JP2000199908A - 液晶表示素子の製造装置 - Google Patents
液晶表示素子の製造装置Info
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- JP2000199908A JP2000199908A JP11001066A JP106699A JP2000199908A JP 2000199908 A JP2000199908 A JP 2000199908A JP 11001066 A JP11001066 A JP 11001066A JP 106699 A JP106699 A JP 106699A JP 2000199908 A JP2000199908 A JP 2000199908A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シール材の焼成時に一対の透明基板が位置ず
れを起こさず、精度良く貼り合わせることができる。 【解決手段】 一対のガラス基板２、３をそれぞれ各固
定盤１１、１２に吸着固定して対向させ、この状態でシ
ール材４を介して一対のガラス基板２、３を位置合わせ
する位置合わせ部材１０と、位置合わせされた一対のガ
ラス基板２、３間のシール材４を熱硬化温度よりも低い
温度で加熱するヒータ１３、１４と、加熱されたシール
材４を一対のガラス基板２、３を介して加圧する加圧部
材１７とを備えた。従って、位置合わせ部材１０により
位置合わせされた一対のガラス基板２、３間のシール材
４をヒータ１３、１４で加熱してその粘度を低下させ、
この状態で加圧部材１７により加圧するので、シール材
４の焼成前に予め一対のガラス基板２、３をギャップ材
５とほぼ同じ間隔Ｓに形成でき、焼成時に一対のガラス
基板２、３が位置ずれを起こさないようにすることがで
きる。
れを起こさず、精度良く貼り合わせることができる。 【解決手段】 一対のガラス基板２、３をそれぞれ各固
定盤１１、１２に吸着固定して対向させ、この状態でシ
ール材４を介して一対のガラス基板２、３を位置合わせ
する位置合わせ部材１０と、位置合わせされた一対のガ
ラス基板２、３間のシール材４を熱硬化温度よりも低い
温度で加熱するヒータ１３、１４と、加熱されたシール
材４を一対のガラス基板２、３を介して加圧する加圧部
材１７とを備えた。従って、位置合わせ部材１０により
位置合わせされた一対のガラス基板２、３間のシール材
４をヒータ１３、１４で加熱してその粘度を低下させ、
この状態で加圧部材１７により加圧するので、シール材
４の焼成前に予め一対のガラス基板２、３をギャップ材
５とほぼ同じ間隔Ｓに形成でき、焼成時に一対のガラス
基板２、３が位置ずれを起こさないようにすることがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶セルなどの
液晶表示素子の製造装置に関する。
液晶表示素子の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子である液晶セル１
は、図３に示すように、上下一対の透明なガラス基板
２、３を備え、各ガラス基板２、３の対向面にそれぞれ
透明電極（図示せず）が形成され、これら一対のガラス
基板２、３間における周縁部にシール材４が設けられ、
このシール材４で囲まれた一対のガラス基板２、３間に
ギャップ材５と共に液晶６が封入された構成になってい
る。この場合、シール材４は、エポキシ系接着剤などの
熱硬化性樹脂からなっている。
は、図３に示すように、上下一対の透明なガラス基板
２、３を備え、各ガラス基板２、３の対向面にそれぞれ
透明電極（図示せず）が形成され、これら一対のガラス
基板２、３間における周縁部にシール材４が設けられ、
このシール材４で囲まれた一対のガラス基板２、３間に
ギャップ材５と共に液晶６が封入された構成になってい
る。この場合、シール材４は、エポキシ系接着剤などの
熱硬化性樹脂からなっている。
【０００３】このような液晶セル１において、一対のガ
ラス基板２、３を貼り合わせる場合には、まず、下側の
ガラス基板３上にシール材４を設け、このシール材４で
囲われた領域内にギャップ材５を分散させて配置し、こ
の状態で下側のガラス基板３を下側固定盤の上面に吸着
固定する。一方、上側のガラス基板２を上側固定盤の下
