JP2000169109A - Reaction furnace for generating water - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、主として半導体製
造装置に於いて利用される水分発生用反応炉の改良に係
り、水素への着火や逆火、白金コーティング触媒層の剥
離等の発生を完全に防止して、安全性を大幅に高めた水
分発生用反応炉に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvement of a reactor for generating water used mainly in a semiconductor manufacturing apparatus, and completely prevents ignition of hydrogen, flashback, peeling of a platinum-coated catalyst layer, and the like. The present invention relates to a reactor for generating water, which has greatly improved safety by preventing the occurrence of water.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体製造に於けるシリコンへの酸化膜
付けには、少なくとも１０００ＳＣＣＭ（標準状態にお
いて１０００ｃｃ／ｍｉｎ）の流量の高純度水分を必要
とする。これ等の用途に供するため、本願発明者等は先
きに図５に示す様な構成の水分発生用反応炉を開発し、
特願平９−１０９９８９号としてこれを公開している。
即ち、図５に於いてＡは反応炉本体、１は入口側炉本体
部材、１ａはガス供給口、２は出口側炉本体部材、２ａ
は水分ガス取出口、３は入口側内部空間、４は出口側内
部空間、５は入口側反射体、１２は出口側反射体、７は
金属フィルター、８は白金コーティング触媒層であり、
また、前記白金コーティング触媒層８は、図６に示すよ
うに、出口側炉本体部材２の内表面にＴｉＮ等のバリヤ
ー皮膜８ａを設け、その上に、更に白金コーティング皮
膜８ｂを積層固着することにより形成されている。2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductors, the application of an oxide film to silicon requires high-purity water at a flow rate of at least 1000 SCCM (1000 cc / min in a standard state). In order to provide these uses, the present inventors have previously developed a water generation reactor having a configuration as shown in FIG.
This is disclosed as Japanese Patent Application No. 9-109989.
That is, in FIG. 5, A is a reactor body, 1 is an inlet furnace body member, 1a is a gas supply port, 2 is an outlet furnace body member, 2a
Is a moisture gas outlet, 3 is an inlet side inner space, 4 is an outlet side inner space, 5 is an inlet side reflector, 12 is an outlet side reflector, 7 is a metal filter, 8 is a platinum coated catalyst layer,
As shown in FIG. 6, the platinum-coated catalyst layer 8 is provided with a barrier film 8a of TiN or the like on the inner surface of the outlet-side furnace main body member 2, and a platinum coating film 8b is further laminated and fixed thereon. Is formed.
【０００３】水分の発生に際しては、ガス供給口１ａか
ら予かじめ所定の混合率で混合されたＨ2 とＯ2 の混合
ガスＧを反応炉本体Ａ内へ供給する。反応炉本体Ａの入
口側内部空間３内へ供給された混合ガスＧは、入口側反
射体５及び金属フィルター７によって拡散され、出口側
内部空間４内へ流入して白金コーティング皮膜８ｂと接
触することにより、Ｏ2 及びＨ2 の反応性が活性化され
る。When water is generated, a mixed gas G of H 2 and O 2 mixed at a predetermined mixing ratio in advance is supplied into the reactor main body A from a gas supply port 1a. The mixed gas G supplied into the inlet side internal space 3 of the reactor main body A is diffused by the inlet side reflector 5 and the metal filter 7, flows into the outlet side internal space 4, and comes into contact with the platinum coating film 8b. This activates the reactivity of O 2 and H 2 .
【０００４】白金コーティング皮膜８ｂとの接触により
活性化されたＨ2 とＯ2 とは、約４００℃〜５００℃前
後の高温下で反応をし、水分ガス（水蒸気）に転換され
る。また、発生した水分ガス（水蒸気）は、出口側反射
体１２と出口側炉本体部材２の内壁面との間隙Ｌを通っ
て、水分ガス取出口２ａから半導体製造用のプロセスチ
ャンバー（図示省略）等へ供給されて行く。尚、高温下
でＯ2 とＨ2 とを反応させる水分反応炉本体Ａは、その
内部空間３・４内の温度をＨ2 又はＨ2 含有ガスの発火
温度以下の温度に保持することにより、Ｈ2 とＯ2 の爆
発的な燃焼反応を防止つつ適宜の速度で両者を反応さ
せ、所要流量の水分ガスを発生する。H 2 and O 2 activated by contact with the platinum coating film 8b react at a high temperature of about 400 ° C. to about 500 ° C. and are converted into moisture gas (steam). The generated moisture gas (steam) passes through a gap L between the outlet-side reflector 12 and the inner wall surface of the outlet-side furnace body member 2 and passes through the moisture gas outlet 2a to a process chamber for semiconductor manufacturing (not shown). And so on. The moisture reactor main body A for reacting O 2 and H 2 at a high temperature maintains the temperature in the internal spaces 3 and 4 at a temperature equal to or lower than the ignition temperature of H 2 or the H 2 -containing gas. The two react at an appropriate rate while preventing the explosive combustion reaction of H 2 and O 2 to generate a required flow rate of moisture gas.
【０００５】上記図５の反応炉本体Ａは、所望流量の高
純度水分を極く小形の反応炉本体でもって連続的に、し
かも高反応率の下で簡便に発生させることができ、優れ
た実用的効用を奏するものである。しかし、図５のよう
な構成の水分発生炉にも未だ解決すべき多くの問題が残
されており、その中でも特に解決を急ぐ問題は、Ｈ2 へ
の着火やガス供給口１ａからの逆火をより完全に防止す
ると共に、局部的な温度の上昇による白金コーティング
触媒層８の部分的な剥離・脱落を皆無にすると云う点で
ある。The reactor main body A shown in FIG. 5 is capable of easily and continuously generating a desired flow rate of high-purity moisture continuously and with a high reaction rate by a very small reactor main body. It has practical utility. However, flashback from the configuration of the many problems to be solved yet in moisture generation reactor has been left, the problem of rush particularly resolution among them, ignition and gas feed port 1a to H 2 as shown in FIG. 5 Is completely prevented, and partial exfoliation / dropping of the platinum-coated catalyst layer 8 due to a local rise in temperature is eliminated.
【０００６】上述したように、水分発生用反応炉本体Ａ
の内部空間内の温度は、Ｈ2 又はＨ 2 含有ガスの最低限
界着火温度（約５６０℃、Ｈ2 とＯ2 の混合率に応じて
限界着火温度は約５６０℃より上昇する）よりも相当に
低い約４５０℃〜５００℃の温度に保持されており、Ｈ
2 とＯ2 の爆発的な燃焼反応は抑制されるようになって
いる。しかし、水分発生用反応炉Ａの内部空間３・４側
の温度を常に完全に前記限界着火温度以下の値に保持す
ることは、現実にはなかなか困難なことであり、入口側
炉本体部材１や出口側炉本体部材２等の内壁面の温度
が、何等かの原因で局部的に限界着火温度以上に上昇す
ることがある。[0006] As described above, the reaction furnace body A for generating moisture is used.
Temperature in the internal space of HTwoOr H TwoMinimum of contained gas
Field ignition temperature (about 560 ° C, HTwoAnd OTwoAccording to the mixing ratio of
Limit ignition temperature rises above about 560 ° C)
Maintained at a low temperature of about 450 ° C. to 500 ° C .;
TwoAnd OTwoExplosive combustion reaction has been suppressed
I have. However, the inner space 3.4 side of the reactor A for moisture generation
Is always kept completely below the limit ignition temperature.
It is difficult in reality,
Temperature of inner wall surfaces of furnace body member 1 and outlet-side furnace body member 2
But locally rises above the critical ignition temperature for some reason
Sometimes.
【０００７】尚、万一、前記入口側炉本体部材１や出口
側炉本体部材２の内壁面温度が局部的に限界着火温度以
上に上昇したとしても、常にＯ2 とＨ2 との爆発的な燃
焼反応が起って逆火を生ずるとは限らず、一般的には着
火や逆火を生じないケースが多いが、混合ガスＧ内のＨ
2 濃度が特に高い場合には、稀にＨ2 への着火或いは逆
火を生ずることがある。Incidentally, even if the inner wall surface temperature of the inlet side furnace main body member 1 or the outlet side furnace main body member 2 locally rises above the limit ignition temperature, the explosion of O 2 and H 2 always occurs. The flashback does not necessarily occur due to the occurrence of a non-combustion reaction, and in many cases, ignition or flashback does not generally occur.
