JP2000199966A

JP2000199966A - レジスト塗布装置および基板端縁レジスト除去装置

Info

Publication number: JP2000199966A
Application number: JP83099A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Misono; 雅宏御園; Shigeo Ishii; 茂男石井; Yoshio Miyama; 嘉雄深山; Mitsuaki Shiba; 光明柴; 裕康 ▲柳▼瀬; Hiroyasu Yanase; Kazumi Kanesaka; 和美金坂; Yoshitaka Imabayashi; 義考今林
Original assignee: Hitachi Device Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd; Japan Display Inc
Priority date: 1998-11-05
Filing date: 1999-01-06
Publication date: 2000-07-18

Abstract

(57)【要約】【課題】効率的な不要レジストの除去を達成する。【解決手段】基板上にレジストを均一に塗布するレジ
スト塗布装置において、該基板の周辺に該レジストの現
像液を噴出する手段を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレジスト塗布装置お
よび基板端縁レジスト除去装置に係り、たとえば液晶表
示装置の製造に適用されるに好適なレジスト塗布装置お
よび基板端縁レジスト除去装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置は、液晶を介して
互いに対向配置される透明基板を外囲器とし、該液晶の
広がり方向に多数の画素が形成されて構成されている。
各画素には、それぞれ独立にその液晶に電界を発生させ
るための手段が備えられ、該電界の発生によって該液晶
の光透過率を制御するようになっている。このため、少
なくとも一方の透明基板の液晶側の面には各画素領域毎
に電界を発生させるための電子回路が組み込まれてお
り、この電子回路は所定の微細パターンからなる導電
層、半導体層、あるいは絶縁層等の積層構造から構成さ
れている。そして、これら各層の微細パターンはいわゆ
るホトリソグラフィ技術を用いた選択エッチング方法に
よって形成されるようなっている。

【０００３】すなわち、透明基板の全域にたとえば導電
層を形成した後、この導電層の上面の全域にフォトレジ
ストを膜状に形成し、このフォトレジスト膜に所定のパ
ターンが描かれたフォトマスクを介して選択露光を行
う。その後、該フォトレジスト膜に現像処理を施して、
露光がなされた部分あるいは露光がなされなかった部分
を残存させる。そして、この残存されたフォトレジスト
膜をマスクとしてこのマスクから露出された導電層を適
当なエッチング液によってエッチングする。これによ
り、導電層はフォトマスクのパターンと同一のパターン
に形成される。

【０００４】この場合、導電層を精度よく所定のパター
ンどおりに形成させるために、フォトレジスト膜を所定
の均一な膜厚で形成することが要求されることになる。
このため、このフォトレジスト膜の形成にはレジスト塗
布装置が用いられ、たとえば、載置台に載置された透明
基板のほぼ中央にフォトレジストを滴下させ、該載置台
を透明基板ごと回転させるようにして、余分なフォトレ
ジストを遠心力によって飛散させるいわゆるスピンコー
ティング方式のものが知られている。

【０００５】また、この場合、遠心力によって飛散され
たフォトレジストは、透明基板の端面および裏面にも周
り込んでしまうことから、この部分において該フォトレ
ジストを溶解させるための溶剤を吐出させるための溶剤
ノズルを設けたものも知られるに到っている（特開平６
−３１０４２２参照）。

【０００６】液晶表示装置の場合、その透明基板に不要
なフォトレジストが付着してしまうことは、表示品質の
劣化および製造歩留まりの低下等の種々の不都合を生じ
せしめるからである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述したレジ
スト塗布装置は、ガラス基板の端面にレジスト残りが発
生したり、使用する溶剤の種類によっては、レジストの
除去部と未除去部との境界でレジストの盛り上がりが発
生し、該レジストの現像工程において除去部の境界でレ
ジストの残りが発生するといったことが指摘されるに到
った。この不都合は、溶剤を多量に使用することによっ
て回避できるが、大量生産を基本とする環境下では、よ
り効率的な不要レジストの除去が要望される。本発明
は、このような事情に基づいてなされたものであり、そ
の目的は、効率的に不要レジストの除去を達成し得るレ
ジスト塗布装置を提供することにある。また、本発明の
他の目的は、効率的に不要レジストの除去を達成し得る
基板端縁レジスト除去装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。手段１．基板上にレジストを均一に塗布するレジスト塗
布装置において、該基板の周辺に該レジストの現像液を
噴出する手段を設けたことを特徴とするものである。こ
のように、基板上に塗布されたレジストの不要部分にそ
れを除去するのに、該レジストの現像液を用いることに
よって該レジストのたとえば盛り上がり等がなく除去で
きることが確かめられる。そして、該レジストの現像液
をある程度の高温とすることによって、該レジストを適
当な量で除去することができ、作業の効率化を測ること
ができるようになる。

