JP2000162601A

JP2000162601A - 配向膜形成材料層付き長尺可撓性シート

Info

Publication number: JP2000162601A
Application number: JP10353984A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Kuroishi; 雅幸黒石
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-11-27
Filing date: 1998-11-27
Publication date: 2000-06-16

Abstract

(57)【要約】【課題】搬送ローラ等で連続的に搬送しながら、配向
膜形成材料層にラビング処理を行う際に、塵埃や静電気
の発生が少なく、かつ配向膜表面に傷が付きにくい配向
膜形成材料層付き長尺可撓性シートを提供すること。【解決手段】長尺可撓性シートの少なくとも一方の面
に、二種類のポリビニルアルコール化合物の混合物から
なる配向膜形成材料層が形成されている配向膜形成材料
層付き長尺可撓性シート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

【０００２】

【従来の技術】ブラウン管型画像表示装置であるＣＲＴ
に対して、薄型、軽量、低消費電力という大きな利点を
もつ液晶表示装置は、特に、携帯用のワードプロセッサ
やパーソナルコンピュータの表示装置として一般的に使
用されている。現在普及している液晶表示素子（以下Ｌ
ＣＤと称す）の多くは、ねじれネマチック液晶を用いて
いる。このような液晶表示素子は、一般に、液晶セルと
その両側に設けられた偏光板からなり、液晶セルは液晶
パネルと液晶パネルに電圧を印加するための電極部から
なる。さらに、この液晶パネルは透明な配向膜と液晶層
からなり、液晶層は配向膜に挟まれた構成とされる。こ
のような液晶を用いた表示方式は、複屈折モードと旋光
モードとの二つの方式に大別できる。

【０００３】複屈折モードを利用する超ねじれ（スーパ
ーツィスティッド）ネマチック液晶表示装置（以下ＳＴ
Ｎ−ＬＣＤと称す）は、９０度を超えるねじれ角及び急
峻な電気光学特性を有するスーパーツィスティッドネマ
チック液晶を用いている。このため、このようなＳＴＮ
−ＬＣＤは、時分割駆動による大容量の表示が可能であ
る。しかしながら、ＳＴＮ−ＬＣＤで実用的なコントラ
ストが得られるのは、イエローモード（黄緑／濃紺）及
びブルーモード（青／淡黄）であり、白黒モードを得る
には位相差板（一軸延伸ポリマーフィルムや補償用液晶
セル）を設ける必要があった。

【０００４】ＴＮ−ＬＣＤの表示モードである旋光モー
ドでは、高速応答性（数十ミリ秒）及び高いコントラス
トが得られる。従って、旋光モードは、複屈折モードや
他のモードに比べて多くの点で有利である。しかしなが
ら、ＴＮ−ＬＣＤは、ＳＴＮ−ＬＣＤのように位相差板
を備えていないので、表示色や表示コントラストが液晶
表示装置を見る時の角度によって変化し易い（視野角特
性）との問題がある。

【０００５】上記ＴＮ−ＬＣＤにおける視野角特性を改
善するため（即ち、視野角の拡大のため）、一対の偏光
板と液晶セルとの間に位相差板（以下、光学補償シート
ともいう）を設けることが知られている。この光学補償
シートは、液晶セルに対して垂直方向の位相差はほぼ０
であるため真正面からは何ら光学的作用を与えないが、
傾けた時に位相差が発現し、この作用によって液晶セル
で発生する位相差を補償するものである。

【０００６】また負の複屈折を有し、かつ、光軸が傾い
ている光学補償シートも知られている。このシートは、
ポリカーボネートやポリエステル等のポリマーを延伸す
ることにより製造され、そしてシートの法線から傾いた
主屈折率の方向を持つ。しかし延伸処理によりこのよう
なシートを製造するには、極めて複雑な延伸処理が必要
とされるため、一般に知られている方法で大面積の光学
補償シートを製造することは極めて困難である。

