KR101307964B1 - Liquid crystal display device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에서는, 서로 대향되게 배치되며, 서로 일정간격 이격된 다수 개의 화소 영역을 가지는 제 1, 2 기판과; 상기 제 1 기판 내부면에서, 상기 제 1 기판의 외곽부 및 상기 화소 영역 간 경계부에 위치하며, 상기 화소 영역과 대응된 영역을 오픈부로 가지는 블랙매트릭스와; 상기 블랙매트릭스를 컬러간 경계부로 하여 상기 화소 영역에 형성된 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에서 상기 오픈부와 대응된 위치에 형성되며, 경화성 액정물질로 이루어진 위상차 보상층과; 상기 블랙매트릭스와 대응된 위치에서 상기 제 1, 2 기판 사이의 셀갭에 대응되는 높이를 가지며 형성된 컬럼 스페이서와; 상기 제 1, 2 기판 사이에서, 상기 외곽부에 형성된 씰패턴과; 상기 제 1, 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하는 액정표시장치를 제공한다. In the present invention, the first and second substrates disposed to face each other and having a plurality of pixel regions spaced apart from each other by a predetermined distance; A black matrix on an inner surface of the first substrate and positioned at a boundary between an outer portion of the first substrate and the pixel region, the black matrix having an open portion corresponding to the pixel region; A color filter layer formed in the pixel region using the black matrix as an inter-color boundary; A phase difference compensation layer formed at a position corresponding to the open portion on the color filter layer and formed of a curable liquid crystal material; A column spacer having a height corresponding to a cell gap between the first and second substrates at a position corresponding to the black matrix; A seal pattern formed between the first and second substrates in the outer portion; A liquid crystal display device including a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates is provided.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법 {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}Liquid crystal display and its manufacturing method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계 모드 액정표시장치에 대한 개략적인 단면도. 1 is a schematic cross-sectional view of a transverse electric field mode liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 2a, 2b 그리고 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 컬러필터 기판의 제조 공정을 순서에 따라 도시한 단면도.2A, 2B and 2C are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of a color filter substrate according to an embodiment of the present invention.

도 3a, 3b 그리고, 3c는 본 발명의 일실시예에 따른 컬러필터 기판의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도. 3A, 3B, and 3C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter substrate according to an embodiment of the present invention in a process sequence.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉Description of the Related Art

330: 기판 332: 블랙매트릭스330: substrate 332: black matrix

334: 컬러필터층 336: 배향막334: color filter layer 336: alignment layer

338: 위상차 보상층 P: 화소 영역338: phase difference compensation layer P: pixel region

EA: 노광 영역 NEA: 비노광 영역 EA: exposure area NEA: non-exposure area

본 발명은 액정표시장치에 관한 것이며, 특히 기판 내부에 위상차 보상층을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device including a phase difference compensation layer inside a substrate and a manufacturing method thereof.

최근에, 경량박형화, 저 소비전력화 등의 평판표시장치에 대한 필요성이 높아지는 가운데, 해상도, 컬러필터, 화질 등이 우수한 액정표시장치에 대한 개발이 활발히 이루어지고 있다. Recently, while the need for flat panel display devices such as light weight thinning and low power consumption increases, development of liquid crystal display devices having excellent resolution, color filters, image quality, and the like has been actively performed.

일반적인 트위스트 네마틱 액정(twist nematic LC)을 채택한 액정표시장치는, 서로 대향되게 배치된 두 기판의 내부면에 각각 전극을 형성하고, 두 전극 사이에 액정층을 개재하여, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 수직 전계장에 의한 액정 분자의 이방성 특성을 이용하여 빛의 투과율 차이에 의해 화상을 표현한다. 그러나, 이러한 수직 전계장에 의해 화상을 표현하는 것은 시야각 특성 개발에 한계가 있으므로, 평행한 전기장을 이용하는 횡전계 모드(in-plane switching mode) 액정표시장치가 전술한 트위스트 네마틱 액정 모드에 비해 콘트라스트(contrast), 컬러시프트(color shift) 등을 고려한 시야각 특성을 향상시킬 수 있기 때문에 주목받고 있는 추세이다. 상기 횡전계 모드 액정표시장치는 동일 평면상에 화소 전극과 공통 전극이 서로 엇갈리게 배치되어 전극 간에 발생하는 횡전계에 의해 액정을 구동하는 것을 특징으로 하며, 이러한 구동 특성에 의해 시야각 특성을 향상시킬 수 있다. In general, a liquid crystal display adopting a twist nematic LC forms electrodes on inner surfaces of two substrates disposed opposite to each other, and applies a voltage to the two electrodes through a liquid crystal layer between the two electrodes. The image is represented by the light transmittance difference by using the anisotropic characteristic of the liquid crystal molecules by the vertical field generated. However, expressing an image by such a vertical electric field has limitations in the development of viewing angle characteristics. Therefore, an in-plane switching mode liquid crystal display device using a parallel electric field is contrasted compared to the twisted nematic liquid crystal mode described above. (contrast), color shift (color shift), etc. in consideration of the viewing angle characteristics to improve the trend is attracting attention. The transverse electric field mode liquid crystal display device is characterized in that the liquid crystal is driven by a transverse electric field generated between the electrode and the pixel electrode and the common electrode on the same plane, and the viewing angle characteristics can be improved by this driving characteristic have.

