JP2000191715A - ポリオレフィン製造 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 メタロセン化合物を触媒として使用したポリ
オレフィン製造。 【解決手段】 一般式 ＣpＡＸＭＱ1Ｑ2ＣP′Ａ′Ｘ′Ｍ′Ｑ1′Ｑ′2 ［式中、ＣpおよびＣp’は、シクロペンタジエニル部分
であり、ＭおよびＭ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷
移金属およびバナジウムから選択される金属であり、Ｘ
およびＸ’は、ＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ原子であ
り、ＡおよびＡ’は、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′2−、
ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓｉ
Ｒ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここで、
各Ｒ’は、Ｈ、またはヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたはヒドロカルビルである配位基である］で表さ
れるメタロセン化合物およびそれをポリオレフィンの製
造で触媒として使用。
オレフィン製造。 【解決手段】 一般式 ＣpＡＸＭＱ1Ｑ2ＣP′Ａ′Ｘ′Ｍ′Ｑ1′Ｑ′2 ［式中、ＣpおよびＣp’は、シクロペンタジエニル部分
であり、ＭおよびＭ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷
移金属およびバナジウムから選択される金属であり、Ｘ
およびＸ’は、ＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ原子であ
り、ＡおよびＡ’は、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′2−、
ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓｉ
Ｒ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここで、
各Ｒ’は、Ｈ、またはヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたはヒドロカルビルである配位基である］で表さ
れるメタロセン化合物およびそれをポリオレフィンの製
造で触媒として使用。
Description
【０００１】本発明はイソタクティックポリオレフィン
類、特にポリプロピレン類の製造で用いるに適切なメタ
ロセン（ｍｅｔａｌｌｏｃｅｎｅ）触媒成分に関する。
本発明は、更に、上記メタロセン触媒成分を組み込んだ
触媒系および上記イソタクティックポリオレフィン類の
製造方法にも関する。
類、特にポリプロピレン類の製造で用いるに適切なメタ
ロセン（ｍｅｔａｌｌｏｃｅｎｅ）触媒成分に関する。
本発明は、更に、上記メタロセン触媒成分を組み込んだ
触媒系および上記イソタクティックポリオレフィン類の
製造方法にも関する。
【０００２】炭素原子数が３以上のオレフィン類を重合
させてイソタクティック立体化学形態を有するポリマー
を生じさせることができる。例えば、プロピレンを重合
させてポリプロピレンを生じさせる時のイソタクティッ
ク構造は、典型的に、相次ぐモノマー単位の第三炭素原
子に結合しているメチル基がポリマーの主鎖を通る仮想
面の同じ側に存在するとして記述される。これはフィッ
シャー投影式を用いて下記の如く描写可能である：
させてイソタクティック立体化学形態を有するポリマー
を生じさせることができる。例えば、プロピレンを重合
させてポリプロピレンを生じさせる時のイソタクティッ
ク構造は、典型的に、相次ぐモノマー単位の第三炭素原
子に結合しているメチル基がポリマーの主鎖を通る仮想
面の同じ側に存在するとして記述される。これはフィッ
シャー投影式を用いて下記の如く描写可能である：
【０００３】
【化１】 上記構造を記述する別の方法はＮＭＲ分光測定を用いる
ことによる方法である。イソタクティックペンタド（ｉ
ｓｏｔａｃｔｉｃ ｐｅｎｔａｄ）に関するＢｏｖｅｙ
のＮＭＲ命名法は．．．ｍｍｍｍであり、ここで、各
「ｍ」は「メソ」ダイアド（ｄｉａｄ）を表す、即ち相
次ぐメチル基が上記面の同じ側に位置することを表す。
ことによる方法である。イソタクティックペンタド（ｉ
ｓｏｔａｃｔｉｃ ｐｅｎｔａｄ）に関するＢｏｖｅｙ
のＮＭＲ命名法は．．．ｍｍｍｍであり、ここで、各
「ｍ」は「メソ」ダイアド（ｄｉａｄ）を表す、即ち相
次ぐメチル基が上記面の同じ側に位置することを表す。
【０００４】シンジオタクティックポリマー類は、イソ
タクティック構造とは対照的に、鎖内に相次いで存在す
るモノマー単位の第三炭素原子に結合しているメチル基
がポリマー面の交互側に位置するポリマー類である。シ
ンジオタクティックポリマーの構造はフィッシャー投影
式を用いて下記の如く描写される：
タクティック構造とは対照的に、鎖内に相次いで存在す
るモノマー単位の第三炭素原子に結合しているメチル基
がポリマー面の交互側に位置するポリマー類である。シ
ンジオタクティックポリマーの構造はフィッシャー投影
式を用いて下記の如く描写される：
【０００５】
【化２】 ＮＭＲ命名法の場合、シンジオタクティックペンタド
は．．．ｒｒｒｒ．．．として記述され、ここで、
「ｒ」は「ラセミック（ｒａｃｅｍｉｃ）」ダイアドを
表し、相次ぐメチル基が上記面の交互側に位置する。
は．．．ｒｒｒｒ．．．として記述され、ここで、
「ｒ」は「ラセミック（ｒａｃｅｍｉｃ）」ダイアドを
表し、相次ぐメチル基が上記面の交互側に位置する。
【０００６】アタクティック（ａｔａｃｔｉｃ）ポリマ
ーは、イソタクティックおよびシンジオタクティックポ
リマー類とは対照的に、繰り返し単位の規則的な配列を
示さない。アタクティックポリマーは、シンジオタクテ
ィックポリマーともイソタクティックポリマーとも異な
り、結晶性を示さず、本質的にワックス状の生成物を形
成する。
ーは、イソタクティックおよびシンジオタクティックポ
リマー類とは対照的に、繰り返し単位の規則的な配列を
示さない。アタクティックポリマーは、シンジオタクテ
ィックポリマーともイソタクティックポリマーとも異な
り、結晶性を示さず、本質的にワックス状の生成物を形
成する。
【０００７】ＷＯ９６／００７３４は「拘束幾何（ｃｏ
ｎｓｔｒａｉｎｅｄ ｇｅｏｍｅｔｒｙ）」錯体に関
し、この錯体はポリエチレンの製造で触媒として用いる
に有用であると述べられている。ＷＯ９６／００７３４
に従う拘束幾何メタロセンのいくつかはシクロペンタジ
エニル環と金属の間にブリッジ（二価のヘテロ原子配位
子を包含）を有する。そのような拘束幾何メタロセン類
をポリプロピレン類の製造で用いることは報告されてい
ない。