【０００７】一方、液晶性ポリマーを用いた光学補償シ
ートも知られている。例えば、液晶性を有するポリマー
を支持フィルム上の配向膜表面に塗布することにより得
られる光学補償シートや支持体と液晶性及び正の複屈折
を有する重合性棒状化合物からなる光学補償シート（複
屈折板）が知られている。さらには、簡単な製法により
全方向視野角が拡大した光学補償シートとして、透明フ
ィルム上に配向膜を形成し、配向膜上に液晶性ディスコ
ティック化合物の層が形成された光学補償シートも知ら
れている。

【０００８】上述したような液晶パネル及び光学補償シ
ートにおいて、配向膜は液晶層中の液晶分子を液晶の動
作モードに適した配列や傾きに制御する役割をもつ。こ
の配向膜を作成する方法には、酸化珪素（ＳｉＯ）や有
機物など蒸着する方法、ＬＢ膜を生成する方法、ポリイ
ミドやポリビニルアルコール、有機シランなど（以下、
配向膜形成材料という）の薄膜をラビング処理する方法
などが知られている。この中でも、透明な支持体に形成
された配向膜形成材料の薄膜（以下、配向膜形成材料層
という）をラビング処理する方法が広く用いられてい
る。

【０００９】通常、ラビング処理は配向膜形成材料層
に、ラビングシートを表面に貼り合わせたラビングロー
ラを回転下で接触させて行う。配向膜形成材料層をラビ
ング処理する際に、塵埃や静電気が発生し、これにより
配向膜が帯電して、ラビング処理により発生した塵埃や
周囲の埃など（異物）が配向膜に付着しやすくなり液晶
パネル及び光学補償シート中に異物が混入しやすくなる
ことが知られている（例えば、特公平６−８７１０４号
公報など）。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明者が、種々のポ
リビニルアルコール化合物からなる配向膜形成材料層が
形成されている長尺可撓性シートを搬送ローラで連続的
に搬送しながら、その配向膜形成材料層に同一のラビン
グ条件（例えば、ラビングローラの回転速度、シートの
搬送速度）でラビング処理を行い、得られた配向膜の配
向性を調査した結果、ポリビニルアルコール化合物の種
類によって、配向膜の配向性に違いがあることが判明し
た。すなわち、配向膜形成材料層を形成するポリビニル
アルコール化合物の種類によって、配向のしやすさに違
いがあることが判明した。また、配向しやすい配向膜形
成材料層では、搬送ローラ等との接触により配向膜形成
材料層の表面に傷が付き易くなることも判明した。

【００１１】さらに、本発明者が検討を重ねた結果、配
向しやすいポリビニルアルコール化合物と配向しにくい
ポリビニルアルコール化合物との混合物からなる配向膜
形成材料層は、ラビングローラの回転数を低く設定する
ことによって、塵埃や静電気の発生を少なくすることが
でき、連続的に搬送しならがラビング処理する場合で
も、搬送ローラ等との接触により配向膜表面に傷が付き
にくいことを見出した。

【００１２】従って、本発明の目的は、搬送ローラ等で
連続的に搬送しながら、配向膜形成材料層にラビング処
理を行う際に、塵埃や静電気の発生が少なく、かつ配向
膜表面に傷が付きにくい配向膜形成材料層付き長尺可撓
性シートを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】方発明は、長尺可撓性シ
ートの少なくとも一方の面に、下記の一般式（Ｉ）で表
されるポリビニルアルコール化合物と下記の一般式（I
I）で表されるポリビニルアルコール化合物との混合物
からなる配向膜形成材料層が形成されていることを特徴
とする配向膜形成材料層付き長尺可撓性シートにある。

【００１４】

【化３】

【００１５】（但し、Ｌ¹¹は途中に−Ｏ−、−ＣＯ−、
−ＮＨ−、−ＮＲ¹ −（Ｒ¹ は炭素原子数１〜４のアル
キル基または炭素原子数６〜１５のアリール基を表
す）、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、または炭素原子数６〜２４
のアリーレン基を有しても良いアルキレンオキシカルボ
ニル基；Ｒ¹¹は水素、またはアルキル基を表し；ｘ１、
ｙ１、ｚ１は、各繰り返し単位のモル％量を表し、ｘ１
＋ｙ１＋ｚ１＝１００モル％の条件にて、ｘ１は１０〜
９９．９モル％、ｙ１は０．０１〜８０モル％、ｚ１は
０〜７０モル％であり；ｋ¹ は０または１であり；そし
てＲ¹²は低級アルキル基を表す）