面に吸着固定し、これにより一対のガラス基板２、３を
上下に対向させて配置し、この状態で一対のガラス基板
２、３を位置合わせする。この後、常温の状態で下側固
定盤または上側固定盤に荷重を加えて一対のガラス基板
２、３を加圧する。そして、焼成炉内でシール材４を熱
硬化温度で加熱して焼成することにより、一対のガラス
基板２、３間をギャップ材５の粒径とほぼ同じ所定間隔
Ｓに形成している。
ラス基板２、３を貼り合わせる場合には、まず、下側の
ガラス基板３上にシール材４を設け、このシール材４で
囲われた領域内にギャップ材５を分散させて配置し、こ
の状態で下側のガラス基板３を下側固定盤の上面に吸着
固定する。一方、上側のガラス基板２を上側固定盤の下
面に吸着固定し、これにより一対のガラス基板２、３を
上下に対向させて配置し、この状態で一対のガラス基板
２、３を位置合わせする。この後、常温の状態で下側固
定盤または上側固定盤に荷重を加えて一対のガラス基板
２、３を加圧する。そして、焼成炉内でシール材４を熱
硬化温度で加熱して焼成することにより、一対のガラス
基板２、３間をギャップ材５の粒径とほぼ同じ所定間隔
Ｓに形成している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような液晶セル１
においては、一対のガラス基板２、３を位置合わせして
常温の状態で加圧する際、シール材４の粘度が高いた
め、大きな荷重を加えても、一対のガラス基板２、３の
間隔が２０〜３０μｍ程度にしかならず、この状態でシ
ール材４を焼成するときに、一対のガラス基板２、３の
間隔Ｓをギャップ材５の粒径と同じ、例えば６〜７μｍ
程度に形成しているが、シール材４の焼成時に一対のガ
ラス基板２、３の間隔Ｓが十数μｍと大きく変化するた
め、一対のガラス基板２、３が位置ずれを起こしてしま
うという問題があった。
においては、一対のガラス基板２、３を位置合わせして
常温の状態で加圧する際、シール材４の粘度が高いた
め、大きな荷重を加えても、一対のガラス基板２、３の
間隔が２０〜３０μｍ程度にしかならず、この状態でシ
ール材４を焼成するときに、一対のガラス基板２、３の
間隔Ｓをギャップ材５の粒径と同じ、例えば６〜７μｍ
程度に形成しているが、シール材４の焼成時に一対のガ
ラス基板２、３の間隔Ｓが十数μｍと大きく変化するた
め、一対のガラス基板２、３が位置ずれを起こしてしま
うという問題があった。
【０００５】この発明の課題は、シール材の焼成時に一
対の透明基板が位置ずれを起こさず、精度良く貼り合わ
せることができるようにすることである。
対の透明基板が位置ずれを起こさず、精度良く貼り合わ
せることができるようにすることである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、熱硬化性樹
脂からなるシール材を介して一対の透明基板を所定間隔
で貼り合わせる液晶表示素子の製造装置において、前記
一対の透明基板の一方を固定する第１固定盤および他方
を固定する第２固定盤と、前記一対の透明基板間の前記
シール材を熱硬化温度よりも低い温度で加熱してその粘
度を低下させる加熱手段と、この加熱手段により加熱さ
れた前記シール材を前記一対の透明基板を介して加圧す
る加圧手段とを備えたことを特徴とする。この発明によ
れば、一対の透明基板間のシール材を加熱手段で熱硬化
温度よりも低い温度で加熱してシール材の粘度を低下さ
せ、この状態で加圧手段により一対の透明基板を介して
シール材を加圧するので、シール材の焼成前に予めシー
ル材を収縮変形させて一対の透明基板間をほぼ所定の間
隔に形成でき、このためシール材の焼成時に一対の透明
基板の間隔がほとんど変化することがないので、従来の
ように一対の透明基板が位置ずれを起こすことが少な
く、精度良く貼り合わせることができる。
脂からなるシール材を介して一対の透明基板を所定間隔
で貼り合わせる液晶表示素子の製造装置において、前記
一対の透明基板の一方を固定する第１固定盤および他方
を固定する第２固定盤と、前記一対の透明基板間の前記
シール材を熱硬化温度よりも低い温度で加熱してその粘
度を低下させる加熱手段と、この加熱手段により加熱さ
れた前記シール材を前記一対の透明基板を介して加圧す
る加圧手段とを備えたことを特徴とする。この発明によ
