JP2000171275A - マスフローメータの流量検出機構 - Google Patents
マスフローメータの流量検出機構Info
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- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 センサー部の入口側の圧力が変化しても安定
した層流が得られ、かつ、ガスの置換特性の大幅な向
上、ガスの流量の微調整ができ、センサーとの相性を良
くするマスフローメータの流量検出機構を提供する。 【解決手段】 ブロックＢ内に設けた孔Ｈに円筒形状の
ホルダ２を挿入し、該ホルダ２の入口端の外周部に環状
溝による隙間４を設け、前記環状溝４にガスを流通させ
るための貫通孔７が前記ホルダの入口端に設けられてお
り、前記ホルダ２の内部には、抵抗物１３を挿入したバ
イパス流路Ｐ1 が形成され、前記隙間４に連通して設け
られたガス導入孔８と、前記ホルダ２の下流側に連通し
て設けられたガス導出孔９と、前記ガス導入孔８、ガス
導出孔９にわたって設けられたセンサー流路管１０を備
え、前記ホルダ２の入口側から流入したガスは、前記抵
抗物１３に衝突して分流され、一部は前記貫通孔７、環
状溝４、ガス導入孔８、センサー流路管１０、ガス導出
孔９を流通し、残部は前記ホルダ２内部の前記バイパス
流路Ｐ2 を流通する。
した層流が得られ、かつ、ガスの置換特性の大幅な向
上、ガスの流量の微調整ができ、センサーとの相性を良
くするマスフローメータの流量検出機構を提供する。 【解決手段】 ブロックＢ内に設けた孔Ｈに円筒形状の
ホルダ２を挿入し、該ホルダ２の入口端の外周部に環状
溝による隙間４を設け、前記環状溝４にガスを流通させ
るための貫通孔７が前記ホルダの入口端に設けられてお
り、前記ホルダ２の内部には、抵抗物１３を挿入したバ
イパス流路Ｐ1 が形成され、前記隙間４に連通して設け
られたガス導入孔８と、前記ホルダ２の下流側に連通し
て設けられたガス導出孔９と、前記ガス導入孔８、ガス
導出孔９にわたって設けられたセンサー流路管１０を備
え、前記ホルダ２の入口側から流入したガスは、前記抵
抗物１３に衝突して分流され、一部は前記貫通孔７、環
状溝４、ガス導入孔８、センサー流路管１０、ガス導出
孔９を流通し、残部は前記ホルダ２内部の前記バイパス
流路Ｐ2 を流通する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスフローメータ
の流量検出機構に関するものである。
の流量検出機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりマスフローメータの流量検出機
構においては、ガス流路に層流を得るように構成されて
おり、その構成としてはエッチングプレートを用いるか
あるいは特公昭５９−４１１２６号公報記載のように、
バイパス部に複数本の毛細管を用いるものがある。
構においては、ガス流路に層流を得るように構成されて
おり、その構成としてはエッチングプレートを用いるか
あるいは特公昭５９−４１１２６号公報記載のように、
バイパス部に複数本の毛細管を用いるものがある。
【０００３】また、図９に示すように、特公平６−７８
９２６号公報記載の流量検出機構は、ガスの流量を検出
するにあたって、先ず流路１Ｐよりガスを導入し、流量
絞り弁２Ｐとハウジング３Ｐに形成された孔のテーパ状
内周面４Ｐとの間にガスを流すことで、ガスの流れを層
流としていた。そして、層流をなしているテーパ状内周
面４Ｐの部分に設けた流入口ポート５Ｐからガスの一部
を分流してセンサー管へ導入し、流出口ポート６Ｐより
流出させて流入口ポート５Ｐより下流側の前記周面４
Ｐ、流路７Ｐを介し流量制御部へと流通させていた。一
方、ガスの残部については、周面４Ｐ、流路７Ｐを介し
て流量制御部へと流通させていた。
９２６号公報記載の流量検出機構は、ガスの流量を検出
するにあたって、先ず流路１Ｐよりガスを導入し、流量
絞り弁２Ｐとハウジング３Ｐに形成された孔のテーパ状
内周面４Ｐとの間にガスを流すことで、ガスの流れを層
流としていた。そして、層流をなしているテーパ状内周
面４Ｐの部分に設けた流入口ポート５Ｐからガスの一部
を分流してセンサー管へ導入し、流出口ポート６Ｐより
流出させて流入口ポート５Ｐより下流側の前記周面４
Ｐ、流路７Ｐを介し流量制御部へと流通させていた。一
方、ガスの残部については、周面４Ｐ、流路７Ｐを介し
て流量制御部へと流通させていた。
【０００４】また、米国特許第５，０９９，８８１号に
記載のマスフローコントローラの流量検出機構は、図１
０に示すように、流路１Ｐ’より導入されたガスを、プ
ラグ２Ｐ’とホルダ３Ｐ’とで一部がテーパ状に形成さ
れた環状の通路４Ｐ’に流すことにより、ガスの流れを
層流としている。そして、環状の通路４Ｐ’の途中に設
けた貫通孔５Ｐ’からガスの一部を分流させ、これを注
入口６Ｐ’からセンサー部７Ｐ’へ導入し、このガスの
流量をセンサー部７Ｐ’により測定し、注出口８Ｐ’か
ら前記通路４Ｐ’の下流側に注出して流路９Ｐ’を介し
流量制御部へと流通させていた。尚、ガスの残部につい
ては、環状の通路４Ｐ’，流路９Ｐ’を介して流量制御
部へと流通させていた。
記載のマスフローコントローラの流量検出機構は、図１
０に示すように、流路１Ｐ’より導入されたガスを、プ
ラグ２Ｐ’とホルダ３Ｐ’とで一部がテーパ状に形成さ
れた環状の通路４Ｐ’に流すことにより、ガスの流れを
層流としている。そして、環状の通路４Ｐ’の途中に設
けた貫通孔５Ｐ’からガスの一部を分流させ、これを注
入口６Ｐ’からセンサー部７Ｐ’へ導入し、このガスの
流量をセンサー部７Ｐ’により測定し、注出口８Ｐ’か
ら前記通路４Ｐ’の下流側に注出して流路９Ｐ’を介し
流量制御部へと流通させていた。尚、ガスの残部につい
ては、環状の通路４Ｐ’，流路９Ｐ’を介して流量制御
部へと流通させていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の流量検出機構は何れも、流量絞り弁２Ｐやプラグ２
Ｐ’によって、テーパ状内周面４Ｐや環状の通路４Ｐ’
