JP2000182216A - Manufacture of magnetic head - Google Patents

Manufacture of magnetic head

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JP2000182216A
JP2000182216A JP35784298A JP35784298A JP2000182216A JP 2000182216 A JP2000182216 A JP 2000182216A JP 35784298 A JP35784298 A JP 35784298A JP 35784298 A JP35784298 A JP 35784298A JP 2000182216 A JP2000182216 A JP 2000182216A
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JP
Japan
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magnetic pole
write
upper magnetic
head
gap depth
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JP35784298A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Shirataki
博 白瀧
Keita Otsuka
慶太 大塚
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacture of the magnetic head which can obtain excellent write characteristics even when the write gap depth is varied for write characteristic improvement. SOLUTION: A write head 10 is formed by stacking a specific material on a substrate 33 and when one specific end surface of the write head 10 is polished, the apex angle θ and film thickness of the upper magnetic pole 14 of the write head 10 are measured and the write gap depth (d) from the raised substrate 14b of the upper magnetic pole 14 is compared with a value m.tanθ/2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドの製造方
法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic head.

【0002】[0002]

【背景技術】図4は、複合薄膜磁気ヘッドのうちの磁極
誘導型の薄膜磁気ヘッド(記録ヘッド)10の概略的な
説明図である。該薄膜磁気ヘッド10は磁気ディスク
(図示せず)に情報の記録を行うヘッドである。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a schematic illustration of a pole induction type thin film magnetic head (recording head) 10 of a composite thin film magnetic head. The thin-film magnetic head 10 is a head that records information on a magnetic disk (not shown).

【0003】図中11は磁気抵抗効果型薄膜ヘッド(M
Rヘッド)側の上磁気シールド層である。この上磁気シ
ールド層11は薄膜磁気ヘッド10の下部磁極を兼用す
る。この下部磁極11の上面に、順にアルミナ(Al2
3 )を介在した記録ギャップを介して熱硬化性樹脂か
らなる層間絶縁層12、薄膜コイル導体層(Cu)13
および上部磁極14を積層し、上部磁極14と下部磁極
11とで形成した記録ギャップ16によって情報の記録
を行う。
In the figure, reference numeral 11 denotes a magnetoresistive thin film head (M
The upper magnetic shield layer on the (R head) side. The upper magnetic shield layer 11 also serves as the lower magnetic pole of the thin-film magnetic head 10. On the upper surface of the lower magnetic pole 11, alumina (Al 2
An interlayer insulating layer 12 made of a thermosetting resin and a thin-film coil conductor layer (Cu) 13 through a recording gap with O 3 ) interposed
The upper magnetic pole 14 is stacked, and information is recorded by a recording gap 16 formed by the upper magnetic pole 14 and the lower magnetic pole 11.

【0004】上部磁極14の後部側は下部磁極11との
間で所定の空間を作るように湾曲され、この湾曲部内に
層間絶縁層12に囲まれた薄膜コイル層13が形成され
ている。下部磁極11、上部磁極14等はスパッタまた
は真空蒸着めっき法により形成される。
The rear side of the upper magnetic pole 14 is curved so as to form a predetermined space between the upper magnetic pole 14 and the lower magnetic pole 11, and a thin-film coil layer 13 surrounded by an interlayer insulating layer 12 is formed in the curved portion. The lower magnetic pole 11, the upper magnetic pole 14, and the like are formed by sputtering or vacuum evaporation plating.

【0005】上部磁極14先端側の、下部磁極11と平
行に対向する磁気収束部14aと、上部磁極14の湾曲
部の立ち上がり部14bとのなす角θがエイペックス
(Apex)角度であり、このエイペックス角度θが磁
気収束部14aの磁気収束に影響を与え、記録(ライ
ト)特性にも影響を与える。
[0005] The angle θ formed between the magnetic converging portion 14a on the tip side of the upper magnetic pole 14 in parallel with the lower magnetic pole 11 and the rising portion 14b of the curved portion of the upper magnetic pole 14 is an Apex angle. The apex angle θ affects the magnetic convergence of the magnetic convergence unit 14a, and also affects the recording (write) characteristics.

【0006】また磁気収束部14aの先端と立ち上がり
部14bの内側基部との間の距離dをライトギャップ深
さdといい、この距離も記録特性に影響を与える。
The distance d between the tip of the magnetic converging portion 14a and the inner base of the rising portion 14b is called a write gap depth d, and this distance also affects recording characteristics.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、MRヘッド
および薄膜磁気ヘッド10は、公知のように、非磁性基
板上にMR素子や上記下部磁極11、上部磁極14を含
む多数の層が積層して形成され、必要なMRハイトやラ
イトギャップ深さdを得るため、積層体の一端面側が研
摩される。
As is well known, the MR head and the thin-film magnetic head 10 are formed by laminating a number of layers including the MR element and the lower magnetic pole 11 and the upper magnetic pole 14 on a non-magnetic substrate. One end surface of the stacked body is polished in order to obtain the required MR height and write gap depth d.

【0008】上記のように、上部磁極14はスパッタや
真空蒸着めっき法により形成される。上部電極14をス
パッタや真空蒸着めっき法により形成するとき、磁気収
束部14aと立ち上がり部14bを含む湾曲部も下層に
対して均一な厚さで形成されていく。
As described above, the upper magnetic pole 14 is formed by sputtering or vacuum evaporation plating. When the upper electrode 14 is formed by sputtering or vacuum evaporation plating, a curved portion including the magnetic converging portion 14a and the rising portion 14b is also formed with a uniform thickness with respect to the lower layer.

【0009】すると、上部磁極14の、磁気収束部14
aと立ち上がり部14bとの、内側のコーナー部Pと外
側のコーナー部Qとの間に位置ずれ(Qが前方側にシフ
トする)が生じる。一般に上記ライトギャップ深さdを
浅く(小さく)すれば(限度はあるが)、ライト特性
(オーバーライト、ダイビット分解能、NLTS、クロ
ストークなど)が向上する。
Then, the magnetic converging portion 14 of the upper magnetic pole 14
A position shift (Q shifts forward) occurs between the inner corner portion P and the outer corner portion Q between a and the rising portion 14b. Generally, if the write gap depth d is made shallow (small) (although there is a limit), the write characteristics (overwrite, dibit resolution, NLTS, crosstalk, etc.) are improved.

【0010】しかし、ライトギャップ深さdのみに注目
すると、上記のように、積層体の一端面を研摩すると
き、上部磁極14の立ち上がり部14bに至るまで研摩
してしまうことがある(図5)。この場合には、実質的
な上部磁極14の膜厚mが初期の膜厚(点線部)よりも
大きくなり、結果的にNLTS特性やクロストーク特性
が悪化するという課題がある。
However, when focusing only on the write gap depth d, as described above, when polishing one end face of the laminated body, it may be polished up to the rising portion 14b of the upper magnetic pole 14 (FIG. 5). ). In this case, there is a problem that the substantial thickness m of the upper magnetic pole 14 becomes larger than the initial thickness (dotted line portion), and as a result, the NLTS characteristics and the crosstalk characteristics deteriorate.

【0011】そこで、本発明は上記課題を解決すべくな
されたものであり、その目的とするところは、ライト特
性向上のためにライトギャップ深さを変更しても、ねら
い通りの特性改善を得ることができ、良好なライト特性
が得られる磁気ヘッドの製造方法を提供するにある。
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and an object of the present invention is to obtain the desired characteristic improvement even if the write gap depth is changed to improve the write characteristic. It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic head that can obtain good write characteristics.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、本発明に係る磁
気ヘッドの製造方法では、基板に所定の材料を積層して
ライトヘッドを形成し、前記ライトヘッドの所定の一端
面を研摩する際、ライトヘッドの上部磁極の膜厚をm、
エイペックス角度をθとするとき、θおよびmを測定
し、前記上部磁極の立ち上がり基部からのライトギャッ
プ深さdとm・tanθ/2の値とを比較することを特
徴としている。
The present invention has the following arrangement to achieve the above object. That is, in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a predetermined material is laminated on a substrate to form a write head, and when polishing a predetermined one end surface of the write head, the thickness of the upper magnetic pole of the write head is reduced. m,
When the apex angle is θ, θ and m are measured, and the write gap depth d from the rising base of the upper magnetic pole is compared with the value of m · tan θ / 2.

【0013】これにより、ライト特性向上を目的にライ
トギャップ深さを変更しても、上部磁極層に影響を与え
ないため、ねらい通りの特性改善を図ることができる。
Thus, even if the depth of the write gap is changed for the purpose of improving the write characteristics, the upper magnetic pole layer is not affected, so that the desired characteristics can be improved.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1に複合薄膜
磁気ヘッドを使用した場合の説明図を示す。図1(a)
は切欠説明図、図1(b)は図2のX−X線断面図であ
る。図1(a)、(b)は、薄膜磁気ヘッド(記録ヘッ
ド)10とMRヘッド(再生ヘッド)10との複合薄膜
磁気ヘッド32を示す。図2はスライダ45の説明図で
ある。スライダ45にはその浮上面側にレール46、4
6が形成されている。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram when a composite thin film magnetic head is used. FIG. 1 (a)
2 is a cutaway explanatory view, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. FIGS. 1A and 1B show a composite thin-film magnetic head 32 including a thin-film magnetic head (recording head) 10 and an MR head (reproducing head) 10. FIG. 2 is an explanatory diagram of the slider 45. The slider 45 has rails 46, 4 on its floating surface side.
6 are formed.

【0015】MRヘッド30は、非磁性基板33上に形
成した長方形の磁気抵抗効果素子(MR素子)34と、
MR素子34の引出し導体層35と、上磁気シールド層
11と下磁気シールド層36で形成されている。
The MR head 30 includes a rectangular magneto-resistance effect element (MR element) 34 formed on a non-magnetic substrate 33,
It is formed of the lead conductor layer 35 of the MR element 34, the upper magnetic shield layer 11, and the lower magnetic shield layer 36.

【0016】MR素子34および引出し導体層35は、
上磁気シールド層11と下磁気シールド層36との間に
あって、非磁性絶縁層38によって電気的に絶縁されて
いる。
The MR element 34 and the lead conductor layer 35
It is located between the upper magnetic shield layer 11 and the lower magnetic shield layer 36 and is electrically insulated by the nonmagnetic insulating layer 38.

【0017】磁気ディスクに情報の記録を行う薄膜磁気
ヘッド(ライトヘッド)10は、前記したように、 M
Rヘッド30側の上磁気シールド層11を下部磁極とし
て兼用する。この下部磁極11の上面に、順にアルミナ
(Al2 3 )を介在した記録ギャップ16を介して熱
硬化性樹脂からなる層間絶縁層12、薄膜コイル導体層
(Cu)13および上部磁極14を積層し、上部磁極1
4と下部磁極11とで形成した記録ギャップ16によっ
て情報の記録を行う。
As described above, the thin-film magnetic head (write head) 10 for recording information on the magnetic disk has the following characteristics.
The upper magnetic shield layer 11 on the side of the R head 30 is also used as a lower magnetic pole. On the upper surface of the lower magnetic pole 11, an interlayer insulating layer 12, a thin-film coil conductor layer (Cu) 13, and an upper magnetic pole 14 made of a thermosetting resin are sequentially laminated via a recording gap 16 with alumina (Al 2 O 3 ) interposed therebetween. And upper magnetic pole 1
Information is recorded by the recording gap 16 formed by the magnetic pole 4 and the lower magnetic pole 11.

【0018】上部磁極14の後部側は下部磁極11との
間で所定の空間を作るように湾曲され、この湾曲部内に
層間絶縁層12に囲まれた薄膜コイル層13が形成され
ている。上部磁極14上には保護絶縁層39が形成され
る。下部磁極11、上部磁極14、保護絶縁層39等は
スパッタまたは真空蒸着めっき法により形成される。
The rear side of the upper magnetic pole 14 is curved so as to form a predetermined space between the upper magnetic pole 14 and the lower magnetic pole 11, and a thin film coil layer 13 surrounded by an interlayer insulating layer 12 is formed in the curved portion. On the upper magnetic pole 14, a protective insulating layer 39 is formed. The lower magnetic pole 11, the upper magnetic pole 14, the protective insulating layer 39, and the like are formed by sputtering or vacuum evaporation plating.

【0019】上部磁極14先端側の、下部磁極11と平
行に対向する磁気収束部14aと、上部磁極14の湾曲
部の立ち上がり部14bとのなす角θがエイペックス
(Apex)角度であり、このエイペックス角度θが磁
気収束部14aの磁気収束に影響を与え、記録(ライ
ト)特性にも影響を与える。
An angle θ formed between a magnetic converging portion 14a on the leading end side of the upper magnetic pole 14 in parallel with the lower magnetic pole 11 and a rising portion 14b of the curved portion of the upper magnetic pole 14 is an Apex angle. The apex angle θ affects the magnetic convergence of the magnetic convergence unit 14a, and also affects the recording (write) characteristics.

【0020】また磁気収束部14aの先端と立ち上がり
部14bの内側基部との間の距離dをライトギャップ深
さdといい、この距離も記録特性に影響を与える。
The distance d between the tip of the magnetic converging portion 14a and the inner base of the rising portion 14b is called a write gap depth d, and this distance also affects recording characteristics.

【0021】前記したように、上部磁極14の、磁気収
束部14aと立ち上がり部14bとの、内側のコーナー
部Pと外側のコーナー部Qとの間に位置ずれ(Qが前方
側にシフトする)が生じる。このコーナー部Pとコーナ
ー部Qとの間の位置ずれ距離(以下変移寸法という)を
L、上部磁極14の膜厚をmとすると次の関係式が成り
立つ。
As described above, the positional deviation between the inner corner portion P and the outer corner portion Q of the magnetic converging portion 14a and the rising portion 14b of the upper magnetic pole 14 (Q shifts forward). Occurs. Assuming that the displacement distance between the corner portion P and the corner portion Q (hereinafter referred to as a displacement dimension) is L and the film thickness of the upper magnetic pole 14 is m, the following relational expression is established.

【0022】L=m・tanθ/2 すなわち、変移寸法Lは、上部磁極14の膜厚mとエイ
ペックス角度θに比例する。積層体を研摩し、必要なM
Rハイトやライトギャップ深さdを得るのであるが、上
部磁極14の立ち上がり部14bに至るまで研摩すると
上部磁極14の実質的な膜厚が増加するから、ライトギ
ャップ深さdが変移寸法Lよりも大きい位置で研摩を終
了させる必要がる。
L = m · tan θ / 2 That is, the displacement dimension L is proportional to the thickness m of the upper magnetic pole 14 and the apex angle θ. Polish the laminate, and
Although the R height and the write gap depth d are obtained, when the polishing is performed up to the rising portion 14b of the upper magnetic pole 14, the substantial thickness of the upper magnetic pole 14 increases. It is necessary to end polishing at a large position.

【0023】従来、研摩の終点は、研摩量(深さ)のみ
を問題にしていた。そのために、例えば、上部磁極14
の膜厚mが増加しているのにも拘わらず、研摩量を常に
同じにした結果、上部磁極14の立ち上がり部14bに
至るまで研摩してしまうなどという不具合があった。
Conventionally, the end point of polishing has been concerned only with the polishing amount (depth). For this purpose, for example, the upper magnetic pole 14
In spite of the fact that the amount of polishing was always the same despite the increase in the film thickness m, there was a problem that polishing was performed up to the rising portion 14b of the upper magnetic pole 14.

【0024】本発明では、必要なライトギャップ深さd
を得る場合、上部磁極14の膜厚mもしくはエイペック
ス角度θ、またはこれらの双方を管理し、必要な範囲に
変移寸法Lが治まるようにする。そしてライトギャップ
深さdがm・tanθ/2で求まる変移寸法Lより大き
くなるように積層体を研摩するのである。
In the present invention, the required write gap depth d
Is obtained, the thickness m of the upper magnetic pole 14 and / or the apex angle θ are controlled so that the displacement dimension L falls within a necessary range. Then, the stacked body is polished so that the write gap depth d is larger than the displacement dimension L obtained by m · tan θ / 2.

【0025】あるいは、ライト特性の向上のためにライ
トギャップ深さdを変更する場合、このライトギャップ
深さdが変移寸法Lより大きくなるように、上記関係式
に基づいて、上部磁極14の膜厚mもしくはエイペック
ス角度θ、またはこれらの双方を変更するのである。
Alternatively, when the write gap depth d is changed to improve the write characteristics, the film thickness of the upper magnetic pole 14 is determined based on the above relational expression so that the write gap depth d becomes larger than the transition dimension L. It changes the thickness m or the apex angle θ, or both.

【0026】上部磁極14の膜厚mの管理あるいは変更
は、スパッタ時間や真空蒸着めっき時間の条件設定を厳
密に管理したり、あるいは変更すればよい。例えば、d
やθが固定値の場合、膜厚mをd(tanθ/2)-1
する時間Tmax を求め、成膜時間とTmax とを比較し、
Tmax に達するまでに成膜を停止する。エイペックス角
度θの設定は次のようにする。すなわち、図3に示すよ
うに、上部磁極14は層間絶縁層12上に形成されるの
で、この層間絶縁層12の先端側の傾斜角θがそのまま
エイペックス角度θとなる。
The thickness m of the upper magnetic pole 14 can be controlled or changed by strictly controlling or changing the conditions of the sputtering time and the vacuum deposition time. For example, d
When θ and θ are fixed values, a time Tmax for setting the film thickness m to d (tan θ / 2) −1 is obtained, and the film formation time is compared with Tmax.
The film formation is stopped until Tmax is reached. The setting of the apex angle θ is as follows. That is, as shown in FIG. 3, since the upper magnetic pole 14 is formed on the interlayer insulating layer 12, the inclination angle θ on the tip side of the interlayer insulating layer 12 becomes the apex angle θ as it is.

【0027】層間絶縁層12は、樹脂を単層あるいは多
層に積層して形成される。この層間絶縁層12の先端側
の傾斜角θは、積層する樹脂の粘度に影響される。樹脂
の粘度が高いとダレが小さいのでθは大きくなり、粘度
が低いとダレが大きくなるのでθが小さくなる。また傾
斜角θは、下層の樹脂に対する上層の樹脂の積層位置に
も関係する。図3上、上層の樹脂を下層の樹脂に対して
右方にずらせば傾斜角θは小さくなる。このようにし
て、エイペックス角度θを設定できる。例えば、dとm
が固定値ならば、θを2tan-1d/mより小さくす
る。
The interlayer insulating layer 12 is formed by laminating a resin in a single layer or a multilayer. The inclination angle θ on the tip side of the interlayer insulating layer 12 is affected by the viscosity of the laminated resin. If the viscosity of the resin is high, the sag is small, so θ becomes large. The inclination angle θ is also related to the lamination position of the upper resin with respect to the lower resin. In FIG. 3, if the upper resin is shifted to the right with respect to the lower resin, the inclination angle θ becomes smaller. In this manner, the apex angle θ can be set. For example, d and m
Is smaller than 2 tan -1 d / m.

【0028】因みに、エイペックス角度θ;35°、上
部磁極膜厚m;3.5μmのときの変移寸法Lは1.1
μmとなり、ライトギャップ深さdは1.1μm以上に
する必要がある。ライト特性向上のために、ライトギャ
ップ深さdを0.7μmにしたい場合には、エイペック
ス角度θ;35°、上部磁極膜厚m;2.2μmにする
設計変更、あるいはエイペックス角度θ;22.6°、
上部磁極膜厚m;3.5μm等に変更が可能となる。
Incidentally, when the apex angle θ is 35 ° and the upper magnetic pole film thickness m is 3.5 μm, the displacement dimension L is 1.1.
μm, and the write gap depth d needs to be 1.1 μm or more. If the write gap depth d should be 0.7 μm in order to improve the write characteristics, the apex angle θ: 35 °, the thickness of the upper magnetic pole m: 2.2 μm, or a design change or the apex angle θ: 22.6 °,
The upper magnetic pole film thickness m can be changed to 3.5 μm or the like.

【0029】以上のように、必要なライトギャップ深さ
dを得る場合、上部磁極14の膜厚mもしくはエイペッ
クス角度θ、またはこれらの双方を管理し、必要な範囲
に変移寸法Lが治まるようにする。そしてライトギャッ
プ深さdが変移寸法Lより大きくなるように積層体を研
摩する。これにより良好なライト特性(オーバーライ
ト、ダイビット分解能、NLTS、クロストークなど)
が得られる。
As described above, when obtaining the required write gap depth d, the thickness m of the upper magnetic pole 14 and / or the apex angle θ are controlled so that the displacement dimension L falls within the required range. To Then, the laminate is polished so that the write gap depth d is larger than the displacement dimension L. Good write characteristics (overwrite, dibit resolution, NLTS, crosstalk, etc.)
Is obtained.

【0030】あるいは、ライト特性の向上のためにライ
トギャップ深さdを変更する場合、このライトギャップ
深さdが変移寸法Lより大きくなるように、上記関係式
に基づいて、上部磁極14の膜厚mもしくはエイペック
ス角度θ、またはこれらの双方を変更するように設計す
るのである。これにより、ライト特性向上を目的にライ
トギャップ深さを変更しても、上部磁極層に影響を与え
ないため、ねらい通りの特性改善を図ることができる。
Alternatively, when the write gap depth d is changed in order to improve the write characteristics, the film thickness of the upper magnetic pole 14 is determined based on the above relational expression so that the write gap depth d is larger than the transition dimension L. It is designed to change the thickness m or the apex angle θ, or both. Thus, even if the write gap depth is changed for the purpose of improving the write characteristics, the upper magnetic pole layer is not affected, so that the desired characteristics can be improved.

【0031】以上本発明につき好適な実施例を挙げて種
々説明したが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を
施し得るのはもちろんである。
Although the present invention has been described in detail with reference to the preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and it is possible to make various modifications without departing from the spirit of the invention. Of course.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法によ
れば、上述したように、ライト特性向上を目的にライト
ギャップ深さを変更しても、上部磁極層に影響を与えな
いため、ねらい通りの特性改善を図ることができる。
According to the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, as described above, even if the write gap depth is changed for the purpose of improving the write characteristics, the change does not affect the upper magnetic pole layer. The characteristics can be improved as follows.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)、(b)は複合薄膜磁気ヘッドの説
明図、
FIGS. 1A and 1B are explanatory views of a composite thin-film magnetic head,

【図2】スライダの説明図、FIG. 2 is an explanatory view of a slider,

【図3】層間絶縁層の状況を示す説明図、FIG. 3 is an explanatory view showing the state of an interlayer insulating layer;

【図4】薄膜磁気ヘッドの部分説明図、FIG. 4 is a partial explanatory view of a thin-film magnetic head;

【図5】上部磁極の立ち上がり部に至るまで研摩された
状態を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a state in which polishing is performed up to a rising portion of an upper magnetic pole.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 薄膜磁気ヘッド 11 下部磁極(上磁気シールド層) 12 層間絶縁層 13 薄膜コイル導体層 14 上部磁極 16 ライトギャップ 30 MRヘッド 32 複合薄膜磁気ヘッド 33 非磁性基板 34 MR素子 35 引出し導体層 36 下磁気シールド層 38 非磁性絶縁層 45 スライダ Reference Signs List 10 thin-film magnetic head 11 lower magnetic pole (upper magnetic shield layer) 12 interlayer insulating layer 13 thin-film coil conductor layer 14 upper magnetic pole 16 write gap 30 MR head 32 composite thin-film magnetic head 33 nonmagnetic substrate 34 MR element 35 lead conductor layer 36 lower magnetism Shield layer 38 Non-magnetic insulating layer 45 Slider

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板に所定の材料を積層してライトヘッ
ドを形成し、 前記ライトヘッドの所定の一端面を研摩する際、ライト
ヘッドの上部磁極の膜厚をm、エイペックス角度をθと
するとき、θおよびmを測定し、前記上部磁極の立ち上
がり基部からのライトギャップ深さdとm・tanθ/
2の値とを比較することを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法。
A write head is formed by laminating a predetermined material on a substrate. When polishing a predetermined one end face of the write head, the thickness of the upper magnetic pole of the write head is m, and the apex angle is θ. Then, θ and m are measured, and the write gap depth d from the rising base of the upper magnetic pole and m · tan θ /
2. A method for manufacturing a magnetic head, comprising:
JP35784298A 1998-12-16 1998-12-16 Manufacture of magnetic head Withdrawn JP2000182216A (en)

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