그러나, 횡전계 모드 액정표시장치는 화소 별 화소 전극 및 공통 전극의 패턴 구조에 의존하여 액정구동이 이루어지므로, 한 예로 노멀리 블랙 모드(normally black mode)로 구동시 별도의 보상필름이 없는 구조에서는 빛의 누설이 발생되어 그 시야각이 좁아지는 문제점이 있다. 따라서, 액정셀이 가지는 시야각에 따른 이방성 분포를 보상해줄 편광판과 위상차 필름(retardation film)을 추가로 필요하게 되는데, 여기서 위상차 필름은 액정셀과는 가능한 반대의 이방성 분포를 가짐으로써 셀과 함께 사용시 시야각에 따른 빛의 지연 차이를 없애도록 제작된다. However, in the transverse electric field mode liquid crystal display device, the liquid crystal driving is performed depending on the pattern structure of the pixel electrode and the common electrode for each pixel. There is a problem that light leakage occurs and the viewing angle thereof is narrowed. Therefore, a polarizing plate and a retardation film are required to compensate for the anisotropy distribution according to the viewing angle of the liquid crystal cell, wherein the retardation film has an anisotropy distribution as opposed to that of the liquid crystal cell, so that the viewing angle when used with the cell It is manufactured to eliminate the difference in light delay.

하지만, 종래에 따른 위상차 필름은 광축이 연신 방향이거나 연신 방향과 수직인 방향이 되어서 액정표시장치처럼 광학 보상용으로 사용하기 위해서는 위상차 필름의 광축이 편광판의 광축과 임의의 각을 이루어야 하기 때문에 제작된 위상차 필름을 특별히 재단해야 한다. 이러한 공정은 공정 효율성과 이물 관리에 불리한 문제점이 있다. However, the retardation film according to the related art is manufactured because the optical axis of the retardation film must have an arbitrary angle with the optical axis of the polarizing plate in order to use it for optical compensation like a liquid crystal display because the optical axis is in the stretching direction or the direction perpendicular to the stretching direction. The retardation film must be specially cut. This process has disadvantages in process efficiency and foreign material management.

상기 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명에서는 공정수를 줄이고 광학 보상 기능을 효과적으로 할 수 있는 위상차 보상수단을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하고자 한다. In order to solve the above problems, the present invention is to provide a liquid crystal display device and a manufacturing method including a phase difference compensation means capable of reducing the number of processes and effective optical compensation function.

이를 위하여, 본 발명에서는 컬러필터 기판 내부에 컬러필터의 오버코트층 기능을 겸용할 수 있는 경화성 액정물질로 이루어진 위상차 보상층을 포함함에 있어서, 위상차 보상층을 기판 내부에 형성함에 따라 경화성 액정물질이 가지는 경도 특성이나 기판과의 접착력 등에 의해 눌림 얼룩이나 씰터짐이 발생되는 것을 방지하는 구조로 제조하고자 한다. To this end, the present invention includes a phase difference compensation layer made of a curable liquid crystal material capable of combining the function of the overcoat layer of the color filter in the color filter substrate, and thus having a curable liquid crystal material as the phase difference compensation layer is formed in the substrate. It is intended to manufacture a structure that prevents the occurrence of pressing stain or seal burst due to the hardness characteristics and adhesion to the substrate.

또한, 본 발명에서는 보다 단순화된 공정을 통해 상기 위상차 보상층을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하고자 하며, 이를 위해서 블랙매트릭스를 마스크로 이용함으로써 별도의 마스크 얼라인 단계를 생략하고 노광 공정에 소요되는 시간을 절감하고자 한다. In addition, the present invention provides a liquid crystal display including the phase difference compensation layer and a method of manufacturing the same through a simplified process, and for this purpose, a separate mask alignment step is omitted by using a black matrix as a mask. To reduce the time required to

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제 1 특징에서는, 서로 대향되게 배치되며, 서로 일정간견 이격된 다수 개의 화소 영역을 가지는 제 1, 2 기판과; 상기 제 1 기판 내부면에서, 상기 제 1 기판의 외곽부 및 상기 화소 영역 간 경계부에 위치하며, 상기 화소 영역과 대응된 영역을 오픈부로 가지는 블랙매트릭스와; 상기 블랙매트릭스를 컬러간 경계부로 하여 상기 화소 영역에 형성된 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에서 상기 오픈부와 대응된 위치에 형성되며, 경화성 액정물질로 이루어진 위상차 보상층과; 상기 블랙매트릭스와 대응된 위치에서 상기 제 1, 2 기판 사이의 셀갭에 대응되는 높이를 가지며 형성된 컬럼 스페이서와; 상기 제 1, 2 기판 사이에서, 상기 외곽부에 형성된 씰패턴과; 상기 제 1, 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하는 액정표시장치를 제공한다. In order to achieve the above object, in a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: first and second substrates disposed to face each other and having a plurality of pixel regions spaced at regular intervals from each other; A black matrix on an inner surface of the first substrate and positioned at a boundary between an outer portion of the first substrate and the pixel region, the black matrix having an open portion corresponding to the pixel region; A color filter layer formed in the pixel region using the black matrix as an inter-color boundary; A phase difference compensation layer formed at a position corresponding to the open portion on the color filter layer and formed of a curable liquid crystal material; A column spacer having a height corresponding to a cell gap between the first and second substrates at a position corresponding to the black matrix; A seal pattern formed between the first and second substrates in the outer portion; A liquid crystal display device including a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates is provided.