に安定した層流を形成して圧力分布を一定にし、この安
定した層流が形成されている部分から流量測定用の流路
を分流することが、測定値を安定させるために極めて重
要な要素となっており、それだけ流量検出機構の製造に
高精度を要求するものとなっていた。
の流量検出機構は何れも、流量絞り弁２Ｐやプラグ２
Ｐ’によって、テーパ状内周面４Ｐや環状の通路４Ｐ’
に安定した層流を形成して圧力分布を一定にし、この安
定した層流が形成されている部分から流量測定用の流路
を分流することが、測定値を安定させるために極めて重
要な要素となっており、それだけ流量検出機構の製造に
高精度を要求するものとなっていた。
【０００６】例えば、図９に示した例においては、流量
絞り弁２Ｐの中心軸と、流路１Ｐの中心軸とを正確に合
わせて安定した層流を得るために、流量絞り弁２Ｐをネ
ジ８Ｐに螺合していた。ところが、この構成は部品点数
が多くなり、それだけ加工にコストがかかる欠点を有す
るだけでなく、流量絞り弁２Ｐを回動する際にネジ８Ｐ
との摩擦により金属粉が生じる等の不都合があった。こ
れは、特に半導体製造過程に用いるガスのように、純度
が要求されるガスを流通するような場合のガス流量測定
には不適切であった。
絞り弁２Ｐの中心軸と、流路１Ｐの中心軸とを正確に合
わせて安定した層流を得るために、流量絞り弁２Ｐをネ
ジ８Ｐに螺合していた。ところが、この構成は部品点数
が多くなり、それだけ加工にコストがかかる欠点を有す
るだけでなく、流量絞り弁２Ｐを回動する際にネジ８Ｐ
との摩擦により金属粉が生じる等の不都合があった。こ
れは、特に半導体製造過程に用いるガスのように、純度
が要求されるガスを流通するような場合のガス流量測定
には不適切であった。
【０００７】図１０に示した例においては、プラグ２
Ｐ’の中心軸と流路１Ｐ’の中心軸とを合わせるため
に、まずプラグ２Ｐ’の基本形状を旋盤で切削した後
に、極めて煩雑な製作工程によりプラグ２Ｐ’を流路１
Ｐ’に固定する必要があった。すなわち、上述した各従
来の技術には、流量検出機構の製造に手間と費用がかか
るという問題があった。
Ｐ’の中心軸と流路１Ｐ’の中心軸とを合わせるため
に、まずプラグ２Ｐ’の基本形状を旋盤で切削した後
に、極めて煩雑な製作工程によりプラグ２Ｐ’を流路１
Ｐ’に固定する必要があった。すなわち、上述した各従
来の技術には、流量検出機構の製造に手間と費用がかか
るという問題があった。
【０００８】さらに、上述の従来技術では、流路１Ｐ，
１Ｐ’に流すガスの最大流量を、層流化したガス流に乱
流が生じない程度に制限する必要があった。すなわち、
図９に示した例においては、テーパ状内周面４Ｐを流れ
るガスの圧力分布に僅かな乱れでも生じると、それが直
接的に測定結果に影響を与えるため、テーパ状内周面４
Ｐを流れるガスに乱流が生じない程度の流量のガスしか
流すことができなかった。
１Ｐ’に流すガスの最大流量を、層流化したガス流に乱
流が生じない程度に制限する必要があった。すなわち、
図９に示した例においては、テーパ状内周面４Ｐを流れ
るガスの圧力分布に僅かな乱れでも生じると、それが直
接的に測定結果に影響を与えるため、テーパ状内周面４
Ｐを流れるガスに乱流が生じない程度の流量のガスしか
流すことができなかった。
【０００９】また、図１０の示した例においては、貫通
孔５Ｐ’を設けた部分における上流側のガスの層流に幾
らかの乱れが生じても、これをホルダ３Ｐ’の外周に設
けた環状のチャンバー１２Ｐ’である程度は吸収できる
が、注出口８Ｐ’を連通させたプラグ２Ｐ’の外周部分
１３Ｐ’における乱流は、測定結果に大きな影響を与え
ていた。
孔５Ｐ’を設けた部分における上流側のガスの層流に幾
らかの乱れが生じても、これをホルダ３Ｐ’の外周に設
けた環状のチャンバー１２Ｐ’である程度は吸収できる
が、注出口８Ｐ’を連通させたプラグ２Ｐ’の外周部分
１３Ｐ’における乱流は、測定結果に大きな影響を与え
ていた。
【００１０】すなわち、図１０のような流量検出機構で
は環状の通路４Ｐ’の下流側１３Ｐ’においてプラグ２
Ｐ’の周りに乱流が生じない程度の流量のガスを流すこ
とに制限されるだけでなく、プラグ２Ｐ’の外周部分１
３Ｐ’において乱流が生じないようにするためには、流
路９Ｐ’、ホルダ３Ｐ’、プラグ２Ｐ’の中心軸を厳密
に合わせる必要が生じていた。さらに、前記図１０に示
すようなチャンバー１２Ｐ’は、その容積で圧力変動を
吸収するものであるから、流路中にガス溜まり部分１４
Ｐ’を生じさせており、ガスを切り換えた時のガスの置
換特性を悪くする原因となっていた。
は環状の通路４Ｐ’の下流側１３Ｐ’においてプラグ２
Ｐ’の周りに乱流が生じない程度の流量のガスを流すこ
とに制限されるだけでなく、プラグ２Ｐ’の外周部分１
３Ｐ’において乱流が生じないようにするためには、流
路９Ｐ’、ホルダ３Ｐ’、プラグ２Ｐ’の中心軸を厳密
に合わせる必要が生じていた。さらに、前記図１０に示
すようなチャンバー１２Ｐ’は、その容積で圧力変動を
吸収するものであるから、流路中にガス溜まり部分１４
Ｐ’を生じさせており、ガスを切り換えた時のガスの置
換特性を悪くする原因となっていた。
【００１１】そして、上記各例の何れにおいても、安定
した層流を形成できるような流量絞り弁２Ｐ，プラグ２
Ｐ’の形状は、流路１Ｐ，１Ｐ’に流すガスの最大流量
を一定の限界内に抑えるものであり、実質的に約２５ｍ
ｍの長さの流量絞り弁２Ｐ，プラグ２Ｐ’において２０
Ｌ／ｓ程度の流量を精度良く流すことが限界であった。
したがって、これより大流量のガスを精度良く流すため
には、流量検出機構の構造を大きくする必要があり、そ
れだけ製造コストを引き上げる原因となると共に、マス
フローコントローラの全体的な外形を企画外の大きさに
するものとなっていた。
した層流を形成できるような流量絞り弁２Ｐ，プラグ２
Ｐ’の形状は、流路１Ｐ，１Ｐ’に流すガスの最大流量
を一定の限界内に抑えるものであり、実質的に約２５ｍ
ｍの長さの流量絞り弁２Ｐ，プラグ２Ｐ’において２０
Ｌ／ｓ程度の流量を精度良く流すことが限界であった。
したがって、これより大流量のガスを精度良く流すため
には、流量検出機構の構造を大きくする必要があり、そ
れだけ製造コストを引き上げる原因となると共に、マス
