JP2000193950A - Ｓｔｎ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法 - Google Patents
Ｓｔｎ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法Info
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- JP2000193950A JP2000193950A JP10372171A JP37217198A JP2000193950A JP 2000193950 A JP2000193950 A JP 2000193950A JP 10372171 A JP10372171 A JP 10372171A JP 37217198 A JP37217198 A JP 37217198A JP 2000193950 A JP2000193950 A JP 2000193950A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 機種ごとにフォトリソ用のフォトマスクを用
意する必要をなくす。 【解決手段】 マザー基板１から、サイズなどが異なる
異機種のＳＴＮ型液晶表示素子用の干渉パネルを多面取
りするにあたって、マザー基板１の各々に、各機種ごと
に共通とされるマザー基板同士の位置合わせマーク２お
よび空セル切断用基準マーク３（共通マーク）を形成し
た後、ミドルコート層、オーバーコート層およびシール
材などを順次形成する際、そのいずれかの工程におい
て、一方のマザー基板１に対して、得ようとする機種に
対応するセル切断マーク４などの個別マークをその工程
時に形成する。
意する必要をなくす。 【解決手段】 マザー基板１から、サイズなどが異なる
異機種のＳＴＮ型液晶表示素子用の干渉パネルを多面取
りするにあたって、マザー基板１の各々に、各機種ごと
に共通とされるマザー基板同士の位置合わせマーク２お
よび空セル切断用基準マーク３（共通マーク）を形成し
た後、ミドルコート層、オーバーコート層およびシール
材などを順次形成する際、そのいずれかの工程におい
て、一方のマザー基板１に対して、得ようとする機種に
対応するセル切断マーク４などの個別マークをその工程
時に形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＳＴＮ型液晶表示
素子を白黒表示とするのに用いられる干渉パネルの製造
方法に関するものである。
素子を白黒表示とするのに用いられる干渉パネルの製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＳＴＮ層で生ずる複屈折による青色もし
くは黄色の色つきを光学的に補償して白黒化する方法の
一つとして、２層の液晶パネルを組み合わせる方法があ
る。
くは黄色の色つきを光学的に補償して白黒化する方法の
一つとして、２層の液晶パネルを組み合わせる方法があ
る。
【０００３】この方法は、ＳＴＮ表示セルに対して、そ
れと同じツイスト角、セルギャップでねじれの方向が逆
の液晶セル（干渉パネル）を、隣り合う液晶の配向が直
交するように配置する。
れと同じツイスト角、セルギャップでねじれの方向が逆
の液晶セル（干渉パネル）を、隣り合う液晶の配向が直
交するように配置する。
【０００４】これに用いられる干渉パネルは、表示電極
がパターニングされておらず、駆動電圧が印加されない
点を除いて表示セルと同じ構造を備えており、表示セル
とほぼ同様の工程を経て製造される。
がパターニングされておらず、駆動電圧が印加されない
点を除いて表示セルと同じ構造を備えており、表示セル
とほぼ同様の工程を経て製造される。
【０００５】図５を参照して、その工程を概略的に説明
すると、まず、一対のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）膜付きのマザー基板１を用意する。この図
にはその一方のみしか示されていないが、相手方のマザ
ー基板も同一の大きさで、この例でマザー基板１は６面
取り基板である。
すると、まず、一対のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）膜付きのマザー基板１を用意する。この図
にはその一方のみしか示されていないが、相手方のマザ
ー基板も同一の大きさで、この例でマザー基板１は６面
取り基板である。
【０００６】各マザー基板１にフォトマスクをかけてフ
ォトリソ法により、各マザー基板１に、それらを重ね合
わせる際の目印としての重ね合わせマーク２と、空セル
切断時の基準となる空セル切断基準マーク３とをそれぞ
れ所定位置に形成する。これと同時に各セル領域Ａごと
に、このマザー基板１から個々のセルを切り出す際のセ
ル切断マーク４を形成する。
ォトリソ法により、各マザー基板１に、それらを重ね合
わせる際の目印としての重ね合わせマーク２と、空セル
切断時の基準となる空セル切断基準マーク３とをそれぞ
れ所定位置に形成する。これと同時に各セル領域Ａごと
に、このマザー基板１から個々のセルを切り出す際のセ
ル切断マーク４を形成する。
【０００７】次に、各マザー基板１にミドルコート層、
オーバーコート層（配向膜）を形成しラビングする。そ
して、一方のマザー基板１上に面内スペーサを散布し、
他方のマザー基板１にシール材を印刷する。しかる後、
マザー基板１同士を重ね合せて一体的に積層し、空セル
切断基準マーク３を指標として３つの空セルが連なる２
つのスティック基板を切り出し、その各空セル内にＳＴ
Ｎ液晶を注入する。その後において、今度はセル切断マ
ーク４を指標として、各スティック基板からそれぞれ３
つのパネルが切り出される。
オーバーコート層（配向膜）を形成しラビングする。そ
して、一方のマザー基板１上に面内スペーサを散布し、
他方のマザー基板１にシール材を印刷する。しかる後、
マザー基板１同士を重ね合せて一体的に積層し、空セル
切断基準マーク３を指標として３つの空セルが連なる２
つのスティック基板を切り出し、その各空セル内にＳＴ
Ｎ液晶を注入する。その後において、今度はセル切断マ
ーク４を指標として、各スティック基板からそれぞれ３
つのパネルが切り出される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このようにして、マザ
ー基板から干渉パネルが多面取りされるのであるが、上
記の従来技術には次のような課題があった。
ー基板から干渉パネルが多面取りされるのであるが、上
記の従来技術には次のような課題があった。
【０００９】すなわち、重ね合わせマーク２および空セ
ル切断基準マーク３は、各マザー基板に対して同一の位
置に形成されるいわゆる共通マークである。これに対し
て、セル切断マーク４は機種ごとに異なった位置に形成
されるいわゆる個別マークである。
ル切断基準マーク３は、各マザー基板に対して同一の位
置に形成されるいわゆる共通マークである。これに対し
て、セル切断マーク４は機種ごとに異なった位置に形成
されるいわゆる個別マークである。
【００１０】従来では、これらの共通マーク２，３およ
び個別マーク４を同じフォトマスクに持たせて、同時に
形成するようにしていた。したがって、マザー基板が同
じ大きさであっても、機種ごとにそれ専用のフォトマス
クが必要となり、効率が悪いばかりでなく、コスト的に
も負担であった。
び個別マーク４を同じフォトマスクに持たせて、同時に
形成するようにしていた。したがって、マザー基板が同
じ大きさであっても、機種ごとにそれ専用のフォトマス
クが必要となり、効率が悪いばかりでなく、コスト的に
も負担であった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、機種
ごとにフォトマスクを用意する必要なく、共通のフォト
マスクで済ませられるようにしたＳＴＮ型液晶表示素子
用干渉パネルの製造方法を提供することにある。
題を解決するためになされたもので、その目的は、機種
ごとにフォトマスクを用意する必要なく、共通のフォト
マスクで済ませられるようにしたＳＴＮ型液晶表示素子
用干渉パネルの製造方法を提供することにある。
【００１２】本発明によれば、この目的は、シール材を
介して互いに貼り合わせられる所定の縦・横寸法を有す
る一対のＩＴＯ膜付きマザー基板から、サイズなどが異
なる異機種のＳＴＮ型液晶表示素子用の干渉パネルを多
面取りするＳＴＮ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方
法において、上記ＩＴＯ膜付きマザー基板の各々に、各
機種ごとに共通とされるマザー基板同士の位置合わせマ
ークおよび空セル切断用基準マーク（共通マーク）を形
成した後、ミドルコート層、オーバーコート層およびシ
ール材などを順次形成するにあたって、そのいずれかの
工程において、一方のマザー基板に対して、得ようとす
る機種に対応するセル切断マークなどの個別マークをそ
の工程時に形成することにより達成される。
介して互いに貼り合わせられる所定の縦・横寸法を有す
る一対のＩＴＯ膜付きマザー基板から、サイズなどが異
なる異機種のＳＴＮ型液晶表示素子用の干渉パネルを多
面取りするＳＴＮ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方
法において、上記ＩＴＯ膜付きマザー基板の各々に、各
機種ごとに共通とされるマザー基板同士の位置合わせマ
ークおよび空セル切断用基準マーク（共通マーク）を形
成した後、ミドルコート層、オーバーコート層およびシ
ール材などを順次形成するにあたって、そのいずれかの
工程において、一方のマザー基板に対して、得ようとす
る機種に対応するセル切断マークなどの個別マークをそ
の工程時に形成することにより達成される。
【００１３】すなわち、まず、マザー基板に対してフォ
トリソ法により共通マークのみを形成する。機種ごとに
異なる位置に形成される個別マークについては、その後
の例えばシール印刷時に形成する。これにより、フォト
マスクを機種ごとに用意する必要がなく、共通マーク形
成用の一つのフォトマスクで済む。なお、個別マークを
形成する例えばシール印刷工程などは、表示セル用のも
のを援用することができる。
トリソ法により共通マークのみを形成する。機種ごとに
異なる位置に形成される個別マークについては、その後
の例えばシール印刷時に形成する。これにより、フォト
マスクを機種ごとに用意する必要がなく、共通マーク形
成用の一つのフォトマスクで済む。なお、個別マークを
形成する例えばシール印刷工程などは、表示セル用のも
のを援用することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施例により説明
する。
する。
【００１５】干渉パネルを作製するにあたって、本発明
では図１に示されているように、マザー基板１に共通マ
ークのみを形成する。このマザー基板１は６面取り基板
であるが、各セル領域Ａにはマークは形成しない。マザ
ー基板１には、先に説明したように、その片面にＩＴＯ
膜が付けられており、共通マークの形成はフォトリソ法
による。
では図１に示されているように、マザー基板１に共通マ
ークのみを形成する。このマザー基板１は６面取り基板
であるが、各セル領域Ａにはマークは形成しない。マザ
ー基板１には、先に説明したように、その片面にＩＴＯ
膜が付けられており、共通マークの形成はフォトリソ法
による。
【００１６】この例においても、共通マークは重ね合わ
せマーク２と空セル切断時の基準となる空セル切断基準
マーク３の２つである。重ね合わせマーク２には、図２
（ａ）に示されている二重丸マーク２ａと小丸マーク２
ｂとが用いられ、その各々は対角線的に配置されてい
る。
せマーク２と空セル切断時の基準となる空セル切断基準
マーク３の２つである。重ね合わせマーク２には、図２
（ａ）に示されている二重丸マーク２ａと小丸マーク２
ｂとが用いられ、その各々は対角線的に配置されてい
る。
【００１７】空セル切断基準マーク３は、図２（ｂ）に
示されている十文字形であり、例えばマザー基板１をス
ティック基板に分割する際の基準位置に設けられる。図
示されていないが、このマザー基板１と対となるマザー
基板にも同様にして共通マークとしての重ね合わせマー
ク２と空セル切断基準マーク３とが形成される。
示されている十文字形であり、例えばマザー基板１をス
ティック基板に分割する際の基準位置に設けられる。図
示されていないが、このマザー基板１と対となるマザー
基板にも同様にして共通マークとしての重ね合わせマー
ク２と空セル切断基準マーク３とが形成される。
【００１８】そして、表示電極のパターニングを行なう
ことなく、各マザー基板１のＩＴＯ膜上にミドルコート
層とオーバーコート層（配向膜）とを順次形成した後、
ラビングする。
ことなく、各マザー基板１のＩＴＯ膜上にミドルコート
層とオーバーコート層（配向膜）とを順次形成した後、
ラビングする。
【００１９】次に、図３に示されているように、一方の
マザー基板１の各セル領域Ａ内に、シール材６を液晶を
封入するための注入口を開けて四角枠状に印刷する。こ
の実施例においては、このシール印刷時に個別マークと
してのセル切断マーク４を同時に形成する。図４にマザ
ー基板１の一部を摘示するが、この実施例では、セル切
断マーク４を三角形状として、各セル領域Ａの四隅に配
置している。
マザー基板１の各セル領域Ａ内に、シール材６を液晶を
封入するための注入口を開けて四角枠状に印刷する。こ
の実施例においては、このシール印刷時に個別マークと
してのセル切断マーク４を同時に形成する。図４にマザ
ー基板１の一部を摘示するが、この実施例では、セル切
断マーク４を三角形状として、各セル領域Ａの四隅に配
置している。
【００２０】図示されていない他方のマザー基板上には
面内スペーサを散布する。そして、マザー基板１同士を
重ね合わせマーク２に基づいて重ね合わせて圧着し、シ
ール材６を介して接合する。
面内スペーサを散布する。そして、マザー基板１同士を
重ね合わせマーク２に基づいて重ね合わせて圧着し、シ
ール材６を介して接合する。
【００２１】しかる後、空セル切断基準マーク３に基づ
いて、マザー基板１を例えば縦１列のスティック状に分
割して注入口出しを行ない、各セル内にＳＴＮ液晶を注
入する。その注入口を樹脂にて封止した後、隣接するセ
ル領域Ａのセル切断マーク４，４間の中心線（図４の一
点鎖線参照）に沿って個々のセル（干渉パネル）を切り
出す。
いて、マザー基板１を例えば縦１列のスティック状に分
割して注入口出しを行ない、各セル内にＳＴＮ液晶を注
入する。その注入口を樹脂にて封止した後、隣接するセ
ル領域Ａのセル切断マーク４，４間の中心線（図４の一
点鎖線参照）に沿って個々のセル（干渉パネル）を切り
出す。
【００２２】このようにして、干渉パネルが作製される
が、本発明によれば、フォトリソ法によってマザー基板
に形成されるマークは共通マークだけであるから、フォ
トマスクは１種類だけ用意しておけばよい。
が、本発明によれば、フォトリソ法によってマザー基板
に形成されるマークは共通マークだけであるから、フォ
トマスクは１種類だけ用意しておけばよい。
【００２３】個別マークはフォトリソ後の例えばシール
印刷により形成されるため、機種が異なるごとに、それ
に対応してフォトリソ用のフォトマスクを用意する必要
はない。なお、上記実施例では、個別マークをシール印
刷工程で形成するようにしているが、ミドルコート層も
しくはオーバーコート層の形成工程で個別マークを形成
するようにしてもよく、効果に変わりはない。
印刷により形成されるため、機種が異なるごとに、それ
に対応してフォトリソ用のフォトマスクを用意する必要
はない。なお、上記実施例では、個別マークをシール印
刷工程で形成するようにしているが、ミドルコート層も
しくはオーバーコート層の形成工程で個別マークを形成
するようにしてもよく、効果に変わりはない。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マザー基板に対してフォトリソ法により形成するマーク
は各機種の共通マークのみとし、各機種ごとの個別マー
クはフォトリソ後の例えばシール印刷工程などで形成す
るようにしたことにより、機種ごとにフォトリソ用のフ
ォトマスクを用意する必要がなく、共通のフォトマスク
で済ませることができる。したがって、干渉パネルを効
率よく、しかもより安価に製造することが可能となる。
マザー基板に対してフォトリソ法により形成するマーク
は各機種の共通マークのみとし、各機種ごとの個別マー
クはフォトリソ後の例えばシール印刷工程などで形成す
るようにしたことにより、機種ごとにフォトリソ用のフ
ォトマスクを用意する必要がなく、共通のフォトマスク
で済ませることができる。したがって、干渉パネルを効
率よく、しかもより安価に製造することが可能となる。
【図１】本発明の製造方法の内、マザー基板に共通マー
クを形成する工程を説明するための説明図。
クを形成する工程を説明するための説明図。
【図２】上記共通マークの形状を例示した図面。
【図３】本発明の製造方法の内、マザー基板に個別マー
クを形成する工程を説明するための説明図。
クを形成する工程を説明するための説明図。
【図４】図４の一部を摘示した図面。
【図５】従来の製造方法を説明するための説明図。
１ マザー基板 ２ 重ね合わせマーク（共通マーク） ３ 空セル切断基準マーク（共通マーク） ４ セル切断マーク（個別マーク） ６ シール材 Ａ セル領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉本 晃 広島県三次市四拾貫町91番地 広島オプト 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 EA02 FA06 FA16 FA27 HA01 HA03 HA04 MA16 2H090 HA05 HA14 HC10 HC19 JC02 JC12 JC13 LA03
Claims (1)
- 【請求項１】 シール材を介して互いに貼り合わせられ
る所定の縦・横寸法を有する一対のＩＴＯ膜付きマザー
基板から、サイズなどが異なる異機種のＳＴＮ型液晶表
示素子用の干渉パネルを多面取りするＳＴＮ型液晶表示
素子用干渉パネルの製造方法において、 上記ＩＴＯ膜付きマザー基板の各々に、各機種ごとに共
通とされるマザー基板同士の位置合わせマークおよび空
セル切断用基準マークを形成した後、ミドルコート層、
オーバーコート層およびシール材などを順次形成するに
あたって、そのいずれかの工程において、一方のマザー
基板に対して、得ようとする機種に対応するセル切断マ
ークなどをその工程時に形成するようにしたことを特徴
とするＳＴＮ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372171A JP2000193950A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | Ｓｔｎ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372171A JP2000193950A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | Ｓｔｎ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000193950A true JP2000193950A (ja) | 2000-07-14 |
Family
ID=18499979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10372171A Withdrawn JP2000193950A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | Ｓｔｎ型液晶表示素子用干渉パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000193950A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003056533A1 (fr) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Procede de production d'unite d'affichage plan |
| KR100983591B1 (ko) * | 2003-12-08 | 2010-09-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 얼라인 마크를 구비한 마스크 및 이를 이용하여 형성된액정표시장치 |
| CN104297989A (zh) * | 2014-10-22 | 2015-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板、掩膜板及液晶显示装置 |
| CN104317158A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
| JP6156530B1 (ja) * | 2016-02-23 | 2017-07-05 | 住友化学株式会社 | 表示パネルの製造方法 |
| CN107223087A (zh) * | 2015-04-17 | 2017-09-29 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 用于打印和切割过程的目标 |
| CN109581708A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-05 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 液晶显示面板母板 |
-
1998
- 1998-12-28 JP JP10372171A patent/JP2000193950A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003056533A1 (fr) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Procede de production d'unite d'affichage plan |
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| US7273403B2 (en) | 2001-12-27 | 2007-09-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing flat display panels of different sizes from a common base substrate |
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| WO2017145925A1 (ja) * | 2016-02-23 | 2017-08-31 | 住友化学株式会社 | 表示パネルの製造方法 |
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| KR20180114160A (ko) * | 2016-02-23 | 2018-10-17 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 표시 패널의 제조 방법 |
| CN108700769A (zh) * | 2016-02-23 | 2018-10-23 | 住友化学株式会社 | 显示面板的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060307 |