JP2000216324A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
で1パッケージ化したもので、ワイヤーボンディング時
の素子劣化を防止するものである。 【解決手段】 アイランド54上に第1の半導体チップ
50と第2の半導体チップ51を固着し、この間にブリ
ッジ列57a、57b…を形成する。そしてブリッヂと
半導体チップとの接続は、半導体チップ側のボンディン
グパッドは、ボールボンドで、ブリッヂ側は、スティチ
ボンディングでワイヤーボンドする。また隣接する金属
細線の接触防止のためにブリッヂ列57a…と57b…
をずらす。
Description
プがアイランドに平面的に配列された半導体装置に関す
る。
に成っており、複数の半導体チップを1パッケージ化す
るものが開発されている。
645号公報の従来例がある。これは、図7に示すよう
に、第1の半導体チップ1および第2の半導体チップ2
が1つのアイランド3に固着されている。第1および第
2の半導体チップ1,2のボンディングパッド4、5と
リード6の先端が金属細線7により接続され、全体が樹
脂で封止されている。そして第1の半導体チップ1と第
2の半導体チップとの間の接続は、ボンディングパッド
7、8の間を金属細線9により実現されている。
イヤボンデイングにより実現され、一端はボールボンデ
イング、他端はステッチボンディングにより実現されて
いる。またステッチボンディングは、金属細線をキャピ
ラリーヘッド(ボンディングツール)で強く押さえなが
ら力で引きちぎるため、ステッチボンディング下の部分
には直接キャピラリーヘッドからのストレスが加わる。
リード6とボンディングパッド5との間は、リード側を
ステッチボンディング、半導体チップ側のボンディング
パッド側をボールボンデイングにすれば、半導体チップ
にはストレスが加わりにくい。しかし第1の半導体チッ
プ1と第2の半導体チップ2の間に於いて、ボンディン
グパッド7とボンディングパッド8との間は、どちらか
一方は、必ずステッチボンディングとなり、どちらか一
方の半導体チップのボンディングパッドには、前記ステ
ッチボンドによるストレスが加わる。最近は、ボンディ
ングパッドの下に保護ダイオード等の半導体素子が組み
込まれるため、このストレスにより半導体装置自身が不
良になったり、ボンディングパッド下の半導体素子が破
壊してしまう問題があった。また半導体基板の劣化を来
す原因となった。
3994号に於いて、図6のような出願を行っている。
1のシリコン表面には、チップの周辺部分に外部接続用
のボンディングパッド52、53が形成されている。
ードフレームのアイランド54上に固着材(ここでは、
半田や銀ペースト等であるが絶縁性接着剤でも良い)に
よりダイボンドされ、半導体チップ50、51表面のボ
ンディングパッド52、53には、金線等のボンディン
グワイヤ55の一端がボールボンデイングでワイヤボン
ドされており、ボンディングワイヤ55の他端は外部導
出用のリードの先端部にステッチボンディングでワイヤ
ボンドされている。
対応するアイランド54には、開口部56が設けられ、
この中には、必要な本数だけアイランド状のブリッヂ5
7が設けられている。
設けたと述べたが、第1のアイランド80と第2のアイ
ランド81とが2本の橋絡リード82,83で橋渡しさ
れ、アイランド80,81,橋絡リード82,83で囲
まれた領域が、前記開口部56を構成しているとも言え
る。またそれぞれの橋絡部には離間部84が設けられて
いる。
ットやエッチング)、アイランド54と一体のブリッヂ
57、アイランドと一体の橋絡リード82,83(ただ
し橋絡部に離間部84が同時に形成される)を形成して
おき、図6のように接着テープ58を貼った後に、ブリ
ッヂ57をアイランド54から切り離せばよい。接着テ
ープ58は、ブリッヂと離間部を構成する橋絡リードを
貼りつけることになる。
のボンディングパッド53との接続に於いて、半導体チ
ップ50、51側のボンディングパッド53をボールボ
ンデイングで行い、ブリッヂ57側をステッチボンディ
ングで実現しているため、前述した問題点は解消され
る。
部56側に位置する半導体チップの側辺に於いて、この
側辺に配置されるボンディングパッド数が増加すると、
配置されたブリッヂ57…では足りなくなる問題があっ
た。
鑑みてなされ、第1に、ブリッヂは、少なくとも2列設
けられ、第1列目のブリッヂ列に対してこれ以降設けら
れるブリッヂ列を、半導体チップの側辺の延在方向に沿
ってずらして配列されることで解決するものである。
とで、第1の半導体チップと第2の半導体チップの接続
