JP2000214298A - 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギ―コンペンセ―タ、並びに荷電粒子線照射方法 - Google Patents
荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギ―コンペンセ―タ、並びに荷電粒子線照射方法Info
- Publication number
- JP2000214298A JP2000214298A JP11012365A JP1236599A JP2000214298A JP 2000214298 A JP2000214298 A JP 2000214298A JP 11012365 A JP11012365 A JP 11012365A JP 1236599 A JP1236599 A JP 1236599A JP 2000214298 A JP2000214298 A JP 2000214298A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle beam
- charged particle
- irradiation
- energy
- layered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N2005/1085—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy characterised by the type of particles applied to the patient
- A61N2005/1087—Ions; Protons
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N2005/1092—Details
- A61N2005/1095—Elements inserted into the radiation path within the system, e.g. filters or wedges
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N5/1042—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy with spatial modulation of the radiation beam within the treatment head
Abstract
かかるという課題、及び荷電粒子線の照射により放射化
された使用済みのエネルギーコンペンセータ7の保管と
廃棄のコストがかかるという課題があった。 【解決手段】 エネルギーコンペンセータ19は、Y方
向及びZ方向において複数の層をなして互いに平行に配
置された複数の棒19bを備え、さらに、各棒19bを
X方向と平行な方向に独立に移動させるため、棒19b
毎に電磁石19i及び永久磁石19jを備えている。
Description
照射部に荷電粒子線を照射する荷電粒子線照射装置及び
その装置に用いるエネルギーコンペンセータに関するも
のである。
i, Hadrontherapy in Oncol
ogy, Proceedings of the F
irstInternational Symposi
um on Hadrontherapy, Com
o, Italy, 18−21 October 1
993, Ugo Amaldi and Borje
Lasseon, 434−452」に示された従来
の荷電粒子線照射装置の構成を示す断面図である。図1
1は患者の体内にある腫瘍に荷電粒子線を照射する様子
を示している。図11において、1は荷電粒子線照射装
置、2は荷電粒子線発生装置(図示せず)から放射され
た荷電粒子線、3は荷電粒子線2のビームエネルギーを
変更させるエネルギーシフタ、4は荷電粒子線2を散乱
して広げる散乱体、5は荷電粒子線発生装置(図示せ
ず)から放射され、散乱体4で広げられた荷電粒子線、
6は荷電粒子線5の照射範囲を制限する多葉コリメー
タ、7は荷電粒子線5のビームエネルギーを変調するエ
ネルギーコンペンセータ、8は荷電粒子線5の被照射体
である患者、9は患者8の体内にある腫瘍である。
されており、荷電粒子線2が透過する板の枚数を変える
ことによりその厚さを変えて荷電粒子線2のエネルギー
減衰量を変え、荷電粒子線5を腫瘍9に照射した場合の
荷電粒子線5の停止位置を変えることができる。また、
エネルギーコンペンセータ7は荷電粒子線5のエネルギ
ーを吸収する材料で形成されており、荷電粒子線5を腫
瘍9に照射した場合の荷電粒子線5の停止位置の軌跡が
腫瘍9の奥側境界面の形状と略一致するような三次元形
状をしている。また、多葉コリメータ6は荷電粒子線5
を腫瘍9に照射した場合の荷電粒子線5の照射範囲が腫
瘍9内となるように、荷電粒子線5の通過範囲を荷電粒
子線2の進行方向と垂直な面内において自由に制限する
ことができる。
にある腫瘍9に荷電粒子線5を照射する場合、先ず、エ
ネルギーシフタ3の厚さを調節し、荷電粒子線5を腫瘍
9に照射した場合の荷電粒子線5の停止位置が腫瘍9の
奥側境界面のすぐ内側となるようにする。また、多葉コ
リメータ6を調節し、荷電粒子線5を腫瘍9に照射した
場合の荷電粒子線5の照射範囲が腫瘍9内になるように
する。そして、このような状態で、荷電粒子線制御装置
(図示せず)を用いて荷電粒子線2をON/OFF制御
することにより、荷電粒子線を所定粒子数だけ照射す
る。
量だけ増やし(例えば、水相当で4mm)、荷電粒子線
5を患者8に照射した場合の荷電粒子線5の停止位置が
少し手前側となるようにする。また、多葉コリメータ6
を調節し、荷電粒子線5を患者8に照射した場合の荷電
粒子線5の停止位置が腫瘍9内になるようにする。そし
て、このような状態で、荷電粒子線制御装置(図示せ
ず)を用いて荷電粒子線2をON/OFF制御すること
により、荷電粒子を所定粒子数だけ照射する。
合の荷電粒子線5の停止位置が、腫瘍9の手前側境界面
の近傍になるまで、同様の工程を繰り返す。
止位置の軌跡を示す。図11では、符号10は一部の軌
跡についてのみ付している。
装置は以上のように構成されているので、エネルギーコ
ンペンセータ7は複雑な3次元形状をしている。このた
め、エネルギーコンペンセータ7の作成に時間がかかる
という課題があった。
ように構成されているので、患者8ごと、腫瘍9ごと、
さらには同じ腫瘍9でも荷電粒子線5の照射角度ごとに
エネルギーコンペンセータ7を形成しなければならな
い。すなわち、エネルギーコンペンセータ7を繰り返し
使用することができない。このため、荷電粒子線の照射
により放射化された使用済みのエネルギーコンペンセー
タ7の保管と廃棄のコストがかかるという課題があっ
た。
ように構成されているので、散乱体4により荷電粒子線
2を散乱して広げている。このため、荷電粒子線2の利
用効率が低い(3割以下)という課題があった。
めになされたもので、作成が容易であって繰り返し使用
することができるエネルギーコンペンセータを備えた荷
電粒子線照射装置及びその装置における荷電粒子線照射
方法を得ることを目的とする。
高い荷電粒子線照射装置及びその装置における荷電粒子
線照射方法を得ることを目的とする。
返し使用することができるエネルギーコンペンセータを
得ることを目的とする。
線照射装置は、Y方向及びZ方向において複数の層をな
して互いに平行に配置された複数の棒と、各棒をX方向
と平行な方向に独立に移動させ荷電粒子線通過領域に出
入りさせる棒駆動手段とを有するエネルギーコンペンセ
ータを備えたものである。
状領域照射手段が、荷電粒子線をX方向と平行な方向に
偏向させるX方向偏向手段と、Y方向と平行な方向にス
キャンさせるY方向スキャン手段とを備えたものであ
る。
方向スキャン手段が、照射範囲制限手段としても機能す
るものである。
方向において隣接して積層する2つの棒の層のうちの一
方の層を構成する棒の隙間と、他方の層を構成する棒の
隙間とが重ならないように、棒が配置しているものであ
る。
ネルギーコンペンセータが、棒の先端を支持する先端支
持部を備えたものである。
射層状領域変更手段が、3次元照射領域をX方向と平行
な方向に移動させる3次元照射領域移動手段であるもの
である。
ネルギーコンペンセータをX方向と平行な方向に移動さ
せるエネルギーコンペンセータ移動手段を備えたもので
ある。
ネルギーコンペンセータが、棒と棒駆動手段とを一体と
してX方向と平行な方向に移動させる移動手段を備えた
ものである。
ネルギーコンペンセータが、エネルギー変更手段として
も機能するものである。
電粒子線発生手段が、エネルギー変更手段としても機能
するものである。
は、Y方向及びZ方向において複数の層をなして互いに
平行に配置された複数の棒と、各棒をX方向と平行な方
向に独立に移動させ荷電粒子線通過領域に出入りさせる
棒駆動手段とを備えたものである。
次元照射領域を、X方向において所定の厚さを有するn