れば、一対の透明基板間のシール材を加熱手段で熱硬化
温度よりも低い温度で加熱してシール材の粘度を低下さ
せ、この状態で加圧手段により一対の透明基板を介して
シール材を加圧するので、シール材の焼成前に予めシー
ル材を収縮変形させて一対の透明基板間をほぼ所定の間
隔に形成でき、このためシール材の焼成時に一対の透明
基板の間隔がほとんど変化することがないので、従来の
ように一対の透明基板が位置ずれを起こすことが少な
く、精度良く貼り合わせることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図１および図２を参照し
て、この発明の液晶表示素子の製造装置の一実施形態に
ついて説明する。なお、この液晶表示素子は図３に示さ
れた液晶セルと同じ構成であり、同一部分には同一符号
を付し、その説明は省略する。図１は液晶セルの製造装
置の概略構成図である。この液晶セルの製造装置は、液
晶セル１の一対のガラス基板２、３を保持して位置合わ
せする位置合わせ部材１０を備えている。この位置合わ
せ部材１０は、上側固定盤１１と下側固定盤１２とを備
え、下側固定盤１２が水平に配置され、その上方に上側
固定盤１１が下側固定盤１２に対して接近離間可能に対
向配置された構成になっている。この場合、上側固定盤
１１は、一対のガラス基板２、３のうち、例えば上側の
ガラス基板２を真空吸着により上側固定盤１１の下面に
固定し、下側固定盤１２は、下側のガラス基板３を真空
吸着により下側固定盤１２の上面に固定し、これにより
一対のガラス基板２、３を上下に対向配置する。また、
これら各固定盤１１、１２のうち、上側固定盤１１は、
水平面内においてＸ−Ｙ座標方向に移動自在に設けら
れ、これにより一対のガラス基板２、３を相対的に位置
合わせするように構成されている。
て、この発明の液晶表示素子の製造装置の一実施形態に
ついて説明する。なお、この液晶表示素子は図３に示さ
れた液晶セルと同じ構成であり、同一部分には同一符号
を付し、その説明は省略する。図１は液晶セルの製造装
置の概略構成図である。この液晶セルの製造装置は、液
晶セル１の一対のガラス基板２、３を保持して位置合わ
せする位置合わせ部材１０を備えている。この位置合わ
せ部材１０は、上側固定盤１１と下側固定盤１２とを備
え、下側固定盤１２が水平に配置され、その上方に上側
固定盤１１が下側固定盤１２に対して接近離間可能に対
向配置された構成になっている。この場合、上側固定盤
１１は、一対のガラス基板２、３のうち、例えば上側の
ガラス基板２を真空吸着により上側固定盤１１の下面に
固定し、下側固定盤１２は、下側のガラス基板３を真空
吸着により下側固定盤１２の上面に固定し、これにより
一対のガラス基板２、３を上下に対向配置する。また、
これら各固定盤１１、１２のうち、上側固定盤１１は、
水平面内においてＸ−Ｙ座標方向に移動自在に設けら
れ、これにより一対のガラス基板２、３を相対的に位置
合わせするように構成されている。
【０００８】また、これら各固定盤１１、１２内には、
図１に示すように、ヒータ１３、１４がそれぞれ埋め込
まれている。これらヒータ１３、１４は、それぞれ電流
が通電されて発熱し、各固定盤１１、１２および一対の
ガラス基板２、３を介してシール材４を所定温度に加熱
することにより、シール材４の粘度を低下させるもので
あり、それぞれ所定温度になると通電を断つ熱電対１
５、１６を備えている。この場合、ヒータ１３、１４に
よる加熱温度は、シール材４の材質によっても異なる
が、熱硬化温度よりも低い温度であり、例えば、エポキ
シ系接着剤であれば、５０〜１００℃の範囲である。ま
た、上側固定盤１２上には、一対のガラス基板２、３間
のシール材４を一対のガラス基板２、３と共に加圧する
加圧部材１７が設けられている。この加圧部材１７によ
る加圧力は、シール材４の材質およびギャップ材５の粒
径によっても異なるが、例えば、０．５〜０．２５Kg/c
m2程度である。さらに、この製造装置は、位置合わせ部
材１０および加圧部材１７を収容し、加圧部材１７によ
り加圧された一対のガラス基板２、３間のシール材４を
熱硬化温度で加熱して焼成する焼成炉１８を備えてい
る。この焼成炉１８による加熱温度は、シール材４の材
質によっても異なるが、例えばエポキシ系接着剤であれ