【００１６】

【化４】

【００１７】（但し、Ｌ²¹は途中に−Ｏ−、−ＣＯ−、
−ＮＨ−、−ＮＲ² −（Ｒ² は炭素原子数１〜４のアル
キル基または炭素原子数６〜１５のアリール基を表
す）、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、または炭素原子数６〜２４
のアリーレン基を有しても良いアルキレンオキシカルボ
ニル基；Ｒ²¹は水素、又はアルキル基を表し；ｘ２、ｙ
２、ｚ２は、各繰り返し単位のモル％量を表し、ｘ２＋
ｙ２＋ｚ２＝１００モル％の条件にて、ｘ２は１０〜９
９．９モル％、ｙ２は０．０１〜８０モル％、ｚ１は０
〜７０モル％であり；ｋ² は０または１であり；そして
Ｒ²²は低級アルキル基を表す）

【００１８】上記の配向膜形成材料層付き長尺可撓性シ
ートは、配向膜形成材料層における一般式（Ｉ）で表さ
れるポリビニルアルコール化合物の含有量が、３０〜９
０重量％の範囲内にあり、一般式（II）で表されるポリ
ビニルアルコール化合物の含有量が、１０〜７０重量％
の範囲内にあることが好ましい。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の配向膜形成材料層付き長
尺可撓性シートの配向膜形成材料層は、上記の一般式
（Ｉ）で表されるポリビニルアルコール化合物と上記の
一般式（II）で表されるポリビニルアルコール化合物と
の混合物からなる。

【００２０】一般式（Ｉ）及び一般式（II）において、
Ｌ¹¹及びＬ²¹の例としては、炭素原子数１〜２４のアル
キレンオキシカルボニル基の他、−Ｒ³ −（Ｏ−Ｒ⁴ ）
_t −ＯＲ⁵ −ＣＯ−、−Ｒ³ −ＣＯ−Ｒ⁶ −ＣＯ−、−
Ｒ³ −ＮＨ−Ｒ⁶ −ＣＯ−、−Ｒ³ −ＮＲ⁷ −Ｒ⁶ −Ｃ
Ｏ−、−Ｒ³ −Ｓ−Ｒ⁶ −ＣＯ−、−Ｒ³ −ＳＯ₂ −Ｒ
⁶ −ＣＯ−又は−Ｒ³ −Ａ² −Ｒ⁶ −ＣＯ−（但し、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は、それぞれ炭素原子数１〜２
４のアルキレン基を表わし、Ｒ⁷ は、炭素原子数１〜１
２のアルキル基又は炭素原子数６〜１５のアリール基を
表わし、Ａ² は炭素原子数６〜２４のアリーレン基を表
わし、そしてｔは、０〜４の整数を表わす）で表される
アルキレンオキシカルボニル基が挙げられる。炭素原子
数１〜１２のアルキレンオキシカルボニル基、または−
Ｒ³ −(O-CH₂CH₂)_t −（但し、Ｒ ² 及びＲ³ は、それぞ
れ炭素原子数１〜１２のアルキレン基そしてｔは０〜２
の整数である。）であることが好ましく、特に炭素原子
数が１〜１２のアルキレンオキシカルボニル基が好まし
い。

【００２１】上記アルキレンオキシカルボニル基は、ア
ルキレン基に置換基を有していても良い。置換基の例と
しては、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数
６〜２４のアリール基、炭素原子数１〜２４のアルコキ
シ基、炭素原子数６〜２４のアリールオキシ基、炭素原
子数１〜２４のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２４の
アリールチオ基、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、炭
素原子数２〜２４のアルキルカルボニル基、炭素原子数
７〜２４のアリールカルボニル基、炭素原子数１〜２４
のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２４のアリー
ルスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミ
ノ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルオキシ
基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルオキシ
基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ
基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルオキシ
基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルチオ基、
炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルチオ基、炭素
原子数１〜２４のアルキルスルホニルチオ基、炭素原子
数６〜２４のアリールスルホニルチオ基、炭素原子数２
〜２４のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数７〜
２４のアリールカルボニルアミノ基、炭素原子数１〜２
４のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数６〜２４
のアリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基あるいは
スルホニル基等が挙げられる。

【００２２】上記アルキレン基の好ましい置換基として
は、炭素原子数１〜２４（特に炭素原子数１〜１２）の
アルキル基、炭素原子数６〜２４（特に炭素原子数６〜
１４）のアリール基、炭素原子数２〜２４（特に炭素原
子数２〜１２）のアルコキシアルキル基を挙げることが
できる。アルキル基の例としては、メチル基、エチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ
−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、イソ−プロピル基、
イソ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−アミル基及び
２−エチルヘキシル基が挙げられる。１〜４個のアルコ
キシで置換されたアルキル基の例としては、２−メトキ
シエチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、
２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］エチル
基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−エトキシエチル
基、２−（２−エトキシエトキシ）エチル基、３−メト
キシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ｎ−プ
ロピルオキシプロピル基及び２−メチルブチルオキシメ
チル基を挙げることができる。アリール基の例として
は、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−ト
リル基、２−アニシル基、３−アニシル基、４−アニシ
ル基、２−ビフェニル基、３−ビフェニル基、４−ビフ
ェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル
基、４−クロロフェニル基、１−ナフチル基及び２−ナ
フチル基を挙げることができる。また、複素環基の例と
しては、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基及び
オキサゾリル基が挙げられる。

【００２３】Ｒ¹¹及びＲ²¹は水素、または炭素原子数１
〜６のアルキル基であり、アルキル基の例としては、無
置換のアルキル基（例、メチル、エチル）、炭素数１〜
４のアルコキシで置換されたアルキル基、アラルキル
基、ビニルアルキル基、ビニルアルキル基、ビニルオキ
シアルキル基、オキシラニルアルキル基、アクリロイル
オキシアルキル基、メタクリロイルオキシアルキル基、
クロトノイルオキシアルキル基などが挙げられる。

【００２４】Ｒ¹²及びＲ²²は、水素、またはメチル基、
エチル基が好ましく、水素またはメチル基であることが
特に好ましい。

【００２５】ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００モル％の条件に
て、ｘ１は５０〜９９．９モル％が好ましく、ｙ１は
０．０１〜５０モル％が好ましく（さらに０．０１〜２
０モル％が好ましく、特に０．０１〜１０モル％、最も
好ましくは０．０１〜５モル％）及びｚ１は０．０１〜
５０モル％が好ましい。同様に、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１
００モル％の条件にて、ｘ２は５０〜９９．９モル％が
好ましく、ｙ２は０．０１〜５０モル％が好ましく（さ
らに０．０１〜２０モル％が好ましく、特に０．０１〜
１０モル％、最も好ましくは０．０１〜５モル％）及び
ｚ２は０．０１〜５０モル％が好ましい。

【００２６】本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表され
るポリビニルアルコール化合物の例を示す。これらは、
特開平８−４８１９７号公報に詳しく記載されている。

【００２７】

【化５】

【００２８】上記一般式（Ｖ−１）において、ｘ１、ｙ
１及びｚ１の例を下記の表１に示す。

【００２９】

【表１】表１ ──────────────────────────────────── ｘ１ｙ１ｚ１（モル％）（モル％）（モル％） ──────────────────────────────────── ＰＶＡ（Ｉ）−１８６．３１．７１２ＰＶＡ（Ｉ）−２８５．０３．０１２ＰＶＡ（Ｉ）−３８７．７０．３１２ＰＶＡ（Ｉ）−４７０．０１８．０１２ＰＶＡ（Ｉ）−５８６．９１．１１２ＰＶＡ（Ｉ）−６９８．５０．５１ＰＶＡ（Ｉ）−７９７．８０．２２ＰＶＡ（Ｉ）−８９６．５２．５１ＰＶＡ（Ｉ）−９９４．９４．１１ ────────────────────────────────────