フローコントローラの全体的な外形を企画外の大きさに
するものとなっていた。
【００１２】本発明は、上述した点を考慮に入れてなさ
れたものであって、センサー部の入口側の圧力が変化し
ても安定した層流が得られ、かつ、ガスの置換特性の大
幅な向上、ガスの流量の微調整ができ、センサーとの相
性を良くするマスフローメータの流量検出機構を提供す
ることを目的とする。
れたものであって、センサー部の入口側の圧力が変化し
ても安定した層流が得られ、かつ、ガスの置換特性の大
幅な向上、ガスの流量の微調整ができ、センサーとの相
性を良くするマスフローメータの流量検出機構を提供す
ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のマスフローメータの流量検出機構は、ブロ
ック内に設けた孔に円筒形状のホルダを挿入し、該ホル
ダの入口端の外周部に環状溝による隙間を設け、前記環
状溝にガスを流通させるための貫通孔が前記ホルダの入
口端に設けられており、前記ホルダの内部には、抵抗物
を挿入したバイパス流路が形成され、前記環状溝に連通
して設けられたガス導入孔と、前記ホルダの下流側に連
通して設けられたガス導出孔と、前記ガス導入孔、ガス
導出孔にわたって設けられたセンサー流路管を備え、前
記ホルダの入口側から流入したガスは、前記抵抗物に衝
突して分流され、一部は前記貫通孔、環状溝、ガス導入
孔、センサー流路管、ガス導出孔を流通し、残部は前記
ホルダ内部の前記バイパス流路を流通することを特徴と
している。
に、本発明のマスフローメータの流量検出機構は、ブロ
ック内に設けた孔に円筒形状のホルダを挿入し、該ホル
ダの入口端の外周部に環状溝による隙間を設け、前記環
状溝にガスを流通させるための貫通孔が前記ホルダの入
口端に設けられており、前記ホルダの内部には、抵抗物
を挿入したバイパス流路が形成され、前記環状溝に連通
して設けられたガス導入孔と、前記ホルダの下流側に連
通して設けられたガス導出孔と、前記ガス導入孔、ガス
導出孔にわたって設けられたセンサー流路管を備え、前
記ホルダの入口側から流入したガスは、前記抵抗物に衝
突して分流され、一部は前記貫通孔、環状溝、ガス導入
孔、センサー流路管、ガス導出孔を流通し、残部は前記
ホルダ内部の前記バイパス流路を流通することを特徴と
している。
【００１４】したがって、本発明によればホルダによっ
てガス導入孔を設けた部分に環状の隙間を形成している
ので、この隙間によりガスの助走区間を得ると共に、圧
力分布を緩和させることができる。つまり、ガス導入孔
のガスの状態は隙間によって層流の状態となることで圧
力変動がなく、抵抗物の上流側と下流側の差圧に基づい
て流量を測定できる。
てガス導入孔を設けた部分に環状の隙間を形成している
ので、この隙間によりガスの助走区間を得ると共に、圧
力分布を緩和させることができる。つまり、ガス導入孔
のガスの状態は隙間によって層流の状態となることで圧
力変動がなく、抵抗物の上流側と下流側の差圧に基づい
て流量を測定できる。
【００１５】また、抵抗物によって制限されるバイパス
流路のガスの流れが層流になる必要がなく、少々の乱れ
が生じても測定結果に悪影響を及ぼすことがなくなるの
で、抵抗物の形状や抵抗物とホルダの中心との位置関係
に制限がなくなり、流量検出機構の形成に多大のコスト
がかかることはない。つまり、常に安定した測定を行う
ことができるマスフローメータの流量検出機構を安価に
て提供できる。さらに、抵抗物の構造を簡素化すること
により、マスフローメータの流量検出機構の清掃などの
メンテナンスを容易にすると共に、凹凸を少なくするこ
とにより接触面積を少なくし、ガスの溜まりを少なくし
て置換特性を向上することが可能となり、かつ、流通ガ
スに金属粉のような不純物を混入させる心配もなくな
る。
流路のガスの流れが層流になる必要がなく、少々の乱れ
が生じても測定結果に悪影響を及ぼすことがなくなるの
で、抵抗物の形状や抵抗物とホルダの中心との位置関係
に制限がなくなり、流量検出機構の形成に多大のコスト
がかかることはない。つまり、常に安定した測定を行う
ことができるマスフローメータの流量検出機構を安価に
て提供できる。さらに、抵抗物の構造を簡素化すること
により、マスフローメータの流量検出機構の清掃などの
メンテナンスを容易にすると共に、凹凸を少なくするこ
とにより接触面積を少なくし、ガスの溜まりを少なくし
て置換特性を向上することが可能となり、かつ、流通ガ
スに金属粉のような不純物を混入させる心配もなくな
る。
【００１６】また、前記ホルダの内周部にテーパ部分を
形成すると共に、これに挿入される抵抗物の外周部にホ
ルダのテーパ部分に対して平行なテーパ部分を形成し、
抵抗物の位置を調節して前記バイパス流路の抵抗の大き
さを調節可能とした場合には、一組のホルダおよび抵抗
物によって多種類の流量を設定可能となり、それだけ部
品点数を削減できるので、生産コストをさらに引き下げ
ることができる。
形成すると共に、これに挿入される抵抗物の外周部にホ
ルダのテーパ部分に対して平行なテーパ部分を形成し、
抵抗物の位置を調節して前記バイパス流路の抵抗の大き
さを調節可能とした場合には、一組のホルダおよび抵抗
物によって多種類の流量を設定可能となり、それだけ部
品点数を削減できるので、生産コストをさらに引き下げ
ることができる。
【００１７】一方、前記抵抗物が、表面に複数のリブを
突設した帯状体と平坦な帯状体とを前記リブを介して筒
状に巻き込み、この筒状の軸方向に互いに平行な複数の
孔を前記バイパス流路として形成した場合には、多流量
のガスであっても安定した測定を行うことができる。
突設した帯状体と平坦な帯状体とを前記リブを介して筒
状に巻き込み、この筒状の軸方向に互いに平行な複数の
孔を前記バイパス流路として形成した場合には、多流量
のガスであっても安定した測定を行うことができる。
【００１８】そして、前記ホルダの内部にガスが前記ホ
ルダの入口側から出口側に流通するように長手方向に一
部が切削された抵抗物を挿入して前記バイパス流路を形
成してある場合には、抵抗物による抵抗を厳密に設定す
ることができるので、小流量のガスを高精度に測定する
ことができる。