ば、約１４０℃である。
図１に示すように、ヒータ１３、１４がそれぞれ埋め込
まれている。これらヒータ１３、１４は、それぞれ電流
が通電されて発熱し、各固定盤１１、１２および一対の
ガラス基板２、３を介してシール材４を所定温度に加熱
することにより、シール材４の粘度を低下させるもので
あり、それぞれ所定温度になると通電を断つ熱電対１
５、１６を備えている。この場合、ヒータ１３、１４に
よる加熱温度は、シール材４の材質によっても異なる
が、熱硬化温度よりも低い温度であり、例えば、エポキ
シ系接着剤であれば、５０〜１００℃の範囲である。ま
た、上側固定盤１２上には、一対のガラス基板２、３間
のシール材４を一対のガラス基板２、３と共に加圧する
加圧部材１７が設けられている。この加圧部材１７によ
る加圧力は、シール材４の材質およびギャップ材５の粒
径によっても異なるが、例えば、０．５〜０．２５Kg/c
m2程度である。さらに、この製造装置は、位置合わせ部
材１０および加圧部材１７を収容し、加圧部材１７によ
り加圧された一対のガラス基板２、３間のシール材４を
熱硬化温度で加熱して焼成する焼成炉１８を備えてい
る。この焼成炉１８による加熱温度は、シール材４の材
質によっても異なるが、例えばエポキシ系接着剤であれ
ば、約１４０℃である。
【０００９】次に、図２（ａ）および図２（ｂ）を参照
して、この製造装置により一対のガラス基板２、３を貼
り合わせる場合について説明する。まず、図２（ａ）に
示すように、一対のガラス基板２、３のうち、例えば下
側のガラス基板３上にエポキシ系接着剤からなるシール
材４を設け、このシール材４で囲われた領域内に粒径が
６〜７μｍ程度のギャップ材５を分散させて配置する。
そして、このガラス基板３を下側固定盤１２上に吸着固
定し、上側固定盤１１の下面に上側のガラス基板２を吸
着固定し、これら一対のガラス基板２、３を上下に離間
対向させる。この状態で、上側固定盤１１をＸ−Ｙ座標
方向に移動させて、一対のガラス基板２、３を相対的に
位置合わせする。この後、シール材４を介して一対のガ
ラス基板２、３を重ね合わせ、この状態で各固定盤１
１、１２内に埋め込まれたヒータ１３、１４を発熱さ
せ、各固定盤１１、１２および一対のガラス基板２、３
を介してシール材４を熱硬化温度よりも低い温度で加熱
し、シール材４の粘度を低下させる。このときの加熱温
度は、５０〜１００℃程度であり、熱電対１５、１６に
よってヒータ１３、１４への通電を制御して、所定温度
を一定時間保持する。
して、この製造装置により一対のガラス基板２、３を貼
り合わせる場合について説明する。まず、図２（ａ）に
示すように、一対のガラス基板２、３のうち、例えば下
側のガラス基板３上にエポキシ系接着剤からなるシール
材４を設け、このシール材４で囲われた領域内に粒径が
６〜７μｍ程度のギャップ材５を分散させて配置する。
そして、このガラス基板３を下側固定盤１２上に吸着固
定し、上側固定盤１１の下面に上側のガラス基板２を吸
着固定し、これら一対のガラス基板２、３を上下に離間
対向させる。この状態で、上側固定盤１１をＸ−Ｙ座標
方向に移動させて、一対のガラス基板２、３を相対的に
位置合わせする。この後、シール材４を介して一対のガ
ラス基板２、３を重ね合わせ、この状態で各固定盤１
１、１２内に埋め込まれたヒータ１３、１４を発熱さ
せ、各固定盤１１、１２および一対のガラス基板２、３
を介してシール材４を熱硬化温度よりも低い温度で加熱
し、シール材４の粘度を低下させる。このときの加熱温
度は、５０〜１００℃程度であり、熱電対１５、１６に
よってヒータ１３、１４への通電を制御して、所定温度
を一定時間保持する。
【００１０】次いで、図２（ｂ）に示すように、加圧部
材１７により上側固定盤１２の上方から加圧して、加熱
されたシール材４を一対のガラス基板２、３を介して
０．５〜０．２５Kg/cm2程度の加圧力で加圧する。これ
により、シール材４が収縮変形して、一対のガラス基板
２、３間がギャップ材５の粒径とほぼ同じ間隔Ｓに形成
される。この後、加圧部材１７によりシール材４を一対
のガラス基板２、３と共に加圧した状態で焼成炉１８内
に収容し、この焼成炉１８内でシール材４を熱硬化温度
（例えば１４０℃）で加熱して焼成する。このときに
は、シール材４の焼成により一対のガラス基板２、３の
