JP2000174491A - Electromagnetic shield light-transmission window material - Google Patents

Electromagnetic shield light-transmission window material

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JP2000174491A
JP2000174491A JP10347229A JP34722998A JP2000174491A JP 2000174491 A JP2000174491 A JP 2000174491A JP 10347229 A JP10347229 A JP 10347229A JP 34722998 A JP34722998 A JP 34722998A JP 2000174491 A JP2000174491 A JP 2000174491A
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wave shielding
window material
light transmitting
transmitting window
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雅人 吉川
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Yasuhiro Morimura
泰大 森村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide appropriate and excellent electromagnetic wave shield performance as an electromagnetic wave shield filter for plasma display panel, and at the same time to transmit light and obtain a clear image by forming at least one of two transparent substrates with tempered glass. SOLUTION: In an electromagnetic shield light transmission window material 1, two transparent substrates 2A and 2B are jointed and formed in one piece by a bonding layer 3 made of bonding resin such as ethylene-acetic vinyl copolymer where conductive particles are dispersed and mixed. As a material for composing the transparent substrates 2A and 2B, glass, polyethylenetelephtharate(PET), polycarbonate(PC), and polymethylmethaacrylate(PMMA) are used. In this case, at least one of the transparent substrates 2A and 2B should be made of tempered glass. Also, as glass for composing the transparent substrates 2A and 2B, chemically tempered glass is preferably used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、PDP(プラズマディスプレーパ
ネル)の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, and more particularly to an electromagnetic wave having good electromagnetic wave shielding and light transmitting properties, which is useful as a front filter of a plasma display panel (PDP). The present invention relates to a light transmitting window material having a shielding property.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、OA機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of office automation equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these equipment have become a problem. That is, there is a concern that the electromagnetic waves may affect the human body, and malfunctions of precision equipment due to the electromagnetic waves have become a problem.

【0003】特に、近年、平面大型ディスプレーとして
商品化されているPDPは、その動作機構ゆえ、画面か
らの電磁波放射が大きいため、電磁波シールド性を有
し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されてい
る。このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精
密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設
置場所の窓材としても利用されている。
In particular, in recent years, PDPs which have been commercialized as large flat displays have a large electromagnetic wave radiation from the screen due to the operation mechanism. Therefore, window materials having electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties have been developed. , Has been put to practical use. Such a window material is also used as a window material in a place where precision equipment is installed, such as a hospital or a laboratory, in order to protect precision equipment from electromagnetic waves such as mobile phones.

【0004】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。
The conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material has a structure in which a conductive mesh material such as a wire mesh is interposed between transparent substrates such as an acrylic plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電性
メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材で
は、十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュ
の網目を相当細かくする必要があるが、その場合、OA
機器のPDPの前面に格子状のものを置くことになるこ
とから、画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮
明な画像が得られない。また、PDPのドット数と、メ
ッシュの格子とで干渉縞(いわゆるモアレ)が発生し、
この現象によっても画像は見難いものとなる。
However, in the conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material using a conductive mesh, it is necessary to make the mesh of the mesh considerably fine in order to obtain a sufficient electromagnetic wave shielding property. , In that case, OA
Since a grid-like object is placed on the front of the PDP of the device, a phenomenon such as blurring of the image occurs, and a clear image cannot be obtained. Also, interference fringes (so-called moiré) occur between the number of dots of the PDP and the grid of the mesh,
This phenomenon also makes the image difficult to see.

【0006】しかも、導電性メッシュを用いる場合、基
板の貼り合せ工程において、基板間に薄いメッシュを挿
入しなければならないため、ハンドリングが煩雑な上、
貼り合せ条件の設定等も難しく、製造が容易ではないと
いう問題点もある。
In addition, when a conductive mesh is used, a thin mesh must be inserted between the substrates in the process of bonding the substrates, which makes the handling complicated.
It is also difficult to set bonding conditions and the like, and there is a problem that manufacturing is not easy.

【0007】また、電磁波シールド性光透過窓材の透明
基板としては、剛性に優れ、PDPからの伝熱による変
形がなく、耐食性等にも優れることから、ガラス基板を
用いるのが好ましいが、通常のガラス基板の場合、強い
荷重をかけると割れるという機械的強度に大きな欠点を
持っている。また、化学的安定性が十分であるとは言え
ず、耐候性が不足し、高温高湿環境下に長期間晒される
と表面にヤケが発生するなどの欠点があった。
As the transparent substrate of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, it is preferable to use a glass substrate because of its excellent rigidity, no deformation due to heat transfer from the PDP, and excellent corrosion resistance. The glass substrate described above has a large disadvantage in mechanical strength that it breaks when a strong load is applied. Further, it cannot be said that the chemical stability is sufficient, the weather resistance is insufficient, and the surface is burnt when exposed to a high-temperature and high-humidity environment for a long time.

【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、PD
P用電磁波シールドフィルタ等として好適な、良好な電
磁波シールド性能を有し、かつ光透過性で鮮明な画像を
得ることができる電磁波シールド性光透過窓材を提供す
ることを目的とする。
[0008] The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a PD.
It is an object of the present invention to provide an electromagnetic wave shielding light transmitting window material which has good electromagnetic wave shielding performance, is suitable as an electromagnetic wave shielding filter for P, and can obtain a transparent image with a clear image.

【0009】本発明はまた、このような優れた特性を有
すると共に、製造も容易な電磁波シールド性光透過窓材
を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having such excellent characteristics and easy to manufacture.

【0010】本発明はまた、透明基板としてのガラス基
板の機械的強度と化学的耐久性が著しく良好な電磁波シ
ールド性光透過窓材を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which the mechanical strength and chemical durability of a glass substrate as a transparent substrate are extremely good.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1の電磁波シール
ド性光透過窓材は、2枚の透明基板を、導電性材料の粒
子が分散混合された樹脂よりなる接着層により接合一体
化してなる電磁波シールド性光透過窓材であって、該2
枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強化ガラスより
なることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which two transparent substrates are joined and integrated by an adhesive layer made of a resin in which particles of a conductive material are dispersed and mixed. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material,
At least one of the transparent substrates is made of tempered glass.

【0012】請求項1の電磁波シールド性光透過窓材
は、接着層に導電性材料の粒子(以下「導電性粒子」と
称す。)を分散させたものであるため、この粒子の粒径
や分散量を調整することにより、所望の電磁波シールド
性能を有し、かつ、光透過性でモアレ現象のない窓材を
得ることができる。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the first aspect, particles of a conductive material (hereinafter referred to as “conductive particles”) are dispersed in an adhesive layer. By adjusting the amount of dispersion, it is possible to obtain a window material having a desired electromagnetic wave shielding performance and having a light transmissive property without a moire phenomenon.

【0013】しかも、請求項1の電磁波シールド性光透
過窓材は、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等
の樹脂に導電性粒子を混合してシート成形した接着用シ
ートを2枚の透明基板間に介在させて接着処理を行うこ
とにより、容易に製造することができる。
Further, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to the first aspect of the present invention is a resin sheet such as an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) mixed with conductive particles to form a sheet for bonding two transparent sheets. By performing the bonding treatment by interposing between the substrates, it can be easily manufactured.

【0014】請求項1において、接着層中の導電性粒子
の粒径は0.5mm以下であることが好ましく、その混
合割合は樹脂に対して0.1〜50重量%であることが
好ましい。
In claim 1, the particle size of the conductive particles in the adhesive layer is preferably 0.5 mm or less, and the mixing ratio thereof is preferably 0.1 to 50% by weight based on the resin.

【0015】請求項1の電磁波シールド性光透過窓材
は、導電性メッシュを併用したものであっても良い。
[0015] The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the first aspect may use a conductive mesh together.

【0016】請求項5の電磁波シールド性光透過窓材
は、透明基板の板面に導電層を樹脂で接着させた電磁波
シールド性光透過窓材において、該導電層は、導電性の
箔をパターンエッチングしたものであり、該透明基板は
強化ガラスよりなることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive layer is adhered to a plate surface of a transparent substrate with a resin. Etched, wherein the transparent substrate is made of tempered glass.

【0017】請求項7の電磁波シールド性光透過窓材
は、2枚の透明基板間に導電層を介在させて樹脂で接着
させた電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層
は、導電性の箔をパターンエッチングしたものであり、
該2枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強化ガラス
よりなることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive layer is interposed between two transparent substrates and bonded with a resin. Is a pattern-etched foil of
At least one of the two transparent substrates is made of tempered glass.

【0018】パターンエッチングによれば、導電性の箔
を所望のパターン形状にエッチングすることができるこ
とから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシ
ュに比べて格段に大きい。このため、電磁波シールド
性、光透過性が共に良好でモアレ現象も起こることがな
いエッチング箔を用いて良好な電磁波シールド性光透過
窓材を実現することができる。
According to the pattern etching, since the conductive foil can be etched into a desired pattern shape, the degree of freedom of the wire diameter, the interval, and the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh. For this reason, it is possible to realize a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material by using an etching foil that has both good electromagnetic wave shielding property and light transmittance and does not cause the moire phenomenon.

【0019】この導電性の箔は、金属箔をフォトレジス
トのコーティング、パターン露光及びエッチングの工程
により所定パターンにエッチングしたものが好適であ
る。
The conductive foil is preferably one obtained by etching a metal foil into a predetermined pattern by a process of coating a photoresist, exposing a pattern, and etching.

【0020】請求項9の電磁波シールド性光透過窓材
は、透明基板の板面に導電層を形成してなる電磁波シー
ルド性光透過窓材において、該導電層は、透明基板の板
面に形成された導電性の膜をパターンエッチングしたも
のであり、該透明基板は強化ガラスよりなることを特徴
とする。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a conductive layer formed on a plate surface of a transparent substrate, wherein the conductive layer is formed on the plate surface of the transparent substrate. The transparent substrate is made of tempered glass by pattern etching.

【0021】請求項10の電磁波シールド性光透過窓材
は、2枚の透明基板を接着樹脂により接合一体化してな
り、少なくとも一方の透明基板に導電層が形成されてな
る電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層は、
透明基板の板面に形成された導電性の膜をパターンエッ
チングしたものであり、該一方及び/又は他方の透明基
板は強化ガラスよりなることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising two transparent substrates bonded and integrated with an adhesive resin, and a conductive layer formed on at least one of the transparent substrates. In the material, the conductive layer comprises:
The conductive film formed on the plate surface of the transparent substrate is pattern-etched, and the one and / or the other transparent substrate is made of tempered glass.

【0022】パターンエッチングによれば、導電性の膜
を所望のパターン形状にエッチングすることができるこ
とから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシ
ュに比べて格段に大きい。このため、電磁波シールド
性、光透過性が共に良好でモアレ現象も起こることがな
いエッチング膜を形成して良好な電磁波シールド性光透
過窓材を実現することができる。
According to the pattern etching, since the conductive film can be etched into a desired pattern shape, the degree of freedom of the wire diameter, the interval, and the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh. Therefore, it is possible to form an etching film that has both good electromagnetic wave shielding properties and light transmissivity and does not cause the moire phenomenon, thereby realizing a good electromagnetic wave shielding light transmissive window material.

【0023】このような電磁波シールド性光透過窓材
は、予めパターンエッチングされた導電性の膜を形成し
た透明基板を用いて、エチレン−酢酸ビニル共重合体
(EVA)等の接着樹脂をシート成形した接着用フィル
ムを2枚の透明基板間に介在させて接着処理を行うこと
により、容易に製造することができる。
Such an electromagnetic wave shielding light transmitting window material is formed by sheet molding an adhesive resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) using a transparent substrate on which a conductive film which has been subjected to pattern etching in advance is formed. The adhesive film is interposed between the two transparent substrates to perform the adhesive treatment, whereby the film can be easily manufactured.

【0024】この導電性の膜は、透明基板面に形成した
金属膜をフォトレジストのコーティング、パターン露光
及びエッチングの工程により所定パターンにエッチング
したものが好適である。
The conductive film is preferably obtained by etching a metal film formed on a transparent substrate surface into a predetermined pattern by a process of coating a photoresist, exposing a pattern, and etching.

【0025】請求項12の電磁波シールド性光透過窓材
は、透明基板の板面に導電層を形成してなる電磁波シー
ルド性光透過窓材において、該導電層は、透明基板の板
面に導電性インキをパターン印刷してなるものであり、
該透明基板は強化ガラスよりなることを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a conductive layer formed on a plate surface of a transparent substrate, wherein the conductive layer is electrically conductive on the plate surface of the transparent substrate. It is made by printing a pattern of water-based ink,
The transparent substrate is made of tempered glass.

【0026】請求項13の電磁波シールド性光透過窓材
は、2枚の透明基板を接着樹脂により接合一体化してな
り、少なくとも一方の透明基板の板面に導電層が形成さ
れてなる電磁波シールド性光透過窓材において、該導電
層は、透明基板の板面に導電性インキをパターン印刷し
てなるものであり、該一方及び/又は他方の透明基板は
強化ガラスよりなることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which two transparent substrates are bonded and integrated with an adhesive resin, and a conductive layer is formed on a plate surface of at least one of the transparent substrates. In the light transmitting window material, the conductive layer is obtained by pattern-printing a conductive ink on a plate surface of a transparent substrate, and the one and / or the other transparent substrate is made of tempered glass.

【0027】パターン印刷によれば、所望のパターン形
状の導電層を形成することができることから、線径や間
隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に
大きい。このため、電磁波シールド性、光透過性が共に
良好でモアレ現象も起こることがないパターン印刷膜を
用いて良好な電磁波シールド性光透過窓材を実現するこ
とができる。
According to the pattern printing, since a conductive layer having a desired pattern shape can be formed, the degree of freedom of the wire diameter, the spacing, and the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh. For this reason, it is possible to realize a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material by using a pattern printing film that has both good electromagnetic wave shielding property and light transmittance and does not cause the moire phenomenon.

【0028】このような窓材は、予めパターン印刷によ
り導電層を形成した透明基板を用い、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体(EVA)等の樹脂をシート成形した接着
用フィルムを2枚の透明基板間に介在させて接着処理を
行うことにより、容易に製造することができる。
Such a window material is made of a transparent substrate on which a conductive layer has been formed by pattern printing in advance, and an adhesive film formed by sheet molding a resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) into two transparent substrates. By performing the bonding treatment with the interposition therebetween, it can be easily manufactured.

【0029】しかも、本発明においては、透明基板とし
て強化ガラス、好ましくは化学強化ガラスを用いること
から、透明基板の機械的強度及び化学的安定性が向上
し、良好な耐候、耐久性が得られる。
Moreover, in the present invention, since the tempered glass, preferably chemically strengthened glass, is used as the transparent substrate, the mechanical strength and the chemical stability of the transparent substrate are improved, and good weather resistance and durability can be obtained. .

【0030】本発明において、透明基板を接着させる樹
脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)
が好適である。
In the present invention, the resin for bonding the transparent substrate is ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA).
Is preferred.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0032】まず、図1を参照して請求項1の電磁波シ
ールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明する。
First, an embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 will be described in detail with reference to FIG.

【0033】図1は請求項1の電磁波シールド性光透過
窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to the present invention.

【0034】図1に示す電磁波シールド性光透過窓材1
は、2枚の透明基板2A,2Bを、導電性粒子が分散混
合されたEVA等の接着樹脂よりなる接着層3で接合一
体化してなるものである。
An electromagnetic wave shielding light transmitting window material 1 shown in FIG.
Is formed by joining and integrating two transparent substrates 2A and 2B with an adhesive layer 3 made of an adhesive resin such as EVA in which conductive particles are dispersed and mixed.

【0035】透明基板2A,2Bの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート(PMMA)、アクリル板、ポリカー
ボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテートシー
ト、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン
−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ガラス、PET、PC、PMMAが挙
げられるが、本発明においては、透明基板2A,2Bの
うちの少なくとも一方は強化ガラスよりなるものを用い
る。
The constituent materials of the transparent substrates 2A and 2B include
Glass, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate sheet, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably, glass, PET, PC, PMMA, etc., but in the present invention, the transparent substrate 2A, At least one of 2B is made of tempered glass.

【0036】本発明において、この透明基板2A及び/
又は2Bを構成するガラスとしては、好ましくは化学強
化ガラスを用いる。
In the present invention, the transparent substrate 2A and / or
Alternatively, as the glass constituting 2B, a chemically strengthened glass is preferably used.

【0037】この化学強化ガラスとしては、例えば、次
のようなものを用いることができる。
As the chemically strengthened glass, for example, the following can be used.

【0038】 アルカリ成分としてナトリウムイオン
を含有するガラスを、カリウムイオンを含有する溶融塩
に接触させてナトリウムイオンとカリウムイオンとのイ
オン交換により、ガラス表面に圧縮層を形成し、その後
ガラス表面をリチウム塩水溶液に接触させて、表面にリ
チウムイオンを固定したガラス。 アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合溶融塩に
漬け、ガラス表面に亜鉛イオンを含むアルカリ溶出防止
層を形成したガラス。 アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸カルシウムと硝酸カリウムからなる混合溶
融塩に漬け、ガラス表面にガラス内部よりも少ないアル
カリ成分を含むアルカリ溶出防止層を形成したガラス。 アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸リチウムと硝酸カリウムからなる混合溶融
塩に漬け、ガラス表面にリチウムイオンを含有するアル
カリ溶出防止層を形成したガラス。
A glass containing sodium ions as an alkali component is brought into contact with a molten salt containing potassium ions to form a compression layer on the glass surface by ion exchange between sodium ions and potassium ions. Glass in which lithium ions are fixed on the surface by contact with salt solution. Glass in which a glass containing sodium ions as an alkali component is immersed in a mixed molten salt composed of zinc nitrate and potassium nitrate to form an alkali elution preventing layer containing zinc ions on the glass surface. A glass in which a glass containing sodium ions as an alkali component is immersed in a mixed molten salt composed of calcium nitrate and potassium nitrate to form an alkali elution preventing layer containing an alkali component less than the inside of the glass on the glass surface. A glass in which a glass containing sodium ions as an alkali component is immersed in a mixed molten salt composed of lithium nitrate and potassium nitrate to form an alkali elution preventing layer containing lithium ions on the glass surface.

【0039】の強化ガラスでは、カリウムイオンを含
む溶融塩中でガラス表面近傍のナトリウムイオンをカリ
ウムイオンに置換した後、リチウム塩水溶液中で溶融塩
を溶解し、さらに、別のリチウム塩水溶液中に浸漬する
ことにより、ガラスの化学的耐久性が大幅に向上する。
用いるリチウム塩としては、硝酸リチウム、硫酸リチウ
ムが好んで用いられ、なかでも硝酸リチウムが好まし
い。硝酸リチウム水溶液の硝酸リチウム濃度は、10-4
モル/リットル以上とするのが好ましく、1モル/リッ
トル以上の濃度としても化学的耐久性は濃度に応じて増
大しないことから、特に10-4〜1モル/リットルの濃
度範囲、とりわけ10-2〜1モル/リットルの範囲とす
るのが好ましい。
In the tempered glass of the above, after replacing sodium ions in the vicinity of the glass surface with potassium ions in a molten salt containing potassium ions, the molten salt is dissolved in an aqueous solution of lithium salt and further dissolved in another aqueous solution of lithium salt. The immersion greatly improves the chemical durability of the glass.
As the lithium salt to be used, lithium nitrate and lithium sulfate are preferably used, and among them, lithium nitrate is preferable. The concentration of lithium nitrate in the aqueous solution of lithium nitrate is 10 -4
Preferably, the concentration is at least 1 mol / l, and even if the concentration is at least 1 mol / l, the chemical durability does not increase with the concentration. Therefore, the concentration ranges from 10 -4 to 1 mol / l, especially 10 -2. It is preferably in the range of 1 to 1 mol / liter.

【0040】このように溶融塩を用いたイオン交換反応
により化学強化されたガラス表面は、非常に高活性であ
り、水溶液に触れるとアルカリ金属イオンと水素イオン
とのイオン交換反応が行われ、一定量の水和層がガラス
表面に形成され表面が安定化する。この安定化がリチウ
ムイオンが存在する水溶液中で行われると、リチウムイ
オンがガラス表面に固定され、ガラス表面に耐候性の強
い層を形成する。これにより、ガラスの機械的強度を向
上させると共に、ガラス表面の高温高湿雰囲気下の化学
的耐久性が向上し、ガラス表面にヤケの発生が抑制され
る。
The glass surface chemically strengthened by the ion exchange reaction using a molten salt as described above has a very high activity. When the glass surface is touched with an aqueous solution, the ion exchange reaction between alkali metal ions and hydrogen ions is carried out. An amount of hydration layer forms on the glass surface and stabilizes the surface. When this stabilization is performed in an aqueous solution in which lithium ions are present, the lithium ions are fixed to the glass surface, and a layer having strong weather resistance is formed on the glass surface. This improves the mechanical strength of the glass, improves the chemical durability of the glass surface in a high-temperature, high-humidity atmosphere, and suppresses the occurrence of burns on the glass surface.

【0041】の強化ガラスは、硝酸亜鉛をモル濃度で
0.01〜0.5%含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムか
らなる混合溶融塩、或いは、硝酸亜鉛をモル濃度で20
〜50%含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合
溶融塩を用いて製造される。硝酸亜鉛は単独で存在する
場合はその分解温度は350℃であるが、硝酸カリウム
中に上限値として0.5モル%までの量で含まれるとき
は、その分解温度以上であっても安定して存在するた
め、330℃〜450℃の混合溶融塩にガラスを漬ける
ことで溶融塩の安定性確保と処理時間の短縮化を図るこ
とができる。
The tempered glass may be a mixed molten salt of zinc nitrate and potassium nitrate containing zinc nitrate in a molar concentration of 0.01 to 0.5%, or zinc nitrate in a molar concentration of 20%.
It is manufactured using a mixed molten salt composed of zinc nitrate and potassium nitrate containing up to 50%. When zinc nitrate is present alone, its decomposition temperature is 350 ° C., but when it is contained in potassium nitrate in an amount up to 0.5 mol% as an upper limit, it is stable even at a temperature higher than its decomposition temperature. Since it is present, the glass is immersed in a mixed molten salt at 330 ° C. to 450 ° C., whereby the stability of the molten salt can be ensured and the processing time can be shortened.

【0042】また、硝酸亜鉛をモル濃度で20〜50%
含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合溶融塩を
用いると硝酸リチウムと硝酸亜鉛の系が有する共融点近
傍の低い温度で処理することができ、混合溶融塩の共融
点以上350℃以下の比較的低温度域で強化処理を行う
ことができる。
Also, zinc nitrate is used in a molar concentration of 20 to 50%.
When a mixed molten salt composed of zinc nitrate and potassium nitrate is used, the treatment can be performed at a low temperature near the eutectic point of the system of lithium nitrate and zinc nitrate. Strengthening treatment can be performed in a temperature range.

【0043】この方法では、溶融した硝酸カリウムと硝
酸亜鉛との混合塩中にアルカリ成分としてナトリウムイ
オンを含むガラスを漬けると、ガラス中のナトリウムイ
オンと溶融塩中の亜鉛イオンがイオン交換により置換
し、表面近傍に亜鉛を含む層が形成され、この層により
機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与される。特
に、硝酸亜鉛を20〜50モル%含む混合塩では、その
共融点近傍の低い温度で、表面近傍に亜鉛を含む層を形
成することができ、この層により機械的強度が向上する
と共に高耐湿性が付与される。
In this method, when a glass containing sodium ions as an alkali component is immersed in a molten mixed salt of potassium nitrate and zinc nitrate, the sodium ions in the glass and the zinc ions in the molten salt are replaced by ion exchange, A layer containing zinc is formed near the surface, and this layer improves mechanical strength and imparts high moisture resistance. In particular, in the case of a mixed salt containing zinc nitrate in an amount of 20 to 50 mol%, a layer containing zinc can be formed near the surface at a low temperature near the eutectic point. Is imparted.

【0044】の強化ガラスは、アルカリ成分としてナ
トリウムイオンを含有するガラスを、硝酸カルシウムを
モル濃度で10〜40%含有する硝酸カルシウムと硝酸
カリウムからなる混合溶融塩に漬け、ガラス表面近傍に
アルカリ溶出防止層を形成することにより製造される。
ここで混合溶融塩の温度は350〜470℃とするのが
好ましい。
The tempered glass is prepared by immersing glass containing sodium ions as an alkali component in a mixed molten salt of calcium nitrate and potassium nitrate containing calcium nitrate in a molar concentration of 10 to 40% to prevent alkali elution near the glass surface. Manufactured by forming layers.
Here, the temperature of the mixed molten salt is preferably from 350 to 470 ° C.

【0045】この方法では、ガラス表面近傍にアルカリ
がガラス内部よりも減少した層が形成され、この層によ
り機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与される。
According to this method, a layer in which alkali is reduced from the inside of the glass is formed near the glass surface, and this layer improves mechanical strength and imparts high moisture resistance.

【0046】の強化ガラスは、アルカリ成分としてナ
トリウムイオンを含有するガラスを、硝酸リチウムをモ
ル濃度で1〜30%含有する硝酸リチウムと硝酸カリウ
ムからなるなる混合溶融塩に漬け、ガラス表面近傍にリ
チウムイオンを含有するアルカリ溶出防止層を形成する
ことにより製造される。ここで、混合溶融塩の温度は3
30〜450℃とするのが好ましい。
The tempered glass is prepared by immersing glass containing sodium ions as an alkali component in a mixed molten salt composed of lithium nitrate and potassium nitrate containing lithium nitrate in a molar concentration of 1 to 30%. It is produced by forming an alkali elution preventing layer containing Here, the temperature of the mixed molten salt is 3
The temperature is preferably from 30 to 450 ° C.

【0047】この方法では、ガラス中のナトリウムイオ
ンと溶融塩中のリチウムイオンがイオン交換により置換
し、表面近傍にリチウムを含む層が形成され、この層に
より機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与され
る。
According to this method, the sodium ions in the glass and the lithium ions in the molten salt are replaced by ion exchange, and a layer containing lithium is formed near the surface. This layer improves the mechanical strength and improves the moisture resistance. Is given.

【0048】なお、前記混合溶融塩にガラスを漬けるに
先立ち、硝酸カリウムのみからなる溶融塩に漬けてその
溶融塩中のカリウムイオンとガラス中のナトリウムイオ
ンとをイオン交換することが好ましい。
Prior to immersing the glass in the mixed molten salt, it is preferable to immerse the glass in a molten salt composed of only potassium nitrate to exchange potassium ions in the molten salt with sodium ions in the glass.

【0049】透明基板2A,2Bの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、0.1〜5mmの
範囲とされる。
The thickness of the transparent substrates 2A and 2B is appropriately determined according to the required characteristics (for example, strength and lightness) depending on the application of the obtained window material, but is usually in the range of 0.1 to 5 mm. You.

【0050】透明基板2A,2Bは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、PDP前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性が要求される場合に
は、この表面側となる透明基板2Aを厚さ1.0〜4.
0mm程度の強化ガラス板とし、裏面側の透明基板2B
を厚さ0.05〜0.3mm程度のPET板等とするこ
ともできる。
The transparent substrates 2A and 2B do not necessarily need to be made of the same material. For example, when the front side only needs to be scratch-resistant or durable, as in the case of a PDP front filter, the transparent substrates 2A and 2B may be made of the same material. The transparent substrate 2A having a thickness of 1.0 to 4.
Transparent substrate 2B on the back side of a tempered glass plate of about 0 mm
Can be a PET plate or the like having a thickness of about 0.05 to 0.3 mm.

【0051】また、表面側となる透明基板2Aの表面に
は、下記(1)の単層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜との積層膜、例えば、下記(2)〜(5)のよう
な積層構造の積層膜よりなる反射防止膜を形成しても良
い。
On the surface of the transparent substrate 2A on the front side, a single-layer film of the following (1) or a laminated film of a high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film, for example, An antireflection film made of a laminated film having a laminated structure as in (5) may be formed.

【0052】(1) 透明基板よりも屈折率の低い透明
膜を一層積層したもの (2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合
計2層に積層したもの (3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交
互に合計4層積層したもの (4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透
明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を
交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜としては、ITO(スズインジウム酸化
物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2
SnO2、ZrO等の屈折率1.8以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはSiO2、MgF2、Al23
の屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形
成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可視光
領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長
により異なってくるが4層構造の場合、透明基板側の第
1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、第2層(低屈
折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高屈折率透明
膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率透明膜)が
50〜150nm程度の膜厚で形成される。
(1) One layer of a transparent film having a lower refractive index than the transparent substrate (2) One layer of a high-refractive-index transparent film and one layer of a low-refractive-index transparent film (3) High A total of four alternately laminated two-layer transparent and low-refractive-index transparent films (4) One layer in the order of medium-refractive-index transparent film / high-refractive-index transparent film / low-refractive-index transparent film. Three layers laminated (5) High refractive index transparent film / Low refractive index transparent film In this order, three layers are alternately laminated, and a total of six layers are laminated. As the high refractive index transparent film, ITO (tin indium) is used. Oxide) or ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 ,
A thin film having a refractive index of 1.8 or more, such as SnO 2 or ZrO, preferably a transparent conductive thin film can be formed. Also,
As the low-refractive-index transparent film, a thin film made of a low-refractive-index material having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , or Al 2 O 3, can be formed. These film thicknesses differ depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference. However, in the case of a four-layer structure, the first layer on the transparent substrate side (high refractive index) 5 to 50 nm for the second layer (transparent film with low refractive index), 50 to 100 nm for the third layer (transparent film with high refractive index), and 50 for the fourth layer (transparent film with low refractive index). It is formed with a thickness of about 150 nm.

【0053】従来の電磁波シールド性光透過窓材では、
画面における光の反射で画像が見難く、視野角が小さ
く、横からの入射光に対して画面内容を十分に視認でき
ないという欠点があったが、このように電磁波発生源側
と反対側に位置する透明基板2Aの表面に、高屈折率透
明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反射防止膜を
形成することにより、この反射防止膜の光の干渉作用で
光の反射を防止して高視野角とすることができる。
In the conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material,
There were drawbacks that the image was difficult to see due to the reflection of light on the screen, the viewing angle was small, and the screen contents could not be fully viewed for incident light from the side. By forming an anti-reflection film composed of a laminated film of a high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film on the surface of the transparent substrate 2A to be formed, light reflection is prevented by the interference effect of light of the anti-reflection film. High viewing angle.

【0054】また、このような反射防止膜の上に更に汚
染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるようにし
ても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄
膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜1000nm程
度の薄膜が好ましい。
Further, an anti-contamination film may be further formed on such an anti-reflection film to increase the surface's anti-contamination resistance. In this case, as the contamination prevention film, a thin film having a thickness of about 1 to 1000 nm made of a fluorine-based thin film, a silicon-based thin film or the like is preferable.

【0055】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、表面側となる透明基板2Aには、更に、シリコン系
材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層
内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施し
ても良い。また、透明基板2Aに前述の反射防止フィル
ム、ハードコートフィルム、アンチグレアフィルム等を
透明粘着剤や透明接着剤で貼り付けることもできる。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, the transparent substrate 2A on the front side is further subjected to a hard coat treatment with a silicon-based material or the like, or an antiglare in which a light scattering material is kneaded in the hard coat layer. Processing or the like may be performed. Further, the above-described anti-reflection film, hard coat film, anti-glare film, or the like can be attached to the transparent substrate 2A with a transparent adhesive or a transparent adhesive.

【0056】一方、裏面側となる、即ち、電磁波発生源
側に位置する透明基板2Bには、金属薄膜又は透明導電
性膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めること
ができる。
On the other hand, the transparent substrate 2B located on the back side, that is, on the side of the electromagnetic wave generation source, can be coated with a heat ray reflection coat such as a metal thin film or a transparent conductive film to enhance the functionality.

【0057】この場合、透明基板2Bに形成される熱線
反射性の透明導電膜としては、ITO(スズインジウム
酸化物)、ATO(スズアンチモン酸化物)、ZnO、
AlをドープしたZnO、SnO2等の薄膜を形成する
ことができる。また、金、銀、銅、プラチナ等の金属薄
膜又はこれらの元素を含む合金薄膜を薄くコーティング
することでも可視光透過性を有し、赤外光を反射させる
ような熱線反射膜も用いることができる。その膜厚は、
要求される電磁波シールド性、光透過性、断熱性によっ
ても異なるが、通常の場合、金属酸化物薄膜の場合5Å
〜5μm程度、金属薄膜の場合2Å〜3000Å程度で
あることが好ましい。
In this case, as the heat-reflective transparent conductive film formed on the transparent substrate 2B, ITO (tin indium oxide), ATO (tin antimony oxide), ZnO,
A thin film of Al-doped ZnO, SnO 2 or the like can be formed. Also, a thin film of a metal thin film of gold, silver, copper, platinum or the like or an alloy thin film containing these elements has a visible light transmission property, and a heat ray reflective film that reflects infrared light may also be used. it can. The film thickness is
It depends on the required electromagnetic wave shielding, light transmission, and heat insulation properties.
The thickness is preferably about 5 to about 5 [mu] m, and in the case of a metal thin film, about 2 to 3000 degrees.

【0058】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜は
積層化することで導電性、熱線カット性を高めることが
できる。層数が多すぎると可視光領域の透明性が損なわ
れる。好ましい積層数は各々1〜20層、合計で2〜4
1層である。
By stacking the transparent conductive oxide film and the metal thin film, the conductivity and the heat ray cutting property can be improved. If the number of layers is too large, the transparency in the visible light region is impaired. The preferred number of laminations is 1 to 20 layers each, 2 to 4 in total
One layer.

【0059】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜は
スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティング法、C
VD法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパッタ法によ
りベースとなる透明基板上に形成することができる。
These oxide transparent conductive films and metal thin films are formed by sputtering, vacuum evaporation, ion plating,
It can be formed on a base transparent substrate by a sputtering method, preferably a film thickness control method such as a VD method.

【0060】従来の電磁波シールド性光透過窓材では、
ディスプレイからの熱で画面が加熱するという問題があ
ったが、電磁波発生源側に位置する透明基板2Bの表面
に、熱線反射性の透明導電膜を形成することにより、デ
ィスプレイからの熱を反射して、良好な断熱効果を得る
ことができる。また、特にPDPの場合、発光時に可視
光以外に近赤外線が放射されるため、PDP自体のリモ
コン操作ができなくなる場合もある。また、周囲の家電
製品の誤動作を引き起こす可能性もあるため、この近赤
外線領域の光を充分にカットする必要がある。
In the conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material,
There was a problem that the screen was heated by the heat from the display. However, the heat from the display was reflected by forming a heat-ray reflective transparent conductive film on the surface of the transparent substrate 2B located on the side of the electromagnetic wave generation source. Thus, a good heat insulating effect can be obtained. In particular, in the case of a PDP, near-infrared rays are emitted in addition to visible light at the time of light emission, so that remote control of the PDP itself may not be possible. In addition, since there is a possibility of causing malfunction of surrounding home electric appliances, it is necessary to sufficiently cut off the light in the near infrared region.

【0061】このような透明基板2A,2Bを接着する
接着層3の樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−
(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アク
リル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸
メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)ア
クリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重
合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合
体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重
合体等のエチレン系共重合体が挙げられる(なお、
「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を
示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹
脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シ
リコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用い
ることができるが、性能面で最もバランスがとれ、使い
易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)であ
る。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点
から自動車用合せガラスで用いられているPVB樹脂も
好適である。
The resin of the adhesive layer 3 for adhering the transparent substrates 2A and 2B includes ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-
(Meth) acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-methyl (meth) acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene -Vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer,
Ethylene-based copolymers such as ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer are mentioned (in addition,
“(Meth) acryl” indicates “acryl or methacryl”. ). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, etc. can also be used, but the most balanced in terms of performance and the easy-to-use one is ethylene-vinyl acetate It is a copolymer (EVA). Further, PVB resins used in laminated glass for automobiles are also suitable in terms of impact resistance, penetration resistance, adhesiveness, transparency and the like.

【0062】PVB樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が70〜95重量%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重
量%で、平均重合度が200〜3000、好ましくは3
00〜2500であるものが好ましく、PVB樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
The PVB resin contains 70 to 95% by weight of a polyvinyl acetal unit, 1 to 15% by weight of a polyvinyl acetate unit, and has an average degree of polymerization of 200 to 3000, preferably 3 to 5%.
It is preferably from 00 to 2500, and the PVB resin is used as a resin composition containing a plasticizer.

【0063】PVB樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。
Examples of the plasticizer for the PVB resin composition include organic plasticizers such as monobasic acid esters and polybasic acid esters, and phosphoric acid plasticizers.

【0064】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、2−エチル酪酸、ヘプタン酸、n−オ
クチル酸、2−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n−
ノニル酸)、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−2−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−n−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。
The monobasic acid esters include butyric acid, isobutyric acid, caproic acid, 2-ethylbutyric acid, heptanoic acid, n-octylic acid, 2-ethylhexylic acid, pelargonic acid (n-
Esters obtained by the reaction of an organic acid such as nonylic acid) and decylic acid with triethylene glycol, and more preferably triethylene-di-2-ethylbutyrate and triethylene glycol-di-2-ethylhexo. Ethates, triethylene glycol-di-capronate, triethylene glycol-di-n-octoate and the like. Note that an ester of the above organic acid with tetraethylene glycol or tripropylene glycol can also be used.

【0065】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。
The polybasic acid ester plasticizer is preferably, for example, an ester of an organic acid such as adipic acid, sebacic acid or azelaic acid and a linear or branched alcohol having 4 to 8 carbon atoms, more preferably. , Dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl carbitol adipate and the like.

【0066】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
Examples of the phosphoric acid plasticizer include tributoxyethyl phosphate, isodecylphenyl phosphate, triisopropyl phosphate and the like.

【0067】PVB樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂100重量部
に対して可塑剤を5〜50重量部、好ましくは10〜4
0重量部とする。
In the PVB resin composition, if the amount of the plasticizer is small, the film-forming property is reduced, and if the amount is large, the durability and the like under heat resistance are impaired. 50 parts by weight, preferably 10-4
0 parts by weight.

【0068】PVB樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。
The PVB resin composition may further contain additives such as a stabilizer, an antioxidant and an ultraviolet absorber for preventing deterioration.

【0069】以下に、樹脂としてEVAを用いた場合を
例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明す
る。
Hereinafter, the adhesive layer according to the present invention will be described in more detail by exemplifying a case where EVA is used as the resin.

【0070】EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜5
0重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。
The EVA has a vinyl acetate content of 5 to 5
0% by weight, preferably 15-40% by weight is used. If the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in weather resistance and transparency, and if it exceeds 40% by weight, mechanical properties are remarkably deteriorated, film formation becomes difficult, and film mutual blocking occurs. .