【０００９】手段２．基板端縁レジスト除去装置であっ
て、レジストが均一に塗布された基板を回転させる手段
と、該基板の周辺に該レジストの現像液を噴出する手段
とが備えられていることを特徴とするものである。この
ように構成した基板端縁レジスト除去装置は、レジスト
塗布装置とは独立した装置として用いられ、該レジスト
塗布装置によってレジストが塗布された基板をこの装置
に移行させ、その端面のレジストを除去できるようにな
る。この場合においても、基板上に塗布されたレジスト
の不要部分にそれを除去するのに、該レジストの現像液
を用いることによって該レジストのたとえば盛り上がり
等がなく除去できることが確かめられる。そして、該レ
ジストの現像液をある程度の高温とすることによって、
該レジストを適当な量で除去することができ、作業の効
率化を測ることができるようになる。

【００１０】

【発明の実施の形態】実施例１．以下、本発明によるレ
ジスト塗布装置の実施例を図面を用いて説明をする。

【００１１】〔全体概略構成〕図１において、載置台１
があり、この載置台１の上面にはガラス基板２が載置さ
れるようになっている。

【００１２】このガラス基板２は、たとえば液晶表示装
置の外囲器を構成する一方の透明基板であり、その液晶
側の面において電子回路を形成しようとするものであ
る。

【００１３】ガラス基板２はその中心が載置台１の中心
に一致づけられて配置されるようになっており、その際
の固定はたとえば真空吸着によってなされるようになっ
ている。

【００１４】すなわち、載置台１の上面、換言すればガ
ラス基板２の搭載面には真空に引かれる真空チャックが
形成され、該ガラス基板２はこの真空チャックに吸引さ
れて載置台１上に固定されるようになっている。

【００１５】また、載置台１のガラス基板２の搭載面と
は反対の面の中央に支軸３が取り付けられており、この
支軸は図示しない駆動手段によって回転できるようにな
っている。

【００１６】この支軸３の回転によってガラス基板２は
その平面内で載置台１ごと回転できるようになってい
る。このレジスト塗布装置がいわゆるスピンコーティン
グ方式と称される所以である。

【００１７】載置台１に載置されたガラス基板２のほぼ
中央の上方には比較的径の大きなノズル４が配置され、
このノズルからは若干粘性を有する液状のフォトレジス
トが滴下されるようになっている。

【００１８】ガラス基板２のほぼ中央にフォトレジスト
が適当量滴下された後、このガラス基板２を回転させる
ことにより、該フォトレジストが遠心力によってガラス
基板２の周辺方向へ流動し、該ガラス基板２面には該遠
心力にほぼ対応する膜厚でフォトレジスト膜が形成さ
れ、しかも、その膜厚はガラス基板の全域にかけてほぼ
均一になる。

【００１９】しかし、上述したように、該フォトレジス
トはガラス基板２の周辺にまで流動した後、該ガラス基
板２の終端面およびその裏面にかけてまでも周り込む現
象が発生する。

【００２０】このため、この実施例では、該ガラス基板
２の周辺に４個（図面では２個しか示されていない）の
レジスト除去装置５が配置され、それぞれのレジスト除
去装置５は載置台１の支軸３に対して４５°の間隔を有
している。

【００２１】このレジスト除去装置５は、ガラス基板２
の周辺にレジスト除去液を噴出する機構が備えられ、該
ガラス基板２の回転中に該機構が駆動できるようになっ
ている。なお、このレジスト除去液噴出機構は後に詳述
する。