【００３０】

【化６】

【００３１】上記一般式（Ｖ−２）において、ｘ１、ｙ
１及びｚ１の例を下記の表２に示す。

【００３２】

【表２】表２ ──────────────────────────────────── ｘ１ｙ１ｚ１（モル％）（モル％）（モル％） ──────────────────────────────────── ＰＶＡ（Ｉ）−１０８６．３１．７１２ＰＶＡ（Ｉ）−１１８１．７０．３１８ＰＶＡ（Ｉ）−１２８７．７０．３１２ＰＶＡ（Ｉ）−１３８３．０５．０１２ＰＶＡ（Ｉ）−１４８９．０１０．０１ＰＶＡ（Ｉ）−１５７８．０１０．０１２ ────────────────────────────────────

【００３３】本発明に用いられる一般式（II）で表され
るポリビニルアルコール化合物の例を示す。これらは、
特開平８−４８１９７号公報に詳しく記載されている。

【００３４】

【化７】

【００３５】上記一般式（Ｖ−３）において、ｎ、ｘ
２、ｙ２及びｚ２の例を下記の表３に示す。

【００３６】

【表３】表３ ──────────────────────────────────── ｎｘ２ｙ２ｚ２（モル％）（モル％）（モル％） ──────────────────────────────────── ＰＶＡ（II）−１２８０．３１．７１８ＰＶＡ（II）−２３８７．５０．５１２ＰＶＡ（II）−３４９４．０５．０１ＰＶＡ（II）−４４８３．０５．０１２ＰＶＡ（II）−５５８６．９１．１１２ＰＶＡ（II）−６６８７．７０．３１２ ────────────────────────────────────

【００３７】

【化８】

【００３８】上記一般式（Ｖ−４）において、ｘ２、ｙ
２及びｚ２の例を下記の表４に示す。

【００３９】

【表４】表４ ──────────────────────────────────── ｘ２ｙ２ｚ２（モル％）（モル％）（モル％） ──────────────────────────────────── ＰＶＡ（II）−７８７．８０．２１２ＰＶＡ（II）−８８８．００．００３１２ＰＶＡ（II）−９８７．８６０．１４１２ＰＶＡ（II）−１０８７．９４０．０６１２ＰＶＡ（II）−１１８７．２０．８１２ＰＶＡ（II）−１２９８．５０．５１ＰＶＡ（II）−１３９７．８０．２２ＰＶＡ（II）−１４９６．５２．５１ＰＶＡ（II）−１５９４．９４．１１ＰＶＡ（II）−１６８６．９１．１１２ＰＶＡ（II）−１７９８．５０．５１ ────────────────────────────────────

【００４０】上記のポリビニルアルコール化合物は、特
開平８−４８１９７号公報に記載の方法で合成すること
ができる。

【００４１】本発明の配向膜形成材料層は、一般式
（Ｉ）で表されるポリビニルアルコール化合物と一般式
（II）で表されるポリビニルアルコール化合物との混合
物からなる。一般式（Ｉ）で表されるポリビニルアルコ
ール化合物の含有量は３０〜９０重量％が好ましく、５
０〜８０重量％がより好ましく、６０〜７０重量％がさ
らに好ましい。一般式（II）で表されるポリビニルアル
コール化合物の含有量は３０〜９０重量％が好ましく、
２０〜５０重量％がより好ましく、３０〜４０重量％が
さらに好ましい。

【００４２】本発明の配向膜形成材料層を形成するポリ
ビニルアルコール化合物の混合物は、ガラス転移温度
（Ｔｇ）が４０〜１５０℃の範囲内にあることが好まし
く、５０〜８０℃の範囲内にあることがより好ましい。

【００４３】本発明の長尺可撓性シートの材料として
は、透明である限りどのような材料でも使用することが
できる。光透過率が８０％以上を有する材料が好まし
く、特に正面から見た時に光学的等方性を有するものが
好ましい。従って、透明支持体は、小さい固有複屈折を
有する材料から製造することが好ましい。このような材
料としては、ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）、Ａ
ＲＴＯＮ（日本合成ゴム（株）製）及びフジタック（富
士写真フイルム（株）製）などの市販品を使用すること
ができる。さらに、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリスルフォン及びポリエーテルスルホンなどの固
有複屈折率の大きい素材であっても、溶液流延、溶融押
し出し等の条件を適宜設定することにより、得ることが
できる。

【００４４】本発明の配向膜形成材料層は、上記のポリ
ビニルアルコール化合物、架橋剤を含む塗布液を長尺可
撓性シート上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）形成
することができ、架橋反応は、長尺可撓性シート上に塗
布した後、任意の時期に行なっても良い。そして、塗布
液は消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒と水の混合
溶媒とすることが好ましく、その比率は重量比で水：メ
タノールが０：１００〜９９：１が一般的であり、０：
１００〜９１：９であることが好ましい。これにより、
泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表
面の欠陥が著しく減少する。

【００４５】塗布方法としては、スピンコーティング
法、ディップコーティング法、カーテンコーティング
法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティ
ング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。特にＥ型
塗布法が好ましい。また、膜厚は０．１〜１０μｍが好
ましい。加熱乾燥は２０℃〜１１０℃で行なうことがで
きる。充分な架橋を形成させるためには６０℃〜１００
℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥
時間は１分〜３６時間で行なうことができる。好ましく
は５分間乃至３０分間である。ｐＨも、使用する架橋剤
に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデ
ヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５
が好ましい。

【００４６】下塗層を、透明支持体上に、透明支持体と
配向膜との接着強度を増大させるために設けることが好
ましい。一般にゼラチンが使用される。

【００４７】上記ポリビニルアルコール化合物の架橋剤
の具体例として、下記のものを挙げることができる。例
えば、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グリオキ
ザール及びグルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロール化合
物（例、ジメチロール尿素及びメチロールジメチルヒダ
ントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジヒドロ
キシジオキサン）、カルボキシル基を活性化することに
より作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナフタレ
ンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロ
ピリジニウム及び１−モルホリノカルボニル−３−（ス
ルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物（例、
１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリ
アジン、ビス（ビニルスルホン）メタン及びＮ，Ｎ’−
メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロピオン
アミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−ジクロ
ロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオキサゾ
ール類、及びジアルデヒド澱粉、などを上げることがで
きる。これらは、単独または組合せて用いることができ
る。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアルデヒド
類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好ましい。

【００４８】架橋剤の添加量は、耐湿性に関しては、多
く添加した方が良化傾向にある。しかし、配向膜として
の配向能が、ポリマーに対して５０重量％以上添加した
場合に低下することから、０．１〜２０重量％が好まし
く、特に０．５〜１５重量％が好ましい。配向膜形成材
料層は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架
橋剤をある程度含んでいるが、その架橋剤の量は、配向
膜中に１．０重量％以下であることが好ましく、特に
０．５重量％以下であることが好ましい。配向膜中に
１．０重量％を超える量で架橋剤が含まれていると、充
分な耐久性が得られない。

【００４９】本発明の配向膜形成材料層付き長尺可撓性
シートを、保管する際には、相対湿度６５％以下、好ま
しくは５５％以下の場所で保管するのが良い。さらに、
配向膜形成材料層付き長尺可撓性シートを防湿包装して
保管することが好ましい。

【００５０】本発明の配向膜形成材料付き長尺可撓性シ
ートは、配向膜形成材料層にラビング処理を行うことに
より配向膜付き長尺可撓性シートとする。この配向膜の
上に例えば、液晶性ディスコティック化合物を塗布乾燥
して光学補償シートを製造することができる。

【００５１】

【実施例】（配向膜形成材料層付き長尺可撓性シートの
製造）［実施例１］（試料１−１）ゼラチン薄膜（０．１μｍ）を塗設した
１００μｍ厚さを有するトリアセチルセルロースのフィ
ルム（富士写真フイルム（株）製）上に、下記の組成か
らなる配向膜形成材料層用塗布液をバーコーターで塗布
し、６０℃で４分間加熱乾燥し、厚さ０．５μｍの配向
膜形成材料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（下記の化合物：ＰＶＡ（Ｉ）−５）９ｇポリビニルアルコール化合物（下記の化合物：ＰＶＡ（II）−１１）１ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５２】

【化９】

【００５３】

【化１０】

【００５４】（試料１−２）下記の組成からなる配向膜
形成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の試料１−１
と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材料層を形
成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−５）７ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−１１）３ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５５】（試料１−３）下記の組成からなる配向膜
形成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の試料１−１
と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材料層を形
成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−５）５ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−１１）５ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５６】（試料１−４）下記の組成からなる配向膜
形成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の試料１−１
と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材料層を形
成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−５）３ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−１１）７ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５７】（試料１−５）下記の組成からなる配向膜
形成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の試料１−１
と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材料層を形
成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−５）１ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−１１）９ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５８】［実施例２］（試料２−１）下記の組成からなる配向膜形成材料層用
塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の試料１−１と
同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材料層を形成
した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−１０）７ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−２）３ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００５９】

【化１１】

【００６０】

【化１２】

【００６１】（試料２−２）下記の組成からなる配向膜
形成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の
試料１−１と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成
材料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−１０）５ｇポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−２）５ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００６２】［比較例１］下記の組成からなる配向膜形
成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の試
料１−１と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材
料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−５）１０ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００６３】［比較例２］下記の組成からなる配向膜形
成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の試
料１−１と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材
料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−１１）１０ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００６４】［比較例３］下記の組成からなる配向膜形
成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の試
料１−１と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材
料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（Ｉ）−１０）１０ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００６５】［比較例４］下記の組成からなる配向膜形
成材料層用塗布液を用いた以外は、上記の実施例１の試
料１−１と同様にして、厚さ０．５μｍの配向膜形成材
料層を形成した。＜配向膜形成用塗布液＞ポリビニルアルコール化合物（ＰＶＡ（II）−２）１０ｇ水３７１ｇメタノール１１９ｇグルタルアルデヒド（架橋剤）０．５ｇ

【００６６】（配向膜付き長尺可撓性シートの製造）上
記の実施例及び比較例で製造した配向膜形成材料層を、
ラビングロール（直径１５０ｍｍ）を用いて、シート搬
送速度１０ｍ／分、ラビング回転数１２００ｒｐｍ及び
シート基板搬送張力４ｋｇｆ／ｃｍの条件でラビング処
理を行ない、配向膜にした。

【００６７】（光学補償シートの製造）この配向膜上
に、下記式で表される液晶性ディスコティック化合物
１．６ｇ、エチレングリコール変性トリメチロールプロ
パントリアクリレート（Ｖ＃３６０；大阪有機化学工業
（株）製）０．２ｇ、セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２；イーストマンケミカル社製）
０．０４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア−９０７；チ
バ・ガイギー社製）０．０６ｇ及び増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを、３．４
３ｇのメチルエチルケトンに溶解して得られた塗布液
を、ワイヤーバーで塗布（＃３バー）し、金属の枠に貼
りつけて固定して１２０℃の高温槽中で３分間加熱し、
デイスコティック化合物を配向させた後、１２０℃のま
ま高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて、照度６００
ｍＷ／ｃｍ² で１秒間ＵＶ照射し、室温まで放冷して、
厚さ１．８μｍの液晶性ディスコティック化合物を含む
層（光学異方層）を有する光学補償シートを製造した。

【００６８】

【化１３】

【００６９】（評価）実施例及び比較例で製造した配向
膜形成材料層付き長尺可撓性シートを用いて製造した光
学補償シートの配向欠陥及び異物の混入量を調査した。
配向欠陥は、拡大倍率１０倍のルーペを用いて、光学補
償シートの表面を目視観察し、１００μｍ以上の光学的
な欠陥の発生数を数えることにより評価した。光学補償
シート１ｍ² 当たり、光学的欠陥の発生数が１０個以下
のものをＡＡとし、１０〜２０個の範囲内のものをＢＢ
とし、２０個以上のものをＣＣとした。異物の数は、拡
大倍率１０倍のルーペを用いて、光学補償シートの表面
を目視観察し、１００μｍ以上の異物の個数を数えた。
光学補償シート１ｍ² 当たり、異物の数が１０個以下の
ものをＡＡとし、１０〜２０個の範囲内のものをＢＢと
し、２０個以上のものをＣＣとした。その結果を表５に
示す。

【００７０】

【表１】表５ ────────────────────────────────── ＰＶＡの番号配向欠陥異物の混入量 ────────────────────────────────── 実施例１試料１−１（Ｉ）−５／（II）−１１＝９／１ＢＢＢＢ試料１−２（Ｉ）−５／（II）−１１＝７／３ＡＡＡＡ試料１−３（Ｉ）−５／（II）−１１＝５／５ＢＢＢＢ試料１−４（Ｉ）−５／（II）−１１＝３／７ＢＢＢＢ試料１−５（Ｉ）−５／（II）−１１＝１／９ＢＢＢＢ実施例２試料２−１（Ｉ）−１０／（II）−２＝７／３ＢＢＢＢ試料２−２（Ｉ）−１０／（II）−２＝５／５ＡＡＢＢ ────────────────────────────────── 比較例１（Ｉ）−５ＣＣＢＢ比較例２（II）−１１ＢＢＣＣ比較例３（Ｉ）−１０ＣＣＢＢ比較例４（II）−２ＢＢＣＣ ──────────────────────────────────

【００７１】上記の結果から、実施例１及び実施例２で
製造した配向膜形成材料層付き長尺可撓性シートを用い
た光学補償シートは、光学的な欠陥や異物の混入が少な
いことがわかる。

【００７２】

【発明の効果】本発明の配向膜形成材料層付き長尺可撓
性シートは、配向膜形成材料層をラビング処理によっ
て、容易に配向し、また、連続搬送中においては配向膜
形成材料層に傷が付きにくい。従って、ラビングローラ
の回転数を低く設定することができるので、ラビング処
理の際に発生する塵埃の発生や配向膜の帯電する静電気
量が少なくなり、配向膜に塵埃などの異物が付着しにく
くなる。発明の配向膜形成材料層付き長尺可撓性シート
を用いることにより、光学欠陥や異物の混入の少ない光
学補償シートや液晶パネルを容易に製造することがで
き、歩留まりも高くなる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】長尺可撓性シートの少なくとも一方の面
に、下記の一般式（Ｉ）で表されるポリビニルアルコー
ル化合物と下記の一般式（II）で表されるポリビニルア
ルコール化合物との混合物からなる配向膜形成材料層が
形成されていることを特徴とする配向膜形成材料層付き
長尺可撓性シート。【化１】（但し、Ｌ¹¹は、途中に−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、
−ＮＲ¹ −（Ｒ¹ は炭素原子数１〜４のアルキル基また
は炭素原子数６〜１５のアリール基を表す）、−Ｓ−、
−ＳＯ₂ −、または炭素原子数６〜２４のアリーレン基
を有しても良いアルキレンオキシカルボニル基を表し；
Ｒ¹¹は水素、または炭素原子数１〜６のアルキル基を表
し；Ｒ¹²は低級アルキル基を表し；ｘ１、ｙ１、ｚ１
は、各繰り返し単位のモル％量を表し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ
１＝１００モル％の条件にて、ｘ１は１０〜９９．９モ
ル％、ｙ１は０．０１〜８０モル％、ｚ１は０〜７０モ
ル％であり；そしてｋ¹ は０または１である）【化２】（但し、Ｌ²¹は、途中に−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、
−ＮＲ² −（Ｒ² は炭素原子数１〜４のアルキル基また
は炭素原子数６〜１５のアリール基を表す）、−Ｓ−、
−ＳＯ₂ −、または炭素原子数６〜２４のアリーレン基
を有しても良いアルキレンオキシカルボニル基を表し；
Ｒ²¹は水素、または炭素原子数１〜６のアルキル基を表
し；Ｒ²²は低級アルキル基を表し；ｘ２、ｙ２、ｚ２
は、各繰り返し単位のモル％量を表し、ｘ２＋ｙ２＋ｚ
２＝１００モル％の条件にて、ｘ２は１０〜９９．９モ
ル％、ｙ２は０．０１〜８０モル％、ｚ１は０〜７０モ
ル％であり；そしてｋ² は０または１である）
【請求項２】配向膜形成材料層における一般式（Ｉ）
で表されるポリビニルアルコール化合物の含有量が、３
０〜９０重量％の範囲内にあり、一般式（II）で表され
るポリビニルアルコール化合物の含有量が、１０〜７０
重量％の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載
の配向膜形成材料層付き長尺可撓性シート。