【0071】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ
ハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブ
チルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイ
ド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−
ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;
n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バ
レレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキ
サン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオ
キシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブ
チルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5
−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1
−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオ
キシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサ
イド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオ
キシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイ
ド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロル
ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソ
ブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通
常EVA100重量部に対して、10重量部以下、好ま
しくは0.1〜10重量部の割合で使用される。
When crosslinking by heating, an organic peroxide is suitable as the crosslinking agent, and is selected in consideration of sheet processing temperature, crosslinking temperature, storage stability and the like. Usable peroxides include, for example, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-
Di (t-butylperoxy) hexane-3; di-t-butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide Α, α'-
Bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene;
n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1- Bis (t-butylperoxy) -3,
3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; tert-butylperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5
-Bis (tert-butylperoxy) hexyne-3; 1,1
-Bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisper Oxybenzoate; tertiary butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl peroxide; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used alone or as a mixture of two or more, usually in a proportion of 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA.

【0072】有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。
The organic peroxide is usually extruded to EVA,
It is kneaded by a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like, and added to the EVA film by an impregnation method.

【0073】なお、EVAの物性(機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。
In order to improve the physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, cross-linking speed, etc.) of EVA, various acryloxy or methacryloxy and allyl group-containing compounds are added. be able to. As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common, and ester residues include methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl and other alkyl groups, as well as cyclohexyl groups. , A tetrahydrofurfuryl group, an aminoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, and a 3-chloro-2-hydroxypropyl group. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. As the amide, diacetone acrylamide is typical.

【0074】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種
を単独で、或いは2種以上を混合して、通常EVA10
0重量部に対して0.1〜2重量部、好ましくは0.5
〜5重量部用いられる。
More specifically, polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol and glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, and maleic Allyl group-containing compounds, such as diallyl acid, are listed. These may be used alone or as a mixture of two or more.
0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 0 parts by weight
To 5 parts by weight.

【0075】EVAを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常EVA100重量部に対し
て10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部使用
される。
When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is generally used in an amount of 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of EVA instead of the above-mentioned peroxide.

【0076】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロア
ニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−
1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1
種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができ
る。
In this case, usable photosensitizers include
For example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl, p-nitroaniline, 2,4,6-triene Nitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-
1,9-benzanthrone and the like;
Species can be used alone or in combination of two or more.

【0077】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
In this case, a silane coupling agent is used in combination as an accelerator. As the silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β
-Methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N
-Β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like.

【0078】これらのシランカップリング剤は通常EV
A100重量部に対して0.001〜10重量部、好ま
しくは0.001〜5重量部の割合で1種又は2種以上
が混合使用される。
These silane coupling agents are usually EV
One or more kinds are mixed and used at a ratio of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of A.

【0079】なお、請求項1に係る接着層3には、後述
の導電性粒子の他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化
防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、
フィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料な
どの着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カ
ルシウム等の充填剤を適量配合してもよい。
The adhesive layer 3 according to claim 1 may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antioxidant, and a paint processing aid in addition to the conductive particles described below.
Colorants such as dyes and pigments, and fillers such as carbon black, hydrophobic silica and calcium carbonate may be blended in appropriate amounts to adjust the color of the filter itself.

【0080】特に、接着用樹脂として、上述のような無
色透明樹脂に顔料を添加して着色した有色透明樹脂を用
いることにより、青色輝度を補強するなどして自然な表
示を得ることができ、或いはカラーフィルター等を用い
ることなく、色純度を向上させ優れた色再現性を得るこ
とができる。
In particular, by using a colored transparent resin obtained by adding a pigment to the above-mentioned colorless transparent resin as an adhesive resin, a natural display can be obtained by, for example, enhancing blue luminance. Alternatively, color purity can be improved and excellent color reproducibility can be obtained without using a color filter or the like.

【0081】即ち、PDPにはRGB各色に対応する蛍
光体が各セルに塗布されているが、その発光効率は必ず
しも同じではないため、各色を合成した発光色例えば白
色を表示させた場合、選択されている蛍光体の種類等の
影響により違った色度、色温度となる。これを所定の設
計値に合わせるためには複雑な処理が必要となる。
That is, although the phosphor corresponding to each of the RGB colors is coated on each cell of the PDP, the luminous efficiency is not always the same. The chromaticity and color temperature are different depending on the type of the phosphor used. Complicated processing is required to adjust this to a predetermined design value.

【0082】一般に、PDPの場合、青色発光が弱いた
め、青色輝度を補強する必要がある。また、色純度を向
上させ、優れた色再現性を得るには、別途カラーフィル
ターが必要となる。
In general, in the case of PDP, since blue light emission is weak, it is necessary to enhance blue luminance. Further, in order to improve color purity and obtain excellent color reproducibility, a separate color filter is required.

【0083】しかしながら、無色透明の接着樹脂を用い
て接合一体化した電磁波シールド性光透過窓材では、色
調を変える作用は得られない。
However, the effect of changing the color tone cannot be obtained with the electromagnetic wave shielding light transmitting window material joined and integrated by using a colorless and transparent adhesive resin.

【0084】これに対して、接着樹脂として有色透明の
ものを用いることにより、光透過性を損なうことなく、
青色輝度の補強又は色純度の向上を図ることができ、鮮
明な画像を得ることができる。
On the other hand, by using a colored and transparent adhesive resin, the light transmittance is not impaired.
The blue luminance can be enhanced or the color purity can be improved, and a clear image can be obtained.

【0085】この場合、使用される顔料としては、特に
制限はなく、一般的なプラスチック用着色剤などを用い
ることができるが、例えば、黄色酸化鉄、黄鉛、カドミ
ウムイエロー、ファストイエロー、ジスアゾイエロー、
モリブデートオレンジ、ピラゾロンオレンジ、ベンガ
ラ、カドミウムレッド、レーキレッドC、ブリリアント
カーミン6B、キナクリドンレッド、マンガンバイオレ
ット、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジンバイオ
レット、群青、紺青、コバルトブルー、ビクトリアブル
ーレーキ、フタロシアニンブルー、クロムグリーン、酸
化クロム、フタロシアニングリーン等の1種を単独で或
いは2種以上を混合して用いることができる。
In this case, the pigment to be used is not particularly limited, and a general plastic coloring agent can be used. Examples thereof include yellow iron oxide, graphite, cadmium yellow, fast yellow, and disazo yellow. ,
Molybdate orange, pyrazolone orange, bengalara, cadmium red, lake red C, brilliant carmine 6B, quinacridone red, manganese violet, methyl violet lake, dioxazine violet, ultramarine, navy blue, cobalt blue, Victoria blue lake, phthalocyanine blue, chrome green , Chromium oxide, phthalocyanine green and the like can be used alone or in combination of two or more.

【0086】前述の如く、PDPの発光パネルでは青色
発光が弱く、青色輝度を補強することが望まれる点、及
び色純度向上のため、本発明では、 群青、紺青、コバルトブルー、ビクトリアブルーレ
ーキ、フタロシアニンブルーなどの青色顔料の1種又は
2種以上、或いはマンガンバイオレット、メチルバイオ
レットレーキ、ジオキサジンバイオレット等の紫色顔料
との組み合わせ等により青色に着色させる。或いは RGB各種の色純度を向上するような顔料、クロム
グリーン、酸化クロム、フタロシアニングリーン等の緑
色顔料と紫色又は青色顔料とを混合して配合する。
As described above, in the light emitting panel of the PDP, the blue light emission is weak, and it is desired to enhance the blue luminance. In order to improve the color purity, the present invention uses ultramarine, navy blue, cobalt blue, Victoria blue lake, One or more blue pigments such as phthalocyanine blue or a combination with a violet pigment such as manganese violet, methyl violet lake, dioxazine violet or the like is used to color blue. Alternatively, a pigment that improves the color purity of various RGB, a green pigment such as chrome green, chromium oxide, and phthalocyanine green, and a violet or blue pigment are mixed and blended.

【0087】などの方法を採用するのが好ましい。It is preferable to employ such a method.

【0088】顔料の配合量は、透明性を損なうことな
く、コントラスト等の特性を向上させるために、EVA
等のマトリックス樹脂100重量部に対して0.001
〜10重量部とするのが好ましい。
The amount of the pigment is selected from the group consisting of EVA to improve the characteristics such as contrast without impairing the transparency.
0.001 to 100 parts by weight of matrix resin such as
Preferably, the amount is from 10 to 10 parts by weight.

【0089】請求項1において、接着層3に分散させる
導電性粒子としては、導電性を有するものであれば良く
特に制限はないが、例えば、次のようなものが挙げられ
る。
In the first aspect, the conductive particles dispersed in the adhesive layer 3 are not particularly limited as long as they have conductivity, and examples thereof include the following.

【0090】(i) カーボン粒子ないし粉末 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒
子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング
層を形成したもの これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や接着層3の厚さに影響を及ぼすことから、0.5mm
以下であることが好ましい。好ましい導電性粒子の粒径
は0.01〜0.5mmである。
(I) Carbon particles or powder (ii) Nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, aluminum, copper, titanium, cobalt, lead and other metals or alloys or their conductive properties Oxide particles or powder (iii) Plastic particles of polystyrene, polyethylene, etc. formed with a coating layer of the conductive material of (i) or (ii) above. The particle size of these conductive particles is excessively large. If it is large, it will affect the light transmittance and the thickness of the adhesive layer 3.
The following is preferred. The preferred particle size of the conductive particles is 0.01 to 0.5 mm.

【0091】また、接着層3中の導電性粒子の混合割合
は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度に少ないと
電磁波シールド性が不足するため、接着層3のEVA等
の樹脂に対する重量割合で0.1〜50重量%、特に
0.1〜20重量%、とりわけ0.5〜20重量%程度
とするのが好ましい。
When the mixing ratio of the conductive particles in the adhesive layer 3 is excessively large, the light transmittance is impaired, and when the mixing ratio is excessively small, the electromagnetic wave shielding property is insufficient. It is preferable that the weight ratio is about 0.1 to 50% by weight, particularly about 0.1 to 20% by weight, particularly about 0.5 to 20% by weight.

【0092】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、ディスプレーフィルタの場合は、黒、茶
等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場合は、導電
性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整すること
で、画面が見やすくなるという効果もある。
The color and gloss of the conductive particles are appropriately selected according to the purpose. In the case of a display filter, a dark and matte black or brown color is preferred. In this case, by adjusting the light transmittance of the filter appropriately by the conductive particles, there is also an effect that the screen becomes easy to see.

【0093】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
EVA等の樹脂に所定量の導電性粒子と熱又は光硬化の
ための架橋剤を混合してシート化した接着用シートを、
透明基板2A,2B間に介在させ、減圧、加温下に脱気
して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬
化させて一体化することにより容易に製造することがで
きる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention comprises:
A bonding sheet formed by mixing a predetermined amount of conductive particles and a crosslinking agent for heat or light curing into a resin such as EVA to form a sheet,
It can be easily manufactured by being interposed between the transparent substrates 2A and 2B, deaerated under reduced pressure and heating, pre-compressed, and then hardened and integrated with an adhesive layer by heating or light irradiation.

【0094】なお、接着用シートは接着性改良の手段と
して、シート面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処
理、電子線照射、紫外光照射などの手段を施したもので
あっても良い。
The bonding sheet may be a sheet to which means such as corona discharge treatment, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, or ultraviolet light irradiation has been applied to the sheet surface as a means for improving the adhesiveness.

【0095】この接着用シートは、接着樹脂と上述の添
加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレン
ダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜
法により所定の形状にシート成形することにより製造さ
れる。成膜に際してはブロッキング防止、透明基板との
圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。
This adhesive sheet is prepared by mixing an adhesive resin and the above-mentioned additives, kneading the mixture with an extruder, a roll, or the like, and then forming the sheet into a predetermined shape by a film forming method such as calender, roll, T-die extrusion, or inflation. It is manufactured by molding. During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with a transparent substrate.

【0096】なお、接着層3の厚さは、電磁波シールド
性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合
0.05〜1.0mm程度とされる。接着層3の厚さが
0.05mm未満では、電磁波シールドのための導電性
層の厚さが薄過ぎ、十分な電磁波シールド性を得ること
ができず、1.0mmを超えると光透過性が損なわれる
恐れがある。従って、接着用シートは、このような厚さ
の接着層が得られるように、0.05〜1.0mm厚さ
に成形される。
The thickness of the adhesive layer 3 varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material and the like, but is usually about 0.05 to 1.0 mm. If the thickness of the adhesive layer 3 is less than 0.05 mm, the thickness of the conductive layer for electromagnetic wave shielding is too thin, and sufficient electromagnetic wave shielding properties cannot be obtained. May be damaged. Therefore, the adhesive sheet is formed to have a thickness of 0.05 to 1.0 mm so that an adhesive layer having such a thickness is obtained.

【0097】なお、請求項1の電磁波シールド性光透過
窓材は、接着層に導電性粒子を混合し、接着層自体に電
磁波シールド性を付与することで従来のような導電性メ
ッシュを不要とするものであるが、導電性メッシュを併
用することを何ら排除するものではない。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the first aspect eliminates the need for a conventional conductive mesh by mixing conductive particles into the adhesive layer and imparting electromagnetic wave shielding to the adhesive layer itself. However, the use of a conductive mesh is not excluded at all.