【００２２】なお、同図の上述した各部材は蓋部を備え
る外枠に内蔵されて構成され、ガラス基板２の回転によ
るフォトレジストの飛散等を該外枠によって遮蔽できる
ようになっているとともに、該蓋部の開閉はガラス基板
２の出し入れの際になされるようになっている。

【００２３】〔レジスト除去装置の移動および首振り機
構〕図２（ａ）ないし（ｄ）は、レジスト除去装置５に
おいて、ガラス基板２の回転とともに移動および首振り
を行うことを示す説明図である。

【００２４】このような機構を必要とするのは、液晶表
示装置を構成するためのガラス基板２は矩形状をなして
いるため、その回転に応じて各レジスト除去装置５を最
適な位置に常に位置づけておかなければならないからで
ある。

【００２５】図２（ａ）は、ガラス基板２の回転寸前に
おけるレジスト除去装置５の位置を示している。なお、
この図のＩ−Ｉ線における断面図は図１に対応するもの
となっている。

【００２６】それぞれのレジスト除去装置５は、ガラス
基板２の各辺のほぼ中央部に位置づけられ、各レジスト
除去装置５の先端部は載置台１の支軸３側に指向してい
る。

【００２７】図２（ｂ）は、ガラス基板２が時計回り方
向へ約３０°回転した場合のレジスト除去装置５の位置
を示している。

【００２８】各レジスト除去装置５は、後方へ若干移動
するとともに、時計回り方向へ約４５°回転するように
なっている。

【００２９】ガラス基板２が回転すると、各レジスト除
去装置５に対してガラス基板２の辺部が寄ってくるとと
もに、その辺部に対して各レジスト除去装置５に適切な
方向に指向させなければならないからである。

【００３０】図２（ｃ）は、ガラス基板２がさらに時計
回り方向へ約４５°回転した場合のレジスト除去装置５
の位置を示している。

【００３１】この場合、４個のレジスト除去装置５のう
ち２つの対向するレジスト除去装置５はガラス基板２の
角部に位置づけられ、他の２つの対向するレジスト除去
装置５はいまだガラス基板２の角部に到ってないように
なっている。

【００３２】前者の２つの対向するレジスト除去装置５
は、その回転が反時計回り方向となり、その先端部は載
置台１の支軸３側に指向するようになる。また、他の２
つの対向するレジスト除去装置５は図２（ｂ）に示した
移動および首振りを維持するようになる。

【００３３】図２（ｄ）は、ガラス基板２がさらに時計
回り方向へ約４５°回転した場合のレジスト除去装置５
の位置を示している。

【００３４】前者の２つの対向するレジスト除去装置５
は、その回転が時計回り方向を維持するとともに、載置
台１の支軸３側に近接する方向に移動するようになる。

【００３５】また、後者の２つの対向するレジスト除去
装置５は、ガラス基板２の角部を通過した時点から時計
回り方向へ回転するとともに、載置台１の支軸３側に近
接する方向に移動するようになる。

【００３６】以下、ガラス基板２の回転とともに、上述
した移動および首振りが繰り変えされることになる。

【００３７】なお、図中には、レジスト除去装置５は４
つであるが、この数に限定されることはない。

【００３８】〔ガラス基板の回転とレジスト除去装置の
駆動との関係〕図８および図９は、ガラス基板２（載置
台１）の回転とレジスト除去装置５の駆動との関係を示
した図である。

【００３９】図８は、前記ガラス基板２の初期状態（二
点鎖線）から反時計廻りに角度θ₁だけ回転した際の、
該ガラス基板２の四辺のそれぞれに配置されている各レ
ジスト除去装置５の位置を示している。

【００４０】各レジスト除去装置５は、前記ガラス基板
２の回転とともに、該ガラス基板２の回転中心を通る仮
想線上２０を移動するようになっており、その移動は該
ガラス基板２の一回転の間に往復移動するようになって
いる。

【００４１】各レジスト除去装置５の往復移動幅は、ガ
ラス基板２の大きさ、より詳細には長辺と短辺との差に
よって決定されるが、比較的小さい幅として設定される
ようになる。

【００４２】そして、各レジスト除去装置５は、それぞ
れ、ガラス基板２に回転がなされるようなことがあって
も、該ガラス基板２の対応する辺に対して常時一定の方
向に指向するようになっている。図８では、ガラス基板
２の辺に対して９０°の角度を有して指向されている
が、この角度は基板端面の洗浄の効率化を加味して設定
される値となっている。

【００４３】これにより、各レジスト除去装置５は、そ
れら往復移動する軌跡上を中心軸として回転（揺動：首
振り運動）するようになっている。

【００４４】図９は、ガラス基板２の回転角θ₁（０°
≦θ₁≦１８０°）を横軸に、そして、各レジスト除去
装置５の直線方向移動量Ｌとその際の首振り角度θ₂と
を縦軸にとったグラフを示している。

【００４５】このグラフに相当する情報はいわゆる電子
カムファイルとしてコンピュータからなる制御手段に格
納され、それに基づいて、各レジスト除去装置５を往復
移動させるための駆動源（モータ）および首振り運動さ
せるめの駆動源（モータ）を動作させるようになってい
る。

【００４６】この場合、ガラス基板２としては、その縦
および横の長さの異なる他の種類のものを対象とする場
合があることから、その縦および横の長さの情報を前記
コンピュータの入力手段から入力させることによって前
記電子カムファイルを再設定し、異なる種類のガラス基
板にも対応させるようにしてもよい。

【００４７】このようにすることによって、大きさの異
なるガラス基板が対象となっても、各レジスト除去装置
５は無駄な軌跡を描くことなく該ガラス基板の各辺に沿
って移動（ガラス基板の回転に対する相対移動）できる
ようになる。

【００４８】図１０は、対象とするガラス基板２に対す
る各レジスト除去装置５の移動量（往復移動幅）を、従
来方式と比較した場合のグラフを示している。

【００４９】このグラフから、各レジスト除去装置５の
移動量は大幅に減少させることが明らかになる。したが
って、各レジスト除去装置５に接続させて形成させなけ
ればならない現像液供給管等のレジスト除去装置５の動
きにともなう動きを大幅に減少させることができる。

【００５０】このことは、ガラス基板２の周辺のごみの
飛散を減少させることができることを意味し、精密加工
しなければならないガラス基板２への前記ごみの付着を
減少させることができる効果を奏する。

【００５１】〔レジスト除去装置のレジスト除去液噴出
機構〕図３は、前記レジスト除去装置５のレジスト除去
液噴出機構の一実施例を示す構成図であり、（ａ）は平
面図、（ｂ）は断面図であり、この断面図は図１の点線
丸Ａの部分の拡大図に相当している。

【００５２】同図に示すように、レジスト除去装置５
は、基本的には、ガラス基板２の周辺において、その表
面および裏面のそれぞれの側に洗浄ヘッド６が配置され
て形成されている。

【００５３】そして、これら洗浄ヘッド６のうちガラス
基板２の表面側に配置されたそれは、ガラス基板２の辺
に沿って配列された複数のニードルからなる現像液用ニ
ードル群７と、この現像液用ニードル群７に対して載置
台１の支軸３側に該現像液用ニードル群７と平行にリン
ス液用ニードル群８とから構成されている。

【００５４】これら各ニードルは、その径が約０．２ｍ
ｍ以下の極細ニードルで構成されている。

【００５５】さらに、これら現像液用ニードル群７およ
びリンス液用ニードル群８の各ニードルはガラス基板２
の端面側の方向に指向するように、その取付け部に対し
て傾くように配置されている。各ニードルから噴出する
現像液あるいはリンス液がそれぞれガラス基板２の周辺
部から端面にかけて流動させ、それ以外の方向へは流動
しないようにするためである。

【００５６】また、前記洗浄ヘッド６のうちガラス基板
２の裏面側に配置されたそれは、同様に、ガラス基板２
の辺に沿って配列された複数のニードルからなる現像液
用ニードル群７と、この現像液用ニードル群７に対して
載置台１の支軸３側に該現像液用ニードル群７と平行に
リンス用ニードル群８とから構成されている。

【００５７】そして、同様に、これら現像液用ニードル
群７およびリンス液用ニードル群８の各ニードルはガラ
ス基板２の端面側の方向に指向するように、その取付け
部に対して傾くように配置されている。