個の層状領域に分割する第1工程と、荷電粒子線を照射
する層状領域を第i(i=1,2,3,・・・,n)番
目の層状領域に設定する第2工程と、荷電粒子線の停止
位置の軌跡が第i番目の層状領域の奥側境界面の形状と
略一致するように変調されかつ荷電粒子線の照射範囲が
Y方向と平行な方向において第i番目の層状領域内とな
るように制限された荷電粒子線を、荷電粒子線のビーム
エネルギーを段階的に変えながら第i番目の層状領域に
照射する第3工程と、第i番目の層状領域における荷電
粒子線の照射が終了した場合、i≠nのとき、荷電粒子
線を照射する層状領域を第i+1番目の層状領域に設定
して第3工程を行い、i=nのとき、荷電粒子線の照射
を終了する第4工程とを備え、第2工程をi=1から始
めるものである。
説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による荷
電粒子線照射装置を示す構成図である。図1は患者の体
内にある腫瘍に荷電粒子線を照射する様子を示してい
る。図1において、11は荷電粒子線照射装置、12は
荷電粒子線を放射する、加速器などから構成された荷電
粒子線発生装置(荷電粒子線発生手段)、13は荷電粒
子線発生装置12から放射された荷電粒子線をON/O
FF制御する、電磁石などから構成された荷電粒子線制
御装置、14は荷電粒子線発生装置12から放射された
荷電粒子線の進行方向を切り替える、電磁石などから構
成された荷電粒子線輸送装置、15は荷電粒子線発生装
置12から放射された荷電粒子線、16は荷電粒子線1
5をX方向と平行な方向に偏向させるX方向偏向用電磁
石(層状領域照射手段、照射層状領域変更手段、X方向
偏向手段)、17は荷電粒子線15をY方向と平行な方
向にスキャンさせるY方向スキャン用電磁石(層状領域
照射手段、Y方向スキャン手段)、18は荷電粒子線発
生装置12から放射され、X方向偏向用電磁石16によ
り偏向され、Y方向スキャン用電磁石17によりスキャ
ンされた荷電粒子線、19は荷電粒子線18のビームエ
ネルギーを変調するエネルギーコンペンセータ、20は
荷電粒子線18の通過位置、その通過位置における通過
粒子数などを計測するビームモニタ、21は荷電粒子線
18のビームエネルギーを変更させるエネルギーシフタ
(エネルギー変更手段)、22は荷電粒子線18の照射
範囲を制限するコリメータ(照射範囲制限手段)、23
は装置全体を制御するコンピュータ、24は荷電粒子線
18の被照射体である患者、25は患者24の体内にあ
る腫瘍(3次元照射領域)である。
見たときの平面図である。図2はコリメータの手前側か
ら患者の体内にある腫瘍を見たときの様子を示してい
る。図3は腫瘍の斜視図である。図3は腫瘍に荷電粒子
線を照射したときの様子を示している。この荷電粒子線
照射装置11では、腫瘍25が、X方向と平行な方向に
おいて所定の厚さ(例えば、5mm)を有する複数の層
状領域から構成されるものとみなす。図2及び図3で
は、腫瘍25が、X方向と平行な方向において所定の厚
さを有する複数の層状領域から構成されるものとして示
している。図2及び図3において、25aは腫瘍25を
構成する層状領域である。図2及び図3では、符号25
aを代表的な層状領域についてのみ付している。また、
図2において、25bは層状領域25aの中心面であ
る。図2では、符号25bを代表的な層状領域25aの
中心面についてのみ付している。図3において、25c
は層状領域25aの奥側境界面である。図3では、符号
25cを代表的な層状領域25aの奥側境界面について
のみ付している。図3において、矢印aは荷電粒子線を
X方向と平行な方向に偏向させたときの最大偏向範囲を
示し、矢印bは荷電粒子線をY方向と平行な方向にスキ
ャンさせたときの最大スキャン範囲を示す。
セータ19、患者24及び腫瘍25は、荷電粒子線15
の進行方向を含み、かつYZ平面と平行な平面による断
面を示している。
生装置12から放射された荷電粒子線15の進行方向
を、ON状態において荷電粒子線輸送装置14に入射す
るように偏向し、OFF状態において荷電粒子線輸送装
置14に入射しないように偏向する。また、エネルギー
シフタ21は複数の薄い板で構成されており、荷電粒子
線18が透過する板の枚数を変えることによりその厚さ
を変えて荷電粒子線18のエネルギー減衰量を変え、荷
電粒子線18を腫瘍25に照射した場合の荷電粒子線1
8の停止位置を変えることができる。また、コリメータ
22はY方向と平行な方向に移動する2つの部分から構
成されており、荷電粒子線18を腫瘍25に照射した場
合の荷電粒子線18の照射範囲がY方向と平行な方向に
おいて層状領域25a内となるように、Y方向と平行な
方向にスキャンされた荷電粒子線18の通過範囲をY方
向と平行な方向において制限することができる。
粒子線照射装置に用いるエネルギーコンペンセータの概
略的な構成図である。図4において、19aは荷電粒子
線18が通過する荷電粒子線通過領域、19bはX方向
と平行な方向に移動して荷電粒子線通過領域19aに出
入りする、荷電粒子線18を吸収する材料で形成された
棒、19cは棒19bの基端部、19dは棒19bの先
端部、19eは棒19bの基端部19cを支持する基端
支持部、19fは棒19bを荷電粒子線通過領域19a
に出したときに棒19bの先端部19dを支持する先端
支持部、19gは基端支持部19eに設けられた、棒1
9bがX方向と平行な方向に移動するときのレールとし
て機能する筒状部、19hは先端支持部19fに形成さ
れた、棒19bの先端部19dを収納する収納凹部、1
9iは筒状部19gの周囲に巻かれたコイルからなる電
磁石(棒駆動手段)、19jはN極を棒19bの基端部
19c側に向けて、棒19bの基端部19cに取り付け
られた永久磁石(棒駆動手段)である。図4では、図面
を簡略化するため、棒19bを2つだけ示している。図
5はこの発明の実施の形態1による荷電粒子線照射装置
に用いるエネルギーコンペンセータを構成する複数の棒
の配置を示す断面図である。図5は荷電粒子線15の進
行方向を含み、かつYZ平面と平行な平面による断面を
示している。図6はこの発明の実施の形態1による荷電
粒子線照射装置に用いるエネルギーコンペンセータを構
成する複数の棒の配置を示す斜視図である。図5及び図
6は荷電粒子線18を患者24に照射した場合の荷電粒
子線18の停止位置の軌跡が、層状領域25aの奥側境
界面25cの形状と略一致するように棒19bが移動し
ている状態を示している。図4から図6において、矢印
cは荷電粒子線18の照射方向を示す。図1、図5及び
図6では、符号19bを一部の棒についてのみ付してい
る。
及びZ方向において複数の層をなして互いに平行に配置
された複数の棒19bを備え、さらに、各棒19bをX
方向と平行な方向に独立に移動させるため、棒19b毎
に電磁石19i及び永久磁石19jを備えている。棒1
9bは、荷電粒子線18を腫瘍25に照射した場合の荷
電粒子線18の停止位置の軌跡が層状領域25aの奥側
境界面25cの形状と略一致するように移動する。荷電
粒子線通過領域19aのX方向の幅は、腫瘍25のX方
向の厚さより大きい。また、棒19bは、Z方向におい
て隣接して積層する2つの棒19bの層のうち一方の層
を構成する棒19bの隙間と、他方の層を構成する棒1
9bの隙間とが重ならないようにわずかにずれて配置し
ている。これにより、棒19bの隙間からの荷電粒子線
18の漏れが抑制される。また、棒19bは、荷電粒子
線通過領域19aに出たときに先端支持部19fに、そ
の先端部19dが支持される。これにより、棒19bの
たわみが抑制され、棒19bの軸中心位置が高精度に再
現される。
矩形である場合について示したが、その他の形状であっ
てもよく、棒19bの断面の形状を変えた場合にはその
形状にあわせて筒状部19gの形状及び電磁石19iの
形状を変える。また、図4では、棒19bの先端部19
dが円錐状である場合について示したが、その他の形状
であってもよく、棒19bの先端の形状を変えた場合に
はその形状にあわせて収納凹部19hの形状を変える。
また、棒19bの先端部19dをゴムなどの弾性物質で
形成してもよく、その場合、棒19bの先端部19dが
収納凹部19hにはまって停止するときの振動と騒音が
低減する。また、図4では、棒19bを、電磁石19i
と永久磁石19jとを用いて移動させる場合について示
したが、永久磁石19jを電磁石に代え、2つの電磁石
により棒を移動してもよい。また、図5では、すべての
棒19bの断面の形状及びサイズが同じ場合について示
したが、必ずしもすべての棒19bの断面の形状及びサ
イズを同じにする必要はない。断面のサイズが2mmか
ら5mm程度であれば実用上問題はない。また、棒19
bを形成する材料としては、人体に組成が近いものを用
いるが、放射線に強いポリスチレンなどを用いることも
できる。
射装置11を用いて腫瘍25に荷電粒子線18を照射す
る場合、先ず、腫瘍25をX方向において所定の厚さを
有するn個の層状領域25aに分割し(すなわち、腫瘍
25がX方向と平行な方向において所定の厚さを有する
複数の層状領域25aから構成されるものとみな
す。)、n個の層状領域25aに1からnの番号を割り
当てる。
領域25aの中心面25bを照射するようにX方向偏向
用電磁石16の磁場を設定することにより、荷電粒子線
18を照射する層状領域25aを第1番目の層状領域2
5aに設定する。なお、X方向偏向用電磁石16の磁場
の設定は、予めコンピュータ23に入力されたデータに
基づいて行う。
が第1番目の層状領域25aの奥側境界面25cの形状
と略一致するように変調され、かつ、荷電粒子線18の
照射範囲がY方向と平行な方向において第1番目の層状
領域25a内となるように制限された荷電粒子線18
を、荷電粒子線18のビームエネルギーを段階的に変え
ながら第1番目の層状領域25aに照射する。
線18の停止位置の軌跡が第1番目の層状領域25aの
奥側境界面25cの形状と略一致するように荷電粒子線
18を変調するために、エネルギーコンペンセータ19
の棒19bを移動する。そして、荷電粒子線18を第1
の層状領域25aに照射した場合の荷電粒子線18の軌
跡が第1番目の層状領域25aの奥側境界面25cの形
状と略一致するようにする。また、荷電粒子線18の照
射範囲がY方向と平行な方向において第1番目の層状領
域25a内となるように制限するために、コリメータ2
2を調節する。そして、荷電粒子線18を第1の層状領
域25aに照射した場合の荷電粒子線18の照射範囲が
Y方向と平行な方向において第1番目の層状領域25a
内となるようにする。また、エネルギーシフタ21の厚
さを調節し、荷電粒子線18を第1の層状領域25aに
照射した場合の荷電粒子線18の停止位置が第1の層状
領域25aの奥側境界面25cのすぐ内側となるように
する。なお、エネルギーコンペンセータ19の棒19b
の移動、コリメータ22の調節、及びエネルギーシフタ
21の厚さ調節は、予めコンピュータ23に入力してお
いてデータに基づいて行う。データとして、例えば、患
者24の体内の電子密度、層状領域25aの奥側境界面
25cの形状などである。
御装置13により、荷電粒子線発生装置12から放射さ
れた荷電粒子線15を、荷電粒子線輸送装置14に入射
するように偏向し、荷電粒子線15をON状態にする。
荷電粒子線輸送装置14に入射した荷電粒子線15は、
荷電粒子線輸送装置14によりその進行方向が切り替え
られ、X方向偏向用電磁石16により偏向され、X方向
偏向用電磁石16により偏向された荷電粒子線18は第
1番目の層状領域25aの中心面25bを照射する。
り荷電粒子線18を第1番目の層状領域25aの中心面
25bの位置でスキャンする。ビームモニタ20により
荷電粒子線18の通過位置、その通過位置における通過
粒子数などを計測し、照射粒子数が所定粒子数に達した
際、コンピュータ23は荷電粒子線制御装置13に荷電
粒子線15をOFF状態にする信号を出し、荷電粒子線
制御装置13により、荷電粒子線発生装置12から放射
された荷電粒子線15を、荷電粒子線輸送装置14に入
射しない方向に偏向し、荷電粒子線15をOFF状態と
する。
ネルギーシフタ21の厚さを所定量だけ増やし(例え
ば、水相当で4mm)、荷電粒子線18を第1の層状領
域25aに照射した場合の荷電粒子線18の停止位置が
少し手前側となるようにする。また、コリメータ22を
調節して、荷電粒子線18を第1の層状領域25aに照
射した場合の荷電粒子線18の照射範囲がY方向と平行
な方向において第1番目の層状領域25a内となるよう
にする。そして、荷電粒子線制御装置13により、荷電
粒子線発生装置12から放射された荷電粒子線15を、
荷電粒子線輸送装置14に入射する方向に偏向し、荷電
粒子線15をON状態とし、荷電粒子を所定粒子数だけ
照射する。
5aに照射した場合の荷電粒子線18の停止位置が、第
1の層状領域25aの手前側境界面の近傍になるまで、
同様の工程を繰り返し、第1の層状領域25aに対する
荷電粒子線18の照射を終了する。
18の照射が終了した後、荷電粒子線18が第2番目の
層状領域25aの中心面25bを照射するようにX方向
偏向用電磁石16の磁場を設定することにより、荷電粒
子線18を照射する層状領域25aを第2番目の層状領
域25aに設定する。そして、上述した場合と同様にし
て、第2の層状領域25aに対して荷電粒子線18を照
射する。以後、同様に、第3番目から第n番目の層状領
域25aに対して、順に荷電粒子線18を照射する。第
n番目の層状領域25aに対する荷電粒子線18の照射
終了後、荷電粒子線18の照射を終了する。
止位置の軌跡を示す。図1では符号26は一部の軌跡に
ついてのみ付している。
ば、エネルギーコンペンセータ19は、Y方向及びZ方
向において複数の層をなして互いに平行に配置された複
数の棒19bと、各棒19bをX方向と平行な方向に独
立に移動させ荷電粒子線通過領域19aに出入りさせる
棒駆動手段とを備えたものであるので、エネルギーコン
ペンセータ19を容易に作成することができる効果が得
られる。また、エネルギーコンペンセータ19を繰り返
し使用することができる効果が得られる。
成が容易であり、かつエネルギーコンペンセータ19の
繰り返し使用ができるので、治療効率が向上し、治療コ
ストが低減する効果が得られる。
偏向用電磁石16及びY方向スキャン用電磁石17を用
いて荷電粒子線18を腫瘍25に照射するので、腫瘍2
5の所定の領域に荷電粒子線18を照射することがで
き、荷電粒子線18の利用効率が高くなる効果が得られ
る。
領域に照射することができるので、装置の放射化及びそ
れに伴う患者や放射線治療技師などへの被爆を低減する
効果が得られる。
照射装置11を回転ガントリと称する荷電粒子線回転治
療装置に組み込んだ場合、散乱体などを用いて照射野を
形成する必要がないため、装置の小型化が図れる効果が
得られる。
フタ21がエネルギーコンペンセータ19とコリメータ
22との間に位置する場合について説明したが、図7に
示ように、X方向偏向用電磁石16の上流側に位置する
場合でも同様の効果が得られる。ただし、ビームエネル
ギーが変わる度に、X方向偏向用電磁石16の磁場を再
設定し、荷電粒子線18が同じ層状領域を照射するよう
にする必要がある。
御装置13により荷電粒子線15をON/OFF制御す
る場合について説明したが、荷電粒子線発生装置12に
より荷電粒子線15をON/OFF制御する場合でも同
様の効果が得られる。例えば、荷電粒子線発生装置12
として、加速器を用いた場合には、イオン源をON/O
FF制御することにより荷電粒子線15をON/OFF
制御することができる。
電磁石16の磁場を変えて荷電粒子線18を照射する層
状領域25aを変える場合について説明したが、患者2
4を載せるベッド(図示せず)にX方向と平行な方向へ
の移動手段を設け(これが、照射層状領域変更手段が、
3次元照射領域をX方向と平行な方向に移動させる3次
元照射領域移動手段である場合である。)、ベッドをX
方向と平行な方向へ移動させることにより、荷電粒子線
18を照射する層状領域25aを変えることもできる。
この場合、エネルギーコンペンセータ19における荷電
粒子線通過領域19aのX方向の幅は、層状領域25a
のX方向の厚さだけあれば十分であり、荷電粒子線照射
装置が小型化できる効果が得られる。
ンペンセータ19における荷電粒子線通過領域19aの
X方向の幅が腫瘍25のX方向の厚さより広い場合につ
いて説明したが、エネルギーコンペンセータ19をX方
向と平行な方向へ移動させる移動手段を設ける(これ
が、エネルギーコンペンセータをX方向と平行な方向に
移動させるエネルギーコンペンセータ移動手段を備えた
場合である。)ことにより、エネルギーコンペンセータ
19における荷電粒子線通過領域19aのX方向の幅
を、層状領域25aのX方向の厚さ程度とすることがで
きる。また、エネルギーコンペンセータ19に棒19b
と棒19bを駆動する手段とを一体としてX方向と平行
な方向へ移動させる移動手段を設ける(これが、エネル
ギーコンペンセータが棒と棒駆動手段とを一体としてX
方向と平行な方向へ移動させる移動手段を備えた場合で
ある。)ことによっても、エネルギーコンペンセータ1
9における荷電粒子線通過領域19aのX方向の幅を、
層状領域25aのX方向の厚さ程度とすることができ
る。ただし、これらの場合、X方向偏向用電磁石16の
磁場の変更に合わせて、棒19bと棒19bを駆動する
手段とを一体としてX方向と平行な方向へ移動させる必
要がある。これらの場合、荷電粒子線照射装置が小型化
できる効果が得られる。
フタ21の厚さを増やす度にコリメータ22を調節し
て、荷電粒子線18を第1の層状領域25aに照射した
場合の荷電粒子線18の照射範囲がY方向と平行な方向
において層状領域25a内となるようにする場合につい
て説明したが、エネルギーシフタ21の厚さを増やす度
にY方向スキャン用電磁石17の磁場のスキャン範囲を
再設定することにより荷電粒子線18の照射範囲がY方
向と平行な方向において層状領域25a内となるように
することができる。これが、Y方向スキャン手段を、荷
