JP2000183268A - Lead frame and semiconductor device using the same - Google Patents

Lead frame and semiconductor device using the same

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JP2000183268A
JP2000183268A JP10359763A JP35976398A JP2000183268A JP 2000183268 A JP2000183268 A JP 2000183268A JP 10359763 A JP10359763 A JP 10359763A JP 35976398 A JP35976398 A JP 35976398A JP 2000183268 A JP2000183268 A JP 2000183268A
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lead frame
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable lead frame, having improved close contact with a semiconductor chip and improved reflow crack resistivity when it is sealed, and to provide a semiconductor device using the lead frame. SOLUTION: A plurality of leads 33 support the backside of a semiconductor chip on one end part on a prescribed region, and they are fixed by insulating paste (or conductive paste, as necessary). The electrical connection parts 34 of the leads 33 are connected by a bonding wire 35. A mold resin member 35 seals the bonding wire 35, the semiconductor chip 31 and a lead part (inner lead part) excluding other terminals of the plural leads 33.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体パッケージ
の高信頼性、縮小化が要求される樹脂封止型の半導体装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-sealed semiconductor device that requires high reliability and miniaturization of a semiconductor package.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来の半導体パッケージの一例
を示す断面図である。ダイパッド50上に半導体チップ
51がペースト52により固着されている。ダイパッド
50の周囲に複数のリード53が配置されている。リー
ド53の位置とダイパッド50の位置関係は、ダイパッ
ド50の方がリード53より低いレベルにある形態とな
っている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor package. A semiconductor chip 51 is fixed on a die pad 50 by a paste 52. A plurality of leads 53 are arranged around the die pad 50. The positional relationship between the position of the lead 53 and the die pad 50 is such that the die pad 50 is at a lower level than the lead 53.

【0003】半導体チップ51上のボンディングパッド
54とリード53の所定個所(各インナリード)とは、
例えばボンディングワイヤ55により接続されている。
ダイパッド50、半導体チップ51、ボンディングワイ
ヤ55及びその接続部を含んでモールド樹脂56で封止
されている。
[0003] The bonding pads 54 on the semiconductor chip 51 and the predetermined locations of the leads 53 (each inner lead) are as follows.
For example, they are connected by bonding wires 55.
The die pad 50, the semiconductor chip 51, the bonding wires 55, and the connection portions thereof are sealed with a mold resin 56.

【0004】図6は、従来のリードフレームの一部であ
る上記ダイパッド50の一般的な形態を示す平面図であ
る。タイバー61を曲げてリード53の位置より低いレ
ベルにしたり(図5参照)、ダイパッド50に図示しな
い貫通孔を設ける等の工夫により、封止時の樹脂の流動
性を向上させたり応力の緩和を図る。
FIG. 6 is a plan view showing a general form of the die pad 50 which is a part of a conventional lead frame. By improving the fluidity of the resin at the time of sealing or relaxing the stress by devising the tie bar 61 to a level lower than the position of the lead 53 (see FIG. 5) or by providing a through hole (not shown) in the die pad 50. Aim.

【0005】しかしながら、リードフレームに用いる金
属とモールド樹脂との接着性が弱いことは知られてい
る。また、製造工程中の加熱処理により、ダイパッド5
0表面に酸化膜が生成されることもあって、チップとの
結合力も低下する。
However, it is known that the adhesion between the metal used for the lead frame and the molding resin is weak. Also, the heat treatment during the manufacturing process allows the die pad 5
Oxide film may be formed on the surface of the substrate, and the bonding force with the chip may be reduced.

【0006】さらに、モールド樹脂56はリードフレー
ムに用いる金属との膨張係数の差が大きい。このため、
温度変化の影響によるダイパッド50と封止樹脂の間に
おける密着性の劣化は避けられず、クラック発生の原因
となる。
Further, the difference in expansion coefficient between the mold resin 56 and the metal used for the lead frame is large. For this reason,
Deterioration of the adhesion between the die pad 50 and the sealing resin due to the influence of the temperature change is unavoidable and causes cracks.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来のリードフレーム
の構造では、酸化防止性も十分でなく、樹脂封止時の熱
処理でチップとダイパッドの結合力が低下する。ダイパ
ッドと封止樹脂の間における密着性の劣化も問題であ
る。これらの影響で、ダイパッド、インナリード、チッ
プを含む樹脂密着部は剥離しやすく、リフロークラック
を起こす可能性がある。
In the conventional lead frame structure, the anti-oxidation property is not sufficient, and the bonding force between the chip and the die pad is reduced by heat treatment at the time of resin sealing. Deterioration of adhesion between the die pad and the sealing resin is also a problem. Due to these effects, the resin contact portion including the die pad, the inner lead, and the chip is easily peeled off, which may cause a reflow crack.

【0008】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その課題は、半導体チップを搭載するリードフレー
ム構造の改良により、リードフレームとモールド樹脂の
密着性劣化の要因を排除し、耐クラック性の改善を実現
する樹脂封止型半導体装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to improve the structure of a lead frame on which a semiconductor chip is mounted so as to eliminate the cause of deterioration in the adhesion between the lead frame and the molding resin and to prevent cracks. An object of the present invention is to provide a resin-encapsulated semiconductor device realizing improvement in performance.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
は、一方端部の所定領域それぞれで半導体チップ裏面を
支持し、かつ半導体チップ主面との電気的接続部を有す
る複数のリードと、前記複数のリードの各他方端部が繋
がり一体化されたフレームとを具備したことを特徴とす
る。
According to the present invention, there is provided a lead frame which supports a back surface of a semiconductor chip in a predetermined region at one end thereof and has a plurality of leads having an electrical connection with a main surface of the semiconductor chip. A frame in which the other ends of the plurality of leads are connected and integrated.

【0010】本発明のリードフレームを用いた半導体装
置は、主面に複数の電極が設けられた半導体チップと、
一方端部の所定領域それぞれで前記半導体チップ裏面を
支持し、かつ前記半導体チップ主面との電気的接続部を
有する複数のリードと、前記半導体チップの各電極と対
応する前記リードそれぞれの電気的接続部とを電気的に
繋ぐ接続部材と、前記接続部材及び前記半導体チップ、
及び前記複数のリードの他方端子を除いたリード部が樹
脂封止された構成とを具備したことを特徴とする。
A semiconductor device using a lead frame according to the present invention comprises: a semiconductor chip having a plurality of electrodes provided on a main surface thereof;
A plurality of leads each supporting the back surface of the semiconductor chip in a predetermined region at one end thereof and having an electrical connection portion with the main surface of the semiconductor chip; and electrically connecting each of the leads corresponding to each electrode of the semiconductor chip. A connection member for electrically connecting a connection portion, the connection member and the semiconductor chip,
And a configuration in which a lead portion of the plurality of leads excluding the other terminal is sealed with a resin.

【0011】本発明のリードフレーム及びそれを用いた
半導体装置によれば、ダイパッドを形成しない形態によ
り、モールド樹脂による封止において熱膨張係数の違い
に影響されにくく、応力緩和に寄与する半導体チップの
搭載、固着が可能となる。
According to the lead frame of the present invention and the semiconductor device using the same, since the die pad is not formed, the semiconductor chip is less affected by the difference in the coefficient of thermal expansion in the sealing with the mold resin and contributes to the stress relaxation. It can be mounted and fixed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1の実施形態
に係るリードフレームの要部構成を示す平面図である。
ダイパッドは無く、中空になっている複数のリード11
の一方端部を含む所定領域12それぞれで半導体チップ
(2点鎖線)13の裏面を支持する構成となっている。
かつリード11は半導体チップ主面との電気的接続部1
4を有している。このような複数のリードの各他方端部
は図示しないフレームに繋がっている。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a lead frame according to a first embodiment of the present invention.
Multiple leads 11 without die pad and hollow
Each of the predetermined regions 12 including one end of the semiconductor chip supports the back surface of the semiconductor chip (two-dot chain line) 13.
The lead 11 is an electrical connection 1 with the main surface of the semiconductor chip.
Four. The other ends of the leads are connected to a frame (not shown).

【0013】上記電気的接続部14には例えばAgメッ
キが施されている。リード11が半導体チップを支持す
る役割も兼ねるので、複数のリード11は半導体チップ
と接着されるための絶縁性の接着用ペーストが設けられ
る必要がある。しかし、複数のリード11のうち、半導
体チップの裏面と電気的に接続させたいリードがあれば
当然、そのリードには導電性の接着用ペーストが設けら
れることになる。
The electrical connection portion 14 is, for example, plated with Ag. Since the leads 11 also serve to support the semiconductor chip, the leads 11 need to be provided with an insulating bonding paste for bonding to the semiconductor chip. However, if there is a lead among the plurality of leads 11 that is desired to be electrically connected to the back surface of the semiconductor chip, the lead is naturally provided with a conductive adhesive paste.

【0014】上記構成によれば、ダイパッドが無い分、
軽量化されたリードフレームが実現できる。また、従来
のダイパッドを有するものでは、ダイパッド部は通常、
Agメッキが施され、エポキシ系のモノマーにアミン系
硬化剤と60〜80%のAgを含有させたペーストが設
けられて半導体チップが接着させることになる。すなわ
ち、ダイパッド部の面積が広ければそれだけ多くのAg
が用いられることに他ならない。
According to the above configuration, since there is no die pad,
A lighter lead frame can be realized. Also, in those having a conventional die pad, the die pad portion is usually
Ag plating is performed, and a paste in which an epoxy-based monomer contains an amine-based curing agent and 60 to 80% of Ag is provided, so that the semiconductor chip is bonded. That is, the larger the area of the die pad portion, the more Ag
Is used.

【0015】これに対して本発明のリードフレームで
は、ダイパッドは構成されず、複数のリード11のう
ち、半導体チップの裏面と電気的に接続させたいリード
以外は、例えばAgを含むペーストは使われないことに
なる。これにより、Agを使用する領域は減少し、リー
ドフレームコストの低減に寄与する。ここでは図1に示
すように、少なくともAgメッキが施されているのは上
記電気的接続部14だけですむ。
On the other hand, in the lead frame of the present invention, a die pad is not formed, and a paste containing, for example, Ag is used for the plurality of leads 11 except for the lead to be electrically connected to the back surface of the semiconductor chip. Will not be. This reduces the area in which Ag is used, contributing to a reduction in lead frame cost. Here, as shown in FIG. 1, at least the above-mentioned electrical connection portion 14 needs to be plated with Ag.

【0016】42アロイ系に代表されるリードフレーム
の素材は、近年、Cu系が注目されている。Cu系のリ
ードフレームは、熱放散性高速信号伝達に対して優れた
特性を持っており、高性能なパッケージ設計を容易とす
る。
In recent years, Cu-based materials have attracted attention as a material for lead frames represented by 42 alloys. A Cu-based lead frame has excellent characteristics for heat dissipation high-speed signal transmission, and facilitates high-performance package design.

【0017】しかし、Cu系のリードフレームでも熱処
理工程を経るので、その表面に酸化膜が生成される。こ
れは、半導体チップとの密着性を不安定にする要因とな
る。従来のようにダイパッド上に半導体チップを固着さ
せようとすると、結合力は弱まり、クラックや剥離を起
こす可能性が高くなる。
However, since a Cu-based lead frame also undergoes a heat treatment step, an oxide film is formed on its surface. This causes instability in adhesion to the semiconductor chip. If the semiconductor chip is fixed on the die pad as in the related art, the bonding force is weakened, and the possibility of cracking or peeling increases.

【0018】これに対して本発明のリードフレームで
は、半導体チップの搭載、固着については、複数のリー
ド11の一方端部を含む所定領域12それぞれで支持
し、半導体チップの裏面は樹脂で十分に固着されるよう
な構造である。
On the other hand, in the lead frame of the present invention, the mounting and fixing of the semiconductor chip are supported by the predetermined regions 12 including the one ends of the plurality of leads 11, respectively. The structure is such that it is fixed.

【0019】銅系のリードフレームでは、例としてC
r、Zn及びZrを添加したCu合金とする。Cr,Z
rはCuの酸化膜を安定させ、Znは母材との密着性を
向上させる働きがある。それぞれ0.05〜2.0wt
%の比率で2種類含有させる。
In a copper-based lead frame, for example, C
It is a Cu alloy to which r, Zn and Zr are added. Cr, Z
r stabilizes the oxide film of Cu, and Zn has the function of improving the adhesion to the base material. 0.05 ~ 2.0wt each
% Of two kinds.

【0020】図2は、本発明の第2の実施形態に係るリ
ードフレームの構成を示す平面図である。上記第1の実
施形態と同様にリードフレーム20にダイパッドは無
く、中空になっている複数のリード21の一方端部を含
む所定領域22それぞれで半導体チップ(2点鎖線)2
3の裏面を支持する形態となっている。かつリード21
は半導体チップ主面との電気的接続部24を有してい
る。電気的接続部24には例えばAgメッキが施されて
いる。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a lead frame according to a second embodiment of the present invention. As in the first embodiment, the semiconductor chip (two-dot chain line) 2 is provided in each of the predetermined regions 22 including one ends of the plurality of hollow leads 21 without the die pad in the lead frame 20.
3 is supported. And lead 21
Has an electrical connection 24 with the main surface of the semiconductor chip. The electrical connection part 24 is, for example, plated with Ag.

【0021】このような複数のリード21の各他方端部
はフレームに繋がっている(リードフレーム20)。2
点鎖線25の大きな枠が樹脂封止する領域を表してい
る。また、ダムバー26は、封止時の樹脂流出を防止す
るもので、最終的には排除される(打ち抜かれる)もの
である。
The other ends of the plurality of leads 21 are connected to a frame (lead frame 20). 2
The large frame of the dashed line 25 indicates the region to be sealed with resin. Further, the dam bar 26 is for preventing the resin from flowing out at the time of sealing, and is finally eliminated (punched).

【0022】上記構成では、リードフレーム20のすべ
てのリードがリード21のように一方端部の部分で半導
体チップ裏面を支持する形態にならなくてもよい。例え
ばリード21aの端部は半導体チップ裏面を支持するこ
となく、半導体チップ主面との電気的接続がなされるよ
うになっている。
In the above configuration, it is not necessary that all the leads of the lead frame 20 support the back surface of the semiconductor chip at one end like the leads 21. For example, the ends of the leads 21a are electrically connected to the main surface of the semiconductor chip without supporting the back surface of the semiconductor chip.

【0023】上記複数のリード21に関し、半導体チッ
プ裏面を支持する一方端部の所定領域22は、電気的接
続部24とは異なるレベル、つまり電気的接続部24よ
り低いレベルに位置する形態となっていてもよい。この
ような形態にすることにより、半導体チップを搭載した
とき、図示しない半導体チップ主面の電極と電気的接続
部24の配線(例えばボンディングワイヤ)が、なるべ
く水平に近く短い距離で実現される。
With respect to the plurality of leads 21, the predetermined region 22 at one end supporting the back surface of the semiconductor chip is located at a level different from that of the electrical connection portion 24, that is, at a level lower than the electrical connection portion 24. May be. By adopting such a configuration, when the semiconductor chip is mounted, the electrodes (not shown) on the main surface of the semiconductor chip and the wiring (for example, bonding wires) of the electrical connection portion 24 are realized as close to the horizontal as possible and at a short distance.

【0024】上記構成によれば、第1の実施形態と同様
の効果が得られる。すなわち、ダイパッドが無い分、軽
量化されたリードフレームが実現できる。また、Agを
使用する領域は減少し、リードフレームのコスト低減に
寄与する。
According to the above configuration, the same effects as in the first embodiment can be obtained. That is, a lead frame that is reduced in weight can be realized because there is no die pad. In addition, the area where Ag is used is reduced, which contributes to cost reduction of the lead frame.

【0025】図3は、本発明の第3の実施形態に係る半
導体装置の構成を示す断面図である。上記第1、第2の
実施形態で示すようなリードフレームを採用して半導体
チップがモールド樹脂で封止され、樹脂封止型半導体装
置を構成している。
FIG. 3 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention. A semiconductor chip is sealed with a mold resin by using a lead frame as shown in the first and second embodiments, thereby forming a resin-sealed semiconductor device.

【0026】すなわち、半導体チップ31の主面には複
数の電極パッド32が設けられている。複数のリード3
4は、一方端部の所定領域それぞれで半導体チップ31
を支持しており、半導体チップ31の裏面は接着用ペー
スト33により固着されている。各電極パッド32と対
応するリード34の電気的接続部35は例えばボンディ
ングワイヤ36で接続されている。
That is, a plurality of electrode pads 32 are provided on the main surface of the semiconductor chip 31. Multiple leads 3
4 denotes a semiconductor chip 31 in each of predetermined regions at one end.
, And the back surface of the semiconductor chip 31 is fixed by an adhesive paste 33. The electrical connection portions 35 of the leads 34 corresponding to the respective electrode pads 32 are connected by, for example, bonding wires 36.

【0027】電気的接続部35には、ここでは図示しな
いが、金属メッキ、例えばAgメッキが施されている
(図1,2の14,24参照)。モールド樹脂部材37
は、このボンディングワイヤ36、半導体チップ31及
び複数のリード34のインナリード部を封止している。
Although not shown, the electrical connection portion 35 is plated with metal, for example, Ag plating (see 14 and 24 in FIGS. 1 and 2). Mold resin member 37
Seals the inner lead portions of the bonding wire 36, the semiconductor chip 31, and the plurality of leads 34.

【0028】複数のリード34のうち、半導体チップ3
1裏面との絶縁性を保つ必要のあるリードにおいては、
半導体チップ31を固着する領域で絶縁性の接着用ペー
ストが用いられ、また、半導体チップ31裏面との導電
性を保つ必要のあるリードにおいては、半導体チップ3
1を固着する領域で導電性の接着用ペースト(例えばA
gペースト)が用いられる。
Of the plurality of leads 34, the semiconductor chip 3
1 For leads that need to maintain insulation from the back,
Insulating adhesive paste is used in a region where the semiconductor chip 31 is fixed, and in a lead that needs to maintain conductivity with the back surface of the semiconductor chip 31, the semiconductor chip 3
1 in a region where the adhesive layer 1 is fixed.
g paste) is used.

【0029】上記構成によれば、ダイパッドを形成しな
い形態、すなわち、複数のリード34における一方端部
の所定領域それぞれで半導体チップ31の裏面を支持し
固着する構成は、リードフレームとモールド樹脂の密着
性劣化の要因を排除し、耐クラック性の改善を実現す
る。
According to the configuration described above, the form in which the die pad is not formed, that is, the configuration in which the back surface of the semiconductor chip 31 is supported and fixed in each of the predetermined regions at one end of the plurality of leads 34, Eliminates the cause of deterioration of cracking properties and improves crack resistance.

【0030】すなわち、モールド樹脂による封止時に熱
膨張係数の違いに影響されにくく、応力緩和に寄与する
半導体チップの搭載、固着が可能となる。また、ダイパ
ッドを形成しない形態のため、パッケージの薄型化、小
型化に寄与する構成でもある。
That is, the semiconductor chip is hardly affected by the difference in the coefficient of thermal expansion at the time of sealing with the mold resin, and the mounting and fixing of the semiconductor chip which contributes to stress relaxation can be performed. Further, since the die pad is not formed, the configuration contributes to the reduction in thickness and size of the package.

【0031】また、複数のリード34のうち、半導体チ
ップ31の裏面と電気的に接続させたいリード以外は、
例えばAgを含むペーストは使われず、リードフレーム
のコスト低減に寄与する。
In addition, out of the plurality of leads 34, except for the leads to be electrically connected to the back surface of the semiconductor chip 31,
For example, a paste containing Ag is not used, which contributes to cost reduction of the lead frame.

【0032】図4は、本発明の第4の実施形態に係る半
導体装置の構成を示す断面図である。上記第3実施形態
と同様の個所は同一の符号を付して説明は省略する。上
記複数のリード34に関し、半導体チップ31の裏面を
支持する一方端部の所定領域41は、半導体チップ31
の主面との電気的接続部35とは異なるレベル、つまり
電気的接続部35の位置より低いレベルに位置する形態
となっている。
FIG. 4 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention. The same parts as those in the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Regarding the plurality of leads 34, a predetermined region 41 at one end supporting the back surface of the semiconductor chip 31 is
Is located at a level different from that of the electrical connection portion 35 with the main surface, that is, at a level lower than the position of the electrical connection portion 35.

【0033】上記構成により、半導体チップ31主面の
電極と電気的接続部35の配線(例えばボンディングワ
イヤ36)が、なるべく短い距離で実現される。また、
樹脂封止工程時には、半導体チップ31の主面側と裏面
側で樹脂の流動の均一化が期待できる。これにより、樹
脂の流れでボンディングワイヤが変形してショートの原
因となるワイヤ流れも防止できる。その他の構成は上記
第3実施形態と同様であり、第3の実施形態と同様な効
果が得られる。
According to the above configuration, the electrodes (for example, the bonding wires 36) between the electrodes on the main surface of the semiconductor chip 31 and the electrical connection portions 35 are realized with a distance as short as possible. Also,
In the resin sealing step, it is expected that the resin flows uniformly on the main surface side and the back surface side of the semiconductor chip 31. Accordingly, it is possible to prevent a wire flow that causes a short circuit due to deformation of the bonding wire due to the flow of the resin. Other configurations are the same as those of the third embodiment, and the same effects as those of the third embodiment can be obtained.

【0034】このように、本発明ではダイパッドを廃止
することにより、42アロイ系でも銅系のフレームで
も、熱膨張係数の違いに対し応力緩和を図り、金属(A
g)メッキはワイヤボンディング部のみとすることによ
り、コスト削減に寄与する。
As described above, in the present invention, by eliminating the die pad, the stress relaxation for the difference in the thermal expansion coefficient between the 42-alloy type and the copper-type frame can be achieved by using the metal (A).
g) Plating contributes to cost reduction by using only the wire bonding portion.

【0035】なお、上記第3、第4の実施形態では、半
導体チップ31主面の電極と電気的接続部35の配線は
ボンディングワイヤを採用したが、これに限らず、TA
Bテープのように、絶縁性のフィルム上にリード34の
ピッチに合うような導電性リードが形成された接続部材
を採用してもよい。
In the third and fourth embodiments, bonding wires are used for the electrodes on the main surface of the semiconductor chip 31 and the wires for the electrical connection portions 35. However, the present invention is not limited to this.
As in the case of the B tape, a connection member having conductive leads formed on an insulating film so as to match the pitch of the leads 34 may be employed.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ダイパッドを無くし、リードの一方端部の領域で半導体
チップを支持し固着する構成としたことにより、樹脂封
止する半導体チップとの密着性の向上、封止時のリフロ
ークラック耐性の向上が図れると共に、パッケージの薄
型化、小型化にも対応できる高信頼性のリードフレーム
及びそれを用いた半導体装置が提供できる。
As described above, according to the present invention,
By eliminating the die pad and supporting and fixing the semiconductor chip in the area of one end of the lead, it is possible to improve the adhesion to the semiconductor chip to be resin-sealed and the reflow crack resistance during the sealing. In addition, a highly reliable lead frame that can cope with thinning and miniaturization of a package and a semiconductor device using the same can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係るリードフレーム
の要部構成を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a main configuration of a lead frame according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態に係るリードフレーム
の構成を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a lead frame according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の構
成を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施形態に係る半導体装置の構
成を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view illustrating a configuration of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体パッケージの一例を示す断面図で
ある。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a conventional semiconductor package.

【図6】従来のリードフレームの一部であるダイパッド
一例を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an example of a die pad which is a part of a conventional lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,21,21a,34…リード 13,23,31…半導体チップ 14,24,35…電気的接続部 20…リードフレーム 32…電極パッド 33…接着用ペースト 36…ボンディングワイヤ 37…モールド樹脂 11, 21, 21a, 34 Lead 13, 23, 31 Semiconductor chip 14, 24, 35 Electrical connection 20 Lead frame 32 Electrode pad 33 Bonding paste 36 Bonding wire 37 Mold resin

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方端部の所定領域それぞれで半導体チ
ップ裏面を支持し、かつ半導体チップ主面との電気的接
続部を有する複数のリードと、 前記複数のリードの各他方端部が繋がり一体化されたフ
レームとを具備したことを特徴とするリードフレーム。
1. A plurality of leads each supporting a back surface of a semiconductor chip in a predetermined region at one end thereof and having an electrical connection with a main surface of the semiconductor chip, and each other end of the plurality of leads being connected and integrated. A lead frame, comprising: a lead frame.
【請求項2】 前記複数のリードに関し、前記電気的接
続部において金属メッキが施されていることを特徴とす
る請求項1記載のリードフレーム。
2. The lead frame according to claim 1, wherein the plurality of leads are plated with metal at the electrical connection part.
【請求項3】 前記複数のリードに関し、前記半導体チ
ップ裏面を支持する一方端部の所定領域は前記電気的接
続部とは異なるレベルに位置する形態となっていること
を特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a predetermined region at one end supporting the back surface of the semiconductor chip is located at a different level from the electrical connection portion. The lead frame according to 1.
【請求項4】 主面に複数の電極が設けられた半導体チ
ップと、 一方端部の所定領域それぞれで前記半導体チップ裏面を
支持し、かつ前記半導体チップ主面との電気的接続部を
有する複数のリードと、 前記半導体チップの各電極と対応する前記リードそれぞ
れの電気的接続部とを電気的に繋ぐ接続部材と、 前記接続部材及び前記半導体チップ、及び前記複数のリ
ードの他方端子を除いたリード部が樹脂封止された構成
とを具備したことを特徴とする半導体装置。
4. A semiconductor chip having a plurality of electrodes provided on a main surface thereof, and a plurality of semiconductor chips each having a predetermined region at one end supporting the back surface of the semiconductor chip and having an electrical connection with the main surface of the semiconductor chip. And a connection member for electrically connecting each electrode of the semiconductor chip and the corresponding electrical connection portion of the lead; and removing the connection member, the semiconductor chip, and the other terminal of the plurality of leads. A lead portion sealed with a resin.
【請求項5】 前記複数のリードのうち前記半導体チッ
プ裏面との絶縁性を保つリードはその前記所定領域に絶
縁性の接着用ペーストが設けられ、前記複数のリードの
うち前記半導体チップ裏面との導電性を保つリードはそ
の前記所定領域に導電性の接着用ペーストが設けられて
前記半導体チップが固着されることを特徴とする請求項
4記載の半導体装置。
5. The lead of the plurality of leads, which maintains insulation with respect to the back surface of the semiconductor chip, is provided with an insulating adhesive paste in the predetermined region, and is provided between the lead and the back surface of the semiconductor chip of the plurality of leads. 5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the lead for maintaining conductivity is provided with a conductive adhesive paste in the predetermined region and the semiconductor chip is fixed.
【請求項6】 前記複数のリードに関し、前記電気的接
続部において金属メッキが施されていることを特徴とす
る請求項4記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 4, wherein said plurality of leads are plated with metal at said electrical connection portions.
【請求項7】 主面に複数の電極が設けられた半導体チ
ップと、 前記半導体チップの各電極と接続部材を介して電気的に
接続される複数のリードと、 前記接続部材及び前記半導体チップ、及び前記複数のリ
ードの外部接続端側を除いたリード部が樹脂封止された
構成とを具備し、 前記リード部のうち所定領域それぞれで前記半導体チッ
プ裏面を支持しており、前記半導体チップ裏面との絶縁
性を保つリードは前記所定領域に絶縁性の接着用ペース
トが設けられ、前記半導体チップ裏面との導電性を保つ
リードは前記所定領域に導電性の接着用ペーストが設け
られて前記半導体チップが固着されていることを特徴と
する半導体装置。
7. A semiconductor chip having a plurality of electrodes provided on a main surface thereof; a plurality of leads electrically connected to respective electrodes of the semiconductor chip via a connecting member; the connecting member and the semiconductor chip; And a configuration in which a lead portion of the plurality of leads excluding an external connection end side is sealed with a resin. The semiconductor chip back surface is supported in a predetermined region of the lead portion, and the semiconductor chip back surface is provided. The lead for maintaining insulation with the semiconductor chip is provided with an insulating adhesive paste in the predetermined region, and the lead for maintaining conductivity with the back surface of the semiconductor chip is provided with a conductive adhesive paste in the predetermined region. A semiconductor device having a chip fixed thereto.
【請求項8】 前記複数のリードに関し、前記半導体チ
ップ裏面を支持する所定領域は前記外部接続端側とは異
なるレベルに位置する形態となっていることを特徴とす
る請求項7に記載のリードフレーム。
8. The lead according to claim 7, wherein a predetermined area for supporting the back surface of the semiconductor chip is located at a level different from that of the external connection end. flame.
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