JP2000162625A - Color reflection type liquid crystal display device and its production - Google Patents

Color reflection type liquid crystal display device and its production

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JP2000162625A
JP2000162625A JP10335873A JP33587398A JP2000162625A JP 2000162625 A JP2000162625 A JP 2000162625A JP 10335873 A JP10335873 A JP 10335873A JP 33587398 A JP33587398 A JP 33587398A JP 2000162625 A JP2000162625 A JP 2000162625A
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JP
Japan
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liquid crystal
electrode
light
reflective display
diffusion layer
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JP10335873A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuto Noritake
和人 則武
Shinji Ogawa
真司 小川
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color reflection type liquid crystal display device, which does not produce misalignment of colors due to color shift and display pixels of the color filters, when the substrates are bonded, and to provide its producing method. SOLUTION: Each dye layers 20R, 20G 20B of color filters is formed on respective reflection display electrode 19 on a TFT substrate 10. Then a light- diffusing layer 22 is formed thereon, and a transparent electrode 23 having the same refractive index as that of the light-diffusing layer 22 is formed. The reflection display electrodes 19 are connected with transparent electrodes 23 through contact holes, formed in the color filters 20 and the light-diffusing layer 22.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、色素層及び光拡散
層を備えたカラー反射型液晶表示装置及びその製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color reflection type liquid crystal display device having a dye layer and a light diffusion layer, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、観察方向から入射した光を反
射させて表示を見るいわゆる反射型液晶表示装置が提案
されている。
2. Description of the Related Art Heretofore, there has been proposed a so-called reflection type liquid crystal display device for displaying a display by reflecting light incident from an observation direction.

【0003】図3に、従来の反射型液晶表示装置の断面
図を示す。
FIG. 3 is a sectional view of a conventional reflection type liquid crystal display device.

【0004】同図に示すように、従来の反射型液晶表示
装置は、石英ガラス、無アルカリガラス等からなるTF
T10上に、スイッチング素子である薄膜トランジスタ
(以下、「TFT」と称する。)を形成する。以下、こ
のTFTを形成したTFT10をTFT基板と称する。
As shown in FIG. 1, a conventional reflection type liquid crystal display device has a TF made of quartz glass, non-alkali glass or the like.
A thin film transistor (hereinafter, referred to as “TFT”) as a switching element is formed over T10. Hereinafter, the TFT 10 on which the TFT is formed is referred to as a TFT substrate.

【0005】まず、TFT基板10上に、クロム(C
r)、モリブデン(Mo)などの高融点金属からなるゲ
ート電極11、ゲート絶縁膜12、及び多結晶シリコン
膜からなる能動層13を順に形成する。
First, chrome (C) is formed on a TFT substrate 10.
r), a gate electrode 11 made of a refractory metal such as molybdenum (Mo), a gate insulating film 12, and an active layer 13 made of a polycrystalline silicon film are sequentially formed.

【0006】その能動層13には、ゲート電極11上方
のチャネル13cと、このチャネル13cの両側に、チ
ャネル13c上のストッパ絶縁膜14をマスクにしてイ
オン注入されて形成されるソース13s及びドレイン1
3dが設けられている。
The active layer 13 has a channel 13c above the gate electrode 11, and a source 13s and a drain 1 formed on both sides of the channel 13c by ion implantation using the stopper insulating film 14 on the channel 13c as a mask.
3d is provided.

【0007】そして、ゲート絶縁膜12、能動層13及
びストッパ絶縁膜14上の全面に、SiO2膜、SiN
膜及びSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜15を形
成し、ドレイン13dに対応して設けたコンタクトホー
ルにアルミニウム(Al)等の金属を充填してドレイン
電極16を形成する。更に全面に例えば有機樹脂から成
り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17を形成する。そし
て、その平坦化絶縁膜17のソース13sに対応した位
置にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホール
を介してソース13sとコンタクトしたアルミニウム
(Al)から成りソース電極18を兼ねた反射電極であ
る反射表示電極19を平坦化絶縁膜17上に形成する。
そしてその反射表示電極19上にポリイミド等の有機樹
脂からなり液晶21を配向させる配向膜20を形成す
る。
Then, an SiO 2 film, a SiN film, and the like are formed on the entire surface of the gate insulating film 12, the active layer 13, and the stopper insulating film 14.
An interlayer insulating film 15 is formed by laminating a film and an SiO 2 film in this order, and a contact hole provided corresponding to the drain 13 d is filled with a metal such as aluminum (Al) to form a drain electrode 16. Further, a flattening insulating film 17 made of, for example, an organic resin and flattening the surface is formed on the entire surface. Then, a contact hole is formed at a position corresponding to the source 13 s of the planarization insulating film 17, and a reflection electrode which is made of aluminum (Al) contacted with the source 13 s via the contact hole and also serves as the source electrode 18. The display electrode 19 is formed on the flattening insulating film 17.
Then, an alignment film 20 made of an organic resin such as polyimide for aligning the liquid crystal 21 is formed on the reflective display electrode 19.