点が増加してもその接続を実現できると共に、ブリッヂ
列をずらすことで、隣り合う第1の金属細線と第2の金
属細線の接触を防止できる。
と第2のアイランドを電気的に分離する分離領域を設け
ることで、第1の半導体チップ(または第1のアイラン
ド)と第2の半導体チップ(または第2のアイランド)
の電気的分離が可能となる。
け、前記分離領域の両側に配置される前記橋絡リード
を、第1の接着テープにより固定することで解決するも
のである。
ると、その後第1のアイランドと第2のアイランドはバ
ラバラに位置ズレをするが、第1の接着テープにより固
定されることでこのズレを防止できる。
橋絡リードと一緒に第2の接着テープにより固定するこ
とで、各ブリッヂの固定を実現することができる。
の一端および他端にする事で解決するものである。
ッヂの端部が二分割された一方と他方の領域にすること
で解決するものである。後述するが、一方のブリッヂ端
部に2つのステッチボンドを形成することで、ボンド領
域を一カ所にまとめられ、その分接着テープの接着面積
を確保することができる。
を図1を参照しながら詳細に説明する。
ップを示している。第1と第2の半導体チップ50、5
1のシリコン表面には、前工程において各種の能動素
子、受動回路素子が形成され、更にはチップの周辺部分
に外部接続用のボンディングパッド52、53が形成さ
れている。そのボンディングパッド52、53を被覆す
るようにシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、ポリイミド
系絶縁膜などのパッシベーション皮膜が形成され、ボン
ディングパッド52、53の上部は、ボンデイング接続
のためにこれらの膜が開口され開口部が形成されてい
る。ここで黒く塗りつぶした丸は、図面の都合上ボンデ
ィングパッドと金属細線のボールボンディング部を示
す。
レームのアイランド54上に接着材(ここでは、半田や
銀ペースト等)によりダイボンドされ、半導体チップ5
0、51表面のボンディングパッド52、53は、金
線、Al線またはCu線等のボンディングワイヤ55の
一端がボールボンデイングでボンドされており、ボンデ
ィングワイヤ55の他端は外部導出用のリードの先端部
にステッチボンディングでワイヤボンドされている。
導体チップ51との接続は、以下の構成でなっている。
まず両半導体チップ50、51との間に対応するアイラ
ンド54には、開口部56が設けられ、この中には、必
要な本数だけアイランド状のブリッヂ57が設けられて
いる。このブリッヂ57は、ワイヤーボンディングが実
現できる導電手段で有れば良く、銅、Al等の金属板、
表面に導電材料が被着された絶縁基板等が考えられる。
ここでは、Cuのリードフレームと一体で成るため、ア
イランドと同一材料でなり、Cuを主材料とした金属で
成る。また開口部に近接している第1の半導体チップ5
0の側辺L1と第2の半導体チップ51の側辺L2に
は、お互いを接続するボンディングパッドが多数存在す
るため、複数のブリッヂ列が用意されている。ここでは
図面の都合上、第1のブリッヂ列57a…と第2のブリ
ッヂ列57b…が7個と6個、側辺L1またはL2と平
行に配列されている構成を示している。
設けたと述べたが、第1のアイランド80と第2のアイ
ランド81とが2本の橋絡リード82,83で橋渡しさ
れ、アイランド80,81,橋絡リード82,83で囲
まれた領域が、前記開口部56を構成しているとも言え
る。また後述するがフレームを介した半導体チップの相
互干渉を防止するために、それぞれの橋絡部には離間部
84が設けられている。
スカットやエッチング)時、アイランド54と一体のブ
リッヂ57、アイランドと一体の橋絡リード82,83
(ただし橋絡部に離間部84が同時に形成される)を予
め用意し、図1のように接着テープ58を貼った後に、
ブリッヂ57をアイランド54から切り離して形成して
いる。接着テープ58は、ブリッヂと離間部を構成する
橋絡リードを貼りつけることになる。符号Tは、アイラ
ンドとブリッヂを切断した際に発生するリッヂ側の残存
物である。
ード間を接続し、アイランド状と成ったブリッヂ列と橋
絡リードを固定させればよい。つまり図1に点線で示す
ように、カタガナのロの字に形成された接着テープ58
は、4辺で分離され、縦方向の二辺が橋絡リードを固定
する第1の接着テープとして、また横方向の二辺がブリ
ッヂと橋絡リードを固定する第2の接着テープとして成
っても良い。
グパッド53との接続に於いて、半導体チップ50、5
1側のボンディングパッド53をボールボンデイングで
