JPH1174681A - Electromagnetic wave shielding optically transparent window material - Google Patents

Electromagnetic wave shielding optically transparent window material

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JPH1174681A
JPH1174681A JP25837897A JP25837897A JPH1174681A JP H1174681 A JPH1174681 A JP H1174681A JP 25837897 A JP25837897 A JP 25837897A JP 25837897 A JP25837897 A JP 25837897A JP H1174681 A JPH1174681 A JP H1174681A
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JP
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Patent type
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film
wave shielding
index transparent
electromagnetic
high
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Pending
Application number
JP25837897A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Morimura
Shinji Saito
Masahito Yoshikawa
雅人 吉川
伸二 斉藤
泰大 森村
Original Assignee
Bridgestone Corp
株式会社ブリヂストン
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable realization of a good electromagnetic wave shielding capability and a high field angle, by forming an antireflection coating made of a multilayered film of a high-refractive index transparent film and a low-refractive index transparent film on the surface of a transparent substrate located on the side opposite to the side of an electromagnetic wave source. SOLUTION: Two transparent substrates 2A and 2B are bonded and integrated by an adhesive resin 4 with a conductive mesh 3 provided between these substrates. On the surface of the transparent substrate 2A located on the side opposite to the side of an electromagnetic wave source, that is, on the surface which becomes the surface side of an equipment in the case where a window material 1 is used as a front filter of a PDP, an antireflection coating 5 made of a multilayered film of a high-refractive index transparent film 5A and a low-refractive index transparent film 5B is formed. This antireflection coating 5 is constituted by alternately stacking two layers of high-refractive index transparent films 5A and two layers of low-refractive index transparent films 5B, that is, four layers in total, for example in the order of the film 5A and the film 5B. Thus, good electromagnetic wave shielding property and light transmissiveness are provided, and the contents of a screen can be sufficiently visually confirmed even with respect to a lateral incident light.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備え、かつ光透過性で、PDP(プラズマディスプレーパネル)の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性光透過窓材に関する。 The present invention relates to relates to electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, in particular, with good electromagnetic shielding properties, and an optically transparent, useful electromagnetic waves as a front filter or the like of the PDP (plasma display panel) on shielding and light transmissive window material.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、OA機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波が問題視されるようになっている。 In recent years, with the spread of OA equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these devices are adapted to be problematic. 即ち、電磁波の人体への影響が懸念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題となっている。 That is about an impact on the human body of electromagnetic waves, also malfunction or the like of the precision apparatus by electromagnetic waves has become a problem.

【0003】そこで、従来、OA機器のPDPの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。 [0003] Therefore, conventionally, as a PDP front filter of the OA equipment, has electromagnetic shielding property, and optical transparency of the window material have been developed and put to practical use. このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。 Such a window material also, in order to protect the precision equipment from electromagnetic waves such as mobile phones, have also been used as a window material of precision equipment installation location such as a hospital or laboratory.

【0004】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の透明基板の間に介在させて一体化した構成とされている。 Conventional electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate is mainly a conductive mesh material such as wire mesh, has a structure in which integrated by interposing between the transparent substrate such as an acrylic plate.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の電磁波シールド性光透過窓材では、画面における光の反射で画像が見難く、視野角が小さく、横からの入射光に対して画面内容を十分に視認できないという欠点があった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, sufficient in the conventional electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, the image is difficult to see in reflection of light on the screen, a small viewing angle, the screen contents to the incident light from the side there is a drawback that can not be visually recognized.

【0006】本発明は上記従来の問題点を解決し、PD [0006] The present invention is to solve the above problems, PD
P用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ高視野角の電磁波シールド性光透過窓材を提供するものである。 Suitable as P electromagnetic wave shielding filter or the like, has a good electromagnetic wave shielding performance, and is intended to provide an electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the wide viewing angle.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、2枚の透明基板間に導電性メッシュを介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面に、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反射防止膜が形成されていることを特徴とする。 Electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention According to an aspect of the by interposing a conductive mesh between two transparent substrates, electromagnetic wave shielding and light transmitting window made integrally joined with an adhesive resin in wood, the surface of the transparent substrate located on the opposite side of the electromagnetic wave generation source side, wherein the antireflection film of the layer film of the high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film is formed.