電粒子線が照射される層状領域をY方向と平行な方向に
おいて制限する照射範囲制限手段として用いる場合であ
る。この場合、コリメータ22が不要となり、荷電粒子
線照射装置が簡略化し小型化する効果、荷電粒子線照射
装置の信頼性が向上する効果、及び荷電粒子線照射装置
のコストが下がる効果が得られる。
フタ21の厚さを徐々に大きくして、荷電粒子線18を
層状領域25aに照射した場合の荷電粒子線18の停止
位置を奥側から手前側に徐々に移動させる場合について
説明したが、荷電粒子線18を層状領域25aに照射し
た場合の荷電粒子線18の停止位置をランダムに移動さ
せる場合であっても同様の効果が得られる。
ルギーコンペンセータを荷電粒子線のビームエネルギー
を変更させるエネルギー変更手段としても用いる場合に
ついて説明する。
粒子線照射装置を示す構成図である。図8は患者の体内
にある腫瘍に荷電粒子線を照射する様子を示している。
図8において、31は荷電粒子線照射装置、32は荷電
粒子線18のビームエネルギーを変調するエネルギーコ
ンペンセータ(エネルギー変更手段)、32bはX方向
と平行な方向に移動して荷電粒子線通過領域に出入りす
る、荷電粒子線18を吸収する材料で形成された棒であ
る。その他の構成要素は図1において同一符号を付して
示したものと同一あるいは同等であるため、その説明は
省略する。
ンセータ32は、実施の形態1におけるエネルギーコン
ペンセータ19と同様の構造をしている。ただし、この
実施の形態におけるエネルギーコンペンセータ32で
は、荷電粒子線18を腫瘍25に照射した場合の荷電粒
子線18の停止位置の軌跡が層状領域25aの奥側境界
面25cの形状と略一致するとともに、荷電粒子線18
を腫瘍25に照射した場合の荷電粒子線18の停止位置
が腫瘍25内となるように、棒32bが移動する。すな
わち、エネルギーコンペンセータ32を用いて荷電粒子
線18のビームエネルギーを減衰させることによって、
荷電粒子線18を腫瘍25に照射した場合の荷電粒子線
18の停止位置が腫瘍25内となるようにするため、図
8に示すように、実施の形態1の場合に比べて、荷電粒
子線18が通過する部分により多くの棒32bを配置す
る。
ば、エネルギーコンペンセータを荷電粒子線のエネルギ
ーを変更させるエネルギー変更手段としても用いるの
で、実施の形態1の場合に必要であったエネルギーシフ
タが不要となり、荷電粒子線照射装置が簡略化し小型化
する効果、荷電粒子線照射装置の信頼性が向上する効
果、及び荷電粒子線照射装置のコストが下がる効果が得
られる。
えば、シンクロトロン加速器を用いた場合には、荷電粒
子線発生装置12をエネルギー変更手段として用いるこ
とができる。この場合、上述した効果と同様の効果が得
られる。ただし、ビームエネルギーが変わる度に、X方
向偏向用電磁石16の磁場を再設定し、荷電粒子線18
が同じ層状領域を照射するようにする必要がある。
態3による荷電粒子線照射装置を示す構成図である。図
9は患者の体内にある腫瘍に荷電粒子線を照射する様子
を示している。図9において、41は荷電粒子線照射装
置、42は荷電粒子線15を散乱して広げる散乱体(層
状領域照射手段)、43は荷電粒子線発生装置12から
放射され、散乱体42で広げられた荷電粒子線、44は
荷電粒子線43の照射範囲を制限するコリメータであ
る。その他の構成要素は図1において同一符号を付して
示したものと同一あるいは同等であるため、その説明は
省略する。
の平面図である。図10において、44aはX方向と平
行な方向に移動する2つの部分から構成されるX方向移
動コリメータ(層状領域照射手段、照射層状領域変更手
段)、44bはY方向と平行な方向に移動する2つの部
分から構成されるY方向移動コリメータ(照射範囲制限
手段)である。
セータ19、患者24、腫瘍25、散乱体42及びコリ
メータ44は、荷電粒子線15の進行方向を含み、かつ
YZ平面と平行な平面による断面を示している。
線43を腫瘍25に照射した場合に荷電粒子線43が所
定の層状領域25aのみを照射するするように、荷電粒
子線43の通過範囲をX方向と平行な方向において制限
することができる。また、Y方向移動コリメータ44b
は、荷電粒子線43を腫瘍25に照射した場合の荷電粒
子線43の停止位置が腫瘍25内となるように、荷電粒
子線43の通過範囲をY方向と平行な方向において制限
することができる。
装置41を用いて腫瘍25に荷電粒子線43を照射する
場合、先ず、腫瘍25をX方向において所定の厚さを有
するn個の層状領域25aに分割し(すなわち、腫瘍2
5がX方向と平行な方向において所定の厚さを有する複
数の層状領域25aから構成されるものとみなす。)、
n個の層状領域25aに1からnの番号を割り当てる。
領域25aを照射するようにX方向移動コリメータ44
aを設定することにより、荷電粒子線43を照射する層
状領域25aを第1番目の層状領域25aに設定する。
なお、X方向移動コリメータ44aの設定は、予めコン
ピュータ23に入力されたデータに基づいて行う。
が第1番目の層状領域25aの奥側境界面25cの形状
と略一致するように変調されかつ荷電粒子線43の照射
範囲がY方向と平行な方向において第1番目の層状領域
25a内となるように制限された荷電粒子線43を、荷
電粒子線43のビームエネルギーを段階的に変えながら
第1番目の層状領域25aに照射する。
線43の停止位置の軌跡が第1番目の層状領域25aの
奥側境界面25cの形状と略一致するように荷電粒子線
43を変調するために、エネルギーコンペンセータ19
の棒19bを移動する。そして、荷電粒子線43を第1
の層状領域25aに照射した場合の荷電粒子線43の軌
跡が第1番目の層状領域25aの奥側境界面25cの形
状と略一致するようにする。また、荷電粒子線43の照
射範囲がY方向と平行な方向において第1番目の層状領
域25a内となるように制限するために、Y方向移動コ
リメータ44bを調節する。そして、荷電粒子線43を
第1の層状領域25aに照射した場合の荷電粒子線43
の照射範囲がY方向と平行な方向において第1番目の層
状領域25a内となるようにする。また、エネルギーシ
フタ21の厚さを調節し、荷電粒子線43を第1の層状
領域25aに照射した場合の荷電粒子線43の停止位置
が第1の層状領域25aの奥側境界面25cのすぐ内側
となるようにする。なお、エネルギーコンペンセータ1
9の棒19bの移動、Y方向移動コリメータ44bの調
節、及びエネルギーシフタ21の厚さ調節は、予めコン
ピュータ23に入力しておいてデータに基づいて行う。
データとして、例えば、患者24の体内の電子密度、層
状領域25aの奥側境界面25cの形状などである。
御装置13により、荷電粒子線発生装置12から放射さ
れた荷電粒子線15を、荷電粒子線輸送装置14に入射
するように偏向し、荷電粒子線15をON状態にする。
荷電粒子線輸送装置14に入射した荷電粒子線15は、
荷電粒子線輸送装置14によりその進行方向が切り替え
られ、散乱体42により広げられ、散乱体42により広
げられた荷電粒子線43は第1番目の層状領域25aを
照射する。照射粒子数が所定粒子数に達した際、コンピ
ュータ23は荷電粒子線制御装置13に荷電粒子線15
をOFF状態にする信号を出し、荷電粒子線制御装置1
3により、荷電粒子線発生装置12から放射された荷電
粒子線15を、荷電粒子線輸送装置14に入射しない方
向に偏向し、荷電粒子線15をOFF状態とする。
ネルギーシフタ21の厚さを所定量だけ増やし(例え
ば、水相当で4mm)、荷電粒子線43を第1の層状領
域25aに照射した場合の荷電粒子線43の停止位置が
少し手前側となるようにする。また、Y方向移動コリメ
ータ44bを調節して、荷電粒子線43を第1の層状領
域25aに照射した場合の荷電粒子線43の照射範囲が
Y方向と平行な方向において第1番目の層状領域25a
内となるようにする。そして、荷電粒子線制御装置13
により、荷電粒子線発生装置12から放射された荷電粒
子線43を、荷電粒子線輸送装置14に入射する方向に
偏向し、荷電粒子線43をON状態とし、荷電粒子を所
定粒子数だけ照射する。
5aに照射した場合の荷電粒子線43の停止位置が、第
1の層状領域25aの手前側境界面の近傍になるまで、
同様の工程を繰り返し、第1の層状領域25aに対する
荷電粒子線43の照射を終了する。
43の照射が終了した後、荷電粒子線43が第2番目の
層状領域25aを照射するようにX方向移動コリメータ
44aを設定することにより、荷電粒子線43を照射す
る層状領域25aを第2番目の層状領域25aに設定す
る。そして、上述した場合と同様にして、第2の層状領
域25aに対して荷電粒子線43を照射する。以後、同
様に、第3番目から第n番目の層状領域25aに対し
て、順に荷電粒子線43を照射する。第n番目の層状領
域25aに対する荷電粒子線43の照射終了後、荷電粒
子線43の照射を終了する。
止位置の軌跡を示す。図1では符号26は一部の軌跡に
ついてのみ付している。
ば、エネルギーコンペンセータ19は、Y方向及びZ方
向において複数の層をなして互いに平行に配置された複
