JPH1174681A - Electromagnetic wave shielding optically transparent window material - Google Patents

Electromagnetic wave shielding optically transparent window material

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Publication number
JPH1174681A
JPH1174681A JP25837897A JP25837897A JPH1174681A JP H1174681 A JPH1174681 A JP H1174681A JP 25837897 A JP25837897 A JP 25837897A JP 25837897 A JP25837897 A JP 25837897A JP H1174681 A JPH1174681 A JP H1174681A
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JP
Japan
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film
electromagnetic wave
refractive index
wave shielding
window material
Prior art date
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Application number
JP25837897A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahito Yoshikawa
雅人 吉川
Shinji Saito
伸二 斉藤
Yasuhiro Morimura
泰大 森村
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Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable realization of a good electromagnetic wave shielding capability and a high field angle, by forming an antireflection coating made of a multilayered film of a high-refractive index transparent film and a low-refractive index transparent film on the surface of a transparent substrate located on the side opposite to the side of an electromagnetic wave source. SOLUTION: Two transparent substrates 2A and 2B are bonded and integrated by an adhesive resin 4 with a conductive mesh 3 provided between these substrates. On the surface of the transparent substrate 2A located on the side opposite to the side of an electromagnetic wave source, that is, on the surface which becomes the surface side of an equipment in the case where a window material 1 is used as a front filter of a PDP, an antireflection coating 5 made of a multilayered film of a high-refractive index transparent film 5A and a low-refractive index transparent film 5B is formed. This antireflection coating 5 is constituted by alternately stacking two layers of high-refractive index transparent films 5A and two layers of low-refractive index transparent films 5B, that is, four layers in total, for example in the order of the film 5A and the film 5B. Thus, good electromagnetic wave shielding property and light transmissiveness are provided, and the contents of a screen can be sufficiently visually confirmed even with respect to a lateral incident light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、PDP(プラズマディスプレーパ
ネル)の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, and more particularly to an electromagnetic wave having good electromagnetic wave shielding and light transmitting properties, which is useful as a front filter of a plasma display panel (PDP). The present invention relates to a light transmitting window material having a shielding property.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、OA機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of office automation equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these equipment have become a problem. That is, there is a concern that the electromagnetic waves may affect the human body, and malfunctions of precision equipment due to the electromagnetic waves have become a problem.

【0003】そこで、従来、OA機器のPDPの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。
Therefore, as a front filter of a PDP of an OA device, a window material having an electromagnetic wave shielding property and a light transmitting property has been conventionally developed and put to practical use. Such a window material is also used as a window material in a place where precision equipment is installed, such as a hospital or a laboratory, in order to protect precision equipment from electromagnetic waves such as mobile phones.

【0004】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。
The conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material has a structure in which a conductive mesh material such as a wire mesh is interposed between transparent substrates such as an acrylic plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電磁波シールド性光透過窓材では、画面における光の反
射で画像が見難く、視野角が小さく、横からの入射光に
対して画面内容を十分に視認できないという欠点があっ
た。
However, in the conventional electromagnetic-shielding light-transmitting window material, the image is difficult to see due to the reflection of the light on the screen, the viewing angle is small, and the screen content is sufficient for incident light from the side. Had the drawback that it was not visually recognizable.

【0006】本発明は上記従来の問題点を解決し、PD
P用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好な
電磁波シールド性能を有し、かつ高視野角の電磁波シー
ルド性光透過窓材を提供するものである。
[0006] The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a PD.
An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having good electromagnetic wave shielding performance and a high viewing angle, which is suitable as an electromagnetic wave shielding filter for P and the like.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、2枚の透明基板間に導電性メッシュを
介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シー
ルド性光透過窓材において、電磁波発生源側と反対側に
位置する透明基板の表面に、高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜との積層膜よりなる反射防止膜が形成されている
ことを特徴とする。
The electromagnetic shielding light transmitting window material of the present invention is an electromagnetic shielding light transmitting window formed by integrally bonding an adhesive resin with a conductive mesh interposed between two transparent substrates. The material is characterized in that an antireflection film composed of a laminated film of a high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film is formed on the surface of the transparent substrate located on the side opposite to the electromagnetic wave generation source side.