2 If the concentration is particularly high, ignition or flashback to H 2 may occur rarely.
【０００８】前記Ｈ2 への着火や逆火を生ずる原因、即
ち両炉本体部材１・２や金属フィルター７等の局部的で
且つ急激な温度上昇を生ずる原因は、不明であって未だ
十分にその原因は特定されていない。しかし、本願発明
者等はこれまでの水分発生用反応炉の製造並びに使用の
経験からして、反応炉本体Ａを構成する入口側炉本体部
材１の内壁面（ガス供給口１ａ側の炉本体部材の内壁
面）や入口側反射体５、出口側反射体１２、金属フィル
ター７等の外表面の金属触媒作用により、混合ガスＧ内
のＨ2 とＯ2 が活性化され、前記内壁面等に局部的で且
つ急激な温度上昇を生じたことが、Ｈ2 への着火の第１
原因であると想定している。The cause of the ignition or flashback of the H 2 , that is, the cause of the local and rapid temperature rise of the two furnace body members 1 and 2 and the metal filter 7 is unknown and is still insufficient. The cause has not been identified. However, the inventors of the present application have learned from the experience of manufacturing and using the reactor for generating moisture that the inner wall surface of the inlet side furnace body member 1 constituting the reactor body A (the furnace body on the side of the gas supply port 1a). H 2 and O 2 in the mixed gas G are activated by the metal catalysis of the outer surfaces of the inner wall surface of the member, the entrance-side reflector 5, the exit-side reflector 12, the metal filter 7, etc. that resulted in local and and rapid temperature rise is, the ignition of the H 2 1
It is assumed to be the cause.
【０００９】即ち、入口側炉本体部材１や両反射体５・
１２、金属フィルター７等は全てステンレス鋼（ＳＵＳ
３１６Ｌ）により形成されている。そして、これ等各部
材の外表面は、通常自然に形成された各種金属の酸化物
皮膜や不働態皮膜によって覆われており、これによって
ステンレス鋼外表面が本来保持している所謂触媒活性
は、抑制されている。ところが、約４５０℃〜５００℃
程度の高温下でＨ2 濃度の高い混合ガスＧ中に、前記酸
化物皮膜や不働態皮膜が長時間晒されると、酸化物皮膜
等がステンレス鋼表面から剥離脱落あるいは還元されて
金属外表面が局部的に露出される。その結果、ステンレ
ス鋼外表面の金属触媒活性が発揮され、Ｏ2 とＨ2 との
反応が局部的に急速且つ高密度で進行し、これによって
反応炉本体Ａの内部空間３・４内の白金コーティング触
媒層８を設けた部分以外の局部の表面温度が、Ｈ2 （又
はＨ2 含有ガス）の着火限界温度以上に上昇したものと
想定される。That is, the inlet side furnace body member 1 and the two reflectors 5.
12, metal filter 7 etc. are all stainless steel (SUS
316L). The outer surfaces of these members are usually covered with naturally formed oxide films and passive films of various metals, so that the so-called catalytic activity originally held by the stainless steel outer surface is as follows: Is suppressed. However, about 450 ° C to 500 ° C
When the oxide film or the passive film is exposed for a long time to a mixed gas G having a high H 2 concentration at a high temperature, the oxide film or the like is peeled off from the stainless steel surface or reduced, and the outer metal surface is reduced. Exposed locally. As a result, the metal catalytic activity on the outer surface of the stainless steel is exerted, and the reaction between O 2 and H 2 locally and rapidly proceeds at a high density. It is assumed that the local surface temperature other than the portion where the coating catalyst layer 8 is provided has risen above the ignition limit temperature of H 2 (or H 2 -containing gas).
【００１０】一方、一般的に出口側反応炉本体２の白金
コーティング触媒層８を設けた内壁面の温度は、本体２
の中心部ほど高温になり易く、特に、Ｎ2 希釈等により
混合ガスＧの流速及び流量を増して使用する場合には、
出口側反射体１２の外周から中心寄りの部分の温度が一
層上昇することが判っている。従って、もしも着火又は
逆火を生ずる原因が白金コーティング触媒層８を設けた
出口側炉本体部材２の内壁面側にあるとすれば、それ
は、出口側反射体１２の外周縁部と対向する白金コーテ
ィング触媒層８の部分に於いて、隙間Ｌ内への混合ガス
Ｇの流入量が急増することによりＨ2 とＯ2 との反応が
より活発となり、これによって内壁面の温度が局部的に
急上昇して限界着火温度に達し、Ｈ2 への着火や或いは
白金コーティング触媒層８の部分的な剥離を生じたもの
と想定される。On the other hand, in general, the temperature of the inner wall surface of the outlet side reactor main body 2 on which the platinum coating catalyst layer 8 is provided depends on the temperature of the main body 2.
The temperature tends to be higher at the center of the mixed gas G. In particular, when the mixed gas G is used at an increased flow rate and flow rate by N 2 dilution or the like,
It has been found that the temperature of the portion near the center from the outer periphery of the exit side reflector 12 further increases. Therefore, if ignition or flashback is caused by the inner wall surface of the outlet-side furnace body member 2 provided with the platinum-coated catalyst layer 8, it may be caused by the platinum facing the outer peripheral edge of the outlet-side reflector 12. In the portion of the coating catalyst layer 8, the reaction between H 2 and O 2 becomes more active due to a rapid increase in the amount of the mixed gas G flowing into the gap L, whereby the temperature of the inner wall surface rises locally locally. It is presumed that the temperature reached the limit ignition temperature and ignition of H 2 or partial separation of the platinum-coated catalyst layer 8 occurred.
【００１１】尚、前記反応炉本体Ａの内部空間３・４内
の局部的な温度上昇を防止するためには、反応炉本体Ａ
自体を大形化してその熱容量を増大させると共に、放熱
又は冷却装置を設けて反応炉本体Ａの冷却性能の強化を
図るのが通常の方策である。しかし、半導体製造装置は
一般にクリーンルーム内に設置されるものであり、その
設置スペースを大きく取ることは困難である。そのた
め、半導体製造装置に付随する水分発生用反応炉もその
小型化に対する要求が特に厳しく、反応炉本体Ａの大型
化や冷却装置の増強を以って、上述の如き水分発生用反
応炉の内部に於ける局部的な温度上昇や温度上昇による
白金コーティング触媒層８の剥離を防止しようとする方
策は、現実的に採用が不可能な状態にある。In order to prevent a local temperature rise in the internal spaces 3 and 4 of the reactor body A, the reactor body A
It is a general measure to increase the heat capacity of the reactor itself to increase its heat capacity, and to enhance the cooling performance of the reactor main body A by providing a heat radiating or cooling device. However, the semiconductor manufacturing apparatus is generally installed in a clean room, and it is difficult to increase the installation space. For this reason, the demand for miniaturization of the water generating reactor attached to the semiconductor manufacturing apparatus is particularly severe, and the inside of the water generating reactor as described above is increased by increasing the size of the reactor main body A and increasing the cooling device. In order to prevent the platinum coating catalyst layer 8 from being peeled off due to a local temperature rise or a temperature rise in the above, it is practically impossible to adopt it.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従前の水分
発生用反応炉に於ける上述のような問題、即ち反応炉本
体Ａを構成する入口側及び出口側炉本体部材１・２の内
部空間内の温度をＨ2 又はＨ2 含有ガスの限界着火温度
よりも相当に低い温度に保持していても、Ｈ2 濃度の高
い混合ガスを使用している場合には、水分の発生中にＨ
2 への着火又は逆火や白金コーティング触媒層８の部分
的な剥離を生ずることがあると云う問題を解決せんとす
るものであり、反応炉本体Ａを大形化してその熱容量の
増大を図ったり、或いは反応炉本体Ａの冷却装置を大形
化してその冷能力を大幅に高めるような方策によらず、
極く小形の水分発生用反応炉でもって反応炉内の構造を
改変することにより、水分発生用反応炉の運転中に於け
るＨ2 への着火や逆火、白金コーティング触媒層８の剥
離の発生を完全に防止できるようにした、水分発生用反
応炉を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the conventional water generating reactor, namely, the inside of the inlet and outlet furnace body members 1 and 2 constituting the reactor body A. Even when the temperature in the space is maintained at a temperature considerably lower than the limit ignition temperature of H 2 or H 2 -containing gas, when a mixed gas having a high H 2 concentration is used, the generation of moisture may occur. H
In order to solve the problem that ignition or flashback of the reactor 2 or partial separation of the platinum-coated catalyst layer 8 may occur, the heat capacity of the reactor body A is increased by enlarging the reactor body A. Or without taking measures to increase the cooling capacity of the reactor main body A to greatly increase its cooling capacity,
By modifying the internal structure of the reactor with a very small water generating reactor, it is possible to prevent ignition of H 2 , flashback, and peeling of the platinum-coated catalyst layer 8 during operation of the water generating reactor. An object of the present invention is to provide a reactor for generating moisture, which can completely prevent generation of water.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本願発明者等は、従前の
水分発生用反応炉に於けるＨ2 への着火や逆火の発生原
因を究明する過程を通して、前記着火や逆火を生ずる原
因が「反応炉本体の内部空間側の金属外表面に形成され
ていた酸化物皮膜等の剥離脱落により、金属表面の触媒
活性が発揮され、この金属表面の触媒活性によってＯ2
とＨ2 の反応が局部的に急激にしかも高密度で進行し、
金属表面の温度が部分的にＨ2 含有ガスの限界着火温度
以上に上昇したことによるか、又は出口側反射体１２の
外周縁部近傍と対向する位置の白金コーティング触媒層
８の温度が、局部的に限界着火温度以上に上昇したこと
による。」ことを、知得した。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have studied the causes of the above-mentioned ignition and flashback through the process of investigating the cause of the ignition and flashback of H 2 in the conventional moisture generating reactor. "The catalytic activity of the metal surface is exhibited by the detachment of the oxide film and the like formed on the outer surface of the metal on the inner space side of the reactor main body, and the catalytic activity of the metal surface causes O 2
The reaction between H 2 and H 2 progresses rapidly and locally at a high density.
Either the temperature of the metal surface partially rises above the limit ignition temperature of the H 2 -containing gas, or the temperature of the platinum-coated catalyst layer 8 at a position facing the vicinity of the outer periphery of the outlet-side reflector 12 is locally increased. Due to a rise above the critical ignition temperature. I learned that.
【００１４】本発明は、本願発明者等の上記知得に基づ
いて創作されたものであり、請求項１に記載の発明は、
ガス供給口を有する入口側炉本体部材と、水分ガス取出
口を有する出口側炉本体部材とを対向状に組合せ溶接し
て形成した反応炉本体の内部空間内にガス供給口と対向
状に配設した入口側反射体と、前記内部空間内に水分ガ
ス取出口と対向状に配設した出口側反射体と、前記出口
側炉本体部材の内壁面に形成した白金コーティング触媒
層とから形成され、ガス供給口から反応炉本体の内部空
間内へ供給した水素と酸素を前記白金コーティング皮膜
に接触させてその反応性を活性化させることにより、水
素と酸素を非燃焼の状態下で反応させて水を発生させる
構成としたことを発明の基本構成とするものである。The present invention has been made based on the above knowledge of the inventors of the present invention.
An inlet-side furnace main body member having a gas supply port and an outlet-side furnace main body member having a moisture gas outlet are combined and welded in opposition to each other in an interior space of the reactor main body, which is opposed to the gas supply port. An inlet-side reflector provided, an outlet-side reflector disposed in the interior space so as to face the moisture gas outlet, and a platinum-coated catalyst layer formed on an inner wall surface of the outlet-side furnace body member. By contacting the platinum coating film with hydrogen and oxygen supplied from the gas supply port into the internal space of the reactor main body to activate the reactivity, hydrogen and oxygen are reacted in a non-combustion state. The configuration for generating water is the basic configuration of the present invention.
【００１５】請求項２に記載の発明は、請求項１の発明
に於いて、入口側炉本体部材及び出口側炉本体部材の内
壁面に底面が平面状の窪部を形成すると共に、前記入口
側反射体及び出口側反射体の外周端縁部の炉本体部材の
底面と対向する側にテーパー部を形成し、入口側反射体
及び出口側反射体を入口側炉本体部材及び出口側炉本体
部材へ夫々の底面と隙間を保持した状態で固定するよう
にしたものである。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the bottom surface of the inlet-side furnace main body member and the outlet-side furnace main body member has flat recesses formed on the inner wall surfaces thereof, and the inlet side furnace body member has a flat bottom. A taper portion is formed on the side of the outer peripheral edge of the side reflector and the outlet side reflector facing the bottom surface of the furnace body member, and the inlet side reflector and the outlet side reflector are connected to the inlet side furnace body member and the outlet side furnace body. It is designed to be fixed to a member while maintaining the gap with the bottom surface of each member.
【００１６】請求項３に記載の発明は、請求項１又は請
求項２の発明に於いて、前記入口側炉本体部材と入口側
反射体と出口側反射体とを非触媒性の材質から形成する
ようにしたものである。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the inlet-side furnace body member, the inlet-side reflector, and the outlet-side reflector are formed of a non-catalytic material. It is something to do.
【００１７】請求項４に記載の発明は、請求項１、請求
項２又は請求項３の発明に於いて、前記反応炉本体の内
部空間内の白金コーティング触媒層を設けた部分を除く
その他の部分に、非触媒性のバリヤー皮膜を形成するよ
うにしたものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the first, second, or third aspect of the present invention, there is provided other parts except for a portion provided with a platinum-coated catalyst layer in the internal space of the reactor main body. A non-catalytic barrier film is formed on the portion.
【００１８】請求項５に記載の発明は、請求項４の発明
に於いて、バリヤー皮膜をＴｉＮ、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ、
ＴｉＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、Ｃｒ
Ｎの中の何れかから成るバリヤー皮膜としたものであ
る。According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the barrier film is made of TiN, TiC, TiCN,
TiAlN, Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , SiO 2 , Cr
N as a barrier film.
【００１９】請求項６の発明は、ガス供給口を有する入
口側炉本体部材と、水分ガス取出口を有する出口側炉本
体部材と、前記入口側炉本体部材と出口側炉本体部材と
を対向状に組合せ溶接して形成した反応炉本体の内部空
間内にガス供給口と対向状に配設した反射体と、前記出
口側炉本体部材の内壁面に形成した白金コーティング触
媒層とから形成され、ガス供給口から反応炉本体の内部
空間内へ供給した水素と酸素を前記白金コーティング皮
膜に接触させてその反応性を活性化させることにより、
水素と酸素を非燃焼の状態下で反応させて水を発生させ
る構成としたことを発明の基本構成とするものである。According to a sixth aspect of the present invention, an inlet-side furnace main body having a gas supply port, an outlet-side furnace main body having a moisture gas outlet, and the inlet-side furnace main body and the outlet-side furnace main body facing each other. A reflector provided in the interior space of the reactor body formed by combination welding in a shape facing the gas supply port, and a platinum-coated catalyst layer formed on the inner wall surface of the outlet-side furnace body member. By contacting the platinum coating film with hydrogen and oxygen supplied from the gas supply port into the internal space of the reactor body to activate the reactivity,
The basic configuration of the present invention is that hydrogen and oxygen are reacted in a non-combustion state to generate water.
【００２０】請求項７の発明は、請求項６の発明に於い
て、入口側炉本体部材及び出口側炉本体部材の内壁面に
底面が平面状の窪部を形成し、また、前記反射体の外径
を窪部の内径より僅かに小さくすると共に、外周端縁部
の出口側炉本体部材の底面と対向する側にテーパー部を
形成し、更に、反射体を出口側炉本体部材へその底面と
隙間を保持した状態で固定するようにしたものである。According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect of the present invention, the inner wall surface of the inlet-side furnace main body member and the outlet-side furnace main body member is formed with a concave portion having a flat bottom surface. The outer diameter is slightly smaller than the inner diameter of the concave portion, and a tapered portion is formed on the outer peripheral edge on the side facing the bottom surface of the outlet side furnace main body member. It is designed to be fixed while holding the gap with the bottom surface.
【００２１】請求項８の発明は、請求項６又は請求項７
の発明に於いて、前記入口側炉本体部材と反射体とを非
触媒性の材質から形成するようにしたものである。The invention of claim 8 is the invention of claim 6 or claim 7.
In the invention, the inlet-side furnace main body member and the reflector are formed of a non-catalytic material.
【００２２】請求項９の発明は、請求項６、請求項７、
又は請求項８の発明に於いて、反応炉本体の内部空間内
の白金コーティング触媒層を設けた部分を除くその他の
部分に、非触媒性のバリヤー皮膜を形成するようにした
ものである。According to the ninth aspect of the present invention, there is provided the sixth aspect, the seventh aspect,
Alternatively, in the invention according to claim 8, a non-catalytic barrier film is formed on the other portion of the inner space of the reactor main body except for the portion provided with the platinum-coated catalyst layer.
【００２３】請求項１０の発明は、請求項８又は請求項
９の発明に於いて、バリヤー皮膜をＴｉＮ、ＴｉＣ、Ｔ
ｉＣＮ、ＴｉＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＳｉＯ
2 、ＣｒＮの中の何れかから成るバリヤー皮膜としたも
のである。According to a tenth aspect of the present invention, in the eighth or ninth aspect, the barrier film is formed of TiN, TiC, T
iCN, TiAlN, Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , SiO
2. A barrier film made of any of CrN.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の第１実施形態に係
る水分発生用反応炉の断面図である。図１に於いてＡは
反応炉本体、Ｖは内部空間、Ｌは隙間、１は入口側炉本
体部材、１ａはガス供給口、２は出口側炉本体部材、２
ａは水分ガス取出口、５は入口側反射体、１２は出口側
反射体、８は白金コーティング触媒層、８ａはバリヤー
皮膜、８ｂは白金コーティング皮膜、９・１０・１１は
バリヤー皮膜である。尚、図では省略されているが、固
定ボルト１３・１４及びスペーサー１３ａ・１４ａの外
表面にもバリヤー皮膜が形成されている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a reactor for generating moisture according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, A is a reactor main body, V is an internal space, L is a gap, 1 is an inlet-side furnace main body member, 1a is a gas supply port, 2 is an outlet-side furnace main body member, 2
a is a moisture gas outlet, 5 is an inlet-side reflector, 12 is an outlet-side reflector, 8 is a platinum-coated catalyst layer, 8a is a barrier film, 8b is a platinum-coated film, and 9, 10, and 11 are barrier films. Although not shown in the drawing, a barrier film is also formed on the outer surfaces of the fixing bolts 13 and 14 and the spacers 13a and 14a.