行い、ブリッヂ57側をステッチボンディングで行うこ
とに特徴を有する。
くボールボンデイングで実現できるため、半導体チップ
へ加わる歪みを抑制させることができる。
2の半導体チップに組み込まれる回路により、相互干渉
を生じる場合がある。例えば、第1の半導体チップ50
から発生するノイズが第1のアイランド80,橋絡リー
ド82、83、第2のアイランド81を介して第2の半
導体チップに浸入する場合は、ここにプレスカット等で
離間部84を設けることで、このノイズの浸入を防止で
きる。
端はボールボンデイング、他端はステッチボンディング
により実現されている。特にステッチボンディングは、
金属細線をキャピラリーヘッドで強く押さえ、力で引き
ちぎるため、ステッチボンディング下の部分にはストレ
スが加わるが、ブリッヂ57側をステッチボンディング
とし半導体チップ側をボールボンドとしたため、この半
導体チップのボンディングパッド下に加わるストレスを
抑制することができる。従ってボンディングパッド下の
半導体素子の劣化を抑制することができる。
の近傍まで延在される複数のリード59の先端部、およ
び金属細線を含む主要部は、一点鎖線の如くエポキシ系
の熱硬化樹脂58でモールドされ、製品となる。
アイランド54は、チップとリード59のボンディング
パッド面が実質同一面となるように段付けが行われてい
る。また支持リード61が封止樹脂60から露出してい
る部分は、カットされている。
参照して説明する。本実施の形態は、ブリッヂ列の配列
の仕方および金属細線、ボンデイング位置および接着テ
ープの接着位置が異なり、他は実質同じ構造であるた
め、ここでは異なる点のみの説明とする。
側に第1のブリッヂ列57a…が設けられ、下列に、第
2のブリッヂ列57b…が設けられており、各ブリッヂ
列は、決められたピッチでずらされている。本実施の形
態では、ブリッヂ列が二列であるため、第1のブリッジ
列に配列されているブリッヂ57a・57aの中間に第
2のブリッヂ列のブリッヂ57bが配列されている。ま
たブリッヂ57にボンデイングされる位置は、第1のブ
リッヂ57aと第2のブリッヂ列57bが隣り合う側の
端部に形成されている。
ヂ57aの下端部に於いて、右側に第1の半導体チップ
50側から延在された金属細線62が接続され、第2の
半導体チップ51側から延在された金属細線63が左側
に接続されている。また第2のブリッジ57bの上端に
於いて、右側に第1の半導体チップ50側から延在され
た金属細線64が接続され、第2の半導体チップ51側
から延在された金属細線65が左側に接続されている。
ここで金属細線62は、ブリッヂ57aの右側に接続さ
れているが左側でも良く、この場合金属細線63は、右
側となる。ここの接続関係を斜視図で示したものが図3
である。
ド位置が第1の実施の形態と異なり一端部(第1のブリ
ッヂ57aでは下端部)に集中できるため、この領域を
除いた空き領域が大きくなり、接着テープ58の接着面
積を拡大させることができ、ブリッヂの固着強度を増強
させることができる。つまりボンディングツールが当接
でき、またボンディング強度を確保するために、極端に
ブリッヂの端には配置できず、ある程度のマージンが必
用となる。しかし一端部に集中させれば、このマージン
を減らすことができ。接着テープの接着面積を増大させ
ることができ、逆に余った分ブリッヂのサイズを小さく
することもできる。
ヂの両端部にボンディングされてあるため、この領域を
除いた領域は、図2よりも狭くなり接着面積が狭くなる
問題がある。また接着テープの接着面積を図2と同等に
しようとすれば、ブリッヂ上面の面積を拡大する必用が
あり、半導体装置全体を大きくしてしまう。
てアイランドと接着されても良い。しかし図1、図2で
は、接着テープを貼ってからブリッヂをカットするた
め、アイランドとは接着できない。つまりアイランドと
形成予定のブリッヂとの間でカットするためである。こ
の結果が前述したような残存物Tとして残る。
置から延在される金属細線が半導体チップへ延在される
部分に於いて、図のように下方に垂れ下がりあるブリッ
ヂに接触する可能性があるが、この延在方向の下方に前
記接着テープ58が設けられてあるため、この接触を防
止することもできる。
も良い。図4には、3列の場合のボンディング例を示し
た。この場合でも図1のブリッヂに示す接続構造と図2
に示す接続構造があるが、ここでは図2の接続構造を示
した。
の場合は、2n本)をユニットにして、紙面に対して横
方向にリピートされているため、第1のブリッヂ57a
の左端から第3のブリッヂ57cの右端までの間隔に実
質均等に配置されている。