【0008】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面
に、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりな
る反射防止膜が形成されているため、この反射防止膜の
光の干渉作用で光の反射を防止して高視野角とすること
ができる。
According to the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, an antireflection coating comprising a laminated film of a high refractive index transparent film and a low refractive index transparent film is provided on the surface of a transparent substrate located on the side opposite to the electromagnetic wave generating source side. Since the film is formed, the reflection of light is prevented by the light interference effect of the antireflection film, so that the viewing angle can be increased.

【0009】この高屈折率透明膜として透明導電膜を用
いることにより透明導電膜と導電性メッシュとで優れた
電磁波シールド性を得ることができる。
By using a transparent conductive film as the high refractive index transparent film, excellent electromagnetic wave shielding properties can be obtained by the transparent conductive film and the conductive mesh.

【0010】本発明において、反射防止膜は高屈折率透
明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した多層膜である
ことが好ましい。
In the present invention, the antireflection film is preferably a multilayer film in which high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent films are alternately laminated.

【0011】また、反射防止膜の上に汚染防止膜を設け
るのが好ましい。
Further, it is preferable to provide an anti-contamination film on the anti-reflection film.

【0012】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材は、このように透明基板間に導電性メッシュを介在さ
せたものであるため、破損時の飛散防止効果が得られ、
安全性が高い。
Since the electromagnetic shielding light transmitting window material of the present invention has the conductive mesh interposed between the transparent substrates as described above, the scattering prevention effect at the time of breakage can be obtained.
High safety.

【0013】本発明において、接着樹脂としては、透明
のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)が好適であ
る。
In the present invention, a transparent ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) is preferred as the adhesive resin.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】図1(a)は本発明の電磁波シールド性光
透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図1
(b)は図1(a)のB部の拡大図である。
FIG. 1A is a schematic sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention.
FIG. 2B is an enlarged view of a portion B in FIG.

【0016】図1に示す如く、本発明の電磁波シールド
性光透過窓材1は、2枚の透明基板2A,2Bを、導電
性メッシュ3を介在させて接着樹脂4で接合一体化して
なり、電磁波発生源と反対側に位置する透明基板2Aの
表面、即ち、当該窓材1をPDPの前面フィルタとして
用いた場合、機器の表面側となる面に、高屈折率透明膜
5Aと低屈折率透明膜5Bとの積層膜よりなる反射防止
膜5が形成されている。
As shown in FIG. 1, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material 1 of the present invention is obtained by joining and integrating two transparent substrates 2A and 2B with an adhesive resin 4 with a conductive mesh 3 interposed therebetween. When the window material 1 is used as a front filter of a PDP, the surface of the transparent substrate 2A located on the side opposite to the electromagnetic wave generation source, that is, the surface on the front side of the device, has a high refractive index transparent film 5A and a low refractive index. An anti-reflection film 5 made of a laminated film with the transparent film 5B is formed.

【0017】透明基板2A,2Bの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート(PMMA)、アクリル板、ポリカー
ボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、PET、PC、PMMAが
挙げられる。
The constituent materials of the transparent substrates 2A and 2B include:
Glass, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, and the like, preferably, glass, PET, PC, and PMMA.

【0018】透明基板2A,2Bの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、0.1〜10mm
の範囲とされる。
The thickness of the transparent substrates 2A and 2B is appropriately determined according to the required characteristics (eg, strength and lightness) depending on the use of the obtained window material.
Range.

【0019】透明基板2A,2Bは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、PDP前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板2Aを厚さ0.1〜1
0mm程度のガラス板とし、裏面側の透明基板2Bを厚
さ1μm〜10mm程度のPETフィルム又はPET
板、アクリルフィルム又はアクリル板、ポリカーボネー
トフィルム又はポリカーボネート板等とすることもでき
る。
The transparent substrates 2A and 2B are not necessarily made of the same material. For example, when the front side only needs to be scratch-resistant or durable, as in the case of a PDP front filter, the front side may be used. Transparent substrate 2A having a thickness of 0.1 to 1
A glass plate of about 0 mm, and a transparent substrate 2B on the back side is made of PET film or PET having a thickness of about 1 μm to 10 mm.
A plate, an acrylic film or an acrylic plate, a polycarbonate film or a polycarbonate plate can also be used.

【0020】透明基板2Aの表面側に形成される反射防
止膜5は、高屈折率透明膜5Aと低屈折率透明膜5Bと
の積層膜である。図示の例では、この反射防止膜5は高
屈折率透明膜5A、低屈折率透明膜5B、高屈折率透明
膜5A及び低屈折率透明膜5Bの順で各膜が2層ずつ交
互に合計4層積層された多層膜とされている。なお、こ
の反射防止膜5の高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との
積層構造は、図示のものの他、次のようなものであって
も良い。
The antireflection film 5 formed on the front side of the transparent substrate 2A is a laminated film of a high refractive index transparent film 5A and a low refractive index transparent film 5B. In the example shown in the figure, the antireflection film 5 is composed of a high refractive index transparent film 5A, a low refractive index transparent film 5B, a high refractive index transparent film 5A, and a low refractive index transparent film 5B. It is a multilayer film in which four layers are stacked. The laminated structure of the high-refractive-index transparent film and the low-refractive-index transparent film of the antireflection film 5 may be the following in addition to the illustrated one.

【0021】(a) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を1層ずつ合計2層に積層したもの (b) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透
明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (c) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を
交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜5Aとしては、ITO(スズインジウム
酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO
2 、SnO2 、ZrO等の屈折率1.8以上の薄膜、好
ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。ま
た、低屈折率透明膜5BとしてはSiO2 、MgF2
Al2 3 等の屈折率が1.6以下の低屈折率材料より
なる薄膜を形成することができる。これらの膜厚は光の
干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜
種、中心波長により異なってくるが4層構造の場合、透
明基板側の第1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、
第2層(低屈折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高
屈折率透明膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率
透明膜)が50〜150nm程度の膜厚で形成される。
(A) A high-refractive-index transparent film and a low-refractive-index transparent film are laminated in a total of two layers each. (B) In order of a medium-refractive-index transparent film / a high-refractive-index transparent film / a low-refractive-index transparent film. (C) three layers each of which is alternately laminated in the order of high refractive index transparent film / low refractive index transparent film, and a total of six layers. High refractive index transparent film 5A As ITO (tin indium oxide), ZnO, Al-doped ZnO, TiO
2 , a thin film having a refractive index of 1.8 or more, preferably a transparent conductive thin film, such as SnO 2 or ZrO, can be formed. Further, as the low refractive index transparent film 5B, SiO 2 , MgF 2 ,
A thin film made of a low-refractive-index material such as Al 2 O 3 having a refractive index of 1.6 or less can be formed. These film thicknesses differ depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference. However, in the case of a four-layer structure, the first layer on the transparent substrate side (high refractive index) Transparent film) is 5 to 50 nm,
The second layer (low-refractive-index transparent film) has a thickness of 5 to 50 nm, the third layer (high-refractive-index transparent film) has a thickness of about 50 to 100 nm, and the fourth layer (low-refractive-index transparent film) has a thickness of about 50 to 150 nm. Is done.

【0022】本実施例では、このような反射防止膜5の
上に更に汚染防止膜6を形成して、表面の耐汚染性を高
めている。この場合、汚染防止膜6としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜1000nm
程度の薄膜が好ましい。
In this embodiment, an anti-contamination film 6 is further formed on such an anti-reflection film 5 to improve the anti-contamination resistance of the surface. In this case, the contamination prevention film 6 is made of a fluorine-based thin film, a silicon-based thin film, or the like and has a thickness of 1 to 1000 nm.
A thin film of the order is preferred.

【0023】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材では、表面側となる透明基板2Aには、更に、シリコ
ン系材料等によるハードコート処理、或いはハードコー
ト層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を
施しても良い。また、裏面側となる透明基板2Bには、
金属薄膜又は透明導電膜等の熱線反射コート等を施して
機能性を高めることができる。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, the transparent substrate 2A on the front side is further hard-coated with a silicon-based material or the like, or a light-scattering material is kneaded in the hard-coat layer. However, anti-glare processing may be performed. In addition, the transparent substrate 2B on the back side has
Functionality can be enhanced by applying a heat ray reflective coat such as a metal thin film or a transparent conductive film.

【0024】透明基板2A,2Bに介在させる導電性メ
ッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維
よりなる線径1μm〜1mm、開口率50〜90%のも
のが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線径が1
mmを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド性が
下がり、両立させることができない。1μm未満ではメ
ッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難しく
なる。また、開口率は90%を超えるとメッシュとして
形状を維持することが難しく、50%未満では光透過性
が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてしま
う。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は6
0〜90%である。
The conductive mesh interposed between the transparent substrates 2A and 2B is preferably a metal mesh and / or a metal-coated organic fiber having a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 50 to 90%. In this conductive mesh, the wire diameter is 1
If it exceeds mm, the aperture ratio will decrease or the electromagnetic wave shielding property will decrease, making it impossible to achieve both. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh decreases, and handling becomes extremely difficult. If the aperture ratio exceeds 90%, it is difficult to maintain the shape as a mesh, and if it is less than 50%, the light transmittance is low, and the amount of light from the display is reduced. More preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and aperture ratio is 6
0 to 90%.

【0025】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。
The aperture ratio of the conductive mesh means the ratio of the area occupied by the openings in the projected area of the conductive mesh.

【0026】導電性メッシュを構成する金属繊維及び金
属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アル
ミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、
鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好ましくは
銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
The metal of the metal fibers and the metal-coated organic fibers constituting the conductive mesh include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, and the like.
Iron, silver, chromium, carbon or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used.

【0027】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。
As the organic material of the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

【0028】本発明において、透明基板2A,2Bを導
電性メッシュ3を介して接着する接着樹脂4としては、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸
メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合
体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エ
チレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオ
ン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸
化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリ
ル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−
(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体
が挙げられる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリ
ル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブ
チラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で
最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体(EVA)である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているPVB樹脂も好適である。
In the present invention, the adhesive resin 4 for bonding the transparent substrates 2A and 2B through the conductive mesh 3 includes:
Ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-methyl (meth) acrylate copolymer Copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, Ethylene-vinyl acetate-
An ethylene-based copolymer such as a (meth) acrylate copolymer is mentioned ("(meth) acryl" indicates "acryl or methacryl"). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, etc. can also be used, but the most balanced in terms of performance and ethylene-vinyl acetate is easy to use. It is a copolymer (EVA). Further, PVB resins used in laminated glass for automobiles are also suitable in terms of impact resistance, penetration resistance, adhesiveness, transparency and the like.

【0029】PVB樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が70〜95重量%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重
量%で、平均重合度が200〜3000、好ましくは3
00〜2500であるものが好ましく、PVB樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
The PVB resin contains 70 to 95% by weight of a polyvinyl acetal unit, 1 to 15% by weight of a polyvinyl acetate unit, and has an average degree of polymerization of 200 to 3000, preferably 3 to 5%.
It is preferably from 00 to 2500, and the PVB resin is used as a resin composition containing a plasticizer.

【0030】PVB樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。
Examples of the plasticizer for the PVB resin composition include organic plasticizers such as monobasic acid esters and polybasic acid esters, and phosphoric acid plasticizers.

