JP2000196286A - Translucent electromagnetic wave shielding member and manufacture thereof - Google Patents

Translucent electromagnetic wave shielding member and manufacture thereof

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JP2000196286A
JP2000196286A JP10370866A JP37086698A JP2000196286A JP 2000196286 A JP2000196286 A JP 2000196286A JP 10370866 A JP10370866 A JP 10370866A JP 37086698 A JP37086698 A JP 37086698A JP 2000196286 A JP2000196286 A JP 2000196286A
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pattern
electromagnetic wave
wave shielding
shielding member
conductive paste
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武彦 松山
Yasuhiko Kondo
康彦 近藤
Hiroaki Kawasaki
裕章 川崎
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a translucent electromagnetic wave shielding member being excellent in an electromagnetic wave shielding effect, translucency, visibility and an angle of a field and manufactured at low cost, and a manufacturing method thereof. SOLUTION: A translucent electromagnetic wave shielding member 1 has an electromagnetic wave shielding pattern 10 constituted of a pattern 10a formed on the surface of a translucent base 2 by printing by an intaglio offset printing method using a blanket excellent in ink releasability, with conductive paste containing metal powder and resin used, and of a metal film 10b formed on the surface of the pattern 10a by electroplating. It is characteristic in that the ratio Sk/Ss between the whole area Ss of a region wherein the shielding pattern 10 is formed and the whole area Sk of a region wherein the shielding pattern is not formed meets the condition of being 1-9 and in that a line width Ws is 5-40 μm and a film thickness 0.5-50 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CRT(ブラウン
管)、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)等の
電子機器の表示部から照射される電磁波を効果的に遮蔽
し得る透光性電磁波シールド部材と、その製造方法とに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a translucent electromagnetic wave shielding member capable of effectively shielding electromagnetic waves emitted from a display section of an electronic device such as a CRT (CRT), a PDP (Plasma Display Panel), and the like. And its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気機器から放射される電磁波が
人体に与える影響について種々の報告がなされており、
それに伴って、CRT等の表示画面から放射される電磁
波を遮蔽する技術について関心が高まっている。従来、
表示画面から放射される電磁波を遮蔽するには、透明フ
ィルム等の透明基材表面に銅箔等の金属からなるパター
ンを形成した電磁波シールド部材が用いられている。こ
の電磁波シールド部材には、電磁波のシールド(遮蔽)
効果が高いことのほかに、透光性(透視性)や視認性に
優れ、視野角が広いことが要求されており、とりわけ次
世代の画像表示装置として注目されているPDP用の電
磁波シールド部材には、PDPの表示画面から放射され
る電磁波がCRT等よりも強いことからより一層優れた
電磁波シールド特性が求められている。
2. Description of the Related Art In recent years, various reports have been made on the effects of electromagnetic waves radiated from electric devices on the human body.
Along with this, there is increasing interest in techniques for shielding electromagnetic waves radiated from a display screen such as a CRT. Conventionally,
In order to shield electromagnetic waves radiated from a display screen, an electromagnetic wave shielding member having a pattern made of a metal such as a copper foil formed on a surface of a transparent base material such as a transparent film is used. This electromagnetic wave shield member has a shield (shield) for electromagnetic waves.
In addition to being highly effective, it is required to have excellent translucency (transparency) and visibility, and to have a wide viewing angle. In particular, an electromagnetic wave shielding member for a PDP which is attracting attention as a next-generation image display device. Since electromagnetic waves emitted from a display screen of a PDP are stronger than a CRT or the like, more excellent electromagnetic wave shielding characteristics are required.

【0003】電磁波のシールド効果の規格としては、ス
ウェーデンのMPRII規格が世界でも最も厳しい規格と
して知られており、実質上の標準となりつつある。この
規格を満たすには、周波数が1〜1000MHzの極め
て広い領域において電磁波を十分にカットする必要があ
る。
As a standard for the electromagnetic wave shielding effect, the Swedish MPRII standard is known as the strictest standard in the world, and is becoming a practical standard. In order to satisfy this standard, it is necessary to sufficiently cut electromagnetic waves in an extremely wide frequency range of 1 to 1000 MHz.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド効果、
透光性、視認性、視野角等の各特性を十分に満たす電磁
波シールド部材の製造方法として、特開平10−163
673号公報や特開平5−16281号公報には、無電
解メッキによって透明基材の表面に銅箔層を形成し、フ
ォトリソ法にてレジストパターンを形成した後、エッチ
ングによって銅箔層をパターン化する方法が開示されて
いる。このようにエッチングプロセスによってパターン
を形成すれば、非常に微細なパターンを高い精度で形成
することができる。しかしながら、メッキにより形成さ
れた銅薄層の大部分をエッチングによって除去すること
になるため、銅材料の無駄が多く、廃液処理に費用がか
かるなど、電磁波シールド部材の製造コストが高くなる
という問題がある。
The electromagnetic wave shielding effect,
Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-163 discloses a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding member that sufficiently satisfies various characteristics such as translucency, visibility, and viewing angle.
No. 673 and JP-A-5-16281 disclose that a copper foil layer is formed on the surface of a transparent substrate by electroless plating, a resist pattern is formed by a photolithographic method, and then the copper foil layer is patterned by etching. A method for doing so is disclosed. If a pattern is formed by the etching process in this manner, a very fine pattern can be formed with high accuracy. However, since most of the thin copper layer formed by plating is removed by etching, there is a problem that the manufacturing cost of the electromagnetic wave shielding member increases, such as waste of copper material and cost of waste liquid treatment. is there.

【0005】特にPDPは主として大型画面への展開が
図られているため、電磁波シールド部材も大型化が求め
られているが、この場合、フォトリソ法におけるレジス
トパターン形成用の露光装置や、エッチング処理の装置
等を大型化する必要があり、設備投資の面でもコストが
かかる。一方、特公平2−48159号公報には、金属
粉末と樹脂とを含む導電性ペーストからなる電磁波シー
ルドパターンを、パターン印刷によって透明基材上に形
成した電磁波シールド部材が開示されている。かかる電
磁波シールド部材によれば、前述の無電解銅メッキ等に
よる銅被覆層の形成やエッチング処理を必要としないた
め、その製造が簡易で、銅廃液処理の心配もない。ま
た、銅等の金属の使用量もパターンの形成に必要な量で
足りるため、製造コストの低減を図ることができる。
In particular, since PDPs are mainly developed for large screens, the size of the electromagnetic wave shielding member is also required to be increased. In this case, an exposure apparatus for forming a resist pattern in a photolithography method, an etching apparatus for etching, and the like. It is necessary to increase the size of the device and the like, and costs are increased in terms of capital investment. On the other hand, Japanese Patent Publication No. 2-48159 discloses an electromagnetic wave shielding member in which an electromagnetic wave shielding pattern made of a conductive paste containing a metal powder and a resin is formed on a transparent substrate by pattern printing. According to such an electromagnetic wave shielding member, since the formation of a copper coating layer by the above-described electroless copper plating or the like and the etching treatment are not required, the production thereof is simple, and there is no need to worry about copper waste liquid treatment. In addition, the amount of metal used, such as copper, is sufficient for the pattern formation, so that manufacturing costs can be reduced.

【0006】しかしながら、印刷法によって電磁波シー
ルドパターンを形成する場合は、一般に十分な電磁波シ
ールド効果と透光性とを両立することができず、実用化
に至っていないのが現状である。例えば、電磁波シール
ド効果を高めるにはパターンを厚くして、パターン中の
金属粉末の量を多くする必要があるが、この場合には視
野角が狭くなるという問題が生じる。
However, when an electromagnetic wave shielding pattern is formed by a printing method, a sufficient electromagnetic wave shielding effect and light transmission cannot generally be achieved at the same time, and at present, it has not been put to practical use. For example, in order to enhance the electromagnetic wave shielding effect, it is necessary to increase the thickness of the pattern and increase the amount of the metal powder in the pattern.

【0007】また、良好な透光性を得るには、パターン
の線幅を極めて小さくしてその間隔を大きくする必要が
あるものの、前記の印刷法では微細なパターンの形成が
困難である。すなわち、スクリーン印刷法では、印刷時
にスクリーン版が引き伸ばされるため、メッシュが伸縮
して、印刷寸法や印刷位置に±20μm程度のばらつき
が生じてしまう。また、従来のスクリーン印刷法やグラ
ビア印刷法にて線幅50μm以下のパターンを印刷する
と、パターン線幅のばらつきや断線が生じてしまい、電
磁波シールド効果や視認性が低下してしまう。
Further, in order to obtain good translucency, it is necessary to make the line width of the pattern extremely small and increase the interval between them, but it is difficult to form a fine pattern by the above-mentioned printing method. That is, in the screen printing method, since the screen plate is stretched at the time of printing, the mesh expands and contracts, causing a variation of about ± 20 μm in the printing dimensions and the printing position. Further, when a pattern having a line width of 50 μm or less is printed by a conventional screen printing method or a gravure printing method, variations in the pattern line width and disconnection occur, and the electromagnetic wave shielding effect and visibility are reduced.

【0008】さらに、金属粉末と樹脂とを含有する導電
性ペーストでパターンを形成する従来の方法では、透明
基材の耐熱性との兼ね合いからパターンを硬化させる際
の加熱温度に制限が生じてしまい、その結果、導電性ペ
ーストを十分に硬化させることができなくなり、導電性
シールド効果の低下を招くという問題がある。そこで本
発明の目的は、上記課題を解決し、優れた電磁波のシー
ルド効果を有するとともに、透光性、視認性および視野
角の各特性にも優れ、かつ製造コストの低い透光性電磁
波シールド部材を提供することである。
Further, in the conventional method of forming a pattern with a conductive paste containing a metal powder and a resin, the heating temperature for curing the pattern is limited due to the heat resistance of the transparent substrate. As a result, there is a problem that the conductive paste cannot be sufficiently cured and the conductive shield effect is reduced. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to have an excellent electromagnetic wave shielding effect, to be excellent in each property of translucency, visibility and a viewing angle, and to have a low manufacturing cost. It is to provide.

【0009】また、本発明の他の目的は、優れた電磁波
のシールド効果を有するとともに、透光性、視認性およ
び視野角の各特性にも優れた透光性電磁波シールド部材
を低コストでかつ簡易に製造することのできる製造方法
を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a light-transmitting electromagnetic wave shielding member which has an excellent electromagnetic wave shielding effect and also has excellent characteristics of light transmission, visibility and viewing angle at low cost. An object of the present invention is to provide a manufacturing method that can be easily manufactured.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の、本発明の透光性電磁波シールド部材は、透明基材の
表面に、金属粉末と樹脂とを含有する導電性ペーストを
印刷して形成されたパターンと、当該パターンの表面に
電気メッキによって形成された金属被膜とからなる電磁
波シールドパターンを有する透光性電磁波シールド部材
であって、透明基材表面のうち前記シールドパターンが
形成されている領域の全面積Ssと、前記シールドパタ
ーンが形成されていない領域の全面積Skとが、式(1)
: 1≦Sk/Ss≦9 を満たし、かつ前記シールドパターンの線幅Wsが5〜
40μmで、膜厚Wtが0.5〜50μmであることを
特徴とする。
According to an aspect of the present invention, there is provided a light-transmitting electromagnetic wave shielding member in which a conductive paste containing a metal powder and a resin is printed on a surface of a transparent substrate. A translucent electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding pattern comprising a formed pattern and a metal film formed by electroplating on the surface of the pattern, wherein the shield pattern is formed on the surface of the transparent base material. The total area Ss of the region where the shield pattern is not formed and the total area Sk of the region where the shield pattern is not formed are expressed by the formula (1)
: 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9, and the line width Ws of the shield pattern is 5 to 5.
The thickness is 40 μm, and the film thickness Wt is 0.5 to 50 μm.

【0011】また、本発明の透光性電磁波シールド部材
の製造方法は、インキ離型性に優れたブランケットを用
いた凹版オフセット印刷によって、金属粉末と樹脂とを
含有する導電性ペーストを透明基材の表面に印刷してパ
ターンを形成した後、このパターンを硬化させ、次いで
電気メッキによって前記パターンの表面にのみ金属被膜
を設けて、透明基材表面のうち電磁波シールドパターン
が形成されている領域の全面積Ssと、当該シールドパ
ターンが形成されていない領域の全面積Skとが、式
(1) : 1≦Sk/Ss≦9 を満たし、かつ線幅Wsが5〜40μmで、膜厚Wtが
0.5〜50μmである電磁波シールドパターンを形成
することを特徴とする。
[0011] The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding member according to the present invention is characterized in that an intaglio offset printing using a blanket excellent in ink releasability is performed by using a conductive paste containing a metal powder and a resin. After printing on the surface of the pattern to form a pattern, this pattern is cured, then a metal coating is provided only on the surface of the pattern by electroplating, and the area of the transparent substrate surface where the electromagnetic wave shielding pattern is formed The total area Ss and the total area Sk of the region where the shield pattern is not formed are expressed by the following equation.
(1): An electromagnetic wave shield pattern satisfying 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9, having a line width Ws of 5 to 40 μm and a film thickness Wt of 0.5 to 50 μm is formed.

【0012】上記本発明の透光性電磁波シールド部材に
よれば、例えばインキ離型性に優れたブランケットを用
いた凹版オフセット印刷等によって透明基材上に導電性
ペーストからなるパターンが印刷され、次いで電気メッ
キによって前記パターンの表面にのみ選択的に金属被膜
が設けられる。従って、こうして得られた電磁波シール
ドパターンを有するシールド部材は、無電解メッキ等に
よって透明基材上に金属膜を形成し、これをフォトリソ
グラフィー、エッチング処理等によってパターン化する
従来のシールド部材に比べて、その製造工程が簡易であ
り、かつ製造コストが大幅に低減されたものとなる。
According to the above-mentioned light-transmitting electromagnetic wave shielding member of the present invention, a pattern made of a conductive paste is printed on a transparent substrate by, for example, intaglio offset printing using a blanket having excellent ink release properties. A metal coating is selectively provided only on the surface of the pattern by electroplating. Therefore, the shielding member having the electromagnetic wave shielding pattern obtained in this way is compared with a conventional shielding member in which a metal film is formed on a transparent substrate by electroless plating or the like, and this is patterned by photolithography, etching, or the like. Therefore, the manufacturing process is simple and the manufacturing cost is greatly reduced.

【0013】また、導電性シールドパターンの線幅W
s、膜厚Wt、比Sk/Ssがそれぞれ上記所定の範囲
で設定されていることから、電磁波シールド効果、透光
性、視認性、視野角のいずれの特性についても優れたも
のとなる。さらに、導電性ペーストからなるパターンの
表面に電気メッキによる金属被膜が設けられていること
から、透明基材の耐熱性が低いために導電性ペーストの
加熱硬化を十分に行えない場合であっても、優れた電磁
波シールド効果を得ることができる。
The line width W of the conductive shield pattern
Since s, the film thickness Wt, and the ratio Sk / Ss are each set within the above-mentioned predetermined ranges, the electromagnetic wave shielding effect, light transmission, visibility, and viewing angle are all excellent. Furthermore, since the metal film by electroplating is provided on the surface of the pattern made of the conductive paste, even when the heat curing of the conductive paste cannot be sufficiently performed due to the low heat resistance of the transparent base material. An excellent electromagnetic wave shielding effect can be obtained.

【0014】なお、電気メッキによれば、金属粉末を含
有する導電性ペーストからなるパターン上には金属が析
出するものの、ポリエチレンテレフタレート(PET)
等のプラスチックのやガラスの表面、すなわち透明基材
の表面には金属が析出しない。従って、本発明によれ
ば、透明基材上の導電性ペーストからなるパターンの表
面にのみ選択的にメッキが施される。
According to the electroplating, although metal is deposited on a pattern made of a conductive paste containing metal powder, polyethylene terephthalate (PET) is used.
No metal is deposited on the surface of plastic or glass, such as the surface of a transparent substrate. Therefore, according to the present invention, only the surface of the pattern made of the conductive paste on the transparent substrate is selectively plated.

【0015】一方、上記本発明の透光性電磁波シールド
部材の製造方法によれば、簡易な工程でかつ低コストで
もって、電磁波シールド効果、透光性、視認性、視野角
のいずれの特性にも優れた透光性電磁波シールド部材を
製造することができる。上記本発明の製造方法において
は、導電性ペーストからなるパターン上に無電解メッキ
を施しているものの、前述の特開平10−163673
号公報や特開平5−16281号公報に開示の発明のよ
うに、透明基材の表面全体にメッキを施したり、エッチ
ングによってメッキ層の大部分を除去したりすることが
ない。従って、上記公報に開示の発明に比べて、メッキ
処理およびエッチング処理にかかるコストや、メッキ用
の金属およびその廃液処理にかかるコストを大幅に低減
することができる。
On the other hand, according to the method for manufacturing a light-transmitting electromagnetic wave shielding member of the present invention, any of the characteristics of the electromagnetic wave shielding effect, light-transmitting property, visibility, and viewing angle can be achieved with a simple process and at low cost. Thus, an excellent light-transmitting electromagnetic wave shielding member can be manufactured. In the manufacturing method of the present invention, the electroless plating is performed on the pattern made of the conductive paste.
No plating is applied to the entire surface of the transparent base material or most of the plating layer is removed by etching, unlike the invention disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei. Therefore, as compared with the invention disclosed in the above-mentioned publication, the cost for plating and etching and the cost for plating metal and waste liquid treatment can be significantly reduced.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の透光性電磁波シールド部材1は、例えば
図1に示すように、透明基材2の表面に電磁波シールド
パターン10が形成されたものであって、当該シールド
パターン10が、金属粉末と樹脂とを含有する導電性ペ
ーストを印刷して形成されたパターン10aと、当該パ
ターンの表面に電気メッキによって形成された金属被膜
10bとからなることを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. As shown in FIG. 1, for example, a translucent electromagnetic wave shielding member 1 according to the present invention has an electromagnetic wave shielding pattern 10 formed on a surface of a transparent base material 2, and the shielding pattern 10 is made of a metal powder and a resin. And a metal film 10b formed by electroplating on the surface of the pattern by printing a conductive paste containing

【0017】〔電磁波シールドパターンの形状〕電磁波
シールドパターンの形状には、例えば図2に示すストラ
イプ状のパターン11や、図3および4に示す格子状の
パターン12,13等が挙げられる。電磁波シールドパ
ターンの形状は、上記ストライプ状および格子状のほか
に、幾何学模様であってもよい。すなわち、例えば正三
角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形;正方形、
長方形、ひし形、平行四辺形、台形等の四角形;(正)
六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角
形等の(正)N角形;円、楕円、星型等の種々の図形単
位を繰り返して得られる幾何学模様を電磁波シールドパ
ターン10としてもよい。かかる幾何学模様において、
前記図形単位は2種以上を組み合わせたものであっても
よい。また、電磁波シールド部材の除電をスムーズに行
う観点から、幾何学模様中の各図形単位がそれぞれ連続
していることが好ましい。幾何学模様からなるパターン
形状の具体例としては、例えば図5に示すように円形模
様(図5(a) )、ひし形模様(図5(b) )、正六角形模
様(図5(c) )などのパターンが挙げられる。
[Shape of Electromagnetic Wave Shield Pattern] Examples of the shape of the electromagnetic wave shield pattern include a stripe pattern 11 shown in FIG. 2 and lattice patterns 12 and 13 shown in FIGS. The shape of the electromagnetic wave shield pattern may be a geometric pattern other than the above-mentioned stripe shape and lattice shape. That is, for example, a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, or a right triangle; a square;
Rectangle such as rectangle, rhombus, parallelogram, trapezoid; (positive)
Hexagon, (regular) octagon, (regular) dodecagon, (regular) N-gon such as (decagonal) octagon; geometric pattern obtained by repeating various graphic units such as circle, ellipse, star May be used as the electromagnetic wave shield pattern 10. In such a geometric pattern,
The graphic unit may be a combination of two or more types. In addition, from the viewpoint of smoothly removing static electricity from the electromagnetic wave shielding member, it is preferable that each figure unit in the geometric pattern is continuous. As a specific example of the pattern shape composed of a geometric pattern, for example, as shown in FIG. 5, a circular pattern (FIG. 5A), a diamond pattern (FIG. 5B), and a regular hexagonal pattern (FIG. 5C) And the like.