間隔Ｓが０．２〜０．３μｍ程度だけ僅かに収縮して小
さくなるが、従来の十数μｍの変化に比べてきわめて小
さいため、ほとんど変化しないのと同じ状態になる。こ
れにより、一対のガラス基板２、３がギャップ材５の粒
径と同じ所定間隔Ｓ、例えば６〜７μｍ程度に形成され
る。
材１７により上側固定盤１２の上方から加圧して、加熱
されたシール材４を一対のガラス基板２、３を介して
０．５〜０．２５Kg/cm2程度の加圧力で加圧する。これ
により、シール材４が収縮変形して、一対のガラス基板
２、３間がギャップ材５の粒径とほぼ同じ間隔Ｓに形成
される。この後、加圧部材１７によりシール材４を一対
のガラス基板２、３と共に加圧した状態で焼成炉１８内
に収容し、この焼成炉１８内でシール材４を熱硬化温度
（例えば１４０℃）で加熱して焼成する。このときに
は、シール材４の焼成により一対のガラス基板２、３の
間隔Ｓが０．２〜０．３μｍ程度だけ僅かに収縮して小
さくなるが、従来の十数μｍの変化に比べてきわめて小
さいため、ほとんど変化しないのと同じ状態になる。こ
れにより、一対のガラス基板２、３がギャップ材５の粒
径と同じ所定間隔Ｓ、例えば６〜７μｍ程度に形成され
る。
【００１１】このように、この液晶セル１の製造装置に
よれば、位置合わせ部材１０により位置合わせされた一
対のガラス基板２、３を各固定盤１１、１２内に埋め込
まれたヒータ１３、１４により熱硬化温度よりも低い所
定温度に加熱してシール材４の粘度を低下させ、この状
態で加圧部材１７により一対のガラス基板２、３を介し
てシール材４を加圧するので、シール材４の焼成前に予
めシール材４を収縮変形させて一対のガラス基板２、３
間をギャップ材５の粒径とほぼ同じ間隔Ｓに形成でき、
このためシール材４の焼成時に一対のガラス基板２、３
の間隔Ｓが従来では十数μｍ程度変化するのに対し、
０．２〜０．３μｍ程度の僅かな変化ですみ、ほとんど
変化することがないので、シール材４の焼成時に一対の
ガラス基板２、３が位置ずれを起こすことが少なく、精
度良く貼り合わせることができる。
よれば、位置合わせ部材１０により位置合わせされた一
対のガラス基板２、３を各固定盤１１、１２内に埋め込
まれたヒータ１３、１４により熱硬化温度よりも低い所
定温度に加熱してシール材４の粘度を低下させ、この状
態で加圧部材１７により一対のガラス基板２、３を介し
てシール材４を加圧するので、シール材４の焼成前に予
めシール材４を収縮変形させて一対のガラス基板２、３
間をギャップ材５の粒径とほぼ同じ間隔Ｓに形成でき、
このためシール材４の焼成時に一対のガラス基板２、３
の間隔Ｓが従来では十数μｍ程度変化するのに対し、
０．２〜０．３μｍ程度の僅かな変化ですみ、ほとんど
変化することがないので、シール材４の焼成時に一対の
ガラス基板２、３が位置ずれを起こすことが少なく、精
度良く貼り合わせることができる。
【００１２】なお、上記実施形態では、ヒータ１３、１
４を各固定盤１１、１２内にそれぞれ埋め込んだが、こ
れに限らず、各固定盤１１、１２の外面に貼り付ても良
い。また、加熱手段は、必ずしもヒータ１３、１４であ
る必要はなく、例えば加圧部材１７により加圧された状
態の一対のガラス基板２、３を収容して熱硬化温度より
も低い温度でシール材４を加熱してその粘度を低下させ
る加熱チャンバであっても良く、また焼成炉１８で兼用
しても良い。この焼成炉１８で兼用する場合には、熱硬
化温度よりも低い温度で加熱してシール材４の粘度を低
下させる加熱温度と、シール材４を熱硬化温度で加熱し
て焼成する焼成温度とを制御するように構成すれば良
い。このように構成しても、上記実施形態と同様の作用
効果があることは言うまでもない。
４を各固定盤１１、１２内にそれぞれ埋め込んだが、こ
れに限らず、各固定盤１１、１２の外面に貼り付ても良
い。また、加熱手段は、必ずしもヒータ１３、１４であ
る必要はなく、例えば加圧部材１７により加圧された状
態の一対のガラス基板２、３を収容して熱硬化温度より
も低い温度でシール材４を加熱してその粘度を低下させ
る加熱チャンバであっても良く、また焼成炉１８で兼用
しても良い。この焼成炉１８で兼用する場合には、熱硬
化温度よりも低い温度で加熱してシール材４の粘度を低
下させる加熱温度と、シール材４を熱硬化温度で加熱し
