JP2000158818A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2000158818A
JP2000158818A JP10341725A JP34172598A JP2000158818A JP 2000158818 A JP2000158818 A JP 2000158818A JP 10341725 A JP10341725 A JP 10341725A JP 34172598 A JP34172598 A JP 34172598A JP 2000158818 A JP2000158818 A JP 2000158818A
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JP
Japan
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group
formula
groups
compound
recording medium
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Ceased
Application number
JP10341725A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ogiso
章 小木曽
Takashi Tsukahara
宇 塚原
Taizo Nishimoto
泰三 西本
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a write-once optical recording medium for carrying out a good recording and reproduction by using laser of 400-500 nm wavelength. SOLUTION: An optical recording medium is provided with at least a recording layer 2 and a reflection layer 3 on a base 1, and the recording layer 2 contains a benzobisoxa/thiazole compound represented by the formula, (in the formula, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 and Z1, Z2, Z3 and Z4 represent respectively substituents described in the specification, and a ring A and ring B respectively and individually represent an oxazole ring or a thiazole ring).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関す
るものであり、特に青色レーザー光により記録・再生可
能である化合物含有の追記型光記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a recordable optical recording medium containing a compound which can be recorded and reproduced by a blue laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク(以下、CDと略す)規格に対応
した追記可能なCD−R(CD−Recordabl
e)が広く普及している。CD−Rの記録容量は0.6
5GB程度であるが、情報量の飛躍的増加に伴い、情報
記録媒体に対する高密度化および大容量化への要求は高
まっている。
2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a reflective layer on a substrate, a recordable CD-R (CD-Recordable) conforming to the compact disk (hereinafter abbreviated as CD) standard is used.
e) is widespread. CD-R recording capacity is 0.6
Although it is about 5 GB, with the dramatic increase in the amount of information, demands for higher density and larger capacity of information recording media are increasing.

【0003】記録および再生用レーザーの短波長化によ
りビームスポットを小さくすることができ、高密度な光
記録が可能になる。最近では、光ディスクシステムに利
用される短波長半導体レーザーの開発が進み、波長68
0nm、650nmおよび635nmの赤色半導体レー
ザーが実用化されている〔例えば、日経エレクトロニク
ス、No.592、p.65、1993年10月11日
号〕。これらの半導体レーザーを用い、2時間以上の動
画をデジタル記録したDVDが実用化されている。DV
Dは再生専用媒体であるため、この容量に対応する追記
型光記録媒体(DVD−R)の開発も進んでいる。
[0003] By shortening the wavelength of a recording and reproducing laser, a beam spot can be reduced, and high-density optical recording can be performed. Recently, the development of short wavelength semiconductor lasers used in optical disk systems has been advanced,
Red semiconductor lasers of 0 nm, 650 nm and 635 nm have been put into practical use [for example, Nikkei Electronics, No. 592, p. 65, October 11, 1993]. DVDs using these semiconductor lasers and digitally recording moving images of 2 hours or more have been put to practical use. DV
Since D is a read-only medium, a write-once optical recording medium (DVD-R) corresponding to this capacity is also being developed.

【0004】さらに、超高密度の記録が可能となる波長
400nm〜500nmの青色半導体レーザーの開発も
急速に進んでおり〔例えば、日経エレクトロニクス、N
o.708、p.117、1998年1月26日号〕、
それに対応した追記型光記録媒体の開発も行われてい
る。
[0004] Further, development of blue semiconductor lasers having a wavelength of 400 nm to 500 nm capable of recording at a very high density has been rapidly progressing [for example, Nikkei Electronics, N.
o. 708, p. 117, January 26, 1998 issue],
A write-once optical recording medium corresponding to this is also being developed.

【0005】追記型光記録媒体の記録層にレーザー光を
照射し、記録層に物理変化や化学変化を生じさせること
でピットを形成させるとき、化合物の光学定数、分解挙
動が良好なピットを形成させるための重要な要素とな
る。分解しづらいものは感度が低下し、分解が激しいか
または変化しやすいものはピット間および半径方向への
影響が大きくなり、信頼性のあるピット形成が困難にな
る。従来のCD−R媒体は、超高密度記録で用いられる
青色半導体レーザー波長では、記録層の屈折率も低く、
消衰係数も適度な値ではないため、反射率の低下、エラ
ーレートの増大、ジッターの増大により、良好な記録・
再生ができない。従って、記録層に用いる化合物には青
色半導体レーザーに対する光学的性質、分解挙動の適切
な化合物を選択する必要がある。。しかし、実際に提案
されている有機色素化合物の例は、特開平4−7469
0号公報記載のシアニン化合物や、特開平7−3042
56号公報あるいは特開平7−304257号公報に記
載のポルフィリン化合物など、ごく限られた例しかな
い。
When pits are formed by irradiating a laser beam to a recording layer of a write-once optical recording medium to cause a physical change or a chemical change in the recording layer, a pit having good optical constants and decomposition behavior of the compound is formed. It is an important factor to make it happen. Those that are difficult to decompose have reduced sensitivity, while those that are severely decomposed or are subject to change have a greater effect between pits and in the radial direction, making reliable pit formation difficult. Conventional CD-R media have a low refractive index of the recording layer at the wavelength of the blue semiconductor laser used in ultra-high density recording,
Since the extinction coefficient is not an appropriate value, good recording and recording can be achieved by lowering the reflectance, increasing the error rate, and increasing the jitter.
Cannot play. Therefore, it is necessary to select an appropriate compound having an optical property and a decomposition behavior for a blue semiconductor laser as the compound used for the recording layer. . However, examples of organic dye compounds actually proposed are described in JP-A-4-7469.
No. 0, JP-A-7-3042
There are only very limited examples such as the porphyrin compounds described in JP-A-56 or JP-A-7-304257.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シアニ
ン色素は一般に耐光性が低いために、媒体を長期保存し
た時に、時として再生が不可能となる場合がある。ま
た、上記公報記載のポルフィリン化合物は、特開平7−
304256号公報あるいは特開平7−304257号
公報の実施例に記載されるように、単独で光記録媒体の
記録層に使用した場合にはレーザー光による書き込みが
不可能であることなど、記録層に用いる化合物としては
充分に満足いく性能を有するとは言えない。さらに、該
公報等における光記録媒体では、有機色素に配位する置
換基を有する単分子あるいは高分子化合物を混合して使
用することが必須であり、また、特開平7−30425
7号公報の実施例欄に記載されるサンプルディスクのよ
うに記録層が白濁する場合があるため、組成比を設定す
る必要があるなど、媒体製造が煩雑であり、生産性の構
造に未だ余地が残されていた。そのため、超高密度の記
録と長期保存安定性に優れた媒体を作製するのに適した
光記録媒体用色素の開発が急務となっている。
However, since cyanine dyes generally have low light fastness, regeneration may sometimes be impossible when the medium is stored for a long period of time. The porphyrin compounds described in the above publications are disclosed in
As described in the examples of JP-A-304256 or JP-A-7-304257, when the recording layer of the optical recording medium is used alone, it is impossible to write with a laser beam. It cannot be said that the compound used has sufficiently satisfactory performance. Further, in the optical recording medium disclosed in the publications, it is essential to use a mixture of a single molecule or a high molecular compound having a substituent coordinating with an organic dye.
Since the recording layer may become cloudy as in the sample disk described in the Example section of JP-A-7, the production of the medium is complicated, for example, the composition ratio needs to be set, and there is still room for the productivity structure. Was left. Therefore, there is an urgent need to develop a dye for an optical recording medium suitable for producing a medium having ultra-high density recording and excellent long-term storage stability.

【0007】本発明の目的は、波長400nm〜500
nmの範囲から選択されるレーザー光で良好な記録およ
び再生が可能な超高密度記録に適した化合物を記録層に
有する光記録媒体を提供することにある。
[0007] The object of the present invention is to provide a wavelength of 400 nm to 500 nm.
An object of the present invention is to provide an optical recording medium having, in a recording layer, a compound suitable for ultra-high-density recording capable of excellent recording and reproduction with a laser beam selected from the range of nm.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、基板上に少なくとも記
録層および反射層を有する光記録媒体において、記録層
中に一般式(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention relates to an optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer has the general formula (1)

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6
7、R8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、
アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリール
アミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アルキルアミノカルボニル基、複素環基を表し、環
A、環Bはそれぞれ独立にオキサゾール環、またはチア
ゾール環を表し、Z1、Z2、Z3、Z4はそれぞれ独立に
置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アリール基を表す。あるいは、Z1とZ2、Z3
とZ4は互いに連結して環を形成しても良い。〕で示さ
れるベンゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有する光
記録媒体であり、特には、波長400nm〜500nm
の範囲から選択されるレーザー光に対して記録および再
生が可能である新規な光記録媒体に関するものである。
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 ,
R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano group, substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, aryl group, alkoxy group, aralkyloxy group,
Aryloxy, alkenyl, alkenyloxy, alkylthio, aralkylthio, arylthio, alkylamino, aralkylamino, arylamino, alkenylamino, acyl, alkoxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, aryl An oxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, or a heterocyclic group, wherein ring A and ring B each independently represent an oxazole ring or a thiazole ring, and Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 are Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, or aryl group. Alternatively, Z 1 and Z 2 , Z 3
And Z 4 may be linked together to form a ring. An optical recording medium containing a benzobisoxa / thiazole compound represented by the formula:
The present invention relates to a novel optical recording medium capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of (1).

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の具体的構成について以下
に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The concrete constitution of the present invention will be described below.

【0012】この光記録媒体は基板、記録層、反射層お
よび保護層が順次積層している4層構造を有している。
これを図1に示すように単板で用いてもよく、図2に示
すようにDVDのように接着層で貼り合わせても良い。
This optical recording medium has a four-layer structure in which a substrate, a recording layer, a reflective layer and a protective layer are sequentially laminated.
This may be used as a single plate as shown in FIG. 1 or may be bonded with an adhesive layer as in a DVD as shown in FIG.

【0013】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピット
を形成することもある。このような案内溝やピットは、
基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に
紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。
The material of the substrate is basically required to be transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. For example, an acrylic resin such as a polycarbonate resin, a vinyl chloride resin and polymethyl methacrylate, a polymer material such as a polystyrene resin and an epoxy resin, and an inorganic material such as glass are used.
These substrate materials are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits
It is desirable to apply it at the time of molding the substrate, but it can also be applied using an ultraviolet curable resin layer on the substrate.

【0014】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、一般式(1)で示されるベン
ゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有するものであ
る。
In the present invention, a recording layer is provided on a substrate. The recording layer of the present invention contains a benzobisoxa / thiazole compound represented by the general formula (1).

【0015】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示されるベンゾビスオキサ/チアゾール化合物につい
て、以下に具体例を詳細に述べる。
The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
Specific examples of the benzobisoxa / thiazole compound represented by are described below in detail.

【0016】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される基としては、ポリカーボネー
ト、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板などへの
塗布による加工性の良好な基を選択して用いることがで
きる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
As the group represented by R 6 , R 7 , and R 8 , a group having good workability by application to a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate, or the like can be selected and used.

【0017】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される基として、水素原子、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン
原子またはシアノ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a halogen atom such as a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, or a cyano group.

【0018】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
基としては、直鎖または分岐または環状の無置換アルキ
ル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコ
キシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキ
シカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アル
コキシカルボニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、アシ
ルアミノ基、アルキルスルホンアミノ基、アルキルスル
ホン基、複素環基等の置換基群より選択した置換基で置
換したアルキル基などが挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a linear or branched or cyclic unsubstituted alkyl group, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group, an acyl group, and an acyloxy group. , An alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyloxy group, a dialkylamino group, an acylamino group, an alkylsulfonamino group, an alkylsulfone group, and a heterocyclic group. Examples include an alkyl group substituted with a selected substituent.

【0019】置換または無置換の直鎖または分岐または
環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、is
o−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル
基、1−メチルブチル基、ネオペンチル基、1,2−ジ
メチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、シク
ロペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1
−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,
3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル
基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル基、
2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,2,2
−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル
基、1−エチル−2−メチルプロピル基、シクロヘキシ
ル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メ
チルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘ
キシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル
基、2−エチルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル
基、2,5,5−トリメチルペンチル基、2,4−ジメ
チルヘキシル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、
3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n
−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,
5−メチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシ
ル基、1,3,5,7−テトラエチルオクチル基、4−
ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−
トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n
−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメ
チルヘプチル基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4
−ジメチルヘプチル基、2,2,5,5−テトラメチル
ヘキシル基、1−シクロペンチル−2,2−ジメチルプ
ロピル基、1−シクロヘキシル−2,2−ジメチルプロ
ピル基などの炭素数1〜15の無置換アルキル基;
The substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, an n-
Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, is
o-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-
Pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group , 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1
-Methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,
3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group,
2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group,
2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2
-Trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group , 5-methylhexyl, 2,4-dimethylpentyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2,5-dimethylhexyl, 2,5,5-trimethylpentyl, 2,4-dimethylhexyl A 2,2,4-trimethylpentyl group,
3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n
-Decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,
5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-
Butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-
Tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n
-Tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4
C1-C15-free groups such as -dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclopentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group; A substituted alkyl group;

【0020】クロロメチル基、クロロエチル基、ブロモ
エチル基、ヨードエチル基、ジクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2−プロピル基、ノナフルオロブチル
基、パーフルオロデシル基等のハロゲン原子で置換した
炭素数1〜10のアルキル基;
Chloromethyl group, chloroethyl group, bromoethyl group, iodoethyl group, dichloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2
C1-C10 alkyl groups substituted by halogen atoms such as 2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, nonafluorobutyl group and perfluorodecyl group ;

【0021】2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ
メチル基、4−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−
3−メトキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロ
プロピル基、2−ヒドロキシ−3−エトキシプロピル
基、3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒ
ドロキシ−3−シクロヘキシルオキシプロピル基、2−
ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基、4−
ヒドロキシデカリル−2−オキシ基などのヒドロキシ基
で置換した炭素数1〜10のアルキル基;
2-hydroxyethyl group, 2-hydroxymethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-
3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-cyclohexyloxypropyl group, 2-
Hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group, 4-
A C 1-10 alkyl group substituted with a hydroxy group such as a hydroxydecalyl-2-oxy group;

【0022】ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキシ
エトキシエチル基、2−(2’−ヒドロキシ−1’−メ
チルエトキシ)−1−メチルエチル基、2−(3’−フ
ルオロ−2’−ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2−
(3’−クロロ−2’−ヒドロキシプロポキシ)エチル
基、ヒドロキシブトキシシクロヘキシルオキシ基などの
炭素数2〜10のヒドロキシアルコキシアルキル基;
Hydroxymethoxymethyl group, hydroxyethoxyethyl group, 2- (2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group , 2-
A hydroxyalkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a (3'-chloro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group, a hydroxybutoxycyclohexyloxy group;

