JP2000158839A - 平版印刷版用支持体の製造方法、該製造方法で製造した平版印刷版用支持体及び該支持体を用いた平版印刷版 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法、該製造方法で製造した平版印刷版用支持体及び該支持体を用いた平版印刷版Info
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Abstract
な塗布により行うことができ、かつ、印刷版としての性
能、親水性の持続性及び汚し回復性に優れ、かつ、十分
な耐刷性を有し、親水性表面加工後ロール巻きにして保
存した場合にブロッキング発生しない印刷版用支持体と
その製造方法を提供する。 【解決手段】 粒子径が5〜100nmのコロイダルシ
リカと、少なくともカルボン酸ポリマーを含む水溶性ポ
リマーと、水とで組成されてなり、該コロイダルシリカ
と該水溶性ポリマーはその固形分重量比が30:70〜
70:30、その合計含有量が4〜20重量%であると
ともに、該カルボン酸ポリマー中のカルボキシル基の含
有量が20〜63重量%であり、かつ、全体のpH値が
1〜5である塗布液を、基材上に塗布、乾燥して親水性
層を形成することを特徴とする平版印刷版用支持体の製
造方法。
Description
に使用される親水性の表面を有する支持体の製造方法及
び該製造方法で製造する支持体並びに該支持体を用いた
平版印刷版に関する。
持体表面は、保水性・耐刷性を付与するために粗面加工
され、さらに親水性・耐摩耗性を付与するために陽極酸
化による酸化物皮膜層形成処理が行われてきた。
ブランケットに転移したり、空中に蒸発して失われる。
粗面化され保水性が優れた支持体は、このような湿し水
の転移、蒸発を抑制したり、急激な湿し水の変動に対し
て緩衝効果をもつ。版の保水性が良くないと、湿し水と
インキバランスが取り難く、汚れや画質の変動が起きや
すい。また、親水性は、より湿し水にぬれやすく、イン
キを反発する表面にすることが目的であり、親水性が良
くないと、汚れが発生しやすくなる。例えば、手で触っ
たときに付着する汗(皮脂)などが原因で汚れを発生し
たり、汚し回復性が劣る。汚し回復性とは、何らかの原
因で汚れが発生しても、湿し水を供給することで次第に
汚れが取り除かれ正常な印刷物が得られることをいう。
一方、粗面化された支持体は、画像層との接着性が優れ
耐刷性が良い。また、酸化皮膜層は硬質皮膜のため支持
体耐摩耗性に優れより耐刷性を向上させることが可能で
ある。
的(アルカリ・酸溶解等)、機械的(研磨剤を用いたブ
ラシ研磨、サンドブラスト、液体ホーニング、粗さ転写
ロールでの圧延等)、電気化学的(酸性溶液中での交流
または直流の電解処理)な粗面化が知られており、支持
体表面の加工にはこれらの方法のいくつかを適宜組み合
わせて行われている。
のピットを形成するには電気化学的粗面化が必須である
が、均一な粗面を安定して形成するためには電解液の酸
の濃度、電解液中に溶け込むアルミの濃度、前処理の影
響で混入する不純物濃度、電解液温度等を厳密にコント
ロールする必要があり、また、使用可能なアルミ原反の
組成範囲も狭く、組織の均一性も良好であることを必要
とする等、制限が多い。
0%の高濃度の硫酸水溶液が使用され、安全性の問題
や、廃液処理等の環境面の問題も有している。
を必ずしも必要としない印刷版用支持体の表面加工方法
として、特表平9−504241号(WO95/180
19)のような、機械的粗面化で基材の表面粗さRaを
0.3〜1.5μmに加工した後、酸化物粒子を熱噴霧
(プラズマ溶射)処理で粗面化した表面に親水性層とし
て形成させるオフセット印刷版の支持体の製造方法や、
国際特許出願WO96/06200のような、特定の物
質をプラズマ法により1.9984×104Pa(15
0torr)以下の低圧下で支持体表面に層として形成
する平版印刷版用支持体の製造方法が提案されている。
粗面化では保水性を良好にする0.1〜数μm径のピッ
トを形成することができず、また印刷性能が不充分であ
り、かつ、連続して熱噴射処理加工するときの幅方向お
よび長手方向の加工処理の安定性に欠け、コスト的にも
満足のいくものではない。
では、基材上に無機粒子を分散させたシリケート水溶液
を塗布して親水性層を形成することを特徴とする印刷版
用支持体の製造方法が提案されている。この方法ではコ
スト低減を達成することは可能であるが、表面に多重的
な粗さ構造を付与することができず保水性が不充分であ
り、印刷時の水量変動により画質が低下したり、汚れが
発生したりする問題がある。また、結合剤は単なる水ガ
ラスであるため柔軟性に欠け、クラックが入りやすく剥
離しやすい欠点があり、耐刷性も満足のいくものではな
い。
技術では、支持体上に設けられた画像受容層が空隙率3
0〜80%を有する三次元網目構造を有し、該層の構造
が平均1次粒子径が100nm以下の無機微粒子と水溶
性樹脂から形成されているオフセット印刷版用基板が提
案されている。しかし、この技術には、初期の段階の親
水性は良好ではあるが、日間作業時などのように印刷機
を停止し、版が長時間放置されると親水性が劣る傾向が
あり、最終的には、汚れが発生するという問題があっ
た。
目的は、印刷版用支持体の親水性表面加工を安価で加工
安定性に優れる塗布により行うことができ、かつ、平版
印刷版としての性能、保水性、特に湿し水量の急激な変
動に対して緩衝性があり、親水性、特に汚し回復性、触
ったときに付着する汗(皮脂)による汚し回復性、長時
間放置後の汚れ性に優れ、かつ、十分な耐刷性を有する
印刷版用支持体および支持体の製造方法を提供すること
にある。