て焼成する焼成温度とを制御するように構成すれば良
い。このように構成しても、上記実施形態と同様の作用
効果があることは言うまでもない。
【００１３】また、上記実施形態では、加圧部材１７に
より上側固定盤１１の上方から加圧するようにしたが、
これに限らず、下側固定盤１２の下方から加圧するよう
にしても良く、また上下両方から加圧するようにしても
良い。なおまた、ギャップ材５は、シール材４で囲まれ
た一対のガラス基板２、３間のみに設けられたが、焼成
前のシール材４にも分散してあっても良いし、シール材
４で囲まれた一対のガラス基板２、３間には設けずに、
焼成前のシール材４のみに分散してあっても良い。
より上側固定盤１１の上方から加圧するようにしたが、
これに限らず、下側固定盤１２の下方から加圧するよう
にしても良く、また上下両方から加圧するようにしても
良い。なおまた、ギャップ材５は、シール材４で囲まれ
た一対のガラス基板２、３間のみに設けられたが、焼成
前のシール材４にも分散してあっても良いし、シール材
４で囲まれた一対のガラス基板２、３間には設けずに、
焼成前のシール材４のみに分散してあっても良い。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、一対の透明基板間のシール材を加熱手段で熱硬化温
度よりも低い温度で加熱してシール材の粘度を低下さ
せ、この状態で加圧手段により一対の透明基板を介して
シール材を加圧するので、シール材の焼成前に予めシー
ル材を収縮変形させて一対の透明基板間をほぼ所定の間
隔に形成でき、このためシール材の焼成時に一対の透明
基板の間隔がほとんど変化することがないので、従来の
ように一対の透明基板が位置ずれを起こすことが少な
く、精度良く貼り合わせることができる。
ば、一対の透明基板間のシール材を加熱手段で熱硬化温
度よりも低い温度で加熱してシール材の粘度を低下さ
せ、この状態で加圧手段により一対の透明基板を介して
シール材を加圧するので、シール材の焼成前に予めシー
ル材を収縮変形させて一対の透明基板間をほぼ所定の間
隔に形成でき、このためシール材の焼成時に一対の透明
基板の間隔がほとんど変化することがないので、従来の
ように一対の透明基板が位置ずれを起こすことが少な
く、精度良く貼り合わせることができる。
【図１】この発明の液晶表示素子の製造装置の一実施形
態を示した概略構成図。
態を示した概略構成図。
【図２】図１の製造装置による製造過程を示し、（ａ）
は一対のガラス基板を位置合わせしてヒータで加熱する
状態を示した要部の拡大断面図、（ｂ）は加圧部材によ
り加熱されたシール材を加圧して一対のガラス基板の間
隔をギャップ材の粒径とほぼ同じ大きさに形成した状態
を示した要部の拡大断面図。
は一対のガラス基板を位置合わせしてヒータで加熱する
状態を示した要部の拡大断面図、（ｂ）は加圧部材によ
り加熱されたシール材を加圧して一対のガラス基板の間
隔をギャップ材の粒径とほぼ同じ大きさに形成した状態
を示した要部の拡大断面図。
【図３】液晶セルの拡大断面図。
１ 液晶セル ２、３ ガラス基板 ４ シール材 １０ 位置合わせ部材 １１ 上側固定盤 １２ 下側固定盤 １３、１４ ヒータ １７ 加圧部材 １８ 焼成炉 Ｓ 一対のガラス基板の間隔
Claims (4)
- 【請求項１】熱硬化性樹脂からなるシール材を介して一
対の透明基板を所定間隔で貼り合わせる液晶表示素子の
製造装置において、 前記一対の透明基板の一方を固定する第１固定盤および
他方を固定する第２固定盤と、 前記一対の透明基板間の前記シール材を熱硬化温度より
も低い温度で加熱してその粘度を低下させる加熱手段
と、 この加熱手段により加熱された前記シール材を前記一対
の透明基板を介して加圧する加圧手段とを備えたことを
特徴とする液晶表示素子の製造装置。 - 【請求項２】前記加圧手段により加圧された状態の前記
一対の透明基板を収容して前記シール材を熱硬化温度で
加熱して焼成する焼成手段を備えていることを特徴とす
る請求項１記載の液晶表示素子の製造装置。 - 【請求項３】前記加熱手段は、前記第１、第２固定盤に
設けられたヒータであることを特徴とする請求項１また
は２記載の液晶表示素子の製造装置。 - 【請求項４】前記一対の透明基板間には、所定の径のギ
ャップ材が設けられていることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001066A JP2000199908A (ja) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | 液晶表示素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001066A JP2000199908A (ja) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | 液晶表示素子の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000199908A true JP2000199908A (ja) | 2000-07-18 |
Family
ID=11491170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11001066A Pending JP2000199908A (ja) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | 液晶表示素子の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000199908A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6867841B2 (en) * | 2001-10-31 | 2005-03-15 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing liquid crystal display panels |
| US6882402B2 (en) * | 2000-11-29 | 2005-04-19 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device and method for making |
| US7522256B2 (en) | 2005-07-28 | 2009-04-21 | Citizen Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal lens apparatus |
| US7567337B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-07-28 | Citizen Electronics Co., Ltd | Liquid crystal lens and optical device |
-
1999
- 1999-01-06 JP JP11001066A patent/JP2000199908A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6882402B2 (en) * | 2000-11-29 | 2005-04-19 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device and method for making |
| US6867841B2 (en) * | 2001-10-31 | 2005-03-15 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing liquid crystal display panels |
| US7567337B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-07-28 | Citizen Electronics Co., Ltd | Liquid crystal lens and optical device |
| US7522256B2 (en) | 2005-07-28 | 2009-04-21 | Citizen Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal lens apparatus |
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