【0023】ヒドロキシメトキシメトキシメチル基、ヒ
ドロキシエトキシエトキシエチル基、[2’−(2’−
ヒドロキ−1’−メチルエトキシ)−1’−メチルエト
キシ]エトキシエチル基、[2’−(2’−フルオロ−
1’−ヒドロキシエトキシ)−1’−メチルエトキシ]
エトキシエチル基、[2’−(2’−クロロ−1’−ヒ
ドロキシエトキシ)−1’−メチルエトキシ]エトキシ
エチル基などの炭素数3〜10のヒドロキシアルコキシ
アルコキシアルキル基;
A hydroxymethoxymethoxymethyl group, a hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 ′-(2′-
Hydroxy-1′-methylethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 ′-(2′-fluoro-
1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy]
A hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, such as an ethoxyethyl group, [2 ′-(2′-chloro-1′-hydroxyethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group;

【0024】シアノメチル基、2−シアノエチル基、4
−シアノエチル基、2−シアノ−3−メトキシプロピル
基、2−シアノ−3−クロロプロピル基、2−シアノ−
3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−シアノプ
ロピル基、2−シアノ−3−シクロヘキシルプロピル
基、2−シアノプロピル基、2−シアノブチル基などの
シアノ基で置換した炭素数2〜10のアルキル基;
Cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 4
-Cyanoethyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-
Alkyl having 2 to 10 carbon atoms substituted with a cyano group such as a 3-ethoxypropyl group, a 3-butoxy-2-cyanopropyl group, a 2-cyano-3-cyclohexylpropyl group, a 2-cyanopropyl group, or a 2-cyanobutyl group. Group;

【0025】メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシ
エチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、4−メチルペ
ントキシエチル基、1,3−ジメチルブトキシエチル
基、2−エチルヘキシルオキシエチル基、n−オクチル
オキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキ
シエチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロポ
キシエチル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチ
ルオキシエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル
基、3−メトキシブチル基、3,3,3−トリフルオロ
プロポキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキ
シエチル基などのアルコキシ基で置換した炭素数2〜1
5のアルキル基;
Methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, 4-methylpentoxyethyl, 1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxyethyl group, 3- Methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethyl group 2-1 carbon atoms substituted with an alkoxy group such as
5 alkyl groups;

【0026】メトキシメトキシメチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシ
エトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、シクロ
ヘキシルオキシエトキシエチル基、デカリルオキシプロ
ポキシエトキシ基、1,2−ジメチルプロポキシエトキ
シエチル基、3−メチル−1−iso−ブチルブトキシ
エトキシエチル基、2−メトキシ−1−メチルエトキシ
エチル基、2−ブトキシ−1−メチルエトキシエチル
基、2−(2’−エトキシ−1’−メチルエトキシ)−
1−メチルエチル基、3,3,3−トリフルオロプロポ
キシエトキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポ
キシエトキシエチル基などの炭素数3〜15のアルコキ
シアルコキシアルキル基;
Methoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxyethoxyethyl group, decalyloxypropoxyethoxy group, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl group , 3-methyl-1-iso-butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2′-ethoxy-1′-methylethoxy) )-
An alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 15 carbon atoms such as a 1-methylethyl group, a 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group, a 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group;

【0027】メトキシメトキシメトキシメチル基、メト
キシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエト
キシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、シ
クロヘキシルオキシ、プロポキシプロポキシプロポキシ
基、2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシエトキ
シエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエトキシ
エトキシエチル基などの炭素数4〜15のアルコキシア
ルコキシアルコキシアルキル基;
Methoxymethoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxy, propoxypropoxypropoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, 2 An alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group having 4 to 15 carbon atoms, such as a 2,2,2-trichloroethoxyethoxyethoxyethyl group;

【0028】ホルミルメチル基、2−オキソブチル基、
3−オキソブチル基、4−オキソブチル基、1,3−ジ
オキソ−2−シクロヘキシル基、2−オキソ−5−t−
ブチル−1−シクロヘキシル基等のアシル基で置換した
炭素数2〜10のアルキル基;
A formylmethyl group, a 2-oxobutyl group,
3-oxobutyl group, 4-oxobutyl group, 1,3-dioxo-2-cyclohexyl group, 2-oxo-5-t-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an acyl group such as a butyl-1-cyclohexyl group;

【0029】ホルミルオキシメチル基、アセトキシエチ
ル基、プロピオニルオキシエチル基、ブタノイルオキシ
エチル基、バレリルオキシエチル基、2−エチルヘキサ
ノイルオキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキサ
ノイルオキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキサ
ノイルオキシヘキシル基、3−フルオロブチリルオキシ
エチル基、3−クロロブチリルオキシエチル基などのア
シルオキシ基で置換した炭素数2〜15のアルキル基;
Formyloxymethyl, acetoxyethyl, propionyloxyethyl, butanoyloxyethyl, valeryloxyethyl, 2-ethylhexanoyloxyethyl, 3,5,5-trimethylhexanoyloxyethyl An alkyl group having 2 to 15 carbon atoms, which is substituted with an acyloxy group such as, 3,5,5-trimethylhexanoyloxyhexyl group, 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group;

【0030】ホルミルオキシメトキシメチル基、アセト
キシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエ
チル基、バレリルオキシエトキシエチル基、2−エチル
ヘキサノイルオキシエトキシエチル基、3,5,5−ト
リメチルヘキサノイルオキシブトキシエチル基、3,
5,5−トリメチルヘキサノイルオキシエトキシエチル
基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシエチル
基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエチル基な
どのアシルオキシアルコキシ基で置換した炭素数3〜1
5のアルキル基;
Formyloxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, 2-ethylhexanoyloxyethoxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexanoyloxybutoxyethyl group , 3,
C3 to C1 substituted with an acyloxyalkoxy group such as a 5,5-trimethylhexanoyloxyethoxyethyl group, a 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group or a 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group
5 alkyl groups;

【0031】アセトキシメトキシメトキシメチル基、ア
セトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキ
シエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシ
エトキシエチル基、2−エチルヘキサノイルオキシエト
キシエトキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキサ
ノイルオキシオキシエトキシエトキシエチル基、2−フ
ルオロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、
2−クロロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル
基などのアシルオキシアルコキシアルコキシ基で置換し
た炭素数5〜15のアルキル基;
Acetoxymethoxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 2-ethylhexanoyloxyethoxyethoxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexanoyl Oxyoxyethoxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group,
An alkyl group having 5 to 15 carbon atoms substituted with an acyloxyalkoxyalkoxy group such as a 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group;

【0032】メトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メト
キシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル
基、ブトキシカルボニルエチル基、p−エチルシクロヘ
キシルオキシカルボニルシクロヘキシル基、2,2,
3,3−テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル
基、2,2,3,3−テトラクロロプロポキシカルボニ
ルメチル基などのアルコキシカルボニル基で置換した炭
素数3〜15のアルキル基;
Methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, p-ethylcyclohexyloxycarbonylcyclohexyl, 2,2
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyl group such as a 3,3-tetrafluoropropoxycarbonylmethyl group or a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group;

【0033】フェノキシカルボニルメチル基、フェノキ
シカルボニルエチル基、4−t−ブチルフェノキシカル
ボニルエチル基、ナフチルオキシカルボニルメチル基、
ビフェニルオキシカルボニルエチル基などのアリールオ
キシカルボニル基で置換した炭素数8〜15のアルキル
基;
Phenoxycarbonylmethyl, phenoxycarbonylethyl, 4-t-butylphenoxycarbonylethyl, naphthyloxycarbonylmethyl,
An alkyl group having 8 to 15 carbon atoms substituted with an aryloxycarbonyl group such as a biphenyloxycarbonylethyl group;

【0034】ベンジルオキシカルボニルメチル基、ベン
ジルオキシカルボニルエチル基、フェネチルオキシカル
ボニルメチル基、4−シクロヘキシルオキシベンジルオ
キシカルボニルメチル基などの炭素数9〜15のアラル
キルオキシカルボニル基;
An aralkyloxycarbonyl group having 9 to 15 carbon atoms, such as a benzyloxycarbonylmethyl group, a benzyloxycarbonylethyl group, a phenethyloxycarbonylmethyl group, a 4-cyclohexyloxybenzyloxycarbonylmethyl group;

【0035】ビニルオキシカルボニルメチル基、ビニル
オキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルメ
チル基、オクテノキシカルボニルメチル基などのアルケ
ニルオキシカルボニル基で置換した炭素数4〜10のア
ルキル基;
An alkyl group having 4 to 10 carbon atoms substituted by an alkenyloxycarbonyl group such as a vinyloxycarbonylmethyl group, a vinyloxycarbonylethyl group, an allyloxycarbonylmethyl group and an octenoxycarbonylmethyl group;

【0036】メトキシカルボニルオキシメチル基、メト
キシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオ
キシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、
2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシエ
チル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシエチル基などのアルコキシカルボニルオキシ基で置
換した炭素数3〜15のアルキル基;
Methoxycarbonyloxymethyl, methoxycarbonyloxyethyl, ethoxycarbonyloxyethyl, butoxycarbonyloxyethyl,
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyloxy group such as a 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl group or a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyloxyethyl group;

【0037】メトキシメトキシカルボニルオキシメチル
基、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エト
キシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエト
キシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリフル
オロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,
2,2−トリクロロエトキシエトキシカルボニルオキシ
エチル基などのアルコキシアルコキシカルボニルオキシ
基で置換した炭素数4〜15のアルキル基;
Methoxymethoxycarbonyloxymethyl group, methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,
An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxycarbonyloxy group such as a 2,2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group;

【0038】ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノ
メチル基、ジ−n−ブチルアミノメチル基、ジ−n−ヘ
キシルアミノメチル基、ジ−n−オクチルアミノメチル
基、ジ−n−デシルアミノメチル基、N−イソアミル−
N−メチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、ジ
(メトキシメチル)アミノメチル基、ジ(メトキシエチ
ル)アミノメチル基、ジ(エトキシメチル)アミノメチ
ル基、ジ(エトキシエチル)アミノメチル基、ジ(プロ
ポキシエチル)アミノメチル基、ジ(ブトキシエチル)
アミノメチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチ
ル)アミノメチル基;ジメチルアミノエチル基、ジエチ
ルアミノエチル基、ジ−n−ブチルアミノエチル基、ジ
−n−ヘキシルアミノエチル基、ジ−n−オクチルアミ
ノエチル基、ジ−n−デシルアミノエチル基、N−イソ
アミル−N−メチルアミノエチル基、ピペリジノエチル
基、ジ(メトキシメチル)アミノエチル基、ジ(メトキ
シエチル)アミノエチル基、ジ(エトキシメチル)アミ
ノエチル基、ジ(エトキシエチル)アミノエチル基、ジ
(プロポキシエチル)アミノエチル基、ジ(ブトキシエ
チル)アミノエチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキ
シエチル)アミノエチル基;ジメチルアミノプロピル
基、ジエチルアミノプロピル基、ジ−n−ブチルアミノ
プロピル基、ジ−n−ヘキシルアミノプロピル基、ジ−
n−オクチルアミノプロピル基、ジ−n−デシルアミノ
プロピル基、N−イソアミル−N−メチルアミノプロピ
ル基、ピペリジノプロピル基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノプロピル基、ジ(メトキシエチル)アミノプロピル
基、ジ(エトキシメチル)アミノプロピル基、ジ(エト
キシエチル)アミノプロピル基、ジ(プロポキシエチ
ル)アミノプロピル基、ジ(ブトキシエチル)アミノプ
ロピル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチル)ア
ミノプロピル基;ジメチルアミノブチル基、ジエチルア
ミノブチル基、ジ−n−ブチルアミノブチル基、ジ−n
−ヘキシルアミノブチル基、ジ−n−オクチルアミノブ
チル基、ジ−n−デシルアミノブチル基、N−イソアミ
ル−N−メチルアミノブチル基、ピペリジノブチル基、
ジ(メトキシメチル)アミノブチル基、ジ(メトキシエ
チル)アミノブチル基、ジ(エトキシメチル)アミノブ
チル基、ジ(エトキシエチル)アミノブチル基、ジ(プ
ロポキシエチル)アミノブチル基、ジ(ブトキシエチ
ル)アミノブチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシ
エチル)アミノブチル基等のジアルキルアミノ基が置換
した炭素数3〜20のアルキル基;
Dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl, di-n-butylaminomethyl, di-n-hexylaminomethyl, di-n-octylaminomethyl, di-n-decylaminomethyl, N- Isoamyl-
N-methylaminomethyl group, piperidinomethyl group, di (methoxymethyl) aminomethyl group, di (methoxyethyl) aminomethyl group, di (ethoxymethyl) aminomethyl group, di (ethoxyethyl) aminomethyl group, di (propoxyethyl) ) Aminomethyl group, di (butoxyethyl)
Aminomethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminomethyl group; dimethylaminoethyl group, diethylaminoethyl group, di-n-butylaminoethyl group, di-n-hexylaminoethyl group, di-n-octylaminoethyl Group, di-n-decylaminoethyl group, N-isoamyl-N-methylaminoethyl group, piperidinoethyl group, di (methoxymethyl) aminoethyl group, di (methoxyethyl) aminoethyl group, di (ethoxymethyl) aminoethyl A di (ethoxyethyl) aminoethyl group, a di (propoxyethyl) aminoethyl group, a di (butoxyethyl) aminoethyl group, a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminoethyl group; a dimethylaminopropyl group, a diethylaminopropyl group, Di-n-butylaminopropyl group, di-n Hexyl aminopropyl group, di -
n-octylaminopropyl group, di-n-decylaminopropyl group, N-isoamyl-N-methylaminopropyl group, piperidinopropyl group, di (methoxymethyl) aminopropyl group, di (methoxyethyl) aminopropyl group Di (ethoxymethyl) aminopropyl group, di (ethoxyethyl) aminopropyl group, di (propoxyethyl) aminopropyl group, di (butoxyethyl) aminopropyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminopropyl group; dimethyl Aminobutyl group, diethylaminobutyl group, di-n-butylaminobutyl group, di-n
-Hexylaminobutyl group, di-n-octylaminobutyl group, di-n-decylaminobutyl group, N-isoamyl-N-methylaminobutyl group, piperidinobutyl group,
Di (methoxymethyl) aminobutyl group, di (methoxyethyl) aminobutyl group, di (ethoxymethyl) aminobutyl group, di (ethoxyethyl) aminobutyl group, di (propoxyethyl) aminobutyl group, di (butoxyethyl) An alkyl group having 3 to 20 carbon atoms substituted by a dialkylamino group such as an aminobutyl group or a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminobutyl group;