用の支持体をロール巻きにして保存した場合に、平版印
刷版用の支持体どうしが付着してしまい、巻き戻し時
に、塗布面が剥がれたりする、いわゆるブロッキングが
発生する事がない取り扱い性の優れた平版印刷版用支持
体および支持体の製造方法を提供することにある。
明の構成は下記である。
ルシリカと、少なくともカルボン酸ポリマーを含む水溶
性ポリマーと、水とで組成されてなり、該コロイダルシ
リカと該水溶性ポリマーはその固形分重量比が30:7
0〜70:30、その合計含有量が4〜20重量%であ
るとともに、該カルボン酸ポリマー中のカルボキシル基
の含有量が20〜63重量%であり、かつ、全体のpH
値が1〜5である塗布液を、基材上に塗布、乾燥して親
水性層を形成することを特徴とする平版印刷版用支持体
の製造方法。
することを特徴とする上記(1)に記載の製造方法。
することを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の製
造方法。
形成する平版印刷版用支持体の製造方法において、上記
多孔質無機粒子を機械的分散により破砕する工程を含む
ことを特徴とする上記(2)又は(3)に記載の製造方
法。
に記載の親水性層の乾燥後の塗膜量が0.5〜3.5g
/m2になるように塗布することを特徴とする製造方
法。
に記載の方法で製造することを特徴とする平版印刷版用
支持体。
された平版印刷版用支持体の親水性層表面に形成された
球状のシリカゲルの独立粒径が0.1〜4.0μmであ
り、かつ親水性層表面の平均粗さRaが0.2〜1.0
μmであることを特徴とする平版印刷版用支持体。
印刷版用支持体上にインク受容性画像層を設けたことを
特徴とする平版印刷版。
定なコロイド溶液として液中に存在しており、塗布して
加熱乾燥する段階で水分が揮発して酸性度が上昇しつつ
(pHが1以下になりつつ)皮膜が形成される際に、コ
ロイダルシリカが独立した状態で球状化し、塗膜表面が
粗面化状態となる。これにより、高レベルの親水性が得
られ汚し回復性及び触ったときに付着する汗(皮脂)に
よる汚れに優れる。更に粗面化状態によって優れた保水
性が得られるようになり、湿し水量の急激な変動に対し
て緩衝性があり、汚れや、画像濃度の変動の少ない平版
印刷版支持体を得ることが可能である。しかも、この優
れた親水性は初期段階のみならず長期にわたって維持さ
れるため日間作業時などのように印刷機を停止し、版が
長時間放置された後の汚れも解消することができる。更
にまた、この平版印刷版用支持体は、その塗膜表面に粒
状のシリカゲルが密集して存在して塗膜表面が粗面化状
態にあるため、物理的な影響すなわち耐刷性に優れる。
また、平版印刷版用支持体をロール巻きしたり重ね合わ
せたとしても、ブロッキングが発生することはない。
は、コロイド状態のシリカ粒子(一般に粒径(直径)が
1〜500nmの範囲)を水あるいは有機溶媒に分散さ
せたコロイド溶液を意味する。
粒径のコロイダルシリカは水性分散液として提供され
る、酸(pH1〜4)安定型のシリカゾル又はアルカリ
(pH9〜10.5)安定型のシリカゾルのいずれであ
ってもよく、その粒子径が5〜100nm、好ましくは
10〜30nmのものが使用される。本発明において、
コロダルシリカの粒子径は、BET法による平均粒径
(BET法により表面積を測定し、平均粒径を算出す
る)である。以下の記載において、コロダルシリカの粒
子径は特に断らない限りこの方法において測定したもの
である。アルカリ安定型のコロイダルシリカを使用する
場合には、そのコロイダルシリカはカルボン酸の酸によ
り中和されることになるが、pH値1〜5の浴中におい
てシリカの凝集を最小限にするため、そのアルカリ安定
型コロイダルシリカが浴中でpH値5〜7の中性域を通
過(滞留)する時間を極力短縮させることが重要であ
る。粒子径が5nm未満では、シリカが凝集しやすくな
り、必要な粗面化状態の塗布表面が得られず親水性レベ
ルも低くなる。反対に100nmを超えると、シリカど
うしが合体して塗布液の安定性が悪化する。
性のカルボン酸ポリマー(カルボキシル基を有するポリ
マー)と、必要に応じて併用する後述の他のポリマー材
料とを含むものである。この水溶性ポリマーは、そのポ
リマーに存在するカルボン酸ポリマー中のカルボキシル
基の含有量、即ちカルボン酸ポリマ−の全重量中に占め
るカルボキシル基(COOH)の重量割合が20〜63
重量%である。この含有量が20重量%未満では水に対
する溶解性が悪くなり、一方、含有量の上限値(63重
量%)は全量がアクリル酸ポリマーとするときの理論計
算値上の上限値なので、この値を超えることは実際には
あり得ない。このカルボキシル基の含有量については、
例えば、塗布前の液状態時には化学的分析方法(例えば
中和滴定により反応量を求めて換算する)により測定
し、塗布後の皮膜状態時には赤外分光分析方法により測
定する。
状態として存在するときはpH調整剤として機能し、塗
布による皮膜形成時にはコロイダルシリカ粒子の造膜保
持剤やバインダーとして機能する。このカルボン酸ポリ
マーとしては、ポリアクリル酸樹脂、ポリメタクリル酸
樹脂、ポリアクリル酸系共重合体、ポリアクリル酸のエ
ステル化物等のアクリル酸系ポリマーが単独で又は混合
されて使用される。ちなみに、アクリル酸系ポリマー単
体の水溶液(濃度:20重量%)のpH値は1〜3であ
る。また、カルボン酸ポリマーは、平均分子量が好まし
くは2000〜500000、より好ましくは1500
0〜100000である。この分子量が2000未満で
は、塗膜が水に簡単に溶解してしまい、反対に5000
00を超えると、塗料としての粘度が異常に高くなり水