ルダの入口側から出口側に流通するように長手方向に一
部が切削された抵抗物を挿入して前記バイパス流路を形
成してある場合には、抵抗物による抵抗を厳密に設定す
ることができるので、小流量のガスを高精度に測定する
ことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１はマスフローメータの流量検
出機構１の断面図であり、図２は前記流量検出機構１の
分解斜視図である。また、図３は、図１における流量検
出機構１のIII 断面図である。
に基づいて説明する。図１はマスフローメータの流量検
出機構１の断面図であり、図２は前記流量検出機構１の
分解斜視図である。また、図３は、図１における流量検
出機構１のIII 断面図である。
【００２０】図１〜３に示すように、本発明に係るマス
フローメータは、その流量検出機構１において、ブロッ
クＢ内に設けた孔Ｈの内部に略円筒形状のホルダ２を挿
入しており流量検出機構１の入口３から流入したガス
を、まずホルダ２内に導入するように構成している。ホ
ルダ２の入口端の外周部には環状溝による隙間４（以
下、環状溝の内部を隙間４として表現する）を設けてい
る。また、前記隙間４にはガスを流通させるための複数
の貫通孔７が設けられている。なお、本例においては前
記貫通孔７を例えば３個設けているが、その数は問わな
い。
フローメータは、その流量検出機構１において、ブロッ
クＢ内に設けた孔Ｈの内部に略円筒形状のホルダ２を挿
入しており流量検出機構１の入口３から流入したガス
を、まずホルダ２内に導入するように構成している。ホ
ルダ２の入口端の外周部には環状溝による隙間４（以
下、環状溝の内部を隙間４として表現する）を設けてい
る。また、前記隙間４にはガスを流通させるための複数
の貫通孔７が設けられている。なお、本例においては前
記貫通孔７を例えば３個設けているが、その数は問わな
い。
【００２１】前記貫通孔７は隙間４の幅方向中央に形成
しているが、隙間４はガスの流れを層流にする助走区間
Ｒを形成することにより圧力変動を緩和するものであ
り、その容積により圧力変動を緩和するものではないの
で、ガスは隙間４の幅方向全体を流れる。つまり、図９
に示した従来例のように、溜まり部分１４Ｐ’を形成す
ることがない。なお、この貫通孔７を隙間４の上流端部
に形成することにより、隙間４内に溜まりとなる部分を
より確実になくすようにしてもよい。
しているが、隙間４はガスの流れを層流にする助走区間
Ｒを形成することにより圧力変動を緩和するものであ
り、その容積により圧力変動を緩和するものではないの
で、ガスは隙間４の幅方向全体を流れる。つまり、図９
に示した従来例のように、溜まり部分１４Ｐ’を形成す
ることがない。なお、この貫通孔７を隙間４の上流端部
に形成することにより、隙間４内に溜まりとなる部分を
より確実になくすようにしてもよい。
【００２２】８は前記隙間４に連通して設けられたガス
導入孔であり、隙間４の下流側端部に連通するように形
成されており、９はホルダ２より下流側の孔Ｈ内に連通
するように斜めに設けられたガス導出孔である。そし
て、これらガス導入孔８、ガス導出孔９に挿入するよう
に、センサー流路管１０を接続しており、このセンサー
流路管１０を流れるガスがセンサー部１１を通ることに
よりその流量が測定される。つまり、センサー部１１に
流通する全てのガス流路にガスの溜まりとなる部分を形
成しないように構成している。
導入孔であり、隙間４の下流側端部に連通するように形
成されており、９はホルダ２より下流側の孔Ｈ内に連通
するように斜めに設けられたガス導出孔である。そし
て、これらガス導入孔８、ガス導出孔９に挿入するよう
に、センサー流路管１０を接続しており、このセンサー
流路管１０を流れるガスがセンサー部１１を通ることに
よりその流量が測定される。つまり、センサー部１１に
流通する全てのガス流路にガスの溜まりとなる部分を形
成しないように構成している。
【００２３】また、ホルダ２の下流側の内周面には上流
側から下流側に向かって流路を絞るようにしたテーパ部
分１２を形成しており、このホルダ２に挿入される抵抗
物１３の下流側の外周部には前記テーパ部分１２に対し
て平行なテーパ部分１４を形成している。抵抗物１３
は、ほゞ円柱形状の大径部分１３ａよりも上流側に前記
貫通孔７が位置するように固定することが肝要であり、
貫通孔７を流れるガス流が大径部分１３ａの周囲を流れ
るガス流の圧力分布の影響を受けないようにしている。
側から下流側に向かって流路を絞るようにしたテーパ部
分１２を形成しており、このホルダ２に挿入される抵抗
物１３の下流側の外周部には前記テーパ部分１２に対し
て平行なテーパ部分１４を形成している。抵抗物１３
は、ほゞ円柱形状の大径部分１３ａよりも上流側に前記
貫通孔７が位置するように固定することが肝要であり、
貫通孔７を流れるガス流が大径部分１３ａの周囲を流れ
るガス流の圧力分布の影響を受けないようにしている。
【００２４】前記抵抗物１３は例えば旋盤でその基本形
状（円柱状の大径部分１３ａとテーパ部分１４）を切削
したのちに、その大径部分１３ａの外周に接するように
長手方向に溝１５を切削してなる。また、抵抗物１３を
ホルダ２に固定するときは、前記溝１５に対してそれぞ
れ断面Ｃ字状のスプリング留め具１６を挿入して、留め
具１６の弾性変形によりその位置を保持する。なお、本
発明はホルダ２に対する抵抗物１３の固定方法を限定す
るものではない。たとえば、本例では溝１５および留め
具１６を３つ設ける例を示しているが、大径の抵抗物１
３の場合には留め具１６を４個以上用い固定するなど任
意の変形が可能である。
状（円柱状の大径部分１３ａとテーパ部分１４）を切削
したのちに、その大径部分１３ａの外周に接するように
長手方向に溝１５を切削してなる。また、抵抗物１３を
ホルダ２に固定するときは、前記溝１５に対してそれぞ
れ断面Ｃ字状のスプリング留め具１６を挿入して、留め
具１６の弾性変形によりその位置を保持する。なお、本
発明はホルダ２に対する抵抗物１３の固定方法を限定す
るものではない。たとえば、本例では溝１５および留め
具１６を３つ設ける例を示しているが、大径の抵抗物１
３の場合には留め具１６を４個以上用い固定するなど任