【0008】本発明の電磁波シールド性光透過窓材では、電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面に、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反射防止膜が形成されているため、この反射防止膜の光の干渉作用で光の反射を防止して高視野角とすることができる。 [0008] In the electromagnetic wave shielding and light transmitting plate of the present invention, the surface of the transparent substrate located on the opposite side of the electromagnetic wave generation source side, preventing reflection of the layer film of the high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film since the film is formed, it can be to prevent the reflection of light with a wide viewing angle in interference of light in the anti-reflection film.

【0009】この高屈折率透明膜として透明導電膜を用いることにより透明導電膜と導電性メッシュとで優れた電磁波シールド性を得ることができる。 [0009] it is possible to obtain an excellent electromagnetic shielding property with a transparent conductive film and a conductive mesh by using a transparent conductive film as the high-refractive-index transparent film.

【0010】本発明において、反射防止膜は高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した多層膜であることが好ましい。 [0010] In the present invention, the antireflection film is preferably a multilayer film obtained by laminating a high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent films alternately.

【0011】また、反射防止膜の上に汚染防止膜を設けるのが好ましい。 Further, preferably provided with contamination prevention film on the antireflection film.

【0012】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、このように透明基板間に導電性メッシュを介在させたものであるため、破損時の飛散防止効果が得られ、 [0012] Incidentally, the electromagnetic wave shielding and light transmitting plate of the present invention, since between this transparent substrate is obtained by interposing a conductive mesh, effect of preventing scattering at failure are obtained,
安全性が高い。 Safety is high.

【0013】本発明において、接着樹脂としては、透明のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)が好適である。 [0013] In the present invention, as the adhesive resin, transparent ethylene - vinyl acetate copolymer (EVA) are preferred.

【0014】 [0014]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明する。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of the electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention with reference to the drawings will be described in detail.

【0015】図1(a)は本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図1 [0015] FIGS. 1 (a) is a schematic sectional view showing an embodiment of the electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention, FIG. 1
(b)は図1(a)のB部の拡大図である。 (B) is an enlarged view of a B portion of FIG. 1 (a).

【0016】図1に示す如く、本発明の電磁波シールド性光透過窓材1は、2枚の透明基板2A,2Bを、導電性メッシュ3を介在させて接着樹脂4で接合一体化してなり、電磁波発生源と反対側に位置する透明基板2Aの表面、即ち、当該窓材1をPDPの前面フィルタとして用いた場合、機器の表面側となる面に、高屈折率透明膜5Aと低屈折率透明膜5Bとの積層膜よりなる反射防止膜5が形成されている。 [0016] As shown in FIG. 1, the electromagnetic wave shielding and light transmitting plate 1 of the present invention, two transparent substrates 2A, the 2B, the conductive mesh 3 is interposed becomes joined integrally with an adhesive resin 4, the surface of the transparent substrate 2A on the opposite side to the electromagnetic wave generating source, i.e., the case of using the window material 1 as a front filter of PDP, the surface to be the surface side of the device, the high-refractive-index transparent film 5A and a low refractive index antireflection film 5 of the layer film of the transparent film 5B are formed.

【0017】透明基板2A,2Bの構成材料としては、 The transparent substrate 2A, as the constituent material of the 2B are
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、アクリル板、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、PET、PC、PMMAが挙げられる。 Glass, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic board, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene - vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene - methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably, glass, PET, PC, PMMA and the like.

【0018】透明基板2A,2Bの厚さは得られる窓材の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等によって適宜決定されるが、通常の場合、0.1〜10mm The transparent substrate 2A, request by use of the window material thickness of 2B obtained characteristics (e.g., strength, light weight) is appropriately determined by such, usually, 0.1 to 10 mm
の範囲とされる。 It is in the range.