【００２５】本発明に係る水分発生用反応炉本体Ａはス
テンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製の入口側炉本体部材１
と出口側炉本体部材２とを気密状に連結することによ
り、円形の中空デスク状に形成されている。前記入口側
炉本体部材１には、その内部に底面が平面状の窪部が設
けられており、ガス供給口１ａが窪部内へ連通されてい
る。また、出口側炉本体部材２には、内部に底面が平面
状の窪部が設けられており、水分ガス取出口２ａが窪部
内へ連通されている。更に、両本体部材１・２の内側外
周端面にはフランジ体が夫々形成されており、両フラン
ジ体を気密状に溶接１５することにより、水分発生用反
応炉本体Ａが構成されている。尚、本実施形態では、両
炉本体部材１・２の窪部の底面を平面状としているが、
これを球面状の底面としてもよいことは勿論である。The reactor body A for moisture generation according to the present invention is made of an inlet-side furnace body member 1 made of stainless steel (SUS316L).
And the outlet-side furnace body member 2 are air-tightly connected to form a circular hollow desk. The inlet-side furnace main body member 1 is provided with a recess having a flat bottom surface inside, and a gas supply port 1a is communicated into the recess. The outlet-side furnace main body member 2 is provided with a recess having a flat bottom surface inside, and the moisture gas outlet 2a is communicated into the recess. Further, a flange body is formed on each of the inner peripheral end faces of the two main body members 1 and 2, and a water generating reactor main body A is formed by welding the two flange bodies 15 in an airtight manner. In the present embodiment, the bottom surfaces of the concave portions of the two furnace body members 1 and 2 are flat.
Of course, this may be a spherical bottom surface.
【００２６】前記入口側反射体５は円形の盤状体であ
り、その中心点を入口側炉本体部材１のガス供給口１ａ
と対向するように位置せしめ、炉本体部材１の底面との
間に隙間Ｌをおいて固定用ボルト１４により炉本体部材
１へ固定されている。尚、当該入口側反射体５はステン
レス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製であり、その直径は窪部の
内径よりもやや小径に設定されている。同様に、前記出
口側反射体１２は、入口側反射体５とほぼ同形状に形成
されており、その中心点を出口側炉本体部材２の水分ガ
ス取出口２ａと対向するように位置せしめ炉本体部材２
との間に隙間Ｌをおいて固定用ボルト１３により炉本体
部材２へ固定されている。The inlet side reflector 5 is a circular disk-shaped body, and its center point is defined as the gas supply port 1a of the inlet side furnace body member 1.
And is fixed to the furnace main body member 1 by fixing bolts 14 with a gap L between the furnace main body member 1 and the bottom surface of the furnace main body member 1. The entrance-side reflector 5 is made of stainless steel (SUS316L), and its diameter is set slightly smaller than the inner diameter of the recess. Similarly, the outlet-side reflector 12 is formed in substantially the same shape as the inlet-side reflector 5, and its center point is positioned so as to face the moisture gas outlet 2a of the outlet-side furnace body member 2. Body member 2
Are fixed to the furnace main body member 2 by fixing bolts 13 with a gap L therebetween.
【００２７】尚、入口側反射体５及び出口側反射体１２
の各炉本体部材１・２と対向する側の外周縁部は、図１
に示すように適宜の傾斜角αのテーパー面に仕上げられ
ている。入口側反射体５にあっては、当該傾斜角αを設
けることにより、ガス供給口１ａより流入した混合ガス
Ｇが円滑に内部空間Ｖ内へ拡散された状態で放出される
からであり、また出口側反射体１２にあっては、反射体
１２と白金コーティング触媒層８との距離が一定である
場合には、反射体の外周端と対向する部分の白金コーテ
ィング触媒層８の近傍に発熱が集中するため、隙間Ｌを
徐々に狭まくなる形態とすることにより前記局部的に集
中する発熱が防止されるからである。又、本実施形態で
は両反射体５・１２を固定ボルト１３・１４により固定
するようにしているが、適宜の支持片（図示省略）を介
設して炉本体部材側へ夫々溶接により固定するようにし
てもよい。尚、本実施形態では、固定ボルト１３・１４
の頭部が締め込み後にスポット溶接され、所謂緩み止め
処理が行なわれている。Incidentally, the entrance-side reflector 5 and the exit-side reflector 12
The outer peripheral edge on the side facing each of the furnace body members 1 and 2 is shown in FIG.
As shown in the figure, the taper surface is finished at an appropriate inclination angle α. In the inlet-side reflector 5, by providing the inclination angle α, the mixed gas G flowing from the gas supply port 1a is released in a state of being smoothly diffused into the internal space V. In the exit side reflector 12, when the distance between the reflector 12 and the platinum coating catalyst layer 8 is constant, heat is generated in the vicinity of the platinum coating catalyst layer 8 in a portion facing the outer peripheral end of the reflector. This is because the heat is concentrated locally by forming the gap L to be gradually narrowed. In the present embodiment, the reflectors 5 and 12 are fixed by the fixing bolts 13 and 14. However, the reflectors 5 and 12 are fixed to the furnace main body member side by welding through appropriate support pieces (not shown). You may do so. In this embodiment, the fixing bolts 13 and 14 are used.
Are spot-welded after tightening, so-called loosening prevention processing is performed.
【００２８】ガス供給口１ａを通して入口側反射体５へ
向けて噴射されたガスは、反射体５の表面へ衝突したあ
と、隙間Ｌを通して矢印方向に噴射され、内部空間Ｖ内
で拡散される。また、内部空間Ｖ内へ噴射されたガス
は、白金コーティング触媒層８へ衝突接触し、これによ
り所謂触媒活性化されると共に、出口側反射体１２と白
金コーティング触媒層８との隙間Ｌを通して水分ガス取
出口２ａの方向に流入する。更に、前記白金コーティン
グ触媒層８への衝突接触や隙間Ｌを通過する間にこれと
接触することにより活性化されたＨ2 とＯ2 とは、所謂
非燃焼の状態下で反応をし、水が生成される。そして、
生成された水分ガスは、出口側反射体１２と白金コーテ
ィング触媒層８との隙間Ｌを通して水分ガス取出口２ａ
へ導出されて行く。The gas injected toward the inlet-side reflector 5 through the gas supply port 1a collides with the surface of the reflector 5 and is then injected through the gap L in the direction of the arrow and diffused in the internal space V. The gas injected into the internal space V collides with and contacts the platinum-coated catalyst layer 8, thereby activating the so-called catalyst. It flows in the direction of the gas outlet 2a. Further, H 2 and O 2 activated by collision contact with the platinum-coated catalyst layer 8 or by contact with the platinum coating catalyst layer 8 while passing through the gap L react in a so-called non-combustion state to form water. Is generated. And
The generated moisture gas passes through the gap L between the outlet-side reflector 12 and the platinum-coated catalyst layer 8, and the moisture gas outlet 2a
Derived to go.
【００２９】前記白金コーティング触媒層８はＳＵＳ３
１６Ｌ製の出口側炉本体部材２の内表面の全域に形成さ
れており、図２に示す如く炉本体部材２の内表面にＴｉ
Ｎ製のバリヤー皮膜８ａを形成したあと、当該バリヤー
皮膜８ａの上に白金コーティング皮膜８ｂが形成されて
おり、前記バリヤー皮膜８ａと白金コーティング皮膜８
ｂとによって本発明に係る白金コーティング触媒層８が
構成されている。前記白金コーティング皮膜８ｂの厚さ
は０．１μｍ〜３μｍ位いが適当であり、本実施態様に
於いては約１μｍの厚さの白金コーティング皮膜８ｂが
形成されている。また、バリヤー皮膜８ａの厚さは０．
１μｍ〜５μｍ程度が最適であり、本実施態様では約２
μｍの厚さのＴｉＮ製のバリヤー皮膜が形成されてい
る。The platinum coated catalyst layer 8 is made of SUS3
It is formed on the entire surface of the inner surface of the outlet side furnace main body member 2 made of 16L, and as shown in FIG.
After forming the barrier film 8a made of N, a platinum coating film 8b is formed on the barrier film 8a, and the barrier film 8a and the platinum coating film 8 are formed.
b constitute the platinum coating catalyst layer 8 according to the present invention. The thickness of the platinum coating film 8b is suitably about 0.1 μm to 3 μm, and in this embodiment, the platinum coating film 8b having a thickness of about 1 μm is formed. Further, the thickness of the barrier film 8a is set to 0.1.
Optimally, about 1 μm to 5 μm, and about 2 μm in this embodiment.
A barrier film made of TiN having a thickness of μm is formed.