に溶解し難くなり、また、他のポリマーとの相溶性が悪
くなり、塗布時に糸曳き現象が発生するようになって良
好な塗布ができなくなる。
としては、例えば、分子中にエーテル結合を有する樹脂
(ポリエチレングリコール、ポリエーテル系ウレタン、
ポリグリシジルエーテル化合物など)等が挙げられる。
このエーテル結合を有する樹脂を使用した場合には、熱
黄変性の少ない塗膜が得られる。
を水に不溶化させるための架橋剤や造膜軟化剤として機
能するポリマー材料等を配合することができる。架橋剤
として機能させるポリマーとしては、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アル
コール類、水溶性エポキシ樹脂、水溶性メラミン樹脂、
イソシアネート等の水溶性ウレタンポリマー等が使用さ
れる。また、造膜軟化剤として機能させるポリマーとし
ては、ポリアクリルアミド、ポリエチレングリコール、
ポリビニルアルコール、水溶性ポリエステル等が使用さ
れる。これらの配合量については、架橋剤ではカルボン
酸の等量値を限度とし、造膜軟化剤では水溶性ポリマー
の配合量からカルボン酸ポリマーと架橋剤の合計配合量
を除いた量を限度とする。
粒径のコロイダルシリカと水溶性ポリマーは、固形分重
量比が30:70〜70:30、好ましくは40:60
〜70:30となるように配合される。該コロイダルシ
リカの固形分重量比が30未満では塗膜の全表面積に占
める親水基の濃度が不十分なため親水性持続量が低下し
てしまい、反対にその重量比が70を超えて水溶性ポリ
マーの配合量がすくなくなると塗膜がもろくなる。
シリカ及び水溶性ポリマーの他に多孔質無機粒子を含有
することが好ましい。本発明における多孔質無機粒子は
コロイド状態の粒子ではない粉体の粒子である。
は、アルギン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マ
グネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、シリカ(酸化珪素)、アルミノシリケー
ト、ジルコン系等の微粒子を挙げることができる。
ミノシリケートの多孔質粒子が好ましい。多孔質シリカ
粒子は一般に湿式法または乾式法により製造される。湿
式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾
燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を粉砕するこ
とで得ることができる。乾式法では四塩化珪素を水素と
酸素とともに燃焼し、シリカを析出することで得られ
る。これらの粒子は製造条件の調整により多孔性や粒径
を制御することが可能である。多孔質シリカ粒子として
は、湿式法のゲルから得られるものが特に好ましい。多
孔質アルミノシリケート粒子は例えば特開平10−71
764号公報に記載されている方法により製造される。
すなわち、アルミニウムアルコキシドと珪素アルコキシ
ドを主成分として加水分解法により合成された非晶質な
複合体粒子である。
リカの比率は1:4〜4:1の範囲で合成することが可
能である。また、製造時にその他の金属のアルコキシド
を添加して3成分以上の複合体粒子として製造したもの
も本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件
の調整により多孔性や粒径を制御することが可能であ
る。
の状態で、細孔容積で1.0ml/g以上であることが
好ましく、1.2ml/g以上であることがより好まし
く、1.8ml/g以上2.5ml/g以下であること
がさらに好ましい。細孔容積は塗膜の保水性と密接に関
連しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となっ
て印刷時に汚れにくく、保水性も高くなるが、2.5m
l/gよりも大きくなると粒子自体が非常に脆くなるた
め塗膜の耐久性が低下する。細孔容積が1.0ml/g
未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、保水性が不充分
となる。粒径としては、親水性層に含有されている状態
で(分散破砕工程を経た場合も含めて)、実質的に1μ
m以下であることが好ましく、0.5μm以下であるこ
とがさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると親水性層
表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲にイン
クが残りやすくなって非画線部汚れが劣化する。
カ及び水溶性ポリマーの他に無孔質無機粒子を含有する
か、前記コイダルシリカ、水溶性ポリマー及び多孔質無
機粒子の他に無孔質無機粒子を含有することが好まし
い。本発明における無孔質無機粒子はコロイド状態では
ない粉体の粒子である。
金属酸化物粒子(シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコ
ニア、酸化鉄、酸化クロム等)や金属炭化物粒子(炭化
珪素等)、窒化ホウ素粒子、ダイアモンド粒子等が挙げ
られる。無孔質無機粒子は鋭角な角を有していない方が
好ましく、例えば溶融シリカ粒子、シラスバルーン粒子
等球形に近い粒子が好ましい。
積がBET値で50m2/g以下であることが好まし
く、10m2/g以下であることがさらに好ましい。
倍であることが好ましく、1.1〜1.5倍であること
がさらに好ましい。
しく、平均粒径の0.8〜1.2倍の範囲に全体の60
%以上が含まれることが好ましく、さらに、平均粒径の
2倍以上の粒子が5%以下であることが好ましい。