数の棒19bと、各棒19bをX方向と平行な方向に独
立に移動させ荷電粒子線通過領域19aに出入りさせる
棒駆動手段とを備えたものであるので、エネルギーコン
ペンセータ19の作成が容易である効果が得られる。ま
た、エネルギーコンペンセータ19を繰り返し使用する
ことができる効果が得られる。
成が容易であり、エネルギーコンペンセータ19を繰り
返し使用することができるので、治療効率が向上し、治
療コストが低減する効果が得られる。
4として、X方向と平行な方向に移動する2つの部分か
ら構成されるX方向移動コリメータ44aとY方向と平
行な方向に移動する2つの部分から構成されるY方向移
動コリメータ44bとから成るものを用いる場合につい
て説明したが、荷電粒子線43を腫瘍25に照射した場
合に荷電粒子線43が所定の層状領域25aのみを照射
するように荷電粒子線43の通過範囲をX方向と平行な
方向において制限することができ、かつ、荷電粒子線4
3を腫瘍25に照射した場合の荷電粒子線43の停止位
置が腫瘍25内となるように荷電粒子線43の通過範囲
をY方向と平行な方向において制限することができるも
のであれば、いかなる構成のものであっても同様の効果
が得られる。
線照射装置及び荷電粒子線照射方法は荷電粒子線治療に
限るものではなく、荷電粒子線照射を必要とする他の分
野にも応用することができる。
向及びZ方向において複数の層をなして互いに平行に配
置された複数の棒と、各棒をX方向と平行な方向に独立
に移動させ荷電粒子線通過領域に出入りさせる棒駆動手
段とを有するエネルギーコンペンセータを備えるように
荷電粒子線照射装置を構成したので、エネルギーコンペ
ンセータの作成が容易でありかつエネルギーコンペンセ
ータの繰り返し使用ができ、その結果、照射作業効率が
向上し、照射作業コストが低減する効果がある。
荷電粒子線をX方向と平行な方向に偏向させるX方向偏
向手段と、Y方向と平行な方向にスキャンさせるY方向
スキャン手段とを備えるように荷電粒子線照射装置を構
成したので、荷電粒子線の利用効率が高くなる効果があ
る。
が、照射範囲制限手段としても機能するように荷電粒子
線照射装置を構成したので、荷電粒子線照射装置が簡略
化し小型化する効果、荷電粒子線照射装置の信頼性が向
上する効果、及び荷電粒子線照射装置のコストが下がる
効果がある。
て積層する2つの棒の層のうちの一方の層を構成する棒
の隙間と、他方の層を構成する棒の隙間とが重ならない
ように荷電粒子線照射装置を構成したので、棒の隙間か
らの荷電粒子線の漏れが抑制される効果がある。
ータが、棒の先端を支持する先端支持部を備えるように
荷電粒子線照射装置を構成したので、棒のたわみが抑制
され、棒の軸中心位置が高精度に再現される効果があ
る。
が、3次元照射領域をX方向と平行な方向に移動させる
3次元照射領域移動手段であるように荷電粒子線照射装
置を構成したので、エネルギーコンペンセータにおける
荷電粒子線通過領域のX方向の幅は層状領域のX方向の
厚さだけあれば十分であり、荷電粒子線照射装置が小型
化できる効果がある。
ータをX方向と平行な方向に移動させるエネルギーコン
ペンセータ移動手段を備えるように荷電粒子線照射装置
を構成したので、エネルギーコンペンセータにおける荷
電粒子線通過領域のX方向の幅を層状領域のX方向の厚
さ程度とすることができ、荷電粒子線照射装置が小型化
できる効果がある。
ータが、棒と棒駆動手段とを一体としてX方向と平行な
方向に移動させる移動手段を備えるように荷電粒子線照
射装置を構成したので、エネルギーコンペンセータにお
ける荷電粒子線通過領域のX方向の幅を層状領域のX方
向の厚さ程度とすることができ、荷電粒子線照射装置が
小型化できる効果がある。
ータが、エネルギー変更手段としても機能するように荷
電粒子線照射装置を構成したので、荷電粒子線照射装置
が簡略化し小型化する効果、荷電粒子線照射装置の信頼
性が向上する効果、及び荷電粒子線照射装置のコストが
下がる効果がある。
が、エネルギー変更手段としても機能するように荷電粒
子線照射装置を構成したので、荷電粒子線照射装置が簡
略化し小型化する効果、荷電粒子線照射装置の信頼性が
向上する効果、及び荷電粒子線照射装置のコストが下が
る効果がある。
いて複数の層をなして互いに平行に配置された複数の棒
と、各棒をX方向と平行な方向に独立に移動させ荷電粒
子線通過領域に出入りさせる棒駆動手段とを備えるよう
にエネルギーコンペンセータを構成したので、エネルギ
ーコンペンセータを容易に作成することができ、かつエ
ネルギーコンペンセータを繰り返し使用することができ
る効果がある。
方向において所定の厚さを有するn個の層状領域に分割
する第1工程と、荷電粒子線を照射する層状領域を第i
(i=1,2,3,・・・,n)番目の層状領域に設定
する第2工程と、荷電粒子線の停止位置の軌跡が第i番
目の層状領域の奥側境界面の形状と略一致するように変
調されかつ荷電粒子線の照射範囲がY方向と平行な方向
において第i番目の層状領域内となるように制限された
荷電粒子線を、荷電粒子線のビームエネルギーを段階的
に変えながら第i番目の層状領域に照射する第3工程
と、第i番目の層状領域における荷電粒子線の照射が終
了した場合、i≠nのとき、荷電粒子線を照射する層状
領域を第i+1番目の層状領域に設定して第3工程を行
い、i=nのとき、荷電粒子線の照射を終了する第4工
程とを備え、第2工程をi=1から始めるように荷電粒
子線照射方法を構成したので、照射作業効率が向上し、
照射作業コストが低減する効果がある。
射装置を示す構成図である。
の平面図である。
射装置に用いるエネルギーコンペンセータの概略的な構
成図である。
射装置に用いるエネルギーコンペンセータを構成する複
数の棒の配置を示す断面図である。
射装置に用いるエネルギーコンペンセータを構成する複
数の棒の配置を示す斜視図である。
射装置の変形例を示す構成図である。
射装置を示す構成図である。
射装置を示す構成図である。
である。
面図である。
子線発生装置(荷電粒子線発生手段)、16 X方向偏
向用電磁石(層状領域照射手段、照射層状領域変更手
段、X方向偏向手段)、17 Y方向スキャン用電磁石
(層状領域照射手段、Y方向スキャン手段)、19 エ
ネルギーコンペンセータ、19a 荷電粒子線通過領
域、19b,32b 棒、19f 先端支持部、19i
電磁石(棒駆動手段)、19j 永久磁石(棒駆動手
段)、21 エネルギーシフタ(エネルギー変更手
段)、22 コリメータ(照射範囲制限手段)、25
腫瘍(3次元照射領域)、32 エネルギーコンペンセ
ータ(エネルギー変更手段)、42散乱体(層状領域照
射手段)、44a X方向移動コリメータ(層状領域照
射手段、照射層状領域変更手段)、44b Y方向移動
コリメータ(照射範囲制限手段)。
Claims (12)
- 【請求項1】 荷電粒子線を放射する荷電粒子線発生手
段と、X方向において所定の厚さを有する複数の層状領
域から構成される3次元照射領域中の所定の層状領域に
上記荷電粒子線発生手段から放射された荷電粒子線を照
射させる層状領域照射手段と、荷電粒子線のビームエネ
ルギーを変更させるエネルギー変更手段と、荷電粒子線
の照射範囲をY方向と平行な方向において制限する照射
範囲制限手段と、荷電粒子線のビームエネルギーを変調
するエネルギーコンペンセータと、荷電粒子線が照射さ
れる層状領域を変更する照射層状領域変更手段とを備
え、 上記エネルギーコンペンセータは、Y方向及びZ方向に
おいて複数の層をなして互いに平行に配置された複数の
棒と、各棒をX方向と平行な方向に独立に移動させ荷電
粒子線通過領域に出入りさせる棒駆動手段とを備えたこ
とを特徴とする荷電粒子線照射装置。 - 【請求項2】 層状領域照射手段は、荷電粒子線をX方
向と平行な方向に偏向させるX方向偏向手段と、Y方向
と平行な方向にスキャンさせるY方向スキャン手段とを
備えたことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線照射
装置。 - 【請求項3】 Y方向スキャン手段は、照射範囲制限手
段としても機能することを特徴とする請求項2記載の荷
電粒子線照射装置。 - 【請求項4】 Z方向において隣接して積層する2つの
棒の層のうちの一方の層を構成する棒の隙間と、他方の
層を構成する棒の隙間とが重ならないように、棒が配置
していることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線照
射装置。 - 【請求項5】 エネルギーコンペンセータは、棒の先端
を支持する先端支持部を備えたことを特徴とする請求項
1記載の荷電粒子線照射装置。 - 【請求項6】 照射層状領域変更手段は、3次元照射領
域をX方向と平行な方向に移動させる3次元照射領域移
動手段であることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子
線照射装置。 - 【請求項7】 エネルギーコンペンセータをX方向と平
行な方向に移動させるエネルギーコンペンセータ移動手