【００３０】本発明の実施形態に於いては、白金コーテ
ィング触媒層８を形成する出口側炉本体部材２だけでな
く、入口側炉本体部材１の内表面や両反射体５・１２の
外表面にもＴｉＮ製のバリヤー皮膜９・１０・１１が形
成されている。図３は入口側炉本体部材１の内表面のバ
リヤー皮膜９の形成状態を示すものである。即ち、各バ
リヤー皮膜８ａ・９・１０・１１の形成に際しては、先
ず、出口側炉本体部材２等の内表面に適宜の表面処理を
施し、ステンレス鋼表面に自然形成されている各種金属
の酸化膜や不働態膜を除去する。次に各部材にＴｉＮに
よるバリヤー皮膜８ａ・９・１０・１１の形成を行な
う。本実施態様に於いてはイオンプレーティング工法に
より厚さ約２μｍのＴｉＮ製バリヤー皮膜８ａ・９・１
０・１１を形成している。In the embodiment of the present invention, the inner surface of the inlet-side furnace main body member 1 and the outer surface of the reflectors 5 and 12 are formed in addition to the outlet-side furnace main body member 2 on which the platinum-coated catalyst layer 8 is formed. Also, barrier coatings 9, 10, and 11 made of TiN are formed. FIG. 3 shows the state of formation of the barrier film 9 on the inner surface of the inlet-side furnace main body member 1. That is, when forming the barrier films 8a, 9, 10, and 11, first, an appropriate surface treatment is performed on the inner surface of the outlet-side furnace body member 2 and the like to oxidize various metals naturally formed on the stainless steel surface. Remove film and passivation film. Next, barrier films 8a, 9, 10, and 11 are formed on each member using TiN. In the present embodiment, a TiN barrier film 8a, 9.1 having a thickness of about 2 μm is formed by an ion plating method.
0.11 are formed.
【００３１】前記バリヤー皮膜８ａ・９・１０・１１の
材質としてはＴｉＮの外にＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＴｉＡｌ
Ｎ等を使用することが可能である。非触媒性であり、し
かも耐還元性及び酸化性に優れているからである。ま
た、バリヤー皮膜８ａ・９・１０・１１の厚さは前述の
通り０．１μｍ〜５μｍ程度が適当である。何故なら、
厚さが０．１μｍ以下であると、バリヤー機能が十分に
発揮されず、また逆に、厚さが５μｍを越えるとバリヤ
ー皮膜そのものの形成に手数がかかるうえ、加熱時の膨
張差等が原因となってバリヤー皮膜の剥離等を生ずる虞
れがあるからである。更に、バリヤー皮膜の形成方法と
しては、前記イオンプレーティング工法以外に、イオン
スパッタリング法や真空蒸着法等のＰＶＤ法や化学蒸着
法（ＣＶＤ法）、ホットプレス法、溶射法等を用いるこ
とも可能である。The barrier coatings 8a, 9, 10 and 11 may be made of TiC, TiCN, TiAl in addition to TiN.
N or the like can be used. This is because it is non-catalytic and has excellent resistance to reduction and oxidation. Further, the thickness of the barrier films 8a, 9, 10, and 11 is suitably about 0.1 μm to 5 μm as described above. Because,
If the thickness is less than 0.1 μm, the barrier function will not be sufficiently exhibited. This may cause the barrier film to peel off or the like. Furthermore, in addition to the above-mentioned ion plating method, a PVD method such as an ion sputtering method and a vacuum evaporation method, a chemical vapor deposition method (CVD method), a hot press method, a thermal spraying method, and the like can be used as a method of forming a barrier film. It is.
【００３２】前記出口側炉本体部材２の方は、バリヤー
皮膜８ａの形成が終わると、引き続きその上に白金コー
ティング皮膜８ｂを形成する。本実施態様に於いては、
イオンプレーティング工法により厚さ約１μｍの白金コ
ーティング皮膜８ｂを形成している。前記白金コーティ
ング皮膜８ｂの厚さは０．１μｍ〜３μｍ程度が適当で
ある。何故なら、厚さが０．１μｍ以下の場合には、長
期に亘って触媒活性を発揮することが困難となり、また
逆に、厚さが３μｍ以上になると、白金コーティング皮
膜８ｂの形成費が高騰するうえ、３μｍ以上の厚さにし
ても触媒活性度やその保持期間にほとんど差がなく、し
かも加熱時に膨張差等によって剥離を生ずる虞れがある
からである。また、白金コーティング皮膜８ｂの形成方
法は、イオンプレーティング工法以外にイオンスパッタ
リング法、真空蒸着法、化学蒸着法、ホットプレス法等
が使用可能であり、更に、バリヤー皮膜８ａがＴｉＮ等
の導電性のある物質の時にはメッキ法も使用可能であ
る。After the formation of the barrier film 8a, the exit side furnace body member 2 continuously forms a platinum coating film 8b thereon. In this embodiment,
A platinum coating film 8b having a thickness of about 1 μm is formed by an ion plating method. The thickness of the platinum coating film 8b is suitably about 0.1 μm to 3 μm. If the thickness is 0.1 μm or less, it is difficult to exhibit the catalytic activity for a long time, and if the thickness is 3 μm or more, the formation cost of the platinum coating film 8b rises. In addition, even if the thickness is 3 μm or more, there is almost no difference in the catalyst activity and its retention period, and there is a possibility that peeling may occur due to a difference in expansion during heating. As the method of forming the platinum coating film 8b, an ion sputtering method, a vacuum evaporation method, a chemical vapor deposition method, a hot press method, etc. can be used in addition to the ion plating method. A plating method can also be used for a substance having a problem.
【００３３】上記図１乃至図３に示した本発明の第１実
施形態に於いて、入口側炉本体部材１の内表面や入口側
反射体５の外表面、出口側反射体１２の外表面に夫々バ
リヤー皮膜９・１０・１１を形成するのは、前述の通
り、各部材１・５・１２の金属外表面が触媒作用の機能
を果さないようにするためである。このよううな観点か
らすれば、入口側炉本体部材１、入口側反射体５及び出
口側反射体１２等を非触媒性で且つ耐還元性を有する材
質で形成するようにしてもよい。In the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 to 3, the inner surface of the inlet-side furnace body member 1, the outer surface of the inlet-side reflector 5, and the outer surface of the outlet-side reflector 12 are shown. The reason why the barrier coatings 9, 10 and 11 are respectively formed as described above is to prevent the metal outer surfaces of the members 1, 5 and 12 from functioning as catalysts. From such a viewpoint, the inlet-side furnace main body member 1, the inlet-side reflector 5, the outlet-side reflector 12, and the like may be formed of a non-catalytic and reduction-resistant material.
【００３４】次に、本発明の第２実施形態に係る水分発
生用反応炉を説明する。当該第２実施形態に於いては、
図１に示した第１実施形態における入口側炉本体１と両
反射体５・１２を形成する素材に、例えば鉄−クロム−
アルミ合金やアルミ合金等のＨ2 やＯ2 に対して所謂触
媒活性を有しない材質の素材が使用されている。従っ
て、白金コーティング触媒層８を設けた部分以外では、
Ｈ2 やＯ2が水分の発生中に活性化されることは無く、
Ｏ2 とＨ2 の反応による局部的な温度上昇も起らない。Next, a description will be given of a reactor for generating water according to a second embodiment of the present invention. In the second embodiment,
The material forming the inlet-side furnace main body 1 and the two reflectors 5 and 12 in the first embodiment shown in FIG.
A material having no so-called catalytic activity for H 2 and O 2 , such as an aluminum alloy or an aluminum alloy, is used. Therefore, except for the portion where the platinum coating catalyst layer 8 is provided,
H 2 and O 2 are not activated during the generation of moisture,
There is no local temperature rise due to the reaction between O 2 and H 2 .
【００３５】尚、当該第２実施形態の一例として、入口
側及び出口側反射体５・１２は、厚さ約２ｍｍの鉄−ク
ロム−アルミ合金を用いて円形に形成されている。ま
た、入口側反射体５及び出口側反射体１２は、入口側炉
本体部材１のガス供給口１ａ及び出口側炉本体部材２の
水分ガス取出口２ａを中心としてこれに対向状に配置さ
れ、約１ｍｍの隙間Ｌを保持した状態で取付ボルト１３
・１４により、各炉本体部材１・２の内側面へ固定され
ている。As an example of the second embodiment, the entrance-side and exit-side reflectors 5 and 12 are formed in a circular shape using an iron-chromium-aluminum alloy having a thickness of about 2 mm. The inlet-side reflector 5 and the outlet-side reflector 12 are arranged to face the gas supply port 1a of the inlet-side furnace main body member 1 and the moisture gas outlet 2a of the outlet-side furnace main body member 2, and While maintaining the gap L of about 1 mm, the mounting bolt 13
By 14 it is fixed to the inner surface of each furnace body member 1, 2.