【0031】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、2−エチル酪酸、ヘプタン酸、n−オ
クチル酸、2−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n−
ノニル酸)、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−2−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−n−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。
The monobasic acid esters include butyric acid, isobutyric acid, caproic acid, 2-ethylbutyric acid, heptanoic acid, n-octylic acid, 2-ethylhexylic acid, pelargonic acid (n-
Esters obtained by the reaction of an organic acid such as nonylic acid) and decylic acid with triethylene glycol, and more preferably triethylene-di-2-ethylbutyrate and triethylene glycol-di-2-ethylhexo. Ethates, triethylene glycol-di-capronate, triethylene glycol-di-n-octoate and the like. Note that an ester of the above organic acid with tetraethylene glycol or tripropylene glycol can also be used.

【0032】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。
As the polybasic acid ester plasticizer, for example, an ester of an organic acid such as adipic acid, sebacic acid, azelaic acid and a linear or branched alcohol having 4 to 8 carbon atoms is preferable, and more preferably. , Dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl carbitol adipate and the like.

【0033】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
Examples of the phosphate plasticizer include tributoxyethyl phosphate, isodecylphenyl phosphate, triisopropyl phosphate, and the like.

【0034】PVB樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂100重量部
に対して可塑剤を5〜50重量部、好ましくは10〜4
0重量部とする。
In the PVB resin composition, if the amount of the plasticizer is small, the film-forming property is reduced, and if the amount is large, the durability and the like under heat resistance are impaired. Therefore, the plasticizer is added in an amount of 5 to 100 parts by weight of the polyvinyl butyral resin. 50 parts by weight, preferably 10-4
0 parts by weight.

【0035】PVB樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。
The PVB resin composition may further contain additives such as a stabilizer, an antioxidant, and an ultraviolet absorber for preventing deterioration.

【0036】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
EVA等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架橋剤
を混合してシート化した接着用フィルムを2枚用い、こ
の接着用フィルムの間に導電性メッシュを挟んだものを
透明基板2A,2B間に介在させ、減圧、加温下に脱気
して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬
化させて一体化することにより容易に製造することがで
きる。
The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention comprises:
A resin such as EVA is mixed with a predetermined amount of a crosslinking agent for heat or light curing to form two sheets of an adhesive film, and a sheet having a conductive mesh interposed therebetween is used as a transparent substrate 2A. , 2B, deaerated under reduced pressure and heating, and pre-compressed, and then the adhesive layer is cured by heating or light irradiation to be integrated to easily produce.

【0037】なお、導電性メッシュ3と接着樹脂4とで
形成される接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓
材の用途等によっても異なるが、通常の場合2μm〜2
mm程度とされる。従って、接着用フィルムは、このよ
うな厚さの接着層が得られるように、1μm〜1mm厚
さに成形される。
The thickness of the adhesive layer formed by the conductive mesh 3 and the adhesive resin 4 varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material and the like.
mm. Therefore, the adhesive film is formed to a thickness of 1 μm to 1 mm so as to obtain an adhesive layer having such a thickness.

【0038】以下に、樹脂としてEVAを用いた場合を
例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明す
る。
Hereinafter, the adhesive layer according to the present invention will be described in more detail by exemplifying the case where EVA is used as the resin.

【0039】EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜5
0重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。
The EVA has a vinyl acetate content of 5 to 5
0% by weight, preferably 15-40% by weight is used. If the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in weather resistance and transparency, and if it exceeds 40% by weight, mechanical properties are remarkably deteriorated, film formation becomes difficult, and film mutual blocking occurs. .