【0019】透明基板2A,2Bは、必ずしも同材質である必要はなく、例えば、PDP前面フィルタのように、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合には、この表面側となる透明基板2Aを厚さ0.1〜1 The transparent substrate 2A, 2B is not necessarily the same material, for example, as a PDP front filter, when the surface side only scratch resistance and durability, etc. is required, this surface the transparent substrate 2A as thickness of 0.1 to 1
0mm程度のガラス板とし、裏面側の透明基板2Bを厚さ1μm〜10mm程度のPETフィルム又はPET And 0mm about a glass plate having a thickness of approximately 1μm~10mm the transparent substrate 2B on the back surface side PET film or PET
板、アクリルフィルム又はアクリル板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板等とすることもできる。 Plates, can also be an acrylic film or an acrylic plate, a polycarbonate film or polycarbonate plate or the like.

【0020】透明基板2Aの表面側に形成される反射防止膜5は、高屈折率透明膜5Aと低屈折率透明膜5Bとの積層膜である。 The anti-reflection film is formed on the surface side of the transparent substrate 2A 5 is a laminated film of a high-refractive-index transparent film 5A and a low refractive index transparent film 5B. 図示の例では、この反射防止膜5は高屈折率透明膜5A、低屈折率透明膜5B、高屈折率透明膜5A及び低屈折率透明膜5Bの順で各膜が2層ずつ交互に合計4層積層された多層膜とされている。 The total In the illustrated example, the anti-reflection film 5 is the high-refractive-index transparent film 5A, the low-refractive-index transparent film 5B, the alternately each film two layers in the order of the high-refractive-index transparent film 5A and the low refractive index transparent film 5B It is a four-layer laminated multilayer film. なお、この反射防止膜5の高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層構造は、図示のものの他、次のようなものであっても良い。 Incidentally, the laminated structure of the high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film of the antireflection film 5, in addition to those shown, may be as follows.

【0021】(a) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合計2層に積層したもの (b) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (c) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜5Aとしては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO [0021] (a) the order of the high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film which was laminated to a total of two layers, one layer (b) in the refractive-index transparent film / high refractive index transparent film / low refractive index transparent film in one layer, which are stacked in three layers in total (c) by three layers each layer alternately in this order of the high-refractive-index transparent film / low refractive index transparent films, those that have been laminated in a total of six layers high-refractive-index transparent film 5A the, ITO (indium tin oxide) or ZnO, ZnO doped with Al, TiO
2 、SnO 2 、ZrO等の屈折率1.8以上の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。 2, SnO 2, a refractive index of 1.8 or more thin films of ZrO and the like, preferably capable of forming a transparent conductive thin film. また、低屈折率透明膜5BとしてはSiO 2 、MgF 2 As the low-refractive-index transparent film 5B SiO 2, MgF 2,
Al 23等の屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成することができる。 Such as Al 2 O 3 the refractive index of it is possible to form a thin film made of 1.6 or lower refractive index material. これらの膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが4層構造の場合、透明基板側の第1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、 Since these film thickness to reduce the reflectance in the visible light region in the interference of light, the film structure, film type, if different come although four-layer structure by a center wavelength, the transparent substrate-side first layer (high refractive index transparent film) is 5~50nm,
第2層(低屈折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高屈折率透明膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率透明膜)が50〜150nm程度の膜厚で形成される。 A second layer (low-refractive-index transparent film) is 5 to 50 nm, the third layer (high-refractive-index transparent film) is 50 to 100 nm, the fourth layer (low-refractive-index transparent film) is formed with a thickness of about 50~150nm It is.

【0022】本実施例では、このような反射防止膜5の上に更に汚染防止膜6を形成して、表面の耐汚染性を高めている。 [0022] In this embodiment, such further forming a contamination prevention film 6 on the antireflection film 5, to enhance the stain resistance of the surface. この場合、汚染防止膜6としては、フッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜1000nm In this case, the contamination preventing film 6, the film thickness made of fluorine-based thin film, silicon-based thin film and the like 1~1000nm
程度の薄膜が好ましい。 The extent of the thin film is preferable.

【0023】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓材では、表面側となる透明基板2Aには、更に、シリコン系材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施しても良い。 [0023] In the electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention, the transparent substrate 2A as a surface side, further, kneaded hard coating treatment with a silicon-based material or the like, or a light scattering material to the hard coat layer it may be subjected to anti-glare processing or the like. また、裏面側となる透明基板2Bには、 Further, the transparent substrate 2B serving as the rear surface side,
金属薄膜又は透明導電膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めることができる。 Heat-reflecting coating, such as a metal thin film or a transparent conductive film or the like can be enhanced subjected to functional and.

【0024】透明基板2A,2Bに介在させる導電性メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなる線径1μm〜1mm、開口率50〜90%のものが好ましい。 The transparent substrate 2A, as the conductive mesh is interposed 2B, the metal fibers and / or metal-coated organic fibers from consisting wire diameter 1 m to 1 mm, those of the opening ratio 50-90% preferred. この導電性メッシュにおいて、線径が1 In the conductive mesh, wire diameter 1
mmを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド性が下がり、両立させることができない。 Beyond mm or aperture ratio decreases, the electromagnetic wave shielding property is lowered, it can not be compatible. 1μm未満ではメッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難しくなる。 It is less than 1μm lowers the strength of the mesh, handling becomes very difficult. また、開口率は90%を超えるとメッシュとして形状を維持することが難しく、50%未満では光透過性が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてしまう。 Further, the aperture ratio is difficult to maintain the shape as a mesh exceeds 90%, low optical transparency is less than 50%, light amount from a display from being reduced. より好ましい線径は10〜500μm、開口率は6 More preferred is a mesh having line width of 10 to 500 [mu] m, the aperture ratio is 6
0〜90%である。 It is 0 to 90%.

【0025】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。 The conductive mesh opening ratio of A means the proportion of the area is an opening portion in the projected area of ​​the conductive mesh.

【0026】導電性メッシュを構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、 Examples of the metal of the metal fiber and metal-coated organic fibers constituting the conductive mesh, copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead,
鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。 Iron, silver, chromium, carbon or alloys thereof, preferably copper, stainless steel, aluminum.

【0027】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。 [0027] As the organic material of the metal-coated organic fibers include polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

【0028】本発明において、透明基板2A,2Bを導電性メッシュ3を介して接着する接着樹脂4としては、 [0028] In the present invention, the transparent substrate 2A, 2B as an adhesive resin 4 for bonding through the conductive mesh 3 is
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル− Ethylene - vinyl acetate copolymer, ethylene - methyl acrylate copolymer, ethylene - (meth) acrylic acid copolymer, ethylene - (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene - (meth) acrylate copolymerization coalescence, metal ion crosslinked ethylene - (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene - vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene - vinyl acetate copolymer, ethylene - (meth) acrylic - maleic anhydride copolymer, ethylene - vinyl acetate -
(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。 Ethylene copolymer of (meth) acrylate copolymer, and the like (Note that "(meth) acryl" means "acryl or methacryl".). その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)である。 Other, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, can also be used urethane resins, take the most balanced in performance, easy-to-use of ethylene - vinyl acetate a copolymer (EVA). また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用いられているPVB樹脂も好適である。 Moreover, impact resistance, penetration resistance, adhesiveness, PVB resins used in automotive laminated glass in terms of transparency and the like are also suitable.

【0029】PVB樹脂は、ポリビニルアセタール単位が70〜95重量%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重量%で、平均重合度が200〜3000、好ましくは3 [0029] PVB resin, polyvinyl acetal units 70 to 95 wt%, polyvinyl acetate units in 15 wt%, average polymerization degree of 200 to 3,000, preferably 3
00〜2500であるものが好ましく、PVB樹脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。 Preferably has a 00-2500, PVB resin is used as resin composition containing plasticizer.

【0030】PVB樹脂組成物の可塑剤としては、一塩基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤が挙げられる。 [0030] As a plasticizer of the PVB resin composition, monobasic acid ester, organic plasticizer and phosphoric acid plasticizers such as polybasic acid esters.

【0031】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、2−エチル酪酸、ヘプタン酸、n−オクチル酸、2−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n− Examples of the monobasic acid ester, butyric acid, isobutyric acid, caproic acid, 2-ethyl butyric acid, heptanoic acid, n- octyl acid, 2-ethylhexyl acid, pelargonic acid (n-
ノニル酸)、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコールとの反応によって得られるエステルが好ましく、より好ましくは、トリエチレン−ジ−2−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキソエート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、トリエチレングリコール−ジ−n−オクトエート等である。 Nonyl acid), esters obtained by the reaction of an organic acid with triethylene glycol such as decyl acid, more preferably, triethylene - di-2-ethyl butyrate, triethylene glycol - di-2-Echiruhekiso benzoate, triethylene glycol - di - Kapuroneto, triethylene glycol - di -n- octoate and the like. なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又はトリプロピレングリコールとのエステルも使用可能である。 Incidentally, esters of the organic acid with tetraethylene glycol or tripropylene glycol can also be used.