は、その合計量が、前記コロイダルシリカと水溶性ポリ
マーの合計固型分量に対して、5〜70wt%の範囲が
好ましく、より好ましくは20〜50wt%の範囲であ
る。5wt%よりも少ないと配合した効果が得られず、
70wt%よりも多いと、親水性層と基材の接着性が劣
り耐刷性が劣化する。また、多孔質無機粒子と無孔質無
機粒子の配合比は、前記配合量の範囲で任意に設定する
事ができる。
コロイダルシリカ及び水溶性ポリマーの合計含有量が4
〜20重量%となるように配合する。この合計配合量が
4重量%未満では所望レベルの親水性を付与することが
できず塗膜の均一性が低下し、反対に20重量%を超え
ると液の粘度が上昇して塗布作業性が低下したり塗膜の
均一性が低下する。
1未満では含有成分の塗布液中での安定性が悪く、塗膜
形成時に支持体を溶解するおそれもあるため適当ではな
く、pHが5を超えると親水性層の皮膜形成時にコロイ
ダルシリカが球状となって表層部に析出しない。このp
H値の調整は、カルボン酸ポリマーの配合量を調整する
ことにより行うことができるが、硝酸或いは酢酸等の揮
発性酸を用いて行ってもよい。
て、水溶性有機溶剤、レベリング剤、消泡剤、界面活性
剤、防腐剤、抗菌剤、抗かび剤等の任意成分を添加する
ことができ、その場合には塗布液全体に対して合計含有
量が30重量%を超えない範囲内で添加する。また、任
意成分ごとの各含有量は塗布液全体に対して0.1〜1
0重量%の範囲内とする。なお、塗布液の浴中にはクロ
ムイオン等の多価の金属イオンを添加しないことが必要
である。このクロムイオンを添加した場合には、浴保存
中において水溶性ポリマーとしてのアクリル酸ポリマー
の重合硬化が進行して、適切な塗膜を形成することが困
難となる。
するために添加するものであり、具体的にはメチルアル
コール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチ
ルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類等
が使用される。レベリング剤は、塗布液の表面張力を低
下させるために添加するものであり、具体的にはポリシ
ロキサン、シリコンオリゴマー等のシリコン系レベリン
グ剤や、パーフルオロアルキル等のフッ素系レベリング
剤や、ポリアクリレート等のアクリル系レベリング剤等
が使用される。消泡剤は、塗布液の調製時や塗布時にお
ける泡発生を抑制するために添加するもので、具体的に
はポリプロピレングリコール等のグリコール類や、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノー
ル、イソブタノール等の低級アルコール類や、金属せっ
けん等の高級脂肪酸金属せっけん等が使用される。界面
活性剤は、塗布液の表面張力を低下させて塗布性を向上
させたり塗膜における初期の親水性塗布液として機能さ
せるために添加するものであり、具体的にはアルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のア
ニオン系界面活性剤や、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等の非イオ
ン系界面活性剤等が使用される。なお、カチオン系界面
活性剤は塗布液の浴安定性から好ましくない。防腐剤、
抗菌剤、抗かび剤等は、腐食臭やかび発生によるかび臭
が発生するのを防止するために添加し、具体的には2
(4チアゾリル)−ベンゾイミダゾ−ル、2−ベンズイ
ミダゾ−ルカルバミン酸メチル、2−ジカルボキシイミ
ド・o−フェニルフェノール等のイミダゾール系のもの
等が使用される。この防腐剤、抗菌剤、抗かび剤等は固
形分配合量が総量として5〜20重量%となるように添
加することが好ましい。
条件で配合することにより水性の塗布液として調製す
る。溶媒ないし分散媒として使用する水は、特に限定さ
れるものではないが、脱イオン水、純水等が使用され
る。この水は塗布液全体のうちコロイダルシリカと水溶
性ポリマーを除いた残部に相当するため、その含有量は
後述する任意成分も含めて80〜96重量%である。
械的分散により破砕する工程を行い塗布液を調整する事
が好ましい。該粒子の分散破砕には大きく乾式と湿式と
に分けることができる。乾式の分散破砕では乾燥工程が
不要であるため工程は比較的シンプルとなるが、サブミ
クロンオーダーまでの分散破砕には通常湿式の方が有利
である。乾式の分散破砕装置としては、高速回転衝撃剪
断式ミル(例えばアニュラータイプのイノマイザ)、気
流式粉砕機(ジェットミル)、ロール式ミル、乾式の媒
体撹拌ミル(例えばボールミル)、圧縮剪断型粉砕機
(例えばオングミル)などが使用できる。湿式の分散破
砕装置としては、湿式の媒体撹拌ミル(例えばボールミ
ル、アクアマイザ)、高速回転式剪断摩擦式ミル(例え
ばコロイドミル)などが使用できる。分散破砕後の多孔
質粒子の粒径は実質的に1μm以下であることが好まし
く、0.5μm以下であることがさらに好ましい。ま
た、粗大粒子が残存した場合には分級もしくはろ過によ
り除去してもよい。特に湿式分散を行った場合は、多孔
質粒子を乾燥させることなく塗布液を調整することが好
ましい。分散破砕または分散剥離を行った粒子を乾燥さ
せると再凝集を生じる場合があるためである。塗布液の
固形分濃度を調整するために濃縮または希釈を行っても
よい。さらに、上記分散破砕において、表面処理剤を添
加することで粒子に表面処理を行うこともできる。ま
た、上記分散破砕において、塗布液に添加する他の成分
を添加して同時に分散してもよく、あるいは上記分散破
砕の後で、塗布液に添加する他の成分を添加して再度分
散を行ってもよい。分散破砕においては、メカノケミカ
ルな反応が同時に起こっていると考えられ、塗布液に添
加する他の成分と同時に分散した場合、塗膜となった際
の強度向上効果が得られる場合がある。
として使用される公知の材料を使用することができる。
例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィ
ン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合
基材等が挙げられる。
能であれば特に制限されるものではないが、50〜50
0μmのものが一般的に取り扱いやすい。
ニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特に
アルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その
表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除
去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用
される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱
脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが
好ましい.例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等
のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布
した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化
処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することがで
きる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を
組合わせて使用することもできる。また、公知の方法で
粗面化されたアルミニウム板を使用することもできる。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
スルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエス
テル類等を挙げることができる。特にポリエチレンテレ
フタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
これらのプラスチックフィルムは親水性層との接着性を
向上させるために、親水性層の塗布面に易接着処理や下
塗り層塗布を行うことが好ましい。易接着処理として
は、コロナ放電処理や火炎処理、紫外線照射処理等が挙
げられる。また、下塗り層としては、ゼラチンやラテッ
クスを含む層等が挙げられる。
貼り合わせて使用するが、親水性層を形成する前に貼り
合わせてもよく、また、親水性層を形成した後に貼り合
わせてもよく、印刷機に取り付ける直前に貼り合わせて
もよい。
法、バーコート法、スプレー法、浸漬法等の塗布手段を
用いて固形分付着量が0.5〜3.5g/m2になるよ
うに行う。この付着量が0.5g/m2未満では耐刷力
が充分得られない、反対に3.5g/m2を超えると、
耐刷力の向上がなく、また、該平版印刷版用支持体をロ
ール巻きしたときに塗膜が剥離する等の問題が発生す
る。
00℃、加熱時間が0.5〜20分の条件で行うことが
好ましい。加熱温度が80℃未満では乾燥が不充分にな
ったり、ポリマー成分が未硬化となり、その塗膜が水に
触れた際に溶解してしまい、反対に200℃を超えると
基材が変形して、平版印刷印刷版として好ましくない。
また、ポリマー成分の硬化が進み過ぎて塗膜がもろくな
る。また、加熱時間が20分を超えると、塗膜性能の向
上がみられないばかりか、生産コストの上昇を招く。
親水性層の表面は、球状の突起が形成され粗面化状態が
得られる。シリカゲルの独立粒径とは、この表面に観察
される球状の粒子径をいう。理由はさだかでないが、本
発明の塗布液は、コロイダルシリカが安定なコロイド溶
液として液中に存在しており、塗布して加熱乾燥する段
階で水分が揮発して酸性度が上昇しつつ(pHが1以下
になりつつ)皮膜が形成される際にコロイダルシリカが
独立した状態で球状にゲル化し、球状の突起が形成され
粗面化状態が得られると考えられる。皮膜形成時に形成
される球状のシリカゲルの独立粒径は0.1〜4.0μ
m、好ましくは0.2〜2.5μmである。また平均粗
さRaとしては、0.2〜1.0μmの範囲が好ましく
0.2〜0.5μmの範囲が更に好ましい。
より小さいか、或いは平均粗さRa0.2μmよりも小
さいと、保水性が低下し、湿し水の変動を受けやすく、
汚れや、画像濃度の変動が生じる。球状のシリカゲルの
独立粒径は2.5μmより大きいか、或いは平均粗さR
a1.0μmよりも大きいと、凹凸部にインキが付着し
やすくなり汚れが発生する。
0.2〜10μmが好ましく、0.5〜5μmがさらに
好ましい。したがって平均粒径は0.2〜20μmであ
ることが好ましく、0.5〜10μmであることがさら
に好ましい。
うな公知の方法により画像を形成することができるが、
これらの方法に限るものではない。
ンキ受容素材を付着させてインク受容性画像層を形成す
る。該インキ受容素材は耐水性を有する素材であって、
ホットメルトや画像形成後に熱または光で硬化する熱硬
化性物質または光硬化性物質でもよい。
スフェノール、レゾルシン、ビスフェノールF、テトラ
ヒドロキシフェニルエタン、ノボラック、ポリヒドロキ
シ化合物、ポリグリコール、グリセリントリエーテル、
ポリオレフィン、エポキシ化大豆油、ビニルシクロヘキ
センジオキシド、エポキシ化大豆油と有機酸又はその無
水物(例、フタル酸、マレイン酸、セバシン酸又はその
無水物)、あるいは有機過酸化物(例、過酸化ベンゾイ
ルまたは過酸化フタロイド)との組み合わせ、ジアリル
オルソフタレート、ジアリルイソフタレート又はジアリ
ルクロレンテート、あるいはこれらと有機化酸化物
(例、過酸化ベンゾイルまたは過酸化フタロイド)との
組み合わせ、N−メチル−N′−メチロールウロンエチ
ルエーテル、N−メチル−N′−メチロールウロンメチ
ルエーテル、N−エチル−N′−メチロールウロンメチ
ルエーテル、テトラメチロールウレア、N−メチル−
N,N′,N′−トリメチロールウレア、N−エチル−
N,N′,N′−トリメチロールウレア、N,N′−ジ
エチル−N,N′−ジメチロールウレア、モノ及びポリ
メチロールメラミン、p−メチロールフェノール、フェ
ノール、o−メチロールフェノール、2,4−ジメチロ
ールフェノールあるいは2,6−ジメチロールフェノー
ルとホルムアルデヒドとの組み合わせ、アニリン樹脂、
キシレン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、及びフラン樹
脂を挙げることができる。
ル(二塩基酸の例:無水マレイン酸、フマル酸、イタコ
ン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、無
水トリメリット酸及び無水ピロメリット酸;多価アルコ
ールの例:エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、2,3−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオー
ル、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリエチレングリコール、グリセリントリメチロールプ
ロパン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール);及びアクリレートまたはメタクリレートモノ
マー又はオリゴマー(例:メトキシジエチレングリコー
ルメタクリレート、メトキシテトラエチレングリコール
メタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、メトキシポリエチレングリコールアクリレー
ト、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、
2−ヒドロキシドデシルメタクリレート、2−ヒドロキ
シドデシルアクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、エチレングリコールメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコ
ールジメタクリレート、1,4−ブチレングリコールジ
メタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメタク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
ジプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピ
レングリコールジメタクリレート、2,2−ビス(4−
メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアク
リレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、2,2′−ビス(4
−アクリロキシプロピロキシフェニル)プロパン、2,
2′−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プ
ロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタン
トリアクリレート、トリメチロールメタントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレートモノヤシ
油脂肪酸エステル、テトラメチロールメタンテトラアク
リレート、ジブロムネオペンチルグリコールジメタクリ
レート、及び2,3−ジブロムプロピルアクリレー
ト)。上記光硬化性物質は、一般に光重合開始剤と共に
使用される。光重合開始剤の例としては、ベンゾフェノ
ン等の芳香族ケトン類、アセトフェノン類、ジケトン類
及びアシルオキシムエステル類等を挙げることができ
る。
熱転写層を有したシートの感熱転写層を親水性層表面に
密着させ、シート側からサーマルヘッドもしくはレーザ
ー光によって画像様に加熱して、加熱部分の感熱転写層
をシートから親水性層表面に転写した後、シートを取り
去ることで画像層を形成する。
親水性層上に塗設し、露光後、可溶部分を現像により除
去して画像層を形成する。該感光層は感光性平版印刷版
の感光層として用いられるものであればよく、例えば、
特願開平9−332970号明細書に記載された感光層
が挙げられる。
線)可溶性の感光層を親水性層上に塗設し、レーザー露
光後、可溶部分を現像により除去して画像層を形成す
る。
W/(m2・min)のエネルギーでコロナ放電処理し
支持体を作製した。次いで下記塗布液1を、ワイヤーバ
ーで塗布し150℃で10分乾燥し、乾燥膜厚が2.1
g/m2の平版印刷版用支持体1を作製した。
クリル酸樹脂水溶液の固形分重量比は、50:50であ
った。
表面に形成される球状のシリカゲルの独立粒径及び親水
性層表面平均粗さRaを測定し、また平版印刷版用支持
体1のブロッキング適性を評価した。その結果を表1に
示す。
性層の表面を5000倍に拡大したSEM写真により、
実寸法を個々に測定し独立粒径を求めた。平均粗さRa
は、平版印刷版用支持体1を非接触三次元表面解析装置
(WYKO社製;RST/PLUS)で平均粗さRaを
測定した。ブロッキング適性は、平版印刷版用支持体1
をロール巻きし、80℃で48時間放置した。放置後の
支持体表面の脱落の有無、及びロール巻き時の裏面への
転写の有無を目視判定した。表1中、「問題なし」は、
放置後の支持体表面の脱落が無く、ロール巻き時の裏面
への転写が無く、ブロッキングは発生しなかったことを
意味する。
方法で平版印刷版用支持体の親水性層上にインク受容性
画像層を設けて平版印刷版を作製し、印刷特性を評価し
た。
タアクリルアミド35部、メタアクリル酸3部、メタア
クリル酸メチル30部、アクリロニトリル25部、メタ
アクリル酸エチル2部、ラウリルアクリレート5部にエ
タノール500部、α,α′−アゾビスイソブチロニト
リル3部を入れ窒素気流中80℃のオイルバスで6時間
反応させた。その後、反応停止剤としてハイドロキノン
を10部添加し反応を終了させた。反応終了後、反応液
を室温まで冷却し水中で結析させこれを濾過・乾燥する
ことで目的の化合物を得た。得られた化合物の重量平均
分子量はGPCによるプルラン標準、N,N−ジメチル
ホルムアミド溶媒で測定したところ13万であった。
さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に下記転写型組成物Aを乾燥膜厚2.0μmとなるよう
に塗布し、80℃で3分間乾燥した。
形分8%になるように調液した。
記平版印刷版用支持体1と対面しレーザー露光する事に
より画像を形成し平版印刷版を作製した。更に画像作製
後、150℃で1分間熱処理を行い平版印刷版を作製し
た。この平版印刷版を使用して下記印刷評価条件で印刷
特性を評価した。その結果を表1に示す。
い、コート紙、湿し水(東京インキ(株)製H液SG−
51 濃度1.5%)、インキ(東洋インキ製造(株)
製ハイプラスM紅)を使用して、毎時8000枚のスピ
ードで印刷を行った。
接触させた後に、印刷をスタートさせ、40枚印刷後の
印刷物を評価した。表1中の記号の意味は下記である。
汚れ発生するまでの枚数を評価した。
版シリンダーを10回転回し、平版印刷版の全面にイン
キを付着させる。10分間放置した後に印刷をスタート
させ、正常な印刷物が得られるまでの枚数を評価した。
で、24時間放置したのち、前記[汚し回復性]と同様
の評価を行い、正常な印刷物が得られるまでの枚数を評
価した。
察し、塗膜のはがれの有無をSEM観察で評価した。表
1中の記号の意味は下記である。
出していない △:面積率で5%以上はがれてPET面が露出している ×:面積率で10%以上はがれてPET面が露出してい
る。
実施例1と同様にして平版印刷版用支持体2を作製し、
実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
溶液=50:50(固形分重量比) 実施例3 実施例1の塗布液1を下記塗布液3に変更した以外は実
施例1と同様にして平版印刷版用支持体3を作製し、実
施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
溶液=50:50(固形分重量比) 実施例4 塗布液2の組成中の多孔質シリカをサンドグラインダー
を使用し、媒体として硬質ガラスビーズ:ハイビー20
を用いて、1000rpmで1時間分散を行ったほかは
実施例2と同様にして平版印刷版用支持体4を作製し、
実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
を使用し、媒体として硬質ガラスビーズ:ハイビー20
を用いて、1000rpmで1時間分散を行ったほかは
実施例3と同様にして平版印刷版用支持体5を作製し、
実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
例1と同様にして平版印刷版用支持体6を作製し、実施
例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
が9.0になるように調整したほかは塗布液1と同様に
して塗布液6を作製した。塗布液1の代わりに塗布液6
を用いた以外は実施例1と同様にして平版印刷版用支持
体7を作製し、実施例1と同様の評価を行った。その結
果を表1に示す。得られた平版印刷版用支持体7の親水
性層の表面を5000倍に拡大したSEM写真を確認し
た結果、平滑な表面状態であり、球状のシリカゲルの独
立粒径は確認できなかった。
リル酸ポリマーを25.6gとし、固形分重量比を2
0:80とした塗布液7(pH値は2.5)を用いたほ
かは実施例1と同様にして平版印刷版用支持体8を作製
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。得られた平版印刷版用支持体8の表面を5000
倍に拡大したSEM写真を確認した結果、シリカゾルが
互いに連なった不定形状態であった。
実施例1と同様にして平版印刷版用支持体9を作製し、
実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
イダルシリカ=50:50(固形分重量比) 得られた平版印刷版用支持体9の表面を5000倍に拡
大したSEM写真を確認した結果、多孔質シリカ、無孔
質アルミナ粒子は確認できたが、球状化したコロイダル
シリカは確認できなかった。
れる塗布で基体表面に親水性表面を形成する方法によっ
て下記〜の効果を奏する平版印刷版用支持体が得ら
れる。
(皮脂)による汚れに優れる。
湿し水量の急激な変動に対して、汚れや、画像濃度の変
動が少ない。
れ、耐刷力が優れる。
いても汚れの発生がない。
きにして保存した場合に支持体どうしが付着し巻き戻し
時に親水性層が剥がれたりするブロッキングの発生が改
良される。
Claims (8)
- 【請求項1】 粒子径が5〜100nmのコロイダルシ
リカと、少なくともカルボン酸ポリマーを含む水溶性ポ
リマーと、水とで組成されてなり、該コロイダルシリカ
と該水溶性ポリマーはその固形分重量比が30:70〜
70:30、その合計含有量が4〜20重量%であると
ともに、該カルボン酸ポリマー中のカルボキシル基の含
有量が20〜63重量%であり、かつ、全体のpH値が
1〜5である塗布液を、基材上に塗布、乾燥して親水性
層を形成することを特徴とする平版印刷版用支持体の製
造方法。 - 【請求項2】 塗布液が更に多孔質無機粒子を含有する
ことを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】 塗布液が更に無孔質無機粒子を含有する
ことを特徴とする請求項1又は2記載の製造方法。 - 【請求項4】 基材上に塗布、乾燥して親水性層を形成
する平版印刷版用支持体の製造方法において、上記多孔
質無機粒子を機械的分散により破砕する工程を含むこと
を特徴とする請求項2又は3記載の製造方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項記載の親水
性層の乾燥後の塗膜量が0.5〜3.5g/m2になる
ように塗布することを特徴とする製造方法。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項記載の方法
で製造することを特徴とする平版印刷版用支持体。 - 【請求項7】 請求項5記載の製造方法で製造された平
版印刷版用支持体の親水性層表面に形成された球状のシ
リカゲルの独立粒径が0.1〜4.0μmであり、かつ
親水性層表面の平均粗さRaが0.2〜1.0μmであ
ることを特徴とする平版印刷版用支持体。 - 【請求項8】 請求項6又は7記載の平版印刷版用支持
体上にインク受容性画像層を設けたことを特徴とする平
版印刷版。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP33924798A JP2000158839A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | 平版印刷版用支持体の製造方法、該製造方法で製造した平版印刷版用支持体及び該支持体を用いた平版印刷版 |
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---|---|---|---|
JP33924798A JP2000158839A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | 平版印刷版用支持体の製造方法、該製造方法で製造した平版印刷版用支持体及び該支持体を用いた平版印刷版 |
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JP33924798A Pending JP2000158839A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | 平版印刷版用支持体の製造方法、該製造方法で製造した平版印刷版用支持体及び該支持体を用いた平版印刷版 |
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1640176A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-03-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Printing plate material |
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WO2008117738A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Mitsubishi Paper Mills Limited | 水現像可能な感光性平版印刷版材料 |
-
1998
- 1998-11-30 JP JP33924798A patent/JP2000158839A/ja active Pending
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JP2008265297A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-11-06 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 水現像可能な感光性平版印刷版材料 |
DE112008000778T5 (de) | 2007-03-23 | 2010-04-08 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial |
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