗布剤流出口を備えると共に該塗布剤流出口の長
    手方向の一端に固定した回転軸を備え、該回転軸で回転
    可能に支持固定されていることを特徴とする請求項1に
    記載の塗布装置。
JP11018695A 1999-01-27 1999-01-27 塗布装置 Pending JP2000218207A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002192049A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 防水剤塗布装置
JP2006519122A (ja) * 2003-02-26 2006-08-24 アヴェニラ オーワイ 段ボールの製造方法
US7785654B2 (en) 2001-03-16 2010-08-31 Kao Corporation Method of producing cosmetics-impregnated sheet

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