【0098】しかも、この場合には、導電性メッシュ
を、モアレ現象等の発生で視認性を損なわない網目設計
とした上で網目による電磁波シールド性の不足を導電性
粒子で補うことにより、良好な電磁波シールド性を得る
ことができる。
Further, in this case, the conductive mesh is designed to have a mesh design that does not impair the visibility due to the occurrence of a moire phenomenon or the like, and the lack of electromagnetic wave shielding performance due to the mesh is compensated for by the conductive particles. Electromagnetic wave shielding can be obtained.

【0099】この場合、導電性メッシュとしては、線径
10〜500μmのステンレス等の金属や、めっき、塗
工、含浸などにより導電性を付与したポリエステルやナ
イロン等の線材よりなる、開口率(メッシュの投影面に
占める開口の面積割合)が20〜98%程度のものが好
適である。
In this case, the conductive mesh may be made of a metal such as stainless steel having a wire diameter of 10 to 500 μm, or a wire such as polyester or nylon provided with conductivity by plating, coating, impregnation or the like. Are preferably about 20 to 98%.

【0100】導電性メッシュを併用する場合には、例え
ば、少なくとも一方に導電性粒子が混合された2枚のE
VA接着用シートの間に当該導電性メッシュを挟み込ん
だものを、2枚の透明基板間に介在させて接着一体化す
れば良いので、導電性メッシュを介在させることにより
製造工程が煩雑になることはない。
In the case where a conductive mesh is used in combination, for example, at least one of two sheets of conductive mesh mixed with conductive particles is used.
What is necessary is just to interpose the conductive mesh between the VA bonding sheets and bond and integrate them between the two transparent substrates, so that the manufacturing process becomes complicated by interposing the conductive mesh. There is no.

【0101】次に図2,3を参照して請求項5,7の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を説明する。
Next, an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 5 and 7 will be described with reference to FIGS.

【0102】図2(a),(b)は請求項5,7の電磁
波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断
面図であり、図3(a)〜(f)はエッチングパターン
の実施例を示す平面図である。
FIGS. 2 (a) and 2 (b) are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 5 and 7, and FIGS. It is a top view which shows the Example of an etching pattern.

【0103】図2(a)の電磁波シールド性光透過窓材
11は、2枚の透明基板12A,12Bを、導電性の箔
として金属箔13を挟み、接着層14A,14Bで接合
一体化してなるものである。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material 11 shown in FIG. 2A, two transparent substrates 12A and 12B are joined and integrated by adhesive layers 14A and 14B with a metal foil 13 interposed therebetween as a conductive foil. It becomes.

【0104】図2(b)の電磁波シールド性光透過窓材
11Aは、1枚の透明基板12の一方の面に接着層14
で金属箔13を接着したものである。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material 11 A shown in FIG. 2B is provided on one surface of one transparent substrate 12 with an adhesive layer 14.
And the metal foil 13 is bonded.

【0105】透明基板12A,12Bの構成材料及びそ
の厚さについては、前述の請求項1の電磁波シールド性
光透過窓材の説明で記述したものと同様のものを採用す
ることができ、各透明基板に形成し得る機能性向上のた
めの反射防止膜や汚染防止膜、各種処理においても同様
の構成を採用することができる。
Regarding the constituent materials and the thicknesses of the transparent substrates 12A and 12B, the same materials as those described in the description of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the above-mentioned claim 1 can be employed. The same configuration can be adopted in an antireflection film or a contamination prevention film for improving the functionality that can be formed on a substrate, and in various processes.

【0106】図2(b)の構成において、透明基板12
としては、図2(a)の表面側の透明基板12Aと同様
のものを用いることができる。
In the configuration shown in FIG.
As the transparent substrate, the same one as the transparent substrate 12A on the front side in FIG. 2A can be used.

【0107】請求項5,7に係る金属箔の金属として
は、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真
鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、
アルミニウムが用いられる。
The metal of the metal foil according to claims 5 and 7 is copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or the like.
Aluminum is used.

【0108】金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性や
パターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚
過ぎると得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに
影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くな
ることから、1〜200μm程度とするのが好ましい。
If the thickness of the metal foil is too small, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching. If the thickness is too large, the thickness of the obtained electromagnetic wave shielding light transmitting window material is affected or the etching is not performed. It is preferable to set the thickness to about 1 to 200 μm because the time required for the process becomes long.

【0109】このような金属をパターンエッチングする
方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わ
ないが、レジストを用いるフォトエッチングが好まし
い。この場合、金属箔上にフォトレジストをコーティン
グした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光
後、現像処理してレジストパターンを形成する。その
後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエ
ッチング液で除去すればよい。
As a method for pattern-etching such a metal, any method generally used may be used, but photo-etching using a resist is preferable. In this case, after a photoresist is coated on the metal foil, pattern exposure is performed using a desired mask or the like, and development processing is performed to form a resist pattern. Thereafter, the portion of the metal foil where there is no resist may be removed with an etching solution such as a ferric chloride solution.

【0110】パターンエッチングによれば、パターンの
自由度が大きく、金属箔を任意の線径、間隔及び孔形状
にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波
シールド性光透過窓材を容易に形成することができる。
According to the pattern etching, the degree of freedom of the pattern is large, and the metal foil can be etched to an arbitrary wire diameter, an interval and a hole shape. Therefore, there is no moire phenomenon, and a desired electromagnetic wave shielding property and light transmission can be obtained. It is possible to easily form an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a property.

【0111】本発明において、金属箔のエッチングパタ
ーンの形状には特に制限はなく、例えば図3(a),
(b)に示すような四角形の孔Mが形成された格子状の
金属箔13A,13B、図3(c),(d),(e),
(f)に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の
孔Mが形成されたパンチングメタル状の金属箔13C,
13D,13E,13F等が挙げられる。また、このよ
うに孔Mが規則的に並んだものの他、ランダムパターン
としてモアレ現象を防止することもできる。
In the present invention, the shape of the etching pattern of the metal foil is not particularly limited.
3 (c), 3 (d), 3 (e), and 3 (c), grid-like metal foils 13A and 13B having square holes M as shown in FIG.
A metal foil 13C in the form of a punched metal having a circular, hexagonal, triangular or elliptical hole M as shown in FIG.
13D, 13E, and 13F. In addition to the holes M regularly arranged as described above, the moire phenomenon can be prevented as a random pattern.

【0112】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この金属箔の投影面における開口部分の面
積割合(以下「開口率」と称す。)は、20〜90%で
あることが好ましい。
In order to secure both the electromagnetic wave shielding property and the light transmittance, the area ratio of the opening portion on the projection surface of the metal foil (hereinafter referred to as “opening ratio”) may be 20 to 90%. preferable.

【0113】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板12A又は12B、或い
は、透明基板12に透明導電膜を形成して金属箔による
電磁波シールド性の不足分を補うようにしても良い。
When the aperture ratio is increased in order to improve the light transmittance, a transparent conductive film is formed on the transparent substrate 12A or 12B or the transparent substrate 12 so that the insufficient shielding of the electromagnetic wave by the metal foil. May be supplemented.

【0114】このような金属箔13を透明基板12A,
12B,12に接着する接着層14A,14B,14の
接着樹脂としては、前述の請求項1の電磁波シールド性
光透過窓材に用いられる接着樹脂として例示したEVA
やPVB樹脂等を用いることができ(ただし、導電性粒
子の配合は必須ではないが、含んでいても良い。)、そ
のシート化及び接着の方法や条件についても同様の方法
及び条件を採用することができる。
Such a metal foil 13 is applied to the transparent substrate 12A,
The adhesive resin of the adhesive layers 14A, 14B, 14 to be adhered to the adhesive layers 12B, 12 is EVA exemplified as the adhesive resin used for the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 described above.
Or a PVB resin can be used (however, the blending of the conductive particles is not essential, but may be included), and the same method and conditions are adopted for the sheeting and bonding methods and conditions. be able to.

【0115】図2(a)の電磁波シールド性光透過窓材
11は、EVA等のエチレン系共重合体に熱又は光硬化
のための架橋剤を混合してシート化した2枚の接着用フ
ィルム間にパターンエッチングした金属箔13を挟み、
これを透明基板12A,12B間に介在させ、減圧、加
温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により
接着層を硬化させて一体化することにより容易に製造す
ることができる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material 11 shown in FIG. 2A is made of two sheets of adhesive film formed by mixing a crosslinker for heat or light curing with an ethylene copolymer such as EVA. Sandwiching the metal foil 13 with the pattern etching between them,
This is interposed between the transparent substrates 12A and 12B, degassed under reduced pressure and heating, pre-compressed, and then cured or integrated by heating or light irradiation to integrate the adhesive layer. .

【0116】また、図2(b)の電磁波シールド性光透
過窓材11Aは、透明基板12と、上述のような接着用
フィルムとパターンエッチングした金属箔13とを積層
し、上記と同様に硬化一体化させることにより容易に製
造することができる。
Further, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material 11A of FIG. 2B is obtained by laminating a transparent substrate 12, the above-mentioned bonding film and the metal foil 13 subjected to pattern etching, and cured in the same manner as described above. It can be easily manufactured by being integrated.

【0117】なお、接着層14A,14B,14の厚さ
は、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異
なるが、通常の場合0.05〜1.0mm程度とされ
る。従って、接着用フィルムは、このような厚さの接着
層が得られるように、0.05〜1.0mm厚さに成形
される。
The thickness of the adhesive layers 14A, 14B, 14 varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, but is usually about 0.05 to 1.0 mm. Therefore, the adhesive film is formed to have a thickness of 0.05 to 1.0 mm so that an adhesive layer having such a thickness is obtained.

【0118】次に、図4,5を参照して請求項9,10
の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を説明す
る。
Next, referring to FIGS.
An embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material will be described.

【0119】図4は請求項9,10の電磁波シールド性
光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図であり、
図5(a)〜(f)はエッチングパターンの実施例を示
す平面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to the ninth and tenth aspects.
5A to 5F are plan views showing an example of the etching pattern.

【0120】図4の電磁波シールド性光透過窓材21
は、2枚の透明基板22A,22Bを接着層24で接合
一体化してなるものであり、これら2枚の透明基板22
A,22Bのうち、透明基板22Aの接着層24側にパ
ターンエッチングされた金属膜23が設けられている。
Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 21 shown in FIG.
Is formed by bonding and integrating two transparent substrates 22A and 22B with an adhesive layer 24.
A, 22B is provided with a metal film 23 which is pattern-etched on the side of the adhesive layer 24 of the transparent substrate 22A.

【0121】透明基板12A,12Bの構成材料及びそ
の厚さについては、前述の請求項1の電磁波シールド性
光透過窓材の説明で記述したものと同様のものを採用す
ることができ、各透明基板に形成し得る機能性向上のた
めの反射防止膜や汚染防止膜、各種処理においても同様
の構成を採用することができる。
Regarding the constituent materials and the thicknesses of the transparent substrates 12A and 12B, the same materials as those described in the above description of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 can be employed. The same configuration can be adopted in an antireflection film or a contamination prevention film for improving the functionality that can be formed on a substrate, and in various processes.

【0122】請求項9,10に係る金属膜の金属として
は、銅、ステンレス、クロム、アルミニウム、ニッケ
ル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ス
テンレス、アルミニウム、クロムが用いられる。
As the metal of the metal film according to the ninth and tenth aspects, copper, stainless steel, chromium, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, aluminum, or chromium is used.

【0123】透明基板上に、このような金属膜を形成す
る方法としては、無電解めっき、真空蒸着、スパッタリ
ング、化学気相蒸着法等の方法を採用することができ
る。
As a method for forming such a metal film on a transparent substrate, methods such as electroless plating, vacuum deposition, sputtering, and chemical vapor deposition can be employed.

【0124】金属膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シール
ド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られる
電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼした
り、エッチング工程の所要時間が長くなることから、
0.01〜50μm程度とするのが好ましい。
If the thickness of the metal film is too small, the electromagnetic wave shielding property is insufficient, so that it is not preferable. If the thickness is too large, the thickness of the obtained electromagnetic wave shielding light transmitting window material is affected, or the time required for the etching step is reduced. Because it becomes long,
The thickness is preferably about 0.01 to 50 μm.

【0125】このような金属膜をパターンエッチングす
る方法は、一般に用いられているどのような方法でも構
わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好まし
い。この場合、金属膜上にフォトレジストをコーティン
グした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光
後、現像処理してレジストパターンを形成する。その
後、レジストのない部分の金属膜を塩化第一鉄液等のエ
ッチング液で除去すればよい。
As a method of pattern-etching such a metal film, any method generally used may be used, but photo-etching using a resist is preferable. In this case, after a photoresist is coated on the metal film, pattern exposure is performed using a desired mask or the like, and development processing is performed to form a resist pattern. Thereafter, the portion of the metal film where there is no resist may be removed with an etching solution such as a ferrous chloride solution.