ｎｓｔｒａｉｎｅｄ ｇｅｏｍｅｔｒｙ）」錯体に関
し、この錯体はポリエチレンの製造で触媒として用いる
に有用であると述べられている。ＷＯ９６／００７３４
に従う拘束幾何メタロセンのいくつかはシクロペンタジ
エニル環と金属の間にブリッジ（二価のヘテロ原子配位
子を包含）を有する。そのような拘束幾何メタロセン類
をポリプロピレン類の製造で用いることは報告されてい
ない。
【０００８】ＭｃＫｎｉｇｈｔ他は、Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ ３７（２）（１９９６）の４７４
頁に、ある種のＩＶ族のモノ−シクロペンタジエニルア
ミド錯体はポリプロピレンの製造で触媒として用いるこ
とができると報告してはいるが、そのポリマー生成物は
ほとんど完全にアタクティックである。
Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ ３７（２）（１９９６）の４７４
頁に、ある種のＩＶ族のモノ−シクロペンタジエニルア
ミド錯体はポリプロピレンの製造で触媒として用いるこ
とができると報告してはいるが、そのポリマー生成物は
ほとんど完全にアタクティックである。
【０００９】それとは対照的に、本出願者らは、驚くべ
きことに、拘束幾何メタロセン触媒、特に新規な種類の
二量体メタロセン化合物を用いるとイソタクティックポ
リプロピレンが生じ得ることを見い出した。
きことに、拘束幾何メタロセン触媒、特に新規な種類の
二量体メタロセン化合物を用いるとイソタクティックポ
リプロピレンが生じ得ることを見い出した。
【００１０】本発明は、１番目の面において、一般式 ＣpＡＸＭＱ1Ｑ2ＣP′Ａ′Ｘ′Ｍ′Ｑ1′Ｑ′2 ［式中、ＣpおよびＣp’は、各々独立して、置換もしく
は未置換のシクロペンタジエニル部分であり、Ｍおよび
Ｍ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、それぞれ、Ｃｐおよ
Ｃｐ’に配位しており、ＸおよびＸ’は、各々独立し
て、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ
原子であり、それぞれ、ＭおよびＭ’に配位しており、
ＡおよびＡ’は、それぞれ、ＣｐとＸの間およびＣｐ’
とＸ’の間の橋渡し基であり、独立して、−ＳｉＲ′2
−Ｏ−ＳｉＲ′2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−およ
び−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選
択され、ここで、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素
原子数が１から２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたは炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで
ある配位基（ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｎｇ ｇｒｏｕｐ）
であり、Ｑ1およびＱ1’の各々がＭおよびＭ’の両方に
配位している］で表されるメタロセン化合物を提供す
る。
は未置換のシクロペンタジエニル部分であり、Ｍおよび
Ｍ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、それぞれ、Ｃｐおよ
Ｃｐ’に配位しており、ＸおよびＸ’は、各々独立し
て、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ
原子であり、それぞれ、ＭおよびＭ’に配位しており、
ＡおよびＡ’は、それぞれ、ＣｐとＸの間およびＣｐ’
とＸ’の間の橋渡し基であり、独立して、−ＳｉＲ′2
−Ｏ−ＳｉＲ′2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−およ
び−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選
択され、ここで、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素
原子数が１から２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたは炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで
ある配位基（ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｎｇ ｇｒｏｕｐ）
であり、Ｑ1およびＱ1’の各々がＭおよびＭ’の両方に
配位している］で表されるメタロセン化合物を提供す
る。
【００１１】好適にはＣｐおよびＣｐ’の少なくとも１
つが置換されている。
つが置換されている。
【００１２】本メタロセン化合物は好適には二量体構造
を有し、好適にはまた局所的Ｃ２対称を有する活性部位
も有する。
を有し、好適にはまた局所的Ｃ２対称を有する活性部位
も有する。
【００１３】本メタロセンはポリオレフィン、特にイソ
タクティックポリプロピレンの製造で触媒成分として使
用可能である。
タクティックポリプロピレンの製造で触媒成分として使
用可能である。
【００１４】本発明は、さらなる面において、ポリオレ
フィン類の製造で用いるに適した触媒系を提供し、これ
に、（ａ）この上で定義した如きメタロセン化合物およ
び（ｂ）このメタロセン化合物を活性にし得るアルミニ
ウム含有もしくはホウ素含有共触媒を含める。適切なア
ルミニウム含有共触媒にはアルモキサン（ａｌｕｍｏｘ
ａｎｅ）、アルキルアルミニウムおよび／またはルイス
酸が含まれる。
フィン類の製造で用いるに適した触媒系を提供し、これ
に、（ａ）この上で定義した如きメタロセン化合物およ
び（ｂ）このメタロセン化合物を活性にし得るアルミニ
ウム含有もしくはホウ素含有共触媒を含める。適切なア
ルミニウム含有共触媒にはアルモキサン（ａｌｕｍｏｘ
ａｎｅ）、アルキルアルミニウムおよび／またはルイス
酸が含まれる。
【００１５】本発明の方法で使用可能なアルモキサン類
はよく知られており、好適にはオリゴマー状の線状およ
び／または環状アルキルアルモキサンを含んで成り、そ
れらは、オリゴマー状の線状アルモキサンの場合には
式：
はよく知られており、好適にはオリゴマー状の線状およ
び／または環状アルキルアルモキサンを含んで成り、そ
れらは、オリゴマー状の線状アルモキサンの場合には
式：
【００１６】
【化３】 で表され、そしてオリゴマー状の環状アルモキサンの場
合には式：
合には式：
【００１７】
【化４】 で表され、ここで、ｎは１−４０、好適には１０−２０
であり、ｍは３−４０、好適には３−２０であり、そし
てＲはＣ1−Ｃ8アルキル基、好適にはメチルである。ア
ルモキサン類の調製を例えばアルミニウムトリメチルと
水から行うと、一般に、線状化合物と環状化合物の混合
物が得られる。
であり、ｍは３−４０、好適には３−２０であり、そし
てＲはＣ1−Ｃ8アルキル基、好適にはメチルである。ア
ルモキサン類の調製を例えばアルミニウムトリメチルと
水から行うと、一般に、線状化合物と環状化合物の混合
物が得られる。
【００１８】適切なホウ素含有共触媒にはホウ酸トリフ
ェニルカルベニウム、例えばヨーロッパ特許出願公開第
０４２７６９６号に記述されている如きテトラキスペン
タフルオロフェニル−ボラト−トリフェニルカルベニウ
ムまたはヨーロッパ特許出願公開第０２７７００４号
（６頁の３０行から７頁の７行）に記述されている如き 一般式 [Ｌ′−Ｈ]+[Ｂ Ａｒ1 Ａｒ2 Ｘ3 Ｘ4]- で表されるカルベニウムなどが含まれ得る。
ェニルカルベニウム、例えばヨーロッパ特許出願公開第
０４２７６９６号に記述されている如きテトラキスペン
タフルオロフェニル−ボラト−トリフェニルカルベニウ
ムまたはヨーロッパ特許出願公開第０２７７００４号
（６頁の３０行から７頁の７行）に記述されている如き 一般式 [Ｌ′−Ｈ]+[Ｂ Ａｒ1 Ａｒ2 Ｘ3 Ｘ4]- で表されるカルベニウムなどが含まれ得る。
【００１９】本触媒系は溶液重合方法（これは均一であ
る）またはスラリー方法（これは不均一である）で使用
可能である。溶液方法に典型的な溶媒には炭素原子数が
４から７の炭化水素、例えばヘプタン、トルエンまたは
シクロヘキサンなどが含まれる。スラリー方法の場合に
は、上記触媒系を不活性な支持体、特に多孔質の固体状
支持体、例えばタルク、無機酸化物など、および樹脂状
の支持体材料、例えばポリオレフィンなどに固着させて
おく必要がある。このような支持体材料は、好適には、
微細形態の無機酸化物である。
る）またはスラリー方法（これは不均一である）で使用
可能である。溶液方法に典型的な溶媒には炭素原子数が
４から７の炭化水素、例えばヘプタン、トルエンまたは
シクロヘキサンなどが含まれる。スラリー方法の場合に
は、上記触媒系を不活性な支持体、特に多孔質の固体状
支持体、例えばタルク、無機酸化物など、および樹脂状
の支持体材料、例えばポリオレフィンなどに固着させて
おく必要がある。このような支持体材料は、好適には、
微細形態の無機酸化物である。
【００２０】本発明に従って望ましく用いる適切な無機
酸化物材料には、２ａ、３ａ、４ａまたは４ｂ族金属の
酸化物、例えばシリカ、アルミナおよびそれらの混合物
が含まれる。単独でか或はシリカまたはアルミナと組み
合わせて使用可能な他の無機酸化物はマグネシア、チタ
ニア、ジルコニアなどである。しかしながら、他の適切
な支持体材料、例えば官能化（ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉ
ｚｅｄ）ポリオレフィン微細物、例えば微細ポリエチレ
ンなどを用いることも可能である。
酸化物材料には、２ａ、３ａ、４ａまたは４ｂ族金属の
酸化物、例えばシリカ、アルミナおよびそれらの混合物
が含まれる。単独でか或はシリカまたはアルミナと組み
合わせて使用可能な他の無機酸化物はマグネシア、チタ
ニア、ジルコニアなどである。しかしながら、他の適切
な支持体材料、例えば官能化（ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉ
ｚｅｄ）ポリオレフィン微細物、例えば微細ポリエチレ
ンなどを用いることも可能である。
【００２１】このような支持体は、好適には、２００か
ら９００ｍ2／ｇの範囲から成る表面積および０．５か
ら４ｍｌ／ｇの範囲から成る細孔容積を有するシリカで
ある。
ら９００ｍ2／ｇの範囲から成る表面積および０．５か
ら４ｍｌ／ｇの範囲から成る細孔容積を有するシリカで
ある。
【００２２】このような固体状支持型（ｓｕｐｐｏｒ
ｔ）触媒の調製で有効に用いるアルモキサンおよびメタ
ロセンの量は幅広い範囲に渡って多様であり得る。アル
ミニウムと遷移金属のモル比を好適には１：１から１０
０：１の範囲、好適には５：１から５０：１の範囲にす
る。
ｔ）触媒の調製で有効に用いるアルモキサンおよびメタ
ロセンの量は幅広い範囲に渡って多様であり得る。アル
ミニウムと遷移金属のモル比を好適には１：１から１０
０：１の範囲、好適には５：１から５０：１の範囲にす
る。
【００２３】上記メタロセンおよびアルモキサンを支持
体材料に添加する順は多様であり得る。本発明の好適な
態様に従い、アルモキサンを適切な不活性炭化水素溶媒
に溶解させて、それを同じか或は他の適切な炭化水素液
体に入っている支持体材料のスラリーに加えた後、この
スラリーにメタロセン触媒成分の混合物を加える。
体材料に添加する順は多様であり得る。本発明の好適な
態様に従い、アルモキサンを適切な不活性炭化水素溶媒
に溶解させて、それを同じか或は他の適切な炭化水素液
体に入っている支持体材料のスラリーに加えた後、この
スラリーにメタロセン触媒成分の混合物を加える。
【００２４】好適な溶媒には、反応温度で液状でありか
つ個々の材料と反応しない鉱油およびいろいろな炭化水
素が含まれる。有用な溶媒の説明的例には、アルカン
類、例えばペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンおよびノナンなど、シクロアルカン類、例
えばシクロペンタンおよびシクロヘキサンなど、そして
芳香族、例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼンお
よびジエチルベンゼンなどが含まれる。
つ個々の材料と反応しない鉱油およびいろいろな炭化水
素が含まれる。有用な溶媒の説明的例には、アルカン
類、例えばペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンおよびノナンなど、シクロアルカン類、例
えばシクロペンタンおよびシクロヘキサンなど、そして
芳香族、例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼンお
よびジエチルベンゼンなどが含まれる。
【００２５】好適には、上記支持体材料をトルエンに入
れてスラリー状にし、そしてメタロセンおよびアルモキ
サンをトルエンに溶解させて、それを上記支持体材料に
添加する。
れてスラリー状にし、そしてメタロセンおよびアルモキ
サンをトルエンに溶解させて、それを上記支持体材料に
添加する。
【００２６】如何なる理論でも範囲を限定することを望
むものでないが、この上に記述した二量体メタロセン化
合物は使用時に相当する単量体化合物を生じてこれが活
性触媒種として働き得る。従って、上記二量体化合物は
活性を示す単量体化合物の前駆体であり得る。
むものでないが、この上に記述した二量体メタロセン化
合物は使用時に相当する単量体化合物を生じてこれが活
性触媒種として働き得る。従って、上記二量体化合物は
活性を示す単量体化合物の前駆体であり得る。
【００２７】本発明は、さらなる面において、ポリオレ
フィン類、特にイソタクティックポリプロピレン類の製
造方法を提供し、この方法に、上記触媒系を少なくとも
１種のオレフィンに重合条件下の反応ゾーン内で接触さ
せることを含める。上記オレフィンは好適にはプロピレ
ンである。
フィン類、特にイソタクティックポリプロピレン類の製
造方法を提供し、この方法に、上記触媒系を少なくとも
１種のオレフィンに重合条件下の反応ゾーン内で接触さ
せることを含める。上記オレフィンは好適にはプロピレ
ンである。
【００２８】本発明は、さらなる面において、イソタク
ティックポリプロピレンを製造するためのメタロセン化
合物を含んで成る触媒の使用を提供し、ここで、上記メ
タロセン化合物は、一般式 ＣpＡＸＭＱ2 ［式中、Ｃpは、使用時にイソタクティックポリプロピ
レンをもたらすように置換されているシクロペンタジエ
ニル部分であり、Ｍは、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、Ｃｐに配位してお
り、Ｘは、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族
ヘテロ原子であり、Ｍに配位しており、Ａは、ＣｐとＸ
の間の橋渡し基であり、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′
2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓ
ｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここ
で、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素原子数が１か
ら２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１から４の範囲
の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、そして各Ｑは、
独立して、水素、ハロゲンまたは炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルである］で表される。このメタロセ
ン化合物は、好適には、活性を示す触媒が単量体の形態
の時には局所的Ｃ１対称を伴う活性部位を有する。
ティックポリプロピレンを製造するためのメタロセン化
合物を含んで成る触媒の使用を提供し、ここで、上記メ
タロセン化合物は、一般式 ＣpＡＸＭＱ2 ［式中、Ｃpは、使用時にイソタクティックポリプロピ
レンをもたらすように置換されているシクロペンタジエ
ニル部分であり、Ｍは、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、Ｃｐに配位してお
り、Ｘは、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族
ヘテロ原子であり、Ｍに配位しており、Ａは、ＣｐとＸ
の間の橋渡し基であり、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′
2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓ
ｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここ
で、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素原子数が１か
ら２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１から４の範囲
の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、そして各Ｑは、
独立して、水素、ハロゲンまたは炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルである］で表される。このメタロセ
ン化合物は、好適には、活性を示す触媒が単量体の形態
の時には局所的Ｃ１対称を伴う活性部位を有する。
【００２９】好適には、各シクロペンタジエニル部分は
置換もしくは未置換のインデニル、より好適には置換も
しくは未置換のベンゾインデニルである。上記シクロペ
ンタジエニル環における好適な置換部位は２位であり、
これの置換基は炭素原子数が１から２０のヒドロカルビ
ル、例えばメチルなどであってもよい。
置換もしくは未置換のインデニル、より好適には置換も
しくは未置換のベンゾインデニルである。上記シクロペ
ンタジエニル環における好適な置換部位は２位であり、
これの置換基は炭素原子数が１から２０のヒドロカルビ
ル、例えばメチルなどであってもよい。
【００３０】Ｍは好適にはＺｒである。
【００３１】各ヘテロ原子は、好適には、メタロセンの
幾何形態を拘束するに適した二価配位子を与えるような
窒素、燐、酸素または硫黄である。このヘテロ原子は典
型的にＨでか或は炭素原子数が１から２０のヒドロカル
ビルまたはシリルで置換されていて、好適には窒素であ
る。ＡおよびＡ’は好適には各々ＳｉＲ’2であり、こ
こで、各Ｒ’は好適にはメチルである。
幾何形態を拘束するに適した二価配位子を与えるような
窒素、燐、酸素または硫黄である。このヘテロ原子は典
型的にＨでか或は炭素原子数が１から２０のヒドロカル
ビルまたはシリルで置換されていて、好適には窒素であ
る。ＡおよびＡ’は好適には各々ＳｉＲ’2であり、こ
こで、各Ｒ’は好適にはメチルである。
【００３２】本発明のさらなる面では、この上に記述し
た如きメタロセン化合物の使用を提供し、ここでは、こ
のメタロセン化合物をまたこの上に記述した如き二量体
メタロセン化合物から生じさせる。
た如きメタロセン化合物の使用を提供し、ここでは、こ
のメタロセン化合物をまたこの上に記述した如き二量体
メタロセン化合物から生じさせる。
【００３３】本発明を、ここに、以下に示す実施例およ
び添付図を参照して更に詳細に記述するが、これは単に
例として示すものである。
び添付図を参照して更に詳細に記述するが、これは単に
例として示すものである。
【００３４】
【実施例】実施例１：（ｔ−ブチルアミド）（２−メチ
ル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジ
メチルシランジルコニウムジクロライドの二量体の製造 １． （２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミン ８３．２ミリモルの２−メチル−４，５−ベンゾインデ
ンが１５０ｃｃのジエチルエーテルに入っている溶液を
８３．０ミリモルのジクロロジメチルシランが１００ｃ
ｃのジエチルエーテルに入っている溶液に室温で滴下し
た。この混合物を室温で一晩撹拌した後、８３．０ミリ
モルのｔ−ブチルアミドリチウムが３００ｃｃのジエチ
ルエーテルに入っている溶液の上に移した。この混合物
を８時間撹拌した後、沈澱した塩化リチウムを濾過で除
去した。この溶液の濃縮を真空下で行った後、その残渣
にｎ−ペンタンを２５０ｃｃ加えた。２０℃で１時間
後、沈澱した褐色の固体を濾別してオイルポンプ真空下
で乾燥させた。（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−
４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジメチ
ルシランを２０．６ｇ（８０％）得た。 ２． （２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミドのジ
リチオ塩の製造： １０．０ｇ（３２．３ミリモル）の（ｔ−ブチルアミ
ド）（２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシランを２００ｃｃのジエチル
エーテルに溶解させた後、室温でジエチルエーテル中
１．６モル規定のメチルリチウム溶液を４０．４ｃｃ
（６４．６ミリモル）滴下した。この混合物を一晩撹拌
した後、溶媒を真空下で除去した。褐色の残渣をｎ−ペ
ンタンで数回洗浄した後、真空下で乾燥させた。上記ジ
リチオ塩を褐色の粉末として１１．９ｇ得た。 ３． （２−メチル−４，５−ベンゾ−インデン−１−
イル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミドジ
ルコニウムジクロライドの製造 ２００ｃｃのペンタンに上記ジリチオ塩を１１．９ｇ入
れて懸濁させた後、７．６ｇ（３２．６ミリモル）の四
塩化ジルコニウムを小分割して加えた。この混合物を室
温で１０時間撹拌した。その結果として生じた黄色固体
を濾別し、ｎ−ペンタンで数回洗浄した後、真空下で乾
燥させた。この固体を５００ｃｃのｎ−ヘキサンに入れ
て懸濁させた後、還流下に１時間加熱した。次に、濾過
を５０℃で行って黄色固体を除去した後、その濾液の濃
縮を真空下で行った。Ｘ線回折分析で測定して二量体構
造物であるとして（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−
４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジメチ
ルシランジルコニウムジクロライドを１．９ｇ（１２
％）得た（ジクロロメタンを用いた再結晶化で黄色の結
晶を得た）。1Ｈ ＮＭＲスペクトル（３００ ＭＨｚ，
ＣＤ2Ｃｌ2，ｄ ｐｐｍで表す）：８.０９−７.３７
（ｍ，７Ｈ，２−MebenzInd-Ｈ）、２.４３（ｓ，３
Ｈ，２−ＣＨ3 −benzInd)、１.３１（ｓ，９Ｈ，ｔ−Ｂ
ｕＮ）、０.８７および０.７１（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ2Ｓ
ｉ）。
ル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジ
メチルシランジルコニウムジクロライドの二量体の製造 １． （２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミン ８３．２ミリモルの２−メチル−４，５−ベンゾインデ
ンが１５０ｃｃのジエチルエーテルに入っている溶液を
８３．０ミリモルのジクロロジメチルシランが１００ｃ
ｃのジエチルエーテルに入っている溶液に室温で滴下し
た。この混合物を室温で一晩撹拌した後、８３．０ミリ
モルのｔ−ブチルアミドリチウムが３００ｃｃのジエチ
ルエーテルに入っている溶液の上に移した。この混合物
を８時間撹拌した後、沈澱した塩化リチウムを濾過で除
去した。この溶液の濃縮を真空下で行った後、その残渣
にｎ−ペンタンを２５０ｃｃ加えた。２０℃で１時間
後、沈澱した褐色の固体を濾別してオイルポンプ真空下
で乾燥させた。（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−
４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジメチ
ルシランを２０．６ｇ（８０％）得た。 ２． （２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミドのジ
リチオ塩の製造： １０．０ｇ（３２．３ミリモル）の（ｔ−ブチルアミ
ド）（２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシランを２００ｃｃのジエチル
エーテルに溶解させた後、室温でジエチルエーテル中
１．６モル規定のメチルリチウム溶液を４０．４ｃｃ
（６４．６ミリモル）滴下した。この混合物を一晩撹拌
した後、溶媒を真空下で除去した。褐色の残渣をｎ−ペ
ンタンで数回洗浄した後、真空下で乾燥させた。上記ジ
リチオ塩を褐色の粉末として１１．９ｇ得た。 ３． （２−メチル−４，５−ベンゾ−インデン−１−
イル）−１，１−ジメチルシリル−ｔ−ブチルアミドジ
ルコニウムジクロライドの製造 ２００ｃｃのペンタンに上記ジリチオ塩を１１．９ｇ入
れて懸濁させた後、７．６ｇ（３２．６ミリモル）の四
塩化ジルコニウムを小分割して加えた。この混合物を室
温で１０時間撹拌した。その結果として生じた黄色固体
を濾別し、ｎ−ペンタンで数回洗浄した後、真空下で乾
燥させた。この固体を５００ｃｃのｎ−ヘキサンに入れ
て懸濁させた後、還流下に１時間加熱した。次に、濾過
を５０℃で行って黄色固体を除去した後、その濾液の濃
縮を真空下で行った。Ｘ線回折分析で測定して二量体構
造物であるとして（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−
４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジメチ
ルシランジルコニウムジクロライドを１．９ｇ（１２
％）得た（ジクロロメタンを用いた再結晶化で黄色の結
晶を得た）。1Ｈ ＮＭＲスペクトル（３００ ＭＨｚ，
ＣＤ2Ｃｌ2，ｄ ｐｐｍで表す）：８.０９−７.３７
（ｍ，７Ｈ，２−MebenzInd-Ｈ）、２.４３（ｓ，３
Ｈ，２−ＣＨ3 −benzInd)、１.３１（ｓ，９Ｈ，ｔ−Ｂ
ｕＮ）、０.８７および０.７１（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ2Ｓ
ｉ）。
【００３５】実施例２：（ｔ−ブチルアミド）（２−メ
チル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−
ジメチルシランチタンジクロライドの二量体の製造： ＺｒＣｌ4の代わりにＴｉＣｌ4を用いて実施例１に記述
した手順を繰り返した。1Ｈ ＮＭＲスペクトル（３０
０ ＭＨｚ，ＣＤ2Ｃｌ2，ｄ ｐｐｍで表す）：８.０８
−７.３２（ｍ，７Ｈ，２−MebenzInd-Ｈ）、２.４７
（ｓ，３Ｈ，２−ＣＨ3 −benzInd)、１.４８（ｓ，９
Ｈ，ｔ−ＢｕＮ）、０.９８および０.８４（ｓ，３Ｈ，
Ｍｅ2Ｓｉ）。
チル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−
ジメチルシランチタンジクロライドの二量体の製造： ＺｒＣｌ4の代わりにＴｉＣｌ4を用いて実施例１に記述
した手順を繰り返した。1Ｈ ＮＭＲスペクトル（３０
０ ＭＨｚ，ＣＤ2Ｃｌ2，ｄ ｐｐｍで表す）：８.０８
−７.３２（ｍ，７Ｈ，２−MebenzInd-Ｈ）、２.４７
（ｓ，３Ｈ，２−ＣＨ3 −benzInd)、１.４８（ｓ，９
Ｈ，ｔ−ＢｕＮ）、０.９８および０.８４（ｓ，３Ｈ，
Ｍｅ2Ｓｉ）。
【００３６】実施例３：重合手順 各重合を、高純度のポリプロピレンまたは希釈剤、例え
ばシクロヘキサンまたはイソブタンなどを下記の表に報
告する量で用いて４リットルのベンチ反応槽内で行っ
た。反応槽への導入を行うに先立って１ｍｌのＭＡＯ
（メチルアルミノキサン）（ＷＩＴＣＯから入手したト
ルエン中３０％溶液）に前以て３分間接触させておいた
メタロセン（１から１０ｍｇ）を導入することで重合を
開始させた。
ばシクロヘキサンまたはイソブタンなどを下記の表に報
告する量で用いて４リットルのベンチ反応槽内で行っ
た。反応槽への導入を行うに先立って１ｍｌのＭＡＯ
（メチルアルミノキサン）（ＷＩＴＣＯから入手したト
ルエン中３０％溶液）に前以て３分間接触させておいた
メタロセン（１から１０ｍｇ）を導入することで重合を
開始させた。
【００３７】表１に、実施例１の触媒を共触媒が８５０
ｐｐｍ入っている２ ｌの希釈剤中２．８ｍｇの量で用
いたポリプロピレン製造の結果を示す。高い融点を有す
るポリマーを結晶性粉末の形態で得る。１３Ｃ ＮＭＲ
分析はポリプロピレンがイソタクティックであることを
実証しており、そして表２にそれのペンタド強度分布を
示す。ｍｍトリアドが９３％でｍダイアドが９５．５％
であることに加えて８７％の高いｍｍｍｍペンタド強度
が観察される。この結果は、高い立体選択性を示す立体
剛性メタロセンを基とする古典的な触媒を用いてポリプ
ロピレンを製造した場合の結果に匹敵している。２−１
および１−３のレジオデフェクト（ｒｅｇｉｏｄｅｆｅ
ｃｔｓ）の発生が比較的低いことは非常に驚くべきこと
である。確認した融点が高いことはポリマーの立体規則
性が高いを説明している。
ｐｐｍ入っている２ ｌの希釈剤中２．８ｍｇの量で用
いたポリプロピレン製造の結果を示す。高い融点を有す
るポリマーを結晶性粉末の形態で得る。１３Ｃ ＮＭＲ
分析はポリプロピレンがイソタクティックであることを
実証しており、そして表２にそれのペンタド強度分布を
示す。ｍｍトリアドが９３％でｍダイアドが９５．５％
であることに加えて８７％の高いｍｍｍｍペンタド強度
が観察される。この結果は、高い立体選択性を示す立体
剛性メタロセンを基とする古典的な触媒を用いてポリプ
ロピレンを製造した場合の結果に匹敵している。２−１
および１−３のレジオデフェクト（ｒｅｇｉｏｄｅｆｅ
ｃｔｓ）の発生が比較的低いことは非常に驚くべきこと
である。確認した融点が高いことはポリマーの立体規則
性が高いを説明している。
【００３８】図２に、上記ポリマーの13Ｃ ＮＭＲスペ
クトルを示し、そして図３に、上記メタロセンを２５℃
のＣＯ2Ｃｌ2中で測定した時のＨＮＭＲスペクトルを示
す。
クトルを示し、そして図３に、上記メタロセンを２５℃
のＣＯ2Ｃｌ2中で測定した時のＨＮＭＲスペクトルを示
す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】 本発明の特徴および態様は以下のとうりである。
【００４１】１． 一般式 ＣpＡＸＭＱ1Ｑ2ＣP′Ａ′Ｘ′Ｍ′Ｑ1′Ｑ′2 ［式中、ＣpおよびＣp’は、各々独立して、置換もしく
は未置換のシクロペンタジエニル部分であり、Ｍおよび
Ｍ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、それぞれ、Ｃｐおよ
Ｃｐ’に配位しており、ＸおよびＸ’は、各々独立し
て、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ
原子であり、それぞれ、ＭおよびＭ’に配位しており、
ＡおよびＡ’は、それぞれ、ＣｐとＸの間およびＣｐ’
とＸ’の間の橋渡し基であり、独立して、−ＳｉＲ′2
−Ｏ−ＳｉＲ′2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−およ
び−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選
択され、ここで、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素
原子数が１から２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたは炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで
ある配位基であり、Ｑ1およびＱ1’の各々がＭおよび
Ｍ’の両方に配位している］で表されるメタロセン化合
物。
は未置換のシクロペンタジエニル部分であり、Ｍおよび
Ｍ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、それぞれ、Ｃｐおよ
Ｃｐ’に配位しており、ＸおよびＸ’は、各々独立し
て、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ
原子であり、それぞれ、ＭおよびＭ’に配位しており、
ＡおよびＡ’は、それぞれ、ＣｐとＸの間およびＣｐ’
とＸ’の間の橋渡し基であり、独立して、−ＳｉＲ′2
−Ｏ−ＳｉＲ′2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−およ
び−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選
択され、ここで、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素
原子数が１から２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたは炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで
ある配位基であり、Ｑ1およびＱ1’の各々がＭおよび
Ｍ’の両方に配位している］で表されるメタロセン化合
物。
【００４２】２． 各シクロペンタジエニル部分が置換
もしくは未置換のインデニルである第１項記載のメタロ
セン化合物。
もしくは未置換のインデニルである第１項記載のメタロ
セン化合物。
【００４３】３． 各インデニル部分が置換もしくは未
置換のベンゾインデニルである第２項記載のメタロセン
化合物。
置換のベンゾインデニルである第２項記載のメタロセン
化合物。
【００４４】４． 該シクロペンタジエニル部分の２位
が炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで置換され
ている第１から３項いずれか１項記載のメタロセン化合
物。
が炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで置換され
ている第１から３項いずれか１項記載のメタロセン化合
物。
【００４５】５． 該金属がＺｒである前項いずれか１
項記載のメタロセン化合物。
項記載のメタロセン化合物。
【００４６】６． 該ヘテロ原子が窒素、燐、酸素また
は硫黄でありそしてそれがＨ、炭素原子数が１から２０
のヒドロカルビルまたはシリルで置換されている前項い
ずれか１項記載のメタロセン化合物。
は硫黄でありそしてそれがＨ、炭素原子数が１から２０
のヒドロカルビルまたはシリルで置換されている前項い
ずれか１項記載のメタロセン化合物。
【００４７】７． 該ヘテロ原子が窒素である第６項記
載のメタロセン化合物。
載のメタロセン化合物。
【００４８】８． ＡおよびＡ’の各々がＳｉＲ’2で
ある前項いずれか１項記載のメタロセン化合物。
ある前項いずれか１項記載のメタロセン化合物。
【００４９】９． 各Ｒ’がメチルである第８項記載の
メタロセン化合物。
メタロセン化合物。
【００５０】１０． 活性部位が局所的Ｃ２対称を有す
る前項いずれか１項記載のメタロセン化合物。
る前項いずれか１項記載のメタロセン化合物。
【００５１】１１． 二量体構造を有する前項いずれか
１項記載のメタロセン化合物。
１項記載のメタロセン化合物。
【００５２】１２． （ｔ−ブチルアミド）（２−メチ
ル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジ
メチルシランジルコニウムクロライドまたは（ｔ−ブチ
ルアミド）（２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１
−イル）−１，１−ジメチルシランチタンクロライドを
含んで成るメタロセン化合物。
ル−４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジ
メチルシランジルコニウムクロライドまたは（ｔ−ブチ
ルアミド）（２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１
−イル）−１，１−ジメチルシランチタンクロライドを
含んで成るメタロセン化合物。
【００５３】１３． 前項いずれか１項記載メタロセン
化合物の使用であって、ポリオレフィン製造用触媒成分
としての使用。
化合物の使用であって、ポリオレフィン製造用触媒成分
としての使用。
【００５４】１４． 該ポリオレフィンがイソタクティ
ックポリプロピレンである第１３項記載の使用。
ックポリプロピレンである第１３項記載の使用。
【００５５】１５． ポリオレフィン類の製造で用いる
ための触媒系であって、（ａ）第１から１２項いずれか
１項記載のメタロセン化合物と（ｂ）該メタロセン化合
物を活性にし得るアルミニウム含有もしくはホウ素含有
共触媒を含んで成る触媒系。
ための触媒系であって、（ａ）第１から１２項いずれか
１項記載のメタロセン化合物と（ｂ）該メタロセン化合
物を活性にし得るアルミニウム含有もしくはホウ素含有
共触媒を含んで成る触媒系。
【００５６】１６． 不活性支持体を更に含んで成る第
１５項記載の触媒系。
１５項記載の触媒系。
【００５７】１７． ポリオレフィン類の製造方法であ
って、少なくとも１種のオレフィンを第１５項または第
１６項記載の触媒系に重合条件下の反応ゾーン内で接触
させることを含む方法。
って、少なくとも１種のオレフィンを第１５項または第
１６項記載の触媒系に重合条件下の反応ゾーン内で接触
させることを含む方法。
【００５８】１８． 該オレフィンがプロピレンであり
そして該ポリオレフィンがイソタクティックポリプロピ
レンである第１７項記載の方法。
そして該ポリオレフィンがイソタクティックポリプロピ
レンである第１７項記載の方法。
【００５９】１９． イソタクティックポリプロピレン
を製造するためのメタロセン化合物を含んで成る触媒の
使用であって、該メタロセン化合物が一般式 ＣpＡＸＭＱ2 ［式中、Ｃpは、使用時にイソタクティックポリプロピ
レンをもたらすように置換されているシクロペンタジエ
ニル部分であり、Ｍは、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、Ｃｐに配位してお
り、Ｘは、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族
ヘテロ原子であり、Ｍに配位しており、Ａは、ＣｐとＸ
の間の橋渡し基であり、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′
2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓ
ｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここ
で、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素原子数が１か
ら２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１から４の範囲
の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、そして各Ｑは、
独立して、水素、ハロゲンまたは炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルである］で表される使用。
を製造するためのメタロセン化合物を含んで成る触媒の
使用であって、該メタロセン化合物が一般式 ＣpＡＸＭＱ2 ［式中、Ｃpは、使用時にイソタクティックポリプロピ
レンをもたらすように置換されているシクロペンタジエ
ニル部分であり、Ｍは、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、Ｃｐに配位してお
り、Ｘは、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族
ヘテロ原子であり、Ｍに配位しており、Ａは、ＣｐとＸ
の間の橋渡し基であり、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′
2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓ
ｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここ
で、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素原子数が１か
ら２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１から４の範囲
の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、そして各Ｑは、
独立して、水素、ハロゲンまたは炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルである］で表される使用。
【００６０】２０． 該シクロペンタジエニル部分が置
換インデニルである第１９項記載の使用。
換インデニルである第１９項記載の使用。
【００６１】２１． 該置換インデニル部分が置換ベン
ゾインデニルである第２０項記載の使用。
ゾインデニルである第２０項記載の使用。
【００６２】２２． 該シクロペンタジエニル部分の２
位が置換されている第１９から２１項いずれか１項記載
の使用。
位が置換されている第１９から２１項いずれか１項記載
の使用。
【００６３】２３． 該シクロペンタジエニル部分が炭
素原子数が１から２０のヒドロカルビルで置換されてい
る第２２項記載の使用。
素原子数が１から２０のヒドロカルビルで置換されてい
る第２２項記載の使用。
【００６４】２４． 該金属がＺｒである第１９から２
３項いずれか１項記載の使用。
３項いずれか１項記載の使用。
【００６５】２５． 該ヘテロ原子が窒素、燐、酸素ま
たは硫黄でありそしてそれがＨ、炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルまたはシリルで置換されている第１
９から２４項いずれか１項記載の使用。
たは硫黄でありそしてそれがＨ、炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルまたはシリルで置換されている第１
９から２４項いずれか１項記載の使用。
【００６６】２６． 該ヘテロ原子が窒素である第２５
項記載の使用。
項記載の使用。
【００６７】２７． ＡがＳｉＲ’2である第１９から
２６項いずれか１項記載の使用。
２６項いずれか１項記載の使用。
【００６８】２８． 各Ｒ’がメチルである第２７項記
載の使用。
載の使用。
【００６９】２９． 該触媒が該メタロセン化合物を活
性にし得るアルミニウム含有もしくはホウ素含有共触媒
を更に含んで成る第１９から２８項いずれか１項記載の
使用。
性にし得るアルミニウム含有もしくはホウ素含有共触媒
を更に含んで成る第１９から２８項いずれか１項記載の
使用。
【００７０】３０． 該メタロセン化合物を第１から１
２項いずれか１項記載のメタロセン化合物から生じさせ
る第１９から２９項いずれか１項記載の使用。
２項いずれか１項記載のメタロセン化合物から生じさせ
る第１９から２９項いずれか１項記載の使用。
【図１】（Ｍｅ2Ｓｉ(tｂｕＮ)(２−ＭeＢenzInd)Ｚｒ
Ｃｌ2）2の結晶構造分析の結果を示す。
Ｃｌ2）2の結晶構造分析の結果を示す。
【図２】本発明に従って製造したポリプロピレンの１３
Ｃ ＮＭＲスペクトルを示す。
Ｃ ＮＭＲスペクトルを示す。
【図３】上記ポリプロピレンの示差走査熱量測定の結果
を示す。
を示す。
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式 ＣpＡＸＭＱ1Ｑ2ＣP′Ａ′Ｘ′Ｍ′Ｑ1′Ｑ′2 ［式中、ＣpおよびＣp’は、各々独立して、置換もしく
は未置換のシクロペンタジエニル部分であり、Ｍおよび
Ｍ’は、各々独立して、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、それぞれ、Ｃｐおよ
Ｃｐ’に配位しており、ＸおよびＸ’は、各々独立し
て、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族ヘテロ
原子であり、それぞれ、ＭおよびＭ’に配位しており、
ＡおよびＡ’は、それぞれ、ＣｐとＸの間およびＣｐ’
とＸ’の間の橋渡し基であり、独立して、−ＳｉＲ′2
−Ｏ−ＳｉＲ′2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−およ
び−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選
択され、ここで、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素
原子数が１から２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１
から４の範囲の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、各
Ｑ1、Ｑ2、Ｑ1’およびＱ2’は、独立して、水素、ハロ
ゲンまたは炭素原子数が１から２０のヒドロカルビルで
ある配位基であり、Ｑ1およびＱ1’の各々がＭおよび
Ｍ’の両方に配位している］で表されるメタロセン化合
物。 - 【請求項２】 （ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−
４，５−ベンゾインデン−１−イル）−１，１−ジメチ
ルシランジルコニウムクロライドまたは（ｔ−ブチルア
ミド）（２−メチル−４，５−ベンゾインデン−１−イ
ル）−１，１−ジメチルシランチタンクロライドを含ん
で成るメタロセン化合物。 - 【請求項３】 前請求項いずれか１項記載メタロセン化
合物の使用であって、ポリオレフィン製造用触媒成分と
しての使用。 - 【請求項４】 ポリオレフィン類の製造で用いるための
触媒系であって、（ａ）請求項１から２いずれか１項記
載のメタロセン化合物と（ｂ）該メタロセン化合物を活
性にし得るアルミニウム含有もしくはホウ素含有共触媒
を含んで成る触媒系。 - 【請求項５】 ポリオレフィン類の製造方法であって、
少なくとも１種のオレフィンを請求項４記載の触媒系に
重合条件下の反応ゾーン内で接触させることを含む方
法。 - 【請求項６】 イソタクティックポリプロピレンを製造
するためのメタロセン化合物を含んで成る触媒の使用で
あって、該メタロセン化合物が一般式 ＣpＡＸＭＱ2 ［式中、Ｃpは、使用時にイソタクティックポリプロピ
レンをもたらすように置換されているシクロペンタジエ
ニル部分であり、Ｍは、ＩＶＢ族の遷移金属およびバナ
ジウムから選択される金属であり、Ｃｐに配位してお
り、Ｘは、置換もしくは未置換のＶＡもしくはＶＩＡ族
ヘテロ原子であり、Ｍに配位しており、Ａは、ＣｐとＸ
の間の橋渡し基であり、−ＳｉＲ′2−Ｏ−ＳｉＲ′
2−、ＳｉnＲ′m−、−ＣnＲ′m−および−ＣＲ′2−Ｓ
ｉＲ′2−ＣＲ′2−ＳｉＲ′2−から選択され、ここ
で、各Ｒ’は、独立して、Ｈ、または炭素原子数が１か
ら２０のヒドロカルビルであり、ｎは、１から４の範囲
の整数であり、そしてｍ＝２ｎであり、そして各Ｑは、
独立して、水素、ハロゲンまたは炭素原子数が１から２
０のヒドロカルビルである］で表される使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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