【0032】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸と炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート等が挙げられる。 The polybasic acid ester plasticizer, for example, adipic acid, sebacic acid, esters of linear or branched alcohols of the organic acid and 4 to 8 carbon atoms such as azelaic acid, and more preferably , dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl carbitol adipate and the like.

【0033】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェート、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。 [0033] As the phosphoric acid type plasticizer, tributoxyethyl phosphate, isodecyl phenyl phosphate, and triisopropyl phosphate and the like.

【0034】PVB樹脂組成物において、可塑剤の量が少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂100重量部に対して可塑剤を5〜50重量部、好ましくは10〜4 [0034] In PVB resin composition, reduces the film forming property and a small amount of plasticizer, often because the durability at the time of heat is impaired, the plasticizer with respect to 100 parts by weight of the polyvinyl butyral resin 5 50 parts by weight, preferably from 10 to 4
0重量部とする。 And 0 parts by weight.

【0035】PVB樹脂組成物には、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が添加されていても良い。 [0035] PVB resin composition, further prevent deterioration, stabilizers, antioxidants, additives such as ultraviolet absorber may be added.

【0036】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、 The electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention,
EVA等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架橋剤を混合してシート化した接着用フィルムを2枚用い、この接着用フィルムの間に導電性メッシュを挟んだものを透明基板2A,2B間に介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化することにより容易に製造することができる。 Using two sheets of adhesive films sheeted by mixing a crosslinking agent for a predetermined amount of heat or light cured resin such as EVA, the transparent substrate 2A what sandwiching the conductive mesh between the adhesive film , is interposed between 2B, vacuum, after pre-compression bonding was degassed under heating, can be easily produced by integrating by curing the adhesive layer by heating or light irradiation.

【0037】なお、導電性メッシュ3と接着樹脂4とで形成される接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合2μm〜2 [0037] The thickness of the adhesive layer formed of a conductive mesh 3 and the adhesive resin 4 is different depending application of the electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, usually 2μm~2
mm程度とされる。 It is about mm. 従って、接着用フィルムは、このような厚さの接着層が得られるように、1μm〜1mm厚さに成形される。 Therefore, adhesive film, like the adhesive layer of such a thickness is obtained, is formed into 1μm~1mm thickness.

【0038】以下に、樹脂としてEVAを用いた場合を例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明する。 [0038] Hereinafter, a more detailed description adhesive layer illustrated in accordance with the present invention the case of using EVA as a resin.

【0039】EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜5 The vinyl acetate content as EVA is 5 to 5
0重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用される。 0 wt%, preferably those 15 to 40 wt% used. 酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと耐候性及び透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生ずる。 There is a problem with the vinyl acetate content is less than 5 wt% in weather resistance and transparency, also on the mechanical properties when more than 40% by weight significantly decreased, the film formation becomes difficult, resulting films mutual blocking .

【0040】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。 [0040] In the case of thermal crosslinking is as a cross-linking agent is suitably an organic peroxide, a sheet processing temperature, the crosslinking temperature is selected in consideration of the storage stability and the like. 使用可能な過酸化物としては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5− Usable peroxides, such as 2,5-dimethyl-2,5-hydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブチルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α'− Di (t-butylperoxy) hexane -3; di t-butyl peroxide; t-butyl cumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide ; α, α'-
ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン; Bis (t-butylperoxy isopropyl) benzene;
n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3, n- butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1 bis (t-butylperoxy) -3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5 3,5-trimethylcyclohexane; t-butyl peroxybenzoate; benzoyl peroxide; tertiary butyl peroxy acetate; 2,5-dimethyl-2,5
−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1 - bis (t-butylperoxy) hexyne-3; 1,1
−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサイド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。 - bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethyl-hexyl-2,5-Bisupa oxybenzoate; tertiary butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl peroxide; tertiary butyl peroxy isobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; and chlorobenzene hexanone peroxide. これらの過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通常EVA100重量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部の割合で使用される。 These peroxides are mixed alone, or two or more one, the normal EVA100 parts, 10 parts by weight or less, is used in a proportion of preferably 0.1 to 10 parts by weight.