【0126】パターンエッチングによれば、パターンの
自由度が大きく、金属膜を任意の線径、間隔及び孔形状
にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波
シールド性光透過窓材を容易に形成することができる。
According to the pattern etching, the degree of freedom of the pattern is large, and the metal film can be etched to an arbitrary wire diameter, interval and hole shape. Therefore, there is no moire phenomenon, and the desired electromagnetic wave shielding property and light transmission can be obtained. It is possible to easily form an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a property.

【0127】請求項9,10において、金属膜のエッチ
ングパターンの形状には特に制限はなく、例えば図5
(a),(b)に示すような四角形の孔Mが形成された
格子状の金属膜23A,23B、図5(c),(d),
(e),(f)に示すような円形、六角形、三角形又は
楕円形の孔Mが形成されたパンチングメタル状の金属膜
23C,23D,23E,23F等が挙げられる。ま
た、このように孔Mが規則的に並んだものの他、ランダ
ムパターンとしてモアレ現象を防止することもできる。
In the ninth and tenth aspects, the shape of the etching pattern of the metal film is not particularly limited.
(A), (b), grid-like metal films 23A and 23B in which square holes M are formed, as shown in FIGS.
(E), a metal film 23C, 23D, 23E, 23F in the form of a punched metal in which a circular, hexagonal, triangular or elliptical hole M as shown in FIG. In addition to the holes M regularly arranged as described above, the moire phenomenon can be prevented as a random pattern.

【0128】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この金属膜の投影面における開口部分の面
積割合(以下「開口率」と称す。)は、20〜90%で
あることが好ましい。
In order to secure both the electromagnetic wave shielding property and the light transmittance, the area ratio of the opening portion on the projection surface of the metal film (hereinafter, referred to as “opening ratio”) may be 20 to 90%. preferable.

【0129】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板22A又は22B、或い
は、透明基板22に前述の透明導電膜を形成して金属膜
による電磁波シールド性の不足分を補うようにしても良
い。
When the aperture ratio is increased to improve the light transmittance, the above-mentioned transparent conductive film is formed on the transparent substrate 22A or 22B or the transparent substrate 22, and the electromagnetic wave shielding property of the metal film is reduced. The shortfall may be compensated for.

【0130】図4では、金属膜23を透明基板22Aの
裏面側に形成しているが、金属膜23は透明基板22B
の接着層24側や接着層24と反対側の表面側に形成し
ても良く、これらのうちの2箇所以上に形成しても良
い。
In FIG. 4, the metal film 23 is formed on the back surface of the transparent substrate 22A.
May be formed on the adhesive layer 24 side or the surface side opposite to the adhesive layer 24, or may be formed on two or more of these.

【0131】請求項9,10において、透明基板22
A,22Bを接着する接着層24の接着樹脂としては、
前述の請求項1の電磁波シールド性光透過窓材に用いら
れる接着樹脂として例示したEVAやPVB樹脂等を用
いることができ(ただし、導電性粒子の配合は必須では
ないが、含んでいても良い。)、そのシート化及び接着
の方法や条件についても同様の方法及び条件を採用する
ことができる。
The transparent substrate 22 according to claim 9,
As the adhesive resin of the adhesive layer 24 for bonding A and 22B,
EVA, PVB resin, etc. exemplified as the adhesive resin used for the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 described above can be used (however, the blending of the conductive particles is not essential, but may be included). The same method and conditions can be adopted for the method and conditions for forming the sheet and bonding.

【0132】図4の電磁波シールド性光透過窓材21
は、予めパターンエッチングされた金属膜23が形成さ
れた透明基板22Aと透明基板22Bとの間に、EVA
等のエチレン系共重合体に熱又は光硬化のための架橋剤
を混合してシート化した接着用フィルムを介在させ、減
圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射
により接着層を硬化させて一体化することにより容易に
製造することができる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material 21 shown in FIG.
Is an EVA between the transparent substrate 22A and the transparent substrate 22B on which the pattern-etched metal film 23 is formed.
A crosslinker for heat or light curing is mixed with an ethylene-based copolymer, etc., and an adhesive film formed into a sheet is interposed, degassed under reduced pressure and warming, pre-pressed, and then heated or irradiated with light. The adhesive layer can be easily manufactured by curing and integrating the adhesive layer.

【0133】なお、接着層23の厚さは、電磁波シール
ド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場
合0.05〜1.0mm程度とされる。従って、接着用
フィルムは、このような厚さの接着層が得られるよう
に、0.05〜1.0mm厚さに成形される。
The thickness of the adhesive layer 23 depends on the application of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material and the like, but is usually about 0.05 to 1.0 mm. Therefore, the adhesive film is formed to have a thickness of 0.05 to 1.0 mm so that an adhesive layer having such a thickness is obtained.

【0134】次に図6,7を参照して請求項12,13
の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を説明す
る。
Next, referring to FIGS.
An embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material will be described.

【0135】図6は請求項12,13の電磁波シールド
性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図であ
り、図7(a)〜(f)は印刷パターンの実施例を示す
平面図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to the twelfth and thirteenth aspects, and FIGS. 7A to 7F show examples of the printing pattern. It is a top view.

【0136】図6の電磁波シールド性光透過窓材31
は、2枚の透明基板32A,32Bを接着層34で接合
一体化してなるものであり、2枚の透明基板32A,3
2Bのうち、透明基板32Aの接着層34側には、パタ
ーン印刷により導電層33が形成されている。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material 31 shown in FIG.
Is formed by bonding and integrating two transparent substrates 32A and 32B with an adhesive layer 34. The two transparent substrates 32A and 32B
In 2B, a conductive layer 33 is formed on the adhesive layer 34 side of the transparent substrate 32A by pattern printing.

【0137】透明基板32A,32Bの構成材料及びそ
の厚さについては、前述の請求項1の電磁波シールド性
光透過窓材の説明で記述したものと同様のものを採用す
ることができ、各透明基板に形成し得る機能性向上のた
めの反射防止膜や汚染防止膜、各種処理においても同様
の構成を採用することができる。
Regarding the constituent materials and the thicknesses of the transparent substrates 32A and 32B, the same materials as those described in the description of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 can be employed. The same configuration can be adopted in an antireflection film or a contamination prevention film for improving the functionality that can be formed on a substrate, and in various processes.

【0138】透明基板の板面に導電層を形成させるに
は、次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷
法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基
板の板面に印刷すれば良い。
In order to form a conductive layer on the plate surface of the transparent substrate, the following conductive ink is used to print on the plate surface of the transparent substrate by a screen printing method, an ink jet printing method, an electrostatic printing method, or the like. good.

【0139】 粒径100μm以下のカーボンブラッ
ク粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又
は合金の粒子等の導電性材料の粒子を50〜90重量%
濃度にPMMA、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバ
インダ樹脂に分散させたもの。このインクは、トルエ
ン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度
に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗
布し、その後必要に応じ室温〜120℃で乾燥させ基板
上に塗着させる。 上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆
った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させ
る。
50 to 90% by weight of a conductive material particle such as a carbon black particle having a particle diameter of 100 μm or less, or a metal or alloy particle such as copper, aluminum and nickel.
It is dispersed in a binder resin such as PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like. This ink is diluted or dispersed in an appropriate concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, or water, and applied by printing on the plate surface of a transparent substrate, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary, and then dried on the substrate. Apply. Particles obtained by covering particles of the same conductive material as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.

【0140】このようにして形成される印刷膜の厚さ
は、薄過ぎると電磁波シールド性能が不足するので好ま
しくなく、厚過ぎると得られる電磁波シールド性光透過
窓材の厚さに影響を及ぼすことから、0.5〜100μ
m程度とするのが好ましい。
The thickness of the printed film formed in this manner is not preferable because the electromagnetic wave shielding performance is insufficient if the thickness is too small, and the thickness of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained when the thickness is too large is unfavorable. From 0.5 to 100μ
m is preferable.

【0141】このようなパターン印刷によれば、パター
ンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の
導電層を形成することができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波
シールド性光透過窓材を容易に形成することができる。
According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, there is no moire phenomenon and a desired electromagnetic shielding property can be obtained. In addition, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a light transmitting property can be easily formed.

【0142】本発明において、導電層のパターン印刷の
形状には特に制限はなく、例えば図7(a),(b)に
示すような四角形の開口部Mが形成された格子状の印刷
膜33A,33B、図7(c),(d),(e),
(f)に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の
開口部Mが形成されたパンチングメタル状の印刷膜33
C,3D,33E,33F等が挙げられる。また、この
ように開口部Mが規則的に並んだものの他、ランダムパ
ターンとしてモアレ現象を防止することもできる。
In the present invention, the shape of the pattern printing of the conductive layer is not particularly limited. For example, a grid-like printing film 33A having a rectangular opening M as shown in FIGS. 7A and 7B is formed. , 33B, FIGS. 7 (c), (d), (e),
(F) A punched metal-like printed film 33 in which a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening M is formed as shown in FIG.
C, 3D, 33E, 33F and the like. In addition to the regular arrangement of the openings M, the moire phenomenon can be prevented as a random pattern.

【0143】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この印刷膜の投影面における開口部分の面
積割合(以下「開口率」と称す。)は、20〜90%で
あることが好ましい。
In order to secure both the electromagnetic wave shielding property and the light transmitting property, the area ratio of the opening on the projection surface of the printing film (hereinafter, referred to as “opening ratio”) may be 20 to 90%. preferable.

【0144】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板32A又は32B、或い
は、透明基板32に前述したような透明導電膜を形成し
て印刷膜による電磁波シールド性の不足分を補うように
しても良い。
When the aperture ratio is increased in order to improve the light transmittance, the above-mentioned transparent conductive film is formed on the transparent substrate 32A or 32B or the transparent substrate 32, and the electromagnetic wave shielding by the printed film is performed. You may make up for the lack of sex.

【0145】請求項12,13において、透明基板32
A,32Bを接着する接着層34の接着樹脂としては、
前述の請求項1の電磁波シールド性光透過窓材に用いら
れる接着樹脂として例示したEVAやPVB樹脂等を用
いることができ(ただし、導電性粒子の配合は必須では
ないが、含んでいても良い。)、そのシート化及び接着
の方法や条件についても同様の方法及び条件を採用する
ことができる。
The transparent substrate 32 according to claim 12 or 13,
As the adhesive resin of the adhesive layer 34 for bonding A and 32B,
EVA, PVB resin, etc. exemplified as the adhesive resin used for the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 described above can be used (however, the blending of the conductive particles is not essential, but may be included). The same method and conditions can be adopted for the method and conditions for forming the sheet and bonding.

【0146】図6の電磁波シールド性光透過窓材31
は、予め導電層33をパターン印刷により形成した透明
基板32Aを用い、EVA等のエチレン系共重合体に熱
又は光硬化のための架橋剤を混合してシート化した接着
用フィルムを透明基板32A,32B間に介在させ、減
圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射
により接着層を硬化させて一体化することにより容易に
製造することができる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material 31 shown in FIG.
Is a method in which a transparent substrate 32A in which a conductive layer 33 is previously formed by pattern printing is used, and an adhesive film in which an ethylene copolymer such as EVA is mixed with a crosslinking agent for heat or light curing to form a sheet is used as the transparent substrate 32A. , 32B, deaerated under reduced pressure and heating, and pre-compressed, and then the adhesive layer is hardened by heating or light irradiation to be integrated to easily manufacture.

【0147】なお、接着層34の厚さは、電磁波シール
ド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場
合0.05〜1.0mm程度とされる。従って、接着用
フィルムは、このような厚さの接着層が得られるよう
に、0.05〜1.0mm厚さに成形される。
The thickness of the adhesive layer 34 varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material and the like, but is usually about 0.05 to 1.0 mm. Therefore, the adhesive film is formed to have a thickness of 0.05 to 1.0 mm so that an adhesive layer having such a thickness is obtained.

【0148】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、PDPの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention can be effectively used as a front filter of a PDP or a window material of a place where precision equipment is installed in a hospital or a laboratory.

【0149】[0149]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.

【0150】なお、実施例及び比較例で用いた接着用シ
ート及び強化ガラス板は、次のようにして製造した。
The bonding sheet and the tempered glass plate used in the examples and comparative examples were manufactured as follows.

【0151】[接着用シートの製造]エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体(東洋曹逹社製ウルトラセン634:酢酸
ビニル含量26%、メルトインデックス4)100重量
部に、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン(日本油脂社製パー
ヘキサ3M)1重量部、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン0.1重量部、ジアリルフタレート2
重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソルブ130(住
友化学工業社製)0.5重量部と、表1に示す導電性粒
子を表1に示す割合で添加、混合し(ただし、比較例1
〜3では導電性粒子無添加)、40mm押出機にて0.
1mm又は0.2mm厚さの両面エンボスの接着用シー
トを作製した。
[Production of Adhesive Sheet] To 100 parts by weight of ethylene-vinyl acetate copolymer (Ultracene 634, manufactured by Toyo Soda Co., Ltd .: vinyl acetate content: 26%, melt index: 4) was added 1,1-bis (t-butyl par. Oxy) -3,
1 part by weight of 3,5-trimethylcyclohexane (Perhexa 3M manufactured by NOF Corporation), 0.1 part by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, diallyl phthalate 2
Parts by weight, and 0.5 parts by weight of Sumisolve 130 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as an ultraviolet absorber, and conductive particles shown in Table 1 were added and mixed in the ratio shown in Table 1 (however, Comparative Example 1
And no conductive particles were added in Examples 3 to 3).
A double-sided embossed adhesive sheet having a thickness of 1 mm or 0.2 mm was prepared.