【００５８】ここで、ガラス基板の裏面側に配置された
現像液用ニードル群７およびリンス液用ニードル群８
は、ガラス基板２の表面側に配置されたそれらと比べ
て、載置台１の支軸３側に設けられている。

【００５９】この理由は、フォトレジスト膜を形成する
ガラス基板２の表面にはその周辺にかなり近接したフォ
トレジスト膜が形成されても特に弊害はなく、ガラス基
板の裏面においては、その端面から比較的遠い部分にフ
ォトレジスト膜が形成されてしまった場合に表示領域と
なる部分を汚染してしまうことになるからである。

【００６０】また、このレジスト除去装置５は、前記洗
浄ヘッド６の各ニードルからガラス基板２の周辺を伝わ
って流れ出る現像液およびリンス液をともに外部へ排出
させるための導出部９が設けられている。

【００６１】このレジスト除去液噴出機構は、ガラス基
板２へのフォトレジスト滴下の後、ガラス基板が回転し
始めてから駆動し、まず、現像液用ニードル群７の各ニ
ードルから現像液が噴出されるようになっている。

【００６２】この現像液は、いわゆるフォトリソグラフ
ィ技術で選択露光されたフォトレジスト膜において光が
露光された部分あるいは光が露光されなかった部分を除
去する際の現像液が用いられる。したがって、この現像
液はフォトレジストによって最適なものが選択されるこ
とが望ましい。

【００６３】これにより、この現像液によってガラス基
板２の周辺に付着されるべくはずのフォトレジストは該
ガラス基板２の付着されるようなことはなくなる。

【００６４】そして、現像液の噴出後において、その噴
出が停止され、リンス液用ニードル群８の各ニードルか
らリンス液が噴出されるようになっている。フォトレジ
ストが溶解された現像液も洗い流すためである。

【００６５】なお、上述した説明から明らかになるよう
に、ガラス基板２に対してレジスト除去装置５は小さい
装置として構成されている。そして、この装置には、図
３に示すように複数（図面では４個であるがそれ以上で
あってもよい）のニードルが並設されている。

【００６６】これは、フォトレジストの僅かな残存物が
後の微細加工に大きく影響することから、該レジスト除
去装置５はかなり精度のよいものとして加工されること
が要求されるからである。

【００６７】該レジスト除去装置５が精度のよいものと
して加工されれば、図２に示すようにガラス基板２に対
する該レジスト除去装置５が所定通りに移動できる限
り、その移動の範囲でフォトレジストを僅かな残存物も
なく除去できるようになる。

【００６８】このことから、図２に示すようにレジスト
除去装置５は必ずしも４個ある必要はなくそれ以下であ
ってもよい。

【００６９】本実施例のようにレジスト除去装置５を４
個用いているのは、フォトレジスト除去処理の時間的短
縮を図らんとしているからである。

【００７０】〔現像液供給機構〕図４は、各レジスト除
去装置５の現像液用ニードル群７へ現像液を供給する機
構の一実施例を示す構成図である。

【００７１】同図（ａ）において、第１現像液タンク１
０と第２現像液タンク１１とが備えられている。

【００７２】第１現像液タンク１０には現像液が供給さ
れるようになっており、その中は加圧されるようになっ
ている。

【００７３】同様に、第２現像液タンク１１にも現像液
が供給されるようになっており、その中も加圧されるよ
うになっている。

【００７４】このように現像液が供給される現像液タン
クが複数個備えられている理由は、現像液の各レジスト
除去装置５への噴出をとぎれることなく行うことができ
るようにするためである。

【００７５】すなわち、一方の現像液タンクに対して他
方の現像液タンクはスペアとして機能するようになり、
連続してなされる各ガラス基板へのホトレジスト塗布の
作業において、レジスト除去装置５を確実に駆動できる
ようになる。

【００７６】第１現像液タンク１０あるいは第２現像液
タンク１１からの現像液は、切り替え手段１２によっ
て、そのいずれかの現像液が流量計１３によってその流
量が調整され各現像液ニードル７へ供給されるようにな
っている（図４（ｂ）参照）。

【００７７】この場合、第１現像液タンク１０および第
２現像液タンク１１には、加熱手段１４が設けられてい
てもよく、このようにした場合、ホトレジストの除去作
業に要する時間を短くすることができるようになる。