【0039】アセチルアミノメチル基、アセチルアミノ
エチル基、プロピオニルアミノエチル基、ブタノイルア
ミノエチル基、シクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、p−メチルシクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、スクシンイミノエチル基などのアシルアミノ基で置
換した炭素数3〜10のアルキル基;
Substitution with an acylamino group such as an acetylaminomethyl group, an acetylaminoethyl group, a propionylaminoethyl group, a butanoylaminoethyl group, a cyclohexanecarbonylaminoethyl group, a p-methylcyclohexanecarbonylaminoethyl group, and a succiniminoethyl group. An alkyl group having 3 to 10 carbon atoms;

【0040】メチルスルホンアミノメチル基、メチルス
ルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル
基、プロピルスルホンアミノエチル基、オクチルスルホ
ンアミノエチル基などのアルキルスルホンアミノ基で置
換した炭素数2〜10のアルキル基;
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by an alkylsulfonamino group such as a methylsulfonaminomethyl group, a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, an octylsulfonaminoethyl group;

【0041】メチルスルホンメチル基、エチルスルホン
メチル基、ブチルスルホンメチル基、メチルスルホンエ
チル基、エチルスルホンエチル基、ブチルスルホンエチ
ル基、2−エチルヘキシルスルホンエチル基、2,2,
3,3−テトラフルオロプロピルスルホンメチル基、
2,2,3,3−テトラクロロプロピルスルホンメチル
基などのアルキルスルホン基で置換した炭素数2〜10
のアルキル基;
A methylsulfonemethyl group, an ethylsulfonemethyl group, a butylsulfonemethyl group, a methylsulfonethyl group, an ethylsulfonethyl group, a butylsulfonethyl group, a 2-ethylhexylsulfonethyl group,
3,3-tetrafluoropropylsulfonmethyl group,
2 to 10 carbon atoms substituted with an alkylsulfone group such as a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonmethyl group
An alkyl group of

【0042】ピロリノメチル基、ピロリジノメチル基、
ピラゾリジノメチル基、イミダゾリジノメチル基、オキ
サゾリル基、トリアゾリノメチル基、モルホリノメチル
基、インドーリノメチル基、ベンズイミダゾリノメチル
基、カルバゾリノメチル基などの複素環基で置換したア
ルキル基等が挙げられる。
A pyrrolinomethyl group, a pyrrolidinomethyl group,
Alkyl substituted with a heterocyclic group such as a pyrazolidinomethyl group, an imidazolidinomethyl group, an oxazolyl group, a triazolinomethyl group, a morpholinomethyl group, an indolinomethyl group, a benzimidazolinomethyl group, and a carbazolinomethyl group. And the like.

【0043】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、ベンジ
ル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキ
シベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロメチル
ベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル
基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチ
ル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナ
フチルメチル基、フルオレン−9−イルエチル基などの
炭素数7〜15のアラルキル基等が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a benzyl group or a nitrobenzyl group. , Cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group, Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms such as a fluoren-9-ylethyl group.

【0044】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有するアリール基であり、好ましくは、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシ
フェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフ
チル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、ト
リフルオロメチルナフチル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、4−(5’−メチルベンゾキサゾール−2’−
イル)フェニル基、ジブチルアミノカルボニルフェニル
基などの炭素数6〜15のアリール基等が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryl groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aryl groups having the same substituents as the above-described alkyl groups, and are preferably a phenyl group or a nitrophenyl group. , Cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, naphthyl, nitronaphthyl, cyanonaphthyl, hydroxynaphthyl, methylnaphthyl, trifluoromethylnaphthyl, methoxycarbonylphenyl, 4 -(5'-methylbenzoxazole-2'-
Yl) aryl groups having 6 to 15 carbon atoms such as phenyl group and dibutylaminocarbonylphenyl group.

【0045】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルコキ
シ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブ
トキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ブトキシ
基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、t
ert−ペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ
基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
1−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキ
シ基、3−メチルペンチルオキシ基、4−メチルペンチ
ルオキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジ
メチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,
3−ジメチルブトキシ基、1,1,2−トリメチルプロ
ポキシ基、1,2,2−トリメチルプロポキシ基、1−
エチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基、1−エチル
−2−メチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
メチルシクロペンチルオキシ基、n−へプチルオキシ
基、1−メチルヘキシルオキシ基、2−メチルヘキシル
オキシ基、3−メチルヘキシルオキシ基、4−メチルヘ
キシルオキシ基、5−メチルヘキシルオキシ基、1,1
−ジメチルペンチルオキシ基、1,2−ジメチルペンチ
ルオキシ基、1,3−ジメチルペンチルオキシ基、1,
4−ジメチルペンチルオキシ基、2,2−ジメチルペン
チルオキシ基、2,3−ジメチルペンチルオキシ基、
2,4−ジメチルペンチルオキシ基、3,3−ジメチル
ペンチルオキシ基、3,4−ジメチルペンチルオキシ
基、1−エチルペンチルオキシ基、2−エチルペンチル
オキシ基、3−エチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルブトキシ基、1,1,3−トリメチルブトキ
シ基、1,2,3−トリメチルブトキシ基、1,2,2
−トリメチルブトキシ基、1,3,3−トリメチルブト
キシ基、2,3,3−トリメチルブトキシ基、1−エチ
ル−1−メチルブトキシ基、1−エチル−2−メチルブ
トキシ基、1−エチル−3−メチルブトキシ基、2−エ
チル−1−メチルブトキシ基、2−エチル−3−メチル
ブトキシ基、1−n−プロピルブトキシ基、1−イソプ
ロピルブトキシ基、1−イソプロピル−2−メチルプロ
ポキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、n−オクチ
ルオキシ基、1−メチルヘプチルオキシ基、2−メチル
ヘプチルオキシ基、3−メチルヘプチルオキシ基、4−
メチルヘプチルオキシ基、5−メチルヘプチルオキシ
基、6−メチルヘプチルオキシ基、1,1−ジメチルヘ
キシルオキシ基、1,2−ジメチルヘキシルオキシ基、
1,3−ジメチルヘキシルオキシ基、1,4−ジメチル
ヘキシルオキシ基、1,5−ジメチルヘキシルオキシ
基、2,2−ジメチルヘキシルオキシ基、2,3−ジメ
チルヘキシルオキシ基、2,4−ジメチルヘキシルオキ
シ基、2,5−ジメチルヘキシルオキシ基、3,3−ジ
メチルヘキシルオキシ基、3,4−ジメチルヘキシルオ
キシ基、3,5−ジメチルヘキシルオキシ基、4,4−
ジメチルヘキシルオキシ基、4,5−ジメチルヘキシル
オキシ基、1−エチルヘキシルオキシ基、2−エチルヘ
キシルオキシ基、3−エチルヘキシルオキシ基、4−エ
チルヘキシルオキシ基、1−n−プロピルペンチルオキ
シ基、2−n−プロピルペンチルオキシ基、1−イソプ
ロピルペンチルオキシ基、2−イソプロピルペンチルオ
キシ基、1−エチル−1−メチルペンチルオキシ基、1
−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−
3−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−4−メチル
ペンチルオキシ基、2−エチル−1−メチルペンチルオ
キシ基、2−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、2
−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、2−エチル−
4−メチルペンチルオキシ基、3−エチル−1−メチル
ペンチルオキシ基、3−エチル−2−メチルペンチルオ
キシ基、3−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、3
−エチル−4−メチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルペンチルオキシ基、1,1,3−トリメチル
ペンチルオキシ基、1,1,4−トリメチルペンチルオ
キシ基、1,2,2−トリメチルペンチルオキシ基、
1,2,3−トリメチルペンチルオキシ基、1,2,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,4−トリメチ
ルペンチルオキシ基、2,2,3−トリメチルペンチル
オキシ基、2,2,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,3,4−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,3
−トリメチルペンチルオキシ基、2,3,3−トリメチ
ルペンチルオキシ基、3,3,4−トリメチルペンチル
オキシ基、1,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、3,4,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1−n−ブチルブトキ
シ基、1−イソブチルブトキシ基、1−sec−ブチル
ブトキシ基、1−tert−ブチルブトキシ基、2−t
ert−ブチルブトキシ基、1−n−プロピル−1−メ
チルブトキシ基、1−n−プロピル−2−メチルブトキ
シ基、1−n−プロピル−3−メチルブトキシ基、1−
イソプロピル−1−メチルブトキシ基、1−イソプロピ
ル−2−メチルブトキシ基、1−イソプロピル−3−メ
チルブトキシ基、1,1−ジエチルブトキシ基、1,2
−ジエチルブトキシ基、1−エチル−1,2−ジメチル
ブトキシ基、1−エチル−1,3−ジメチルブトキシ
基、1−エチル−2,3−ジメチルブトキシ基、2−エ
チル−1,1−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,
2−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,3−ジメチ
ルブトキシ基、2−エチル−2,3−ジメチルブトキシ
基、1,2−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、1,3
−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、1,4−ジメチル
シクロヘキシルオキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
基、n−ノニルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキ
シルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオ
キシ基、n−ドデシルオキシ基、1−アダマンチルオキ
シ基、n−ペンタデカニルオキシ基等の炭素数1〜15
の直鎖、分岐又は環状の無置換アルコキシ基;
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy groups represented by R 6 , R 7 and R 8 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group and a tert-butoxy group. , Sec-butoxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, t
ert-pentyloxy group, sec-pentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group,
1-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy Group, 2,
3-dimethylbutoxy group, 1,1,2-trimethylpropoxy group, 1,2,2-trimethylpropoxy group, 1-
Ethyl butoxy group, 2-ethyl butoxy group, 1-ethyl-2-methylpropoxy group, cyclohexyloxy group,
Methylcyclopentyloxy group, n-heptyloxy group, 1-methylhexyloxy group, 2-methylhexyloxy group, 3-methylhexyloxy group, 4-methylhexyloxy group, 5-methylhexyloxy group, 1,1
-Dimethylpentyloxy group, 1,2-dimethylpentyloxy group, 1,3-dimethylpentyloxy group, 1,
4-dimethylpentyloxy group, 2,2-dimethylpentyloxy group, 2,3-dimethylpentyloxy group,
2,4-dimethylpentyloxy group, 3,3-dimethylpentyloxy group, 3,4-dimethylpentyloxy group, 1-ethylpentyloxy group, 2-ethylpentyloxy group, 3-ethylpentyloxy group, 1, 1,2-
Trimethylbutoxy group, 1,1,3-trimethylbutoxy group, 1,2,3-trimethylbutoxy group, 1,2,2
-Trimethylbutoxy group, 1,3,3-trimethylbutoxy group, 2,3,3-trimethylbutoxy group, 1-ethyl-1-methylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylbutoxy group, 1-ethyl-3 -Methylbutoxy group, 2-ethyl-1-methylbutoxy group, 2-ethyl-3-methylbutoxy group, 1-n-propylbutoxy group, 1-isopropylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylpropoxy group, methyl Cyclohexyloxy group, n-octyloxy group, 1-methylheptyloxy group, 2-methylheptyloxy group, 3-methylheptyloxy group, 4-
Methylheptyloxy group, 5-methylheptyloxy group, 6-methylheptyloxy group, 1,1-dimethylhexyloxy group, 1,2-dimethylhexyloxy group,
1,3-dimethylhexyloxy group, 1,4-dimethylhexyloxy group, 1,5-dimethylhexyloxy group, 2,2-dimethylhexyloxy group, 2,3-dimethylhexyloxy group, 2,4-dimethyl Hexyloxy group, 2,5-dimethylhexyloxy group, 3,3-dimethylhexyloxy group, 3,4-dimethylhexyloxy group, 3,5-dimethylhexyloxy group, 4,4-
Dimethylhexyloxy group, 4,5-dimethylhexyloxy group, 1-ethylhexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3-ethylhexyloxy group, 4-ethylhexyloxy group, 1-n-propylpentyloxy group, 2-n -Propylpentyloxy group, 1-isopropylpentyloxy group, 2-isopropylpentyloxy group, 1-ethyl-1-methylpentyloxy group, 1
-Ethyl-2-methylpentyloxy group, 1-ethyl-
3-methylpentyloxy group, 1-ethyl-4-methylpentyloxy group, 2-ethyl-1-methylpentyloxy group, 2-ethyl-2-methylpentyloxy group, 2
-Ethyl-3-methylpentyloxy group, 2-ethyl-
4-methylpentyloxy group, 3-ethyl-1-methylpentyloxy group, 3-ethyl-2-methylpentyloxy group, 3-ethyl-3-methylpentyloxy group, 3
-Ethyl-4-methylpentyloxy group, 1,1,2-
Trimethylpentyloxy group, 1,1,3-trimethylpentyloxy group, 1,1,4-trimethylpentyloxy group, 1,2,2-trimethylpentyloxy group,
1,2,3-trimethylpentyloxy group, 1,2,4
A trimethylpentyloxy group, a 1,3,4-trimethylpentyloxy group, a 2,2,3-trimethylpentyloxy group, a 2,2,4-trimethylpentyloxy group,
2,3,4-trimethylpentyloxy group, 1,3,3
-A trimethylpentyloxy group, a 2,3,3-trimethylpentyloxy group, a 3,3,4-trimethylpentyloxy group, a 1,4,4-trimethylpentyloxy group,
2,4,4-trimethylpentyloxy group, 3,4,4
-Trimethylpentyloxy group, 1-n-butylbutoxy group, 1-isobutylbutoxy group, 1-sec-butylbutoxy group, 1-tert-butylbutoxy group, 2-t
tert-butylbutoxy group, 1-n-propyl-1-methylbutoxy group, 1-n-propyl-2-methylbutoxy group, 1-n-propyl-3-methylbutoxy group, 1-
Isopropyl-1-methylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylbutoxy group, 1-isopropyl-3-methylbutoxy group, 1,1-diethylbutoxy group, 1,2
-Diethylbutoxy group, 1-ethyl-1,2-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,1-dimethyl Butoxy group, 2-ethyl-1,
2-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylcyclohexyloxy group, 1,3
-Dimethylcyclohexyloxy group, 1,4-dimethylcyclohexyloxy group, ethylcyclohexyloxy group, n-nonyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n- A carbon number of 1 to 15 such as a dodecyloxy group, a 1-adamantyloxy group, an n-pentadecanyloxy group;
Linear, branched or cyclic unsubstituted alkoxy groups;

【0046】メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
基、エトキシエトキシ基、n−プロポキシエトキシ基、
イソプロポキシエトキシ基、n−ブトキシエトキシ基、
イソブトキシエトキシ基、tert−ブトキシエトキシ
基、sec−ブトキシエトキシ基、n−ペンチルオキシ
エトキシ基、イソペンチルオキシエトキシ基、tert
−ペンチルオキシエトキシ基、secーペンチルオキシ
エトキシ基、シクロペンチルオキシエトキシ基、n−ヘ
キシルオキシエトキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
エトキシ基、n−ノニルオキシエトキシ基、3,5,5
−トリメチルヘキシルオキシエトキシ基、3,5,5−
トリメチルヘキシルオキシブトキシ基、n−デシルオキ
シエトキシ基、n−ウンデシルオキシエトキシ基、n−
ドデシルオキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ
基、3−エトキシプロポキシ基、3−(n−プロポキ
シ)プロポキシ基、2−イソプロポキシプロポキシ基、
2−メトキシブトキシ基、2−エトキシブトキシ基、2
−(n−プロポキシ)ブトキシ基、4−イソプロポキシ
ブトキシ基、デカリルオキシエトキシ基、アダマンチル
オキシエトキシ基等の、アルコキシ基で置換した炭素数
2〜15のアルコキシ基;
Methoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, n-propoxyethoxy,
Isopropoxyethoxy group, n-butoxyethoxy group,
Isobutoxyethoxy group, tert-butoxyethoxy group, sec-butoxyethoxy group, n-pentyloxyethoxy group, isopentyloxyethoxy group, tert
-Pentyloxyethoxy group, sec-pentyloxyethoxy group, cyclopentyloxyethoxy group, n-hexyloxyethoxy group, ethylcyclohexyloxyethoxy group, n-nonyloxyethoxy group, 3,5,5
-Trimethylhexyloxyethoxy group, 3,5,5-
Trimethylhexyloxybutoxy group, n-decyloxyethoxy group, n-undecyloxyethoxy group, n-
Dodecyloxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3- (n-propoxy) propoxy group, 2-isopropoxypropoxy group,
2-methoxybutoxy group, 2-ethoxybutoxy group, 2
An alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms, which is substituted with an alkoxy group, such as-(n-propoxy) butoxy group, 4-isopropoxybutoxy group, decalyloxyethoxy group, adamantyloxyethoxy group;

【0047】メトキシメトキシメトキシ基、エトキシメ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシメトキシ基、ブ
トキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシメトキシ基、プロポキシエトキシ
メトキシ基、ブトキシエトキシメトキシ基、メトキシプ
ロポキシメトキシ基、エトキシプロポキシメトキシ基、
プロポキシプロポキシメトキシ基、ブトキシプロポキシ
メトキシ基、メトキシブトキシメトキシ基、エトキシブ
トキシメトキシ基、プロポキシブトキシメトキシ基、ブ
トキシブトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ
基、エトキシメトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ
エトキシ基、ブトキシメトキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロ
ポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシエトキシ基、エトキシプロポキ
シエトキシ基、プロポキシプロポキシエトキシ基、ブト
キシプロポキシエトキシ基、メトキシブトキシエトキシ
基、エトキシブトキシエトキシ基、プロポキシブトキシ
エトキシ基、ブトキシブトキシエトキシ基、メトキシメ
トキシプロポキシ基、エトキシメトキシプロポキシ基、
プロポキシメトキシプロポキシ基、ブトキシメトキシプ
ロポキシ基、メトキシエトキシプロポキシ基、エトキシ
エトキシプロポキシ基、プロポキシエトキシプロポキシ
基、ブトキシエトキシプロポキシ基、メトキシプロポキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシプロポキシ基、プ
ロポキシプロポキシプロポキシ基、ブトキシプロポキシ
プロポキシ基、メトキシブトキシプロポキシ基、エトキ
シブトキシプロポキシ基、プロポキシブトキシプロポキ
シ基、ブトキシブトキシプロポキシ基、メトキシメトキ
シブトキシ基、エトキシメトキシブトキシ基、プロポキ
シメトキシブトキシ基、ブトキシメトキシブトキシ基、
メトキシエトキシブトキシ基、エトキシエトキシブトキ
シ基、プロポキシシエトキシブトキシ基、ブトキシエト
キシブトキシ碁、メトキシプロポキシブトキシ基、エト
キシプロポキシブトキシ基、プロポキシプロポキシブト
キシ基、ブトキシプロポキシブトキシ基、メトキシブト
キシブトキシ基、エトキシブトキシブトキシ基、プロポ
キシブトキシブトキシ基、ブトキシブトキシブトキシ
基、4−エチルシクロへキシルオキシエトキシエトキシ
基、(2−エチル−1−へキシルオキシ)エトキシプロ
ポキシ基、4−(3,5,5−トリメチルヘキシルオキ
シブトキシエトキシ基等の、アルコキシアルコキシ基で
置換した直鎖、分岐または環状の炭素数3〜15のアル
コキシ基;
Methoxymethoxymethoxy, ethoxymethoxymethoxy, propoxymethoxymethoxy, butoxymethoxymethoxy, methoxyethoxymethoxy, ethoxyethoxymethoxy, propoxyethoxymethoxy, butoxyethoxymethoxy, methoxypropoxymethoxy, ethoxypropoxy Methoxy group,
Propoxypropoxymethoxy group, butoxypropoxymethoxy group, methoxybutoxymethoxy group, ethoxybutoxymethoxy group, propoxybutoxymethoxy group, butoxybutoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, ethoxymethoxyethoxy group, propoxymethoxyethoxy group, butoxymethoxyethoxy group, Methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propoxyethoxyethoxy group, butoxyethoxyethoxy group, methoxypropoxyethoxy group, ethoxypropoxyethoxy group, propoxypropoxyethoxy group, butoxypropoxyethoxy group, methoxybutoxyethoxy group, methoxybutoxyethoxy group, methoxybutoxyethoxy group Propoxybutoxyethoxy, butoxybutoxyethoxy, methoxymethoxypropoxy , Ethoxy methoxypropoxy group,
Propoxymethoxypropoxy, butoxymethoxypropoxy, methoxyethoxypropoxy, ethoxyethoxypropoxy, propoxyethoxypropoxy, butoxyethoxypropoxy, methoxypropoxypropoxy, ethoxypropoxypropoxy, propoxypropoxy, butoxypropoxy, butoxypropoxy Methoxybutoxypropoxy group, ethoxybutoxypropoxy group, propoxybutoxypropoxy group, butoxybutoxypropoxy group, methoxymethoxybutoxy group, ethoxymethoxybutoxy group, propoxymethoxybutoxy group, butoxymethoxybutoxy group,
Methoxyethoxybutoxy group, ethoxyethoxybutoxy group, propoxysiethoxybutoxy group, butoxyethoxybutoxygo, methoxypropoxybutoxy group, ethoxypropoxybutoxy group, propoxypropoxybutoxy group, butoxypropoxybutoxy group, methoxybutoxybutoxy group, methoxybutoxybutoxy group, methoxybutoxybutoxy group , Propoxybutoxybutoxy, butoxybutoxybutoxy, 4-ethylcyclohexyloxyethoxyethoxy, (2-ethyl-1-hexyloxy) ethoxypropoxy, 4- (3,5,5-trimethylhexyloxybutoxyethoxy) Linear, branched or cyclic C3-C15 alkoxy groups substituted with alkoxyalkoxy groups;

【0048】メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、n−プロポキシカルボニルメト
キシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、4’−
エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメトキシ基等の
アルコキシカルボニル基で置換した炭素数3〜10のア
ルコキシ基;
Methoxycarbonylmethoxy, ethoxycarbonylmethoxy, n-propoxycarbonylmethoxy, isopropoxycarbonylmethoxy, 4'-
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyl group such as an ethylcyclohexyloxycarbonylmethoxy group;

【0049】アセチルメトキシ基、エチルカルボニルメ
トキシ基、オクチルカルボニルメトキシ基等のアシル基
で置換した炭素数3〜10のアルコキシ基;
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, which is substituted by an acyl group such as an acetylmethoxy group, an ethylcarbonylmethoxy group and an octylcarbonylmethoxy group;

【0050】アセチルオキシメチル基、アセチルオキシ
エチル基、アセチルオキシヘキシルオキシ基、ブタノイ
ルオキシシクロヘキシルオキシ基などの炭素数3〜10
のアシルオキシ基で置換したアルコキシ基;
An acetyloxymethyl group, acetyloxyethyl group, acetyloxyhexyloxy group, butanoyloxycyclohexyloxy group, etc.
An alkoxy group substituted with an acyloxy group;

【0051】2−ジメチルアミノメトキシ基、2−ジメ
チルアミノエトキシ基、2−(2−ジメチルアミノエト
キシ)エトキシ基、4−ジメチルアミノブトキシ基、1
−ジメチルアミノプロパン−2−イルオキシ基、3−ジ
メチルアミノプロポキシ基、2−ジメチルアミノ−2−
メチルプロポキシ基、2−ジエチルアミノエトキシ基、
2−(2−ジエチルアミノエトキシ)エトキシ基、3−
ジエチルアミノプロポキシ基、1−ジエチルアミノプロ
ポキシ基、2−ジイソプロピルアミノエトキシ基、2−
(ジ−n−ブチルアミノ)エトキシ基、2−ピペリジル
エトキシ基、4−(ジ−n−ヘキシルアミノ)プロピル
基等の、ジアルキルアミノ基で置換した炭素数3〜15
のアルコキシ基;
2-dimethylaminomethoxy, 2-dimethylaminoethoxy, 2- (2-dimethylaminoethoxy) ethoxy, 4-dimethylaminobutoxy, 1
-Dimethylaminopropan-2-yloxy group, 3-dimethylaminopropoxy group, 2-dimethylamino-2-
A methylpropoxy group, a 2-diethylaminoethoxy group,
2- (2-diethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-
Diethylaminopropoxy group, 1-diethylaminopropoxy group, 2-diisopropylaminoethoxy group, 2-
C3-C15 substituted by a dialkylamino group, such as a (di-n-butylamino) ethoxy group, a 2-piperidylethoxy group, or a 4- (di-n-hexylamino) propyl group.
An alkoxy group of

【0052】ジメチルアミノメトキシメトキシ基、ジメ
チルアミノエトキシエトキシ基、ジメチルアミノエトキ
シプロポキシ基、ジエチルアミノエトキシプロポキシ
基、4−(2’−ジイソブチルアミノプロポキシ)ブト
キシオキシ基等の、ジアルキルアミノアルコキシ基で置
換した炭素数4〜15のアルコキシ基;
Carbon substituted with a dialkylaminoalkoxy group such as a dimethylaminomethoxymethoxy group, a dimethylaminoethoxyethoxy group, a dimethylaminoethoxypropoxy group, a diethylaminoethoxypropoxy group, and a 4- (2'-diisobutylaminopropoxy) butoxyoxy group. An alkoxy group of formulas 4 to 15;

【0053】2−メチルチオメトキシ基、2−メチルチ
オエトキシ基、2−エチルチオエトキシ基、2−n−プ
ロピルチオエトキシ基、2−イソプロピルチオエトキシ
基、2−n−ブチルチオエトキシ基、2−イソブチルチ
オエトキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ
ヘキシルオキシ基等の、アルキルチオ基で置換した炭素
数2〜15のアルコキシ基;等が挙げられ、好ましく
は、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、is
o−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペント
キシ基、iso−ペントキシ基、ネオペントキシ基、2
−メチルブトキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、
3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、デカリル基
などの炭素数1〜10のアルコキシ基が挙げられる。
2-methylthiomethoxy group, 2-methylthioethoxy group, 2-ethylthioethoxy group, 2-n-propylthioethoxy group, 2-isopropylthioethoxy group, 2-n-butylthioethoxy group, 2-isobutyl An alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms, which is substituted by an alkylthio group, such as a thioethoxy group and a 3,5,5-trimethylhexyloxyhexyloxy group; and the like, preferably a methoxy group, an ethoxy group, and an n-propoxy group. Group, is
o-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neopentoxy group, 2
-Methylbutoxy group, 2-ethylhexyloxy group,
Examples thereof include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a 3,5,5-trimethylhexyloxy group and a decalyl group.

【0054】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアラルキルオキシ基であり、好まし
くは、ベンジルオキシ基、ニトロベンジルオキシ基、シ
アノベンジルオキシ基、ヒドロキシベンジルオキシ基、
メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメチルベンジル
オキシ基、ナフチルメトキシ基、ニトロナフチルメトキ
シ基、シアノナフチルメトキシ基、ヒドロキシナフチル
メトキシ基、メチルナフチルメトキシ基、トリフルオロ
メチルナフチルメトキシ基、フルオレン−9−イルエト
キシ基などの炭素数7〜15のアラルキルオキシ基等が
挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxy groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aralkyloxy groups having the same substituents as the above-described alkyl groups, and are preferably a benzyloxy group, Nitrobenzyloxy group, cyanobenzyloxy group, hydroxybenzyloxy group,
Methylbenzyloxy group, trifluoromethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy group, nitronaphthylmethoxy group, cyanonaphthylmethoxy group, hydroxynaphthylmethoxy group, methylnaphthylmethoxy group, trifluoromethylnaphthylmethoxy group, fluoren-9-ylethoxy group, etc. And an aralkyloxy group having 7 to 15 carbon atoms.

【0055】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
オキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ましく
は、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−メチ
ルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、2−メ
トキシフェノキシ基、4−iso−プロピルフェノキシ
基、ナフトキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキ
シ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aryloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably phenoxy groups, And aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms such as -methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group, and naphthoxy group.

【0056】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、ビニル
基、プロペニル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル
基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、2−メチル
−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−
メチル−2−ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、
2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニル基、2−シ
アノ−2−メチルスルホンビニル基、スチリル基、4−
フェニル−2ブテニル基などの炭素数2〜10のアルケ
ニル基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a vinyl group, a propenyl group, 1-butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-
A methyl-2-butenyl group, a 2,2-dicyanovinyl group,
2-cyano-2-methylcarboxylvinyl group, 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group, styryl group, 4-
An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a phenyl-2-butenyl group is exemplified.

【0057】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルケニルオキシ基であり、好まし
くは、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、1−ブテ
ニルオキシ基、iso−ブテニルオキシ基、1−ペンテ
ニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、2−メチル−
1−ブテニルオキシ基、3−メチル−1−ブテニルオキ
シ基、2−メチル−2−ブテニルオキシ基、2,2−ジ
シアノビニルオキシ基、2−シアノ−2−メチルカルボ
キシルビニルオキシ基、2−シアノ−2−メチルスルホ
ンビニルオキシ基、スチリルオキシ基、4−フェニル−
2ブテニルオキシ基などの炭素数2〜10のアルケニル
オキシ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxy groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a vinyloxy group or a propenyl group. Oxy group, 1-butenyloxy group, iso-butenyloxy group, 1-pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 2-methyl-
1-butenyloxy group, 3-methyl-1-butenyloxy group, 2-methyl-2-butenyloxy group, 2,2-dicyanovinyloxy group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyloxy group, 2-cyano-2- Methylsulfonvinyloxy group, styryloxy group, 4-phenyl-
An alkenyloxy group having 2 to 10 carbon atoms such as 2-butenyloxy group is exemplified.

【0058】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
チオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましくは、メ
チルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、is
o−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチ
ルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、
n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、ネオペ
ンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、メチルカルボ
キシルエチルチオ基、2−エチルヘキシル基、3,5,
5−トリメチルヘキシルチオ基、デカリルチオ基などの
炭素数1〜10のアルキルチオ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are alkylthio groups having the same substituents as the above-described alkyl groups, and are preferably a methylthio group, an ethylthio group, n-propylthio group, is
o-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group,
n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neopentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxylethylthio group, 2-ethylhexyl group, 3,5
Examples thereof include an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms such as a 5-trimethylhexylthio group and a decalylthio group.

【0059】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアラルキルチオ基であり、好ましく
は、ベンジルチオ基、ニトロベンジルチオ基、シアノベ
ンジルチオ基、ヒドロキシベンジルチオ基、メチルベン
ジルチオ基、トリフルオロメチルベンジルチオ基、ナフ
チルメチルチオ基、ニトロナフチルメチルチオ基、シア
ノナフチルメチルチオ基、ヒドロキシナフチルメチルチ
オ基、メチルナフチルメチルチオ基、トリフルオロメチ
ルナフチルメチルチオ基、フルオレン−9−イルエチル
チオ基などの炭素数7〜15のアラルキルチオ基等が挙
げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aralkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzylthio group and nitro Benzylthio, cyanobenzylthio, hydroxybenzylthio, methylbenzylthio, trifluoromethylbenzylthio, naphthylmethylthio, nitronaphthylmethylthio, cyanonaphthylmethylthio, hydroxynaphthylmethylthio, methylnaphthylmethylthio, Examples thereof include an aralkylthio group having 7 to 15 carbon atoms such as a trifluoromethylnaphthylmethylthio group and a fluoren-9-ylethylthio group.

【0060】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
チオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアリールチオ基であり、好ましくは、フェ
ニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシ
フェニルチオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基、ナフ
チルチオ基等の炭素数6〜10のアリールチオ基などが
挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are arylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably phenylthio group and 4-methylphenyl Examples thereof include an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms such as a thio group, a 2-methoxyphenylthio group, a 4-t-butylphenylthio group, and a naphthylthio group.

【0061】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアルキルアミノ基であり、好ましく
は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミ
ノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチ
ルヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、3,
5,5−トリメチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ
基、デシルアミノ基などの炭素数1〜10のモノアルキ
ルアミノ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
メチルエチルアミノ基、ブチルアミノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基、ジ(アセチルオキシエチル)アミノ
基、ジ(プロピオニルオキシエチル)アミノ基などの炭
素数2〜10のジアルキルアミノ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include an alkylamino group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a methylamino group, Ethylamino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, cyclohexylamino group, 3,
A monoalkylamino group having 1 to 10 carbon atoms such as a 5,5-trimethylhexylamino group, a nonylamino group, a decylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group,
Examples thereof include dialkylamino groups having 2 to 10 carbon atoms such as a methylethylamino group, a butylamino group, a piperidino group, a morpholino group, a di (acetyloxyethyl) amino group, and a di (propionyloxyethyl) amino group.

【0062】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルアミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアラルキルアミノ基であり、好まし
くは、ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、3−フ
ェニルプロピルアミノ基、4−エチルベンジルアミノ
基、4−イソプロピルベンジルアミノ基などの炭素数7
〜10のモノアラルキルアミノ基や、ジベンジルアミノ
基、ジフェネチルアミノ基、ビス(4−エチルベンジ
ル)アミノ基、ビス(4−イソプロピルベンジル)アミ
ノ基などの炭素数14〜20のジアラルキルアミノ基が
挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylamino groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aralkylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a benzylamino group, 7 carbon atoms such as phenethylamino, 3-phenylpropylamino, 4-ethylbenzylamino, 4-isopropylbenzylamino, etc.
Diaralkylamino group having 14 to 20 carbon atoms such as monoaralkylamino group having 10 to 10, dibenzylamino group, diphenethylamino group, bis (4-ethylbenzyl) amino group, bis (4-isopropylbenzyl) amino group; Is mentioned.

【0063】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアリールアミノ基であり、好ましく
は、アニリノ基、ナフチルアミノ基、トルイジノ基、キ
シリジノ基、エチルフェニルアミノ基、イソプロピルフ
ェニルアミノ基、メトキシフェニルアミノ基、エトキシ
エチルアミノ基、クロロアニリノ基、アセチルアニリノ
基、メトキシカルボニルアニリノ基、エトキシカルボニ
ルアニリノ基、プロポキシカルボニルアニリノ基など、
炭素数6〜10のモノアリールアミノ基、ジフェニルア
ミノ基、ジトリルアミノ基、N−フェニル−N−トリル
アミノ基などの炭素数12〜14のジアリールアミノ基
が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylamino groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are arylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably an anilino group, naphthyl Amino group, toluidino group, xylidino group, ethylphenylamino group, isopropylphenylamino group, methoxyphenylamino group, ethoxyethylamino group, chloroanilino group, acetylanilino group, methoxycarbonylanilino group, ethoxycarbonylanilino group, propoxy Such as a carbonylanilino group,
Examples thereof include diarylamino groups having 12 to 14 carbon atoms such as monoarylamino groups having 6 to 10 carbon atoms, diphenylamino groups, ditolylamino groups, and N-phenyl-N-tolylamino groups.

【0064】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルアミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルケニルアミノ基であり、好まし
くは、アリルアミノ基、ブテニルアミノ基、ペンテニル
アミノ基、ヘキセニルアミノ基、シクロヘキセニルアミ
ノ基、オクタジエニルアミノ基、アダマンテニルアミノ
基などの炭素数3〜10のモノアルケニルアミノ基、ジ
アリルアミノ基、ジブテニルアミノ基、ジペンテニルア
ミノ基、ジヘキセニルアミノ基などの炭素数6〜12の
ジアルケニルアミノ基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenylamino groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably an allylamino group or a butenylamino group. Group, pentenylamino group, hexenylamino group, cyclohexenylamino group, octadienylamino group, monoalkenylamino group having 3 to 10 carbon atoms such as adamantenylamino group, diallylamino group, dibutenylamino group, dipentenylamino group, A dialkenylamino group having 6 to 12 carbon atoms such as a dihexenylamino group is exemplified.

【0065】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアシル基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル基、メ
チルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピル
カルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブ
チルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、se
c−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n
−ペンチルカルボニル基、iso−ペンチルカルボニル
基、ネオペンチルカルボニル基、2−メチルブチルカル
ボニル基、フェナシル基、メチルフェナシル基、エチル
フェナシル基、トリルカルボニル基、プロピルフェナシ
ル基、4−t−ブチルフェナシル基、ニトロベンジルカ
ルボニル基、3−ブトキシ−2−ナフトイル基、シンナ
モイル基などの炭素数1〜15のアシル基が挙げられ
る。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted acyl groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a formyl group, a methylcarbonyl group. , Ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, se
c-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n
-Pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neopentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, phenacyl group, methylphenacyl group, ethylphenacyl group, tolylcarbonyl group, propylphenacyl group, 4-t-butylphenacyl And a nitrobenzylcarbonyl group, a 3-butoxy-2-naphthoyl group, a cinnamoyl group and the like.

【0066】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルコキ
シカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するアルコキシカルボニル基であ
り、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、n−プロポキシカルボニル基、iso−プロポ
キシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、iso
−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル
基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペントキシカルボ
ニル基、iso−ペントキシカルボニル基、ネオペント
キシカルボニル基、2−ペントキシカルボニル基、2−
エチルヘキシルオキシカルボニル基、3,5,5−トリ
メチルヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニル基などの炭素数2〜10のアルコキシカ
ルボニル基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkoxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably methoxycarbonyl groups and ethoxy groups. Carbonyl group, n-propoxycarbonyl group, iso-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, iso
-Butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentoxycarbonyl group, iso-pentoxycarbonyl group, neopentoxycarbonyl group, 2-pentoxycarbonyl group, 2-
Examples thereof include an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms such as an ethylhexyloxycarbonyl group, a 3,5,5-trimethylhexyloxycarbonyl group, and a cyclohexyloxycarbonyl group.

【0067】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアラルキルオキシカルボ
ニル基であり、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル
基、ニトロベンジルオキシカルボニル基、シアノベンジ
ルオキシカルボニル基、ヒドロキシベンジルオキシカル
ボニル基、メチルベンジルオキシカルボニル基、トリフ
ルオロメチルベンジルオキシカルボニル基、ナフチルメ
トキシカルボニル基、ニトロナフチルメトキシカルボニ
ル基、シアノナフチルメトキシカルボニル基、ヒドロキ
シナフチルメトキシカルボニル基、メチルナフチルメト
キシカルボニル基、トリフルオロメチルナフチルメトキ
シカルボニル基、フルオレン−9−イルエトキシカルボ
ニル基などの炭素数8〜15のアラルキルオキシカルボ
ニル基等が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aralkyloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyloxy. Carbonyl, nitrobenzyloxycarbonyl, cyanobenzyloxycarbonyl, hydroxybenzyloxycarbonyl, methylbenzyloxycarbonyl, trifluoromethylbenzyloxycarbonyl, naphthylmethoxycarbonyl, nitronaphthylmethoxycarbonyl, cyanonaphthylmethoxycarbonyl Groups, hydroxynaphthylmethoxycarbonyl group, methylnaphthylmethoxycarbonyl group, trifluoromethylnaphthylmethoxycarbonyl group, fluoren-9-ylethoxycarbonyl group, etc. Number 8-15 aralkyloxycarbonyl groups such like.

【0068】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
オキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアリー
ル基と同様な置換基を有するアリールオキシカルボニル
基であり、好ましくは、フェノキシカルボニル基、2−
メチルフェノキシカルボニル基、4−メチルフェノキシ
カルボニル基、4−t−ブチルフェノキシカルボニル
基、2−メトキシフェノキシカルボニル基、4−iso
−プロピルフェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボ
ニル基などの炭素数7〜11のアリールオキシカルボニ
ル基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aryloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned aryl groups, and preferably phenoxycarbonyl Group, 2-
Methylphenoxycarbonyl group, 4-methylphenoxycarbonyl group, 4-t-butylphenoxycarbonyl group, 2-methoxyphenoxycarbonyl group, 4-iso
And aryloxycarbonyl groups having 7 to 11 carbon atoms, such as -propylphenoxycarbonyl group and naphthoxycarbonyl group.

【0069】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアルケニルオキシカルボ
ニル基であり、好ましくは、ビニルオキシカルボニル
基、プロペニルオキシカルボニル基、1−ブテニルオキ
シカルボニル基、iso−ブテニルオキシカルボニル
基、1−ペンテニルオキシカルボニル基、2−ペンテニ
ルオキシカルボニル基、2−メチル−1−ブテニルオキ
シカルボニル基、3−メチル−1−ブテニルオキシカル
ボニル基、2−メチル−2−ブテニルオキシカルボニル
基、2,2−ジシアノビニルオキシカルボニル基、2−
シアノ−2−メチルカルボキシルビニルオキシカルボニ
ル基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニルオキシカ
ルボニル基、スチリルオキシカルボニル基、4−フェニ
ル−2ブテニルオキシカルボニル基などの炭素数3〜1
1のアルケニルオキシカルボニル基が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably vinyloxy Carbonyl group, propenyloxycarbonyl group, 1-butenyloxycarbonyl group, iso-butenyloxycarbonyl group, 1-pentenyloxycarbonyl group, 2-pentenyloxycarbonyl group, 2-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 3-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 2-methyl-2-butenyloxycarbonyl group, 2,2-dicyanovinyloxycarbonyl group, 2-
A carbon number of 3 to 1 such as a cyano-2-methylcarboxylvinyloxycarbonyl group, a 2-cyano-2-methylsulfonevinyloxycarbonyl group, a styryloxycarbonyl group, a 4-phenyl-2-butenyloxycarbonyl group;
And one alkenyloxycarbonyl group.

【0070】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
アミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキ
ル基と同様な置換基を有するアルキルアミノカルボニル
基であり、好ましくはメチルアミノカルボニル基、エチ
ルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、
ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル
基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカル
ボニル基、オクチルアミノカルボニル基、ノニルアミノ
カルボニル基、3,5,5−トリメチルヘキシルアミノ
カルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基
等の炭素数2〜10のモノアルキルアミノカルボニル
基;ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカル
ボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルア
ミノカルボニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジ
ヘキシルアミノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボ
ニル基、ジオクチルアミノカルボニル基、ピペリジノカ
ルボニル基、モルホリノカルボニル基、4−メチルピペ
ラジノカルボニル基、4−エチルピペラジノカルボニル
基等の炭素数3〜20のジアルキルアミノカルボニル基
が挙げられる。
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminocarbonyl groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 include an alkylaminocarbonyl group having the same substituent as the above-described alkyl group, and preferably methylaminocarbonyl Group, ethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group,
Butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, etc. Monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms; dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylamino 3 to 2 carbon atoms such as a carbonyl group, a piperidinocarbonyl group, a morpholinocarbonyl group, a 4-methylpiperazinocarbonyl group, and a 4-ethylpiperazinocarbonyl group. Include dialkylaminocarbonyl groups of.

【0071】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8で示される置換または無置換の複素環基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有する複素環基であり、好ましくは、フラニル基、ピ
ロリル基、3−ピロリノ基、ピロリジノ基、1,3−オ
キソラニル基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピ
ラゾリジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チ
アゾリル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,
2,3−トリアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル
基、1,3,4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル
基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、
モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピ
ラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾ
フラニル基、インドーリル基、チオナフセニル基、ベン
ズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、クマリニル基、シン
ノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、
カルバゾリル基、フェナントロニリル基、フェノチアジ
ニル基、フラボニル基などの無置換複素環基;
In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a heterocyclic group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a furanyl group, a pyrrolyl group. Group, 3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-pyrazolinyl group, pyrazolidinyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,
2,3-triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group,
Morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group,
Quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group,
An unsubstituted heterocyclic group such as a carbazolyl group, a phenanthronylyl group, a phenothiazinyl group, a flavonyl group;

【0072】ハロゲン原子、シアノ基;メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、メトキシメチ
ル基、エトキシエチル基、エトキシエチル基、トリフル
オロメチル基等のアルキル基;ベンジル基、フェネチル
基などのアラルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基、キシリル基、メシル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基等のアリール基;メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノ
ニルオキシ基、デシルオキシ基、2−エチルヘキシル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキル基;フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフ
トキシ基、キシリルオキシ基、メシルオキシ基、クロロ
フェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のアリールオキ
シ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブタジエニル
基、ペンテニル基、オクテニル基等のアルケニル基;ビ
ニルオキシ基、アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブ
タジエニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、オクテニル
オキシ基等のアルケニルオキシ基;メチルチオ基、エチ
ルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチ
オ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ
基、デシルチオ基、メトキシメチルチオ基、エトキシエ
チルチオ基、エトキシエチルチオ基、トリフルオロメチ
ルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジルチオ基、フェネ
チルチオ基などのアラルキルチオ基;フェニルチオ基、
トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシリルチオ基、メシ
ルチオ基、クロロフェニルチオ基、メトキシフェニルチ
オ基等のアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等の
ジアルキルアミノ基;アセチル基、プロピオニル基、ブ
タノイル基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベンジ
ルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基
等のアラルキルオキシカルボニル基;フェノキシカルボ
ニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカルボ
ニル基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシカ
ルボニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキシ
フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル
基;ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニ
ル基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオキ
シカルボニル基、ペンテニルオキシカルボニル基、オク
テニルオキシカルボニル基等のアルケニルオキシカルボ
ニル基;メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカル
ボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノ
カルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシル
アミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、オ
クチルアミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルアミノカルボニル
基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数
2〜10のモノアルキルアミノカルボニル基や、ジメチ
ルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、
ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボ
ニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルア
ミノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジ
オクチルアミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル
基、モルホリノカルボニル基、4−メチルピペラジノカ
ルボニル基、4−エチルピペラジノカルボニル基等の炭
素数3〜19のジアルキルアミノカルボニル基等のアル
キルアミノカルボニル基;フラニル基、ピロリル基、3
−ピロリノ基、ピロリジノ基、1,3−オキソラニル
基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリジニ
ル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,2,3−ト
リアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、1,3,
4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル基、ピリジニル
基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、モルホリニル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、
インドーリル基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基等の複素環基;などの置換基により置換し
た複素環基が挙げられる。
Halogen, cyano; methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, methoxymethyl, ethoxyethyl, ethoxyethyl, trifluoroethyl Alkyl group such as methyl group; aralkyl group such as benzyl group and phenethyl group; aryl group such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, xylyl group, mesyl group, chlorophenyl group and methoxyphenyl group; methoxy group, ethoxy group and propoxy group Group, butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 2-ethylhexyl group, alkoxy group such as 3,5,5-trimethylhexyloxy group; benzyloxy group, Aralkyl groups such as phenethyloxy groups; Aryloxy groups such as xy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xylyloxy group, mesyloxy group, chlorophenoxy group and methoxyphenoxy group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group and octenyl group; Alkenyloxy groups such as vinyloxy group, allyloxy group, butenyloxy group, butadienyloxy group, pentenyloxy group, octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, heptylthio group, Alkylthio groups such as octylthio, decylthio, methoxymethylthio, ethoxyethylthio, ethoxyethylthio, and trifluoromethylthio; aralkylthio such as benzylthio and phenethylthio; Niruchio group,
Arylthio groups such as tolylthio group, naphthylthio group, xylylthio group, mesylthio group, chlorophenylthio group and methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group and dibutylamino group; acetyl group and propionyl An acyl group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group; an aralkyloxycarbonyl group such as a benzyloxycarbonyl group or a phenethyloxycarbonyl group; a phenoxycarbonyl group, a tolyloxycarbonyl group, or a naphthoxycarbonyl group Aryloxycarbonyl groups such as a group, a xylyloxycarbonyl group, a mesyloxycarbonyl group, a chlorophenoxycarbonyl group, a methoxyphenoxycarbonyl group; vinyloxy Alkenyloxycarbonyl groups such as rubonyl group, allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, pentenyloxycarbonyl group, octenyloxycarbonyl group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, propylamino Carbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl A monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a group, a dimethylaminocarbonyl group, a diethylaminocarbonyl group,
Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group An alkylaminocarbonyl group such as a dialkylaminocarbonyl group having 3 to 19 carbon atoms such as a 4-, 4-ethylpiperazinocarbonyl group; a furanyl group, a pyrrolyl group,
-Pyrrolino, pyrrolidino, 1,3-oxolanyl, pyrazolyl, 2-pyrazolinyl, pyrazolidinyl, imidazolyl, oxazolyl, thiazolyl, 1,2,3-oxadiazolyl, 1,2,3-triazolyl Group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3
4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group,
Piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group,
Indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group,
Heterocyclic groups such as flavonyl groups; and heterocyclic groups substituted with substituents such as.

【0073】式(1)中、環Aおよび環Bはそれぞれ独
立して、オキサゾール環またはチアゾール環であり、具
体的には、式(2)
In the formula (1), ring A and ring B are each independently an oxazole ring or a thiazole ring.

【0074】[0074]

【化3】 Embedded image

【0075】または、式(3)Or the formula (3)

【0076】[0076]

【化4】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、Z
1、Z2、Z3、Z4は、式(1)中のR1、R2、R3
4、R5、R6、R7、R8、Z1、Z2、Z3、Z4と同一
の意を表し、X1、X2はそれぞれ独立して、酸素原子ま
たは硫黄原子を表す。〕で示される化合物である。
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , Z
1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 represent R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 represent the same meaning, and X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. Represent. ] The compound shown by these.

【0077】式(1)中、Z1、Z2、Z3、Z4で示され
る置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アル
ケニル基、アリール基としては、式(1)中のR1
2、R 3、R4、R5、R6、R7、R8で示されるアルキ
ル基と同一のアルキル基;式(1)中のR1、R2
3、R4、R5、R6、R7、R8で示されるアラルキル基
と同一のアラルキル基;式(1)中のR1、R2、R3
4、R5、R6、R7、R8で示されるアルケニル基と同
一のアルケニル基;式(1)中のR1、R2、R3、R4
5、R6、R7、R8で示されるアリール基と同一のアリ
ール基;が挙げられる。
In the formula (1), Z1, ZTwo, ZThree, ZFourIndicated by
Substituted or unsubstituted alkyl, aralkyl,
As the kenyl group and the aryl group, R in formula (1)1,
RTwo, R Three, RFour, RFive, R6, R7, R8Archi indicated by
An alkyl group identical to the R group; R in the formula (1)1, RTwo,
RThree, RFour, RFive, R6, R7, R8Aralkyl group represented by
An aralkyl group identical to the above; R in the formula (1)1, RTwo, RThree,
RFour, RFive, R6, R7, R8Same as the alkenyl group represented by
One alkenyl group; R in the formula (1)1, RTwo, RThree, RFour,
RFive, R6, R7, R8An ant identical to the aryl group represented by
A hydroxyl group;

【0078】また、Z1とZ2、Z3とZ4は互いに連結し
て下記のような環を形成しても良い。
Further, Z 1 and Z 2 and Z 3 and Z 4 may be connected to each other to form the following ring.

【0079】[0079]

【化5】 Embedded image

【0080】具体例としては、下記に示す炭素数4〜1
3の環が挙げられる。
As a specific example, the following carbon number 4-1
And 3 rings.

【0081】[0081]

【化6】 Embedded image

【0082】また、式(1)中の構造に示されるアニリ
ノ残基と、環Aまたは環Bとを両端に結合する−CH=
CH−基は、trans形またはcis形のいずれの幾
何異性を有していてもよい。
Further, -CH = which bonds the anilino residue represented by the structure in the formula (1) to the ring A or the ring B at both ends.
The CH- group may have any of the trans or cis geometric isomerism.

【0083】本発明の一般式(1)で示されるベンゾビ
スオキサ/チアゾール化合物の合成法としては、例え
ば、式(4)および/または式(5)
As a method for synthesizing the benzobisoxa / thiazole compound represented by the general formula (1) of the present invention, for example, the formula (4) and / or the formula (5)

【0084】[0084]

【化7】 Embedded image

【0085】〔式中のR1、R2、R3、R4、R5、R6
7、R8、Z1、Z2、Z3、Z4は、式(1)中のR1
2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、Z1、Z2、Z3
4と同一の意を表す。〕で示されるカルボン酸を1,
3−ジメチルイミダゾリジン−2−オン、あるいは1−
メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒中で、塩化
チオニルなどを作用させて酸塩化物を形成した後に、
2,5−ジアミノヒドロキノンおよび/またはその塩酸
塩や硫酸塩、2,5−ジアミノフェニレン−1,4−ジ
チオールおよび/またはその塩酸塩や硫酸塩、あるいは
2,5−ジアミノフェニレン−4−ヒドロキシ−1−チ
オフェノールおよび/またはその塩酸塩や硫酸塩と反応
することで、式(2)の化合物を容易に得ることがで
き、また、式(4)および/または式(5)のカルボン
酸を1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−オン、ある
いは1−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒中
で、塩化チオニルなどを作用させて酸塩化物を形成した
後に、4,6−ジアミノレゾルシノールおよび/または
その塩酸塩や硫酸塩、4,6−ジアミノフェニレン−
1,3−ジチオールおよび/またはその塩酸塩や硫酸
塩、あるいは4,6−ジアミノフェニレン−3−ヒドロ
キシ−1−チオフェノールおよび/またはその塩酸塩や
硫酸塩と反応することで、式(3)の化合物を容易に得
ることができる。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 ,
R 7 , R 8 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 represent R 1 ,
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , Z 1 , Z 2 , Z 3 ,
It represents the same meaning as Z 4. Carboxylic acid represented by 1,
3-dimethylimidazolidin-2-one, or 1-
In an amide solvent such as methyl-2-pyrrolidone, after reacting with thionyl chloride or the like to form an acid chloride,
2,5-diaminohydroquinone and / or its hydrochloride or sulfate, 2,5-diaminophenylene-1,4-dithiol and / or its hydrochloride or sulfate, or 2,5-diaminophenylene-4-hydroxy- The compound of formula (2) can be easily obtained by reacting with 1-thiophenol and / or its hydrochloride or sulfate, and the carboxylic acid of formula (4) and / or (5) In an amide solvent such as 1,3-dimethylimidazolidin-2-one or 1-methyl-2-pyrrolidone, thionyl chloride or the like is allowed to act to form an acid chloride, and then 4,6-diaminoresorcinol and / Or its hydrochloride or sulfate, 4,6-diaminophenylene-
By reacting with 1,3-dithiol and / or its hydrochloride or sulfate, or 4,6-diaminophenylene-3-hydroxy-1-thiophenol and / or its hydrochloride or sulfate, the compound of the formula (3) Can be easily obtained.

【0086】また、式(4)で示されるカルボン酸を
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−オン、あるいは
1−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒中で、
塩化チオニルなどを作用させて酸塩化物を形成した後
に、2,5−ジアミノヒドロキノンおよび/またはその
塩酸塩や硫酸塩、2,5−ジアミノフェニレン−1,4
−ジチオールおよび/またはその塩酸塩や硫酸塩、ある
いは2,5−ジアミノフェニレン−4−ヒドロキシ−1
−チオフェノールおよび/またはその塩酸塩や硫酸塩と
反応して式(6)
Further, the carboxylic acid represented by the formula (4) is converted into an amide solvent such as 1,3-dimethylimidazolidin-2-one or 1-methyl-2-pyrrolidone.
After forming an acid chloride by the action of thionyl chloride or the like, 2,5-diaminohydroquinone and / or its hydrochloride or sulfate, 2,5-diaminophenylene-1,4
-Dithiol and / or its hydrochloride or sulfate, or 2,5-diaminophenylene-4-hydroxy-1
Reacting with thiophenol and / or its hydrochloride or sulfate to form a compound of formula (6)

【0087】[0087]

【化8】 〔式中のR1、R2、R3、R4、Z1、Z2は、式(1)中
のR1、R2、R3、R4、Z1、Z2と同一の意を示し、X
1、X2は式(2)のX1、X2と同一の意を示す。〕で示
されるアミノフェノールまたはアミノチオフェノールを
生成するか、あるいは、4,6−ジアミノレゾルシノー
ルおよび/またはその塩酸塩や硫酸塩、4,6−ジアミ
ノフェニレン−1,3−ジチオールおよび/またはその
塩酸塩や硫酸塩、あるいは4,6−ジアミノフェニレン
−3−ヒドロキシ−1−チオフェノールおよび/または
その塩酸塩や硫酸塩と反応することで、式(7)
Embedded image [R 1, R 2, R 3 in the formula, R 4, Z 1, Z 2 is, R 1 in the formula (1), R 2, R 3, R 4, Z 1, Z 2 same meaning and And X
1, X 2 represent the same meaning as X 1, X 2 of formula (2). Or 4,6-diaminoresorcinol and / or its hydrochloride or sulfate, 4,6-diaminophenylene-1,3-dithiol and / or its hydrochloric acid By reacting with a salt or a sulfate, or 4,6-diaminophenylene-3-hydroxy-1-thiophenol and / or its hydrochloride or sulfate, the compound of the formula (7)

【0088】[0088]

【化9】 〔式中のR1、R2、R3、R4、Z1、Z2、Z3、Z4は、
式(1)中のR1、R2、R3、R4、Z1、Z2、Z3、Z4
と同一の意を示し、X1、X2は式(3)のX1、X2と同
一の意を示す。〕で示されるアミノフェノールまたはア
ミノチオフェノールを生成した後に、式(5)で示され
るカルボン酸を1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−
オン、あるいは1−メチル−2−ピロリドンなどのアミ
ド系溶媒中で塩化チオニルなどを作用させて得られた酸
塩化物を反応させて、式(1)の化合物を得ることもで
きる。
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 are
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 in the formula (1)
And show the same meaning, X 1, X 2 represent the same meaning as X 1, X 2 of formula (3). And the carboxylic acid represented by the formula (5) is converted to 1,3-dimethylimidazolidin-2-
The compound of formula (1) can also be obtained by reacting an acid chloride obtained by the action of thionyl chloride or the like in an amide solvent such as on or 1-methyl-2-pyrrolidone.

【0089】ここで、式(3)の化合物について、式
(8)および/または式(9)
Here, with respect to the compound of the formula (3), the compound of the formula (8) and / or the formula (9)

【0090】[0090]

【化10】 〔式中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、Z
1、Z2、Z3、Z4は、式(1)中のR1、R2、R3
4、R5、R6、R7、R8、Z1、Z2、Z3、Z4と同一
の意を表す。〕で示されるアルデヒドをピペリジンなど
の塩基化合物を触媒量用いて、エタノール、プロパノー
ルなどのアルコール溶媒中で、式(10)
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , Z
1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 represent R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 have the same meaning. The aldehyde represented by the formula (10) is prepared by using a catalytic amount of a base compound such as piperidine in an alcoholic solvent such as ethanol and propanol.

【0091】[0091]

【化11】 〔式中、X1、X2は、式(3)のX1、X2と同一の意を
表す。〕で示される、キノン化合物と反応させることで
容易に得ることができる。
Embedded image Wherein, X 1, X 2 represents the same meaning as X 1, X 2 of formula (3). The compound can be easily obtained by reacting with a quinone compound represented by the following formula:

【0092】一般式(1)で示されるベンゾビスオキサ
/チアゾール化合物の具体例については、表1に記載す
る化合物(1−1)〜(1−132)のものが挙げられ
る。
Specific examples of the benzobisoxa / thiazole compound represented by the general formula (1) include those of the compounds (1-1) to (1-132) shown in Table 1.

【0093】[0093]

【表1】 [Table 1]

【0094】[0094]

【表2】 [Table 2]

【0095】[0095]

【表3】 [Table 3]

【0096】[0096]

【表4】 [Table 4]

【0097】[0097]

【表5】 [Table 5]

【0098】[0098]

【表6】 [Table 6]

【0099】[0099]

【表7】 [Table 7]

【0100】[0100]

【表8】 [Table 8]

【0101】[0101]

【表9】 [Table 9]

【0102】[0102]

【表10】 [Table 10]

【0103】[0103]

【表11】 [Table 11]

【0104】[0104]

【表12】 [Table 12]

【0105】[0105]

【表13】 [Table 13]

【0106】[0106]

【表14】 [Table 14]

【0107】[0107]

【表15】 [Table 15]

【0108】[0108]

【表16】 [Table 16]

【0109】[0109]

【表17】 [Table 17]

【0110】[0110]

【表18】 [Table 18]

【0111】[0111]

【表19】 [Table 19]

【0112】[0112]

【表20】 [Table 20]

【0113】[0113]

【表21】 [Table 21]

【0114】[0114]

【表22】 [Table 22]

【0115】[0115]

【表23】 [Table 23]

【0116】[0116]

【表24】 [Table 24]

【0117】[0117]

【表25】 [Table 25]

【0118】[0118]

【表26】 [Table 26]

【0119】[0119]

【表27】 [Table 27]

【0120】[0120]

【表28】 [Table 28]

【0121】[0121]

【表29】 [Table 29]

【0122】また、記録特性などの改善のために、波長
350nm〜550nmに吸収極大を持ち、400nm
〜500nmでの屈折率が大きい前記以外の化合物と混
合しても良い。具体的には、シアニン化合物、スクアリ
リウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノ
ン系化合物、テトラピラポルフィラジン系化合物、イン
ドフェノール系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリ
リウム系化合物、アズレニウム系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、キサンテン系化合物、インダスレン系
化合物、インジゴ系化合物、チオインジゴ系化合物、メ
ロシアニン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系
化合物、オキサジン系化合物、ジピロメテン系化合物な
どがあり、複数の化合物の混合であっても良い。これら
の化合物の混合割合は、0.1〜30%程度である。
Further, in order to improve the recording characteristics, etc., it has an absorption maximum at a wavelength of 350 nm to 550 nm,
You may mix with compounds other than the above which have a large refractive index in 500 nm. Specifically, cyanine compounds, squarylium-based compounds, naphthoquinone-based compounds, anthraquinone-based compounds, tetrapyraporphyrazine-based compounds, indophenol-based compounds, pyrylium-based compounds, thiopyrylium-based compounds, azurenium-based compounds, triphenylmethane-based compounds, There are a xanthene compound, an indasulen compound, an indigo compound, a thioindigo compound, a merocyanine compound, a thiazine compound, an acridine compound, an oxazine compound, a dipyrromethene compound, and the like, and a mixture of a plurality of compounds may be used. . The mixing ratio of these compounds is about 0.1 to 30%.

【0123】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の化合物に、クエンチャー、化合物熱分解促進剤、紫外
線吸収剤、接着剤などを混合するか、あるいは、そのよ
うな効果を有する化合物を前期化合物の置換基として導
入することも可能である。
When forming a recording layer, a quencher, a compound thermal decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, or the like may be mixed with the above-described compound, if necessary, or may have such an effect. It is also possible to introduce the compound as a substituent of the compound.

【0124】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミ
ン系も好適である。
Specific examples of the quencher include acetylacetonate-based, bisdithio-α-diketone-based and bisphenyldithiol-based bisdithiol-based, thiocateconal-based, salicylaldehyde oxime-based, and thiobisphenolate-based. Metal complexes are preferred. Also, amines are suitable.

【0125】化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析
(TG分析)などにより、化合物の熱分解の促進が確認
できるのもであれば特に限定されず、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナト系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。金属系
アンチノッキング剤の例としては、四エチル鉛、その他
の鉛系化合物、シマントレン[Mn(C55)(CO)
3]などのMn系化合物、また、メタロセン化合物の例
としては、鉄ビスシクロペンタジエニル錯体(フェロセ
ン)をはじめ、Ti、V、Mn、Cr、Co、Ni、M
o、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、Os、Ir、
Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル錯体がある。
なかでもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、ニッケ
ロセン、チタノセンおよびそれらの誘導体は良好な熱分
解促進効果がある。
The compound thermal decomposition accelerator is not particularly limited as long as it can confirm the promotion of thermal decomposition of the compound by thermal weight loss analysis (TG analysis). For example, a metal-based anti-knocking agent, a metallocene compound And metal compounds such as acetylacetonate-based metal complexes. Examples of the metal anti-knocking agent include tetraethyl lead, other lead compounds, and Simantrene [Mn (C 5 H 5 ) (CO)
Examples of Mn-based compounds such as [ 3 ] and metallocene compounds include iron biscyclopentadienyl complex (ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co, Ni, M
o, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, Os, Ir,
There are biscyclopentadienyl complexes such as Sc and Y.
Among them, ferrocene, ruthenocene, osmocene, nickelocene, titanocene and derivatives thereof have good thermal decomposition promoting effects.

【0126】その他、鉄系金属化合物として、メタロセ
ンの他に、ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテ
ン酸鉄、ステアリン酸鉄、酢酸鉄などの有機酸鉄化合
物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄
錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、
エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン
鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯
体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄
錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ
鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一鉄、塩
化第二鉄、臭化第一鉄、臭化第二鉄などのハロゲン化
鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さら
には、酸化鉄などが挙げられる。ここで用いる熱分解促
進剤は有機溶剤に可溶で、かつ、耐湿熱性及び耐光性の
良好なものが望ましい。
Other iron-based metal compounds include metallocene, organic iron compounds such as iron formate, iron oxalate, iron laurate, iron naphthenate, iron stearate, and iron acetate; iron acetylacetonate complex; Phenanthroline iron complex, bispyridine iron complex, ethylenediamine iron complex,
Iron complexes such as iron complexes of ethylenediaminetetraacetate, iron complexes of diethylenetriamine, iron complexes of diethyleneglycol dimethylether, iron complexes of diphosphino, iron complexes of dimethylglyoximate, iron complexes such as carbonyl iron complexes, cyanoiron complexes and ammineiron complexes, Examples thereof include iron halides such as iron, ferric chloride, ferrous bromide, and ferric bromide; inorganic iron salts such as iron nitrate and iron sulfate; and iron oxide. The thermal decomposition accelerator used here is desirably one that is soluble in an organic solvent and has good wet heat resistance and light resistance.

【0127】上述した各種のクエンチャー及び化合物熱
分解促進剤は、必要に応じて、1種類で用いても、他種
類を混合して用いても良い。
The various quencher and the compound thermal decomposition accelerator described above may be used singly or as a mixture of other types as required.

【0128】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などの添加物質を加えても良い。好ま
しいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。
Further, if necessary, additives such as a binder, a leveling agent and an antifoaming agent may be added. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

【0129】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。
When forming a recording layer on a substrate, in order to improve the solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the substrate,
A layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate.

【0130】ここで、記録層における一般式(1)で示
される化合物の含有量は、30%以上、好ましくは60
%以上である。尚、実質的に100%であることも好ま
しい。
Here, the content of the compound represented by the general formula (1) in the recording layer is 30% or more, preferably 60% or more.
% Or more. In addition, it is also preferable that it is substantially 100%.

【0131】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
The method for providing the recording layer includes, for example, a coating method such as a spin coating method, a spraying method, a casting method, and an immersion method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. Is preferred.

【0132】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式(1)で示される化合物を1〜40重量
%、好ましくは3〜30重量%となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフル
オロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシク
ロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、
トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノンなどの
ケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル
系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても
良く、あるいは、複数混合しても良い。なお、必要に応
じて、記録層の化合物を高分子薄膜などに分散して用い
たりすることもできる。
When a coating method such as a spin coating method is used, the compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent so as to be 1 to 40% by weight, preferably 3 to 30% by weight. A coating solution is used, and at this time, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate.
For example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, alcohol solvents such as tetrafluoropropanol, hexane,
Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane,
Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane and dibromoethane,
Ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane; ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; ester solvents such as ethyl acetate and methyl lactate; and water. Can be These may be used alone or in combination. If necessary, the compound of the recording layer can be used by dispersing it in a polymer thin film or the like.

【0133】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。
If a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective.

【0134】記録層の膜厚は、30nm〜1000nm
であるが、好ましくは50nm〜300nmである。記
録層の膜厚を50nmより薄くすると、熱拡散が大きい
ため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号
振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が300nm
より厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化す
る場合がある。
The thickness of the recording layer is 30 nm to 1000 nm.
However, it is preferably 50 nm to 300 nm. If the thickness of the recording layer is less than 50 nm, recording may not be performed due to large thermal diffusion, or a recording signal may be distorted and the signal amplitude may be reduced. The thickness is 300 nm.
If the thickness is larger, the reflectance may decrease, and the reproduction signal characteristics may deteriorate.

【0135】次に記録層の上に、好ましくは50nm〜
300nmの厚さの反射層を形成する。反射率を高める
ためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に
反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材
料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例
えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、P
t、Ta、CrおよびPdの金属を単独あるいは合金に
して用いることが可能である。この中でもAu、Al、
Agは反射率が高く反射層の材料として適している。こ
れ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F
e、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属お
よび半金属を挙げることができる。また、Auを主成分
とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため
好適である。ここで主成分というのは含有率が50%以
上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈
折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層と
して用いることも可能である。
Next, on the recording layer, preferably 50 nm to
A reflective layer having a thickness of 300 nm is formed. A reflection amplification layer or an adhesive layer can be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance and improve the adhesion. As a material of the reflection layer, a material having sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, P
The metals t, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, Al,
Ag has a high reflectance and is suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, M
g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, S
Metals and metalloids such as i, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi and the like can be mentioned. Further, those containing Au as a main component are preferable because a reflection layer having high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal, and use it as a reflective layer.

【0136】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。
As a method for forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.

【0137】さらに、反射層の上に形成する保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙
げることができる。また、無機物質としては、Si
2、SiO、Si34、MgF2、AlN、SnO2
どが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適
当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによ
って形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのま
まもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に
この塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させること
によって形成することができる。紫外線硬化性樹脂とし
ては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート
樹脂を用いることができる。これらの材料は単独である
いは混合して用いても良く、1層だけでなく多層膜にし
て用いても良い。
The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Further, as the inorganic substance, Si
O 2 , SiO, Si 3 N 4 , MgF 2 , AlN, SnO 2 and the like can be mentioned. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in a suitable solvent, applying a coating solution, and drying. The ultraviolet-curable resin can be formed by applying a coating solution after preparing the coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, and irradiating with ultraviolet rays to cure the resin. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.

【0138】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used as in the case of the recording layer, and among them, the spin coating method is preferable.

【0139】保護層の膜厚は、一般には0.1μm〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、3μm〜
30μmであり、より好ましくは、5μm〜20μmで
ある。
The thickness of the protective layer is generally 0.1 μm to 1 μm.
In the present invention, the range is from 3 μm to
It is 30 μm, more preferably 5 μm to 20 μm.

【0140】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を
行うこともできる。
A label or the like can be further printed on the protective layer.

【0141】また、反射層面に保護シートまたは基板を
貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向さ
せ、光記録媒体2枚を貼り合わせるなどの手段を用いて
も良い。
Further, a means such as bonding a protective sheet or a substrate to the reflective layer surface, or bonding two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other with the inner surfaces facing each other may be used.

【0142】基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。
On the mirror surface of the substrate, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like.

【0143】ここで、本発明で言う波長400nm〜5
00nmのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可
視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波
長445nmのヘリウムカドミウムレーザー、波長48
8nmのアルゴンレーザー、波長約410nmのGaN
系半導体レーザー、波長約850〜860nmの赤外線
レーザーの第2高調波である425〜430nmを発振
する半導体レーザーなどが挙げられる。本発明では、こ
れらから選択される1波長または複数波長において高密
度記録および再生が可能となる。
Here, the wavelength of 400 nm to 5
The laser having a wavelength of 00 nm is not particularly limited. For example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range of the visible light region, a helium cadmium laser having a wavelength of 445 nm, and a wavelength of 48 nm.
8nm argon laser, wavelength 410nm GaN
And a semiconductor laser that oscillates at 425 to 430 nm, which is the second harmonic of an infrared laser having a wavelength of about 850 to 860 nm. According to the present invention, high-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.

【0144】[0144]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples.

【0145】実施例1 一般式(1)で表される化合物のうち、ベンゾビスオキ
サゾール化合物(1−1)0.2gをジアセトンアルコ
ール10mlに溶解し、化合物溶液を調製した。
Example 1 Among the compounds represented by the general formula (1), 0.2 g of the benzobisoxazole compound (1-1) was dissolved in 10 ml of diacetone alcohol to prepare a compound solution.

【0146】ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝
(トラックピッチ:0.7μm)を有する外径120m
m、厚さ0.6mmの円盤状の基板上に、この化合物溶
液を回転数2000rpmでスピンコートし、70℃で
3時間乾燥して記録層を形成した。
Outer diameter 120 m made of polycarbonate resin and having continuous guide grooves (track pitch: 0.7 μm)
This compound solution was spin-coated at 2,000 rpm on a disk-shaped substrate having a thickness of 0.6 mm and a thickness of 0.6 mm, and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer.

【0147】この記録層の上に島津製作所製スパッタ装
置を用いてAuをスパッタし、厚さ100nmの反射層
を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用い
た。スパッタ条件は、スパッタパワー0.5A、スパッ
タガス圧1.0×10-3torrで行った。
Au was sputtered on the recording layer using a sputtering apparatus manufactured by Shimadzu Corporation to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as a sputtering gas. The sputtering conditions were a sputtering power of 0.5 A and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −3 torr.

【0148】さらに、反射層の上に、紫外線硬化樹脂S
D−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
した後、前記基板と同様な案内溝のない基板をのせ、紫
外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製し
た。
Further, an ultraviolet curable resin S
After spin-coating D-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), a substrate without a guide groove similar to the above-mentioned substrate was placed thereon, and the substrates were bonded by irradiating ultraviolet rays to produce an optical recording medium.

【0149】以上のようにして記録層が形成された光記
録媒体について、以下のようにピットの書き込みを行っ
た。
The pits were written on the optical recording medium having the recording layer formed as described above as follows.

【0150】430nmの青色高調波変換レーザーヘッ
ド(NA=0.65)を搭載したパルステック工業製光
ディスク評価装置(DDU−1000)及びKENWO
OD製EFMエンコーダーを用いて、最短ピットが0.
4μmのEFM変調信号を、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー10mWで記録した。記録後、同評価装置を
用いてレーザー出力を0.5mWにして信号を再生し
た。なお、再生の際はイコライゼーション処理を施し
た。
An optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a 430 nm blue harmonic conversion laser head (NA = 0.65) and KENWO
Using the OD EFM encoder, the shortest pit is 0.
A 4 μm EFM modulated signal was recorded at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW. After recording, a signal was reproduced with the laser output set to 0.5 mW using the same evaluation apparatus. At the time of reproduction, an equalization process was performed.

【0151】反射率、エラーレート及びジッターを測定
した結果、反射率50%、エラーレート7cps、ジッ
ター9.0%であり、良好な値を示した。
As a result of measuring the reflectance, the error rate, and the jitter, the reflectance was 50%, the error rate was 7 cps, and the jitter was 9.0%.

【0152】また、この記録した媒体について、加速劣
化試験(湿度85%RH、80℃で100時間)を行
い、試験後の反射率、エラーレート及びジッターを測定
した結果、初期値よりの反射率変化2%、エラーレート
変化2cps、ジッター変化0.5%と変化は小さく、
優れた耐久性を有することが確認された。
Further, the recorded medium was subjected to an accelerated deterioration test (humidity: 85% RH, 100 hours at 80 ° C.), and the reflectance, error rate, and jitter after the test were measured. The change is small, 2% change, 2cps error rate change, 0.5% jitter change,
It was confirmed that it had excellent durability.

【0153】実施例2〜9 記録層にベンゾビスオキサゾール化合物(1−2)〜
(1−9)を用いること以外は実施例1と同様にして光
記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信
号再生を行った。いずれの場合も、反射率40%以上、
エラーレート11cps以下、ジッター10%以下と良
好な値を示した。
Examples 2 to 9 The benzobisoxazole compounds (1-2) to
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that (1-9) was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. In each case, the reflectance is 40% or more,
The error rate was 11 cps or less, and the jitter was 10% or less.

【0154】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.

【0155】実施例10 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−28)0.1gおよび化合物(1−
33)0.1gを用いた以外は実施例1と同様にして光
記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信
号再生を行った。その結果、反射率47%、エラーレー
ト9cps、ジッター9.5%と良好な値を示した。
Example 10 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-28) and the compound (1-28) were used.
33) An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, good values were obtained with a reflectance of 47%, an error rate of 9 cps, and a jitter of 9.5%.

【0156】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%、エラーレートの変化は2cps、ジッターの変化は
0.7%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
%, The change in the error rate was 2 cps, and the change in the jitter was as small as 0.7%. It was confirmed that the device had excellent durability.

【0157】表2に実施例1〜10における加速劣化試
験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を示し
た。
Table 2 shows the reflectance, error rate, and jitter before and after the accelerated deterioration test in Examples 1 to 10.

【0158】[0158]

【表30】 [Table 30]

【0159】実施例11 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−10)0.1g、化合物(1−2
4)0.05gおよび化合物(1−39)0.05gを
用いた以外は実施例1と同様にして光記録媒体を作製
し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生を行っ
た。その結果、反射率47%、エラーレート9cps、
ジッター9.5%と良好な値を示した。
Example 11 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-10) and 0.1 g of the compound (1-2)
4) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.05 g of the compound (1-39) and 0.05 g of the compound (1-39) were used. After recording by writing pits, a signal was reproduced. As a result, the reflectance is 47%, the error rate is 9 cps,
A good value of 9.5% was exhibited.

【0160】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.6%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
%, The change in the error rate was 1 cps, and the change in the jitter was as small as 0.6%.

【0161】実施例12 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−3)0.1gおよび(1−8)0.
1gを用いること以外は実施例1と同様にして光記録媒
体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生
を行った。その結果、反射率45%、エラーレート10
cps、ジッター9.7%と良好な値を示した。
Example 12 Instead of 0.2 g of compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of compound (1-3) and 0.1 g of (1-8) 0.1.
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, the reflectance is 45% and the error rate is 10
It showed good values of cps and jitter of 9.7%.

【0162】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%、エラーレートの変化は2cps、ジッターの変化は
0.8%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
%, The change in error rate was 2 cps, and the change in jitter was as small as 0.8%. It was confirmed that the device had excellent durability.

【0163】実施例13〜48 記録層にベンゾビスオキサゾール化合物(1−10)〜
(1−45)を用いること以外は実施例1と同様にして
光記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、
信号再生を行った。その結果、反射率40%以上、エラ
ーレート11cps以下、ジッター10%以下と良好な
値を示した。
Examples 13 to 48 Benzobisoxazole compounds (1-10) to
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that (1-45) was used, and pits were written and recorded.
The signal was reproduced. As a result, good values were obtained with a reflectance of 40% or more, an error rate of 11 cps or less, and a jitter of 10% or less.

【0164】また実施例1と同様に加速劣化試験を行っ
た結果、初期値よりの反射率変化2%以下、エラーレー
ト変化2cps以下、ジッター変化1%以下と小さく、
優れた耐久性を有することが確認された。
As a result of performing an accelerated deterioration test in the same manner as in Example 1, the change in reflectance from the initial value was 2% or less, the error rate was 2 cps or less, and the jitter was 1% or less.
It was confirmed that it had excellent durability.

【0165】実施例49〜56 記録層にベンゾビスチアゾール化合物(1−46)〜
(1−53)を用いること以外は実施例1と同様にして
光記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、
信号再生を行った。いずれの場合も、反射率40%以
上、エラーレート11cps以下、ジッター10%以下
と良好な値を示した。
Examples 49-56 Benzobisthiazole compounds (1-46)-
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that (1-53) was used, and pits were written and recorded.
The signal was reproduced. In each case, good values were obtained with a reflectance of 40% or more, an error rate of 11 cps or less, and a jitter of 10% or less.

【0166】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.

【0167】実施例57 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−28)0.1gおよび化合物(1−
46)0.1gを用いた以外は実施例1と同様にして光
記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信
号再生を行った。その結果、反射率47%、エラーレー
ト8cps、ジッター9.4%と良好な値を示した。
Example 57 In place of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-28) and the compound (1-28) were used.
46) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, good values were obtained with a reflectance of 47%, an error rate of 8 cps, and a jitter of 9.4%.

【0168】また、加速劣化試験後の反射率の変化は1
%、エラーレートの変化は2cps、ジッターの変化は
0.4%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 1
%, The change in error rate was as small as 2 cps, and the change in jitter was as small as 0.4%, confirming excellent durability.

【0169】実施例58 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−79)0.1gおよび化合物(1−
88)0.1gを用いた以外は実施例1と同様にして光
記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信
号再生を行った。その結果、反射率47%、エラーレー
ト9cps、ジッター9.4%と良好な値を示した。
Example 58 Instead of 0.2 g of compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of compound (1-79) and 0.1 g of compound (1-
88) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, good values were obtained with a reflectance of 47%, an error rate of 9 cps, and a jitter of 9.4%.

【0170】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%、エラーレートの変化は2cps、ジッターの変化は
0.7%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
%, The change in the error rate was 2 cps, and the change in the jitter was as small as 0.7%. It was confirmed that the device had excellent durability.

【0171】表3に実施例49〜58における加速劣化
試験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を示し
た。
Table 3 shows the reflectance, error rate, and jitter before and after the accelerated deterioration test in Examples 49 to 58.

【0172】[0172]

【表31】 [Table 31]

【0173】実施例59〜96 記録層にベンゾビスチアゾール化合物(1−54)〜
(1−91)を用いること以外は実施例1と同様にして
光記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、
信号再生を行った。いずれの場合も、反射率40%以
上、エラーレート11cps以下、ジッター10%以下
と良好な値を示した。
Examples 59 to 96 Benzobisthiazole compounds (1-54) to
An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that (1-91) was used, and pits were written and recorded.
The signal was reproduced. In each case, good values were obtained with a reflectance of 40% or more, an error rate of 11 cps or less, and a jitter of 10% or less.

【0174】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.

【0175】実施例97〜127 記録層にベンゾオキサチアゾール化合物(1−92)〜
(1−122)を用いること以外は実施例1と同様にし
て光記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した
後、信号再生を行った。いずれの場合も、反射率40%
以上、エラーレート11cps以下、ジッター10%以
下と良好な値を示した。
Examples 97 to 127 Benzoxathiazole compounds (1-92) to
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that (1-122) was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. In each case, the reflectance is 40%
As described above, the error rate was 11 cps or less, and the jitter was 10% or less, which were good values.

【0176】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.

【0177】実施例128 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−123)0.2gを用いること以外
は実施例1と同様にして光記録媒体を作製し、ピットを
書き込んで記録した後、信号再生を行った。その結果、
反射率45%、エラーレート10cps、ジッター9.
7%と良好な値を示した。
Example 128 Optical recording was performed in the same manner as in Example 1 except that 0.2 g of the compound (1-123) was used instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in the example (1). After a medium was prepared and pits were written and recorded, signal reproduction was performed. as a result,
8. Reflectivity 45%, error rate 10 cps, jitter 9.
A good value of 7% was shown.

【0178】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.6%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
%, The change in the error rate was 1 cps, and the change in the jitter was as small as 0.6%.

【0179】実施例129〜137 記録層にベンゾオキサチアゾール化合物(1−124)
〜(1−132)を用いること以外は実施例1と同様に
して光記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した
後、信号再生を行った。いずれの場合も、反射率40%
以上、エラーレート11cps以下、ジッター10%以
下と良好な値を示した。
Examples 129 to 137 Benzoxathiazole compound (1-124) was added to the recording layer.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that (1-132) was used, pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. In each case, the reflectance is 40%
As described above, the error rate was 11 cps or less, and the jitter was 10% or less, which were good values.

【0180】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。
The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.

【0181】表4に実施例128〜137における加速
劣化試験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を
示した。
Table 4 shows the reflectance, error rate, and jitter before and after the accelerated deterioration test in Examples 128 to 137.

【0182】[0182]

【表32】 [Table 32]

【0183】実施例1〜137に記載されるように、本
発明の光記録媒体は、いずれも高反射率を有し、記録特
性および耐久性に優れている。
As described in Examples 1 to 137, all of the optical recording media of the present invention have high reflectivity and are excellent in recording characteristics and durability.

【0184】このことから、本発明で規定する構造のベ
ンゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有する記録層
は、青色レーザーによる信号記録が可能であり、本発明
の光記録媒体は青色レーザーを記録再生に用いる光記録
媒体に用いることができる。
From this, the recording layer containing the benzobisoxa / thiazole compound having the structure defined in the present invention can record a signal with a blue laser, and the optical recording medium of the present invention uses the blue laser for recording and reproduction. It can be used for an optical recording medium to be used.

【0185】比較例1 化合物(1−1)の代わりに、式(a)Comparative Example 1 Instead of the compound (1-1), a compound of the formula (a)

【0186】[0186]

【化12】 を用いた以外は、実施例1と同様にして、光記録媒体を
作製し、ピットの書き込みを行い、続いて加速劣化試験
を行った。その結果、記録層が褪色して再生不能とな
り、この媒体は保存安定性に欠くことが判明した。
Embedded image An optical recording medium was manufactured and pits were written in the same manner as in Example 1, except that pit was used, and then an accelerated deterioration test was performed. As a result, it was found that the recording layer was discolored and became unreproducible, and this medium lacked storage stability.

【0187】比較例2 化合物(1−1)の代わりに、式(b)Comparative Example 2 Instead of the compound (1-1), a compound of the formula (b)

【0188】[0188]

【化13】 を用いた以外は、実施例1と同様にして、光記録媒体を
作製した。この媒体の記録層には、結晶析出が認めら
れ、ピットの書き込みができず、記録不能であり、再生
も不能であった。
Embedded image An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that を was used. Crystal precipitation was observed in the recording layer of this medium, pits could not be written, recording was impossible, and reproduction was impossible.

【0189】[0189]

【発明の効果】本発明によれば、一般式(1)で示され
る化合物を記録層として用いることにより、高密度光記
録媒体として非常に注目されている波長400nm〜5
00nmのレーザーで記録および再生が可能な追記型光
記録媒体を提供することが可能となる。
According to the present invention, by using the compound represented by the general formula (1) as a recording layer, the wavelength of 400 nm to 5 nm, which is attracting much attention as a high-density optical recording medium, is obtained.
It is possible to provide a write-once optical recording medium that can record and reproduce with a 00 nm laser.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。
FIG. 1 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。
FIG. 2 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基板 2:記録層 3:反射層 4:保護層 5:接着層 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer 5: adhesive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚原 宇 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 西本 泰三 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 EA40 EA48 FA01 FA12 FB42 4H056 CA02 CA05 CB05 CB06 CC05 CD05 CE03 CE07 DD19 DD23 EA16 FA05 5D029 JA04 JC17  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tsukahara U 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside (72) Inventor Taizo Nishimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Chemical Co., Ltd. 72) Inventor Densumi Misawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside of Mitsui Chemicals Co., Ltd. EA22 EA32 EA40 EA48 FA01 FA12 FB42 4H056 CA02 CA05 CB05 CB06 CC05 CD05 CE03 CE07 DD19 DD23 EA16 FA05 5D029 JA04 JC17

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも記録層および反射層
を有する光記録媒体において、記録層中に一般式(1)
で示されるベンゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有
する光記録媒体。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置
換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチ
オ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルア
ミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アル
ケニルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アルキルアミ
ノカルボニル基、複素環基を表し、環A、環Bはそれぞ
れ独立にオキサゾール環、またはチアゾール環を表し、
1、Z2、Z3、Z4はそれぞれ独立に置換または無置換
のアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール
基を表す。あるいは、Z1とZ2、Z3とZ4は互いに連結
して環を形成しても良い。〕
1. An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer has the general formula (1)
An optical recording medium containing a benzobisoxa / thiazole compound represented by the formula: Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aralkyl Group, aryl group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, alkenyl group, alkenyloxy group, alkylthio group, aralkylthio group, arylthio group, alkylamino group, aralkylamino group, arylamino group, alkenylamino group, acyl Group, alkoxycarbonyl group,
An aralkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, represents a heterocyclic group, and ring A and ring B each independently represent an oxazole ring or a thiazole ring;
Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, alkenyl group or aryl group. Alternatively, Z 1 and Z 2 and Z 3 and Z 4 may be linked to each other to form a ring. ]
【請求項2】 波長400nm〜500nmの範囲から
選択されるレーザー光に対して記録および再生が可能で
ある請求項1の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein recording and reproduction can be performed with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
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