【0040】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ
ハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブ
チルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイ
ド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−
ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;
n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バ
レレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキ
サン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオ
キシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブ
チルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5
−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1
−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオ
キシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサ
イド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオ
キシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイ
ド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロル
ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソ
ブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通
常EVA100重量部に対して、10重量部以下、好ま
しくは0.1〜10重量部の割合で使用される。
When crosslinking by heating, an organic peroxide is suitable as the crosslinking agent, and is selected in consideration of sheet processing temperature, crosslinking temperature, storage stability and the like. Usable peroxides include, for example, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-
Di (t-butylperoxy) hexane-3; di-t-butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide Α, α'-
Bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene;
n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1- Bis (t-butylperoxy) -3,
3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; tert-butylperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5
-Bis (tert-butylperoxy) hexyne-3; 1,1
-Bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisper Oxybenzoate; tertiary butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl peroxide; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used alone or as a mixture of two or more, usually in a proportion of 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA.

【0041】有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。
The organic peroxide is usually extruded to EVA,
It is kneaded by a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like, and added to the EVA film by an impregnation method.

【0042】なお、EVAの物性(機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。
In order to improve the physical properties of EVA (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.), various acryloxy or methacryloxy and allyl group-containing compounds are added. be able to. As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common, and ester residues include methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl and other alkyl groups, as well as cyclohexyl groups. , A tetrahydrofurfuryl group, an aminoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, and a 3-chloro-2-hydroxypropyl group. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. As the amide, diacetone acrylamide is typical.

【0043】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種
を単独で、或いは2種以上を混合して、通常EVA10
0重量部に対して0.1〜2重量部、好ましくは0.5
〜5重量部用いられる。
More specifically, polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol and glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, and maleate Allyl group-containing compounds, such as diallyl acid, are listed. These may be used alone or as a mixture of two or more.
0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 0 parts by weight
To 5 parts by weight.

【0044】EVAを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常EVA100重量部に対し
て10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部使用
される。
When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is used in an amount of usually 10 parts by weight or less, preferably 0.1 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of EVA instead of the above-mentioned peroxide.

【0045】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロア
ニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−
1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1
種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができ
る。
In this case, usable photosensitizers include:
For example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl, p-nitroaniline, 2,4,6-triene Nitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-
1,9-benzanthrone and the like;
Species can be used alone or in combination of two or more.

【0046】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
In this case, a silane coupling agent is used in combination as an accelerator. As the silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β
-Methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N
-Β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like.

【0047】これらのシランカップリング剤は通常EV
A100重量部に対して0.001〜10重量部、好ま
しくは0.001〜5重量部の割合で1種又は2種以上
が混合使用される。
These silane coupling agents are usually EV
One or more kinds are mixed and used at a ratio of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of A.

【0048】なお、本発明に係るEVA接着層には、そ
の他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料
加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自
体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、
カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の
充填剤を適量配合してもよい。
The EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antioxidant, and a paint processing aid, and also adjusts the color of the filter itself. Colorants such as dyes and pigments,
Fillers such as carbon black, hydrophobic silica and calcium carbonate may be added in an appropriate amount.

【0049】また、接着性改良の手段として、シート化
されたEVA接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温
プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有
効である。
Further, as means for improving the adhesiveness, means such as corona discharge treatment, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, and ultraviolet light irradiation on the sheeted EVA adhesive film surface are also effective.

【0050】本発明に係るEVA接着用フィルムは、E
VAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混
練した後カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレー
ション等の成膜法により所定の形状にシート成形するこ
とにより製造される。成膜に際してはブロッキング防
止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボ
スが付与される。
The EVA adhesive film according to the present invention comprises
It is manufactured by mixing VA and the above-mentioned additives, kneading them with an extruder, a roll, or the like, and then forming a sheet into a predetermined shape by a film forming method such as calender, roll, T-die extrusion, or inflation. During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with a transparent substrate.

【0051】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、PDPの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。
Such an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention can be effectively used as a front filter of a PDP or a window material of a place where precision equipment is installed in a hospital or a laboratory.

【0052】[0052]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.

【0053】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フ
ィルムは、次のようにして製造した。接着用フィルムの製造 エチレン−酢酸ビニル共重合体(東洋曹逹社製ウルトラ
セン634:酢酸ビニル含量26%、メルトインデック
ス4)100重量部に、1,1−ビス(t−ブチルパー
オキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(日
本油脂社製パーヘキサ3M)1重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン0.1重量部、ジアリ
ルフタレート2重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ130(住友化学工業社製)0.5重量部とを混合
し、40mm押出機にて500μm厚さの両面エンボス
の接着用フィルムを作製した。
The adhesive films used in the examples and comparative examples were manufactured as follows. Production of Adhesive Film 100 parts by weight of ethylene-vinyl acetate copolymer (Ultracene 634 manufactured by Toyo Soda Co., Ltd .: vinyl acetate content: 26%, melt index: 4) was added to 100 parts by weight of 1,1-bis (t-butylperoxy) -3, 1 part by weight of 3,5-trimethylcyclohexane (Perhexa 3M manufactured by NOF Corporation), 0.1 part by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 2 parts by weight of diallyl phthalate, and Sumisolve 130 (Sumitomo Chemical Industries, Ltd.) as an ultraviolet absorber And 0.5 parts by weight) were mixed with each other to prepare a double-sided embossed adhesive film having a thickness of 500 μm using a 40 mm extruder.

【0054】実施例1,2、比較例1 表面側透明基板2Aとして厚さ3.0mmのガラス板を
用い、この透明基板の表面に表2に示す反射防止膜A又
はB(詳細は表1に示す。)を形成し(ただし、比較例
1では反射防止膜なし)、裏面側透明基板2Bとして厚
さ0.1mmのPETシートを用い、これらの間に2枚
の接着用フィルムに表2に示す導電性メッシュを挟んだ
ものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、9
0℃の温度で10分加熱して予備圧着した。その後、こ
の予備圧着体をオーブン中に入れ、150℃の条件下で
15分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。
Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 A glass plate having a thickness of 3.0 mm was used as the front-side transparent substrate 2A, and an antireflection film A or B shown in Table 2 on the surface of the transparent substrate (see Table 1 for details). Is formed (however, no antireflection film is used in Comparative Example 1), and a PET sheet having a thickness of 0.1 mm is used as the back transparent substrate 2B. The conductive mesh shown in Fig. 2 is interposed, and this is put in a rubber bag and vacuum degassed.
It was pre-compressed by heating at a temperature of 0 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the pre-pressed body was placed in an oven, and heat-treated at 150 ° C. for 15 minutes, crosslinked and hardened, and integrated.

【0055】得られた窓材について下記方法により、3
0MHz〜300MHzにおける電磁波シールド性、光
透過率、モアレ現象の有無及び入射光時のディスプレイ
画面視認性を調べ、結果を表2に示した。
With respect to the obtained window material, 3
The electromagnetic wave shielding property, light transmittance, presence / absence of moire phenomenon, and visibility of the display screen at the time of incident light at 0 MHz to 300 MHz were examined. The results are shown in Table 2.

【0056】電磁波シールド性 KEC法(関西電子工業振興センター)に準拠したアン
リツ社製EMIシールド測定装置(MA8602B)を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは9
0mm×110mmであった。光透過率(%) 日立製可視紫外光分光測定装置(U−4000)を用
い、380nm〜780nm間の平均可視光透過率を求
めた。モアレ現象の有無 ディスプレイ上に設置し、画面に干渉縞模様が発生する
か否かを目視で観察した。入射光時のディスプレイ画面視認性 ディスプレイ画面の垂線に対して30度の方向から人工
光源、又は太陽光を入射した場合の、反対方向30度の
位置での画面内容の視認性を観察した。
Electromagnetic Wave Shielding Attenuation of the electric field was measured using an EMI shield measuring device (MA8602B) manufactured by Anritsu Corporation in accordance with the KEC method (Kansai Electronic Industry Promotion Center). Sample size is 9
It was 0 mm x 110 mm. Light transmittance (%) The average visible light transmittance between 380 nm and 780 nm was determined using a visible ultraviolet light spectrometer (U-4000) manufactured by Hitachi. Moire phenomenon was observed. The device was set on a display, and whether or not interference fringes were generated on the screen was visually observed. Visibility of the display screen at the time of incident light The visibility of the screen contents at a position of 30 degrees in the opposite direction when an artificial light source or sunlight was incident from a direction of 30 degrees with respect to the perpendicular of the display screen was observed.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】表2より本発明によれば良好な電磁波シー
ルド性光透過窓材が提供されることがわかる。
Table 2 shows that the present invention provides a good electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to the present invention.