【0152】[強化ガラス板]硝酸亜鉛濃度が0.5%
となるように硝酸亜鉛6水和物Zn(NO3)2・6H2
Oと硝酸カリウムKNO3をステンレス容器に入れ、3
60℃に加熱して溶融塩とした。縦1000mm、横6
00mm、厚み3mmのソーダライムシリカ組成のフロ
ートガラスをこの溶融塩に1時間漬けてその後除冷して
化学強化ガラス板とした。
[Tempered glass plate] Zinc nitrate concentration is 0.5%
Zinc nitrate hexahydrate Zn (NO 3 ) 2.6H 2
Put O and potassium nitrate KNO 3 in a stainless steel container,
It was heated to 60 ° C. to form a molten salt. Vertical 1000mm, horizontal 6
A float glass having a composition of soda lime silica having a thickness of 00 mm and a thickness of 3 mm was immersed in the molten salt for 1 hour and then cooled to obtain a chemically strengthened glass plate.

【0153】<請求項1の電磁波シールド性光透過窓材
の実施例及び比較例> 実施例1〜4、比較例1〜3 表面側透明基板2Aとして厚さ3.0mmの強化ガラス
板を用い、裏面側透明基板2Bとして厚さ0.1mmの
PETシートを用い、これらの間に接着用シート(厚さ
0.1mm)を介在させたものを、ゴム袋に入れて真空
脱気し、85℃の温度で15分加熱して予備圧着した。
その後、この予備圧着体をオーブン中に入れ、150℃
の条件下で15分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化
した。
<Examples and Comparative Examples of Electromagnetic Wave Shielding Light Transmitting Window Material of Claim 1> Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 A reinforced glass plate having a thickness of 3.0 mm was used as the front transparent substrate 2A. A 0.1 mm thick PET sheet is used as the back transparent substrate 2B, and an adhesive sheet (0.1 mm thick) is interposed between the PET sheets and placed in a rubber bag and vacuum degassed. Preheating was performed by heating at a temperature of 150C for 15 minutes.
Thereafter, the pre-pressed body is placed in an oven,
Was heat-treated for 15 minutes under the conditions described above, and crosslinked and cured to integrate.

【0154】なお、比較例2,3及び実施例3,4で
は、表1に示す導電性メッシュを透明基板間に介在させ
て接着一体化した。
In Comparative Examples 2 and 3 and Examples 3 and 4, the conductive mesh shown in Table 1 was bonded and integrated with a transparent substrate interposed therebetween.

【0155】得られた窓材について下記方法により、3
0MHz〜300MHzにおける電磁波シールド性、光
透過率及び視認性(モアレの現象の有無)を調べ、結果
を表1に示した。
The obtained window material was treated with 3
The electromagnetic wave shielding property, light transmittance, and visibility (presence or absence of a moire phenomenon) at 0 MHz to 300 MHz were examined. The results are shown in Table 1.

【0156】[電磁波シールド性]KEC法(関西電子
工業振興センター)に準拠したアンリツ社製EMIシー
ルド測定装置(MA8602B)を用いて電界の減衰測
定を行った。サンプルの大きさは90mm×110mm
であった。
[Electromagnetic Wave Shielding Property] An electric field attenuation measurement was performed using an EMI shield measuring device (MA8602B) manufactured by Anritsu Corporation in accordance with the KEC method (Kansai Electronic Industry Development Center). Sample size is 90mm x 110mm
Met.

【0157】[光透過率(%)]日立製可視紫外光分光
測定装置(U−4000)を用い、380nm〜780
nm間の平均可視光透過率を求めた。
[Light transmittance (%)] 380 nm to 780 using a visible ultraviolet spectrometer (U-4000) manufactured by Hitachi.
The average visible light transmittance between nm was determined.

【0158】[視認性]ディスプレイ上に設置し、画面
に干渉縞模様が発生するか否かを目視で観察した。
[Visibility] The display was set on a display, and it was visually observed whether or not an interference fringe pattern was generated on the screen.

【0159】[0159]

【表1】 [Table 1]

【0160】表1より請求項1によれば良好な電磁波シ
ールド性光透過窓材が提供されることがわかる。
Table 1 shows that claim 1 provides a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

【0161】<請求項7の電磁波シールド性光透過窓材
の実施例及び比較例> 実施例5,6 表面側透明基板12Aとして厚さ3.0mmの強化ガラ
ス板を用い、裏面側透明基板12Bとして厚さ0.1m
mのPETシートを用い、これらの間に、2枚の接着用
フィルム(厚さ0.2mm)の間に表2に示す金属箔を
挟んだものを介在させ、これを、ゴム袋に入れて真空脱
気し、85℃の温度で15分加熱して予備圧着した。そ
の後、この予備圧着体をオーブン中に入れ、150℃の
条件下で15分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化し
た。
<Examples and Comparative Examples of Electromagnetic Wave Shielding Light Transmitting Window Material of Claim 7> Examples 5 and 6 A tempered glass plate having a thickness of 3.0 mm was used as the front side transparent substrate 12A, and the back side transparent substrate 12B was used. 0.1m thick
m, between which a metal foil shown in Table 2 is sandwiched between two adhesive films (thickness: 0.2 mm) and put in a rubber bag. It was degassed under vacuum, and heated at a temperature of 85 ° C. for 15 minutes for pre-compression bonding. Thereafter, the pre-pressed body was placed in an oven, and heat-treated at 150 ° C. for 15 minutes, crosslinked and hardened, and integrated.

【0162】得られた窓材について実施例1と同様にし
て、30MHz〜300MHzにおける電磁波シールド
性、光透過率及び視認性(モアレの現象の有無)を調
べ、結果を表2に示した。
The obtained window material was examined in the same manner as in Example 1 for electromagnetic wave shielding properties, light transmittance and visibility (whether or not there was a moire phenomenon) at 30 MHz to 300 MHz, and the results are shown in Table 2.

【0163】比較例4〜6 実施例5において、パターンエッチングされた金属箔を
用いないか、或いは、金属箔の代りに、表3に示す金属
メッシュを用いたこと以外は同様にして電磁波シールド
性光透過窓材を作製し、同様にその特性を調べ、結果を
表3に示した。
Comparative Examples 4 to 6 In Example 5, an electromagnetic wave shielding property was obtained in the same manner as in Example 5, except that a metal foil subjected to pattern etching was not used, or a metal mesh shown in Table 3 was used instead of the metal foil. A light-transmitting window material was prepared, and its characteristics were similarly examined. The results are shown in Table 3.

【0164】[0164]

【表2】 [Table 2]

【0165】[0165]

【表3】 [Table 3]

【0166】表2,3より請求項7によれば良好な電磁
波シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。
Tables 2 and 3 show that claim 7 provides a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

【0167】<請求項10の電磁波シールド性光透過窓
材の実施例及び比較例> 実施例7,8 表面側透明基板22Aとして厚さ3.0mmの強化ガラ
ス板を用意し、このガラス板の一方の面に、表4に示す
金属の金属膜を表4に示す厚さに形成した後、表4に示
すパターンにパターンエッチングした。また、裏面側透
明基板22Bとして厚さ0.1mmのPETシートを用
い、これら透明基板22A,22B間に、接着用フィル
ム(厚さ0.2mm)を介在させ、これを、ゴム袋に入
れて真空脱気し、85℃の温度で15分加熱して予備圧
着した。その後、この予備圧着体をオーブン中に入れ、
150℃の条件下で15分間加熱処理し、架橋硬化させ
て一体化した。
<Examples and Comparative Examples of Electromagnetic Shielding Light Transmitting Window Material of Claim 10> Examples 7 and 8 A tempered glass plate having a thickness of 3.0 mm was prepared as the front transparent substrate 22A. After forming a metal film of a metal shown in Table 4 to a thickness shown in Table 4 on one surface, pattern etching was performed in a pattern shown in Table 4. Also, a PET sheet having a thickness of 0.1 mm is used as the back side transparent substrate 22B, an adhesive film (thickness 0.2 mm) is interposed between the transparent substrates 22A and 22B, and this is put in a rubber bag. It was degassed under vacuum, and heated at a temperature of 85 ° C. for 15 minutes for pre-compression bonding. After that, put this pre-pressed body in the oven,
Heat treatment was performed at 150 ° C. for 15 minutes, followed by cross-linking and curing to integrate.

【0168】得られた窓材について実施例1と同様にし
て30MHz〜300MHzにおける電磁波シールド
性、光透過率及び視認性(モアレ現象の有無)を調べ、
結果を表4に示した。
With respect to the obtained window material, the electromagnetic wave shielding property, light transmittance and visibility (presence or absence of a moire phenomenon) at 30 MHz to 300 MHz were examined in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 4.

【0169】比較例7 実施例7において、透明基板22Aに金属膜を形成せず
に接合一体化したこと以外は同様にして光透過窓材を作
製し、同様にその特性を調べ、結果を表5に示した。
Comparative Example 7 A light-transmitting window material was produced in the same manner as in Example 7 except that the transparent substrate 22A was joined and integrated without forming a metal film, and its characteristics were similarly examined. 5 is shown.

【0170】比較例8,9 実施例7において、透明基板22Aに金属膜を形成せ
ず、表5に示す銅金網を2枚の透明基板間に介在させて
接合一体化したこと以外は同様にして電磁波シールド性
光透過窓材を作製し、同様にその特性を調べ、結果を表
5に示した。
Comparative Examples 8 and 9 The same procedure as in Example 7 was carried out except that the metal film was not formed on the transparent substrate 22A and the copper wire mesh shown in Table 5 was interposed between the two transparent substrates and joined together. Thus, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material was produced, and its characteristics were similarly examined. The results are shown in Table 5.

【0171】[0171]

【表4】 [Table 4]

【0172】[0172]

【表5】 [Table 5]

【0173】表4、5より請求項9によれば良好な電磁
波シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。
Tables 4 and 5 show that claim 9 provides a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

【0174】<請求項13の電磁波シールド性光透過窓
材の実施例及び比較例> 実施例9,10 表面側透明基板32Aとして厚さ3.0mmの強化ガラ
ス板を用い、裏面側透明基板32Bとして厚さ0.1m
mのPETシートを用い、透明基板32Aの一方の板面
に表6に示す導電性インクを用いて、表6に示す形状に
パターン印刷して導電層33を形成した。これらの透明
基板32A,32Bの間に、接着用フィルムを介在させ
たものを、ゴム袋に入れて真空脱気し、85℃の温度で
15分加熱して予備圧着した。その後、この予備圧着体
をオーブン中に入れ、150℃の条件下で15分間加熱
処理し、架橋硬化させて一体化した。
<Examples and Comparative Examples of Electromagnetic Shielding Light Transmitting Window Material of Claim 13> Examples 9 and 10 A tempered glass plate having a thickness of 3.0 mm was used as the front transparent substrate 32A, and the rear transparent substrate 32B was used. 0.1m thick
The conductive layer 33 was formed by pattern printing on one plate surface of the transparent substrate 32A using the conductive ink shown in Table 6 in a shape shown in Table 6 using a PET sheet of m. One having an adhesive film interposed between these transparent substrates 32A and 32B was put in a rubber bag, degassed under vacuum, heated at a temperature of 85 ° C. for 15 minutes, and pre-compressed. Thereafter, the pre-pressed body was placed in an oven, and heat-treated at 150 ° C. for 15 minutes, crosslinked and hardened, and integrated.

【0175】得られた窓材について実施例1と同様にし
て30MHz〜300MHzにおける電磁波シールド
性、光透過率及び視認性(モアレの現象の有無)を調
べ、結果を表6に示した。
With respect to the obtained window material, the electromagnetic wave shielding property, the light transmittance and the visibility (the presence or absence of the moire phenomenon) at 30 MHz to 300 MHz were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.

【0176】比較例10 実施例9において、透明基板32Aにパターン印刷を行
わずに、接合一体化したこと以外は同様にして光透過窓
材を作製し、同様にその特性を調べ、結果を表7に示し
た。
Comparative Example 10 A light-transmitting window material was produced in the same manner as in Example 9 except that the transparent substrate 32A was joined and integrated without performing pattern printing, and the characteristics were similarly examined. 7 is shown.

【0177】比較例11,12 実施例9において、透明基板32Aにパターン印刷を行
わずに、透明基板32A,32B間に表7に示す導電性
メッシュを介在させて接合一体化したこと以外は同様に
して電磁波シールド性光透過窓材を作製し、同様にその
特性を調べ、結果を表7に示した。
Comparative Examples 11 and 12 The same procedure as in Example 9 was carried out except that the transparent substrate 32A and the conductive mesh shown in Table 7 were interposed between the transparent substrates 32A and 32B without pattern printing. Thus, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material was produced, and its characteristics were similarly examined. The results are shown in Table 7.