【0018】なお、図2〜4および図5(a) 〜(c) にお
いて、ハッチングを施した部分は電磁波シールドパター
ン10を示し、ハッチングを施していない部分は電磁波
シールドパターンが形成されていない領域20を示す。
電磁波シールドパターン10の線幅Ws、線間隔Wk
(隣合ったパターン10間の間隔)および膜厚Wtと、
電磁波シールドパターン10の全面積Ssと当該シール
ドパターンが形成されていない領域20の全面積Skと
の比Sk/Ssとは、それぞれ電磁波の遮蔽効果を充分
なものとすることができる範囲で、かつ電磁波シールド
部材の透光性を確保するために、シールドパターン10
自体が肉眼では認識されることのない範囲で設定され
る。
In FIGS. 2 to 4 and FIGS. 5A to 5C, the hatched portions indicate the electromagnetic wave shield patterns 10, and the unhatched portions indicate the regions where the electromagnetic wave shield patterns are not formed. 20 is shown.
Line width Ws and line spacing Wk of the electromagnetic wave shield pattern 10
(Interval between adjacent patterns 10) and film thickness Wt;
The ratio Sk / Ss of the total area Ss of the electromagnetic wave shield pattern 10 to the total area Sk of the region 20 where the shield pattern is not formed is within a range in which the electromagnetic wave shielding effect can be sufficient. In order to ensure the translucency of the electromagnetic wave shielding member, the shielding pattern 10
It is set within a range that cannot be recognized by the naked eye.

【0019】電磁波シールドパターンが長方形の格子状
である場合(図3)において、前記シールドパターンの
線間隔WkにはWkとWk’の2種の間隔が存在する
が、この場合、線間隔WkとWk’がそれぞれ後述する
所定の範囲内にあればよい。電磁波シールドパターンが
幾何学模様である場合において、線幅Wsとは、幾何学
模様を構成する1ユニット(すなわち、三角形、四角
形、N角形、円、楕円等の構成単位)の幅をいう。線間
隔Wkとはユニット間の距離をいい、1ユニットの面積
の平方根(すなわち、1ユニットを正方形と擬制したと
きの1辺の長さ)を求め、隣接するユニットとの中心位
置での距離から前記平方根を引いた値をユニット間の距
離とする。
In the case where the electromagnetic wave shield pattern has a rectangular lattice shape (FIG. 3), there are two types of line intervals Wk of the shield pattern, Wk and Wk '. It is sufficient that Wk 'is within a predetermined range described later. In the case where the electromagnetic wave shield pattern is a geometric pattern, the line width Ws refers to the width of one unit (that is, a constituent unit such as a triangle, a quadrangle, an N-gon, a circle, an ellipse, etc.) constituting the geometric pattern. The line interval Wk refers to the distance between units, and the square root of the area of one unit (that is, the length of one side when one unit is simulated as a square) is calculated from the distance at the center position between adjacent units. The value obtained by subtracting the square root is defined as the distance between the units.

【0020】本発明の透光性電磁波シールド部材におい
ては、透明基材表面のうち電磁波シールドパターンが形
成されている領域の全面積Ssと、当該シールドパター
ンが形成されていない領域の全面積Skとの比Ss/S
kが1以上、9以下であり、かつ前記シールドパターン
の線幅Wsが5〜40μmおよび膜厚Wtが0.5〜5
0μmとなるように設定される。
In the light-transmitting electromagnetic wave shielding member of the present invention, the total area Ss of the area where the electromagnetic wave shielding pattern is formed on the surface of the transparent base material and the total area Sk of the area where the shield pattern is not formed are calculated. Ratio Ss / S
k is 1 or more and 9 or less, and the line width Ws of the shield pattern is 5 to 40 μm and the film thickness Wt is 0.5 to 5
It is set to be 0 μm.

【0021】上記比Sk/Ssが1を下回ると透光性が
不十分になる。逆に、比Sk/Ssが9を超えると電磁
波シールド効果が不十分になる。比Sk/Ssは上記範
囲の中でも特に1〜5であるのが好ましく、1〜3であ
るのがより好ましい。電磁波シールドパターンの線幅W
sが5μmを下回るように形成するのは困難であって、
断線が生じやすくなるため、電磁波シールド効果の低
下、不良品の発生につながる。逆に、線幅Wsが40μ
mを超えると電磁波シールドパターンが目視で認識され
易くなり、透光性の低下につながる。線幅Wsは上記範
囲の中でも特に5〜25μmであるのが好ましく、5〜
20μmであるのがより好ましい。
When the ratio Sk / Ss is less than 1, the light transmittance becomes insufficient. Conversely, if the ratio Sk / Ss exceeds 9, the electromagnetic wave shielding effect becomes insufficient. The ratio Sk / Ss is particularly preferably from 1 to 5 and more preferably from 1 to 3 in the above range. Line width W of electromagnetic wave shield pattern
It is difficult to form s less than 5 μm,
Disconnection is likely to occur, leading to a reduction in the electromagnetic wave shielding effect and the generation of defective products. Conversely, when the line width Ws is 40 μ
If it exceeds m, the electromagnetic wave shield pattern is easily recognized visually, leading to a decrease in light transmission. The line width Ws is particularly preferably 5 to 25 μm in the above range.
More preferably, it is 20 μm.

【0022】電磁波シールドパターンの膜厚Wtが0.
5μmを下回るとパターンの断線が発生し易くなり、導
電性も低下することから、電磁波シールド効果の低下に
つながる。逆に、膜厚Wtが50μmを超えると、シー
ルド部材を見る角度によって電磁波シールドパターンが
認識され易くなり、視認性や視野角の低下、ひいては透
光性の低下につながる。膜厚Wtは上記範囲の中でも特
に1〜30μmであるのが好ましい。
When the film thickness Wt of the electromagnetic wave shield pattern is 0.
If the thickness is less than 5 μm, disconnection of the pattern is likely to occur, and the conductivity is also reduced, which leads to a decrease in the electromagnetic wave shielding effect. Conversely, when the film thickness Wt exceeds 50 μm, the electromagnetic wave shield pattern is easily recognized depending on the angle at which the shield member is viewed, which leads to a decrease in visibility and a viewing angle, and eventually a decrease in light transmission. The film thickness Wt is particularly preferably 1 to 30 μm in the above range.

【0023】透光性電磁波シールド部材の開口率(%)
は、電磁波シールドパターンの線幅Wsと線間隔Wkか
ら、次式により求められる。 開口率=〔Wk/(Wk+Ws)〕2 ×100 また、上記開口率(%)は上記比Sk/Ssと次式に示
す関係にある。 Sk/Ss=開口率/(100−開口率) 本発明の透光性電磁波シールド部材において開口率は特
に限定されるものではなく、前述の比Sk/Ss等に応
じて決まるものであるが、透光性と電磁波シールド性と
の兼ね合いから、通常50〜90%、好ましくは60〜
80%の範囲となるように設定される。開口率が上記範
囲を下回ると、電磁波シールド効果が良好になるもの
の、透光性が不十分になるおそれがある。逆に、上記範
囲を超えると、電磁波シールド効果が不十分になるおそ
れがある。なお、PDP用のシールド部材の場合、より
優れた電磁波シールド性が求められるため、開口率は上
記範囲の中でも特に60%以上であるのが好ましい。
Aperture ratio (%) of translucent electromagnetic wave shielding member
Is determined from the line width Ws and the line interval Wk of the electromagnetic wave shield pattern by the following equation. Opening ratio = [Wk / (Wk + Ws)] 2 × 100 Further, the opening ratio (%) has a relationship shown in the following equation with the ratio Sk / Ss. Sk / Ss = Aperture ratio / (100−Aperture ratio) In the translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention, the aperture ratio is not particularly limited, and is determined according to the above-described ratio Sk / Ss and the like. Due to the balance between the translucency and the electromagnetic wave shielding property, it is usually 50 to 90%, preferably 60 to 90%.
It is set to be in the range of 80%. When the aperture ratio is less than the above range, the electromagnetic wave shielding effect is improved, but the light transmittance may be insufficient. Conversely, if it exceeds the above range, the electromagnetic wave shielding effect may be insufficient. In the case of a shield member for a PDP, since an excellent electromagnetic wave shielding property is required, the aperture ratio is particularly preferably 60% or more in the above range.

【0024】〔透明基材〕本発明の透光性電磁波シール
ド部材における透明基材としては、可視光線に対して優
れた透光性を有するものであるほかに、導電性樹脂組成
物を透明基材上に印刷した後で加熱工程を経ることか
ら、充分な耐熱性を有するものが好ましい。また、製造
時にロール状に巻き付けて連続処理が可能となるよう
に、可撓性を有するものであることが好ましい。
[Transparent Substrate] As the transparent substrate in the translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention, in addition to having excellent translucency with respect to visible light, a conductive resin composition may be used. Since a heating process is performed after printing on a material, a material having sufficient heat resistance is preferable. Further, it is preferable that the material has flexibility so that continuous processing can be performed by winding the film into a roll at the time of manufacturing.

【0025】具体的に、透明基材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)等のポリエステル類;ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレ
フィン類;ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリ
デン(PVDC)等のビニル類;ポリエーテルスルホ
ン;ポリメタクリル酸メチル(PMMA樹脂)等のアク
リル樹脂;ポリアミド、ポリイミド樹脂等が挙げられ
る。中でも、可視光線の透過性が非常に良好でかつ安価
であるPETフィルムが好適に用いられる。
Specifically, transparent substrates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET); polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polystyrene; vinyls such as polyvinyl chloride (PVC) and polyvinylidene chloride (PVDC). Polyether sulfone; acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA resin); polyamides and polyimide resins. Above all, a PET film having very good visible light transmittance and being inexpensive is preferably used.

【0026】透明基材の厚みは特に限定されないが、電
磁波シールド部材の透光性を維持するという観点から薄
いほど好ましく、使用時の形態(フィルム状、シート
状)や必要とされる機械的強度に応じて、通常0.05
〜5mmの範囲で適宜設定すればよい。 〔金属粉末〕本発明において、導電性ペーストに配合さ
れる金属粉末としては、例えば銀、銅、ニッケル、パラ
ジウム、金、アルミニウム、タングステン、クロム、チ
タン等の粉末が挙げられ、これらは単独でまたは2種以
上を混合して用いられる。また、本発明においては、前
記金属単体の粉末のほかに、銅粉末やニッケル粉末の表
面を銀で被覆したものを用いることもできる。
The thickness of the transparent substrate is not particularly limited, but is preferably as thin as possible from the viewpoint of maintaining the translucency of the electromagnetic wave shielding member, and the form (film or sheet) in use and the required mechanical strength Usually 0.05, depending on
What is necessary is just to set suitably within the range of 5 mm. (Metal powder) In the present invention, examples of the metal powder to be blended in the conductive paste include powders of silver, copper, nickel, palladium, gold, aluminum, tungsten, chromium, titanium, and the like. A mixture of two or more types is used. In addition, in the present invention, in addition to the powder of the simple metal, a powder obtained by coating the surface of a copper powder or a nickel powder with silver can be used.

【0027】上記例示の金属粉末のなかでもとりわけ銀
粉末は、絶縁性の高い酸化物が生成しにくく、かつ体積
固有抵抗が低いことから好適に用いられる。ニッケル粉
末は、体積固有抵抗が銀粉末や銅粉末ほどは小さくない
ものの、耐酸化性が強いため、遮蔽効果の経時変化が少
ない電磁波シールドパターン部を作製するのに好適であ
る。銅粉末は表面の酸化が生じやすいので、硬化させる
際に還元性のガスを発生する樹脂とともに用いるのが好
ましい。
Among the metal powders exemplified above, silver powder is particularly preferably used because it is difficult to form an oxide having high insulation and has low volume resistivity. Although the nickel powder has a volume resistivity not smaller than that of the silver powder or the copper powder, it has a high oxidation resistance, and thus is suitable for producing an electromagnetic wave shield pattern portion in which the shielding effect has little change with time. Copper powder is apt to be oxidized on the surface, and therefore is preferably used together with a resin that generates a reducing gas when cured.

【0028】導電性樹脂組成物中での金属粉末の充填密
度は、電磁波シールドパターンの導電性を高めて、電磁
波シールド効果をより一層高くするという観点から、高
いほど好ましい。但し、充填密度が高すぎるとかえって
導電性が悪くなる傾向がみられる。一般に、導電性は、
金属粉末の充填率が80%前後であるときに最も良好で
ある。
The packing density of the metal powder in the conductive resin composition is preferably higher from the viewpoint of enhancing the conductivity of the electromagnetic wave shielding pattern and further enhancing the electromagnetic wave shielding effect. However, if the packing density is too high, the conductivity tends to worsen. In general, the conductivity is
It is best when the filling ratio of the metal powder is around 80%.

【0029】電磁波シールドパターンの導電性は、使用
する金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決まるものでは
なく、パターンの内部での金属粉末間の接触抵抗によっ
ても大きく左右される。例えば、電磁波シールドパター
ンの内部に金属粒子が高密度で充填されていても、金属
粉末間の接触抵抗が大きければ、パターン全体の導電性
が低くなるおそれがある。
The conductivity of the electromagnetic wave shield pattern is not determined only by the volume resistivity of the metal powder used itself, but is greatly influenced by the contact resistance between the metal powders inside the pattern. For example, even if metal particles are densely filled in the electromagnetic shield pattern, if the contact resistance between the metal powders is large, the conductivity of the entire pattern may be reduced.

【0030】金属粉末の平均粒径は特に限定されない
が、導電性樹脂組成物中に均一に配合されることを考慮
して、通常1〜15μmの範囲で設定するのが好まし
い。平均粒径が上記範囲を超えると金属粉末同士の接触
点が少なくなり、接触抵抗が大きくなるおそれがある。
また、電磁波シールドパターンの表面に凹凸を生じさせ
る原因になるおそれもある。逆に、平均粒径が上記範囲
を下回ると金属粉末を導電性樹脂組成物中に均一に分散
させるのが困難になるおそれがある。一方、金属粉末の
充填密度を高めることを目的として、平均粒径が上記範
囲にある金属粉末と、平均粒径が0.01〜3μmの小
粒径のものを100:1〜100:50の重量比で混合
してもよい。
Although the average particle size of the metal powder is not particularly limited, it is usually preferably set in the range of 1 to 15 μm in consideration of being uniformly mixed in the conductive resin composition. If the average particle size exceeds the above range, the number of contact points between the metal powders decreases, and the contact resistance may increase.
In addition, there is a possibility that the surface of the electromagnetic wave shield pattern becomes uneven. Conversely, if the average particle size is below the above range, it may be difficult to uniformly disperse the metal powder in the conductive resin composition. On the other hand, for the purpose of increasing the packing density of the metal powder, a metal powder having an average particle diameter in the above range and a small particle having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm have a particle diameter of 100: 1 to 100: 50. You may mix by weight ratio.

【0031】金属粉末の形状は球状、鱗片状等のいずれ
の形状であってもよいが、金属粉末同士の接触面を大き
くする(接触抵抗を小さくする)ことを考慮すれば、球
状よりも鱗片状のものを使用するのが好ましい。金属粉
末の配合量は、金属粉末の充填密度や電磁波シールドパ
ターンに要求される導電性に応じて設定されるものであ
って、特に限定されるものではないが、通常、導電性ペ
ーストにおける樹脂成分100重量部に対して400〜
1200重量部、好ましくは600〜1000重量部の
範囲で設定される。金属粉末の配合量が400重量部を
下回ると、金属粉末同士の接触点が不足して、電磁波シ
ールドパターンの体積固有抵抗が大きくなるおそれがあ
る。逆に、金属粉末の配合量が1200重量部を超える
と、導電性樹脂組成物の全量に対する樹脂の含有量が少
なくなり過ぎて、金属粉末を結合させる力が小さくな
り、その結果、電磁波シールドパターンの体積固有抵抗
が大きくなるおれがある。また、金属粉末の配合量が1
200重量部を超えると、電磁波シールドパターンの強
度不足を招くおそれもある。
The shape of the metal powder may be any shape such as a sphere or a scale. However, in consideration of increasing the contact surface between the metal powders (reducing the contact resistance), the scale is larger than the sphere. It is preferred to use ones in the form. The compounding amount of the metal powder is set according to the packing density of the metal powder and the conductivity required for the electromagnetic wave shielding pattern, and is not particularly limited, but is usually a resin component in the conductive paste. 400 to 100 parts by weight
It is set in the range of 1200 parts by weight, preferably 600 to 1000 parts by weight. If the compounding amount of the metal powder is less than 400 parts by weight, the contact points between the metal powders become insufficient, and the volume resistivity of the electromagnetic wave shielding pattern may increase. Conversely, if the amount of the metal powder exceeds 1200 parts by weight, the content of the resin with respect to the total amount of the conductive resin composition becomes too small, and the force for bonding the metal powder becomes small. May have an increased volume resistivity. The amount of the metal powder is 1
If the amount exceeds 200 parts by weight, the strength of the electromagnetic wave shield pattern may be insufficient.

【0032】〔導電性ペースト〕本発明において、導電
性ペーストに用いられる樹脂成分としては、例えばポリ
エステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチルセル
ロース樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹
脂;ポリエステル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂等
の熱硬化性樹脂のいずれも使用できる。
[Conductive paste] In the present invention, the resin component used for the conductive paste includes, for example, polyester resin, polyvinyl butyral resin, ethyl cellulose resin, (meth) acrylic resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polyamide resin and the like. Thermoplastic resin; polyester-melamine resin, melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, epoxy resin,
Any of thermosetting resins such as amino resin, polyimide resin, and (meth) acrylic resin can be used.

【0033】中でも、加熱・硬化の際に還元性のガスを
発生する樹脂は、金属粉末の酸化を防止し、金属粉末の
体積固有抵抗が低下するのを防止することができるため
に、好適である。かかる樹脂としては、硬化時にアンモ
ニア、ハロゲン化水素、ホルムアルデヒド等の還元性の
ガス、好ましくはホルムアルデヒドを発生する熱硬化性
樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドを発生する熱硬化
性樹脂としては、例えばフェノール樹脂(とくにメチロ
ール基の多いレゾール型フェノール樹脂)やアミノ樹脂
(とくにメラミン樹脂)があげられる。
Among them, a resin that generates a reducing gas upon heating and curing is preferable because it can prevent oxidation of the metal powder and prevent a reduction in the volume resistivity of the metal powder. is there. Examples of such a resin include a thermosetting resin that generates a reducing gas such as ammonia, hydrogen halide, or formaldehyde during curing, preferably formaldehyde. Examples of the thermosetting resin that generates formaldehyde include a phenol resin (especially a resole-type phenol resin having many methylol groups) and an amino resin (especially a melamine resin).

【0034】導電性ペーストは、凹版オフセット印刷法
等での印刷に適した粘度とするため、上記樹脂および金
属粉末の混合物にさらに溶剤を加えて調製される。使用
する溶剤は、例えば沸点が150℃以上の溶剤を用いる
のが好適である。溶剤の沸点が上記範囲を下回ると、印
刷時において溶剤が乾燥しやすくなり、ピンホールが発
生するおそれがある。
The conductive paste is prepared by further adding a solvent to the mixture of the resin and the metal powder in order to obtain a viscosity suitable for printing by an intaglio offset printing method or the like. As the solvent to be used, for example, a solvent having a boiling point of 150 ° C. or more is preferably used. When the boiling point of the solvent is lower than the above range, the solvent tends to dry during printing, and pinholes may be generated.

【0035】使用可能な溶剤の具体例としては、ヘキサ
ノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウン
デカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデ
カノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、
セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオー
ル等のアルコール;エチレングリコールモノブチルエー
テル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、
セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、
カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテー
ト等のアルキルエーテルがあげられ、印刷適正や作業性
等を考慮して適宜選択すればよい。
Specific examples of usable solvents include hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol,
Alcohols such as seryl alcohol, cyclohexanol, and terpineol; ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol),
Cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate,
Examples thereof include alkyl ethers such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate, which may be appropriately selected in consideration of printability and workability.

【0036】溶剤として高級アルコールを使用する場合
はインキの乾燥性や流動性が低下するおそれがあるた
め、これらよりも乾燥性が良好なブチルカルビトール、
ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルセロソ
ルブアセテート、ブチルカルビトールアセテートなどを
併用すればよい。溶剤の使用量は、導電性ペーストの粘
度によって決定されるが、上記金属粉末の添加量との兼
ね合いから、通常、樹脂成分100重量部に対して10
0〜500重量部、好ましくは100〜300重量部で
あるのがよい。溶剤の使用量が上記範囲を下回ると、金
属粉末の添加量が最小の400重量部であっても粘度が
1000P(ポアズ)以上となり、透明基材上に印刷す
る際にピンホールが多発してしまう。逆に、上記範囲を
上回ると、金属粉末の使用量が最大の1000重量部で
あっても粘度が10P以下となり、透明基材への粘着力
が不足する。その結果、導電性ペーストが透明基材から
はじかれてしまい、良好な印刷形状でもって電磁波シー
ルドパターンを形成することができなくなる。
When a higher alcohol is used as the solvent, there is a possibility that the drying property and fluidity of the ink may be reduced. Therefore, butyl carbitol, which has a better drying property than these, may be used.
Butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol acetate and the like may be used in combination. The amount of the solvent to be used is determined by the viscosity of the conductive paste, but usually is 10 to 100 parts by weight of the resin component in consideration of the amount of the metal powder.
The amount is preferably 0 to 500 parts by weight, preferably 100 to 300 parts by weight. When the amount of the solvent used falls below the above range, the viscosity becomes 1000 P (poise) or more even when the addition amount of the metal powder is the minimum of 400 parts by weight, and pinholes frequently occur when printing on a transparent substrate. I will. Conversely, if it exceeds the above range, the viscosity becomes 10 P or less even when the maximum amount of the metal powder used is 1000 parts by weight, and the adhesive strength to the transparent substrate is insufficient. As a result, the conductive paste is repelled from the transparent base material, and it becomes impossible to form an electromagnetic wave shielding pattern with a good printed shape.

【0037】本発明における導電性ペーストの粘度は、
通常10〜1000P、好ましくは100〜500Pに
調整するのが好ましい。上記範囲より粘度が低い場合に
は印刷形状の劣化が生じる。一方、上記範囲より粘度が
高い場合には、ピンホールが多発する。本発明における
導電性ペーストには、上記樹脂成分と金属粉末のほか
に、さらに黒色顔料を配合するのが好ましい。黒色顔料
は、導電性ペーストを印刷して形成される層を黒色化し
て外光からの反射を防ぎ、表示画面のコントラストを向
上させるのに寄与する。
In the present invention, the viscosity of the conductive paste is
Usually, it is preferably adjusted to 10 to 1000 P, preferably 100 to 500 P. If the viscosity is lower than the above range, the printed shape is deteriorated. On the other hand, when the viscosity is higher than the above range, many pinholes occur. It is preferable that the conductive paste of the present invention further contains a black pigment in addition to the resin component and the metal powder. The black pigment blackens the layer formed by printing the conductive paste, prevents reflection from external light, and contributes to improving the contrast of the display screen.

【0038】黒色顔料としては、例えばアセチレンブラ
ック等の、従来公知の種々のカーボンブラックが挙げら
れる。また、黒色顔料の導電性ペースト中の含有量は、
導電性ペースト全量に対して0.5〜50重量%の範囲
で設定される。黒色顔料の配合量が上記範囲を下回ると
黒色化の効果が不十分になり、コントラストの向上を図
ることができなくなるおそれがある。逆に、黒色顔料の
配合量が上記範囲を超えると、電磁波シールドパターン
の導電性が劣り、電磁波シールド効果が低下するおそれ
がある。
Examples of the black pigment include various conventionally known carbon blacks such as acetylene black. Also, the content of the black pigment in the conductive paste,
It is set in the range of 0.5 to 50% by weight based on the total amount of the conductive paste. If the amount of the black pigment is less than the above range, the effect of blackening becomes insufficient, and it may not be possible to improve the contrast. Conversely, if the amount of the black pigment exceeds the above range, the conductivity of the electromagnetic wave shielding pattern may be poor, and the electromagnetic wave shielding effect may be reduced.

【0039】また、導電性ペースト中で金属粉末の凝集
や分散不良が生じると、内部電極間の短絡の発生を引き
起こす場合があることから、導電性ペーストに分散剤を
配合することもできる。分散剤としては、導電性ペース
トの調製に通常使用される種々の界面活性剤が挙げられ
るが、中でも、導電性ペーストの安定化を図るという点
から高分子界面活性剤を使用するのがよい。
In addition, if agglomeration or poor dispersion of the metal powder occurs in the conductive paste, a short circuit may occur between the internal electrodes. Therefore, a dispersant may be added to the conductive paste. Examples of the dispersant include various surfactants that are commonly used for preparing a conductive paste. Among them, a polymer surfactant is preferable from the viewpoint of stabilizing the conductive paste.

【0040】本発明に用いられる導電性ペーストは、上
記成分の他に、必要に応じて可塑剤、静電防止剤、消泡
剤、酸化防止剤、滑剤、硬化剤等の助剤を適宜配合し、
3本ロール、ニーダー等の混合機を用いて混練・分散す
ることによって調製される。また、金属粉末の分散性を
さらに向上させるためには、3本ロール等による混練の
前にあらかじめプラネタリーミキサー等で十分に混合し
ておいてもよい。
The conductive paste used in the present invention may optionally contain auxiliary agents such as a plasticizer, an antistatic agent, an antifoaming agent, an antioxidant, a lubricant, and a curing agent in addition to the above components. And
It is prepared by kneading and dispersing using a mixer such as a three roll or kneader. Further, in order to further improve the dispersibility of the metal powder, the metal powder may be sufficiently mixed in advance with a planetary mixer or the like before kneading with three rolls or the like.

【0041】〔導電性ペーストの印刷〕本発明におい
て、前記導電性ペーストは、例えばインキ離型性に優れ
たブランケットを用いた凹版オフセット印刷によって、
透明基材上に印刷される。印刷された導電性ペースト
は、次いで加熱乾燥することによって硬化され、電磁波
シールドパターンに応じた層が形成される。
[Printing of Conductive Paste] In the present invention, the conductive paste is prepared, for example, by intaglio offset printing using a blanket having excellent ink release properties.
Printed on a transparent substrate. The printed conductive paste is then cured by heating and drying to form a layer corresponding to the electromagnetic wave shielding pattern.

【0042】導電性ペーストを印刷する際の印刷方法
は、電磁波シールドパターンを前述の線幅Wsや膜厚W
tで形成できる方法であれば特に限定されないが、形成
されるラインの直線性が良好で、極めて微細なパターン
を高い精度で印刷再現できる凹版オフセット印刷法を用
いるのが最も好ましい。また、凹版オフセット印刷法に
よれば、パターンの線幅が極めて細い場合であっても、
均一な厚みのパターンを形成することができる。
The printing method for printing the conductive paste is as follows.
The method is not particularly limited as long as it can be formed at t, but it is most preferable to use an intaglio offset printing method which has good linearity of formed lines and can reproduce and print an extremely fine pattern with high accuracy. According to the intaglio offset printing method, even when the line width of the pattern is extremely narrow,
A pattern having a uniform thickness can be formed.

【0043】さらに、インキ離型性に優れたブランケッ
トを用いることで、凹版からブランケットへ転移された
インキを100%透明基材上に転移させることが可能に
なり、1回の印刷で十分な膜厚を有するパターンを形成
することができる。例えば、凹部の深さが10μmの凹
版と、表面ゴムがシリコーンゴムからなるブランケット
とを用いると、1回の印刷で膜厚が約5μmのパターン
を形成することができる。従って、導電性シールドパタ
ーンに必要な膜厚を得るために印刷を繰り返し行う必要
がなく、製造コストの削減を図ることができる。なお、
導電性ペーストを凹版オフセット印刷法で印刷して導電
性シールドパターンを形成した場合のコストを1とする
と、フォトリソ法で導電性シールドパターンを形成した
場合のコストは3〜10である。
Further, by using a blanket having excellent ink release properties, it is possible to transfer 100% of the ink transferred from the intaglio to the blanket onto the transparent substrate, and a sufficient film can be formed by one printing. A pattern having a thickness can be formed. For example, when an intaglio having a depth of 10 μm and a blanket whose surface rubber is made of silicone rubber is used, a pattern having a thickness of about 5 μm can be formed by one printing. Therefore, it is not necessary to repeat printing to obtain a film thickness necessary for the conductive shield pattern, and it is possible to reduce the manufacturing cost. In addition,
Assuming that the cost when the conductive paste is formed by printing the conductive paste by the intaglio offset printing method is 1, the cost when the conductive shield pattern is formed by the photolithographic method is 3 to 10.

【0044】本発明に用いられる凹版としては、例えば
ソーダライムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラ
ス、低アルカリガラス、低膨張ガラス等のガラス;フッ
素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン
樹脂、ポリメタクリル樹脂等の樹脂;ステンレス、銅、
低膨張合金アンバー等の金属などが用いられる。中で
も、ソーダライムガラス等の軟質ガラスを用いるのが、
微細なパターンを高精度で再現する上で好ましい。
Examples of the intaglio used in the present invention include glasses such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, and low expansion glass; fluororesins, polycarbonate resins, polyethersulfone resins, polymethacrylic resins, etc. Resin; stainless steel, copper,
A metal such as low expansion alloy invar is used. Among them, the use of soft glass such as soda lime glass,
This is preferable for reproducing a fine pattern with high accuracy.

【0045】凹版の表面は、ドクタリング時にインキの
かき残りが生じて非画線部の汚れ(地汚れ)が発生して
しまうのを防止するために、極めて平坦であることが求
められる。最も安価に表面平坦性の優れた凹版を作製す
るには、上記例示のガラスを用いて、エッチングによっ
て凹版を作製するのが好ましい。凹版凹部の線幅、線間
隔および深さは、電磁波シールドパターン部の形状に応
じて適宜設定される。
The surface of the intaglio printing plate is required to be extremely flat in order to prevent non-image areas from being left unscraped by doctoring and causing stains on the non-image area (ground stains). In order to produce an intaglio with excellent surface flatness at the lowest cost, it is preferable to produce an intaglio by etching using the glass exemplified above. The line width, line interval, and depth of the intaglio recess are appropriately set according to the shape of the electromagnetic wave shield pattern portion.

【0046】本発明に用いられるブランケットとして
は、インキの離型性に優れたものであれば特に限定され
るものではなく、例えば表面がシリコーンゴム、フッ素
樹脂、フッ素ゴムまたはこれらの混合物等からなるブラ
ンケットが挙げられる。前記シリコーンゴムには、大き
く分けて常温硬化型シリコーンゴム(RTV)と加熱硬
化型シリコーンゴム(HTV)があり、本発明では前記
のいずれのタイプであっても使用可能である。しかし、
硬化時に副生成物を全く発生しないRTVシリコーンゴ
ムの方が寸法精度において優れていることから、より好
適に用いられる。
The blanket used in the present invention is not particularly limited as long as it has excellent ink releasability. For example, the surface is made of silicone rubber, fluororesin, fluororubber or a mixture thereof. Blanket. The silicone rubber is roughly classified into a room temperature-curable silicone rubber (RTV) and a heat-curable silicone rubber (HTV). In the present invention, any of the above types can be used. But,
RTV silicone rubbers that do not generate any by-products at the time of curing are more preferably used because they have better dimensional accuracy.

【0047】ブランケットのインキ離型性を示す指標と
しては、例えばブランケット表面の表面エネルギーが挙
げられ、その値は15〜30dyn/cmであるのが好
ましく、18〜25dyn/cmであるのがより好まし
い。ブランケットの硬度は凹版からブランケットへのイ
ンキの転移性に大きな影響を及ぼすものであって、高精
度の印刷を行うには、JIS A硬度が20〜70、好
ましくは30〜60の範囲にあるのが好ましい。また、
ブランケットの表面粗さは、形成されるパターンの形状
に大きな影響を及ぼすことから、表面が平坦なブランケ
ットを用いるのが好ましい。
An index indicating the ink releasability of the blanket includes, for example, the surface energy of the blanket surface, and the value is preferably from 15 to 30 dyn / cm, more preferably from 18 to 25 dyn / cm. . The hardness of the blanket has a great effect on the transferability of the ink from the intaglio to the blanket. For high-precision printing, the JIS A hardness is in the range of 20 to 70, preferably 30 to 60. Is preferred. Also,
Since the surface roughness of the blanket greatly affects the shape of the pattern to be formed, it is preferable to use a blanket having a flat surface.

【0048】透明基材上に印刷形成された導電性樹脂組
成物のパターンは、通常80〜250℃で10〜90分
間、好ましくは100〜150℃で15〜60分間加熱
することにより硬化される。 〔金属被膜の形成〕本発明において、透明基材上に導電
性ペーストを印刷し、硬化させることによって形成され
たパターンの表面には、さらに電気メッキによって金属
被膜が形成される。
The pattern of the conductive resin composition printed and formed on the transparent substrate is usually cured by heating at 80 to 250 ° C. for 10 to 90 minutes, preferably at 100 to 150 ° C. for 15 to 60 minutes. . [Formation of Metal Coating] In the present invention, a metal coating is formed by electroplating on the surface of a pattern formed by printing and curing a conductive paste on a transparent substrate.

【0049】電気メッキによって形成される金属被膜と
しては、例えば銅、ニッケル、金等の金属からなる被膜
が挙げられる。また、金属被膜の表面が酸化されること
を考慮して、例えば銅メッキを施した後、さらにその表
面にニッケルメッキや金メッキを施すなどして、2種以
上の金属からなるメッキ被膜を形成してもよい。電気メ
ッキは以下の方法にて行われる。すなわち、透明基材上
に上記導電性ペーストを印刷、硬化して、当該ペースト
からなる層を形成した後、この透明基材を電気メッキ用
のメッキ液に浸漬する。次いで、前記透明基材を陰極と
し、メッキの目的金属の単体を陽極として、メッキ液中
に電流をかける。
Examples of the metal film formed by electroplating include a film made of a metal such as copper, nickel, and gold. Also, taking into account that the surface of the metal film is oxidized, for example, after copper plating, the surface is further plated with nickel or gold to form a plating film composed of two or more metals. You may. Electroplating is performed by the following method. That is, the conductive paste is printed and cured on a transparent substrate to form a layer made of the paste, and then the transparent substrate is immersed in a plating solution for electroplating. Next, an electric current is applied to the plating solution using the transparent substrate as a cathode and the target metal alone for plating as an anode.

【0050】電気メッキに使用するメッキ液の組成につ
いては特に限定されるものではなく、常法に従って調製
することができる。例えば、銅めっきを形成する場合に
は、メッキ液として硫酸銅水溶液を用いればよい。上記
電気メッキにおいて、導電性ペーストからなるパターン
の表面には、当該パターンが金属粉末を含有して導電性
を有することから、金属が析出して目的の金属被膜が形
成される。これに対し、プラスチックやガラスからなる
透明基材の表面には金属が析出せず、金属被膜が形成さ
れない。従って、前記ペーストからなる層が形成された
透明基材に電気メッキを施すことによって、前記パター
ンの表面にのみ選択的にメッキが施される。
The composition of the plating solution used for electroplating is not particularly limited, and it can be prepared according to a conventional method. For example, when forming copper plating, an aqueous solution of copper sulfate may be used as a plating solution. In the above electroplating, on the surface of the pattern made of the conductive paste, since the pattern contains metal powder and has conductivity, a metal is deposited and a target metal film is formed. On the other hand, no metal is deposited on the surface of the transparent substrate made of plastic or glass, and no metal film is formed. Therefore, by electroplating the transparent substrate on which the layer made of the paste is formed, only the surface of the pattern is selectively plated.

【0051】なお、導電性ペーストからなるパターンの
表面は、金属粉末が完全に剥き出しの状態にはなってい
ない。このため、パターン表面の樹脂にエッチングを施
して、その表面で金属粉末が剥き出しになるようにする
処理(活性化)を行うのが好ましい。かかる活性化処理
は、通常、30〜50℃で、濃硫酸(98%)、濃塩酸
(36%)中に導電性ペーストからなるパターンを3〜
5分程度浸漬することによって行えばよい。
The metal powder is not completely exposed on the surface of the pattern made of the conductive paste. For this reason, it is preferable to perform processing (activation) in which the resin on the pattern surface is etched to expose the metal powder on the surface. Such an activation treatment usually involves forming a pattern made of a conductive paste in concentrated sulfuric acid (98%) and concentrated hydrochloric acid (36%) at 30 to 50 ° C. for 3 to 3 hours.
It may be carried out by immersion for about 5 minutes.

【0052】〔透光性電磁波シールド部材の実施形態〕
本発明の透光性電磁波シールド部材は、例えばCRT、
PDP等のディスプレイにおける表示画面の前面に設置
することにより、表示画面から放射される電磁波の遮蔽
を目的として用いられるほか、透光性電磁波シールド部
材の表面に透明粘着層を形成し、この粘着層にディスプ
レイパネルまたはディスプレイの透明基板を貼り合せる
ことによって、前記ディスプレイと一体化した電磁波シ
ールドパネルとして用いることもできる。
[Embodiment of translucent electromagnetic wave shielding member]
The translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention is, for example, a CRT,
By being installed on the front of the display screen of a display such as a PDP, it is used for the purpose of shielding electromagnetic waves radiated from the display screen, and a transparent adhesive layer is formed on the surface of a light-transmitting electromagnetic wave shielding member. By attaching a display panel or a transparent substrate of the display to the display panel, it can be used as an electromagnetic wave shielding panel integrated with the display.

【0053】[0053]

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
説明する。 〔透光性電磁波シールド部材の製造〕導電性ペーストと
しては、・ポリエステル樹脂〔住友ゴム工業(株)製、
無水トリメリト酸とネオペンチルグリコールとのエステ
ル、重量平均分子量Mw=20000〕80重量部、メ
ラミン樹脂〔住友化学工業(株)製の「スミマールM−
100C」〕20重量部、アセチレンブラック5重量
部、およびフレーク状の銀粉末〔福田金属箔粉工業
(株)製、平均粒径5μm〕800重量部を混合し、酢
酸ブチルカルビトールと炭素数13〜15の高級アルコ
ールとの混合物(30〜50重量部)で粘度を調整し、
さらに硬化触媒であるp−トルエンスルホン酸(1〜2
重量部)を配合したもの(以下、「銀ペースト」とい
う)、または・銀粉末に代えてフレーク状の銅粉末〔福
田金属箔粉工業(株)製、平均粒径5μm〕800重量
部を混合したほかは上記「銀ペースト」と同様にして調
製したもの(以下、「銅ペースト」という)のいずれか
を用いた。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples. [Manufacture of translucent electromagnetic wave shielding member] As the conductive paste, polyester resin [manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd .;
80 parts by weight of an ester of trimellitic anhydride and neopentyl glycol, weight average molecular weight Mw = 20,000, and a melamine resin [Sumimar M- manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.]
100C ”], 20 parts by weight, acetylene black 5 parts by weight, and flake-form silver powder [Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., average particle size 5 μm] 800 parts by weight were mixed, and butyl carbitol acetate and carbon number 13 were mixed. Adjust the viscosity with a mixture (30-50 parts by weight) with a higher alcohol of ~ 15,
Further, p-toluenesulfonic acid (1-2) as a curing catalyst
Parts by weight) (hereinafter referred to as “silver paste”), or 800 parts by weight of flake-form copper powder (manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd., average particle size 5 μm) instead of silver powder Other than the above, any one prepared in the same manner as the above “silver paste” (hereinafter referred to as “copper paste”) was used.

【0054】透明基材としては、厚さ100μmのポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
導電性ペーストを凹版オフセット印刷法にて印刷する場
合において、凹版にはソーダライムガラス製のものを、
ブランケットには、表面がシリコーンゴム〔常温硬化型
の付加型シリコーンゴム、ゴム硬度(JIS−A硬度4
0)〕からなるもの(表面の10点平均粗さ0.1μ
m)をそれぞれ用いた。
As a transparent substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was used.
When printing the conductive paste by intaglio offset printing, the intaglio should be made of soda lime glass.
The surface of the blanket is made of silicone rubber [additional silicone rubber of room temperature curing type, rubber hardness (JIS-A hardness 4)
0)] (10-point average roughness of the surface of 0.1 μm)
m) were each used.

【0055】実施例1 凹版オフセット印刷法にて上記PETフィルムの表面に
銀ペーストを印刷して、正方形の格子状パターンを形成
した。このパターンをクリーンオーブン(100℃)中
で20分間加熱、硬化させることにより、厚さ7μmの
パターンを得た。
Example 1 A silver paste was printed on the surface of the PET film by intaglio offset printing to form a square lattice pattern. This pattern was heated and cured in a clean oven (100 ° C.) for 20 minutes to obtain a pattern having a thickness of 7 μm.

【0056】次いで、上記パターンが形成されたPET
フィルムを、電気メッキ用の電解銅メッキ液(硫酸銅水
溶液)中に浸漬した。電気メッキ処理は、陽極に金属銅
を用い、陰極を上記PETフィルムとして、整流器にて
発生させた2A/dm3 の電流を20分間かけることに
よって行い、前記銀ペーストからなるパターンの表面に
厚さ5μmの銅被膜を形成した。
Next, the PET on which the above pattern is formed
The film was immersed in an electrolytic copper plating solution (aqueous copper sulfate solution) for electroplating. The electroplating treatment is performed by applying a current of 2 A / dm 3 generated by a rectifier for 20 minutes using metallic copper for the anode and the PET film for the cathode, and forming a thickness on the surface of the pattern made of the silver paste. A 5 μm copper coating was formed.

【0057】こうして、銀ペーストからなるパターンの
表面に銅被膜が形成され、その線幅Ws、線間隔Wk、
膜厚Wtおよび比Sk/Ssが下記の表1に示す値に設
定された電磁波シールドパターンを有する透光性電磁波
シールド部材を得た。 実施例2 電磁波シールドパターンの線幅Wsと線間隔Wkとを変
えたほかは実施例1と同様にして、透光性電磁波シール
ド部材を得た。
In this way, a copper film is formed on the surface of the pattern made of the silver paste, and its line width Ws, line interval Wk,
A translucent electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding pattern in which the film thickness Wt and the ratio Sk / Ss were set to the values shown in Table 1 below was obtained. Example 2 A translucent electromagnetic wave shielding member was obtained in the same manner as in Example 1 except that the line width Ws and the line interval Wk of the electromagnetic wave shielding pattern were changed.

【0058】実施例3 銀ペーストに代えて銅ペーストを用いたほかは実施例1
と同様にして、透光性電磁波シールド部材を製造した。 比較例1 特開平10−163673号公報に記載の実施例1と同
様にして、透光性電磁波シールド部材を作製した。
Example 3 Example 1 was repeated except that a copper paste was used instead of the silver paste.
In the same manner as in the above, a light-transmitting electromagnetic wave shielding member was manufactured. Comparative Example 1 A translucent electromagnetic wave shielding member was manufactured in the same manner as in Example 1 described in JP-A-10-163673.

【0059】すなわち、透明基材としてのPETフィル
ムの表面全面に、ポリビニルブチラール樹脂とパラジウ
ム触媒とを含む混合液を塗布し、さらにこの表面に無電
解銅メッキを施して銅薄膜を形成した。次いで、銅薄膜
の表面全面にフォトレジストを塗布し、露光、現像によ
って格子状のレジストパターンを形成した後、塩化第二
鉄/塩酸水溶液によって銅メッキ被膜をエッチング除去
し、さらに前記レジストを剥離した。
That is, a mixed solution containing a polyvinyl butyral resin and a palladium catalyst was applied to the entire surface of a PET film as a transparent base material, and the surface was further subjected to electroless copper plating to form a copper thin film. Next, a photoresist was applied to the entire surface of the copper thin film, and a grid-like resist pattern was formed by exposure and development. Then, the copper plating film was removed by etching with a ferric chloride / hydrochloric acid aqueous solution, and the resist was peeled off. .

【0060】こうして、銅薄膜からなり、線幅Ws、比
Sk/Ssおよび膜厚Wtが下記の表1に示す値に設定
された電磁波シールドパターンを有する透光性電磁波シ
ールド部材を得た。 比較例2 電気メッキを行わないほかは実施例1と同様にして、透
光性電磁波シールド部材を得た。
In this way, a translucent electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding pattern composed of a copper thin film and having the line width Ws, the ratio Sk / Ss, and the film thickness Wt set to the values shown in Table 1 below was obtained. Comparative Example 2 A translucent electromagnetic wave shielding member was obtained in the same manner as in Example 1 except that electroplating was not performed.

【0061】比較例3 電気メッキを行わないほかは実施例3と同様にして、透
光性電磁波シールド部材を得た。上記実施例および比較
例における電磁波シールドパターンの線幅Ws、線間隔
Wk、膜厚Wt、比Sk/Ssおよび開口率、導電性ペ
ーストの種類、ならびに無電解メッキによって形成され
た金属被膜の種類は、下記の表1に示すとおりである。
Comparative Example 3 A translucent electromagnetic wave shielding member was obtained in the same manner as in Example 3 except that electroplating was not performed. The line width Ws, the line interval Wk, the film thickness Wt, the ratio Sk / Ss and the aperture ratio of the electromagnetic wave shield pattern and the type of the conductive paste, and the type of the metal film formed by the electroless plating in the above-described Examples and Comparative Examples are as follows. , As shown in Table 1 below.

【0062】〔透光性電磁波シールド部材の物性評価〕
上記実施例および比較例で得られた透光性電磁波シール
ド部材について、以下の物性を評価した。 (電磁波のシールド効果)実施例および比較例で得られ
た電磁波シールド部材から20cm×20cmのサンプ
ルを切り取ってクローズセルに挟みこみ、(社)関西電
子工業振興センターのKEC法にて、電磁波の遮蔽性
(遮蔽効果)を評価した。なお、測定は0.1〜100
0MHzまでの範囲で行い、1000MHzでの電磁波
の減衰率をもって、シールド効果を評価した。
[Evaluation of Physical Properties of Transparent Electromagnetic Wave Shielding Member]
The following physical properties were evaluated for the translucent electromagnetic wave shielding members obtained in the above Examples and Comparative Examples. (Electromagnetic Wave Shielding Effect) A sample of 20 cm × 20 cm was cut out from the electromagnetic wave shielding members obtained in Examples and Comparative Examples, sandwiched in a closed cell, and shielded from electromagnetic waves by the KEC method of Kansai Electronic Industry Promotion Center. The property (shielding effect) was evaluated. In addition, measurement is 0.1-100.
The shielding effect was evaluated in the range up to 0 MHz and the attenuation rate of the electromagnetic wave at 1000 MHz.

【0063】電磁波のシールド効果は、減衰率(dB)
が大きいほど優れている。評価の基準は以下のとおりで
ある。 A+ :60dB以上、遮蔽性が極めて良好であった。 A:50dB以上、60dB未満、電磁波の遮蔽性が良
好であった。 A- :40dB以上、50dB未満、遮蔽性は実用上十
分であった。 B:20dB以上、40dB未満、遮蔽性が不十分であ
った。 C:20dB未満、遮蔽性が極めて不十分であった。
The shielding effect of the electromagnetic wave is determined by the attenuation rate (dB).
The larger the better. The evaluation criteria are as follows. A + : 60 dB or more, very good shielding properties. A: 50 dB or more, less than 60 dB, good electromagnetic wave shielding properties. A -: 40 dB or more and less than 50 dB, was practically sufficient shielding property. B: 20 dB or more and less than 40 dB, and the shielding property was insufficient. C: Less than 20 dB, the shielding property was extremely insufficient.

【0064】(可視光透過率)分光顕微鏡(大塚電子
(株)製の「MCPD2000」)にて、波長400〜
700nmの光(可視光線)の透過率(%)を測定し、
その平均値から透光性の評価を行った。透過率が大きい
ほど透光性が優れていることを示す。 A+ :90%以上、透光性が極めて良好であった。 A:80%以上、90%未満、透光性が良好であった。 A- :70%以上、80%未満、透光性が実用上良好で
あった。 B:50%以上、70%未満、透光性が不十分であっ
た。 C:50%未満、透光性が極めて不十分であった。
(Visible light transmittance) Using a spectroscopic microscope (“MCPD2000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), a wavelength of 400 to
Measure the transmittance (%) of 700 nm light (visible light),
The light transmittance was evaluated from the average value. The higher the transmittance, the better the light transmittance. A + : 90% or more, light transmittance was extremely good. A: 80% or more, less than 90%, good light transmission. A -: 70% or more and less than 80%, translucency was practically favorable. B: 50% or more, less than 70%, insufficient light transmission. C: Less than 50%, light transmittance was extremely insufficient.

【0065】(目視による評価)透光性電磁波シールド
部材をPDP画面の最前面に貼り付けて目視で観察し、
以下の基準で評価した。 A:全面にわたってムラやメッシュ等の模様が観察でき
なかった。 A- :かすかにムラやメッシュが観察された。 B:全面にわたってムラやメッシュ等の模様が観察され
た。
(Evaluation by visual observation) A translucent electromagnetic wave shielding member was adhered to the forefront of the PDP screen and observed visually.
Evaluation was made according to the following criteria. A: No pattern such as unevenness or mesh could be observed over the entire surface. A -: unevenness and mesh were observed faintly. B: Patterns such as unevenness and mesh were observed over the entire surface.

【0066】(製造コストの比較)実施例1における透
光性電磁波シールド部材の製造に要したコストを1とし
て、他の製造方法による製造コストの比を求めた。上記
実施例および比較例の電磁波シールドパターン部におけ
る各物性の評価結果を表1に示す。
(Comparison of Manufacturing Costs) The cost required for manufacturing the translucent electromagnetic wave shielding member in Example 1 was set to 1, and the ratio of the manufacturing cost by another manufacturing method was determined. Table 1 shows the evaluation results of the respective physical properties of the electromagnetic wave shield pattern portions of the above-mentioned Examples and Comparative Examples.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】表1より明らかなように、実施例1〜3で
は電磁波のシールド効果がいずれも良好であったのに対
し、電気メッキによる金属被膜を設けなかった比較例2
および3では電磁波シールド効果が不十分であった。ま
た、電磁波シールドパターンの形成を、透明基材上への
銅メッキと、フォトエッチングによって行った比較例1
では、電磁波シールド効果、透過率、視認性のいずれに
おいても良好であったものの、製造コストが実施例1に
対して5〜10倍と、極めて高いという問題があった。
As is clear from Table 1, the shielding effects of electromagnetic waves were good in Examples 1 to 3, whereas Comparative Example 2 in which the metal coating by electroplating was not provided.
In Nos. 3 and 3, the electromagnetic wave shielding effect was insufficient. Comparative Example 1 in which an electromagnetic wave shielding pattern was formed by copper plating on a transparent substrate and photoetching.
However, although the electromagnetic wave shielding effect, the transmittance, and the visibility were all good, there was a problem that the manufacturing cost was extremely high, 5 to 10 times that of the first embodiment.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
電磁波シールド効果、透光性、視認性、視野角の各特性
に優れ、かつ低コストの電磁波シールド部材を得ること
ができる。
As described in detail above, according to the present invention,
It is possible to obtain a low-cost electromagnetic wave shielding member which is excellent in the characteristics of the electromagnetic wave shielding effect, translucency, visibility, and viewing angle, and is low in cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】同図(a) は透光性電磁波シールド部材を示す斜
視図、同図(b) はそのA−A部分拡大断面図、同図(c)
は電磁波シールドパターン10をさらに拡大した断面図
である。
FIG. 1 (a) is a perspective view showing a translucent electromagnetic wave shielding member, FIG. 1 (b) is an enlarged sectional view of AA part thereof, FIG. 1 (c)
FIG. 3 is a sectional view further enlarging the electromagnetic wave shield pattern 10.

【図2】ストライプ状パターンの一例を示す模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a stripe pattern.

【図3】格子状パターンの一例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a lattice pattern.

【図4】格子状パターンの他の例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing another example of a lattice pattern.

【図5】同図(a) 〜(c) は、幾何学模様からなるパター
ンの一例を示す模式図である。
FIGS. 5A to 5C are schematic diagrams showing an example of a pattern formed of a geometric pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透光性電磁波シールド部材 2 透明基材 10 電磁波シールドパターン 10a 導電性ペーストからなる層 10b 金属被膜 Ws 線幅 Wk 線間隔 Wt 膜厚 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent electromagnetic wave shielding member 2 Transparent base material 10 Electromagnetic wave shielding pattern 10a Layer made of conductive paste 10b Metal coating Ws Line width Wk Line spacing Wt Film thickness

フロントページの続き Fターム(参考) 2K009 BB24 CC02 CC34 DD02 EE03 4F100 AB01B AB01C AB16C AB17C AB25C AK01B AK42 AR00A BA03 BA07 BA10A BA10C BA32 DE01B EH71C EH712 GB90 HB31B JD08 JG01B JM02C JN01 JN01A YY00A 4K024 AA03 AA09 AB01 AB08 BA12 BA13 BB09 BB14 DA10 FA01 GA16 5E321 AA04 BB23 BB32 BB41 GG05 GH01 5G435 AA00 AA01 AA16 BB02 BB06 GG33 HH02 HH12 KK07 Continued on the front page F-term (reference) 2K009 BB24 CC02 CC34 DD02 EE03 4F100 AB01B AB01C AB16C AB17C AB25C AK01B AK42 AR00A BA03 BA07 BA10A BA10C BA32 DE01B EH71C EH712 GB90 HB31B JD08 JG01B JM01K12 AB01 JB02A13A FA01 GA16 5E321 AA04 BB23 BB32 BB41 GG05 GH01 5G435 AA00 AA01 AA16 BB02 BB06 GG33 HH02 HH12 KK07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板の表面に、金属粉末と樹脂とを含
有する導電性ペーストを印刷して形成されたパターン
と、当該パターンの表面に電気メッキによって形成され
た金属被膜とからなる電磁波シールドパターンを有する
透光性電磁波シールド部材であって、 透明基板表面のうち前記シールドパターンが形成されて
いる領域の全面積Ssと、前記シールドパターンが形成
されていない領域の全面積Skとが、式(1) : 1≦Sk/Ss≦9 を満たし、かつ前記シールドパターンの線幅Wsが5〜
40μmで、膜厚Wtが0.5〜50μmであることを
特徴とする透光性電磁波シールド部材。
An electromagnetic wave shield comprising a pattern formed by printing a conductive paste containing a metal powder and a resin on a surface of a transparent substrate, and a metal film formed by electroplating on the surface of the pattern. A transparent electromagnetic wave shielding member having a pattern, wherein the total area Ss of a region where the shield pattern is formed on the surface of the transparent substrate and the total area Sk of a region where the shield pattern is not formed are expressed by the following equation. (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9, and the line width Ws of the shield pattern is 5 to 5.
A light-transmitting electromagnetic wave shielding member having a thickness of 40 μm and a thickness Wt of 0.5 to 50 μm.
【請求項2】金属被膜が銅、ニッケルおよび金からなる
群より選ばれる少なくとも1種の金属からなる請求項1
記載の透光性電磁波シールド部材。
2. A metal coating comprising at least one metal selected from the group consisting of copper, nickel and gold.
The translucent electromagnetic wave shielding member according to the above.
【請求項3】インキ離型性に優れたブランケットを用い
た凹版オフセット印刷によって、金属粉末と樹脂とを含
有する導電性ペーストを透明基板の表面に印刷してパタ
ーンを形成した後、このパターンを硬化させ、次いで電
気メッキによって前記パターンの表面にのみ金属被膜を
設けて、 透明基板表面のうち電磁波シールドパターンが形成され
ている領域の全面積Ssと、当該シールドパターンが形
成されていない領域の全面積Skとが、式(1): 1≦Sk/Ss≦9 を満たし、かつ線幅Wsが5〜40μmで、膜厚Wtが
0.5〜50μmである電磁波シールドパターンを形成
することを特徴とする透光性電磁波シールド部材の製造
方法。
3. A pattern is formed by printing a conductive paste containing a metal powder and a resin on the surface of a transparent substrate by intaglio offset printing using a blanket having excellent ink release properties, and then forming the pattern. After curing, a metal coating is provided only on the surface of the pattern by electroplating, and the total area Ss of the area of the transparent substrate surface where the electromagnetic wave shield pattern is formed and the entire area of the area where the shield pattern is not formed An electromagnetic wave shielding pattern is formed in which the area Sk satisfies the formula (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9, the line width Ws is 5 to 40 μm, and the film thickness Wt is 0.5 to 50 μm. A method for producing a translucent electromagnetic wave shielding member.
【請求項4】ブランケットの表面がシリコーンゴムであ
る請求項3記載の透光性電磁波シールド部材の製造方
法。
4. The method according to claim 3, wherein the surface of the blanket is made of silicone rubber.
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