【0060】なお、反射防止膜を設けていない比較例1
では、入射光を入れた場合その反対側では反射光の影響
で画面の内容を認識することができなかった。一方、反
射防止膜を積層した実施例1,2のものは同様のテスト
で反射光の影響を受けず、画面内容を認識することがで
きた。
Comparative Example 1 without an anti-reflection film
Then, when the incident light was applied, the content of the screen could not be recognized on the opposite side due to the influence of the reflected light. On the other hand, in the case of Examples 1 and 2 in which the antireflection films were laminated, in the same test, the screen contents could be recognized without being affected by the reflected light.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材は、良好な電磁波シールド性と光透過
性を有し、しかも横からの入射光に対しても画面内容を
充分に視認できる。また、透明基板を装着樹脂で強固に
接合しているため、衝撃時に、透明基板が割れて飛散す
ることもなく、安全性に富み、PDP用電磁波シールド
フィルター等として工業的に極めて有用である。
As described in detail above, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention has good electromagnetic wave shielding and light transmitting properties, and has a sufficient screen content with respect to incident light from the side. Can be visually recognized. Further, since the transparent substrate is firmly joined with the mounting resin, the transparent substrate is not broken and scattered at the time of impact, so that it is rich in safety and is extremely useful industrially as an electromagnetic wave shielding filter for PDP.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は本発明の電磁波シールド性光透過
窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図1(b)は
図1(a)のB部の拡大図である。
FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged view of a portion B in FIG. 1A. is there.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電磁波シールド性光透過窓材 2A,2B 透明基板 3 導電性メッシュ 4 接着樹脂 5 反射防止膜 5A 高屈折率透明膜 5B 低屈折率透明膜 6 汚染防止膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave shielding light transmission window material 2A, 2B Transparent substrate 3 Conductive mesh 4 Adhesive resin 5 Antireflection film 5A High refractive index transparent film 5B Low refractive index transparent film 6 Pollution prevention film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2枚の透明基板間に導電性メッシュを介
在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
ド性光透過窓材において、 電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面に、
高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反
射防止膜が形成されていることを特徴とする電磁波シー
ルド性光透過窓材。
1. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material which is joined and integrated with an adhesive resin with a conductive mesh interposed between two transparent substrates, wherein the transparent substrate located on the side opposite to the electromagnetic wave generation source side. On the surface,
An electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising an antireflection film formed of a laminated film of a high refractive index transparent film and a low refractive index transparent film.
【請求項2】 請求項1において、高屈折率透明膜が透
明導電膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透
過窓材。
2. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the high refractive index transparent film is a transparent conductive film.
【請求項3】 請求項1又は2において、該反射防止膜
は高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した
多層膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過
窓材。
3. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the antireflection film is a multilayer film in which high refractive index transparent films and low refractive index transparent films are alternately laminated. .
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、該反射防止膜の上に汚染防止膜が設けられているこ
とを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
4. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein a contamination prevention film is provided on the antireflection film.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1項におい
て、該接着樹脂がエチレン−酢酸ビニル共重合体である
ことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
5. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein said adhesive resin is an ethylene-vinyl acetate copolymer.
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