意の変形が可能である。
【００２５】上記構成により、流量検出機構１の入口３
から流入したガスは、抵抗物１３に衝突することにより
乱流化し、そのガスの一部が、貫通孔７を通過して測定
流路Ｐ1 側に流れる（すなわち、水平方向に流れていた
ガスが垂直方向に流通する）。ガスが貫通孔７を通過す
ると、隙間４内でホルダ２の外周に沿って流れる助走区
間Ｒを経ることによりガスの層流化がなされると同時に
ガスの圧力変動も緩和される。次に、このガスがガス導
入孔８を流通するときに、ガスの圧力変動がさらに緩和
されて、センサー流路管１０へは安定したガス流が供給
されることとなる。
から流入したガスは、抵抗物１３に衝突することにより
乱流化し、そのガスの一部が、貫通孔７を通過して測定
流路Ｐ1 側に流れる（すなわち、水平方向に流れていた
ガスが垂直方向に流通する）。ガスが貫通孔７を通過す
ると、隙間４内でホルダ２の外周に沿って流れる助走区
間Ｒを経ることによりガスの層流化がなされると同時に
ガスの圧力変動も緩和される。次に、このガスがガス導
入孔８を流通するときに、ガスの圧力変動がさらに緩和
されて、センサー流路管１０へは安定したガス流が供給
されることとなる。
【００２６】そして、センサー流路管１０（測定流路Ｐ
1 ）を通過したガスはガス導出孔９を介して流量検出機
構１の出口５へと流出する。このとき、たとえホルダ２
と抵抗物１３との間においてガス流にある程度の乱流が
生じていたとしても、この圧力変動による影響はガス導
出孔９によって吸収され、センサー流路管１０を通過す
るガスの流れに悪影響を与えることがない。
1 ）を通過したガスはガス導出孔９を介して流量検出機
構１の出口５へと流出する。このとき、たとえホルダ２
と抵抗物１３との間においてガス流にある程度の乱流が
生じていたとしても、この圧力変動による影響はガス導
出孔９によって吸収され、センサー流路管１０を通過す
るガスの流れに悪影響を与えることがない。
【００２７】なお、前記ガス導入孔８およびガス導出孔
９はいずれもセンサー流路管１０よりその断面積が広
く、その容積を広くすることによりガス流に残存する圧
力変動を吸収するものであるが、ガス導入孔８，ガス導
出孔９にはガス流路に溜まりを形成する部分がないの
で、ガス置換特性を高く保つことができる。また、隙間
４によって十分の効果を得ることができる場合には、ガ
ス導入孔８およびガス導出孔９を細くすることによりガ
ス置換特性を向上させることも可能である。さらに、本
発明におけるガス導入孔８およびガス導出孔９を省略す
ることも容易に考えられる。
９はいずれもセンサー流路管１０よりその断面積が広
く、その容積を広くすることによりガス流に残存する圧
力変動を吸収するものであるが、ガス導入孔８，ガス導
出孔９にはガス流路に溜まりを形成する部分がないの
で、ガス置換特性を高く保つことができる。また、隙間
４によって十分の効果を得ることができる場合には、ガ
ス導入孔８およびガス導出孔９を細くすることによりガ
ス置換特性を向上させることも可能である。さらに、本
発明におけるガス導入孔８およびガス導出孔９を省略す
ることも容易に考えられる。
【００２８】本発明のマスフローメータの流量検出機構
は、隙間４内を流れるガスとガス導入孔８を流れるガス
の圧力が一定となるように設計されているため、安定し
た層流が得られる。たとえ入口３から流入するガス流量
に変動が生じても、ガスの流量の変動に関係なく、流量
検出機構１の入口３と出口５の間に生じたガスの圧力差
に比例する流量のガスを安定して流すことができるの
で、常に安定した流量測定を行うことができる。
は、隙間４内を流れるガスとガス導入孔８を流れるガス
の圧力が一定となるように設計されているため、安定し
た層流が得られる。たとえ入口３から流入するガス流量
に変動が生じても、ガスの流量の変動に関係なく、流量
検出機構１の入口３と出口５の間に生じたガスの圧力差
に比例する流量のガスを安定して流すことができるの
で、常に安定した流量測定を行うことができる。
【００２９】一方、抵抗物１３に衝突して乱流化された
ガスの残部は、ホルダ２内部の抵抗物１３とホルダ２と
の間のバイパス流路Ｐ2 を流通し、出口５を介して図示
しない流量制御部に流通する。そして、このホルダ２の
下流端よりもさらに下流側において前記ガス導出孔９を
通ったガスとスムーズに合流し、出口側５から流出して
図示しない流量制御部に流通する。このとき、流量検出
機構１の入口３と出口５のガスの圧力にはバイパス流路
を通るガスの流量と、抵抗物１３による抵抗の大きさに
関係する圧力差が生じることになる。
ガスの残部は、ホルダ２内部の抵抗物１３とホルダ２と
の間のバイパス流路Ｐ2 を流通し、出口５を介して図示
しない流量制御部に流通する。そして、このホルダ２の
下流端よりもさらに下流側において前記ガス導出孔９を
通ったガスとスムーズに合流し、出口側５から流出して
図示しない流量制御部に流通する。このとき、流量検出
機構１の入口３と出口５のガスの圧力にはバイパス流路
を通るガスの流量と、抵抗物１３による抵抗の大きさに
関係する圧力差が生じることになる。
【００３０】また、測定流路Ｐ1 を通ったガスと、バイ
パス流路Ｐ2 を通ったガスとがホルダ２および抵抗物１
３の下流端よりもさらに下流側において合流することに
より、抵抗物１３によって生じるかもしれないガス流の
乱れの影響が測定流路Ｐ1 を流れるガスに現れることが
ないようにしている。つまり、前記圧力差とバイパス流
路Ｐ2 を流れるガスの流量との比例関係を保持する程度
であれば、抵抗物１３によって少々の乱流が生じても測
定値に悪影響を及ぼすことは全く無くなる。
パス流路Ｐ2 を通ったガスとがホルダ２および抵抗物１
３の下流端よりもさらに下流側において合流することに
より、抵抗物１３によって生じるかもしれないガス流の
乱れの影響が測定流路Ｐ1 を流れるガスに現れることが
ないようにしている。つまり、前記圧力差とバイパス流
路Ｐ2 を流れるガスの流量との比例関係を保持する程度
であれば、抵抗物１３によって少々の乱流が生じても測
定値に悪影響を及ぼすことは全く無くなる。
【００３１】それゆえに、本発明によれば抵抗物１３と