【００７８】なお、同図は、各現像液ニードルへの現像
液供給のための機構のみを示したものであるが、各リン
ス液ニードルへのリンス液供給のための機能においても
図４と同様の構成を採用している。

【００７９】図５は、ガラス基板２の回転にともなうレ
ジスト除去装置５の移動位置および移動速度に対する現
像液とリンス液の噴出タイミングおよびその噴出強度を
示した動作フロー図である。

【００８０】同図から明らかとなるように、最初、現像
液が噴射されてリンス液が噴射されていない状態となっ
ており、その後、リンス液が噴射されて現像液が噴射さ
れていない状態となっている。

【００８１】そして、現像液およびリンス液の各噴射は
最初は弱く段階を経て強くなるようになっている。最小
の液量で現像およびリンスの効率を向上させんとせんが
ためである。

【００８２】上述した実施例では、いわゆるスピンコー
ティング方式と称されるレジスト塗布装置について説明
したものである。しかし、この方式に限定されることは
ない。ガラス基板等にレジストが均一に塗布されていれ
ば、その後において本発明を適用できるからである。

【００８３】この場合、基板２は回転しない方式のもあ
ることから、たとえば、図６に示すように、レジスト除
去装置５を基板２の周辺を沿うようにして移動できる機
構を備えるようにすることによって、同様の効果を奏す
ることができるようになる。

【００８４】また、本実施例では、液晶表示装置の製造
の際に用いられるレジスト塗布装置について説明したも
のである。しかし、この場合のレジスト塗布装置に限定
されないことはもちろんである。液晶表示装置以外の電
子装置の製造の際に用いられるレジスト塗布装置にも適
用できるからである。

【００８５】実施例２．図７は、本発明による基板端縁
レジスト除去装置の一実施例を示す構成図である。

【００８６】この基板端縁レジスト除去装置は、実施例
１に示したレジスト塗布装置と近似した構成となってお
り、基本的には、該レジスト塗布装置に対してフォトレ
ジストが滴下されるノズル４が取り付けられていない構
成となっている。

【００８７】すなわち、実施例１のようにレジスト除去
装置５およびこれに関係する他の構成が備えられていな
い従来のレジスト塗布装置によって、基板の表面にレジ
ストを均一に塗布した後に、この基板を基板端縁レジス
ト除去装置の載置台１にセットし、その周辺のレジスト
を除去するように用いられる。

【００８８】そして、このレジストを除去するためのレ
ジスト除去装置５およびこれに関係する他の構成は実施
例１に説明した構成と同様となっている。

【００８９】そして、この基板端縁レジスト除去装置に
よってもたらされる効果は、実施例１に示したレジスト
塗布装置による効果と同様になっている。

【００９０】なお、この明細書では、実施例１に示した
レジスト塗布装置、また実施例２に示した基板端縁レジ
スト除去装置、をそれぞれ基板端面洗浄装置と称する。

【００９１】

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によるレジスト塗布装置および基板端縁レジスト
除去装置によれば、効率的に不要レジストの除去を達成
することができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるレジスト塗布装置の一実施例を示
す概略要部構成図である。

【図２】本発明によるレジスト塗布装置の基板の回転と
レジスト除去装置の動きの関係を示した説明図である。

【図３】本発明によるレジスト塗布装置のレジスト除去
装置の一実施例を示す要部構成図である。

【図４】本発明によるレジスト塗布装置のレジスト除去
装置への現像液供給機構の一実施例を示す要部構成図で
ある。

【図５】本発明によるレジスト塗布装置のレジスト除去
装置への現像液の供給の一態様を示す要部構成図であ
る。

【図６】本発明によるレジスト塗布装置の他の実施例を
示す要部構成図である。

【図７】本発明による基板端縁レジスト除去装置の一実
施例を示す概略要部構成図である。

【図８】本発明による基板端面洗浄装置のガラス基板
の回転とレジスト除去装置の駆動との関係を示す説明図
である。

【図９】本発明による基板端面洗浄装置の制御手段に
組み込まれる電子カムファイルの一実施例を示す説明図
である。

【図１０】本発明による基板端面洗浄装置の効果を示
す説明図である。

【符号の説明】

１……載置台、２……ガラス基板、３……支軸、５……
レジスト除去装置、７……現像液ニードル、８……リン
ス液ニードル。

フロントページの続き (72)発明者石井茂男千葉県茂原市早野3681番地日立デバイスエンジニアリング株式会社内 (72)発明者深山嘉雄千葉県茂原市早野3681番地日立デバイスエンジニアリング株式会社内 (72)発明者柴光明千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 ▲柳▼瀬裕康千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者金坂和美千葉県茂原市早野3681番地日立デバイスエンジニアリング株式会社内 (72)発明者今林義考千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内Ｆターム(参考） 2H025 AA18 AB20 AD01 AD03 EA05 EA10 FA17 2H088 FA18 FA21 FA30 MA20 4F042 AA07 EB18 EB23 EB25 EC09 5F046 JA15 JA27

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上にレジストを均一に塗布するレジ
スト塗布装置において、該基板の周辺に該レジストの現
像液を噴出する手段を設けたことを特徴とするレジスト
塗布装置。
【請求項２】レジストの現像液は加熱手段によって加
熱されていることを特徴とする請求項１記載のレジスト
塗布装置。
【請求項３】基板の周辺にリンス液を噴出する手段が
備えられ、この手段は、アルカリ現像液を噴出する手段
の駆動後に駆動されることを特徴とする請求項１記載の
レジスト塗布装置。
【請求項４】基板の端面側から中心への方向に順次ア
ルカリ現像液を噴出する手段およびリンス液を噴出する
手段が備えられていることを特徴とする請求項２記載の
レジスト塗布装置。
【請求項５】基板はその上にレジストが滴下された後
に回転がなされることを特徴とする請求項１記載のレジ
スト塗布装置。
【請求項６】レジストが均一に塗布された基板を回転
させる手段と、該基板の周辺に該レジストの現像液を噴
出する手段とが備えられていることを特徴とする基板端
縁レジスト除去装置。
【請求項７】レジストの現像液は加熱手段によって加
熱されていることを特徴とする請求項６記載の基板端縁
レジスト除去装置。
【請求項８】基板の周辺にリンス液を噴出する手段が
備えられ、この手段は、アルカリ現像液を噴出する手段
の駆動後に駆動されることを特徴とする請求項６記載の
基板端縁レジスト除去装置。
【請求項９】基板の端面側から中心への方向に順次ア
ルカリ現像液を噴出する手段およびリンス液を噴出する
手段が備えられていることを特徴とする請求項７記載の
基板端縁レジスト除去装置。
【請求項１０】レジストが塗布された基板を回転させ
る回転手段と、該基板の周辺に該レジストの現像液を噴
出する噴出手段と、前記基板の回転に対して前記噴出手
段は該基板の周辺に沿った相対的移動がなされる手段と
を備えることを特徴とする基板端面洗浄装置。
【請求項１１】噴出手段は、前記基板の回転中心を通
る仮想線上を往復移動することを特徴とする請求項１０
に記載の基板端面洗浄装置。
【請求項１２】噴出手段は、前記基板の辺に対して一
定の方向に指向することを特徴とする請求項１１に記載
の基板端面洗浄装置。
【請求項１３】噴出手段は、前記基板の回転中心を通
る仮想線上を中心として首振り運動をすることを特徴と
する請求項１１に記載の基板端面洗浄装置。
【請求項１４】噴出手段は複数配置されていることを
特徴とする請求項１０に記載の基板端面洗浄装置。
【請求項１５】噴出手段は、前記基板の回転中心に対
して等角度で複数配置されていることを特徴とする請求
項１４に記載の基板端面洗浄装置。
【請求項１６】レジストが塗布された基板を回転させ
る回転手段と、該基板の周辺に該レジストの現像液を噴
出する噴出手段と、前記基板の回転に対して前記噴出手
段は該基板の周辺に沿った相対的移動がなされる手段
と、前記基板の回転に対する噴出手段の移動を予め律す
る制御手段とを備えることを特徴とする基板端面洗浄装
置。
【請求項１７】制御手段による制御は、電子カムファ
イルをデータとするコンピュータ処理によってなされる
ことを特徴とする請求項１６に記載の基板端面洗浄装
置。