상기 컬러필터층은, 적, 녹, 청 컬러필터가 차례대로 반복 배열되어 이루어진 것을 특징으로 하고, 상기 제 2 기판 내부면에는, 서로 교차되게 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선 및 데이터 배선이 교차되는 지점에 형성된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결되어 상기 화소 영역에 형성된 화소 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 제 2 기판 내부면에는, 상기 화소 전극과 횡전계를 형성하는 공통 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The color filter layer may be formed by repeatedly arranging red, green, and blue color filters. The second substrate inner surface may include a gate wiring and a data wiring formed to cross each other, and the gate wiring and a data wiring. And a thin film transistor formed at an intersection point, and a pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel area, wherein a common electrode is formed on the inner surface of the second substrate to form a transverse electric field with the pixel electrode. It characterized in that it further comprises.

제 1, 2 기판의 외부면 각각에는 서로 직교하는 편광축을 가지는 제 1, 2 편광판이 각각 더 포함되는 것을 특징으로 하고, 상기 위상차 보상층은, x, y, z축을 기준으로 한 위상차 지연과 관련해서 에이 플레이트(A plate) 및 마이너스 씨 플레이트((-) C plate) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하며, 상기 컬러필터층과 위상차 보상층 사이에는, 상기 위상차 보상층의 배향을 위한 배향막이 더 포함되는 것을 특징으로 한다. Each of the outer surfaces of the first and second substrates may further include first and second polarizers having polarization axes orthogonal to each other, and the phase difference compensation layer may be associated with a phase difference delay based on the x, y, and z axes. A plate and a negative C plate (-) C plate, characterized in that, between the color filter layer and the phase difference compensation layer, an alignment layer for the alignment of the phase difference compensation layer is further included. It is characterized by.

상기 위상차 보상층은, x, y, z축을 기준으로 한 위상차 지연과 관련해서 플러스 씨 플레이트((+) C plate)인 것을 특징으로 하고, 상기 위상차 보상층은 상기 컬러필터층과 직접적으로 접촉되는 것을 특징으로 한다. The retardation compensation layer is a positive seam ((+) C plate) in relation to the retardation delay with respect to the x, y, z axis, wherein the retardation compensation layer is in direct contact with the color filter layer. It features.

본 발명의 제 2 특징에서는, 서로 일정간격 이격된 다수 개의 화소 영역을 가지는 제 1 기판 상에, 상기 제 1 기판의 외곽부 및 상기 화소 영역 간 경계부에 위치하여, 상기 화소 영역과 대응된 영역을 오픈부로 가지는 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스를 컬러간 경계부로 하여 상기 화소 영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터층 상부 전면에 경화성 액정물질을 도포하는 단계와; 상기 블랙매트릭스를 마스크로 이용하여 상기 경화성 액정물질을 상기 제 1 기판의 배면에서 노광하는 단계와; 상기 노광된 경화성 액정물질을 현상 하여, 상기 블랙매트릭스의 오픈부와 대응된 영역에 위상차 보상층을 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스의 오픈부와 대응된 상기 위상차 패턴 간의 이격 구간에 상기 제 1, 2 기판 사이의 셀갭에 대응되는 높이를 가지는 컬럼 스페이서를 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판의 외곽부에 씰패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1, 2 기판을 상기 씰패턴을 이용하여 합착하는 단계와; 상기 제 1, 2 기판 사이에 액정층을 개재하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. According to a second aspect of the present invention, an area corresponding to the pixel area is positioned on an edge portion of the first substrate and a boundary area between the pixel area on a first substrate having a plurality of pixel areas spaced apart from each other by a predetermined distance. Forming a black matrix having an open portion; Forming a color filter layer in the pixel region using the black matrix as an inter-color boundary; Coating a curable liquid crystal material on the entire upper surface of the color filter layer; Exposing the curable liquid crystal material on the back surface of the first substrate using the black matrix as a mask; Developing the exposed curable liquid crystal material to form a phase difference compensation layer in an area corresponding to the open portion of the black matrix; Forming a column spacer having a height corresponding to a cell gap between the first and second substrates in a spaced interval between the open portion of the black matrix and the phase difference pattern corresponding to the black matrix; Forming a seal pattern on an outer portion of the first substrate; Bonding the first and second substrates to each other using the seal pattern; It provides a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of interposing a liquid crystal layer between the first and second substrates.

상기 경화성 액정물질은 노광된 부분이 패턴으로 남는 네가티브 타입(negative type) 감광성 물질에서 선택되는 것을 특징으로 하고, 상기 컬러필터층을 형성하는 단계와, 상기 위상차 보상층을 형성하는 단계 사이에는, 상기 위상차 보상층용 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The curable liquid crystal material may be selected from a negative type photosensitive material in which an exposed portion remains in a pattern. The phase difference between the forming of the color filter layer and the forming of the phase difference compensation layer may include: Forming an alignment layer for the compensation layer is characterized in that it further comprises.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해서 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계 모드 액정표시장치에 대한 개략적인 단면도로서, 설명의 편의상 화소 영역 표시 및 블랙매트릭스의 도시는 생략하였다. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transverse electric field mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. For convenience of description, the pixel area display and the black matrix are omitted.

도시한 바와 같이, 서로 대향되게 제 1, 2 기판(110, 130)이 배치되어 있고, 제 1 기판(110) 내부면에는 어레이 소자층(AL)이 형성되어 있다. 도면으로 상세히 제시하지 않았지만, 상기 어레이 소자층(AL)은 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결된 화소 전극과, 상기 화소 전극과 횡전계를 형성하는 공통 전극을 포 함한다. As shown, the first and second substrates 110 and 130 are disposed to face each other, and the array element layer AL is formed on the inner surface of the first substrate 110. Although not shown in detail in the drawing, the array element layer AL includes a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a common electrode forming a transverse electric field with the pixel electrode.

그리고, 상기 제 2 기판(130)의 내부면에는 컬러필터층(132)이 형성되어 있고, 컬러필터층(132)을 덮는 영역에는 컬러필터층(132)의 평탄화를 위한 오버코트층 역할을 겸하며 위상차 보상기능을 하는 위상차 보상층(134)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 제 1, 2 기판(110, 130) 사이에는 액정층(150)이 개재되어있고, 상기 제 1, 2 기판(110, 130) 외부면 각각에는 서로 교차되는 투과축을 가지는 제 1, 2 편광판(160, 162)이 부착되어 있고, 상기 제 1, 2 기판(110, 130)의 외곽부는 제 1, 2 기판(110, 130)을 합착하기 위한 씰패턴(170)이 형성되어 있다. 또한, 상기 제 1, 2 기판(110, 130)의 셀갭에 대응되는 높이를 가지며 상기 제 1, 2 기판(110, 130)의 표시부에는 다수 개의 컬럼 스페이서(136)가 형성되어 있다. In addition, a color filter layer 132 is formed on an inner surface of the second substrate 130, and a region covering the color filter layer 132 serves as an overcoat layer for planarization of the color filter layer 132 and a phase difference compensation function. A phase difference compensation layer 134 is formed. The liquid crystal layer 150 is interposed between the first and second substrates 110 and 130, and the first and second electrodes have transmissive axes intersecting each other on the outer surfaces of the first and second substrates 110 and 130. The polarizing plates 160 and 162 are attached, and the seal patterns 170 are formed on the outer portions of the first and second substrates 110 and 130 to bond the first and second substrates 110 and 130. The column spacers 136 may have a height corresponding to the cell gaps of the first and second substrates 110 and 130, and a plurality of column spacers 136 may be formed on the display portions of the first and second substrates 110 and 130.

여기서, 상기 위상차 보상층(134)은 소자의 위상지연을 보상할 수 있는 경화성 액정물질로 이루어진 것을 특징으로 한다. 이러한 경화성 액정물질은 경도가 약하고 기판과의 접착력이 떨어지는 단점이 있으므로, 위 도면에서와 같이 위상차 보상층(134)이 전면에 형성된 상태에서 컬럼 스페이서(136)가 형성되며 위상차 보상층(134)이 눌려서 그것이 화면 상으로 눌림얼룩으로 나타나게 되고, 씰패턴부에 형성시 기판과의 약한 접촉력에 의해 씰패턴(170)의 접촉력을 떨어뜨려 씰터짐을 발생할 수 있으므로, 상기 위상차 보상층(134)의 패터닝 공정이 필요하게 된다. Here, the phase difference compensation layer 134 is made of a curable liquid crystal material that can compensate for the phase delay of the device. Since the curable liquid crystal material has a weak hardness and a poor adhesion to the substrate, the column spacer 136 is formed in the state where the phase difference compensation layer 134 is formed on the entire surface as shown in the above figure, and the phase difference compensation layer 134 is formed. When it is pressed, it appears as a pressed stain on the screen, and when formed in the seal pattern part, the contact force of the seal pattern 170 may be dropped due to weak contact force with the substrate, and thus seal burst may occur, so that the patterning of the phase difference compensation layer 134 is patterned. The process is necessary.

이하, 상기 위상차 보상층(134)의 패터닝 공정을 중심으로 한 제조 공정에 대해서 구체적으로 설명하도록 한다. Hereinafter, a manufacturing process centering on the patterning process of the phase difference compensation layer 134 will be described in detail.

도 2a, 2b 그리고 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 컬러필터 기판의 제조 공 정을 순서에 따라 도시한 단면도이다. 2A, 2B and 2C are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2a에서는, 화소 영역(P)을 가지는 기판(230)이 구비되어 있고, 기판(230) 상의 화소 영역(P)간 경계부에는 블랙매트릭스(232)가 형성되어 있으며, 블랙매트릭스(232)를 컬러별 경계부로 하여 화소 영역(P)에는 컬러필터층(234)이 형성되는 구조에 있어서, 컬러필터층(234)을 덮는 영역에는 경화성 액정물질을 전면 도포하여 경화성 액정물질층(238)을 형성하는 단계와, 상기 경화성 액정물질층(238) 상부에 투과부(TA)와 차단부(SA)로 이루어진 마스크(M)를 배치하는 단계와, 상기 마스크(M)의 투과부(TA)를 통해 상기 경화성 액정물질을 노광하는 단계이다. 한 예로, 상기 노광단계는 자외선 램프(Ultra violet lamp)를 이용하여 진행될 수 있다. 그리고, 상기 경화성 액정물질은 노광된 부분이 패턴으로 남고, 노광되지 않은 부분이 제거되는 네가티브 타입(negative type) 감광성 물질에서 선택되며, x,y,z축에 대한 위상지연과 관련되어 배향이 필요한 에이 플레이트(A plate) 또는 마이너스 씨 플레이트((-)C plate)인 경우에는 컬러필터층(234)과 경화성 액정물질층(238) 사이에 배향막(236)을 더 포함할 수 있다. In FIG. 2A, a substrate 230 having a pixel region P is provided, a black matrix 232 is formed at a boundary between the pixel regions P on the substrate 230, and the black matrix 232 is colored. In the structure in which the color filter layer 234 is formed in the pixel region P as a star boundary, forming the curable liquid crystal material layer 238 by coating the curable liquid crystal material on the entire surface in the region covering the color filter layer 234; And disposing a mask M formed of a transmissive part TA and a blocking part SA on the curable liquid crystal material layer 238 and through the transmissive part TA of the mask M. It is a step of exposing. For example, the exposing step may be performed by using an ultra violet lamp. In addition, the curable liquid crystal material is selected from a negative type photosensitive material in which an exposed part remains in a pattern and an unexposed part is removed, and an alignment is required in relation to a phase delay with respect to the x, y, and z axes. In the case of an A plate or a negative C plate, an alignment layer 236 may be further included between the color filter layer 234 and the curable liquid crystal material layer 238.

그러나, 스스로 배향이 되는 씨 플레이트(C plate)인 경우에는 상기 경화성 액정물질층(238)과 컬러필터층(234) 사이에는 별도의 배향막(236)이 생략될 수 있다. 그리고, 상기 배향막(236)은 별도의 패터닝 공정없이 기판 상에 전면 도포되는 것이 가능하다. However, in the case of a C plate that is self-aligned, a separate alignment layer 236 may be omitted between the curable liquid crystal material layer 238 and the color filter layer 234. In addition, the alignment layer 236 may be entirely coated on the substrate without a separate patterning process.

그리고, 상기 마스크(M)는 빛을 투과시키는 투과부(TA)와 빛을 차단하는 차단부(SA)로 이루어지는데, 상기 차단부(SA)는 위상차 보상층(240) 패턴을 형성하고 자 하는 영역, 즉 추후 컬럼 스페이서(242)와 씰패턴(244)이 형성되는 영역인 블랙매트릭스(232)와 대응된 영역 및 기판 외곽부를 제외한 화소 영역(P)과 대응되게 배치되는 것을 특징으로 한다. The mask M includes a transmission part TA for transmitting light and a blocking part SA for blocking light, and the blocking part SA is an area to form a phase difference compensation layer 240 pattern. That is, it is characterized in that it is arranged to correspond to the pixel region (P) excluding the region and the substrate outer region corresponding to the black matrix 232, which is a region where the column spacer 242 and the seal pattern 244 is formed later.

이러한 마스크(M)를 통해, 상기 경화성 액정물질층(238)을 노광한 다음, 현상 공정을 통해 투과부(TA)와 대응되어 노광된 경화성 액정물질층(238)은 패턴으로 남기고, 차단부(SA)와 대응된 경화성 액정물질층(238)은 제거하게 된다. After exposing the curable liquid crystal material layer 238 through the mask M, the curable liquid crystal material layer 238 exposed in correspondence with the transmissive part TA through a developing process is left in a pattern, and the blocking part SA ) And the curable liquid crystal material layer 238 is removed.

도 2b는, 상기 노광공정을 포함한 패터닝 공정을 통해 형성된 위상차 보상층(240)은 블랙매트릭스(232)와 대응된 위치에서 오픈부(241)을 가지고, 기판의 외곽부(II)에서는 형성되지 않는다. 상기 위상차 보상층(240)은 액정셀의 위상차 지연을 보상하는 기능과 더불어 컬러필터층(234)의 평탄화를 위해 형성된 것으로, 기본적으로 컬러필터층(234)의 주요 영역 상부에 형성되고, 추후 컬럼 스페이서 및 씰패턴 형성부에서는 각각 눌림 얼룩과 씰터짐을 방지할 목적으로 제거된다. 2B illustrates that the phase difference compensation layer 240 formed through the patterning process including the exposure process has an open portion 241 at a position corresponding to the black matrix 232, and is not formed at the outer portion II of the substrate. . The phase difference compensation layer 240 is formed to planarize the color filter layer 234 together with the function of compensating the phase difference delay of the liquid crystal cell. The phase difference compensation layer 240 is formed on the main region of the color filter layer 234, and the column spacer and Seal pattern forming portion is removed for the purpose of preventing the pressing stain and seal burst, respectively.

도 2c는, 상기 위상차 보상층(240) 간의 오픈부(241)에 컬럼 스페이서(242)를 형성하는 단계와, 상기 위상차 보상층(240)에 의해 노출된 기판의 외곽부(II)에 씰패턴(244)을 형성하는 단계이다. FIG. 2C illustrates forming a column spacer 242 in an open portion 241 between the phase difference compensation layers 240 and sealing patterns on an outer portion II of the substrate exposed by the phase difference compensation layer 240. 244 is formed.

이와 같이, 상기 위상차 보상층(240)을 기판 내부면에 컬러필터층(234)의 평탄화 및 위상지연 보상을 목적으로 형성하면 공정을 보다 재료비 절감 및 공정 단순화 그리고 이물 공정을 생략할 수 있는 공정적 잇점이 있다. As such, when the phase difference compensation layer 240 is formed on the inner surface of the substrate for the purpose of planarization and phase delay compensation of the color filter layer 234, the process may further reduce material costs, simplify the process, and eliminate the foreign material process. There is this.

그러나, 상기 위상차 보상층(240)을 기판 내부에 형성함에 따라 재료물질의 특성에 따라 눌림 얼룩이나 씰터짐을 방지하기 위해 별도의 마스크를 이용한 노광 공정이 필수적으로 포함되므로 공정이 추가되고 마스크 얼라인에 대한 공정시간 추가 등의 개선한 점이 발생된다. However, since the phase difference compensation layer 240 is formed inside the substrate, an exposure process using a separate mask is essentially included to prevent crushing or seal rupture according to the characteristics of the material, thus adding a process and mask alignment. Improvements such as the addition of processing time to the system occur.

도 3a, 3b 그리고, 3c는 본 발명의 일실시예에 따른 컬러필터 기판의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도로서, 상기 도 2A, 2B 그리고 2C에서 설명된 내용과 중복된 부분에 대해서 그 설명을 생략한다. 3A, 3B, and 3C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter substrate according to an embodiment of the present invention, in order of processing, and overlapping with those described in FIGS. 2A, 2B and 2C Omit the description.

도 3a에서는, 기판(330)의 비화소 영역에 형성된 블랙매트릭스(332)와, 블랙매트릭스(332)를 컬러별 경계부로 하여 화소 영역(P)에 위치하는 컬러필터층(334)이 형성된 기판(330) 상에 상기 컬러필터층(334) 전면에 경화성 액정물질을 도포하여 경화성 액정물질층(338)을 형성하는 단계와, 상기 기판(330)에서 배면노광법에 의해 상기 블랙매트릭스(332)와 비대응된 위치의 경화성 액정물질층(338) 영역을 노광하는 단계이다. 즉, 상기 배면노광 공정에서는, 상기 블랙매트릭스(332)와 대응된 영역은 비노광 영역(NEA)이 되고, 블랙매트릭스(332)와 대응되는 영역은 노광 영역(EA)이 된다. In FIG. 3A, a substrate 330 in which a black matrix 332 formed in a non-pixel region of the substrate 330 and a color filter layer 334 positioned in the pixel region P with the black matrix 332 as a color-specific boundary are formed. Forming a curable liquid crystal material layer 338 by coating a curable liquid crystal material on the entire surface of the color filter layer 334, and incompatible with the black matrix 332 by a back exposure method on the substrate 330. Exposing the region of the curable liquid crystal material layer 338 at the predetermined position. That is, in the back exposure process, an area corresponding to the black matrix 332 becomes a non-exposure area NEA, and an area corresponding to the black matrix 332 becomes an exposure area EA.

따라서, 상기 블랙매트릭스(332)는 광차단 물질로 이루어지고, 상기 경화성 액정물질은 노광된 부분이 패턴으로 남고, 비노광된 부분이 제거되는 네가티브 타입 감광성 물질로 이루어진 것을 특징으로 한다. Accordingly, the black matrix 332 is made of a light blocking material, and the curable liquid crystal material is made of a negative type photosensitive material in which an exposed portion remains in a pattern and an unexposed portion is removed.

그리고, 상기 경화성 액정물질이 배향이 필요한 경우에는 도면으로 제시한 바와 같이 컬러필터층(334)과 경화성 액정물질층(338) 사이에 경화성 액정물질층을 위한 배향막(336)이 더 포함된다. 또한, 상기 블랙매트릭스(332)는 기판 외곽부를 덮는 영역까지 위치하여 추후 씰패턴이 상기 블랙매트릭스(332) 상부에 위치하도록 한다. 그리고, 일예로 상기 노광공정에서 이용되는 광원으로 자외선 램프가 이용될 수 있다. When the curable liquid crystal material requires an alignment, an alignment layer 336 for the curable liquid crystal material layer is further included between the color filter layer 334 and the curable liquid crystal material layer 338 as shown in the drawing. In addition, the black matrix 332 is located up to an area covering the substrate outer portion so that the seal pattern is located on the black matrix 332 later. For example, an ultraviolet lamp may be used as a light source used in the exposure process.

도 3b에서는, 상기 노광 공정을 거쳐 블랙매트릭스(332)와 대응된 위치의 경화성 액정물질층(338)은 제거되고, 상기 화소 영역(P)과 대응된 위치에서만 경화성 액정물질층(338)이 패터닝되어 위상차 보상층(340)을 이룬다. 즉, 상기 블랙매트릭스(332)가 마스크 역할을 하여 노광되는 화소 영역(P)과 대응된 경화성 액정물질층(338) 영역만 경화되고, 경화성 액정물질층(338)을 녹일 수 있는 용매(solvent)를 이용하여 현상하게 되면, 경화성 액정물질층(338)의 블랙매트릭스(332)와 대응된 부분은 제거되어 오픈부(341)를 이루고 그 외 부분에서는 남게 되어, 제거된 부분은 추후 공정에서 컬럼스페이서(342)와 씰패턴(344)을 형성할 수 있는 위치를 확보할 수 있게 된다. 또한, 이 단계에서는, 상기 기판 외곽부(III)에 위치하는 블랙매트릭스(332)을 덮고 있던 경화성 액정물질층(338)도 제거되어 기판 외곽부(III)에 위치하는 블랙매트릭스(332) 영역은 노출된다. In FIG. 3B, the curable liquid crystal material layer 338 at the position corresponding to the black matrix 332 is removed through the exposure process, and the curable liquid crystal material layer 338 is patterned only at the position corresponding to the pixel region P. Referring to FIG. To form the phase difference compensation layer 340. That is, only the region of the curable liquid crystal material layer 338 corresponding to the pixel region P exposed as the black matrix 332 serves as a mask is cured, and a solvent capable of melting the curable liquid crystal material layer 338. When developed using, the portion corresponding to the black matrix 332 of the curable liquid crystal material layer 338 is removed to form an open portion 341 and remains at other portions, and the removed portion is a column spacer in a later process. It is possible to secure a position where the 342 and the seal pattern 344 can be formed. Also, in this step, the curable liquid crystal material layer 338 covering the black matrix 332 positioned on the substrate outer portion III is also removed, so that the region of the black matrix 332 positioned on the substrate outer portion III is removed. Exposed.

이와 같이, 본 실시예에서는 경화성 액정물질층(338)과 동일 기판에 형성된 블랙매트릭스(332)를 경화성 액정물질층(338)을 패터닝하기 위한 노광용 마스크로 이용하기 때문에 별도의 마스크를 배치하여 노광하는 공정에 비해서, 얼라인 정확도도 높일 뿐 아니라, 별도의 노광용 마스크를 생략할 수 있으므로 공정적으로 단순화시킬 수 있는 장점이 있다. As described above, since the black matrix 332 formed on the same substrate as the curable liquid crystal material layer 338 is used as an exposure mask for patterning the curable liquid crystal material layer 338, a separate mask is disposed and exposed. Compared to the process, the alignment accuracy is not only increased, but a separate exposure mask can be omitted, thereby simplifying the process.

도 3c에서는, 상기 위상차보상층(340) 간의 오픈부(341)에 컬럼스페이서(342)를 형성하는 단계와, 상기 기판 외곽부(III)에 노출된 블랙매트릭스(332)영 역 상에 씰패턴(344)을 형성하는 단계이다. 이때, 상기 컬럼 스페이서(342)는 위상차 보상층용 배향막(336)이 형성된 경우에는 상기 배향막(336) 상에 형성되고, 별도의 위상차 보상층용 배향막(336)이 생략된 경우에는 바로 컬러필터층(334) 상에 형성된다. In FIG. 3C, a column spacer 342 is formed in an open portion 341 between the phase difference compensation layers 340, and a seal pattern is formed on an area of the black matrix 332 exposed to the substrate outer portion III. 344 is formed. In this case, the column spacer 342 is formed on the alignment layer 336 when the alignment layer 336 for the phase difference compensation layer is formed, and the color filter layer 334 when the alignment layer 336 for the phase difference compensation layer is omitted. Is formed on the phase.

상기 위상차 보상층(340)은 블랙매트릭스(332)를 마스크로 이용하여 패터닝하여 이루어지기 때문에 별도의 마스크를 이용하는 경우보다 패턴위치 정확도를 높여서 컬럼 스페이서(342)의 형성위치에 대한 얼라인 정확도도 높아지는 이점을 가질 수 있다. Since the phase difference compensation layer 340 is patterned by using the black matrix 332 as a mask, alignment accuracy with respect to the formation position of the column spacer 342 is also increased by increasing the pattern position accuracy than using a separate mask. It may have an advantage.

그러나, 본 발명은 상기 실시예 들로 한정되지 않고, 본 발명의 취지에 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

일예로, 본 발명에 따른 위상차 보상층은 횡전계 모드 액정표시장치 뿐만 아니라 일반적인 트위스트 네마틱 모드 액정표시장치에도 적용가능하다. For example, the retardation compensating layer according to the present invention can be applied not only to a transverse electric field mode liquid crystal display but also to a general twisted nematic mode liquid crystal display.

이와 같이, 본 발명에 따른 위상차 보상층을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법에 따르면, 위상차 보상층을 기판 내부에 형성함에 따라 공정효율을 높이고 공정비용을 절감할 수 있으며, 눌림 얼룩 및 씰터짐을 방지하기 위해 위상차 보상층을 패터닝함에 있어서, 별도의 마스크없이 컬러필터 기판에 형성된 블랙매트릭스를 위상차 보상층의 노광용 마스크로 이용하여 배면 노광함에 따라 공정을 단순화시키고 공정 시간을 단축할 수 있으며 얼라인 정확도를 높일 수 있다. As described above, according to the liquid crystal display device including the phase difference compensation layer and the method of manufacturing the same, as the phase difference compensation layer is formed in the substrate, the process efficiency can be increased and the process cost can be reduced. In patterning the retardation compensation layer to prevent the retardation, a black matrix formed on the color filter substrate without a separate mask is used as the exposure mask of the retardation compensation layer, which simplifies the process and shortens the process time by performing the back exposure. You can increase the accuracy.

Claims (12)

서로 대향되게 배치되며, 서로 일정간격 이격된 다수 개의 화소 영역을 가지는 제 1, 2 기판과; First and second substrates disposed to face each other and having a plurality of pixel regions spaced apart from each other by a predetermined distance; 상기 제 1 기판 내부면에서, 상기 제 1 기판의 외곽부 및 상기 화소 영역 간 경계부에 위치하며, 상기 화소 영역과 대응된 영역을 오픈부로 가지는 블랙매트릭스와; A black matrix on an inner surface of the first substrate and positioned at a boundary between an outer portion of the first substrate and the pixel region, the black matrix having an open portion corresponding to the pixel region; 상기 블랙매트릭스를 컬러간 경계부로 하여 상기 화소 영역에 형성된 컬러필터층과; A color filter layer formed in the pixel region using the black matrix as an inter-color boundary; 상기 컬러필터층 상부에서 상기 오픈부와 대응된 위치에 동일한 두께를 가지며 형성되며, 경화성 액정물질로 이루어진 위상차 보상층과; A phase difference compensation layer formed at a position corresponding to the open portion on the color filter layer and having a same thickness and formed of a curable liquid crystal material; 상기 블랙매트릭스와 대응되는 상기 위상차 보상층간의 이격영역에 상기 제 1, 2 기판 사이의 셀갭에 대응되는 높이를 가지며 형성된 컬럼 스페이서와; A column spacer having a height corresponding to a cell gap between the first and second substrates in a separation region between the black matrix and the phase difference compensation layer; 상기 제 1, 2 기판 사이에서, 상기 외곽부에 형성된 씰패턴과; A seal pattern formed between the first and second substrates in the outer portion; 상기 제 1, 2 기판 사이에 개재된 액정층Liquid crystal layer interposed between the first and second substrates 을 포함하는 액정표시장치.Liquid crystal display comprising a. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 컬러필터층은, 적, 녹, 청 컬러필터가 차례대로 반복 배열되어 이루어 진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The color filter layer is a liquid crystal display, characterized in that the red, green, blue color filters are arranged in sequence. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 2 기판 내부면에는, 서로 교차되게 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선 및 데이터 배선이 교차되는 지점에 형성된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결되어 상기 화소 영역에 형성된 화소 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. On the inner surface of the second substrate, a gate wiring and a data wiring formed to cross each other, a thin film transistor formed at a point where the gate wiring and a data wiring intersect, and a pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel region. Liquid crystal display comprising a. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 제 2 기판 내부면에는, 상기 화소 전극과 횡전계를 형성하는 공통 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And a common electrode on the inner surface of the second substrate, the common electrode forming a transverse electric field with the pixel electrode. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 제 1, 2 기판의 외부면 각각에는 각각 서로 직교하는 편광축을 가지는 제 1, 2 편광판이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. Each of the outer surfaces of the first and second substrates further includes first and second polarizing plates each having a polarization axis orthogonal to each other. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 위상차 보상층은, x, y, z축을 기준으로 한 위상차 지연과 관련해서 에이 플레이트(A plate) 및 마이너스 씨 플레이트((-) C plate) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the phase difference compensation layer is any one of an A plate and a negative C plate in relation to a phase difference delay based on the x, y, and z axes. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 컬러필터층과 위상차 보상층 사이에는, 상기 위상차 보상층의 배향을 위한 배향막이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And an alignment layer for aligning the phase difference compensation layer between the color filter layer and the phase difference compensation layer. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 위상차 보상층은, x, y, z축을 기준으로 한 위상차 지연과 관련해서 플러스 씨 플레이트((+) C plate)인 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the phase difference compensation layer is a positive sea plate ((+) C plate) with respect to the phase difference delay based on the x, y, and z axes. 제 8 항에 있어서, 9. The method of claim 8, 상기 위상차 보상층은 상기 컬러필터층과 직접적으로 접촉되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the phase difference compensation layer is in direct contact with the color filter layer. 서로 일정간격 이격된 다수 개의 화소 영역을 가지는 제 1 기판 상에, 상기 제 1 기판의 외곽부 및 상기 화소 영역 간 경계부에 위치하여, 상기 화소 영역과 대응된 영역을 오픈부로 가지는 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; On the first substrate having a plurality of pixel regions spaced apart from each other, a black matrix having an open portion in the periphery of the first substrate and the boundary area between the pixel regions, the area corresponding to the pixel region as an open portion; Steps; 상기 블랙매트릭스를 컬러간 경계부로 하여 상기 화소 영역에 컬러필터층을 형성하는 단계와; Forming a color filter layer in the pixel region using the black matrix as an inter-color boundary; 상기 컬러필터층 상부 전면에 경화성 액정물질을 도포하는 단계와; Coating a curable liquid crystal material on the entire upper surface of the color filter layer; 상기 블랙매트릭스를 마스크로 이용하여 상기 경화성 액정물질을 상기 제 1 기판의 배면에서 노광하는 단계와; Exposing the curable liquid crystal material on the back surface of the first substrate using the black matrix as a mask; 상기 노광된 경화성 액정물질을 현상하여, 상기 블랙매트릭스의 오픈부와 대응된 영역에 위상차 보상층을 형성하는 단계와; Developing the exposed curable liquid crystal material to form a phase difference compensation layer in an area corresponding to the open portion of the black matrix; 상기 블랙매트릭스의 오픈부와 대응하여 형성된 상기 위상차 보상층 간의 이격 영역에 상기 제 1, 2 기판 사이의 셀갭에 대응되는 높이를 가지는 컬럼 스페이서를 형성하는 단계와; Forming a column spacer having a height corresponding to a cell gap between the first and second substrates in a spaced area between the phase difference compensation layer formed corresponding to the open portion of the black matrix; 상기 제 1 기판의 외곽부에 씰패턴을 형성하는 단계와; Forming a seal pattern on an outer portion of the first substrate; 상기 제 1, 2 기판을 상기 씰패턴을 이용하여 합착하는 단계와; Bonding the first and second substrates to each other using the seal pattern; 상기 제 1, 2 기판 사이에 액정층을 개재하는 단계Interposing a liquid crystal layer between the first and second substrates 를 포함하는 액정표시장치의 제조방법. Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a. 제 10 항에 있어서, 11. The method of claim 10, 상기 경화성 액정물질은 노광된 부분이 패턴으로 남는 네가티브 타입(negative type) 감광성 물질에서 선택되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. And the curable liquid crystal material is selected from a negative type photosensitive material in which exposed portions remain in a pattern. 제 10 항에 있어서, 11. The method of claim 10, 상기 컬러필터층을 형성하는 단계와, 상기 위상차 보상층을 형성하는 단계 사이에는, 상기 위상차 보상층용 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치의 제조방법. And forming the alignment layer for the phase difference compensation layer between the forming of the color filter layer and the forming of the phase difference compensation layer.
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