段を備えたことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線
照射装置。 - 【請求項8】 エネルギーコンペンセータは、棒と棒駆
動手段とを一体としてX方向と平行な方向に移動させる
移動手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の荷電
粒子線照射装置。 - 【請求項9】 エネルギーコンペンセータは、エネルギ
ー変更手段としても機能することを特徴とする請求項1
記載の荷電粒子線照射装置。 - 【請求項10】 荷電粒子線発生手段は、エネルギー変
更手段としても機能することを特徴とする請求項1記載
の荷電粒子線照射装置。 - 【請求項11】 Y方向及びZ方向において複数の層を
なして互いに平行に配置された複数の棒と、各棒をX方
向と平行な方向に独立に移動させ荷電粒子線通過領域に
出入りさせる棒駆動手段とを備えたエネルギーコンペン
セータ。 - 【請求項12】 3次元照射領域を、X方向において所
定の厚さを有するn個の層状領域に分割する第1工程
と、 荷電粒子線を照射する層状領域を第i(i=1,2,
3,・・・,n)番目の層状領域に設定する第2工程
と、 荷電粒子線の停止位置の軌跡が第i番目の層状領域の奥
側境界面の形状と略一致するように変調されかつ荷電粒
子線の照射範囲がY方向と平行な方向において第i番目
の層状領域内となるように制限された荷電粒子線を、荷
電粒子線のビームエネルギーを段階的に変えながら第i
番目の層状領域に照射する第3工程と、 第i番目の層状領域における荷電粒子線の照射が終了し
た場合、i≠nのとき、荷電粒子線を照射する層状領域
を第i+1番目の層状領域に設定して第3工程を行い、
i=nのとき、荷電粒子線の照射を終了する第4工程と
を備え、 第2工程をi=1から始めることを特徴とする荷電粒子
線照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01236599A JP4118433B2 (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギーコンペンセータ、並びに荷電粒子線照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01236599A JP4118433B2 (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギーコンペンセータ、並びに荷電粒子線照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000214298A true JP2000214298A (ja) | 2000-08-04 |
JP4118433B2 JP4118433B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=11803256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01236599A Expired - Fee Related JP4118433B2 (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギーコンペンセータ、並びに荷電粒子線照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4118433B2 (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005004168A1 (ja) * | 2003-07-01 | 2005-01-13 | National Institute Of Radiological Sciences | 飛程補償装置及び重荷電粒子線照射装置 |
JP2005037214A (ja) * | 2003-05-19 | 2005-02-10 | Kawakami Hideyuki | 放射線照射用コンペンセータ、コンペンセータ製造装置および放射線照射装置 |
JP2005308700A (ja) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Kawakami Hideyuki | 粒子線照射用コンペンセータ、コンペンセータ製造装置およびコンペンセータ製造方法 |
JP2006158744A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Univ Of Tokyo | 放射線照射用コンペンセータおよびコンペンセータ配列照合装置 |
WO2008106532A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Heavy ion radiation therapy system with stair-step modulation |
WO2008106492A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Scanning aperture ion beam modulator |
WO2008106500A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Fan beam modulator for ion beams providing continuous intensity modulation |
EP2016979A3 (de) * | 2007-07-20 | 2009-06-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Partikelstrahlapplikationsvorrichtung, Bestrahlungsvorrichtung sowie Verfahren zur Führung eines Partikelstrahls |
EP2108401A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-14 | Ion Beam Applications S.A. | Organ motion compensating device and method |
US7714309B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-05-11 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Phantom for ion range detection |
US7763873B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-07-27 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with variable beam resolution |
US7856082B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-12-21 | Wisconsin Alumni Research Foundation | System and method for optimization of a radiation therapy plan in the presence of motion |
US7977657B2 (en) | 2007-02-27 | 2011-07-12 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with distal gradient tracking |
US8076657B2 (en) | 2007-02-27 | 2011-12-13 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system having magnetic fan beam former |
US8093568B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-01-10 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with rocking gantry motion |
US8129701B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-03-06 | Al-Sadah Jihad H | Areal modulator for intensity modulated radiation therapy |
JP2014020800A (ja) * | 2012-07-12 | 2014-02-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 荷電粒子線照射装置 |