ホルダ２との間の流路に乱れのない層流を形成する必要
がなく、抵抗物１３とホルダ２との中心軸を合わせる必
要もないので、抵抗物１３をより少ない簡単な製作工程
により形成することができる。また、抵抗物１３の形状
が簡素であればある程抵抗物１３によるガス溜まりや金
属分の発生を避けることができるとともに、洗浄などの
メンテナンス作業をより容易に行うことができるように
なる。
ホルダ２との間の流路に乱れのない層流を形成する必要
がなく、抵抗物１３とホルダ２との中心軸を合わせる必
要もないので、抵抗物１３をより少ない簡単な製作工程
により形成することができる。また、抵抗物１３の形状
が簡素であればある程抵抗物１３によるガス溜まりや金
属分の発生を避けることができるとともに、洗浄などの
メンテナンス作業をより容易に行うことができるように
なる。
【００３２】さらに、本例のようにホルダ２の内周面と
抵抗物１３にテーパ１２，１４を形成することにより、
抵抗物１３とホルダ２との位置関係で、抵抗物１３によ
る抵抗の大きさを調節することができる。つまり、流量
測定範囲が異なる他種類の流量検出機構１を一組のホル
ダ２と抵抗物１３によって形成することができ、生産コ
ストの大幅な削減を達成することができる。
抵抗物１３にテーパ１２，１４を形成することにより、
抵抗物１３とホルダ２との位置関係で、抵抗物１３によ
る抵抗の大きさを調節することができる。つまり、流量
測定範囲が異なる他種類の流量検出機構１を一組のホル
ダ２と抵抗物１３によって形成することができ、生産コ
ストの大幅な削減を達成することができる。
【００３３】図１には測定流量を最小にした状態の抵抗
物１３の位置を開示しており、一点鎖線にして測定流量
を最大にした状態の抵抗物１３の位置を示している。ま
た、一点鎖線に示す測定流量を最大にした状態におい
て、抵抗物１３の上流端部が孔７よりも下流側に位置す
ることが抵抗物１３の形状に影響されない安定した測定
を行なう点で肝要である。さらに、測定流量を最小にし
た状態の抵抗物１３の下流端部がガス導出孔９の連通位
置よりも上流側に位置し、ガス導出孔９を通ったガスが
抵抗物１３の下流側の開放された部分に流れることが、
孔Ｈに対する抵抗物１３の位置による乱流の影響を受け
ないようにする点で肝要である。
物１３の位置を開示しており、一点鎖線にして測定流量
を最大にした状態の抵抗物１３の位置を示している。ま
た、一点鎖線に示す測定流量を最大にした状態におい
て、抵抗物１３の上流端部が孔７よりも下流側に位置す
ることが抵抗物１３の形状に影響されない安定した測定
を行なう点で肝要である。さらに、測定流量を最小にし
た状態の抵抗物１３の下流端部がガス導出孔９の連通位
置よりも上流側に位置し、ガス導出孔９を通ったガスが
抵抗物１３の下流側の開放された部分に流れることが、
孔Ｈに対する抵抗物１３の位置による乱流の影響を受け
ないようにする点で肝要である。
【００３４】図４は本発明の別の例を示しており、この
図において、図１〜３と同じ符号を付した部材は同一ま
たは同等の部材であるので、その詳細な説明を省略す
る。本例に示す流量検出機構１は、抵抗物１３およびホ
ルダ２の長さを短くしている。すなわち、本発明の流量
検出機構１を用いることにより、抵抗物１３による乱流
の影響を受けることがないので、抵抗物１３をよりコン
パクトに形成することが可能となる。したがって、装置
全体の大きさを小さくすることができる。
図において、図１〜３と同じ符号を付した部材は同一ま
たは同等の部材であるので、その詳細な説明を省略す
る。本例に示す流量検出機構１は、抵抗物１３およびホ
ルダ２の長さを短くしている。すなわち、本発明の流量
検出機構１を用いることにより、抵抗物１３による乱流
の影響を受けることがないので、抵抗物１３をよりコン
パクトに形成することが可能となる。したがって、装置
全体の大きさを小さくすることができる。
【００３５】なお、図４に示す図は、測定流量を最小に
した場合の抵抗物１３の位置を示すものであり、一点鎖
線にして測定流量を最大にした場合の抵抗物１３の位置
を示している。すなわち、測定流量を最小にした場合に
おいても抵抗物１３の下流端部はガス導出孔９の連通位
置よりも上流側に位置することにより、抵抗物１３によ
る乱流の影響が測定値に現れることがないようにしてい
る。
した場合の抵抗物１３の位置を示すものであり、一点鎖
線にして測定流量を最大にした場合の抵抗物１３の位置
を示している。すなわち、測定流量を最小にした場合に
おいても抵抗物１３の下流端部はガス導出孔９の連通位
置よりも上流側に位置することにより、抵抗物１３によ
る乱流の影響が測定値に現れることがないようにしてい
る。
【００３６】また、測定流量を最大にした場合（一点鎖
線に示す場合）においても、抵抗物１３の上流端部が孔
７よりも下流側に位置することにより、抵抗物１３の形
状に関係のない安定した測定を行うことができるように
している。なお、本例の場合には測定流量を変更するた
めの抵抗物１３の操作量ｄは、例えば２．５ｍｍ程度に
抑えている。
線に示す場合）においても、抵抗物１３の上流端部が孔
７よりも下流側に位置することにより、抵抗物１３の形
状に関係のない安定した測定を行うことができるように
している。なお、本例の場合には測定流量を変更するた
めの抵抗物１３の操作量ｄは、例えば２．５ｍｍ程度に
抑えている。
【００３７】図５は本発明の別の例を示す断面図であ
り、大流量のガスを測定する例を示している。図５にお
いて図１〜４に示した例と異なる点はホルダ２および抵
抗物の形状である。したがって、以下の説明では重複説
明を避けるために、図１〜４に示した例と同じ符号を付
した部材は同一または同等の部材であるので、その詳細
な説明を省略する。
り、大流量のガスを測定する例を示している。図５にお
いて図１〜４に示した例と異なる点はホルダ２および抵
抗物の形状である。したがって、以下の説明では重複説
明を避けるために、図１〜４に示した例と同じ符号を付
した部材は同一または同等の部材であるので、その詳細
な説明を省略する。
【００３８】図５において、１７は長手方向に平行な複
数の孔をバイパス流路Ｐ2 として形成した層流素子から