【0041】有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、 The organic peroxide extruder to normal EVA,
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法により添加しても良い。 While being kneaded in a roll mill or the like, an organic solvent, a plasticizer, dissolved in vinyl monomers, it may be added by impregnation method to a film of EVA.

【0042】なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。 [0042] The physical properties of EVA (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, rate of crosslinking, etc.) for improved, to add various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compound be able to. この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。 Acrylic acid or methacrylic acid derivatives as compounds used for this purpose, such as its an ester and amides are most common, other methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, alkyl groups lauryl such as an ester residue, a cyclohexyl group , tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group. また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。 Further, ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylol propane, also possible to use an ester of a polyfunctional alcohol such as pentaerythritol. アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。 Examples of the amide diacetone acrylamide is typical.

【0043】より具体的には、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種を単独で、或いは2種以上を混合して、通常EVA10 [0043] More specifically, trimethylol propane, pentaerythritol, and polyfunctional esters of acrylic or methacrylic acid esters such as glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, maleic include allyl group-containing compounds such as diallyl, they are mixed alone, or two or more, usually EVA10
0重量部に対して0.1〜2重量部、好ましくは0.5 0.1 to 2 parts by weight to 0 parts by weight, preferably 0.5
〜5重量部用いられる。 5 parts by weight is used.

【0044】EVAを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常EVA100重量部に対して10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部使用される。 In the case of crosslinking by light and EVA, photosensitizer in place of the peroxide 10 parts by weight or less relative to the normal EVA100 parts by weight is used preferably 0.1 to 10 parts by weight.

【0045】この場合、使用可能な光増感剤としては、 [0045] In this case, as a usable light sensitizer,
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ− Such as benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachloro cyclopentadiene, p- nitro diphenyl, p- nitroaniline, 2,4,6 nitroaniline, 1,2-anthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza -
1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1 1,9 etc. benzanthrone and the like, which 1
種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができる。 It can be used a seed alone or in admixture of two or more.

【0046】また、この場合、促進剤としてシランカップリング剤が併用される。 [0046] In this case, the silane coupling agent is used together as an accelerator. このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β As the silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (beta
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ - methoxyethoxy) silane, .gamma.-methacryloxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxy silane, .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane, gamma
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β− - glycidoxypropyl triethoxysilane, beta-
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, .gamma.-chloropropyl trimethoxysilane, vinyl trichlorosilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, N
−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 -β etc. (aminoethyl)-.gamma.-aminopropyltrimethoxysilane.

【0047】これらのシランカップリング剤は通常EV [0047] These silane coupling agent is usually EV
A100重量部に対して0.001〜10重量部、好ましくは0.001〜5重量部の割合で1種又は2種以上が混合使用される。 0.001 parts by weight to A100 parts by weight, preferably at least one or at a ratio of 0.001 to 5 parts by weight are mixed use.

【0048】なお、本発明に係るEVA接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、 [0048] Incidentally, the EVA adhesive layer according to the present invention, other UV absorbers, infrared absorbers, anti-aging agent may contain a small amount of paint processing aid, also adjusts the hue of the filter itself coloring agent of dye, such as a pigment in order,
カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を適量配合してもよい。 Carbon black, hydrophobic silica, a filler such as calcium carbonate may be appropriate amount.

【0049】また、接着性改良の手段として、シート化されたEVA接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。 [0049] As a means for improving adhesion, corona discharge treatment to sheeted EVA adhesive film surface, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, means such as ultraviolet light irradiation is also effective.

【0050】本発明に係るEVA接着用フィルムは、E For EVA adhesive film according to [0050] the present invention, E
VAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。 Mixing the VA and the above-mentioned additives, extruder, kneaded with a roll or the like calender, roll, T-die extrusion, are produced by sheet molding into a predetermined shape by film formation method of inflation, or the like. 成膜に際してはブロッキング防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。 Antiblocking. Before film formation, embossing for facilitating deaeration during crimping of the transparent substrate is applied.

【0051】このような本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、PDPの前面フィルタとして、或いは、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利用可能である。 The electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention as described above, as a front filter of PDP, or, it is effective to be used as a window material or the like of the precision equipment location, such as a hospital or laboratory.

【0052】 [0052]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。 EXAMPLES Examples and Comparative Examples below illustrate the present invention more specifically.

【0053】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フィルムは、次のようにして製造した。 [0053] The adhesive film is used in Examples and Comparative Examples were produced as follows. 接着用フィルムの製造エチレン−酢酸ビニル共重合体(東洋曹逹社製ウルトラセン634:酢酸ビニル含量26%、メルトインデックス4)100重量部に、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(日本油脂社製パーヘキサ3M)1重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン0.1重量部、ジアリルフタレート2重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソルブ130(住友化学工業社製)0.5重量部とを混合し、40mm押出機にて500μm厚さの両面エンボスの接着用フィルムを作製した。 Producing ethylene adhesive film - vinyl acetate copolymer (Toyo曹逹Co. Ultrathene 634: 26% vinyl acetate content, melt index 4) to 100 parts by weight, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3, 3,5-trimethylcyclohexane (manufactured by NOF Corporation Perhexa 3M) 1 part by weight, .gamma.-methacryloxypropyl trimethoxysilane 0.1 part by weight, diallyl phthalate 2 parts by weight, and Sumisorubu 130 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., as an ultraviolet absorber Ltd.) were mixed with 0.5 parts by weight, to produce an adhesive film of the double-sided embossing of 500μm thickness at 40mm extruder.

【0054】実施例1,2、比較例1 表面側透明基板2Aとして厚さ3.0mmのガラス板を用い、この透明基板の表面に表2に示す反射防止膜A又はB(詳細は表1に示す。)を形成し(ただし、比較例1では反射防止膜なし)、裏面側透明基板2Bとして厚さ0.1mmのPETシートを用い、これらの間に2枚の接着用フィルムに表2に示す導電性メッシュを挟んだものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、9 [0054] Examples 1 and 2, a glass plate having a thickness of 3.0mm as Comparative Example 1 the surface-side transparent substrate 2A, the antireflection film A or B (shown in detail in Table 2 on the surface of the transparent substrate table 1 are shown.) is formed (provided that Comparative example without antireflection film in 1), using a PET sheet having a thickness of 0.1mm as the back-side transparent substrate 2B, Table 2 adhesive film of two between them is interposed what sandwiching the conductive mesh as shown in, which was deaerated under vacuum and put in a rubber bag, 9
0℃の温度で10分加熱して予備圧着した。 It was pre-crimped and heated 10 minutes at a temperature of 0 ° C.. その後、この予備圧着体をオーブン中に入れ、150℃の条件下で15分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。 Then, the preliminary compression member placed in an oven and heated for 15 minutes under the conditions of 0.99 ° C., and integrated by crosslinking curing.

【0055】得られた窓材について下記方法により、3 [0055] For the obtained window material by the following method, 3
0MHz〜300MHzにおける電磁波シールド性、光透過率、モアレ現象の有無及び入射光時のディスプレイ画面視認性を調べ、結果を表2に示した。 Electromagnetic shielding property in 0MHz~300MHz, light transmittance, examine the presence and the display screen visibility when the incident light of the moire phenomenon and the results are shown in Table 2.

【0056】 電磁波シールド性 KEC法(関西電子工業振興センター)に準拠したアンリツ社製EMIシールド測定装置(MA8602B)を用いて電界の減衰測定を行った。 [0056] electromagnetic shielding property KEC method the attenuation measurement of the electric field by using the (Kansai Electronic Industry Development Center) manufactured by Anritsu Corporation EMI shield measuring device that conforms to the (MA8602B) was carried out. サンプルの大きさは9 The size of the sample is 9
0mm×110mmであった。 Was 0mm × 110mm. 光透過率(%)日立製可視紫外光分光測定装置(U−4000)を用い、380nm〜780nm間の平均可視光透過率を求めた。 Light transmittance (%) manufactured by Hitachi, Ltd. ultraviolet-visible light spectrometer (U-4000) using, to obtain an average visible light transmittance between 380 nm to 780 nm. モアレ現象の有無ディスプレイ上に設置し、画面に干渉縞模様が発生するか否かを目視で観察した。 It was placed on whether the display of the moire phenomenon, the interference fringe pattern was visually observed whether or not occur on the screen. 入射光時のディスプレイ画面視認性ディスプレイ画面の垂線に対して30度の方向から人工光源、又は太陽光を入射した場合の、反対方向30度の位置での画面内容の視認性を観察した。 Artificial light source from the direction of 30 degrees with respect to the display screen visibility display screen perpendicular of the time of incidence of light, or when the sunlight is incident, and observe the visibility of the screen contents at the position in the opposite direction 30 degrees.