【0178】[0178]

【表6】 [Table 6]

【0179】[0179]

【表7】 [Table 7]

【0180】表6,7より請求項13によれば良好な電
磁波シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。
Tables 6 and 7 show that claim 13 provides a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

【0181】実施例11、比較例13 通常のフロートガラスと、上記の化学強化ガラスを用い
て機械的強度試験を行った。図1の構造において透明基
板2Aを厚さ2mmのフロートガラス板、透明基板2B
を厚さ1mmのフロートガラス板又は化学強化ガラス板
として、インストロン社製圧縮試験機を用いて3点曲げ
試験を行った。サンプル形状、試験条件を下記に示す。
また、試験結果を表8に示す。 サンプル形状 :50mm×150mm 3点曲げスパン :80mm クロスヘッド速度:2mm/min サンプル数 :n=5の平均値
Example 11 and Comparative Example 13 A mechanical strength test was performed using ordinary float glass and the above-mentioned chemically strengthened glass. In the structure of FIG. 1, the transparent substrate 2A is a float glass plate having a thickness of 2 mm, the transparent substrate 2B.
Was subjected to a three-point bending test using a compression tester manufactured by Instron as a float glass plate or a chemically strengthened glass plate having a thickness of 1 mm. The sample shape and test conditions are shown below.
Table 8 shows the test results. Sample shape: 50 mm x 150 mm 3-point bending span: 80 mm Crosshead speed: 2 mm / min Number of samples: Average value of n = 5

【0182】[0182]

【表8】 [Table 8]

【0183】表8より、化学強化ガラスを用いることで
破壊応力を向上させることができることがわかる。
Table 8 shows that the use of chemically strengthened glass can improve the breaking stress.

【0184】[0184]

【発明の効果】以上詳述した通り、請求項1の電磁波シ
ールド性光透過窓材は、 導電性粒子の粒径や分散量を調整することにより、
所望の電磁波シールド性と光透過性を得ることができ
る。 導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。 通常の接着処理で容易に製造することができる。
As described above in detail, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of claim 1 can be obtained by adjusting the particle size and the dispersion amount of the conductive particles.
Desired electromagnetic wave shielding properties and light transmittance can be obtained. A clear image can be obtained by preventing the moire phenomenon and the like when using a conductive mesh. It can be easily manufactured by a normal bonding process.

【0185】等の優れた効果を奏する。Excellent effects such as

【0186】請求項5,7の電磁波シールド性光透過窓
材は、 導電性の箔のパターンエッチングの形状を選択する
ことにより、所望の電磁波シールド性と光透過性を得る
ことができる。 導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 5 and 7 can obtain desired electromagnetic wave shielding characteristics and light transmission by selecting the shape of the pattern etching of the conductive foil. A clear image can be obtained by preventing the moire phenomenon and the like when using a conductive mesh.

【0187】等の優れた効果を奏する。Excellent effects such as

【0188】請求項9,10の電磁波シールド性光透過
窓材は、 導電性の膜のパターンエッチングの形状を選択する
ことにより、所望の電磁波シールド性と光透過性を得る
ことができる。 導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。 透明基板に予めパターンエッチングされた導電性の
膜を形成しておくことにより、通常の接着処理で容易に
製造することができる。
According to the ninth and tenth aspect of the present invention, desired electromagnetic shielding properties and light transmittance can be obtained by selecting the shape of the pattern etching of the conductive film. A clear image can be obtained by preventing the moire phenomenon and the like when using a conductive mesh. By forming a conductive film that has been pattern-etched on a transparent substrate in advance, it can be easily manufactured by a normal bonding process.

【0189】等の優れた効果を奏する。Excellent effects are obtained.

【0190】請求項12,13の電磁波シールド性光透
過窓材は、 導電層のパターン印刷の形状を選択することによ
り、所望の電磁波シール性と光透過性を得ることができ
る。 導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。 予め、透明基板の板面にパターン印刷により導電層
を形成しておくことにより、通常の接着処理により容易
に製造することができる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the twelfth and thirteenth aspects can obtain desired electromagnetic wave sealing properties and light transmittance by selecting the shape of the pattern printing of the conductive layer. A clear image can be obtained by preventing the moire phenomenon and the like when using a conductive mesh. By forming a conductive layer on the plate surface of the transparent substrate in advance by pattern printing, it can be easily manufactured by a normal bonding process.

【0191】等の優れた効果を奏する。Excellent effects such as

【0192】しかも、本発明の電磁波シールド性光透過
窓材は、透明基板の機械的強度が高く、また、化学的安
定性に富むため、高強度で良好な耐候、耐久性が得られ
る。
In addition, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention has a high mechanical strength of the transparent substrate and a high chemical stability, so that high strength and good weather resistance and durability can be obtained.

【0193】従って、これらの本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、PDP用電磁波シールドフィルタ等と
して工業的に極めて有用である。
Therefore, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention is extremely useful industrially as an electromagnetic wave shielding filter for PDP and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】請求項1の電磁波シールド性光透過窓材の実施
の形態を示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1;

【図2】請求項5,7の電磁波シールド性光透過窓材の
実施の形態を示す模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 5 and 7;

【図3】エッチングパターンの実施例を示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing an example of an etching pattern.

【図4】請求項9,10の電磁波シールド性光透過窓材
の実施の形態を示す模式的な断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 9 and 10;

【図5】エッチングパターンの実施例を示す平面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view showing an example of an etching pattern.

【図6】請求項12,13の電磁波シールド性光透過窓
材の実施の形態を示す模式的な断面図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claims 12 and 13;

【図7】印刷パターンの実施例を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing an example of a print pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電磁波シールド性光透過窓材 2A,2B 透明基板 3 接着層 11,11A 電磁波シールド性光透過窓材 12,12A,12B 透明基板 13,13A,13B,13C,13D,13E,13
F 金属箔 14,14A,14B 接着層 21 電磁波シールド性光透過窓材 22A,22B 透明基板 23 金属膜 24 接着層 31 電磁波シールド性光透過窓材 32A,32B 透明基板 33 導電層 33A,33B,33C,33D,33E,33F 印
刷膜 34 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 2A, 2B Transparent substrate 3 Adhesive layer 11, 11A Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 12, 12A, 12B Transparent substrate 13, 13A, 13B, 13C, 13D, 13E, 13
F Metal foil 14, 14A, 14B Adhesive layer 21 Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 22A, 22B Transparent substrate 23 Metal film 24 Adhesive layer 31 Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 32A, 32B Transparent substrate 33 Conductive layer 33A, 33B, 33C , 33D, 33E, 33F Printing film 34 Adhesive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G12B 17/02 G12B 17/02 (72)発明者 森村 泰大 東京都小平市小川東町3−1−1 株式会 社ブリヂストン技術センター内 Fターム(参考) 2F078 HA13 5E321 BB23 BB25 BB41 GG05 GH01──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G12B 17/02 G12B 17/02 (72) Inventor Yasuhiro Morimura 3-1-1 Ogawa Higashicho, Kodaira City, Tokyo F term in Bridgestone Technology Center (reference) 2F078 HA13 5E321 BB23 BB25 BB41 GG05 GH01

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2枚の透明基板を、導電性材料の粒子が
分散混合された樹脂よりなる接着層により接合一体化し
てなる電磁波シールド性光透過窓材であって、該2枚の
透明基板のうちの少なくとも一方は強化ガラスよりなる
ことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
1. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material formed by joining and integrating two transparent substrates with an adhesive layer made of a resin in which particles of a conductive material are dispersed and mixed, wherein the two transparent substrates are At least one of them is made of tempered glass.
【請求項2】 請求項1において、該接着層中の導電性
材料の粒子の混合割合が樹脂に対して0.1〜50重量
%であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓
材。
2. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the mixing ratio of the conductive material particles in the adhesive layer is 0.1 to 50% by weight based on the resin.
【請求項3】 請求項1又は2において、該導電性材料
の粒子の粒径が0.5mm以下であることを特徴とする
電磁波シールド性光透過窓材。
3. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the particle size of the conductive material particles is 0.5 mm or less.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、該2枚の透明基板間に導電性メッシュが介在されて
いることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
4. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein a conductive mesh is interposed between the two transparent substrates.
【請求項5】 透明基板の板面に導電層を樹脂で接着さ
せた電磁波シールド性光透過窓材において、 該導電層は、導電性の箔をパターンエッチングしたもの
であり、該透明基板は強化ガラスよりなることを特徴と
する電磁波シールド性光透過窓材。
5. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive layer is adhered to a plate surface of a transparent substrate with a resin, wherein the conductive layer is obtained by pattern-etching a conductive foil, and the transparent substrate is reinforced. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material made of glass.
【請求項6】 請求項5において、前記導電層は1枚の
透明基板の一方の板面に沿って設けられていることを特
徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
6. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 5, wherein the conductive layer is provided along one surface of one transparent substrate.
【請求項7】 2枚の透明基板間に導電層を介在させて
樹脂で接着させた電磁波シールド性光透過窓材におい
て、 該導電層は、導電性の箔をパターンエッチングしたもの
であり、該2枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強
化ガラスよりなることを特徴とする電磁波シールド性光
透過窓材。
7. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive layer is interposed between two transparent substrates and bonded with a resin, wherein the conductive layer is obtained by pattern-etching a conductive foil. An electromagnetic shielding light transmitting window material, wherein at least one of the two transparent substrates is made of tempered glass.
【請求項8】 請求項5ないし7のいずれか1項におい
て、前記箔は金属箔であり、フォトレジストのコーティ
ング、パターン露光及びエッチングの工程により所定パ
ターンにエッチングされたものであることを特徴とする
電磁波シールド性光透過窓材。
8. The method according to claim 5, wherein the foil is a metal foil, and is etched into a predetermined pattern by a process of coating a photoresist, exposing a pattern, and etching. Electromagnetic wave shielding light transmitting window material.
【請求項9】 透明基板の板面に導電層を形成してなる
電磁波シールド性光透過窓材において、 該導電層は、透明基板の板面に形成された導電性の膜を
パターンエッチングしたものであり、該透明基板は強化
ガラスよりなることを特徴とする電磁波シールド性光透
過窓材。
9. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a conductive layer formed on a plate surface of a transparent substrate, wherein the conductive layer is obtained by pattern-etching a conductive film formed on the plate surface of the transparent substrate. Wherein the transparent substrate is made of tempered glass.
【請求項10】 2枚の透明基板を接着樹脂により接合
一体化してなり、少なくとも一方の透明基板に導電層が
形成されてなる電磁波シールド性光透過窓材において、 該導電層は、透明基板の板面に形成された導電性の膜を
パターンエッチングしたものであり、該一方及び/又は
他方の透明基板は強化ガラスよりなることを特徴とする
電磁波シールド性光透過窓材
10. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which two transparent substrates are joined and integrated with an adhesive resin, and a conductive layer is formed on at least one of the transparent substrates. A conductive film formed on a plate surface is subjected to pattern etching, and said one and / or the other transparent substrate is made of tempered glass.
【請求項11】 請求項9又は10において、前記導電
性の膜は金属膜であり、フォトレジストのコーティン
グ、パターン露光及びエッチングの工程により所定パタ
ーンにエッチングされたものであることを特徴とする電
磁波シールド性光透過窓材。
11. The electromagnetic wave according to claim 9, wherein the conductive film is a metal film, and is etched into a predetermined pattern by a process of coating a photoresist, pattern exposure, and etching. Shielding light transmission window material.
【請求項12】 透明基板の板面に導電層を形成してな
る電磁波シールド性光透過窓材において、 該導電層は、透明基板の板面に導電性インキをパターン
印刷してなるものであり、該透明基板は強化ガラスより
なることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
12. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material having a conductive layer formed on a plate surface of a transparent substrate, wherein the conductive layer is formed by pattern-printing a conductive ink on the plate surface of the transparent substrate. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material, wherein the transparent substrate is made of tempered glass.
【請求項13】 2枚の透明基板を接着樹脂により接合
一体化してなり、少なくとも一方の透明基板の板面に導
電層が形成されてなる電磁波シールド性光透過窓材にお
いて、 該導電層は、透明基板の板面に導電性インキをパターン
印刷してなるものであり、該一方及び/又は他方の透明
基板は強化ガラスよりなることを特徴とする電磁波シー
ルド性光透過窓材。
13. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising two transparent substrates joined and integrated by an adhesive resin, and a conductive layer formed on a plate surface of at least one of the transparent substrates. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material, wherein a conductive ink is pattern-printed on a plate surface of a transparent substrate, and the one and / or the other transparent substrate is made of tempered glass.
【請求項14】 請求項1ないし8,10,11及び1
3のいずれか1項において、前記樹脂はエチレン−酢酸
ビニル共重合体であることを特徴とする電磁波シールド
性光透過窓材。
14. The method according to claim 1, wherein the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh, eighth, tenth, and eleventh parts are provided.
3. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 3, wherein the resin is an ethylene-vinyl acetate copolymer.
【請求項15】 請求項1ないし14のいずれか1項に
おいて、強化ガラスが化学強化ガラスであることを特徴
とする電磁波シールド性光透過窓材。
15. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the tempered glass is chemically strengthened glass.
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