なる抵抗物を示している。この抵抗物１７は、例えば図
６に示すように、表面に複数のリブ１８を突設した第１
帯状体１９と、平坦な第２帯状体２０とをリブ１８を介
して芯材２１に筒状に巻き込んでなるものである。
数の孔をバイパス流路Ｐ2 として形成した層流素子から
なる抵抗物を示している。この抵抗物１７は、例えば図
６に示すように、表面に複数のリブ１８を突設した第１
帯状体１９と、平坦な第２帯状体２０とをリブ１８を介
して芯材２１に筒状に巻き込んでなるものである。
【００３９】したがって、抵抗物１７をホルダ２に挿入
してバイパス流路Ｐ2 を形成することにより、バイパス
流路Ｐ2 に生じる抵抗が極めて小さくなる。つまり、本
例のように構成することにより、例えば２５ｃｍ程度の
長さの抵抗物で５０Ｌ／ｓ程度の多流量のガスを流した
ときにおいても、測定流量Ｐ1 に流れるガスの流量をセ
ンサー部１１（図１参照）により測定可能な範囲に設定
することができる。つまり、多流量のガスを正確に測定
することができる。なお、本例の場合においても、図１
〜４に示した例と同様に、抵抗物１７の上流端よりさら
に上流側に貫通孔７を設けることが正確な流量測定を行
う上で肝要である。
してバイパス流路Ｐ2 を形成することにより、バイパス
流路Ｐ2 に生じる抵抗が極めて小さくなる。つまり、本
例のように構成することにより、例えば２５ｃｍ程度の
長さの抵抗物で５０Ｌ／ｓ程度の多流量のガスを流した
ときにおいても、測定流量Ｐ1 に流れるガスの流量をセ
ンサー部１１（図１参照）により測定可能な範囲に設定
することができる。つまり、多流量のガスを正確に測定
することができる。なお、本例の場合においても、図１
〜４に示した例と同様に、抵抗物１７の上流端よりさら
に上流側に貫通孔７を設けることが正確な流量測定を行
う上で肝要である。
【００４０】図７は本発明のさらに別の例を示す断面図
であり、少流量のガスの流量測定に適している。図７に
おいて、２２はその外周がホルダ２の内に嵌合するよう
に形成されたほゞ円柱形状であり、かつその長手方向に
平行に一部を切削した切削部分２３を有する抵抗物であ
る。本例に示す抵抗物２２によれば、前記切削部分２３
によってバイパス流路Ｐ2 の断面積を正確に設定するこ
とができ、抵抗物２２による抵抗を厳密に設定すること
ができる。したがって、少流量のガスを流したときにお
ける測定精度を向上させることができる。
であり、少流量のガスの流量測定に適している。図７に
おいて、２２はその外周がホルダ２の内に嵌合するよう
に形成されたほゞ円柱形状であり、かつその長手方向に
平行に一部を切削した切削部分２３を有する抵抗物であ
る。本例に示す抵抗物２２によれば、前記切削部分２３
によってバイパス流路Ｐ2 の断面積を正確に設定するこ
とができ、抵抗物２２による抵抗を厳密に設定すること
ができる。したがって、少流量のガスを流したときにお
ける測定精度を向上させることができる。
【００４１】図８は抵抗物の変形例を示すものであり、
本例の抵抗物２４は断面形状を多角形（例えば５角形）
としている。すなわち、各切削部分２５によって正確な
断面積を有するバイパス流路Ｐ2 を形成でき、厳密な流
量設定を行うとともに、図７に示す例に比べて流量を増
加させることができる。
本例の抵抗物２４は断面形状を多角形（例えば５角形）
としている。すなわち、各切削部分２５によって正確な
断面積を有するバイパス流路Ｐ2 を形成でき、厳密な流
量設定を行うとともに、図７に示す例に比べて流量を増
加させることができる。
【００４２】さらに、本発明の抵抗物はエッチングプレ
ートを重ね合わせて形成したり、あるいはキャピラリを
設けてバイパス流路Ｐ2 を形成してもよい。
ートを重ね合わせて形成したり、あるいはキャピラリを
設けてバイパス流路Ｐ2 を形成してもよい。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスフロ
ーメータの流量検出機構によれば、ガス導入孔を設けた
部分に形成された環状の隙間によりガスの圧力変動を緩
和させることができ、抵抗物の上流側と下流側の差圧に
基づいて流量を測定できる。つまり、抵抗物によって制
限されるバイパス流路のガスの流れが層流になる必要が
なく、乱れが生じても測定結果に悪影響を及ぼすことが
なくなるので、抵抗物の形状に自由度があり抵抗物とホ
ルダとの位置関係にも制限がなくなる。つまり、流量検
出機構の形成にかかるコストを最小限に抑えると共に、
常に安定した測定を行うことができる。
ーメータの流量検出機構によれば、ガス導入孔を設けた
部分に形成された環状の隙間によりガスの圧力変動を緩
和させることができ、抵抗物の上流側と下流側の差圧に
基づいて流量を測定できる。つまり、抵抗物によって制
限されるバイパス流路のガスの流れが層流になる必要が
なく、乱れが生じても測定結果に悪影響を及ぼすことが
なくなるので、抵抗物の形状に自由度があり抵抗物とホ
ルダとの位置関係にも制限がなくなる。つまり、流量検
出機構の形成にかかるコストを最小限に抑えると共に、
常に安定した測定を行うことができる。
【００４４】さらに、抵抗物の構造を簡素化することに
より、マスフローメータの流量検出機構の清掃などのメ
ンテナンスを容易にすると共に、接触面積を少なくし
て、ガスの溜まりを少なくして置換特性を向上すること
が可能となり、流通ガスに金属粉のような不純物を混入
させる心配もなくなる。
より、マスフローメータの流量検出機構の清掃などのメ
ンテナンスを容易にすると共に、接触面積を少なくし
て、ガスの溜まりを少なくして置換特性を向上すること
が可能となり、流通ガスに金属粉のような不純物を混入
させる心配もなくなる。
【図１】本発明のマスフローメータの流量検出機構の一
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図２】前記マスフローメータの流量検出機構の分解斜
視図である。
視図である。
【図３】前記マスフローメータの流量検出機構の断面図
である。
である。
【図４】前記マスフローメータの流量検出機構の変形例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図５】前記マスフローメータの流量検出機構の一部で