するものである。ここでは支持リードは、100であ
り、上のアイランドは、角部から、下のアイランドは、
ランド左右の側辺の中央から引き出されている。これも
角部から延在しても良い。またチップサイズか異なり引
き出されパッドの数も異なるため、リードの本数が異な
る。従って上のチップと接続されるリード群と下のチッ
プが接続されるリード群は、自ずとそのピッチが異な
る。
第1に、2つの半導体チップの間にブリッヂを設け、半
導体チップ側の接続はボールボンデイングで、前記ブリ
ッヂ側の接続はステッチボンディングで金属細線をワイ
ヤーボンディングする事で、ボンディングパッド下の半
導体素子の劣化を防止することができる。
を介することで1本の金属細線から2本の金属細線にし
たため、ボンデイングの際にこの金属細線の高さを低く
することができる。従って、封止樹脂の厚みを薄くする
こともできる。
の使用で、一方のチップから他方へのチップへのノイズ
の浸入を抑制することができる。
時に同時に形成するため、ブリッヂを簡単にプレスで分
離でき、また接着テープによりブリッヂを固定できるた
め、良好なワイヤーボンディングが可能となる。
ることで、第1の半導体チップと第2の半導体チップの
接続点が増加しても、その接続を実現できると共に、ブ
リッヂ列をずらすことで、隣り合う第1の金属細線と第
2の金属細線の接触を防止することができる。
ッヂ端部にまとめることで、その分接着テープの接着面
積を確保することができる。
導体装置の平面図である。
導体装置の平面図である。
図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 第1の半導体チップの固着領域と成る第
1のアイランドおよび第2の半導体チップの固着領域と
成る第2のアイランドと、 前記第1のアイランド、前記第2のアイランドの周辺に
延在された複数のリードと、 前記第1のアイランドに固着された第1の半導体チップ
および前記第2のアイランド固着された第2の半導体チ
ップと、 前記第1の半導体チップおよび第2の半導体チップと前
記リードを電気的に接続する第1の金属細線と、 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップの間
であり、相対向する前記半導体チップの側辺の延在方向
に沿って電気的に分離されて複数本配列されたブリッヂ
と、 前記第1の半導体チップと前記ブリッジの一領域との間
に設けられ、第1の半導体チップ側の接続はボールボン
デイングで、前記ブリッヂの一領域の接続はステッチボ
ンディングで実現される第2の金属細線と、 前記第2の半導体チップと前記ブリッヂの他領域との間
に設けられ、第2の半導体チップ側の接続はボールボン
デイングで、前記ブリッヂの他領域の接続はステッチボ
ンドで実現される第3の金属細線とを有する半導体装置
に於いて、 前記ブリッヂは、少なくとも2列設けられ、第1列目の
ブリッヂ列に対してこれ以降設けられるブリッヂ列は、
前記側辺の延在方向に沿ってずれて配列されることを特
徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記第1のアイランドと前記第2のアイ
ランドの間に位置する橋絡リードには、第1のアイラン
ドと第2のアイランドを電気的に分離する分離領域が設
けられる請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記分離領域は、切断により設けられ、
前記分離領域の両側に配置される前記橋絡リードは、第
1の接着テープにより固定される請求項2記載の半導体
装置。 - 【請求項4】 前記ブリッヂ列は、両端に設けられた前
記橋絡リードと一緒に第2の接着テープにより固定され
る請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記一領域および他領域は、前記ブリッ
ヂの一端および他端で成る請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項6】 前記一領域および他領域は、前記ブリッ
ヂの端部が二分割された一方と他方の領域で成る請求項
1記載の半導体装置。
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JP01594899A JP3349465B2 (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 半導体装置 |
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