【００３６】入口側炉本体部材１や両反射体５・１２、
にステンレス鋼やニッケル合金鋼、ニッケル鋼以外の金
属表面の触媒活性を有しない金属（例えば鉄−クロム−
アルミ合金）を使用した場合には、これ等の外表面に内
部ガスや内部金属組成材の外部への放出を防止するため
の適宜の表面処理を施す方が望ましい。また、前記表面
処理としては、例えば図１の第１実施形態に於いて使用
したＴｉＮ等の非触媒性であり且つ耐食性、耐還元性及
び耐酸化性に優れたバリヤー皮膜を形成するようにして
もよい。The inlet-side furnace body member 1 and the two reflectors 5 and 12,
Metals having no catalytic activity on metal surfaces other than stainless steel, nickel alloy steel, and nickel steel (eg, iron-chromium-
When an aluminum alloy is used, it is preferable to apply an appropriate surface treatment to these outer surfaces to prevent the internal gas and the internal metal composition material from being released to the outside. Further, the surface treatment is performed, for example, by forming a non-catalytic barrier film such as TiN used in the first embodiment of FIG. 1 and having excellent corrosion resistance, reduction resistance, and oxidation resistance. Is also good.
【００３７】図４は本発明の第３実施形態に係る水分発
生用反応炉の縦断面図を示すものである。当該第２実施
態様に於いては、反応炉本体Ａの内部空間Ｖ内に厚板状
の１枚の反射体１７が、ボルト１３・１４によって出口
側炉本体部材２側に固定されており、１枚の反射体１７
を用いた点を除いて、その他の構成は図１に示した第１
実施態様の場合とほぼ同一である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a reactor for generating moisture according to a third embodiment of the present invention. In the second embodiment, one thick plate-shaped reflector 17 is fixed to the outlet side furnace body member 2 side by bolts 13 and 14 in the internal space V of the reactor body A, One reflector 17
Except for using, the other configuration is the first configuration shown in FIG.
It is almost the same as that of the embodiment.
【００３８】当該図４に於いて、１８はシース型温度計
の取付用孔であり、入口側炉本体部材１内へシース型温
度計（図示省略）が挿入されている。また、図４に於い
て８は白金コーティング触媒層であり、出口側炉本体部
材２の内壁面に形成されている。更に、入口側炉本体部
材１及び反射体１７等の外表面には、ＴｉＮ等のバリヤ
ー皮膜９・１９が形成されている。尚、図４では、入口
側炉本体部材１の内壁面をＴｉＮ等のバリヤー皮膜９で
コーティングしているが、その上に白金コーティング皮
膜８ｂを形成して、白金コーティング触媒層８にするこ
とも可能である。In FIG. 4, reference numeral 18 denotes a mounting hole for a sheath-type thermometer, and a sheath-type thermometer (not shown) is inserted into the inlet-side furnace body member 1. In FIG. 4, reference numeral 8 denotes a platinum-coated catalyst layer, which is formed on the inner wall surface of the outlet-side furnace main body member 2. Further, barrier films 9 and 19 made of TiN or the like are formed on the outer surfaces of the inlet-side furnace main body member 1 and the reflector 17 and the like. In FIG. 4, the inner wall surface of the inlet-side furnace main body member 1 is coated with a barrier film 9 such as TiN. However, a platinum coating film 8 b may be formed thereon to form the platinum coating catalyst layer 8. It is possible.
【００３９】前記反射体１７は比較的厚さの大きな材料
でもって、内部空間Ｖの内径より僅かに小さな外形を有
する円盤形に形成されており、その外周端部の出口側炉
本体部材２の内壁面に対向する側面は、角度αのテーパ
ー面に形成されている。尚、図４に於いては炉本体部材
１・２及び反射体１７をステンレス鋼により形成し、入
口側炉本体部材１の内壁面と反射体１７の外表面にバリ
ヤー皮膜９・１９を形成するようにしているが、入口側
炉本体部材１及び反射体１７を非触媒性で耐還元性の素
材でもって形成してもよいことは、前記第２実施形態の
場合と同じである。The reflector 17 is made of a material having a relatively large thickness and is formed in a disk shape having an outer shape slightly smaller than the inner diameter of the internal space V. The side surface facing the inner wall surface is formed as a tapered surface having an angle α. In FIG. 4, the furnace body members 1 and 2 and the reflector 17 are formed of stainless steel, and barrier coatings 9 and 19 are formed on the inner wall surface of the inlet side furnace body member 1 and the outer surface of the reflector 17. However, as in the second embodiment, the inlet-side furnace body member 1 and the reflector 17 may be formed of a non-catalytic and reduction-resistant material.
【００４０】当該第３実施形態の発応炉本体Ａでは、Ｈ
2 ガスへの着火や逆火を完全に防止することができるだ
けでなく、反射体１７の熱容量が大きくなることによ
り、白金コーティング触媒層８の中央部分の過度な温度
上昇をより有効に防止することができるうえ、反応炉本
体Ａの内部空間の容積（即ち、デッドゾーン）の減少を
図ることができ好都合である。In the furnace body A of the third embodiment, H
(2) It is possible not only to completely prevent ignition or flashback to the gas, but also to prevent the temperature rise of the central portion of the platinum coating catalyst layer 8 more effectively by increasing the heat capacity of the reflector 17. In addition, the volume of the internal space of the reactor main body A (that is, the dead zone) can be reduced, which is convenient.
【００４１】[0041]
【実施例１】図１の第１実施形態に於いて、反応炉本体
Ａの外径１１４ｍｍφ、厚さ３４ｍｍφ、内部空間Ｖの
厚さ１４ｍｍ、内部空間Ｖの内径１０８ｍｍφ、入口側
反射体５及び出口側反射体１２の外径８０ｍｍφ、厚さ
２ｍｍ、隙間Ｌの大きさ１ｍｍ、テーパ面の長さ１０ｍ
ｍ、白金コーティング触媒層８（ＴｉＮバリヤー皮膜５
μｍ＋ｐｔコーティング皮膜０．３μｍ）、入口側炉本
体部材１及び両反射体５・１２のバリヤー皮膜９・１９
をＴｉＮ（５μｍ）と夫々した。Ｈ2 ２０％リッチの混
合ガスＧを原料とし、且つシース型温度計（図示省略）
の温度（合計４ケ所）が４５０℃〜５００℃の条件下で
１００時間以上の連続水分発生（水分発生量１０００ｓ
ｃｃｍ）を行ったが、Ｈ2 ガスへの着火や逆火は及び白
金コーティング触媒層８の剥離等は皆無であった。Example 1 In the first embodiment shown in FIG. 1, the outer diameter of the reactor main body A was 114 mmφ, the thickness was 34 mmφ, the thickness of the inner space V was 14 mm, the inner diameter of the inner space V was 108 mmφ, and the inlet-side reflector 5 and Outer diameter of outlet reflector 12 is 80 mmφ, thickness is 2 mm, gap L is 1 mm, length of tapered surface is 10 m
m, platinum coated catalyst layer 8 (TiN barrier film 5
μm + pt coating film 0.3 μm), barrier films 9 and 19 on the inlet side furnace body member 1 and both reflectors 5 and 12
And TiN (5 μm). H 2 20% rich mixed gas G as raw material and sheath type thermometer (not shown)
At a temperature of 450 ° C. to 500 ° C. for 100 hours or more (moisture generation 1000 s)
ccm), but there was no ignition or flashback to the H 2 gas and no separation of the platinum-coated catalyst layer 8.
【００４２】[0042]
【実施例２】図４の第３実施形態に於いて反応炉本体Ａ
の外径１１４ｍｍφ、厚さ３０ｍｍ、内部空間Ｖの厚さ
１０ｍｍ、内部空間Ｖの内径１０８ｍｍφ、反射体１７
の厚さ６ｍｍ、外径１０２ｍｍφ、出口側炉本体部材２
との隙間Ｌ１ｍｍ、入口側炉本体部材１との間隔３ｍ
ｍ、テーパー面の長さ約２１ｍｍ（テーパー角α＝８
°）、白金コーティング触媒層８（ＴｉＮバリヤー皮膜
８ａ５μｍ＋ｐｔコーティング皮膜８ｂ０．３μｍ）、
入口側炉本体部材１の内壁面及び反射体１７の外表面の
バリヤー皮膜９・１９をＴｉＮ（５μｍ）と夫々した。
前記実施例１の場合とほぼ同一条件下で連続水分発生試
験を行ったが、Ｈ2 ガスへの着火や逆火、白金コーティ
ング触媒層８の剥離等は第１実施例の場合と同様に皆無
であった。Embodiment 2 In the third embodiment shown in FIG.
Outer diameter 114 mm, thickness 30 mm, inner space V thickness 10 mm, inner space V inner diameter 108 mmφ, reflector 17
6 mm in thickness, 102 mm in outer diameter, outlet side furnace body member 2
L1mm with the gap, 3m with the inlet side furnace body member 1
m, length of tapered surface about 21 mm (taper angle α = 8
°), platinum-coated catalyst layer 8 (TiN barrier film 8a5 μm + pt coating film 8b0.3 μm),
The barrier films 9 and 19 on the inner wall surface of the inlet-side furnace main body member 1 and the outer surface of the reflector 17 were each made of TiN (5 μm).
A continuous moisture generation test was performed under substantially the same conditions as in the first embodiment, but there was no ignition or flashback to the H 2 gas, peeling of the platinum-coated catalyst layer 8 or the like as in the first embodiment. Met.
【００４３】[0043]
【発明の効果】請求項１の発明に於いては、反応炉本体
の内部空間内の白金コーティング触媒層を形成した以外
の部分を、非触媒性で且つ耐還元性、耐酸化性に優れた
バリヤー皮膜で覆う構成としているため、水分発生炉の
運転中に触媒作用を有する生の金属表面が露出すること
がない。その結果、Ｈ2 濃度の高い混合ガスを用いて、
長期に亘って水分発生を行なっても、前記白金コーティ
ング触媒層以外の部分の金属表面の触媒作用によってＯ
2 とＨ2 が局部的に激しく反応することが皆無となり、
これによって従前のようなＨ2 への着火や逆火の発生が
より完全に防止される。According to the first aspect of the present invention, the portion other than the portion where the platinum-coated catalyst layer is formed in the internal space of the reactor main body is made non-catalytic and excellent in reduction resistance and oxidation resistance. Since the structure is covered with the barrier film, a raw metal surface having a catalytic action is not exposed during operation of the moisture generating furnace. As a result, using a mixed gas having a high H 2 concentration,
Even if moisture is generated for a long period of time, O 2 is generated by the catalytic action of the metal surface other than the platinum coating catalyst layer.
2 and H 2 never react violently locally,
As a result, the occurrence of ignition or flashback of H 2 as in the past can be more completely prevented.
【００４４】また、反応炉本体Ａの内部空間内には二枚
の反射体のみを配設し、従前の如き金属フィルターを除
く構成としているため、前記入口側及び出口側の反射体
の外径及び厚みを比較的大きくすることができる。その
結果、触媒中心部の温度上昇を有効に防止することがで
き、白金コーティング触媒層の局部的な剥離を皆無にす
ることができる。Further, since only two reflectors are provided in the internal space of the reactor main body A and the conventional metal filter is removed, the outer diameters of the inlet and outlet reflectors are reduced. And the thickness can be made relatively large. As a result, it is possible to effectively prevent a rise in the temperature of the central portion of the catalyst, and it is possible to eliminate local peeling of the platinum-coated catalyst layer.
【００４５】更に、請求項４の発明に於いては、反応炉
本体を形成する部材のうち、白金コーティング触媒層を
設けた部材以外のものを、非触媒性で且つ耐還元性及び
耐酸化性に優れた材質の素材でもって形成するようにし
ているため、白金コーティング触媒層以外の部分の金属
表面の触媒作用が起因となってＨ2 への着火や逆火が発
生することが皆無となり、水分発生用反応炉の安全性が
大幅に向上する。Further, in the invention according to claim 4, among the members forming the reactor main body, those other than the member provided with the platinum-coated catalyst layer are made non-catalytic and resistant to reduction and oxidation. Since it is made of a material excellent in quality, there is no ignition or flashback of H 2 due to the catalytic action of the metal surface other than the platinum coating catalyst layer, The safety of the reactor for generating moisture is greatly improved.
【００４６】加えて、請求項６の発明に於いては、反応
炉本体Ａの内部空間内に、外径が内部空間の内径より僅
かに小さく、且つ厚みの比較的大きな一枚の反射体のみ
を配設するようにしているため、第１実施形態や第２実
施形態の場合と同様にＨ2 ガスへの着火や逆火が防止で
きるだけでなく、反射体の熱容量が大きくなることによ
り、白金コーティング触媒層の中心部分の温度上昇を有
効に防止することができる。また、反応炉本体Ａの内部
空間のデッドスペースをより少なくでき、反応炉のガス
置換性が容易となるので希釈ガスを用いた少流量の水分
発生が可能となると共に、反応炉本体Ａの一層の小形化
が可能となる。本発明は上述の通り優れた実用的効用を
奏するものである。In addition, according to the invention of claim 6, only one reflector having an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the inner space and having a relatively large thickness is provided in the inner space of the reactor main body A. Is provided, not only can the ignition and flashback to the H 2 gas be prevented as in the first and second embodiments, but also the heat capacity of the reflector increases, and It is possible to effectively prevent a temperature rise in the central portion of the coating catalyst layer. In addition, the dead space in the internal space of the reactor main body A can be further reduced, and the gas exchangeability of the reactor is facilitated. Can be downsized. The present invention has excellent practical utility as described above.
【図１】本発明の第１実施形態に係る水分発生用反応炉
本体の縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a main body of a reactor for water generation according to a first embodiment of the present invention.
【図２】白金コーティング皮膜の形成状態を示す部分縦
断面図である。FIG. 2 is a partial longitudinal sectional view showing a state of formation of a platinum coating film.
【図３】バリヤー皮膜の形成状態を示す部分縦断面図で
ある。FIG. 3 is a partial longitudinal sectional view showing a state of formation of a barrier film.
【図４】本発明の第３実施形態に係る水分発生用反応炉
本体の縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a main body of a reactor for generating moisture according to a third embodiment of the present invention.
【図５】従前の水分発生用反応炉本体の縦断面図であ
る。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a conventional water generating reactor main body.
【図６】図５の白金コーティング皮膜層の形成状態を示
す縦断面図である。6 is a longitudinal sectional view showing a state of formation of the platinum coating film layer of FIG.
Ａは反応炉本体、Ｈ2 は水素ガス、Ｏ2 は酸素ガス、Ｇ
は混合ガス、Ｌは隙間、Ｖは内部空間、αは反射体外周
縁部のテーパー角、１は入口側炉本体部材、１ａはガス
供給口、１ｂは接続用金具、２は出口側炉本体部材、２
ａは水分ガス取出口、２ｂは接続用金具、５は入口側反
射体、１２は出口側反射体、８は白金コーティング触媒
層、８ａはバリヤー皮膜、８ｂは白金コーティング皮
膜、９は入口側炉本体部材内壁面のバリヤー皮膜、１０
は入口側反射体外表面のバリヤー皮膜、１１は出口側反
射体外表面のバリヤー皮膜、１３・１４は固定ボルト、
１５は溶接部、１６は取付用ボルト孔、１７は反射体、
１８はシース型温度計の取付孔、１９は反射体外表面の
バリヤー皮膜。A is the reactor body, H 2 is hydrogen gas, O 2 is oxygen gas, G
Is a mixed gas, L is a gap, V is an internal space, α is a taper angle of the outer peripheral edge of the reflector, 1 is an inlet-side furnace main body member, 1a is a gas supply port, 1b is a connection fitting, 2 is an outlet-side furnace main body member. , 2
a is a moisture gas outlet, 2b is a fitting for connection, 5 is an inlet side reflector, 12 is an outlet side reflector, 8 is a platinum coating catalyst layer, 8a is a barrier film, 8b is a platinum coating film, and 9 is an inlet furnace. Barrier film on inner wall surface of main body member, 10
Is a barrier film on the outer surface of the inlet-side reflector, 11 is a barrier film on the outer surface of the outlet-side reflector, 13 and 14 are fixing bolts,
15 is a welded portion, 16 is a mounting bolt hole, 17 is a reflector,
Reference numeral 18 denotes a mounting hole of the sheath type thermometer, and 19 denotes a barrier film on the outer surface of the reflector.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 信一 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 川田 幸司 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 森本 明弘 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 皆見 幸男 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 マノハル・Ｌ・シュレスタ 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 坪田 憲士 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 本井傳 晃央 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 平井 暢 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 米華 克典 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 Ｆターム(参考） 4G069 AA03 AA15 BA01A BA02A BB11A BB11B BB15A BC16A BC50A BC50B BC58A BC75A BC75B CB81 EB15Y FB02 FB03 FB79 5F045 AA20 AB32 AB37 AB40 AC11 EB02 EB03 EC05 5F058 BC02 BF63 BG01 BG02 BJ01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Shinichi Ikeda 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka, Osaka Prefecture Fujikin Co., Ltd. (72) Koji Kawada 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka, Osaka Fujikinnai Co., Ltd. (72) Inventor Akihiro Morimoto 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka, Osaka Fujikin Co., Ltd. (72) Yukio Minami 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka, Osaka Fujikin Co., Ltd. (72) Inventor Manohar L. Shrestha 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture Fujikin Co., Ltd. (72) Inventor Kenji Tsubota 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Fujikin Co., Ltd. (72) Inventor Akimoto Motoi 2-3-2 Nobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Fujikin Co., Ltd. (72) Akiya Minoru Hirai 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Fujikin Co., Ltd. (72) Inventor Katsunori 2-3-2, Noribori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Fujikin Co., Ltd. F-term (reference) 4G069 AA03 AA15 BA01A BA02A BB11A BB11B BB15A BC16A BC50A BC50B BC58A BC75A BC75B CB81 EB15Y FB02 FB03 FB79 5F045 AA20 AB32 AB37 AB40 AC11 EB02 EB03 EC05 5F058 BC02 BF63 BG01 BG02 B
Claims (10)
と、水分ガス取出口を有する出口側炉本体部材と、前記
入口側炉本体部材と出口側炉本体部材とを対向状に組合
せ溶接して形成した反応炉本体の内部空間内にガス供給
口と対向状に配設した入口側反射体と、前記内部空間内
に水分ガス取出口と対向状に配設した出口側反射体と、
前記出口側炉本体部材の内壁面に形成した白金コーティ
ング触媒層とから形成され、ガス供給口から反応炉本体
の内部空間内へ供給した水素と酸素を前記白金コーティ
ング皮膜に接触させてその反応性を活性化させることに
より、水素と酸素を非燃焼の状態下で反応させて水を発
生させる構成としたことを特徴とする水分発生用反応
炉。1. An inlet-side furnace main body member having a gas supply port, an outlet-side furnace main body member having a moisture gas outlet, and the inlet-side furnace main body member and the outlet-side furnace main body member are combined and welded to face each other. An inlet-side reflector disposed opposite to the gas supply port in the internal space of the reactor main body formed as described above, and an outlet-side reflector disposed opposite to the moisture gas outlet in the internal space.
The platinum-coated catalyst layer formed on the inner wall surface of the outlet-side furnace main body member, and hydrogen and oxygen supplied from the gas supply port into the internal space of the reactor main body are brought into contact with the platinum coating film to react with the platinum coating film. A reactor for generating moisture, characterized in that hydrogen is activated in a non-combustion state to generate water by activating hydrogen.
の内壁面に底面が平面状の窪部を形成すると共に、前記
入口側反射体及び出口側反射体の外周端縁部の炉本体部
材の底面と対向する側にテーパー部を形成し、入口側反
射体及び出口側反射体を入口側炉本体部材及び出口側炉
本体部材へ夫々の底面と隙間を保持した状態で固定する
ようにした請求項１に記載の水分発生用反応炉。2. An inner wall surface of an inlet-side furnace body member and an outlet-side furnace body member, the bottom surface of which is formed with a flat recess, and a furnace body at an outer peripheral edge of the inlet-side reflector and the outlet-side reflector. A taper portion is formed on the side facing the bottom surface of the member, and the inlet-side reflector and the outlet-side reflector are fixed to the inlet-side furnace body member and the outlet-side furnace body member while maintaining the respective bottom surfaces and gaps. The reactor for generating moisture according to claim 1.
出口側反射体とを非触媒性の材質から形成するようにし
た請求項１又は請求項２に記載の水分発生用反応炉。3. The reactor for generating moisture according to claim 1, wherein the inlet-side furnace main body member, the inlet-side reflector, and the outlet-side reflector are formed of a non-catalytic material.
ング触媒層を設けた部分を除くその他の部分に、非触媒
性のバリヤー皮膜を形成するようにした請求項１、請求
項２又は請求項３に記載の水分発生用反応炉。4. A non-catalytic barrier film is formed on a part other than a part provided with a platinum-coated catalyst layer in an inner space of a reactor main body. 4. The reactor for generating moisture according to 3.
Ｎ、ＴｉＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、
ＣｒＮの中の何れかから成るバリヤー皮膜とした請求項
４に記載の水分発生用反応炉。5. The method according to claim 1, wherein the barrier film is made of TiN, TiC, TiC.
N, TiAlN, Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , SiO 2 ,
The reactor for generating moisture according to claim 4, wherein the barrier coating is made of any one of CrN.
と、水分ガス取出口を有する出口側炉本体部材と、前記
入口側炉本体部材と出口側炉本体部材とを対向状に組合
せ溶接して形成した反応炉本体の内部空間内にガス供給
口と対向状に配設した反射体と、前記出口側炉本体部材
の内壁面に形成した白金コーティング触媒層とから形成
され、ガス供給口から反応炉本体の内部空間内へ供給し
た水素と酸素を前記白金コーティング皮膜に接触させて
その反応性を活性化させることにより、水素と酸素を非
燃焼の状態下で反応させて水を発生させる構成としたこ
とを特徴とする水分発生用反応炉。6. An inlet-side furnace main body member having a gas supply port, an outlet-side furnace main body member having a water / gas outlet, and the inlet-side furnace main body member and the outlet-side furnace main body member are combined and welded in an opposed manner. A reflector provided in the interior space of the reactor main body and formed opposite to the gas supply port, and a platinum-coated catalyst layer formed on the inner wall surface of the outlet-side furnace main body member. A configuration in which hydrogen and oxygen supplied into the internal space of the reactor main body are brought into contact with the platinum coating film to activate the reactivity, thereby reacting hydrogen and oxygen in a non-combustion state to generate water. A reaction furnace for generating moisture.
の内壁面に底面が平面状の窪部を形成し、また、前記反
射体の外径を窪部の内径より僅かに小さくすると共に、
反射体の外周端縁部の出口側炉本体部材の底面と対向す
る側にテーパー部を形成し、更に、反射体を出口側炉本
体部材へその底面と隙間を保持した状態で固定するよう
にした請求項６に記載の水分発生用反応炉。7. An inner wall surface of the inlet-side furnace body member and the outlet-side furnace body member has a recess having a flat bottom surface, and an outer diameter of the reflector is made slightly smaller than an inner diameter of the recess. ,
A taper portion is formed on the outer peripheral edge of the reflector on the side facing the bottom surface of the outlet furnace body member, and further, the reflector is fixed to the outlet furnace body member while holding the bottom surface and the gap. The reactor for generating moisture according to claim 6.
媒性の材質から形成するようにした請求項６又は請求項
７に記載の水分発生用反応炉。8. The reactor for generating moisture according to claim 6, wherein the inlet-side furnace main body member and the reflector are formed of a non-catalytic material.
ング触媒層を設けた部分を除くその他の部分に、非触媒
性のバリヤー皮膜を形成するようにした請求項６、請求
項７又は請求項８に記載の水分発生用反応炉。9. A non-catalytic barrier film is formed on the other part of the inner space of the reactor main body except for the part provided with the platinum-coated catalyst layer. 9. The reactor for generating moisture according to item 8.
ＣＮ、ＴｉＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃｒ2 Ｏ3 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＣｒＮの中の何れかから成るバリヤー皮膜薄膜と
した請求項８又は請求項９に記載の水分発生用反応炉。10. The method according to claim 10, wherein the barrier film is made of TiN, TiC, Ti.
CN, TiAlN, Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Si
O 2, water generating reactor according to claim 8 or claim 9 and a barrier coating film consisting either in the CrN.
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Cited By (8)
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| JP2000208506A (en) * | 1999-01-15 | 2000-07-28 | Lsi Logic Corp | Framefree wet oxidation |
| WO2001094254A1 (en) * | 2000-06-05 | 2001-12-13 | Fujikin Incorporated | Reactor for moisture generation |
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| WO2010122798A1 (en) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | 国立大学法人東北大学 | Reaction furnace for moisture generation |
| JP2012036027A (en) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Tohoku Univ | Reaction furnace for moisture generation |
| JP2022043155A (en) * | 2019-09-19 | 2022-03-15 | 株式会社ハイドロネクスト | Hydrogen permeation device |
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1998
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Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000208506A (en) * | 1999-01-15 | 2000-07-28 | Lsi Logic Corp | Framefree wet oxidation |
| US7258845B2 (en) | 1999-08-06 | 2007-08-21 | Fujikin Incorporated | Apparatus and reactor for generating and feeding high purity moisture |
| US7368092B2 (en) | 1999-08-06 | 2008-05-06 | Fujikin Incorporated | Apparatus and reactor for generating and feeding high purity moisture |
| US7553459B2 (en) | 1999-08-06 | 2009-06-30 | Fujikin Incorporated | Apparatus and reactor for generating and feeding high purity moisture |
| WO2001094254A1 (en) * | 2000-06-05 | 2001-12-13 | Fujikin Incorporated | Reactor for moisture generation |
| US7595087B2 (en) | 2002-10-16 | 2009-09-29 | Fujikin Incorporated | Process of forming platinum coating catalyst layer in moisture-generating reactor |
| WO2010122798A1 (en) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | 国立大学法人東北大学 | Reaction furnace for moisture generation |
| JP2010254525A (en) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Tohoku Univ | Reaction furnace for moisture generation |
| KR101366027B1 (en) * | 2009-04-24 | 2014-02-21 | 가부시키가이샤 후지킨 | Reaction furnace for moisture generation |
| JP2012036027A (en) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Tohoku Univ | Reaction furnace for moisture generation |
| JP2022043155A (en) * | 2019-09-19 | 2022-03-15 | 株式会社ハイドロネクスト | Hydrogen permeation device |
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