【0057】 [0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】 [0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】表2より本発明によれば良好な電磁波シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。 [0059] Table According 2 than to the present invention good electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate is understood to be provided.

【0060】なお、反射防止膜を設けていない比較例1 [0060] In Comparative not an antireflection film Example 1
では、入射光を入れた場合その反対側では反射光の影響で画面の内容を認識することができなかった。 So, if you put the incident light at the opposite side it could not recognize the contents of the screen under the influence of the reflected light. 一方、反射防止膜を積層した実施例1,2のものは同様のテストで反射光の影響を受けず、画面内容を認識することができた。 On the other hand, those of Examples 1 and 2 were laminated antireflection film without being influenced by the reflected light in the same test, it was possible to recognize the screen content.

【0061】 [0061]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、良好な電磁波シールド性と光透過性を有し、しかも横からの入射光に対しても画面内容を充分に視認できる。 As detailed above, according to the present invention, the electromagnetic wave shielding and light transmitting plate of the present invention has a good electromagnetic wave shielding property and optical transparency, yet sufficiently screen data even for incident light from the side visible to. また、透明基板を装着樹脂で強固に接合しているため、衝撃時に、透明基板が割れて飛散することもなく、安全性に富み、PDP用電磁波シールドフィルター等として工業的に極めて有用である。 Further, since the firmly bonded to the transparent substrate by mounting a resin, upon impact, it no scattered cracked transparent substrate, rich in safety, it is industrially extremely useful as a PDP electromagnetic wave shielding filter.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】図1(a)は本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図1(b)は図1(a)のB部の拡大図である。 [FIG. 1 (a) is a schematic sectional view showing an embodiment of the electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate of the present invention, an enlarged view of a B portion of FIG. 1 (b) FIGS. 1 (a) is there.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 電磁波シールド性光透過窓材 2A,2B 透明基板 3 導電性メッシュ 4 接着樹脂 5 反射防止膜 5A 高屈折率透明膜 5B 低屈折率透明膜 6 汚染防止膜 1 electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate 2A, 2B transparent substrate 3 conductive mesh 4 adhesive resin 5 antireflection film 5A high refractive index transparent film 5B low-refractive-index transparent film 6 contamination prevention film

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 2枚の透明基板間に導電性メッシュを介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、 電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面に、 And 1. A is interposed a conductive mesh between two transparent substrates, in electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate formed by joining integrally with the adhesive resin, the transparent substrate located on the opposite side of the electromagnetic wave generation source side on the surface,
    高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反射防止膜が形成されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。 Electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, wherein the antireflection film of the layer film of the high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film is formed.
  2. 【請求項2】 請求項1において、高屈折率透明膜が透明導電膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。 2. A according to claim 1, electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, wherein the high-refractive-index transparent film is a transparent conductive film.
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、該反射防止膜は高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した多層膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。 3. The method of claim 1 or 2, electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, wherein the antireflective film is a multilayer film formed by alternately laminating a high-refractive-index transparent films and low-refractive-index transparent film .
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項において、該反射防止膜の上に汚染防止膜が設けられていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。 4. A any one of claims 1 to 3, the electromagnetic wave shielding and light transmitting plate, wherein the contamination prevention film on the antireflective film is provided.
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1項において、該接着樹脂がエチレン−酢酸ビニル共重合体であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。 5. In any one of claims 1 to 4, the adhesive resin is an ethylene - electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, which is a vinyl acetate copolymer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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