JP5976254B1 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-08-23 | 三菱電機株式会社 | 治療計画装置、ボーラス装置及び粒子線治療装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62204770A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-09 | ヘキスト合成株式会社 | 放射線治療用ボ−ラス |
JPS62227375A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-06 | 株式会社東芝 | ビーム治療装置 |
JPH01131675A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-24 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線がん治療装置 |
JPH03115897A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Kagaku Gijutsucho Hoshasen Igaku Sogo Kenkyusho | 放射線治療用ボーラス成形用型の形成装置並びにボーラス製造法 |
JPH07275381A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-24 | Toshiba Corp | ビーム治療装置 |
JPH09223600A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-08-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法 |
JPH10118204A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-05-12 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法 |
JPH10151211A (ja) * | 1996-11-25 | 1998-06-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 照射野形成装置 |
JPH10234874A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-08 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
JPH10314323A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 照射方法 |
-
1999
- 1999-01-20 JP JP01236599A patent/JP4118433B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62204770A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-09 | ヘキスト合成株式会社 | 放射線治療用ボ−ラス |
JPS62227375A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-06 | 株式会社東芝 | ビーム治療装置 |
JPH01131675A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-24 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子線がん治療装置 |
JPH03115897A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Kagaku Gijutsucho Hoshasen Igaku Sogo Kenkyusho | 放射線治療用ボーラス成形用型の形成装置並びにボーラス製造法 |
JPH07275381A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-24 | Toshiba Corp | ビーム治療装置 |
JPH09223600A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-08-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法 |
JPH10118204A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-05-12 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法 |
JPH10151211A (ja) * | 1996-11-25 | 1998-06-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 照射野形成装置 |
JPH10234874A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-08 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
JPH10314323A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 照射方法 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005037214A (ja) * | 2003-05-19 | 2005-02-10 | Kawakami Hideyuki | 放射線照射用コンペンセータ、コンペンセータ製造装置および放射線照射装置 |
WO2005004168A1 (ja) * | 2003-07-01 | 2005-01-13 | National Institute Of Radiological Sciences | 飛程補償装置及び重荷電粒子線照射装置 |
JP2005308700A (ja) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Kawakami Hideyuki | 粒子線照射用コンペンセータ、コンペンセータ製造装置およびコンペンセータ製造方法 |
JP2006158744A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Univ Of Tokyo | 放射線照射用コンペンセータおよびコンペンセータ配列照合装置 |
US7763873B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-07-27 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with variable beam resolution |
US7977648B2 (en) | 2007-02-27 | 2011-07-12 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Scanning aperture ion beam modulator |
WO2008106500A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Fan beam modulator for ion beams providing continuous intensity modulation |
US9006677B2 (en) | 2007-02-27 | 2015-04-14 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Fan beam modulator for ion beams providing continuous intensity modulation |
US8269196B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-09-18 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Heavy ion radiation therapy system with stair-step modulation |
US7714309B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-05-11 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Phantom for ion range detection |
WO2008106532A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Heavy ion radiation therapy system with stair-step modulation |
US7856082B2 (en) | 2007-02-27 | 2010-12-21 | Wisconsin Alumni Research Foundation | System and method for optimization of a radiation therapy plan in the presence of motion |
US7977657B2 (en) | 2007-02-27 | 2011-07-12 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with distal gradient tracking |
WO2008106492A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Scanning aperture ion beam modulator |
US8076657B2 (en) | 2007-02-27 | 2011-12-13 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system having magnetic fan beam former |
US8093568B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-01-10 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with rocking gantry motion |
US8129701B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-03-06 | Al-Sadah Jihad H | Areal modulator for intensity modulated radiation therapy |
US8154001B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-04-10 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Ion radiation therapy system with variable beam resolution |
EP2016979A3 (de) * | 2007-07-20 | 2009-06-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Partikelstrahlapplikationsvorrichtung, Bestrahlungsvorrichtung sowie Verfahren zur Führung eines Partikelstrahls |
EP2108401A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-14 | Ion Beam Applications S.A. | Organ motion compensating device and method |
JP2014020800A (ja) * | 2012-07-12 | 2014-02-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 荷電粒子線照射装置 |
JP5976254B1 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-08-23 | 三菱電機株式会社 | 治療計画装置、ボーラス装置及び粒子線治療装置 |
WO2016162999A1 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-10-13 | 三菱電機株式会社 | ボーラス装置、治療計画装置及び粒子線治療装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4118433B2 (ja) | 2008-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4118433B2 (ja) | 荷電粒子線照射装置及びその装置に用いるエネルギーコンペンセータ、並びに荷電粒子線照射方法 | |
CN109195664B (zh) | 放射治疗系统和方法 | |
JP5107113B2 (ja) | 荷電粒子線照射装置 | |
EP2189185B1 (en) | Particle beam projection apparatus | |
JP3702885B2 (ja) | 粒子線照射装置及び照射野形成装置の調整方法 | |
Pedroni et al. | The PSI Gantry 2: a second generation proton scanning gantry | |
JP5641857B2 (ja) | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 | |
JP4282198B2 (ja) | 粒子線照射装置 | |
US8193512B2 (en) | Irradiation field forming device | |
WO2013065762A1 (ja) | 放射線照射装置、放射線照射方法、及びプログラム記憶媒体 | |
US20090189095A1 (en) | Ion radiation therapy system with variable beam resolution | |
JPH11142600A (ja) | 荷電粒子線照射装置及び照射方法 | |
US20210031053A1 (en) | Radiation treatment head and radiation treatment device | |
CN108478941B (zh) | 放射治疗装置 | |
JP4322419B2 (ja) | 3次元粒子線照射装置とその作動方法 | |
US7167540B2 (en) | Device for irradiating tissue | |
KR102303072B1 (ko) | 하전 입자 빔 조사 장치 | |
JP2010075584A (ja) | 粒子線照射システム及びこの制御方法 | |
JPH10300899A (ja) | 放射線治療装置 | |
JP2011050660A (ja) | 粒子線治療システム及び粒子線照射方法 | |
US20070041493A1 (en) | Method and apparatus for producing an intensity modulated beam of radiation | |
JP2001061978A (ja) | 粒子線照射方法及びその装置並びに粒子線治療装置 | |
JP2018143659A (ja) | 荷電粒子線治療装置 | |
JPH06121842A (ja) | 放射線照射装置 | |
JPH06130200A (ja) | 放射線照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051018 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071002 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071119 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20071119 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071119 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071225 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080325 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080423 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120502 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120502 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130502 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140502 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |