JP3222081B2 - Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same - Google Patents

Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP3222081B2
JP3222081B2 JP05867397A JP5867397A JP3222081B2 JP 3222081 B2 JP3222081 B2 JP 3222081B2 JP 05867397 A JP05867397 A JP 05867397A JP 5867397 A JP5867397 A JP 5867397A JP 3222081 B2 JP3222081 B2 JP 3222081B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
recording
head
magnetic pole
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP05867397A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH09305930A (en
Inventor
博明 與田
昭男 堀
通子 大久保
直行 井上
裕一 大沢
進 橋本
則雄 小沢
武男 坂久保
輝夫 佐粧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP05867397A priority Critical patent/JP3222081B2/en
Publication of JPH09305930A publication Critical patent/JPH09305930A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3222081B2 publication Critical patent/JP3222081B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等に用いられる磁気記録再生ヘッド及びその製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording / reproducing head used for a magnetic disk drive and the like and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化が進み、VT
Rでは500Mb/inch2 、HDDでは 200Mb/inch 2 という
高記録密度システムが実用化されており、これらのシス
テムでは主に誘導型の磁気ヘッドが用いられてきた。し
かし、情報処理の高度化や高速化に対する要望はさらに
強まっており、磁気記録システムにはより一層高記録密
度化を達成することが望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, the density of magnetic recording has been increased, and VT
High density recording system that 500 Mb / inch 2, the HDD 200 Mb / inch 2 in R have been put into practical use, mainly inductive type magnetic head has been used in these systems. However, there is a growing demand for higher information processing and higher speed, and it is desired that magnetic recording systems achieve higher recording densities.

【0003】一方、ある種の磁性薄膜や磁性多層薄膜等
の電気抵抗が外部磁界によって変化するという、磁気抵
抗効果を利用した再生ヘッドが知られている。この磁気
抵抗効果を利用した磁気ヘッド(以下、MRヘッドと記
す。)は、ヘッドと記録媒体との相対速度が遅いシステ
ムでも高出力が得られることから、高記録密度システム
における再生ヘッドとして注目されている。
On the other hand, there is known a reproducing head utilizing the magnetoresistance effect, in which the electric resistance of a certain kind of magnetic thin film or magnetic multilayer thin film is changed by an external magnetic field. A magnetic head utilizing the magnetoresistive effect (hereinafter referred to as an MR head) has attracted attention as a reproducing head in a high recording density system since a high output can be obtained even in a system in which the relative speed between the head and the recording medium is low. ing.

【0004】そこで、磁気抵抗効果膜(MR膜)の上下
に磁気シールド層を配置したシールド型MRヘッドから
なる再生ヘッドと、誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッ
ドとを組合せた磁気記録再生ヘッドが、今後の高記録密
度対応システムとして期待されている。シールド型MR
ヘッドと誘導型磁気ヘッドとを組み合わせて使用する場
合、通常、基板上にシールド型MRヘッドを形成し、そ
の上に誘導型磁気ヘッドを積層形成することが一般的で
ある。
Therefore, a magnetic recording / reproducing head combining a reproducing head composed of a shield type MR head having magnetic shield layers disposed above and below a magnetoresistive film (MR film) and a recording head composed of an inductive magnetic head, It is expected as a high recording density compatible system in the future. Shield type MR
When a head and an inductive magnetic head are used in combination, it is general that a shield type MR head is formed on a substrate, and an inductive magnetic head is formed on the MR head.

【0005】図13(a)乃至図13(d)は、従来の
シールド型MRヘッドからなる再生ヘッドと誘導型磁気
ヘッドからなる記録ヘッドとを積層形成した磁気記録再
生ヘッドの製造工程を示す図である。同図に従って、従
来の磁気記録再生ヘッドの製造方法について説明する。
FIGS. 13 (a) to 13 (d) are views showing a manufacturing process of a magnetic recording / reproducing head in which a reproducing head composed of a conventional shield type MR head and a recording head composed of an inductive magnetic head are laminated. It is. A method of manufacturing a conventional magnetic recording / reproducing head will be described with reference to FIG.

【0006】すなわち、まず図示を省略したAl23
付きAl23 ・TiC基板1等の上に、軟磁性膜を成
膜した後にパターニングし、下側シールド層2を形成す
る。次いで、下側シールド層2上に、Al23 膜等か
らなる下側再生磁気ギャップ膜3を介して、異方性磁気
抵抗効果膜やスピンバルブ膜等からなるMR膜4を形成
する。このMR膜4を所定形状にパターニングした後、
その両端にCu等からなる一対のリ−ド5を形成して、
MR素子を作製する(図13(a))。
That is, first, Al 2 O 3 not shown is omitted.
A soft magnetic film is formed on an Al 2 O 3 .TiC substrate 1 and the like, and then patterned to form a lower shield layer 2. Next, an MR film 4 made of an anisotropic magnetoresistive film or a spin valve film is formed on the lower shield layer 2 via a lower reproducing magnetic gap film 3 made of an Al 2 O 3 film or the like. After patterning this MR film 4 into a predetermined shape,
A pair of leads 5 made of Cu or the like are formed at both ends thereof,
An MR element is manufactured (FIG. 13A).

【0007】次いで、Al23 膜等からなる上側再生
磁気ギャップ膜6を介して軟磁性膜を成膜した後にパタ
ーニングして、記録ヘッドの下側磁極を兼ねる上側シー
ルド層7を作製する。このようにして、再生ヘッドとな
るシールド型MRヘッド8が形成される(図13
(b))。
Next, a soft magnetic film is formed via an upper reproducing magnetic gap film 6 made of an Al 2 O 3 film or the like, and then patterned to form an upper shield layer 7 also serving as a lower magnetic pole of a recording head. In this way, the shield type MR head 8 serving as the reproducing head is formed.
(B)).

【0008】このパターニングした下側磁極兼上側シー
ルド層7上にAl23 膜等からなる記録磁気ギャップ
膜9を形成した後、平面型コイルからなる記録コイル1
0をレジストを用いためっき工程で作製すると同時に、
MR素子からの引き出し電極11をリ−ド5に接続する
ように形成する(図13(c))。
After forming a recording magnetic gap film 9 made of an Al 2 O 3 film or the like on the patterned lower magnetic pole / upper shield layer 7, the recording coil 1 made of a planar coil is formed.
0 in a plating process using a resist,
An extraction electrode 11 from the MR element is formed so as to be connected to the lead 5 (FIG. 13C).

【0009】この後、記録コイル10を絶縁層12で覆
い、その上に軟磁性膜を成膜した後にパターニングして
上側磁極13を形成する(図13(d))。このように
して、記録ヘッドとなる誘導型磁気ヘッド14を形成す
ることによって、磁気記録再生ヘッド15が完成する。
Thereafter, the recording coil 10 is covered with an insulating layer 12, a soft magnetic film is formed thereon, and then patterned to form an upper magnetic pole 13 (FIG. 13D). Thus, the magnetic recording / reproducing head 15 is completed by forming the inductive magnetic head 14 serving as the recording head.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の磁気記録再生ヘッド15の製造方法では、記録コイ
ル10を形成する前に、下側磁極兼上側シールド層7を
パターニングしていることから、少なくとも下側磁極兼
上側シールド層7の厚さ分の 3〜 4μm の段差が存在し
ている為、記録コイル10の形成精度が低下するという
問題がある。すなわち、上記した下側磁極兼上側シール
ド層7の厚さ分の段差は、記録コイル10をパターニン
グする際のレジストの厚膜化、厚さの不均一性等をもた
らし、PEP交差によって、高記録密度化への対応を図
るために多数回巻回した微細形状の記録コイル10を形
成する際に微細かつ高精細なレジストパターンを形成す
ることは困難である。従って、記録コイル10の製造歩
留りの低下を招くことが予想される。
In the above-described method of manufacturing the conventional magnetic recording / reproducing head 15, the lower magnetic pole and upper shield layer 7 is patterned before the recording coil 10 is formed. Since there is at least a step of 3 to 4 μm corresponding to the thickness of the lower magnetic pole and upper shield layer 7, there is a problem that the formation accuracy of the recording coil 10 is reduced. In other words, the step corresponding to the thickness of the lower magnetic pole and upper shield layer 7 causes a thicker resist film and non-uniformity of the thickness when patterning the recording coil 10, and the high recording due to the PEP intersection. It is difficult to form a fine and high-definition resist pattern when forming the recording coil 10 having a fine shape wound many times in order to cope with the increase in density. Therefore, it is expected that the production yield of the recording coil 10 will be reduced.

【0011】さらに、上側磁極13の形成にあたって
は、記録コイル段差 3〜 5μm 、及び下側磁極兼上側シ
ールド層7の厚さ分の 3〜 4μm の段差に加えて、予め
パターニングされている下側シールド層2の厚さも影響
するため、合せて10〜15μm の段差を有する部分に上側
磁極13を形成することになる。このような状況では、
上述の記録コイルと同様に、上側磁極13の媒体に望む
先端部により規定される記録トラック幅の精度を確保す
ることは難しい。特に、3Gbpsi程度以上の高記録
密度を達成するために狭トラック化しても、十分な精度
は得難くなると予想される。
Further, in forming the upper magnetic pole 13, in addition to the step of 3-5 μm of the recording coil and the thickness of 3-4 μm corresponding to the thickness of the lower magnetic pole and upper shield layer 7, the lower side which has been patterned in advance is used. Since the thickness of the shield layer 2 also has an effect, the upper magnetic pole 13 is formed in a portion having a step of 10 to 15 μm in total. In such a situation,
As with the above-described recording coil, it is difficult to ensure the accuracy of the recording track width defined by the tip of the medium of the upper magnetic pole 13 desired. In particular, even if the track is narrowed to achieve a high recording density of about 3 Gbpsi or more, it is expected that sufficient accuracy will not be obtained.

【0012】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、再生ヘッドと記録ヘッドの複数のヘ
ッドを積層してなる磁気記録再生ヘッドにおいて、上側
に位置する磁気再生ヘッド、または磁気記録ヘッドのト
ラック幅の精度を向上させた薄膜型の磁気記録再生ヘッ
ドを提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to address such a problem, and in a magnetic recording / reproducing head in which a plurality of reproducing heads and recording heads are stacked, a magnetic reproducing head positioned above or An object of the present invention is to provide a thin-film magnetic recording / reproducing head in which the accuracy of the track width of the magnetic recording head is improved.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録再生ヘ
ッドは、請求項1に記載したように、 (1)積層形成された磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッド
とを有する磁気記録再生ヘッドにおいて、前記磁気再生
ヘッドと磁気記録ヘッドのうち、上層に形成された磁気
ヘッドには、その下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴が
上層の磁気ヘッドを構成する導電体の一部を貫通して設
けられていることを特徴とする。本発明の磁気記録再生
ヘッドは、より具体的には請求項2に記載したように、 (2) 前記上層に形成された磁気ヘッドは記録ヘッド
であり、前記下層の磁気ヘッドは磁気抵抗効果膜、及び
この磁気抵抗効果膜に接続するリードが備えられた再生
ヘッドであり、前記電極引き出し穴には前記再生ヘッド
の引き出し電極が形成されていることを特徴とする。さ
らに好ましくは、 (2―1)再生ヘッドは下側シールド層と、この下側シ
ールド層上に下層の再生磁気ギャップを介して形成され
た磁気抵抗効果膜と、この磁気抵抗効果膜に接続するリ
ードと、磁気抵抗効果膜上に上側再生磁気ギャップを介
して形成された上側シールド層とを備え、記録ヘッドは
上側シールド層と共通の磁性体層からなる下側磁極と、
この下側磁極層上に形成された記録磁気ギャップと、媒
体に対向する先端部において記録磁気ギャップを介して
下側磁極と対向する上側磁極と、下側磁極及び上側磁極
に信号磁界を供給する磁気コイルとを備えることを特徴
とする。 (2―2)上側磁極及び下側磁極のうち少なくとも一の
磁極は媒体対向面に近接する先端部と、この先端部と接
続し、媒体対向面と平行な方向の幅が先端部よりも広い
後端部とからなることを特徴とする。 (2―2―1)上側磁極の後部は前記先端部よりも媒体
対向面から後方に形成されていることを特徴とする。 (2―2―2)先端部は前記記録コイルを覆う絶縁層よ
りも媒体対向面に近く形成されていることを特徴とす
る。 (2―2―3)電極引き出し穴は前記磁極先端部よりも
媒体対向面から後方に形成されていることを特徴とす
る。 (1−1)上層に形成された磁気ヘッドは磁気抵抗効果
素子を備える再生ヘッドであり、下層の磁気ヘッドは記
録ヘッドであり、電極引き出し穴には記録ヘッドの記録
コイルに接続する電極が形成されていることを特徴とす
る。 (1―2)前記記録ヘッドは媒体対向面に近接する先端
部において記録磁気ギャップを介して対向する下側磁極
及び上側磁極と、この下側及び上側磁極に信号磁界を与
える記録コイルとを備え、再生ヘッドは上側磁極と共通
の磁性体層からなる下側シールド層と、この下側シール
ド層上に下側再生磁気ギャップを介して形成された磁気
抵抗効果膜と、この磁気抵抗効果膜に接続するリード
と、磁気抵抗効果膜上に上側再生磁気ギャップを介して
形成された上側シールド層とを備えることを特徴とす
る。 (1−3)電極引き出し穴は磁気抵抗効果素子よりも媒
体対向面から後方に形成されていることを特徴とする。 (1−4)下層の磁気ヘッドは他の領域よりも微細なパ
ターンからなる領域を備え、電極引き出し穴は他の領域
に設けられていることを特徴とする。 (1―5)上層の磁気ヘッドは、媒体対向面に近接する
領域に幅が1 μm以下のパターンを備えることを特徴と
する。又、本発明の磁気記録再生ヘッドの製造方法は、 (3)磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドを積層形成する
工程と、磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドのうち、その
下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴を上層に形成した磁
気ヘッドを構成する導電体の一部を貫通するように形成
する工程と、電極引き出し穴の内壁に絶縁膜を形成する
工程と、内壁に前記絶縁膜が形成された電極引き出し穴
に下層に形成された磁気ヘッドの引き出し電極を形成す
る工程とを具備することを特徴とする。又、本発明の磁
気記録再生ヘッドの製造方法はより具体的には、 (4)下側シールド層と、前記下側シールド層上に下側
再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリー
ドを有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側
再生磁気ギャップを介して形成した上側シールド層とを
有する再生ヘッドを形成する工程と、上側シールド層と
共通の磁性体層により構成された下側磁極と、下側磁極
上に形成された記録磁気ギャップと、記録磁気ギャップ
膜上に形成され、た記録コイルと、少なくとも先端部が
記録磁気ギャップ上に形成され、かつ記録コイルの一部
を覆うように設けた上側磁極とを有する記録ヘッドとを
形成する工程とを具備し、記録コイルを形成した後に、
上側シールド層及び下側磁極に共通の磁性体層を加工し
て、電極引き出し穴を形成することを特徴とする。 (4―1)少なくとも記録コイルを形成した後に、下側
シールド層を加工してパターニングすることを特徴とす
る。 (5)下側シールド層と、下側シールド層上に下側再生
磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリードを
有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側再生
磁気ギャップ膜を介して形成された上側シールド層とを
有する再生ヘッドと、上側シールド層と共通の磁性体層
により構成された下側磁極と、下側磁極上に形成された
記録磁気ギャップ膜と、記録磁気ギャップ膜の上側に形
成された記録コイルと、少なくとも先端部が記録磁気ギ
ャップ膜上に形成され、かつ前記記録コイルの一部を覆
うように設けられた上側磁極とを有する記録ヘッドとを
具備する磁気記録再生ヘッドを製造するにあたり、少な
くとも前記記録ギャップ膜を形成した後に、上側シール
ド層及び下側磁極共通の磁性体層に電極引き出し穴を形
成し、少なくとも前記記録コイルを形成した後に、電極
取出し穴を介して磁気抵抗効果膜のリードを引出すこと
を特徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法を提供す
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a magnetic recording / reproducing head having a laminated magnetic reproducing head and a magnetic recording head. Of the magnetic reproducing head and the magnetic recording head, the magnetic head formed in the upper layer is provided with an electrode lead hole of the lower magnetic head through a part of the conductor constituting the upper magnetic head. It is characterized by being. More specifically, in the magnetic recording / reproducing head of the present invention, the magnetic head formed in the upper layer is a recording head, and the magnetic head in the lower layer is a magnetoresistive film. And a read head provided with a lead connected to the magnetoresistive film, wherein a lead electrode of the read head is formed in the electrode lead hole. More preferably, (2-1) the reproducing head is connected to the lower shield layer, a magnetoresistive film formed on the lower shield layer via a lower reproducing magnetic gap, and the magnetoresistive film. A read, an upper shield layer formed on the magnetoresistive film via an upper read magnetic gap, and the write head includes a lower magnetic pole made of a common magnetic layer with the upper shield layer;
A signal magnetic field is supplied to the recording magnetic gap formed on the lower magnetic pole layer, the upper magnetic pole facing the lower magnetic pole via the recording magnetic gap at the front end facing the medium, and the lower magnetic pole and the upper magnetic pole. And a magnetic coil. (2-2) At least one magnetic pole of the upper magnetic pole and the lower magnetic pole is connected to the front end portion close to the medium facing surface, and has a wider width in a direction parallel to the medium facing surface than the front end portion. And a rear end. (2-2-1) The rear portion of the upper magnetic pole is formed rearward from the medium facing surface with respect to the front end portion. (2-2-2) The tip portion is formed closer to the medium facing surface than the insulating layer covering the recording coil. (2-2-3-3) The electrode lead-out hole is formed behind the front end of the magnetic pole from the medium facing surface. (1-1) The magnetic head formed in the upper layer is a reproducing head having a magnetoresistive element, the magnetic head in the lower layer is a recording head, and an electrode to be connected to a recording coil of the recording head is formed in an electrode lead hole. It is characterized by having been done. (1-2) The recording head includes a lower magnetic pole and an upper magnetic pole facing each other via a recording magnetic gap at a front end portion close to a medium facing surface, and a recording coil for applying a signal magnetic field to the lower and upper magnetic poles. The read head has a lower shield layer made of a magnetic layer common to the upper magnetic pole, a magnetoresistive effect film formed on the lower shield layer via a lower read magnetic gap, and a magnetoresistive film. It is characterized by comprising a lead to be connected and an upper shield layer formed on the magnetoresistive effect film via an upper reproducing magnetic gap. (1-3) The electrode lead-out hole is formed behind the magnetoresistive effect element from the medium facing surface. (1-4) The magnetic head of the lower layer is provided with a region having a finer pattern than the other region, and the electrode lead hole is provided in the other region. (1-5) The upper magnetic head is characterized in that a pattern having a width of 1 μm or less is provided in a region close to the medium facing surface. The method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head according to the present invention includes: (3) a step of laminating and forming a magnetic reproducing head and a magnetic recording head; and, among the magnetic reproducing head and the magnetic recording head, an electrode lead hole of a lower magnetic head. Forming a part of a conductor constituting a magnetic head having an upper layer formed thereon, a step of forming an insulating film on an inner wall of an electrode drawing hole, and forming an electrode drawing having the insulating film formed on the inner wall. Forming a lead electrode of a magnetic head formed in a lower layer in the hole. More specifically, the method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head according to the present invention includes: (4) a lower shield layer, a pair of a lower shield layer formed on the lower shield layer via a lower read magnetic gap film, A step of forming a read head having a magnetoresistive film having leads and an upper shield layer formed on the magnetoresistive film via an upper read magnetic gap; and a step of forming a magnetic layer common to the upper shield layer. A lower magnetic pole, a recording magnetic gap formed on the lower magnetic pole, a recording coil formed on the recording magnetic gap film, and at least a tip portion formed on the recording magnetic gap, and one of the recording coils. And forming a recording head having an upper magnetic pole provided to cover the portion, after forming a recording coil,
An electrode lead-out hole is formed by processing a magnetic layer common to the upper shield layer and the lower magnetic pole. (4-1) At least after forming the recording coil, the lower shield layer is processed and patterned. (5) a lower shield layer, a magnetoresistive film formed on the lower shield layer via a lower reproducing magnetic gap film and having a pair of leads, and an upper reproducing magnetic gap film on the magnetoresistive effect film A read head having an upper shield layer formed through a lower magnetic pole, a lower magnetic pole formed of a magnetic layer common to the upper shield layer, a recording magnetic gap film formed on the lower magnetic pole, The recording head includes a recording coil formed above the gap film and an upper magnetic pole having at least a tip portion formed on the recording magnetic gap film and provided so as to cover a part of the recording coil. In manufacturing a magnetic recording / reproducing head, after forming at least the recording gap film, an electrode lead-out hole is formed in the upper shield layer and the magnetic layer common to the lower magnetic pole, and at least After forming the serial recording coil, to provide a method of manufacturing a magnetic recording reproducing head, characterized in that to draw the lead of the magnetoresistive effect film through the electrode extraction holes.

【0014】又、本発明の磁気記録再生ヘッドの製造方
法はより具体的には、 (6)下側シールド層と、下側シールド層上に下側再生
磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリードを
有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側再生
磁気ギャップを介して形成した上側シールド層とを有す
る再生ヘッドを形成する工程と、前記下側シールド層と
共通の磁性体層により構成された上側磁極と、記録磁気
ギャップを介して上側磁極と対向する下側磁極と、上側
磁極及び下側磁極に電流磁界を与える記録コイルとを有
する記録ヘッドを形成する工程とを具備し、前記リー
ド、又は前記磁気抵抗効果膜を形成した後に、下側シー
ルド層及び上側磁極に共通の磁性体層を貫通する電極引
き出し穴を形成することを特徴とする。
More specifically, the method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head of the present invention comprises: (6) a lower shield layer; and a lower magnetic layer formed on the lower shield layer via a lower magnetic gap gap film; Forming a read head having a magnetoresistive film having a pair of leads, and an upper shield layer formed on the magnetoresistive film via an upper read magnetic gap; and a magnetic material common to the lower shield layer. Forming a recording head having an upper magnetic pole composed of layers, a lower magnetic pole facing the upper magnetic pole via a recording magnetic gap, and a recording coil for applying a current magnetic field to the upper magnetic pole and the lower magnetic pole. Then, after the lead or the magnetoresistive film is formed, an electrode lead hole penetrating a magnetic layer common to the lower shield layer and the upper magnetic pole is formed.

【0015】本発明の磁気記録再生ヘッドによれば、上
側に位置する例えば記録ヘッドに、下側に位置する例え
ば再生ヘッドの電極を引出す電極引き出し穴が設けられ
ているため、記録ヘッドの記録コイルや上側磁極、特に
記録媒体に対向する磁極先端部のように、微細加工が必
要とされる部分に高精度かつ微細な記録または再生トラ
ック幅を備えることが可能となる。その結果、3Gbp
si以上の高記録密度化に対応することが可能となる。
According to the magnetic recording / reproducing head of the present invention, the upper electrode, for example, the recording head is provided with the electrode lead-out hole for extracting the lower electrode, for example, the electrode of the reproducing head. It is possible to provide a high-precision and fine recording or reproducing track width in a portion where fine processing is required, such as a magnetic pole and an upper magnetic pole, particularly a magnetic pole tip facing a recording medium. As a result, 3Gbp
It is possible to cope with a higher recording density than si.

【0016】また、本発明の第1の磁気記録再生ヘッド
の製造方法においては、予め記録コイル等を形成した後
に、上側シールド層及び下側磁極共通の磁性体層を加工
して、磁気抵抗効果膜のリードを引出しているため、記
録コイル等は平坦な面上に形成することができる。これ
によって、記録コイル等のPEP工程等による形成精度
が向上し、その結果高記録密度化に対応した微細な記録
コイルや上側磁極を高精度に形成することができる。さ
らに、下側シールド層も記録コイル等を形成した後に加
工することによって、より一層記録コイル等の形成精度
の向上を図ることが可能となる。
In the first method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head according to the present invention, after forming a recording coil or the like in advance, a magnetic layer common to the upper shield layer and the lower magnetic pole is processed to obtain a magnetoresistance effect. Since the film leads are drawn out, the recording coil and the like can be formed on a flat surface. As a result, the formation accuracy of the recording coil and the like in the PEP process and the like is improved, and as a result, a fine recording coil and an upper magnetic pole corresponding to a high recording density can be formed with high precision. Further, by processing the lower shield layer after forming the recording coil and the like, it is possible to further improve the formation accuracy of the recording coil and the like.

【0017】本発明の第2の磁気記録再生ヘッドの製造
方法においては、上側シールド層および下側磁極共通の
磁性体層に前記磁気抵抗効果膜のリード引出し用の電極
引き出し穴を形成し、記録コイル等を形成した後に電極
引き出し穴を介して磁気抵抗効果膜のリードを引出すた
め、小さな電極引き出し穴を除いて平坦な面上に記録コ
イル等を形成することができる。これによって、記録コ
イル等のPEP工程等による形成精度が向上し、その結
果高記録密度化に対応した微細な記録コイルや上側磁極
を高精度に形成することができる。
According to a second method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head of the present invention, an electrode lead-out hole for leading out a lead of the magnetoresistive film is formed in a magnetic layer common to an upper shield layer and a lower magnetic pole. Since the lead of the magnetoresistive film is drawn out through the electrode lead-out hole after forming the coil and the like, the recording coil and the like can be formed on a flat surface except for the small electrode lead-out hole. As a result, the formation accuracy of the recording coil and the like in the PEP process and the like is improved, and as a result, a fine recording coil and an upper magnetic pole corresponding to a high recording density can be formed with high precision.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。図1及び図2は、本発明の一実施
形態による薄膜型の磁気記録再生ヘッドの構成を示す図
である。図1は図2のA−A' 線に沿った断面を示し、
図2は図1の保護膜45の堆積前に、上方より観察した
平面図である。これらの図に示す磁気記録再生ヘッド2
0は、シールド型磁気抵抗効果ヘッド(MRヘッド)か
らなる再生ヘッド30と、この再生ヘッド30上に積層
形成された誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド40と
により構成される。
Embodiments of the present invention will be described below. 1 and 2 are views showing the configuration of a thin-film magnetic recording / reproducing head according to one embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a cross section along the line AA ′ in FIG.
FIG. 2 is a plan view observed from above before depositing the protective film 45 of FIG. The magnetic recording / reproducing head 2 shown in these figures
Numeral 0 is composed of a reproducing head 30 composed of a shield type magnetoresistive head (MR head) and a recording head 40 composed of an induction type magnetic head laminated on the reproducing head 30.

【0019】シールド型MRヘッドからなる再生ヘッド
30は、まず主表面にAl23 層等の非磁性層(図示
せず)が形成されたAl23 ・TiC等の基板31上
に、軟磁性材料からなる厚さ 0.5〜 3μm 程度の下側シ
ールド層32が形成されている。この下側シールド層3
2上には、非磁性絶縁材料からなる厚さ50〜 200nm程度
の下側再生磁気ギャップ膜33を介して、磁気抵抗効果
膜(MR膜)34が形成されている。
A reproducing head 30 composed of a shield type MR head has a structure in which a nonmagnetic layer (not shown) such as an Al 2 O 3 layer is formed on a main surface of a substrate 31 of Al 2 O 3 .TiC or the like. A lower shield layer 32 of a thickness of about 0.5 to 3 μm made of a soft magnetic material is formed. This lower shield layer 3
2, a magnetoresistive film (MR film) 34 is formed via a lower reproducing magnetic gap film 33 of a thickness of about 50 to 200 nm made of a nonmagnetic insulating material.

【0020】MR膜34の両端部には、MR膜34にセ
ンス電流を供給するCu等からなる一対のリード35
(図1には片方のリードのみを示す。)が接続されてお
り、一対のリード35により挟まれたMR膜34の感磁
領域の幅が実質的な再生トラック幅(紙面垂直方向)で
ある。これらMR膜34及び一対のリード35からなる
MR素子上には、下側再生磁気ギャップ膜33と同様な
非磁性絶縁材料からなる上側再生磁気ギャップ膜36を
介して、下側シールド層32と同様な軟磁性材料からな
る厚さ 0.5〜 3μm 程度の上側シールド層37が形成さ
れており、これらによってシールド型MRヘッドからな
る再生ヘッド30が構成されている。
At both ends of the MR film 34, a pair of leads 35 made of Cu or the like for supplying a sense current to the MR film 34 are provided.
(Only one of the leads is shown in FIG. 1), and the width of the magneto-sensitive region of the MR film 34 sandwiched between the pair of leads 35 is a substantial reproduction track width (perpendicular to the paper surface). . On the MR element composed of the MR film 34 and the pair of leads 35, a lower readout layer 32 is formed through an upper readout magnetic gap film 36 made of the same nonmagnetic insulating material as the lower readout magnetic gap film 33. An upper shield layer 37 made of a soft magnetic material and having a thickness of about 0.5 to 3 .mu.m is formed, thereby forming a reproducing head 30 composed of a shield type MR head.

【0021】上述したシールド型MRヘッドの上側シー
ルド層37は、誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド4
0の下側磁極を兼ねており、この上側シールド層兼下側
磁極37上には、Al2 O3 等の非磁性絶縁材料からな
る厚さ 200nm程度の記録磁気ギャップ膜41、記録コイ
ル43、及び記録コイル43を覆う絶縁層44を介し
て、上側磁極42が形成されている。上側磁極42の媒
体対向面ABS側に位置する先端部42aの幅(紙面垂
直方向)は、記録ヘッド40の記録トラック幅(媒体対
向面において、上側磁極の先端部42aと下側磁極37
が記録ギャップ膜41を介して対向する幅。)を規定す
る。
The upper shield layer 37 of the above-mentioned shield type MR head is composed of the recording head 4 composed of an induction type magnetic head.
The lower magnetic pole 0 also serves as a lower magnetic pole. On the upper shield layer and lower magnetic pole 37, a recording magnetic gap film 41 of about 200 nm thick made of a nonmagnetic insulating material such as Al2 O3, a recording coil 43, and a recording coil 43 are formed. An upper magnetic pole 42 is formed via an insulating layer 44 that covers the coil 43. The width (in the direction perpendicular to the paper) of the tip 42 a of the upper magnetic pole 42 located on the medium facing surface ABS side is determined by the recording track width of the recording head 40 (in the medium facing surface, the tip 42 a of the upper magnetic pole and the lower magnetic pole 37.
Is the width facing the recording gap film 41. ).

【0022】下側磁極37と上側磁極42との間には、
これらにより形成される磁気回路に電流磁界を供給する
Cu等からなる記録コイル43が形成されている。記録
コイル43は、記録磁気ギャップ膜41上に形成されて
おり、塗布型の有機絶縁材料等からなる絶縁層44内に
埋め込まれている。上側磁極42の後部42bは記録コ
イル43の一部を覆うように形成されており、媒体対向
面より後方にて下側磁極37と記録磁気ギャップ膜41
を介して接続する。尚、本発明において、後方での磁気
的な接続は磁気ャップ膜41を介さずに両磁極を直接接
続することも可能である。
Between the lower magnetic pole 37 and the upper magnetic pole 42,
A recording coil 43 made of Cu or the like for supplying a current magnetic field to a magnetic circuit formed by these components is formed. The recording coil 43 is formed on the recording magnetic gap film 41 and is embedded in an insulating layer 44 made of a coating type organic insulating material or the like. A rear portion 42b of the upper magnetic pole 42 is formed so as to cover a part of the recording coil 43, and the lower magnetic pole 37 and the recording magnetic gap film 41 are formed behind the medium facing surface.
Connect through. In the present invention, it is also possible to directly connect both magnetic poles without using the magnetic gap film 41 for the magnetic connection at the rear.

【0023】上側磁極42、絶縁層44及び、及び引き
出し電極46上には保護膜45が形成されている。ここ
で、上記再生ヘッド30と記録ヘッド40のうち、下側
に位置する再生ヘッド30からの電極の引出しは、上側
シールド層を兼ねる下側磁極37に設けられた電極引き
出し穴46を介して行われている。すなわち、上側に位
置する記録ヘッド40の上側シールド層兼下側磁極37
には、 2つの電極引き出し穴46がMR素子の一対のリ
ード35にそれぞれ接続するように形成されている。上
側シールド層兼下側磁極37には、通常導電性材料が用
いられるため、これら電極引き出し穴46の側壁面は絶
縁層47により覆われている。そして、このような電極
引き出し穴46を介して、MR素子の一対のリード35
とそれぞれ電気的に接続するように、再生ヘッド引き出
し電極38、38' 形成されている。
A protective film 45 is formed on the upper magnetic pole 42, the insulating layer 44, and the lead electrode 46. Here, of the read head 30 and the write head 40, the extraction of the electrode from the read head 30 located on the lower side is performed through the electrode lead hole 46 provided in the lower magnetic pole 37 also serving as the upper shield layer. Have been done. That is, the upper shield layer and lower magnetic pole 37 of the recording head 40 located on the upper side.
Are formed so as to be connected to a pair of leads 35 of the MR element, respectively. Since a conductive material is usually used for the upper shield layer and lower magnetic pole 37, the side wall surfaces of the electrode lead holes 46 are covered with an insulating layer 47. Then, a pair of leads 35 of the MR element is formed through such an electrode lead-out hole 46.
And read head lead-out electrodes 38, 38 'are formed so as to be electrically connected to the respective electrodes.

【0024】このように、コイル43、及び上部磁極4
2、特に先端部42aは実質的な段差のない表面に形成
されている為、厚いレジスト塗布によるパターンくずれ
等の弊害が低減されている。従って、第1の実施形態の
磁気記録再生ヘッドによれば、磁気記録再生ヘッドの記
録コイルのパターン精度、及びトラック幅は微細かつ高
精度のものであり、製造歩留まりの向上、良好な記録特
性が得られる。
As described above, the coil 43 and the upper magnetic pole 4
2, in particular, since the tip portion 42a is formed on a surface having substantially no step, adverse effects such as pattern collapse due to thick resist coating are reduced. Therefore, according to the magnetic recording / reproducing head of the first embodiment, the pattern accuracy and the track width of the recording coil of the magnetic recording / reproducing head are fine and high-precision, so that the production yield is improved and good recording characteristics are obtained. can get.

【0025】記録磁極先端部の微細形状については、3
μm以下、特に1μm以下の微細なトラック幅Twが要
求される高密度ヘッドに適する。さらに、本発明者らに
よる多数回の試作の結果、従来法によるトラック幅の加
工限界は0.6μmであることがわかった。従って、
0.6μm以下のトラック幅で本発明は顕著な効果を発
揮する。又、これらの微細形状については、後述する再
生トラック幅Tw' や、媒体対向面に近接する先端部で
の微細パターン、相互間距離が微細な複数のパターンに
ついても同様にいえる。
Regarding the fine shape of the tip of the recording magnetic pole, 3
It is suitable for a high-density head requiring a fine track width Tw of 1 μm or less, particularly 1 μm or less. Further, as a result of many trial productions by the present inventors, it was found that the processing limit of the track width by the conventional method was 0.6 μm. Therefore,
The present invention exerts a remarkable effect at a track width of 0.6 μm or less. In addition, these fine shapes can be similarly applied to a reproduction track width Tw ′ to be described later, a fine pattern at the leading end close to the medium facing surface, and a plurality of patterns having a fine distance between each other.

【0026】さらに又、媒体対向面における微細なパタ
ーンについても、上述の実施形態の磁気記録再生ヘッド
に限られず、例えば、特開平7―296328に記載さ
れているように、下側磁極及び上側磁極の先端部をメッ
キ法等に形成するにあたって、微細なトラック幅を得る
為のノッチ構造体、特開平7−307012に記載され
るような、媒体対向面において微細なシールドの対向
幅、リード間距離、及び磁気抵抗効果素子の磁界応答部
の幅を備える磁気ヘッド等についても適用できる。
Further, the fine pattern on the medium facing surface is not limited to the magnetic recording / reproducing head of the above-described embodiment. For example, as described in JP-A-7-296328, a lower magnetic pole and an upper magnetic pole are used. Notch structure for obtaining a fine track width when forming the leading end of the substrate by plating or the like, a fine shield facing width and a distance between leads in the medium facing surface as described in JP-A-7-307012. And a magnetic head having the width of the magnetic field response portion of the magnetoresistive element.

【0027】次に、上述した第1の実施形態の磁気記録
再生ヘッド20は、例えば以下に示すような各製造方法
により製造される。まず、図3(a)乃至図3(d)を
参照して磁気記録再生ヘッド20の製造方法の第1の実
施形態について述べる。
Next, the magnetic recording / reproducing head 20 according to the first embodiment is manufactured by, for example, the following manufacturing methods. First, a first embodiment of a method for manufacturing the magnetic recording / reproducing head 20 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d).

【0028】Al23等の非磁性層(図示せず)が主表
面に形成されたAl23・TiC基板31上に軟磁性膜
を成膜し、この軟磁性膜を所定形状にパターニングし
て、下側磁気シールド層32とする。このパターニング
形成した下側磁気シールド層32上に下側再生磁気ギャ
ップ膜33を成膜した後、MR膜34の形成とパターニ
ング、及び一対のリード35となる良導体膜の成膜とパ
ターニングを順に行う。次いで、MR膜34及びリード
35とからなるMR素子上に上側再生磁気ギャップ膜3
6を成膜した後、記録ヘッド40の下側磁極兼上側磁気
シールド層37となる軟磁性層37′を成膜する。な
お、この時点では軟磁性層37′はパターニングしな
い。そして、この軟磁性層37′上に記録磁気ギャップ
膜41を成膜する(図3(a))。
A soft magnetic film is formed on an Al 2 O 3 .TiC substrate 31 having a non-magnetic layer (not shown) such as Al 2 O 3 formed on the main surface, and the soft magnetic film is formed into a predetermined shape. By patterning, a lower magnetic shield layer 32 is formed. After forming the lower read magnetic gap film 33 on the patterned lower magnetic shield layer 32, the formation and patterning of the MR film 34 and the formation and patterning of the good conductor film to be the pair of leads 35 are sequentially performed. . Next, the upper reproducing magnetic gap film 3 is formed on the MR element including the MR film 34 and the lead 35.
6, a soft magnetic layer 37 'serving as the lower magnetic pole and upper magnetic shield layer 37 of the recording head 40 is formed. At this point, the soft magnetic layer 37 'is not patterned. Then, a recording magnetic gap film 41 is formed on the soft magnetic layer 37 '(FIG. 3A).

【0029】次に、上記した記録磁気ギャップ膜41及
び軟磁性層37′に電極引き出し穴46を、MR素子の
リード35の表面が露出するまで、例えば通常のPEP
工程及びミリングやRIE等のエッチングを用いて形成
する(図3(b))。ここで、この電極引き出し穴46
は、例えば一辺が 5μm 程度の形状とし、次の記録コイ
ル43の作製工程において塗布するレジストの粘度を調
整することにより容易に埋めることができ、レジスト表
面の平坦性が保たれる。従って、記録コイル43の作製
工程に悪影響を及ぼすことはない。電極引き出し穴46
を形成した後、記録磁気ギャップ膜41上に記録コイル
43を例えばフレームメッキ法で作製するためのメッキ
シード層(図示せず)及びレジストパターン(図示せ
ず)を形成し、記録コイル43となる良導体膜を形成す
る。この際、電極引き出し穴46は塗布したレジスト膜
により埋まっているため、下側磁極兼上側磁気シールド
層37の厚さに起因する段差は生じていない。従って、
微細なパターンが要求される記録コイル43の形状精度
等を低下させることがない。
Next, an electrode lead hole 46 is formed in the recording magnetic gap film 41 and the soft magnetic layer 37 'until the surface of the lead 35 of the MR element is exposed, for example, by ordinary PEP.
It is formed using a process and etching such as milling or RIE (FIG. 3B). Here, this electrode lead-out hole 46
Can be easily filled by adjusting the viscosity of the resist to be applied in the next manufacturing step of the recording coil 43, and the flatness of the resist surface is maintained. Therefore, there is no adverse effect on the manufacturing process of the recording coil 43. Electrode extraction hole 46
Is formed, a plating seed layer (not shown) and a resist pattern (not shown) for forming the recording coil 43 by, for example, a frame plating method are formed on the recording magnetic gap film 41 to form the recording coil 43. A good conductor film is formed. At this time, since the electrode lead-out hole 46 is filled with the applied resist film, no step is caused due to the thickness of the lower magnetic pole and upper magnetic shield layer 37. Therefore,
There is no decrease in the shape accuracy or the like of the recording coil 43 requiring a fine pattern.

【0030】次いで、レジストパターンをオフし、レジ
ストパターンの下に残置したメッキシード層を除去して
記録コイル43を形成する(図3(c))。この際、電
極引き出し穴46内のレジストも除去される。この後、
記録コイル43上に形状追従性に優れる塗布型の有機絶
縁材料の絶縁層44を形成する。この際、同時に、電極
引き出し穴46の側壁に絶縁層47を形成する(図3
(c))。
Next, the resist pattern is turned off, and the plating seed layer left under the resist pattern is removed to form the recording coil 43 (FIG. 3C). At this time, the resist in the electrode lead hole 46 is also removed. After this,
On the recording coil 43, an insulating layer 44 of a coating type organic insulating material having excellent shape followability is formed. At this time, an insulating layer 47 is simultaneously formed on the side wall of the electrode lead hole 46 (FIG. 3).
(C)).

【0031】この後、導電性軟磁性膜を成膜し、この軟
磁性膜を所定形状にパターニングして先端部42a及び
後部42bからなる上側磁極42の形成と同時に、側壁
が絶縁層47で覆われた電極引き出し穴46を介して、
MR素子のリード35に再生ヘッド引き出し電極38を
接続形成する。
Thereafter, a conductive soft magnetic film is formed, and the soft magnetic film is patterned into a predetermined shape to form an upper magnetic pole 42 including a tip portion 42a and a rear portion 42b. Through the electrode lead hole 46
A read head lead electrode 38 is connected to the lead 35 of the MR element.

【0032】上述した磁気記録ヘッド20の製造方法に
よれば、電極引き出し穴46が小さく、レジストを塗布
すると容易に埋ってしまうために、薄いレジストの不均
一性を発生させることがなく、又、表面の平坦性が確保
できる。さらに、記録コイル43及び上側磁極42の形
成時に下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層37分の段
差が実質上存在しないため、記録コイル43を形成する
ためのレジストの厚さの不均一性を改善することができ
る。従って、記録コイル43及び上側磁極42、特に先
端部42aを形成する際のPEP公差が小さくなり、こ
れにより微細化が望まれている記録コイル43及び狭ト
ラック化が求められている上側磁極42の先端部42a
を、高精度に形成することが可能となる。
According to the above-described method of manufacturing the magnetic recording head 20, since the electrode lead-out hole 46 is small and easily filled when a resist is applied, non-uniformity of the thin resist does not occur. Surface flatness can be ensured. Furthermore, since the step of the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole does not substantially exist when the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 are formed, the unevenness of the resist thickness for forming the recording coil 43 is improved. can do. Accordingly, the PEP tolerance in forming the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42, particularly the tip 42a, becomes smaller, whereby the recording coil 43 for which miniaturization is desired and the upper magnetic pole 42 for which a narrower track is required. Tip 42a
Can be formed with high precision.

【0033】言い換えると、本実施形態の製造方法によ
れば、軟磁性層37′を予めパーニングする必要がなく
なり、従って平坦な軟磁性層37′上で記録コイル43
及び上側磁極42を形成することができる。これによっ
て、記録ヘッド40の記録コイル43及び上側磁極42
の形成精度を向上させることが可能となる。また、本実
施形態の製造方法によれば、記録コイル43の絶縁層4
4と電極取出し穴46の側壁を覆う絶縁層47、さらに
上側磁極42と再生ヘッド引き出し電極38とを同時に
形成することにより、製造工数の低減が図られている。
In other words, according to the manufacturing method of the present embodiment, the soft magnetic layer 37 'does not need to be pre-panned, so that the recording coil 43' is formed on the flat soft magnetic layer 37 '.
And the upper magnetic pole 42 can be formed. Thereby, the recording coil 43 of the recording head 40 and the upper magnetic pole 42
It is possible to improve the formation accuracy of the. Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, the insulating layer 4 of the recording coil 43 is formed.
4 and the insulating layer 47 covering the side wall of the electrode extraction hole 46, and furthermore, the upper magnetic pole 42 and the reproducing head extraction electrode 38 are formed at the same time, thereby reducing the number of manufacturing steps.

【0034】なお、本実施形態の製造方法において、記
録ヘッド40の上側磁極42を形成した後に電極引き出
し穴46を形成してもよく、この場合には記録コイル4
6及び上側磁極42の形成時には電極引き出し穴46も
ないため、電極引き出し穴のサイズや、塗布するレジス
トの粘度等を制御することなく、形成することができ
る。ただし、この場合には電極引き出し穴46の側壁を
覆う絶縁層47と再生ヘッド引き出し電極38を、記録
コイル43の絶縁層44や上側磁極42とは別途形成し
なければならない。
In the manufacturing method of the present embodiment, the electrode lead-out hole 46 may be formed after the upper magnetic pole 42 of the recording head 40 has been formed.
6 and the upper magnetic pole 42 are formed without the electrode lead-out hole 46, so that the electrode lead-out hole can be formed without controlling the size of the electrode lead-out hole, the viscosity of the applied resist, and the like. However, in this case, the insulating layer 47 covering the side wall of the electrode lead hole 46 and the read head lead electrode 38 must be formed separately from the insulating layer 44 of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42.

【0035】次に、図4(a)乃至図4(d)を参照し
て図1及び図2に示した磁気記録再生ヘッド20の製造
方法の第2の実施形態について述べる。まず、上述した
第1の実施形態による製造工程と同様にして、基板31
上に下側磁気シールド層32となる軟磁性層32′の成
膜、下側再生磁気ギャップ膜33の成膜、MR膜34の
形成とパターニング、一対のリード35の成膜とパター
ニング、上側再生磁気ギャップ膜33の成膜、記録ヘッ
ド40の下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層37とな
る軟磁性層37′の成膜、記録磁気ギャップ膜41の成
膜を順に行う。 この実施形態の製造方法では、下側磁
気シールド層32も予めパターニングしておらず、平坦
な軟磁性層32′上に上述した各層を形成している。従
って、下側磁気シールド層32の厚さに相当する段差も
実質上存在していない。そして、このような平坦な記録
磁気ギャップ膜41上に記録コイル43を形成する(図
4(a))。
Next, a second embodiment of the method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head 20 shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (d). First, in the same manner as in the manufacturing process according to the first embodiment, the substrate 31
On top, a soft magnetic layer 32 'to be the lower magnetic shield layer 32, a lower read magnetic gap film 33, a MR film 34, and patterning, a pair of leads 35 for film formation and patterning, upper read The formation of the magnetic gap film 33, the formation of the soft magnetic layer 37 'serving as the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole of the recording head 40, and the formation of the recording magnetic gap film 41 are performed in this order. In the manufacturing method of this embodiment, the lower magnetic shield layer 32 is not patterned in advance, and the above-described layers are formed on the flat soft magnetic layer 32 '. Therefore, there is substantially no step corresponding to the thickness of the lower magnetic shield layer 32. Then, the recording coil 43 is formed on such a flat recording magnetic gap film 41 (FIG. 4A).

【0036】このように、軟磁性層37' の厚さに加え
て、下側シールド層32の厚さ分の段差も実質的に解消
され、記録磁気ギャップ膜41の上面は平坦であるた
め、記録コイル43作製の際に用いるレジストの表面を
より一層平坦にかつその厚さを均一に薄く形成すること
ができる。従って、後に形成する記録コイル43を微細
かつ高精度に形成することができる。また、上側磁極4
2も同様であり、高記録密度化を達成するために狭トラ
ック化された先端部42aを十分な精度で形成すること
ができる。
As described above, in addition to the thickness of the soft magnetic layer 37 ', the step corresponding to the thickness of the lower shield layer 32 is substantially eliminated, and the upper surface of the recording magnetic gap film 41 is flat. The surface of the resist used for producing the recording coil 43 can be made even more flat and its thickness can be made uniform and thin. Therefore, the recording coil 43 to be formed later can be formed finely and with high precision. The upper magnetic pole 4
The same applies to No. 2, and the tip portion 42a having a narrow track in order to achieve a high recording density can be formed with sufficient accuracy.

【0037】次いで、記録磁気ギャップ膜41及び軟磁
性層37′に対して電極引き出し穴46を、前述した実
施形態と同様にして形成した(図4(b))後、記録コ
イル43上に絶縁層44を形成すると同時に、電極引き
出し穴46の側壁に絶縁層47を形成する(図4
(c))。
Next, an electrode lead-out hole 46 is formed in the recording magnetic gap film 41 and the soft magnetic layer 37 'in the same manner as in the above-described embodiment (FIG. 4B). Simultaneously with the formation of the layer 44, an insulating layer 47 is formed on the side wall of the electrode lead-out hole 46 (FIG. 4).
(C)).

【0038】この後、上側磁極42となる軟磁性膜を成
膜し、この軟磁性膜を所定形状にパターニングして上側
磁極42を形成すると同時に、側壁が絶縁層47で覆わ
れた電極引き出し穴46を介して、MR素子のリード3
5に再生ヘッド引き出し電極38を接続形成する(図4
(d))。
Thereafter, a soft magnetic film to be the upper magnetic pole 42 is formed, and the soft magnetic film is patterned into a predetermined shape to form the upper magnetic pole 42, and at the same time, an electrode lead hole whose side wall is covered with the insulating layer 47. 46, leads 3 of the MR element
5 is connected to a readout lead electrode 38 (FIG. 4).
(D)).

【0039】この第2の実施形態の製造方法によれば、
記録コイル43及び上側磁極42の形成時には下側シー
ルド層32分及び下側磁極兼上側磁気シールド層37分
の段差が実質上存在しないため、微細な記録コイル43
及び狭トラック化された上側磁極42の形成がより一層
高精度に行うことができる。
According to the manufacturing method of the second embodiment,
When the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 are formed, there is substantially no step between the lower shield layer 32 and the lower magnetic pole / upper magnetic shield layer 37, so that the minute recording coil 43 is formed.
Further, the upper magnetic pole 42 having a narrow track can be formed with higher accuracy.

【0040】すなわち、この実施形態の製造方法におい
ては、記録磁気ギャップ膜41及び下側磁極を兼ねる上
側磁気シールド層37となる軟磁性層37′に対して電
極引き出し穴46を形成し、この電極引き出し穴46を
介して再生ヘッド30の電極を引き出しているため、軟
磁性層37′を予めパーニングする必要がなくなり、さ
らに下側磁気シールド層32となる軟磁性層32′のパ
ターニングも上側磁極42形成後としているため、より
一層平坦化された面上に記録コイル43及び上側磁極4
2を形成することができる。これによって、パターニン
グの為のレジスト厚は薄くでき、又、その表面は平坦と
なるから、記録ヘッド40の記録コイル43及び上側磁
極42の形成精度を大幅に向上させることが可能とな
る。
That is, in the manufacturing method of this embodiment, an electrode lead-out hole 46 is formed in the recording magnetic gap film 41 and the soft magnetic layer 37 'serving as the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole. Since the electrodes of the reproducing head 30 are drawn through the lead holes 46, it is not necessary to previously perform the soft magnetic layer 37 ', and the soft magnetic layer 32' serving as the lower magnetic shield layer 32 is also patterned by the upper magnetic pole 42. After the formation, the recording coil 43 and the upper magnetic pole 4 are placed on the flattened surface.
2 can be formed. As a result, the resist thickness for patterning can be reduced and the surface thereof becomes flat, so that the formation accuracy of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 of the recording head 40 can be greatly improved.

【0041】また、第2の実施形態の製造方法によれ
ば、記録コイル43の絶縁層44と電極引き出し穴46
の側壁を覆う絶縁層47、さらに上側磁極42と再生ヘ
ッド引き出し電極38とを同時に形成しているため、製
造工数の低減が図られている。
According to the manufacturing method of the second embodiment, the insulating layer 44 of the recording coil 43 and the electrode lead hole 46
Since the insulating layer 47 covering the side wall of the first embodiment and the upper magnetic pole 42 and the reproducing head lead-out electrode 38 are formed at the same time, the number of manufacturing steps is reduced.

【0042】また、例えば図5に示すように、予め上側
磁極42まで形成し(図5(a))、この後、電極引き
出し穴46の形成(図5(b))、及び電極引き出し穴
46の側壁への絶縁層47の形成と引き出し電極38の
接続形成(図5(c))を行ってもよい。このような製
造工程によれば、上側磁極42を形成する際に電極引き
出し穴46も存在していないため、上側磁極42の形成
精度をより一層向上させることができる。但し、この場
合には電極引き出し穴46の側壁を覆う絶縁層47と再
生ヘッド引き出し電極38を、記録コイル43の絶縁層
44や上側磁極42とは別途形成しなければならない。
As shown in FIG. 5, for example, the upper magnetic pole 42 is formed in advance (FIG. 5A), and thereafter, the electrode lead hole 46 is formed (FIG. 5B), and the electrode lead hole 46 is formed. The formation of the insulating layer 47 on the side wall and the connection formation of the extraction electrode 38 (FIG. 5C) may be performed. According to such a manufacturing process, when the upper magnetic pole 42 is formed, the electrode lead-out hole 46 does not exist, so that the forming accuracy of the upper magnetic pole 42 can be further improved. However, in this case, the insulating layer 47 covering the side wall of the electrode lead hole 46 and the read head lead electrode 38 must be formed separately from the insulating layer 44 of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42.

【0043】次に、図1及び図2に示す磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法の第3の実施形態について、図6を参照
して説明する。まず、前述した第2の実施形態による製
造工程と同様にして、Al23等の非磁性材料層(図示
せず)が主表面に形成された基板31上に下側磁気シー
ルド層32となる軟磁性層32′の成膜、下側再生磁気
ギャップ膜33の成膜、MR膜34の形成とパターニン
グ、一対のリード35の成膜とパターニング、上側再生
磁気ギャップ膜33の成膜、記録ヘッド40の下側磁極
を兼ねる上側磁気シールド層37となる軟磁性層37′
の成膜、記録磁気ギャップ膜41の成膜を順に実施す
る。
Next, a third embodiment of the method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIG. First, similarly to the manufacturing process according to the above-described second embodiment, a lower magnetic shield layer 32 and a lower magnetic shield layer 32 are formed on a substrate 31 on which a nonmagnetic material layer (not shown) such as Al 2 O 3 is formed on a main surface. Forming a soft magnetic layer 32 ′, forming a lower reproducing magnetic gap film 33, forming and patterning an MR film 34, forming and patterning a pair of leads 35, forming an upper reproducing magnetic gap film 33, and recording. Soft magnetic layer 37 ′ serving as upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole of head 40
And the formation of the recording magnetic gap film 41 are sequentially performed.

【0044】上記した記録磁気ギャップ膜41の上面
は、前述した実施形態と同様に極めて平坦であり、この
平坦な面上で記録コイル43の形成、及び記録コイル4
3上への絶縁層44の形成を実施する(図6(a))。
上述のように、平坦な面上では必要なレジストの厚さは
薄く、又、その厚さは均一にできることから、微細な記
録コイル43を精度よく形成することができる。また、
上側磁極42についても同様に、高記録密度化を達成す
るために狭トラック化された先端部42aを十分な精度
で形成することができる。
The upper surface of the recording magnetic gap film 41 is extremely flat as in the above-described embodiment, and the recording coil 43 and the recording coil 4 are formed on this flat surface.
The insulating layer 44 is formed on the substrate 3 (FIG. 6A).
As described above, the required thickness of the resist on the flat surface is small and the thickness can be made uniform, so that the fine recording coil 43 can be formed with high precision. Also,
Similarly, for the upper magnetic pole 42, it is possible to form the tip portion 42a having a narrow track to achieve high recording density with sufficient accuracy.

【0045】次いで、下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層37及び上側再生磁気ギャップ膜36をパターニン
グし、その後方部分を除去してMR素子のリード35の
表面を露出させる(図6(b))。この後、露出したリ
ード35の表面に、再生ヘッド取出し電極38を接続形
成する(図6(c))。
Next, the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole and the upper reproducing magnetic gap film 36 are patterned, and the rear portions thereof are removed to expose the surfaces of the leads 35 of the MR element (FIG. 6B). . Thereafter, a read head take-out electrode 38 is connected to the exposed surface of the lead 35 (FIG. 6C).

【0046】このような製造方法によっても、記録コイ
ル43及び上側磁極42を高精度に形成することができ
る。なお、上記実施形態では下側シールド層32のパタ
ーニングも記録コイル43及び上側磁極42の形成後と
したが、少なくとも下側磁極を兼ねる上側磁気シールド
層37のパターニングを記録コイル43及び上側磁極4
2の形成後とすることによって、従来の製造工程に比べ
て記録コイル43及び上側磁極42の形成精度を高める
ことができる。
According to such a manufacturing method, the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 can be formed with high accuracy. In the above embodiment, the patterning of the lower shield layer 32 is also performed after the formation of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42. However, the patterning of the upper magnetic shield layer 37, which also serves as the lower magnetic pole, is performed at least.
The formation accuracy of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 can be increased by performing the process after the formation of the second magnetic pole 2, as compared with the conventional manufacturing process.

【0047】次に、本発明の第2の実施形態による磁気
記録再生ヘッド及び製造方法の第4の実施形態につい
て、図7(a)乃至図7(c)及び図8(a)乃至図8
(b)の工程別断面図を参照して説明する。
Next, a fourth embodiment of the magnetic recording / reproducing head and the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A to 7C and FIGS. 8A to 8.
A description will be given with reference to the cross-sectional views for each step in FIG.

【0048】この実施形態の磁気記録再生ヘッドは、図
8(b)に示すように、記録ヘッドの上側磁極42を、
磁極先端部42aと磁極後部42bと上下磁極連結部4
2cとに分けて形成したものである。このような構造の
磁気記録再生ヘッドにおいては、後に詳述するように、
上側磁極先端部を上下のシールド層32' 、37' に起
因する段差だけでなく、記録コイル43及びその絶縁層
44の厚さに相当する段差もない状態で磁極先端部42
aを形成することができるため、より一層微細なトラッ
ク幅Twが得られる。従って、この磁気記録再生ヘッド
によれば、狭トラックであり高精度で高い記録密度を達
成することができる。
In the magnetic recording / reproducing head of this embodiment, as shown in FIG. 8B, the upper magnetic pole 42 of the recording head is
Magnetic pole tip portion 42a, magnetic pole rear portion 42b, and upper and lower magnetic pole connecting portions 4
2c. In a magnetic recording / reproducing head having such a structure, as described later in detail,
The top end of the magnetic pole 42 has not only the steps caused by the upper and lower shield layers 32 ', 37' but also the steps corresponding to the thicknesses of the recording coil 43 and its insulating layer 44.
Since a can be formed, a finer track width Tw can be obtained. Therefore, according to this magnetic recording / reproducing head, it is possible to achieve a high recording density with a narrow track and high accuracy.

【0049】まず、前述した各実施形態による製造工程
と同様にして、下側磁気シールド層32となる軟磁性層
32′の成膜、下側磁気再生ギャップ膜33の成膜、M
R膜34の形成とパターニング、一対のリード35の成
膜とパターニング、上側磁気再生ギャップ膜33の成
膜、記録ヘッド40の下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層37となる軟磁性層37′の成膜、記録磁気ギャッ
プ膜41の成膜を順に行う。
First, in the same manner as in the manufacturing process according to each of the above-described embodiments, a soft magnetic layer 32 ′ to be the lower magnetic shield layer 32, a lower magnetic reproducing gap film 33,
Formation and patterning of the R film 34, formation and patterning of the pair of leads 35, formation of the upper magnetic reproducing gap film 33, formation of the soft magnetic layer 37 ′ serving as the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole of the recording head 40. The film formation and the formation of the recording magnetic gap film 41 are sequentially performed.

【0050】上記した記録磁気ギャップ膜41の上面
は、前述した実施形態と同様に極めて平坦であり、この
平坦な面上に上側磁極42の磁極先端部42aと上下磁
極連結部42cを形成する。すなわち、平坦な記録磁気
ギャップ膜41上に、上側磁極先端部42aと上下磁極
連結部42cとなる軟磁性膜を成膜し、この軟磁性膜を
イオンミリング等でパターニングして上側磁極先端部4
2aと上下磁極連結部42cを形成する。次いで、これ
ら上側磁極先端部42a及び上下磁極連結部42c上を
含めてSiOx 等からなる絶縁層48を成膜し、エッチ
バックあるいはポリシングにより、上部磁極先端部42
a及び上下磁極連結部42cの表面が表れるまで平坦化
する(図7(a))。
The upper surface of the recording magnetic gap film 41 is extremely flat similarly to the above-described embodiment, and the magnetic pole tip portion 42a of the upper magnetic pole 42 and the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c are formed on this flat surface. That is, on the flat recording magnetic gap film 41, a soft magnetic film to be the upper magnetic pole tip portion 42a and the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c is formed, and this soft magnetic film is patterned by ion milling or the like to form the upper magnetic pole tip portion 4.
2a and the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c are formed. Then, an insulating layer 48 made of SiOx or the like is formed including the upper magnetic pole tip 42a and the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c, and the upper magnetic pole tip 42 is formed by etch-back or polishing.
a and the surface of the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c are flattened (FIG. 7A).

【0051】あるいは、平坦な記録磁気ギャップ膜41
上にSiOx 等からなる絶縁層48を成膜し、この絶縁
層48に上側磁極先端部42a及び上下磁極連結部42
cに相当する部分に反応性イオンエッチング等でトレン
チ(溝)を形成した後、そこに上側磁極先端部42a及
び上下磁極連結部42cとなる軟磁性材料を埋め込み成
膜し、エッチバックあるいはポリシングにより平坦化し
てもよい。又、軟磁性材料の埋め込みは、磁気ギャップ
膜41の表面にシード層となる金属層を形成してメッキ
成長法により形成してもよい。
Alternatively, a flat recording magnetic gap film 41
An insulating layer 48 made of SiOx or the like is formed thereon, and the upper magnetic pole tip portion 42a and the upper and lower magnetic pole connecting portions 42
After a trench (groove) is formed in a portion corresponding to c by reactive ion etching or the like, a soft magnetic material to be the upper magnetic pole tip portion 42a and the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c is buried in the trench, and the film is formed by etch back or polishing. It may be flattened. In addition, the soft magnetic material may be embedded by forming a metal layer serving as a seed layer on the surface of the magnetic gap film 41 and plating it.

【0052】次に、エッチバックやポリシングで平坦化
した上側磁極先端部42a、上下磁極連結部42c及び
絶縁層48の上面を含む平面上に、前述した各実施形態
と同様にして記録コイル43を形成する(図7
(b))。これによって、微細な記録コイル43を高精
度に形成することができる。
Next, the recording coil 43 is placed on a plane including the upper end 42a of the upper magnetic pole, the upper and lower magnetic pole coupling portions 42c, and the upper surface of the insulating layer 48, which has been flattened by etch-back or polishing, in the same manner as in the above-described embodiments. Form (Fig. 7
(B)). Thereby, the fine recording coil 43 can be formed with high accuracy.

【0053】次いで、絶縁層48、記録磁気ギャップ膜
41及び軟磁性層37′に対して電極引き出し穴46
を、前述した実施形態と同様にして形成(図7(c))
した後、記録コイル43上に絶縁層44を形成すると同
時に、電極引き出し穴46の側壁に絶縁層47を形成す
る(図8(a))。
Next, the electrode drawing hole 46 is formed in the insulating layer 48, the recording magnetic gap film 41 and the soft magnetic layer 37 '.
Is formed in the same manner as in the above-described embodiment (FIG. 7C).
After that, the insulating layer 44 is formed on the recording coil 43, and at the same time, the insulating layer 47 is formed on the side wall of the electrode lead hole 46 (FIG. 8A).

【0054】この後、上側磁極42の磁極後部42bと
なる軟磁性膜を、磁極先端部42aと上下磁極連結部4
2cと磁気的に接続するように成膜し、この軟磁性膜を
所定形状にパターニングして、磁極先端部42a、磁極
後部42b及び上下磁極連結部42cからなる上側磁極
42を形成すると同時に、側壁が絶縁層47で覆われた
電極引き出し穴46を介して、MR素子のリード35に
再生ヘッド引き出し電極38を接続形成する。
Thereafter, the soft magnetic film to be the magnetic pole rear portion 42b of the upper magnetic pole 42 is attached to the magnetic pole tip portion 42a and the upper and lower magnetic pole connecting portions 4a.
2c, and the soft magnetic film is patterned into a predetermined shape to form an upper magnetic pole 42 including a magnetic pole tip 42a, a magnetic pole rear 42b, and an upper and lower magnetic pole coupling portion 42c. Is connected to the lead 35 of the MR element through the electrode lead-out hole 46 covered with the insulating layer 47.

【0055】図8(c)は保護膜45を形成し、媒体対
向面ABSを研磨等により表出させた本実施形態の磁気
記録再生ヘッドの先端部断面図である。上側磁極先端部
42aは、絶縁層48により囲まれており、上述のよう
に、その媒体対向面における幅Twはリソグラフィーに
より確定され、この記録ヘッドによる記録トラック幅T
wを与える。
FIG. 8C is a sectional view of the tip of the magnetic recording / reproducing head of this embodiment in which the protective film 45 is formed and the ABS facing the medium is exposed by polishing or the like. The upper magnetic pole tip 42a is surrounded by the insulating layer 48. As described above, the width Tw on the medium facing surface is determined by lithography, and the recording track width T
give w.

【0056】この第4の実施形態の製造方法によれば、
記録コイル43及び上側磁極42の形成時に下側シール
ド層32の段差及び下側磁極を兼ねる上側磁気シールド
層37分の段差が実質上存在せず、さらに記録トラック
幅を決定する磁極先端部42aの形成時には記録コイル
43及びその絶縁層44分の厚さに相当する段差も存在
しておらず、MR膜34とリード35に起因する〜100n
m 程度の段差しかないため、記録コイル43及び上側磁
極42の形成精度が飛躍的に向上する。従って、微細化
が望まれている記録コイル43及び狭トラック化が求め
られている上側磁極42を、極めて高精度に形成するこ
とが可能となる。
According to the manufacturing method of the fourth embodiment,
When the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 are formed, there is substantially no step of the lower shield layer 32 and a step of the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole. At the time of formation, there is no step corresponding to the thickness of the recording coil 43 and the thickness of the insulating layer 44 thereof.
Since there is no step of about m, the formation accuracy of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 is remarkably improved. Accordingly, it is possible to form the recording coil 43 for which miniaturization is desired and the upper magnetic pole 42 for which narrowing of track is required with extremely high precision.

【0057】また、記録磁気ギャップ膜41の成膜前
に、下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層37上に例え
ば低分子量のレジンをスピンコートし、473K程度の雰囲
気中でベークしてレジン表面を平坦化処理した後、イオ
ンミリングにより入射角40゜程度でエッチバックする
と、下側磁極兼上側磁気シールド層37となる軟磁性層
37′と上記レジンとを同速度でエッチングできるた
め、平坦なレジン表面形状を軟磁性膜37′表面に転写
することができる。これによって、上述したMR膜34
とリード35に起因する段差をさらに減少させることが
でき、記録コイル43及び上側磁極42の形成精度を向
上させることが可能となる。この平坦化工程は、下側磁
気シールド層32及び下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層37共にパターニングしていない場合の方が、上記
レジンを均一にコーティングできることから有効であ
る。
Before the formation of the recording magnetic gap film 41, for example, a low molecular weight resin is spin-coated on the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole, and baked in an atmosphere of about 473K to clean the resin surface. After the flattening process, if the etch back is performed by ion milling at an incident angle of about 40 °, the soft magnetic layer 37 ′ serving as the lower magnetic pole and the upper magnetic shield layer 37 and the resin can be etched at the same speed. The surface shape can be transferred to the surface of the soft magnetic film 37 '. Thereby, the above-described MR film 34
And the step caused by the lead 35 can be further reduced, and the formation accuracy of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 can be improved. This flattening step is more effective when both the lower magnetic shield layer 32 and the upper magnetic shield layer 37 serving as the lower magnetic pole are not patterned because the resin can be uniformly coated.

【0058】なお、上述した磁気記録再生ヘッドを製造
する際においても、少なくとも下側磁極を兼ねる上側磁
気シールド層37のパターニングを記録コイル43及び
上側磁極42の形成後とすることによって、従来の製造
工程に比べて記録コイル43及び上側磁極42の形成精
度を高めることができる。また、電極引き出し穴46の
形成工程は、上側磁極42の磁極後部42bを形成した
後に行ってもよく、この場合には磁極後部42bの加工
精度やアライメント精度も向上し、磁極先端部42a磁
極後部42bとの接触面積を正確に制御することができ
る。さらに、上述した磁気記録再生ヘッドについても、
例えば図6に示した製造工程と同様にして、再生ヘッド
引き出し電極38を形成することができる。
When manufacturing the above-described magnetic recording / reproducing head, the patterning of at least the upper magnetic shield layer 37 also serving as the lower magnetic pole is performed after the formation of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42, thereby achieving the conventional manufacturing method. The formation accuracy of the recording coil 43 and the upper magnetic pole 42 can be improved as compared with the process. The step of forming the electrode lead hole 46 may be performed after the formation of the magnetic pole rear part 42b of the upper magnetic pole 42. In this case, the processing accuracy and alignment accuracy of the magnetic pole rear part 42b are also improved, and the magnetic pole tip part 42a and the magnetic pole rear part are formed. The contact area with 42b can be controlled accurately. Further, the magnetic recording / reproducing head described above also
For example, the read head lead-out electrode 38 can be formed in the same manner as in the manufacturing process shown in FIG.

【0059】又、図9(a)乃至(b)に示すように、
コイル絶縁層の先端よりも媒体よりに上側磁極先端部4
2aを形成して、先端部42aの媒体対向面より後方へ
の深さ(スロートハイトLs)を可能な限り浅くすると
記録効率が向上する。このように、浅くするためには、
微細なレジストパターンを形成する必要あり、第1乃至
4の実施形態による製造方法を用いることにより、浅い
スロートハイトLaが得られる。
As shown in FIGS. 9A and 9B,
Upper magnetic pole tip 4 above the medium than the tip of the coil insulation layer
The recording efficiency is improved by forming 2a and making the depth (throat height Ls) of the front end portion 42a behind the medium facing surface as shallow as possible. Thus, to make it shallower,
It is necessary to form a fine resist pattern, and a shallow throat height La can be obtained by using the manufacturing method according to the first to fourth embodiments.

【0060】次に、本発明の磁気記録再生ヘッドの第3
の実施形態を図10(a)及び図10(b)を用いて説
明する。図10(a)は図10(b)のA−A' 断面を
示す。本実施形態の磁気記録再生ヘッドは、Al23
の非磁性薄膜層が主表面に形成されたAl23・TiC
等の基板上に、磁気記録ヘッド90、及びその上層に積
層形成された磁気再生ヘッド91からなる。磁気記録ヘ
ッド90は、下側磁極となる軟磁性層62、その表面に
形成された記録ギャップ層63、媒体対向面ABSに凹
部を備え、その凹部には記録先端部67aが埋め込まれ
る絶縁層64、この絶縁層64上に多数巻回されて形成
されたCu等の金属層からなるコイル65、及びこのコ
イル65を被覆し、 コイルとその上層に形成される軟磁
性層等の導電体層とを絶縁するコイル絶縁層66と、こ
の上層に形成される軟磁性層からなる上側磁極67と、
この上部磁極67に形成された、コイルの両端部に到達
する穴に絶縁層71を介して形成されたコイル電極7
2、72' とからなる。又、磁気再生ヘッド91は、磁
気記録ヘッド90の上側磁極67として下側シールド層
67、この上層に形成された非磁性絶縁層からなる再生
磁気ギャップ68、再生磁気ギャップ上に形成されたM
R素子69、このMR素子69の両端に接続される一対
のリード70,70' 、この表面及び下側シールド層6
7上に形成された非磁性絶縁層80、及びこれらの表面
に形成された上側シールド層75とからなる。この磁気
再生ヘッド91の再生トラック幅は図10(a)に示す
ように、媒体対向面でのリード70,70' の間隔によ
り画定する。
Next, the third embodiment of the magnetic recording / reproducing head of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIGS. 10A and 10B. FIG. FIG. 10A shows a cross section taken along the line AA ′ of FIG. Magnetic recording and reproducing head of this embodiment, Al 2 O 3 · TiC nonmagnetic thin layer of Al 2 O 3 or the like is formed on the main surface
A magnetic recording head 90 and a magnetic reproducing head 91 laminated on the magnetic recording head 90. The magnetic recording head 90 includes a soft magnetic layer 62 serving as a lower magnetic pole, a recording gap layer 63 formed on the surface thereof, and a recess in the medium facing surface ABS, and an insulating layer 64 in which the recording tip 67a is embedded. A coil 65 made of a metal layer of Cu or the like formed by being wound many times on the insulating layer 64; and a coil and a conductor layer such as a soft magnetic layer formed thereon to cover the coil. A coil insulating layer 66 that insulates the coil, an upper magnetic pole 67 made of a soft magnetic layer formed thereover,
A coil electrode 7 formed through an insulating layer 71 in a hole formed on the upper magnetic pole 67 and reaching both ends of the coil.
2, 72 '. The magnetic reproducing head 91 has a lower shield layer 67 as an upper magnetic pole 67 of the magnetic recording head 90, a reproducing magnetic gap 68 made of a nonmagnetic insulating layer formed on the lower magnetic layer 67, and an M formed on the reproducing magnetic gap.
R element 69, a pair of leads 70 and 70 ′ connected to both ends of this MR element 69, this surface and lower shield layer 6
7 and an upper shield layer 75 formed on the surface thereof. As shown in FIG. 10A, the reproduction track width of the magnetic reproduction head 91 is defined by the distance between the leads 70, 70 'on the medium facing surface.

【0061】本実施形態では、コイル65及びコイル絶
縁層66を形成した後、その表面を上側磁極67により
平坦化された表面に形成された一対のリード70,7
0' が形成され、その間隔(再生トラック幅Tw' )は
微細かつ高精度である。これは、コイル65に接続する
コイル電極72,72' をリード上の絶縁層80の表面
から引き出し形成し、媒体対向面ABSより後方で、絶
縁層80、下側シールド層67、コイル絶縁層66を引
き出し穴に形成されることにより可能となる。引き出し
穴の内壁には絶縁層71が形成され、コイル電極72,
72' と下側シールド層67は互いに絶縁されている。
In this embodiment, after the coil 65 and the coil insulating layer 66 are formed, a pair of leads 70, 7 formed on the surface flattened by the upper magnetic pole 67.
0 'is formed, and the interval (reproduction track width Tw') is fine and highly accurate. This is because the coil electrodes 72 and 72 'connected to the coil 65 are drawn out from the surface of the insulating layer 80 on the lead, and the insulating layer 80, the lower shield layer 67, and the coil insulating layer 66 are provided behind the medium facing surface ABS. Is formed in the drawer hole. An insulating layer 71 is formed on the inner wall of the lead hole, and a coil electrode 72,
72 'and the lower shield layer 67 are insulated from each other.

【0062】次に、この磁気記録再生ヘッドの製造方法
を図11(a)乃至(d)を用いて説明する。Al23
等の非磁性層(図示せず)を主表面に形成したAl23
・TiC基板61に軟磁性材料をスパッタ法等により形
成し、下側シールド層62を形成する。この下側シール
ド層62の表面に記録磁気ギャップ63となる非磁性層
をスパッタ法等により形成し、さらにSiO2等の非磁
性絶縁層をCVD法等により形成し、PEP工程及びR
IE、ミリング等の異方性エッチングを行って、媒体対
向面ABSに望む溝を有する絶縁層64とする。この絶
縁層の上には、メッキ成長のシード層となる金属層(図
示せず)を形成し、コイルの外周にメッキ成長のフレー
ムとなるレジストパターンをPEP工程により形成す
る。そして、フレームパターンに囲まれたシード層から
Cu等の導電性膜を形成し、フレームを除去することに
より、コイル65を形成する。このコイル65の表面は
CVD法、及びPEP工程、エッチングによるパターニ
ングにより形成されたコイル絶縁膜66により被覆す
る。
Next, a method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head will be described with reference to FIGS. Al 2 O 3
Al 2 O 3 with a non-magnetic layer (not shown) formed on the main surface
A soft magnetic material is formed on the TiC substrate 61 by a sputtering method or the like, and the lower shield layer 62 is formed. A non-magnetic layer which becomes the recording magnetic gap 63 is formed on the surface of the lower shield layer 62 by a sputtering method or the like, and a non-magnetic insulating layer such as SiO2 is formed by a CVD method or the like.
Anisotropic etching such as IE and milling is performed to form an insulating layer 64 having a desired groove in the medium facing surface ABS. A metal layer (not shown) serving as a seed layer for plating growth is formed on the insulating layer, and a resist pattern serving as a frame for plating growth is formed on the outer periphery of the coil by a PEP process. Then, a conductive film such as Cu is formed from the seed layer surrounded by the frame pattern, and the coil is formed by removing the frame. The surface of the coil 65 is covered with a coil insulating film 66 formed by a CVD method, a PEP process, and patterning by etching.

【0063】そして、前記溝にスパッタ法等により高い
飽和磁束密度を有する軟磁性層を埋め込み、上側磁極の
先端部67aを形成する。その後、先端部67aに面接
触する上側磁極の後部67をスパッタ法等により形成す
る(図11(a))。本実施形態では、上側磁極の後部
67は磁気再生ヘッド91の下側シールド層67を兼ね
る為、少なくとも、MR素子の幅よりも広範囲に形成さ
れる必要がある。
Then, a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density is buried in the groove by a sputtering method or the like to form a tip 67a of the upper magnetic pole. Thereafter, a rear portion 67 of the upper magnetic pole which is in surface contact with the front end portion 67a is formed by a sputtering method or the like (FIG. 11A). In the present embodiment, since the rear portion 67 of the upper magnetic pole also serves as the lower shield layer 67 of the magnetic reproducing head 91, it needs to be formed at least wider than the width of the MR element.

【0064】次に、下側シールド層67の表面に再生磁
気ギャップである非磁性絶縁層68を形成し、さらに、
媒体対向面に面してMR素子69を形成し、その両端に
接続するリードを70,70' を形成する(図11
(b))。リード70,70' の間隔は再生トラック幅
Tw' を確定する為、高密度化に伴って、PEP工程、
エッチング精度による最小加工寸法まで、微細化すると
予想される。このように微細化が進むと、より薄いレジ
ストによりパターニングすることが望まれる。本実施形
態では、リード70,70' のパターニングは下側磁気
シールド層の平坦面で行うから、薄いレジストによるパ
ターニングが可能であり、より高精度かつ微細なトラッ
ク幅Tw' が得られる。
Next, a non-magnetic insulating layer 68 as a reproducing magnetic gap is formed on the surface of the lower shield layer 67.
An MR element 69 is formed facing the medium facing surface, and leads 70 and 70 'connected to both ends thereof are formed (FIG. 11).
(B)). The spacing between the leads 70, 70 'determines the reproduction track width Tw'.
It is expected that the size will be reduced to the minimum processing size due to the etching accuracy. As the miniaturization progresses, it is desired to perform patterning with a thinner resist. In this embodiment, since the leads 70 and 70 'are patterned on the flat surface of the lower magnetic shield layer, patterning with a thin resist is possible, and a higher precision and finer track width Tw' can be obtained.

【0065】次に、MR素子69、リード70,70'
を覆う非磁性絶縁層80を形成した後、媒体対向面AB
Sより後方で再生磁気ギャップ68、下側シールド層6
7、及びコイル絶縁層66を貫通して、コイル65に至
る引き出し穴をPEP工程及びRIE等のエッチングで
形成する(図11(c))。
Next, the MR element 69, the leads 70 and 70 '
After forming the nonmagnetic insulating layer 80 covering the medium, the medium facing surface AB
The reproducing magnetic gap 68 and the lower shield layer 6 behind S
7, and a lead hole that penetrates through the coil insulating layer 66 and reaches the coil 65 is formed by the PEP process and etching such as RIE (FIG. 11C).

【0066】続いて、穴の内表面を絶縁層71で被覆
し、コイル65に接続するコイル電極72、72' を形
成する。このコイル電極72、72' を覆う絶縁層を形
成し、さらに、MR素子69を覆う上側シールド層75
を形成する。さらに、上側シールド層75の表面を保護
膜(図示せず)により被覆し、本実施形態の磁気記録再
生ヘッドが完成する。
Subsequently, the inner surface of the hole is covered with an insulating layer 71, and coil electrodes 72 and 72 'connected to the coil 65 are formed. An insulating layer covering the coil electrodes 72 and 72 'is formed, and an upper shield layer 75 covering the MR element 69 is formed.
To form Further, the surface of the upper shield layer 75 is covered with a protective film (not shown) to complete the magnetic recording / reproducing head of this embodiment.

【0067】上述の各実施形態において、シールド層3
2、37、62、67等を構成する軟磁性層は、NiF
e合金やCoZrNbアモルファス合金、AlABSi
Fe系センダスト等を用いることができる。
In each of the above embodiments, the shield layer 3
The soft magnetic layers constituting 2, 37, 62, 67, etc. are made of NiF
e alloy, CoZrNb amorphous alloy, AlABSi
Fe-based sendust or the like can be used.

【0068】上述の各実施形態において、MR膜34、
69として、例えば電流の方向と磁性層の磁化モーメン
トの成す角度に依存して電気抵抗が変化するNi80Fe
20等からなる異方性磁気抵抗効果膜、磁性膜と非磁性膜
との積層構造を有し、各磁性層の磁化の成す角度に依存
して電気抵抗が変化する、いわゆるスピンバルブ効果を
示すCo90Fe10/Cu/Co90Fe10積層膜等からな
るスピンバルブ膜、巨大磁気抵抗効果を示す人工格子
膜、グラニュラ膜、あるいはペロブスカイト系マンガン
酸化物等を用いたコロッサルMR(CMR)膜等が例示
される。
In each of the above embodiments, the MR film 34,
69, for example, Ni80Fe whose electric resistance changes depending on the angle between the direction of the current and the magnetization moment of the magnetic layer.
Anisotropic magnetoresistive effect film consisting of 20 or more, has a laminated structure of a magnetic film and a non-magnetic film, and exhibits a so-called spin valve effect in which the electric resistance changes depending on the angle formed by the magnetization of each magnetic layer. Examples thereof include a spin valve film made of a Co90Fe10 / Cu / Co90Fe10 laminated film, an artificial lattice film exhibiting a giant magnetoresistance effect, a granular film, a corrosal MR (CMR) film using a perovskite-based manganese oxide, or the like.

【0069】次に、本発明の磁気記録再生ヘッドを搭載
した、磁気記録再生装置について図12(a)及び図1
2(b)を用いて説明する。図12(a)は磁気記録再
生ヘッドのヘッド80と媒体の位置関係を示し、図12
(b)は磁気記録再生装置の構成を示す図である。
Next, a magnetic recording / reproducing apparatus equipped with the magnetic recording / reproducing head of the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. FIG. 12A shows the positional relationship between the magnetic recording / reproducing head 80 and the medium.
FIG. 2B is a diagram illustrating a configuration of a magnetic recording / reproducing apparatus.

【0070】図12(a)において、ヘッド80を示
し、媒体のトラック182のトラックとトラック幅、及
び媒体進行方向の関係を示す。図12(b)の磁気記録
再生装置140では、回転可能なディスク支持盤142
上に磁気ディスク144が裁置され、磁気記録再生ヘッ
ド150は磁気ディスク144から一定の浮上量dを維
持するように、あるいは磁気ディスク144に接触する
ようにスライダ148に取り付けられている。スライダ
148は書き込み信号Soや読み取り信号Siを伝達す
るヘッドサスペンションアセンブリ155に接続され
る。ディスク支持盤142はモータ146により回転さ
せられ、その制御は磁気記録再生装置140の内部又は
外部に備えられた制御回路からモータへ送られる制御信
号Cにより行われる。本磁気記録再生装置は、上述の効
果を備える磁気記録再生ヘッドを搭載することにより、
微細かつ、高精度の記録再生が可能となる。
In FIG. 12A, the head 80 is shown, and the relationship between the track and track width of the track 182 of the medium and the medium traveling direction is shown. In the magnetic recording / reproducing apparatus 140 shown in FIG.
The magnetic recording / reproducing head 150 is mounted on the slider 148 so as to maintain a constant flying height d from the magnetic recording disk 144 or to contact the magnetic recording disk 144. The slider 148 is connected to a head suspension assembly 155 that transmits a write signal So and a read signal Si. The disk support board 142 is rotated by a motor 146, and its control is performed by a control signal C sent to the motor from a control circuit provided inside or outside the magnetic recording / reproducing device 140. The present magnetic recording / reproducing apparatus is equipped with a magnetic recording / reproducing head having the above-described effects,
Fine and high-precision recording / reproduction becomes possible.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
上側に位置する、例えば磁気ヘッドの記録コイルや上側
磁極等の形成精度を大幅に向上させることが可能となる
ため、高記録密度化に適した磁気記録再生ヘッドを安定
して提供することが可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since it is possible to greatly improve the formation accuracy of the recording coil, upper magnetic pole, etc. of the magnetic head located on the upper side, it is possible to stably provide a magnetic recording / reproducing head suitable for high recording density. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施形態の磁気記録再生ヘッ
ドの概略構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a magnetic recording / reproducing head according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す磁気記録再生ヘッドの平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of the magnetic recording / reproducing head shown in FIG.

【図3】 図1に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第1の実施形態を説明するための工程別断面図である。
FIG. 3 is a sectional view for explaining a first embodiment of the method for manufacturing the magnetic recording / reproducing head shown in FIG. 1;

【図4】 図1に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第2の実施形態を説明するための工程別断面図である。
FIG. 4 is a sectional view for explaining steps in a second embodiment of the method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head shown in FIG. 1;

【図5】 第2の実施形態の製造方法の変形例を示す断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a modification of the manufacturing method according to the second embodiment.

【図6】 図1に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第3の実施形態を説明するための、工程別断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining steps, explaining a third embodiment of the method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head shown in FIG. 1;

【図7】 本発明の製造方法の第4の実施形態の製造方
法を説明するための工程別断面図である。
FIG. 7 is a sectional view for explaining a manufacturing method according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】 図7に示す要部製造工程以降の製造工程、及
び本発明の第3の実施形態の磁気記録再生ヘッドを示す
断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a manufacturing process after a main portion manufacturing process shown in FIG. 7, and a magnetic recording / reproducing head according to a third embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の第3の実施形態の磁気記録再生ヘッ
ドの変形例を説明するための断面図である。
FIG. 9 is a sectional view illustrating a modification of the magnetic recording / reproducing head according to the third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の磁気記録再生ヘッドの第4の実施形
態を説明するための断面図、及び平面図である。
FIG. 10 is a sectional view and a plan view for explaining a fourth embodiment of the magnetic recording / reproducing head of the present invention.

【図11】 図10 に示す磁気記録再生ヘッドに関す
る製造方法を説明するための工程別断面図である。
11 is a sectional view for explaining a method of manufacturing the magnetic recording / reproducing head shown in FIG. 10;

【図12】 本発明の磁気記録再生ヘッドを搭載した磁
気記録再生装置の構成図を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration diagram of a magnetic recording / reproducing apparatus equipped with the magnetic recording / reproducing head of the present invention.

【図13】 従来の磁気記録再生ヘッドの製造工程別断
面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a conventional magnetic recording / reproducing head for each manufacturing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

15、20……磁気記録再生ヘッド 8、30、911…シールド型MRヘッドからなる再生
ヘッド 32……下側シールド層 67・・・・・・上側磁極を兼ねる下側シールド層 33、68……下側再生磁気ギャップ膜 34、69……MR膜 35、35' 、70、70' ……一対のリード 36、80……上側再生磁気ギャップ膜 37……下側磁極を兼ねる上側シールド層 38、38' ……再生ヘッド引き出し電極 40、90……誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド 41、63……記録磁気ギャップ膜 42……上側磁極 43、65……記録コイル 46……電極引き出し穴 72、 72' ・・・・・・コイル電極
15, 20 magnetic recording / reproducing head 8, 30, 911 reproducing head composed of shielded MR head 32 lower shield layer 67 lower shield layer 33 serving also as upper magnetic pole 33, 68 Lower reproducing magnetic gap film 34, 69 MR film 35, 35 ', 70, 70' A pair of leads 36, 80 Upper reproducing magnetic gap film 37 Upper shield layer 38 also serving as lower magnetic pole 38 '... read head lead electrode 40, 90 ... recording head 41, 63 consisting of an induction type magnetic head ... recording magnetic gap film 42 ... upper magnetic pole 43, 65 ... recording coil 46 ... electrode lead hole 72, 72 '... coil electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 直行 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式 会社東芝 川崎事業所内 (72)発明者 大沢 裕一 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式 会社東芝 川崎事業所内 (72)発明者 橋本 進 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式 会社東芝 川崎事業所内 (72)発明者 小沢 則雄 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式 会社東芝 川崎事業所内 (72)発明者 坂久保 武男 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式 会社東芝 川崎事業所内 (72)発明者 佐粧 輝夫 大分市大字松岡3500番地 株式会社東芝 大分工場内 (56)参考文献 特開 平9−22512(JP,A) 特開 平9−16925(JP,A) 特開 平7−182625(JP,A) 特開 平3−269814(JP,A) 特開 平9−185808(JP,A) 特開 平8−167123(JP,A) 特開 平6−215321(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/39 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Naoyuki Inoue 72 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Corporation Kawasaki Office (72) Inventor Yuichi Osawa 72-Horikawacho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Toshiba Corporation Within the Kawasaki Office (72) Inventor Susumu Hashimoto 72 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Corporation Kawasaki Office (72) Inventor Norio Ozawa 72-Horikawacho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Kawasaki Office ( 72) Inventor Takeo Sakakubo 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Kawasaki Plant (72) Inventor Teruo Sasho 3500 Matsuoka, Oita-shi Oita-shi Oita Plant (56) References JP Japanese Patent Laid-Open No. 9-22512 (JP, A) Japanese Patent Laid-Open No. 9-16925 (JP, A) Japanese Patent Laid-Open No. 7-182625 (JP, A) Japanese Patent Laid-Open No. 3-269814 (JP, A) JP flat 9-185808 (JP, A) JP flat 8-167123 (JP, A) JP flat 6-215321 (JP, A) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/39

Claims (16)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】積層形成された磁気再生ヘッドと磁気記録
ヘッドとを有する磁気記録再生ヘッドにおいて、前記磁
気再生ヘッドと前記磁気記録ヘッドのうち、上層に形成
された磁気ヘッドにはその下層の磁気ヘッドの電極引き
出し穴が前記上層の磁気ヘッドを構成する導電体の一部
を貫通して設けられていることを特徴とする磁気記録再
生ヘッド。
In a magnetic recording / reproducing head having a magnetic reproducing head and a magnetic recording head formed in a stacked manner, of the magnetic reproducing head and the magnetic recording head, a magnetic head formed in an upper layer has a lower magnetic layer. A magnetic recording / reproducing head, wherein an electrode lead hole of the head is provided so as to penetrate a part of a conductor constituting the upper magnetic head.
【請求項2】前記上層に形成された磁気ヘッドは記録磁
極及び記録コイルが備えられた記録ヘッドであり、前記
下層の磁気へッドは磁気抵抗効果膜、及びこの磁気抵抗
効果膜に接続するリードが備えられた再生ヘッドであ
り、前記電極引き出し穴には前記リードに電気的に接続
する引き出し電極が形成されていることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録再生ヘッド。
2. The magnetic head formed on the upper layer is a recording head having a recording magnetic pole and a recording coil, and the lower magnetic head is connected to a magnetoresistive film and the magnetoresistive film. 2. The magnetic recording / reproducing head according to claim 1, wherein the reproducing head is provided with a lead, and a lead electrode electrically connected to the lead is formed in the electrode lead hole.
【請求項3】前記磁気再生ヘッドは前記磁気抵抗効果膜
上に再生磁気ギャップを介して形成された上側シールド
層を備え、前記磁気記録ヘッドは前記上側シールド層と
共通の磁性体層からなる下側磁極と、この下側磁極に対
向する上側磁極と、これらの磁極間に介在する記録磁気
ギャップと、前記磁極に信号磁界を供給する前記磁気コ
イルとを備えることを特徴とする請求項2記載の磁気記
録再生ヘッド。
3. The magnetic read head comprises an upper shield layer formed on the magnetoresistive film via a read magnetic gap, and the magnetic recording head comprises a lower magnetic layer common to the upper shield layer. 3. The apparatus according to claim 2, further comprising a side magnetic pole, an upper magnetic pole facing the lower magnetic pole, a recording magnetic gap interposed between the magnetic poles, and the magnetic coil for supplying a signal magnetic field to the magnetic pole. Magnetic recording and reproducing head.
【請求項4】前記磁極は媒体対向面に近接する先端部
と、この先端部と磁気的に接続し、媒体対向面と平行な
方向の幅が前記先端部よりも広い領域を備える後部とか
らなることを特徴とする請求項2記載の磁気記録再生ヘ
ッド。
4. A magnetic head according to claim 1, wherein said magnetic pole has a front end portion close to said medium facing surface and a rear portion magnetically connected to said front end portion and having a region wider in width in a direction parallel to said medium facing surface than said front end portion. 3. The magnetic recording / reproducing head according to claim 2, wherein:
【請求項5】前記磁極後部は媒体に対向する面から所定
距離離間して形成されていることを特徴とする請求項4
記載の磁気記録再生ヘッド。
5. The magnetic pole rear part is formed at a predetermined distance from a surface facing a medium.
The magnetic recording / reproducing head according to the above.
【請求項6】前記先端部は表面が互いに同一面となる絶
縁層により周囲を囲まれていることを特徴とする請求項
4記載の磁気記録再生ヘッド。
6. The magnetic recording / reproducing head according to claim 4, wherein the front end is surrounded by an insulating layer whose surfaces are flush with each other.
【請求項7】前記電極引き出し穴は媒体対向面から離間
して形成されていることを特徴とする請求項1記載の磁
気記録再生ヘッド。
7. A magnetic recording / reproducing head according to claim 1, wherein said electrode lead-out hole is formed apart from a medium facing surface.
【請求項8】前記上層に形成された磁気ヘッドは磁気抵
抗効果素子、及び前記磁気抵抗効果素子に電気的に接続
するリードを備える磁気再生ヘッドであり、前記下層の
磁気ヘッドは記録磁極及び記録コイルを備える磁気記録
ヘッドであり、前記電極引き出し穴には前記記録コイル
に電気的に接続する電極が形成されていることを特徴と
する請求項1記載の磁気記録再生ヘッド。
8. The magnetic head formed in the upper layer is a magnetic read head having a magnetoresistive element and a lead electrically connected to the magnetoresistive element, and the lower magnetic head includes a recording magnetic pole and a recording pole. 2. The magnetic recording / reproducing head according to claim 1, wherein the magnetic recording head includes a coil, and an electrode electrically connected to the recording coil is formed in the electrode lead hole.
【請求項9】前記記録ヘッドは媒体対向面に近接する先
端部において記録磁気ギャップを介して対向する下側磁
極及び上側磁極と、この下側及び上側磁極に信号磁界を
与える記録コイルとを備え、前記再生ヘッドは前記上側
磁極と共通の磁性体層からなるシールド層と、このシー
ルド層上に再生磁気ギャップを介して形成された前記磁
気抵抗効果膜及び前記リードとを備え、前記導電層は前
記シールド層であることを特徴とする請求項8記載の磁
気記録再生ヘッド。
9. The recording head includes a lower magnetic pole and an upper magnetic pole opposed to each other via a recording magnetic gap at a tip end close to the medium facing surface, and a recording coil for applying a signal magnetic field to the lower and upper magnetic poles. The read head includes a shield layer made of a magnetic layer common to the upper magnetic pole, and the magnetoresistive film and the lead formed on the shield layer via a read magnetic gap. 9. The magnetic recording / reproducing head according to claim 8, wherein the magnetic recording / reproducing head is the shield layer.
【請求項10】前記上層の磁気ヘッドは前記電極引き出
し穴が形成された領域よりも微細なパターンからなる媒
体対向面に近接する先端部を備えることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録再生ヘッド。
10. The magnetic recording / reproducing apparatus according to claim 1, wherein the upper magnetic head has a tip portion which is closer to a medium facing surface having a finer pattern than a region where the electrode lead-out holes are formed. head.
【請求項11】前記上層の磁気ヘッドは、媒体対向面に
近接する先端部に幅が1 μm以下のパターンを備えるこ
とを特徴とする請求項10記載の磁気記録再生ヘッド。
11. The magnetic recording / reproducing head according to claim 10, wherein the upper magnetic head has a pattern having a width of 1 μm or less at a tip portion close to the medium facing surface.
【請求項12】磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドを積層
形成する工程と、前記磁気再生ヘッドと前記磁気記録ヘ
ッドのうち、その下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴を
上層に形成した磁気ヘッドを構成する導電体の一部を貫
通するように形成する工程と、前記電極引き出し穴の内
壁に絶縁膜を形成する工程と、内壁に前記絶縁膜が形成
された前記電極引き出し穴に下層に形成された磁気ヘッ
ドの引き出し電極を形成する工程とを具備することを特
徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。
12. A step of laminating a magnetic reproducing head and a magnetic recording head, and forming a magnetic head in which an electrode lead hole of a lower magnetic head of the magnetic reproducing head and the magnetic recording head is formed in an upper layer. Forming an insulating film on an inner wall of the electrode lead-out hole, forming a part of the conductor so as to penetrate the same, and forming a lower layer in the electrode lead-out hole having the insulating film formed on the inner wall. Forming a lead electrode of the head.
【請求項13】再生ヘッドの磁気抵抗効果膜と、この磁
気抵抗効果膜に接続するリードと、前記磁気抵抗効果膜
上に再生磁気ギャップを介して形成したシールド層とを
形成する工程と、前記シールド層と共通の磁性体層によ
り構成された下側磁極と、前記下側磁極上に形成された
記録磁気ギャップと、前記記録磁気ギャップ膜上に形成
された記録コイルと、少なくとも先端部が前記記録磁気
ギャップ上に形成され、かつ前記記録コイルの一部を覆
うように設けた上側磁極とを有する記録ヘッドとを形成
する工程とを具備し、前記記録コイルを形成した後に、
前記上側シールド層及び下側磁極に共通の磁性体層を加
工して、前記電極引き出し穴を形成することを特徴とす
る請求項12記載の磁気記録再生ヘッドの製造方法。
13. A step of forming a magnetoresistive film of a reproducing head, a lead connected to the magnetoresistive film, and a shield layer formed on the magnetoresistive film via a reproducing magnetic gap. A lower magnetic pole composed of a shield layer and a common magnetic material layer, a recording magnetic gap formed on the lower magnetic pole, a recording coil formed on the recording magnetic gap film, Forming a recording head having an upper magnetic pole formed on the recording magnetic gap and covering a part of the recording coil, and after forming the recording coil,
13. The method of manufacturing a magnetic recording / reproducing head according to claim 12, wherein the electrode drawing hole is formed by processing a magnetic layer common to the upper shield layer and the lower magnetic pole.
【請求項14】少なくとも前記記録コイルを形成した後
に、前記下側シールド層をパターニングすることを特徴
とする請求項13記載の磁気記録再生ヘッドの製造方
法。
14. The method according to claim 13, wherein the lower shield layer is patterned after at least forming the recording coil.
【請求項15】下側シールド層と、前記下側シールド層
上に下側再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一
対のリードを有する磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効
果膜上に上側再生磁気ギャップ膜を介して形成された上
側シールド層とを有する再生ヘッドと、前記上側シール
ド層と共通の磁性体層により構成された下側磁極と、前
記下側磁極上に形成された記録磁気ギャップ膜と、前記
記録磁気ギャップ膜の上側に形成された記録コイルと、
少なくとも先端部が前記記録磁気ギャップ膜上に形成さ
れ、かつ前記記録コイルの一部を覆うように設けられた
上側磁極とを有する記録ヘッドとを具備する磁気記録再
生ヘッドを製造するにあたり、少なくとも前記記録ギャ
ップ膜を形成した後に、前記上側シールド層及び下側磁
極共通の磁性体層に電極引き出し穴を形成し、少なくと
も前記記録コイルを形成した後に、前記電極引き出し穴
を介して前記磁気抵抗効果膜のリードを引出すことを特
徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。
15. A lower shield layer, a magnetoresistive film formed on the lower shield layer via a lower reproducing magnetic gap film and having a pair of leads, and an upper surface on the magnetoresistive film. A read head having an upper shield layer formed with a read magnetic gap film interposed therebetween; a lower magnetic pole formed of a magnetic layer common to the upper shield layer; and a recording magnetic layer formed on the lower magnetic pole. A gap film, a recording coil formed above the recording magnetic gap film,
In manufacturing a magnetic recording / reproducing head having at least a tip portion formed on the recording magnetic gap film and having an upper magnetic pole provided so as to cover a part of the recording coil, at least After forming a recording gap film, an electrode lead-out hole is formed in the upper shield layer and the magnetic layer common to the lower magnetic pole, and after forming at least the recording coil, the magnetoresistive effect film is passed through the electrode lead-out hole. A method for manufacturing a magnetic recording / reproducing head, comprising:
【請求項16】下側シールド層と、前記下側シールド層
上に下側再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一
対のリードを有する磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効
果膜上に上側再生磁気ギャップを介して形成した上側シ
ールド層とを有する再生ヘッドを形成する工程と、前記
下側シールド層と共通の磁性体層により構成された上側
磁極と、記録磁気ギャップを介して前記上側磁極と対向
する下側磁極と、前記上側磁極及び前記下側磁極に電流
磁界を与える記録コイルとを有する記録ヘッドを形成す
る工程とを具備し、前記リード、又は前記磁気抵抗効果
膜を形成した後に、前記下側シールド層及び上側磁極に
共通の磁性体層を貫通する前記電極引き出し穴を形成す
ることを特徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。
16. A lower shield layer, a magnetoresistive film formed on the lower shield layer via a lower reproducing magnetic gap film and having a pair of leads, and an upper surface on the magnetoresistive film. Forming a read head having an upper shield layer formed through a read magnetic gap; an upper magnetic pole formed of a magnetic layer common to the lower shield layer; and the upper magnetic pole formed through a recording magnetic gap. Forming a recording head having a lower magnetic pole opposed to a recording coil that applies a current magnetic field to the upper magnetic pole and the lower magnetic pole, and after forming the read or the magnetoresistive film. Forming the electrode lead-out hole penetrating through a common magnetic layer to the lower shield layer and the upper magnetic pole.
JP05867397A 1996-03-15 1997-03-13 Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same Expired - Fee Related JP3222081B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05867397A JP3222081B2 (en) 1996-03-15 1997-03-13 Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5984196 1996-03-15
JP8-59841 1996-03-15
JP05867397A JP3222081B2 (en) 1996-03-15 1997-03-13 Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09305930A JPH09305930A (en) 1997-11-28
JP3222081B2 true JP3222081B2 (en) 2001-10-22

Family

ID=26399698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05867397A Expired - Fee Related JP3222081B2 (en) 1996-03-15 1997-03-13 Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3222081B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11353614A (en) 1998-06-08 1999-12-24 Nec Corp Thin-film magnetic head and magnetic memory device using the same
US6460243B1 (en) * 1999-11-22 2002-10-08 International Business Machines Corporation Method of making low stress and low resistance rhodium (RH) leads
JP2001176027A (en) 1999-12-14 2001-06-29 Nec Corp Magnetoresistance effect head and magnetic memory device using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09305930A (en) 1997-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5995342A (en) Thin film heads having solenoid coils
US6103073A (en) Magnetic thin film head zero throat pole tip definition
JPH07225917A (en) Thin-film magnetic writing head and manufacture thereof
JPH09106512A (en) Manufacture of inverted magnetoresistance head
JP2002298309A (en) Magnetic head and its manufacturing method
JPH11353617A (en) Thin film magnetic head
JP2000105906A (en) Production of thin film magnetic head
JP2000113412A (en) Thin film magnetic head and manufacture thereof
JP3484343B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP2002343639A (en) Thin-film coil, magnet head, method of manufacturing the coil, and method of manufacturing the head
JPH10283616A (en) Magneto-resistive composite head and its production as well as magnetic memory device
US5912790A (en) Thin film magnetic recording-reproducing head having a high recording density and high fidelity
JP2000173017A (en) Thin film magnetic head and manufacture of the same
JP2000155906A (en) Thin film magnetic head and its manufacture
US6320726B1 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same, and method of forming thin film coil
JP3222081B2 (en) Magnetic recording / reproducing head and method of manufacturing the same
JP2000155914A (en) Manufacture of thin film magnetic head
JP3469473B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP3839164B2 (en) Thin film magnetic head and manufacturing method thereof
JP3475148B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP2707758B2 (en) Method for manufacturing thin-film magnetic head
JP2002208114A (en) Thin film magnetic head and manufacturing method therefor
JPS5880117A (en) Production of thin film magnetic head
JP3316875B2 (en) Method of manufacturing magnetoresistive head
JP4010702B2 (en) Manufacturing method of thin film magnetic head

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees