KR100648218B1 - High aperture ratio color liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고개구율 컬러 액정표시장치를 개시한다. 개시된 본 발명의 고개구율 컬러 액정표시장치는, 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과, 상기 하부기판에 대향 배치되며 상대전극을 구비한 상부기판, 및 상기 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에는 COA(Color filter On Array) 구조를 갖도록 레드, 그린 및 블루의 컬러 레진층과 투명 레진층이 적층 개재되고, 상기 컬러 레진층에는 화소영역에 해당하는 부분에 다수개의 홀(Hole)이 구비된 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 커플링 캐패시턴스를 줄이기 위해 컬러 레진층의 두께를 증가시키되 상기 컬러 레진층에 다수개의 홀을 형성해줌으로써 투과율 저하를 방지할 수 있으며, 이에 따라, 고개구율 COA 구조를 구현할 수 있다. The present invention discloses a high aperture color liquid crystal display. A high aperture color liquid crystal display device according to the present invention includes a lower substrate having a thin film transistor and a pixel electrode, an upper substrate disposed opposite to the lower substrate and having a counter electrode, and interposed between the lower substrate and the upper substrate. And a red, green, and blue color resin layer and a transparent resin layer are interposed between the thin film transistor and the pixel electrode to have a color filter on array (COA) structure. A plurality of holes (Hole) is provided in the corresponding portion. According to the present invention, the thickness of the color resin layer may be increased to reduce the coupling capacitance, but a plurality of holes may be formed in the color resin layer to prevent a decrease in transmittance, thereby implementing a high-aperture-rate COA structure.

고개구율, COA 구조, 컬러 레진층High Opening Ratio, COA Structure, Color Resin Layer

Description

고개구율 컬러 액정표시장치{High aperture ratio color liquid crystal display}High aperture ratio color liquid crystal display

도 1은 본 발명에 따른 고개구율 컬러 액정표시장치의 단위 화소를 도시한 평면도. 1 is a plan view showing a unit pixel of a high aperture color liquid crystal display according to the present invention;

도 2는 도 1의 A-A′선에 따른 단면도. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.

도 3은 도 1의 B-B′선에 따른 단면도. 3 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 1.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도 1의 B-B′선에 따른 단면도. 4 is a cross-sectional view taken along the line B-B 'of FIG. 1 according to another embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1 : 유리기판 2 : 게이트 라인1: glass substrate 2: gate line

2a : 게이트 전극 3 : 게이트절연막2a: gate electrode 3: gate insulating film

4 : 액티브층 5 : 소오스/드레인 전극4 active layer 5 source / drain electrodes

6 : 데이터 라인 7 : 보호막6: data line 7: protective film

8 : 컬러 레진층 9 : 투명 레진층8: color resin layer 9: transparent resin layer

10a : 비아홀 10b : 홀10a: via hole 10b: hole

10c : 홈 11 : 화소전극10c: groove 11: pixel electrode

본 발명은 컬러 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 컬러 필터를 어레이 기판 상에 형성한 고개구율 컬러 액정표시장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color liquid crystal display device, and more particularly, to a high aperture color liquid crystal display device in which a color filter is formed on an array substrate.

액정표시장치는 경박단소하고 저전압구동 및 저전력소모라는 장점을 바탕으로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대신하여 개발되어져 왔다. 특히, 박막트랜지스터 액정표시장치(이하, TFT-LCD)는 CRT에 필적할만한 고화질화, 대형화 및 컬러화 등을 실현하였기 때문에 최근들어 노트북 PC 및 모니터 시장은 물론 여러 분야에서 다양하게 사용되고 있다. Liquid crystal displays have been developed in place of the CRT (Cathode Ray Tube) based on the advantages of low weight, low voltage driving and low power consumption. In particular, thin film transistor liquid crystal displays (hereinafter referred to as TFT-LCDs) realize high quality, large size, and color that are comparable to CRTs, and thus have recently been used in various fields as well as in the notebook PC and monitor market.

이러한 TFT-LCD는 개략적으로 박막트랜지스터 및 화소전극이 구비된 하부기판과 컬러필터 및 상대전극이 구비된 상부기판이 액정층의 개재하에 합착되어진 구조를 갖는다. The TFT-LCD has a structure in which a lower substrate including a thin film transistor and a pixel electrode and an upper substrate provided with a color filter and a counter electrode are bonded to each other under an intervening liquid crystal layer.

한편, 이와 같은 TFT-LCD에 있어서, 고화질의 표시 화면을 얻기 위해서는 화소전극의 면적에 대한 실제 빛 투과 비율인 개구율의 향상이 우선적이다. 이에, 종래에는 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 금속으로된 화소전극을 단위 화소영역 전체에 걸쳐 배치시키는 탑 ITO 구조가 제안되었고, 이와 더불어, 상부기판의 컬러필터를 하부기판에 배치시키는 COA(Color filter On Array) 구조가 제안되었다.On the other hand, in such a TFT-LCD, in order to obtain a high quality display screen, improvement of the aperture ratio, which is the actual light transmission ratio with respect to the area of the pixel electrode, is prioritized. Accordingly, a top ITO structure has been proposed in which a pixel electrode made of a transparent metal such as indium tin oxide (ITO) is disposed over an entire unit pixel area, and in addition, a COA (coa) having a color filter of an upper substrate disposed on a lower substrate is proposed. Color filter On Array) structure has been proposed.

여기서, 고개구율 COA 구조를 구현하기 위해서는 데이터 라인과 화소전극 사이의 커플링 캐패시턴스(coupling capacitance)를 감소시켜야 한다. 이에 따라, 종래에는 데이터 라인과 화소전극 사이에 개재되는 컬러 레진층의 두께를 증가시켜 상기 커플링 캐패시턴스를 줄이고 있다. Here, in order to implement a high aperture COA structure, coupling capacitance between the data line and the pixel electrode must be reduced. Accordingly, the coupling capacitance is reduced by increasing the thickness of the color resin layer interposed between the data line and the pixel electrode.

그러나, 컬러 레진층의 두께를 증가시키면, 데이터 라인과 화소전극 사이의 커플링 캐패시턴스는 감소시킬 수 있을지 몰라도, 빛의 투과율이 감소하게 되어 고개구율을 구현할 수 없게 된다. 또한, 새로운 안료의 개발이 필요하며, 그에 대한 새로운 공정을 개발해야만 한다. However, if the thickness of the color resin layer is increased, the coupling capacitance between the data line and the pixel electrode may be reduced, but the transmittance of the light is decreased, thereby making it impossible to realize a high opening ratio. In addition, there is a need for the development of new pigments and new processes for them.

한편, 대한민국 특허출원 제99-7387호에 반사형 액정표시장치의 투과율을 높이기 위한 컬러필터 구조가 개시되어 있다. 이 특허에 따르면, 각 컬러 서브화소의 일부가 각 서브화소와 동일한 너비로 소정의 길이만큼 투명으로 형성되는 구조를 갖는다. Meanwhile, Korean Patent Application No. 99-7387 discloses a color filter structure for increasing transmittance of a reflective liquid crystal display device. According to this patent, a part of each color subpixel is formed to be transparent by a predetermined length with the same width as each subpixel.

그러나, 이렇게 동일한 너비의 단순한 배분은 공정 마진이 부족한 치명적인 단점을 갖는다. 즉, 컬러레진 노광 공정 중에 발생하는 오정렬(misalign) 및 상하부기판들간의 합착시에 발생하는 오정렬 등에 의해 컬러필터의 투과율과 색재현성이 처음 디자인과 상이해지는 문제가 발생한다. 또한, 컬러 레진층 상의 투명 레진층 코팅시 넓은 면적을 덮어야 하기 때문에, 평탄도가 나빠지게 되어 셀 갭(Cell Gap) 차이가 유발된다. However, this simple distribution of the same width has the fatal drawback of lack of process margin. That is, the transmittance and color reproducibility of the color filter may be different from the first design due to misalignment occurring during the color resin exposure process and misalignment occurring during bonding between the upper and lower substrates. In addition, since a large area must be covered when coating the transparent resin layer on the color resin layer, flatness becomes poor, resulting in a difference in cell gaps.

결국, 종래의 기술로는 COA 구조의 고개구율 컬러 액정표시장치를 구현함에 어려움이 있다.As a result, there is a difficulty in implementing a high-aperture color liquid crystal display device having a COA structure in the related art.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, COA 구조를 구현하면서 투과율 감소를 방지한 고개구율 컬러 액정표시장치를 제공함에 그 목적이 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a high aperture color liquid crystal display device which prevents a decrease in transmittance while implementing a COA structure.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과, 상기 하부기판에 대향 배치되며 상대전극을 구비한 상부기판, 및 상기 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에는 COA 구조를 갖도록 레드, 그린 및 블루의 컬러 레진층과 투명 레진층이 적층 개재되고, 상기 컬러 레진층에는 화소영역에 해당하는 부분에 다수개의 홀(Hole)이 구비된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention, a lower substrate having a thin film transistor and a pixel electrode, an upper substrate disposed opposite to the lower substrate and having a counter electrode, and interposed between the lower substrate and the upper substrate And a red, green, and blue color resin layer and a transparent resin layer are interposed between the thin film transistor and the pixel electrode to have a COA structure, and the color resin layer includes a plurality of liquid crystal layers. Provided is a high aperture color liquid crystal display, characterized in that two holes are provided.

여기서, 상기 홀은 하나의 화소영역에 대응하는 부분에 적어도 하나 이상의 형태로 형성되며, 아울러, 노광장비의 해상도 이상의 크기로 형성된 것을 특징으로 한다. Here, the hole is formed in at least one shape in a portion corresponding to one pixel area, and characterized in that formed in the size of the resolution or more of the exposure equipment.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과, 상기 하부기판에 대향 배치되며 상대전극을 구비한 상부기판, 및 상기 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에는 COA 구조를 갖도록 레드, 그린 및 블루의 컬러 레진층과 투명 레진층이 적층 개재되고, 상기 컬러 레진층에는 화소영역에 해당하는 부분에 다수개의 홈(groove)이 구비된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치를 제공한다. In addition, in order to achieve the above object, the present invention, a lower substrate having a thin film transistor and a pixel electrode, an upper substrate disposed opposite to the lower substrate and having a counter electrode, and between the lower substrate and the upper substrate A liquid crystal layer interposed therebetween, wherein a red, green, and blue color resin layer and a transparent resin layer are interposed between the thin film transistor and the pixel electrode so as to have a COA structure. Provided is a high aperture color liquid crystal display, characterized in that a plurality of grooves are provided in the groove.

여기서, 상기 홈의 깊이는 그레이 톤 마스크(gray tone mask) 사용하여 조절하는 것을 특징으로 한다.Here, the depth of the grooves may be adjusted using a gray tone mask.

(실시예)(Example)

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 고개구율 컬러 액정표시장치를 설명하기 위한 도면들로서, 도 1은 그 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A′선에 따른 단면도이며, 도 3은 도 1의 B-B′선에 따른 단면도이다. 1 to 3 are diagrams for describing a high-aperture color liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view thereof, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1, and FIG. It is sectional drawing along the BB 'line | wire of FIG.

먼저, 자세하게 도시되지는 않았지만, 본 발명에 따른 액정표시장치는 기본적으로 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과 상대전극을 구비한 상부기판이 액정층의 개재하에 합착된 구조이다. First, although not shown in detail, the liquid crystal display according to the present invention basically has a structure in which a lower substrate having a thin film transistor and a pixel electrode and an upper substrate having a counter electrode are bonded under the liquid crystal layer.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는 고개구율을 구현하기 위해 컬러필터를 상부기판이 아닌 하부기판에 배치한 COA 구조를 갖는다. In addition, the liquid crystal display according to the present invention has a COA structure in which a color filter is disposed on a lower substrate rather than an upper substrate in order to realize a high opening ratio.

여기서, 본 발명에 따른 액정표시장치는 COA 구조를 구현하면서 빛의 투과율 저하를 방지하기 위해 데이터 라인과 화소전극 사이에 컬러 레진층 및 투명 레진층을 적층 개재시키되 화소영역에 해당하는 컬러 레진층 부분에 다수개의 홀(Hole)을 구비시킨다. In the liquid crystal display according to the present invention, a color resin layer and a transparent resin layer are interposed between a data line and a pixel electrode to prevent a decrease in light transmittance while implementing a COA structure. It is provided with a plurality of holes (Hole) in the.

즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 레드(R), 그린(G) 및 블루(B)의 서브 화소영역에 형성된 각 컬러 레진층에 다수개의 홀(10b)이 형성된 구조를 갖는다. 이때, 상기 홀(10b)은 하나의 화소영역에서 적어도 하나 이상의 형태로 형성되고, 그리고, 상기 홀(10b)은 노광장비의 해상도 이상의 크기로 형성된다. That is, as shown in FIG. 1, in the liquid crystal display according to the present invention, a plurality of holes 10b are formed in each color resin layer formed in the sub pixel areas of red (R), green (G), and blue (B). Has a formed structure. In this case, the hole 10b is formed in at least one shape in one pixel area, and the hole 10b is formed in a size larger than the resolution of the exposure apparatus.

이 경우, 데이터 라인(6)과 화소전극(11)간의 커플링 캐패시턴스를 감소시키기 위해 상기 컬러 레진층의 두께를 증가시킴에 따라 투과율 저하가 초래되겠지만, 상기 컬러 레진층에 구비시킨 다수개의 홀(10b)을 통해 백색광이 투과되므로, 오히려 빛의 투과율은 증가하게 되며, 따라서, COA 구조에 따른 고개구율을 구현하면서도 투과율 또한 향상시킬 수 있게 된다. In this case, as the thickness of the color resin layer is increased in order to reduce the coupling capacitance between the data line 6 and the pixel electrode 11, a decrease in transmittance may be caused, but a plurality of holes provided in the color resin layer ( Since the white light is transmitted through 10b), the light transmittance is increased, and thus the transmittance can be improved while achieving a high opening ratio according to the COA structure.

도 1에서, 미설명된 도면부호 2는 게이트 라인을 나타낸다. In FIG. 1, reference numeral 2 denotes a gate line.

이와 같은 고개구율 컬러 액정표시장치의 제조방법은 다음과 같다. The manufacturing method of such a high aperture color liquid crystal display device is as follows.

도 2 및 도 3을 참조하면, 유리기판(1) 상에 게이트용 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝하여 게이트 전극(2a)을 포함한 게이트 라인(2)을 형성한다. 그런다음, 상기 게이트 라인(2)을 덮도록 기판(1) 전면 상에 게이트절연막(3)과 비도핑된 비정질실리콘(이하, a-Si)막과 도핑된 비정질실리콘(이하, n+ a-Si)막을 차례로 증착한 후, 상기 n+ a-Si막과 a-Si막을 패터닝하여 액티브층(4)을 형성한다. 2 and 3, a gate metal film is deposited on the glass substrate 1, and then patterned to form a gate line 2 including the gate electrode 2a. Then, the doped amorphous silicon (hereinafter referred to as a-Si) film and the doped amorphous silicon (hereinafter referred to as n + a-Si) on the entire surface of the substrate 1 to cover the gate line 2. ) Films are sequentially deposited, and then the n + a-Si film and the a-Si film are patterned to form an active layer 4.

다음으로, 상기 액티브층(4)을 포함한 게이트절연막(3) 상에 소오스/드레인용 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝하여 소오스/드레인 전극(5)을 포함한 데이터 라인(6)을 형성한다. 그런다음, 상기 데이터 라인(6)을 포함한 기판(1)의 전 영역 상에 보호막(7)을 도포한 후, 상기 보호막(7)을 식각하여 소오스/드레인 전극(5)을 노출시키는 비아홀(10a)을 형성한다. Next, a source / drain metal film is deposited on the gate insulating film 3 including the active layer 4, and then patterned to form a data line 6 including the source / drain electrode 5. Then, after the protective film 7 is coated on the entire area of the substrate 1 including the data line 6, the protective film 7 is etched to expose the source / drain electrodes 5 to expose the via holes 10a. ).

이때, 이후에 형성되는 컬러 레진층이 보호막의 역할을 할 수 있으므로, 상기 보호막 도포 및 비아홀 형성을 위한 식각 공정은 생략 가능하며, 이에 따라, 공정 단순화를 이룰 수 있다. In this case, since the color resin layer formed afterwards may serve as a protective film, the etching process for coating the protective film and forming the via hole may be omitted, thereby simplifying the process.

계속해서, 상기 단계까지의 기판 결과물 상에, 예컨데, 레드(R) 컬러 레진을 3㎛ 정도로 두껍게 도포한다. 그런다음, 상기 레드 컬러 레진을 노광 및 현상하고, 이어서, 큐어링(curing)을 행하여 해당하는 서브 화소영역에 다수개의 홀(10b)을 구비한 레드의 컬러 레진층(8)을 형성한다. 이때, 상기 홀(10b)은 노광장비의 해상도 이상의 크기로 형성하며, 또한, 노광 장비의 오정렬에 의해 투과율이 영향을 받지 않도록 서브 화소영역의 가장자리에서 정렬 마진 이상의 거리에 형성한다. 게다가, 상기 홀(10b)은 투과율 및 색재현성을 조절하기 위해 그 크기, 모양 및 개수 등을 변경할 수 있다. Subsequently, on the substrate resultant up to this step, for example, a red (R) color resin is applied to a thickness of about 3 μm thick. Thereafter, the red color resin is exposed and developed, and then cured to form a red color resin layer 8 having a plurality of holes 10b in a corresponding sub-pixel region. In this case, the hole 10b is formed to have a size greater than or equal to the resolution of the exposure apparatus and is formed at a distance greater than or equal to an alignment margin from the edge of the sub pixel region so that the transmittance is not affected by misalignment of the exposure apparatus. In addition, the hole 10b may change its size, shape and number in order to adjust transmittance and color reproducibility.

이어서, 자세하게 설명하지는 않겠지만, 그린 및 블루의 컬러 레진층도 상기와 동일 공정에 따라 해당하는 각 서브 화소영역에 각각 형성한다. Subsequently, although not described in detail, green and blue color resin layers are also formed in the respective sub-pixel areas according to the same process as described above.

한편, 색섞임을 방지하기 위한 블랙매트릭스는 컬러 레진층들의 형성과는 별도로 수지 또는 금속으로 형성할 수 있으며, 또한, 상기한 컬러 레진층들의 적층을 통해 형성할 수도 있다. Meanwhile, the black matrix for preventing color mixing may be formed of a resin or a metal separately from the formation of the color resin layers, and may also be formed through the lamination of the color resin layers described above.

다음으로, 레드(R), 그린(G) 및 블루(B)의 컬러 레진층(8)에 의한 단차를 제거하기 위해 상기 컬러 레진층(8) 상에 투명 레진층(9)을 도포한 후, 이에 대한 패터닝을 행하고, 그런다음, 큐어링을 행한다. 이때, 상기 투명 레진층(9)은 다수개의 홀(10b)을 메우기 때문에 넓은 면적을 메우는 것 보다 평탄화가 용이하고, 두께 균일도 또한 우수하며, 그래서, 셀 갭 균일도가 우수하다. Next, after applying the transparent resin layer 9 on the color resin layer 8 to remove the step by the color resin layer 8 of red (R), green (G) and blue (B). Then, patterning is performed, and then curing is performed. At this time, since the transparent resin layer 9 fills the plurality of holes 10b, the transparent resin layer 9 is easier to planarize than the wide area, and also has excellent thickness uniformity, and thus, excellent cell gap uniformity.

그 다음, 상기 투명 레진층(9) 및 컬러 레진층(8)을 식각하여 소오스/드레인 전극(5)을 노출시키는 비아홀(10a)을 형성한다. 그런다음, 상기 비아홀(10a) 표면 및 투명 레진층(9) 상에 투명 금속막, 예컨데, ITO 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝하여 화소영역 전체에 걸쳐 배치되면서 상기 비아홀(10a)을 통해 소오스/드레인 전극(5)과 콘택되는 화소전극(11)을 형성하고, 이를 통해, 고개구율 COA 구조를 갖는 하부기판의 형성을 완성한다. Next, the transparent resin layer 9 and the color resin layer 8 are etched to form via holes 10a exposing the source / drain electrodes 5. Thereafter, a transparent metal film, for example, an ITO metal film, is deposited on the via hole 10a and the transparent resin layer 9, and then patterned and disposed throughout the pixel region, so as to provide a source / through the via hole 10a. The pixel electrode 11 in contact with the drain electrode 5 is formed, thereby completing the formation of a lower substrate having a high opening ratio COA structure.

이후, 상기한 하부기판을 액정층의 개재하에 상대전극을 구비한 상부기판과 합착하여 본 발명에 따른 고개구율 컬러 액정표시장치를 완성한다. Subsequently, the lower substrate is bonded to the upper substrate having a counter electrode under the liquid crystal layer to complete the high aperture color liquid crystal display according to the present invention.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 고개구율 컬러 액정표시장치를 설명하기 위한 도 1의 B-B′선에 따른 단면도이다. 여기서, 도 3과 동일한 부분은 동일한 도면부호로 나타낸다. 4 is a cross-sectional view taken along line B-B 'of FIG. 1 for explaining a high-aperture color liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. Here, the same parts as in Fig. 3 are designated by the same reference numerals.

도시된 바와 같이, 이 실시예에 있어서는 컬러 레진층(8)의 형성시 그레이 톤 마스크(gray tone mask)를 사용하여 화소영역에 해당하는 부분에 홀(Hole)이 아닌 홈(groove : 10c)을 형성한다. As shown, in this embodiment, when the color resin layer 8 is formed, a groove 10c, not a hole, is formed in a portion corresponding to the pixel region by using a gray tone mask. Form.

이 경우, 투과율은 이전 실시예의 그것 보다 다소 떨어지기는 하나, 투명 레진층의 형성 후에 더 우수한 두께 균일도를 얻을 수 있으며, 이에 따라, 셀 갭을 더욱 균일하게 만들 수 있다. In this case, although the transmittance is slightly lower than that of the previous embodiment, better thickness uniformity can be obtained after formation of the transparent resin layer, thereby making the cell gap more uniform.

이상에서와 같이, 본 발명은 컬러 레진층의 두께를 증가시키면서 상기 컬러 레진층에 다수개의 홀을 형성함으로써 커플링 캐패시턴스를 줄이면서 투과율 또한 증가시킬 수 있으며, 이에 따라, 고개구율 COA 구조를 구현할 수 있다. As described above, the present invention can increase the transmittance while reducing the coupling capacitance by forming a plurality of holes in the color resin layer while increasing the thickness of the color resin layer, thereby realizing a high aperture COA structure. have.

또한, 본 발명은 단순 배분이 아닌 화소 내부에 다수의 홀을 형성하기 때문 에 오정렬에 의한 색재현성 및 투과율 변화가 없도록 할 수 있다. In addition, since the present invention forms a plurality of holes in the pixel rather than merely distributing the color, the color reproducibility and transmittance change due to misalignment can be prevented.

아울러, 본 발명은 투명 레진층의 도포시 작은 홀들을 채우기 때문에 우수한 평탄도를 갖도록 할 수 있으며, 그래서, 셀 갭을 균일하게 유지시킬 수 있다.In addition, the present invention can have excellent flatness because it fills small holes in the application of the transparent resin layer, so that the cell gap can be kept uniform.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수가 있고, 상기 실시예들을 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수가 있음은 명확하다. 따라서, 상기 기재 내용은 하기의 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, it is clear that the present invention can use various changes, modifications, and equivalents, and that the above embodiments can be appropriately modified and applied in the same manner. Accordingly, the above description does not limit the scope of the invention as defined by the following claims.

Claims (5)

박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과, 상기 하부기판에 대향 배치되며 상대전극을 구비한 상부기판, 및 상기 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, A lower substrate including a thin film transistor and a pixel electrode, an upper substrate disposed opposite to the lower substrate and having a counter electrode, and a liquid crystal layer interposed between the lower substrate and the upper substrate, 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에는 COA(Color filter On Array) 구조를 갖도록 레드, 그린 및 블루의 컬러 레진층과 투명 레진층이 적층 개재되고, 상기 컬러 레진층에는 화소영역에 해당하는 부분에 다수개의 홀(Hole)이 구비된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치. A red, green, and blue color resin layer and a transparent resin layer are interposed between the thin film transistor and the pixel electrode so as to have a color filter on array (COA) structure. High aperture color liquid crystal display, characterized in that provided with a hole (Hole). 제 1 항에 있어서, 상기 홀은 하나의 화소영역에 대응하는 부분에 적어도 하나 이상의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치. The high-ratio color liquid crystal display of claim 1, wherein the hole is formed in at least one shape in a portion corresponding to one pixel area. 제 1 항에 있어서, 상기 홀은 노광장비의 해상도 이상의 크기로 형성된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치. The high aperture color color liquid crystal display of claim 1, wherein the hole is formed to have a size equal to or greater than a resolution of an exposure apparatus. 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 하부기판과, 상기 하부기판에 대향 배치되며 상대전극을 구비한 상부기판, 및 상기 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, A lower substrate including a thin film transistor and a pixel electrode, an upper substrate disposed opposite to the lower substrate and having a counter electrode, and a liquid crystal layer interposed between the lower substrate and the upper substrate, 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에는 COA(Color filter On Array) 구조 를 갖도록 레드, 그린 및 블루의 컬러 레진층과 투명 레진층이 적층 개재되고, 상기 컬러 레진층에는 화소영역에 해당하는 부분에 다수개의 홈(groove)이 구비된 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치. A red, green, and blue color resin layer and a transparent resin layer are interposed between the thin film transistor and the pixel electrode to have a color filter on array (COA) structure, and the color resin layer includes a plurality of color resin on the portion corresponding to the pixel region. High aperture color liquid crystal display, characterized in that provided with a groove (groove). 제 4 항에 있어서, 상기 홈의 깊이는 그레이 톤 마스크(gray tone mask) 사용하여 조절하는 것을 특징으로 하는 고개구율 컬러 액정표시장치.The liquid crystal display of claim 4, wherein the depth of the groove is adjusted using a gray tone mask.
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