ある抵抗物の別の例を示す断面図である。
ある抵抗物の別の例を示す断面図である。
【図６】前記抵抗物の製造工程を示す説明図である。
【図７】前記抵抗物の変形例を示す断面図である。
【図８】前記抵抗物の別の変形例を示す断面図である。
【図９】従来の流量検出機構の断面図である。
【図１０】従来のマスフローコントローラの流量検出機
構の断面図である。
構の断面図である。
１…マスフローメータの流量検出機構、２…ホルダ、４
…隙間、８…ガス導入孔、９…ガス導出孔、１０…セン
サー流路管、１２…テーパ部分、１３，１７，２２，２
４…抵抗物、１４…テーパ部分、１８…リブ、１９，２
０…帯状体、２３，２５…切削部分。
…隙間、８…ガス導入孔、９…ガス導出孔、１０…セン
サー流路管、１２…テーパ部分、１３，１７，２２，２
４…抵抗物、１４…テーパ部分、１８…リブ、１９，２
０…帯状体、２３，２５…切削部分。
Claims (4)
- 【請求項１】 ブロック内に設けた孔に円筒形状のホル
ダを挿入し、該ホルダの入口端の外周部に環状溝による
隙間を設け、前記環状溝にガスを流通させるための貫通
孔が前記ホルダの入口端に設けられており、前記ホルダ
の内部には、抵抗物を挿入したバイパス流路が形成さ
れ、前記環状溝に連通して設けられたガス導入孔と、前
記ホルダの下流側に連通して設けられたガス導出孔と、
前記ガス導入孔、ガス導出孔にわたって設けられたセン
サー流路管を備え、前記ホルダの入口側から流入したガ
スは、前記抵抗物に衝突して分流され、一部は前記貫通
孔、環状溝、ガス導入孔、センサー流路管、ガス導出孔
を流通し、残部は前記ホルダ内部の前記バイパス流路を
流通することを特徴とするマスフローメータの流量検出
機構。 - 【請求項２】 前記ホルダの内周部にテーパ部分を形成
すると共に、これに挿入される抵抗物の外周部にホルダ
のテーパ部分に対して平行なテーパ部分を形成し、抵抗
物の位置を調節して前記バイパス流路の抵抗の大きさを
調節可能とした請求項１に記載のマスフローメータの流
量検出機構。 - 【請求項３】 前記抵抗物が、表面に複数のリブを突設
した帯状体と平坦な帯状体とを前記リブを介して筒状に
巻き込み、この筒状の軸方向に互いに平行な複数の孔を
前記バイパス流路として形成した請求項１に記載のマス
フローメータの流量検出機構。 - 【請求項４】 前記ホルダの内部にガスが前記ホルダの
入口側から出口側に流通するように長手方向に一部が切
削された抵抗物を挿入して前記バイパス流路を形成して
あることを特徴とする請求項１に記載のマスフローメー
タの流量検出機構。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34688698A JP4189070B2 (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | マスフローメータの流量検出機構 |
| US09/452,636 US6247495B1 (en) | 1998-12-07 | 1999-12-01 | Flow rate detection mechanism with a restriction element for mass flow meters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34688698A JP4189070B2 (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | マスフローメータの流量検出機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000171275A true JP2000171275A (ja) | 2000-06-23 |
| JP4189070B2 JP4189070B2 (ja) | 2008-12-03 |
Family
ID=18386490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34688698A Expired - Fee Related JP4189070B2 (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | マスフローメータの流量検出機構 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6247495B1 (ja) |
| JP (1) | JP4189070B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7216534B2 (en) | 2003-05-27 | 2007-05-15 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and thermal type flowmeter suitable to the same |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1287889B1 (it) * | 1996-01-19 | 1998-08-26 | Biomedin Srl | Dispositivo con piccola capacita' termica per spirometria portabile di precisione e per altre applicazioni |
| US6655207B1 (en) * | 2000-02-16 | 2003-12-02 | Honeywell International Inc. | Flow rate module and integrated flow restrictor |
| US6712084B2 (en) * | 2002-06-24 | 2004-03-30 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control |
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