【0008】また、TFT基板10に対向し、石英ガラ
ス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基板である対向
電極基板30には、TFT基板10側に、赤(R)、緑
(G)、青(B)の各色及び遮光機能を有するブラック
マトリックス32を備えたカラーフィルタ31、その上
に形成された樹脂から成りカラーフィルタ31を保護す
る保護膜33、その保護膜33の全面に形成された光拡
散層34、対向電極35及び配向膜36を備えており、
またその反対側の面には位相差板44及び偏光板45が
配置されている。そして、対向電極基板30とTFT基
板10の周辺をシール接着材(図示せず)により接着
し、形成された空隙にツイスティッドネマティック(T
N)液晶21を挟持する。
A counter electrode substrate 30, which is an insulating substrate made of quartz glass, non-alkali glass, or the like, which faces the TFT substrate 10, has red (R), green (G), and blue on the TFT substrate 10 side. (B) A color filter 31 including a black matrix 32 having each color and a light shielding function, a protective film 33 made of resin formed thereon to protect the color filter 31, and light formed on the entire surface of the protective film 33. A diffusion layer 34, a counter electrode 35, and an alignment film 36;
A retardation plate 44 and a polarizing plate 45 are disposed on the opposite surface. Then, the periphery of the counter electrode substrate 30 and the periphery of the TFT substrate 10 are adhered by a seal adhesive (not shown), and a twisted nematic (T
N) The liquid crystal 21 is sandwiched.

【0009】外部から入射される自然光100は、実線
矢印で示すように、観察者101側の偏光板45から入
射し、位相差板44、対向電極基板30、カラーフィル
タ31、保護膜33、光拡散層34に到達し、その光が
この光拡散層34にて拡散され、その拡散された光は対
向電極35、配向膜36、TN液晶21、TFT基板1
0上の配向膜20を透過し、反射表示電極19にて反射
され、その後、入射と逆の方向に各層を透過して対向電
極基板30上の偏光板45から出射し観察者の目101
に入る。
As shown by the solid arrows, natural light 100 entering from the outside enters from the polarizing plate 45 on the observer 101 side, and the phase difference plate 44, the counter electrode substrate 30, the color filter 31, the protective film 33, and the light The light reaches the diffusion layer 34, and the light is diffused by the light diffusion layer 34, and the diffused light is transmitted to the counter electrode 35, the alignment film 36, the TN liquid crystal 21, and the TFT substrate 1.
0, and is reflected by the reflective display electrode 19, then passes through each layer in the direction opposite to the incident direction, exits from the polarizing plate 45 on the counter electrode substrate 30, and exits from the observer's eye 101.
to go into.

【0010】このように、対向電極基板30の保護膜3
3上に光拡散層34を設けると、入射した光はこの光拡
散層34にて拡散される。そして、その拡散された光
は、多方向に進んで反射表示電極19によって反射され
た後、観察者101の目に到達することになる。
As described above, the protection film 3 of the counter electrode substrate 30 is formed.
When a light diffusion layer 34 is provided on the light diffusion layer 3, incident light is diffused by the light diffusion layer 34. Then, the diffused light travels in multiple directions and is reflected by the reflective display electrode 19 before reaching the eyes of the observer 101.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図3に示す
ように、TFT基板10と対向電極基板30の周辺を接
着性シール材で接着して貼り合わせて反射型液晶表示装
置を作製する際に、対向電極基板30上のカラーフィル
タの各色とTFT基板10上の各表示画素とが位置ずれ
しないようにしなければならない。そのため両基板を貼
り合わせるのに非常に時間を必要とすることになり、ま
た位置ずれによる色にじみが発生するという欠点があっ
た。
However, as shown in FIG. 3, when the periphery of the TFT substrate 10 and the periphery of the counter electrode substrate 30 are adhered to each other with an adhesive sealant and bonded to each other, a reflection type liquid crystal display device is manufactured. In addition, it is necessary to prevent each color of the color filter on the counter electrode substrate 30 from being displaced from each display pixel on the TFT substrate 10. Therefore, it takes a very long time to bond both substrates, and there is a drawback that color blur occurs due to misregistration.

【0012】そこで本発明は、上記の従来の欠点に鑑み
て為されたものであり、両基板を接着する際に精度の良
い位置あわせが不要であり、色にじみがなく均一で明る
い表示を得ることができるカラー反射型液晶表示装置及
びその製造方法を提供することを目的とする。
In view of the above, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional drawbacks, and does not require precise alignment when bonding both substrates, and provides a uniform and bright display without color bleeding. It is an object of the present invention to provide a color reflective liquid crystal display device and a method of manufacturing the same.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のカラー反射型液
晶表示装置は、互いに対向して配置された第1及び第2
の基板間に液晶を挟持しており、前記第1の基板にはス
イッチング素子、該スイッチング素子に接続された反射
表示電極、該反射表示電極上に色素層、光拡散層、及び
前記反射表示電極に接続して成る透明電極を順に積層し
て備え、前記第2の基板には前記反射表示電極に対向し
た対向電極を備えたものである。
According to the present invention, there is provided a color reflection type liquid crystal display device comprising a first and a second liquid crystal display devices which are arranged to face each other.
A liquid crystal is sandwiched between the substrates, and the first substrate has a switching element, a reflective display electrode connected to the switching element, a dye layer, a light diffusion layer on the reflective display electrode, and the reflective display electrode. The second substrate is provided with a counter electrode facing the reflective display electrode on the second substrate.

【0014】また、上述のカラー反射型液晶表示装置の
前記透明電極を構成する材料と前記光拡散層の屈折率が
等しいものである。
In the above-mentioned color reflection type liquid crystal display device, the material constituting the transparent electrode and the light diffusion layer have the same refractive index.

【0015】更に、互いに対向して配置された第1及び
第2の基板間に液晶を挟持したカラー反射型液晶表示装
置の製造方法であって、前記第1の基板上にスイッチン
グ素子を形成する工程と、該スイッチング素子を含む全
面を覆った平坦化絶縁膜を形成する工程と、該平坦化絶
縁膜に設けたコンタクトホールを介して前記スイッチン
グ素子に接続され前記平坦化絶縁膜上に反射表示電極を
形成する工程と、該反射表示電極上に色素層及び光拡散
層を形成する工程と、該光拡散層に設けたコンタクトホ
ールを介して前記反射表示電極と接続された透明電極を
形成する工程と、前記第2の基板上に前記反射表示電極
に対向した対向電極を形成する工程とを備えたものであ
る。
Further, there is provided a method of manufacturing a color reflection type liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between first and second substrates arranged opposite to each other, wherein a switching element is formed on the first substrate. Forming a planarizing insulating film covering the entire surface including the switching element; and connecting the switching element via the contact hole provided in the planarizing insulating film to the switching element, and performing reflection display on the planarizing insulating film. Forming an electrode, forming a dye layer and a light diffusion layer on the reflective display electrode, and forming a transparent electrode connected to the reflective display electrode via a contact hole provided in the light diffusion layer. And a step of forming a counter electrode facing the reflective display electrode on the second substrate.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明のカラー反射型液晶表示装
置について、以下に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A color reflection type liquid crystal display device of the present invention will be described below.

【0017】図1に本発明のカラー反射型液晶表示装置
の断面図を示し、図2にTFT基板側の製造工程の断面
図を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a color reflection type liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a manufacturing process on a TFT substrate side.

【0018】図1に示すように、本実施の形態の場合、
一方のTFT基板10上にCr、Mo等の高融点金属か
らなるゲート電極11の形成から平坦化絶縁膜17の形
成までは前述の構造と同じであるので説明を省略する。
As shown in FIG. 1, in the case of this embodiment,
Since the steps from the formation of the gate electrode 11 made of a high melting point metal such as Cr and Mo to the formation of the planarization insulating film 17 on one TFT substrate 10 are the same as those of the above-described structure, the description is omitted.

【0019】平坦化絶縁膜17上には、多結晶シリコン
膜からなる能動層13のソース13sに接続されたA
l、銀(Ag)等の導電性反射材料からなる反射表示電
極19を形成する。またこの反射表示電極19上には、
赤(R)20R、緑(G)20G、青(B)20Bの各
色及び遮光機能を有するブラックマトリックス20BM
を備えたカラーフィルタを形成する。その上には光を拡
散する光拡散層22を全面に形成する。更にその上には
ITO(Indium Thin Oxide)等の透明導電性材料から
なり、光拡散層22及びカラーフィルタに設けたコンタ
クトホールを介して反射表示電極19にコンタクトして
いる透明電極23を形成する。
On the flattening insulating film 17, A is connected to the source 13s of the active layer 13 made of a polycrystalline silicon film.
1. A reflective display electrode 19 made of a conductive reflective material such as silver (Ag) is formed. Also, on this reflective display electrode 19,
Black matrix 20BM having each color of red (R) 20R, green (G) 20G, and blue (B) 20B and a light shielding function
Is formed. A light diffusion layer 22 for diffusing light is formed on the entire surface. Further thereon, a transparent electrode 23 made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Thin Oxide), which is in contact with the reflective display electrode 19 through a light diffusion layer 22 and a contact hole provided in a color filter, is formed. .

【0020】ここで、反射表示電極19上にカラーフィ
ルタ20R、20G、20B及び光拡散層34に設けた
コンタクトホールを介して透明電極23を設けるのは、
反射表示電極19上に形成した光拡散層34で容量を持
ってしまい、反射表示電極19に印加した本来液晶25
に印加すべき電圧がドロップしてしまい、印加すべき電
圧が液晶25に印加されなくなってしまうことを防止す
るためである。
The reason why the transparent electrode 23 is provided on the reflective display electrode 19 via the color filters 20R, 20G, 20B and the contact holes provided in the light diffusion layer 34 is as follows.
The light diffusion layer 34 formed on the reflective display electrode 19 has capacitance, and the liquid crystal 25 applied to the reflective display electrode 19
This is to prevent the voltage to be applied from being dropped from being applied to the liquid crystal 25 from dropping.

【0021】また、透明電極23は、反射表示電極19
とほぼ同じ大きさ若しくは反射表示電極19よりも大き
く形成する。そうすることにより、液晶25に印加する
電圧が充分液晶23に印加することができる。そして、
透明電極23を含む全面にポリイミド等からなり液晶2
5を配向させる配向膜24を形成する。
Further, the transparent electrode 23 is
, Or larger than the reflective display electrode 19. By doing so, the voltage applied to the liquid crystal 25 can be sufficiently applied to the liquid crystal 23. And
The liquid crystal 2 is made of polyimide or the like on the entire surface including the transparent electrode 23.
Then, an alignment film 24 for orienting 5 is formed.

【0022】他方の石英ガラス、無アルカリガラス等の
絶縁性基板からなる対向電極基板30は、液晶25を配
置する側には、各透明電極23に対向した対向電極31
が全面に設けられている。更にその全面にはポリイミド
から成る配向膜32が形成されている。
A counter electrode substrate 30 made of an insulating substrate such as quartz glass or non-alkali glass has a counter electrode 31 facing each transparent electrode 23 on the side where the liquid crystal 25 is disposed.
Are provided on the entire surface. Further, an alignment film 32 made of polyimide is formed on the entire surface.

【0023】また、対向電極基板30の液晶を配置しな
い側、即ち観察101側には、位相差(λ/4)板34
及び偏光板35が対向電極基板30側から順に設けられ
ている。
On the side of the counter electrode substrate 30 where no liquid crystal is arranged, that is, on the observation 101 side, a phase difference (λ / 4) plate 34 is provided.
And a polarizing plate 35 are provided in order from the counter electrode substrate 30 side.

【0024】こうして作製されたTFT基板10及び対
向電極基板30の周辺を接着性シール材(図示せず)に
て接着し、その接着によって形成された間隙に液晶2
5、例えばTN液晶を充填して液晶表示装置が完成す
る。
The periphery of the TFT substrate 10 and the counter electrode substrate 30 manufactured as described above is adhered with an adhesive sealing material (not shown), and the liquid crystal 2 is inserted into a gap formed by the adhesion.
5. Filling, for example, TN liquid crystal, completes the liquid crystal display device.

【0025】ここで、外部から入射した光の進み方につ
いて説明する。
Here, how the light incident from the outside proceeds will be described.

【0026】外部から入射される自然光100は、図1
中に点線矢印で示すように、観察者101側の偏光板3
5から入射し、位相差板34、対向電極基板30、対向
電極31及び配向膜32、液晶25を透過して、TFT
基板10上の配向膜24を透過して、透明電極23、光
拡散層22に到達する。そして光が拡散され、拡散され
た光はカラーフィルタ20を透過して反射表示電極19
に到達する。その到達した光は反射表示電極19によっ
て反射される。反射した光は、入射と逆の光路をたどっ
て位相差板34及び偏光板35を通過して観察者101
に観察される。
Natural light 100 incident from the outside is shown in FIG.
As shown by the dotted arrow inside, the polarizing plate 3 on the observer 101 side.
5 through the phase difference plate 34, the counter electrode substrate 30, the counter electrode 31, the alignment film 32, and the liquid crystal 25, and
The light passes through the alignment film 24 on the substrate 10 and reaches the transparent electrode 23 and the light diffusion layer 22. Then, the light is diffused, and the diffused light passes through the color filter 20 and is reflected by the reflective display electrode 19.
To reach. The arriving light is reflected by the reflective display electrode 19. The reflected light passes through the optical path opposite to that of the incident light, passes through the phase difference plate 34 and the polarizing plate 35, and passes through the observer 101.
To be observed.

【0027】図2に従ってTFT基板の製造方法を説明
する。なお、図2(b)以降の工程図には平坦化絶縁膜
17を含む上層の断面のみを示す。
A method of manufacturing a TFT substrate will be described with reference to FIG. It should be noted that only the cross section of the upper layer including the planarization insulating film 17 is shown in the process drawings after FIG.

【0028】図2(a):石英ガラス、無アルカリガラ
ス等からなるTFT基板10上に、スイッチング素子で
あるTFTを形成する。
FIG. 2A: A TFT as a switching element is formed on a TFT substrate 10 made of quartz glass, non-alkali glass or the like.

【0029】TFT基板10上に、クロム(Cr)、モ
リブデン(Mo)などの高融点金属からなるゲート電極
11、ゲート絶縁膜12、及び多結晶シリコン膜からな
る能動層13を順に形成する。
On the TFT substrate 10, a gate electrode 11 made of a high melting point metal such as chromium (Cr) and molybdenum (Mo), a gate insulating film 12, and an active layer 13 made of a polycrystalline silicon film are sequentially formed.

【0030】その能動層13には、ゲート電極11上方
のチャネル13cと、このチャネル13cの両側に、チ
ャネル13c上のストッパ絶縁膜14をマスクにしてイ
オン注入されて形成されるソース13s及びドレイン1
3dが設けられている。
The active layer 13 has a channel 13c above the gate electrode 11, and a source 13s and a drain 1 formed on both sides of the channel 13c by ion implantation using the stopper insulating film 14 on the channel 13c as a mask.
3d is provided.

【0031】そして、ゲート絶縁膜12、能動層13及
びストッパ絶縁膜14上の全面に、SiO2膜、SiN
膜及びSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜15を形
成し、ドレイン13dに対応して設けたコンタクトホー
ルにアルミニウム(Al)等の金属を充填してドレイン
電極16を形成する。更に全面に例えば有機樹脂から成
り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17を形成する。そし
て、その平坦化絶縁膜17にコンタクトホールを設け
る。
Then, an SiO 2 film, a SiN film, and the like are formed on the entire surface of the gate insulating film 12, the active layer 13, and the stopper insulating film 14.
An interlayer insulating film 15 is formed by laminating a film and an SiO 2 film in this order, and a contact hole provided corresponding to the drain 13 d is filled with a metal such as aluminum (Al) to form a drain electrode 16. Further, a flattening insulating film 17 made of, for example, an organic resin and flattening the surface is formed on the entire surface. Then, a contact hole is provided in the planarizing insulating film 17.

【0032】図2(b):コンタクトホールを設けた平
坦化絶縁膜17上にAl、銀(Ag)等の導電性反射材
料を堆積し、ホトリソ技術により反射表示電極19を形
成する。
FIG. 2B: A conductive reflective material such as Al or silver (Ag) is deposited on the planarizing insulating film 17 provided with the contact hole, and a reflective display electrode 19 is formed by photolithography.

【0033】そして、その上に色素層であるカラーフィ
ルタを形成する。まず赤色(R)の顔料を含有するレジ
ストを全面にスピンナ等で塗布し、マスク26を用いて
露光を行う。
Then, a color filter as a dye layer is formed thereon. First, a resist containing a red (R) pigment is applied to the entire surface with a spinner or the like, and exposure is performed using a mask 26.

【0034】図2(c):マスクで覆った領域以外の赤
色の顔料及びマスクを除去することにより、赤色を呈す
るカラーフィルタ20Rを反射表示電極19上に形成す
る。
FIG. 2C: A red color filter 20 R is formed on the reflective display electrode 19 by removing the red pigment and the mask other than the area covered by the mask.

【0035】図2(d):同様に、他のG、B及びブラ
ックマトリクス32をそれぞれ緑、青及び黒色の顔料を
含有するレジストにマスクをして露光を行って順次形成
する。
FIG. 2D: Similarly, the other G, B and black matrices 32 are sequentially formed by exposing the resist containing the green, blue and black pigments to a mask.

【0036】図2(e):そして、カラーフィルタ20
の全面に光拡散層22をスピンナによって塗布する。光
拡散層22はアクリル樹脂を基体とし、その基体中にビ
ーズ粒子を混入させたものであり、そうすることにより
入射した光を拡散するものである。本実施の形態の場
合、アクリル樹脂は屈折率が1.4〜1.6のものを用
いた。そして、この光拡散層22にコンタクトホールを
設ける。このとき、同時にカラーフィルタも貫通して、
コンタクトホールを設け反射表示電極19にまで到達さ
せる。
FIG. 2E: The color filter 20
The light diffusion layer 22 is applied to the entire surface of the substrate by a spinner. The light diffusion layer 22 is made of an acrylic resin as a base material and mixed with bead particles in the base material, thereby diffusing incident light. In the case of the present embodiment, an acrylic resin having a refractive index of 1.4 to 1.6 was used. Then, a contact hole is provided in the light diffusion layer 22. At this time, the color filter also penetrates at the same time,
A contact hole is provided to reach the reflective display electrode 19.

【0037】図2(f):その後、光拡散層22の全面
に屈折率が光拡散層22と等しい透明導電材料、例えば
ITOを堆積して反射表示電極19と概ね同じ面積ある
いはやや大きい面積の透明電極23を形成する。その上
に、液晶25を配向する配向膜24を全面に形成する。
こうして、TFT基板10が完成する。上述の両基板1
0、30の周辺を接着性シール材にて接着して液晶表示
装置が完成する。その際、従来のカラー反射型液晶表示
装置であれば、TFT基板10上に設けた透明電極23
と、その透明電極23に対応した大きさの対向電極基板
30上の各色カラーフィルタとが位置ずれすることなく
精度良く位置合わせをする必要があった。万一位置ずれ
をすると隣接する色が混合されて色にじみが発生してい
た。
FIG. 2 (f): Thereafter, a transparent conductive material having a refractive index equal to that of the light diffusion layer 22, for example, ITO is deposited on the entire surface of the light diffusion layer 22, and has an area approximately equal to or slightly larger than that of the reflective display electrode 19. The transparent electrode 23 is formed. An alignment film 24 for aligning the liquid crystal 25 is formed on the entire surface.
Thus, the TFT substrate 10 is completed. Both substrates 1 described above
A liquid crystal display device is completed by bonding the periphery of 0 and 30 with an adhesive sealing material. At this time, in the case of a conventional color reflection type liquid crystal display device, the transparent electrode 23 provided on the TFT substrate 10
In addition, it is necessary to accurately align the respective color filters on the counter electrode substrate 30 having a size corresponding to the transparent electrode 23 without displacement. Should the position shift, the adjacent colors would be mixed, causing color bleeding.

【0038】ところが、本発明のカラー反射型液晶表示
装置によれば、各色のカラーフィルタが反射表示電極1
9上にパターン形成によって精度良く設けられているの
で、両基板10,30の精度の高い位置合わせが不要と
なり貼り合わせ工程の短縮化が図れるとともに、位置ず
れによる色にじみ発生が防止できる。
However, according to the color reflection type liquid crystal display device of the present invention, the color filters of each color are formed by the reflection display electrode 1.
Since the substrates 9 and 9 are provided with high accuracy by pattern formation, highly accurate alignment of the substrates 10 and 30 is not required, so that the bonding process can be shortened and the occurrence of color bleeding due to displacement can be prevented.

【0039】また、光拡散層22を対向電極基板30上
に設けた場合には、入射した光の一部が光拡散層22に
て後方に散乱されてしまい液晶25層に到達することな
く観察者101側に出射してしまっていたが、光拡散層
22をTFT基板10上に設けているので、入射した光
は全てTFT基板10側に達した後、全て液晶25層を
通って観察者101側に出射することになる。従って、
観察者101側から入射しTFT基板10側の透明電極
23及び反射表示電極19に達した光は、全て液晶25
層によって透過又は遮断され表示に寄与することになる
ため、効率よく光を利用することができ、それによって
均一で明るい表示を得ることができる。
When the light diffusing layer 22 is provided on the counter electrode substrate 30, a part of the incident light is scattered backward by the light diffusing layer 22, and the light does not reach the liquid crystal 25 layer. Although the light was emitted to the observer 101 side, since the light diffusion layer 22 is provided on the TFT substrate 10, all the incident light reaches the TFT substrate 10 side, and all of the incident light passes through the liquid crystal 25 layer, and the observer receives the light. It will be emitted to the 101 side. Therefore,
The light incident from the observer 101 side and reaching the transparent electrode 23 and the reflective display electrode 19 on the TFT substrate 10 side is all liquid crystal 25
Since light is transmitted or blocked by the layer and contributes to display, light can be efficiently used, whereby a uniform and bright display can be obtained.

【0040】更に、反射表示電極19上に光拡散層34
を設けることにより、その光拡散層34で容量を持つた
め、反射表示電極19に印加した電圧がドロップしてし
まい、本来液晶23に印加されるべき電圧が液晶25に
印加されない。そのため、それを防止するために、カラ
ーフィルタ及び光拡散層34に設けたコンタクトホール
を介して反射表示電極19と接続された透明電極23を
光拡散層34上に設ける。では液晶25に印加できない
ため、光拡散層34上に透明電極23を設ける。即ち、
透明電極23は光拡散層34に設けたコンタクトホール
を介して反射表示電極34と接続しているため、反射表
示電極19によって電圧を印加する際の電圧降下が生じ
ることなく反射表示電極19に印加された電圧が印加さ
れ、液晶25にその電圧が印加されることになる。
Further, the light diffusion layer 34 is formed on the reflective display electrode 19.
Is provided, since the light diffusion layer 34 has a capacitance, the voltage applied to the reflective display electrode 19 drops, and the voltage that should be applied to the liquid crystal 23 is not applied to the liquid crystal 25. Therefore, in order to prevent this, the transparent electrode 23 connected to the reflective display electrode 19 through the color filter and the contact hole provided in the light diffusion layer 34 is provided on the light diffusion layer 34. Therefore, the transparent electrode 23 is provided on the light diffusion layer 34 because the liquid crystal 25 cannot be applied. That is,
Since the transparent electrode 23 is connected to the reflective display electrode 34 via the contact hole provided in the light diffusion layer 34, the transparent electrode 23 is applied to the reflective display electrode 19 without causing a voltage drop when a voltage is applied by the reflective display electrode 19. The applied voltage is applied to the liquid crystal 25.

【0041】また、光拡散層22と透明電極23の屈折
率が等しいので、光拡散層22での光の反射が起こって
カラーフィルタまで達しない光が発生することが防止で
きる。即ち、図1の点線矢印で示すように、透明電極2
3に入射した光は光拡散層22にて反射することなく、
光拡散層22及びカラーフィルタに入射し反射表示電極
にて反射して、各画素の色を観察者によって観察するこ
とが可能となる。
Further, since the light diffusing layer 22 and the transparent electrode 23 have the same refractive index, it is possible to prevent the light from being reflected by the light diffusing layer 22 and generating light that does not reach the color filter. That is, as shown by a dotted arrow in FIG.
3 is not reflected by the light diffusion layer 22,
The light enters the light diffusion layer 22 and the color filter and is reflected by the reflective display electrode, so that the color of each pixel can be observed by an observer.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、両基板の画素部の位置
合わせを精度良くすることが不要となり工程の簡略化が
図れるとともに、色にじみがなく均一で明るい表示を得
られる可能なカラー反射型液晶表示装置が得られる。
According to the present invention, it is not necessary to precisely align the pixel portions of the two substrates, so that the process can be simplified and a color reflection that can obtain a uniform and bright display without color bleeding can be obtained. Liquid crystal display device is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラー反射型液晶表示装置の断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view of a color reflection type liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明のカラー反射型液晶表示装置の製造工程
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the color reflective liquid crystal display device of the present invention.

【図3】従来のカラー反射型液晶表示装置の断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional color reflection type liquid crystal display device.

【符号の説明】 10 TFT基板 13 能動層 15 層間絶縁膜 17 平坦化絶縁膜 19 反射表示電極 20R カラーフィルタ 20B カラーフィルタ 20R カラーフィルタ 22 光拡散層 23 透明電極 24 配向膜 25 液晶 30 対向電極基板 34 位相差板 35 偏光板DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 TFT substrate 13 Active layer 15 Interlayer insulating film 17 Flattening insulating film 19 Reflective display electrode 20R Color filter 20B Color filter 20R Color filter 22 Light diffusion layer 23 Transparent electrode 24 Alignment film 25 Liquid crystal 30 Counter electrode substrate 34 Phase plate 35 Polarizing plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA02Y FA14Y FA31Y FC01 FD04 FD06 GA13 KA01 LA16 LA18 2H092 JA26 JA36 JA40 JA44 JA46 JB04 JB07 JB56 JB58 KA04 KA18 KB13 MA10 MA15 MA27 MA37 NA03 NA27 PA08 PA12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H091 FA02Y FA14Y FA31Y FC01 FD04 FD06 GA13 KA01 LA16 LA18 2H092 JA26 JA36 JA40 JA44 JA46 JB04 JB07 JB56 JB58 KA04 KA18 KB13 MA10 MA15 MA27 MA37 NA03 NA27 PA08 PA12

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向して配置された第1及び第2
の基板間に液晶を挟持しており、前記第1の基板には、
スイッチング素子、該スイッチング素子に接続された反
射表示電極、該反射表示電極上に設けた色素層及び光拡
散層、該光拡散層上に前記色素層及び光拡散層に設けた
コンタクトホールを介して前記反射表示電極に接続して
成る透明電極を積層して備え、前記第2の基板には前記
反射表示電極に対向した対向電極を備えたことを特徴と
するカラー反射型液晶表示装置。
1. A first and a second arrangement arranged opposite to each other.
Liquid crystal is sandwiched between the substrates, and the first substrate includes:
A switching element, a reflective display electrode connected to the switching element, a dye layer and a light diffusion layer provided on the reflective display electrode, and a contact hole provided on the dye layer and the light diffusion layer on the light diffusion layer. A color reflective liquid crystal display device comprising: a transparent electrode connected to the reflective display electrode; and a counter electrode facing the reflective display electrode on the second substrate.
【請求項2】 前記透明電極を構成する材料と前記光拡
散層の屈折率が等しいことを特徴とする請求項1に記載
のカラー反射型液晶表示装置。
2. The color reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the material constituting the transparent electrode and the light diffusion layer have the same refractive index.
【請求項3】 互いに対向して配置された第1及び第2
の基板間に液晶を挟持したカラー反射型液晶表示装置の
製造方法であって、 前記第1の基板上にスイッチング素子を形成する工程
と、該スイッチング素子を含む全面を覆った平坦化絶縁
膜を形成する工程と、該平坦化絶縁膜に設けたコンタク
トホールを介して前記スイッチング素子に接続され前記
平坦化絶縁膜上に反射表示電極を形成する工程と、該反
射表示電極上に色素層及び光拡散層を形成する工程と、
該前記色素層及び光拡散層に設けたコンタクトホールを
介して前記反射表示電極と接続された透明電極を形成す
る工程と、前記第2の基板上に前記反射表示電極に対向
した対向電極を形成する工程とを備えたことを特徴とす
るカラー反射型液晶表示装置の製造方法。
3. A first and a second arrangement arranged opposite to each other.
A method of manufacturing a color reflection type liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between substrates, wherein a step of forming a switching element on the first substrate and a planarizing insulating film covering the entire surface including the switching element are provided. Forming, a step of forming a reflective display electrode on the planarized insulating film connected to the switching element via a contact hole provided in the planarized insulating film, and a dye layer and light on the reflective display electrode. Forming a diffusion layer;
Forming a transparent electrode connected to the reflective display electrode via a contact hole provided in the dye layer and the light diffusion layer; and forming a counter electrode facing the reflective display electrode on the second substrate. And a method of manufacturing a color reflection type liquid crystal display device.
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