JP2000156537A - 光源装置 - Google Patents

光源装置

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JP2000156537A
JP2000156537A JP10346604A JP34660498A JP2000156537A JP 2000156537 A JP2000156537 A JP 2000156537A JP 10346604 A JP10346604 A JP 10346604A JP 34660498 A JP34660498 A JP 34660498A JP 2000156537 A JP2000156537 A JP 2000156537A
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laser light
semiconductor laser
holder
source device
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JP10346604A
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Wataru Sato
亙 佐藤
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 不要なフレア光束等を除去する。 【解決手段】 レーザーホルダ43には半導体レーザー
光源41が保持されており、レーザー光Lの光路となる
円筒部51内に遮蔽壁52が設けられており、この遮蔽
壁52の半導体レーザー光源41側と反対側の面には半
導体レーザー光源41の反対側に拡開するテーパ穴53
が形成されており、テーパ穴53の中心には小径のピン
ホール54が形成されている。更に前方にはコリメート
レンズ44が設けられている。半導体レーザー光源41
から出射されたレーザー光は、遮蔽壁52のピンホール
54のみを通過したものが、コリメートレンズ44に入
射するので、フレアが混在する可能性は少ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザービームプ
リンタ、レーザーファクシミリ等の画像記録装置や光デ
ィスクのピックアップユニット等に用いられる光源装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光源装置1は図6に示す
ような光学箱2の壁面に取り付けられている。この光源
装置1から出射されたレーザー光Lはシリンドリカルレ
ンズ3を透過し、ポリゴンミラー4の反射面に照射され
る。更に、このポリゴンミラー4により偏向走査された
レーザー光Lは結像レンズ5を透過して折返しミラー6
により反射され、図示しない感光ドラムに入射する。ポ
リゴンミラー4の回転よる主走査及び感光ドラムの回転
による副走査により感光ドラム上に静電潜像を形成す
る。更に、結像レンズ5の端部を透過したレーザー光L
の一部は検出ミラー7により走査開始信号検出器8に入
射され、走査開始信号検出器8の出力信号により、光源
装置1における半導体レーザー出力装置の書き込み変調
が開始される。
【0003】図7は光源装置1の断面図を示しており、
光源装置1は半導体レーザー光源11、レーザーホルダ
12、コリメートレンズ13が内蔵されたレンズホルダ
14及び回路基板15から構成されており、光学箱2の
壁面に設けられた嵌合孔16に圧入されている。複数の
リードピン17を有する半導体レーザー光源11は円筒
部18の内周面18aに圧入保持されている。また、半
導体レーザー光源11を駆動するICを有する回路基板
15は螺子19を介して基板固定部20に固定され、レ
ーザーホルダ12は螺子21、ホルダ固定部22を介し
て光学箱2に固定されている。
【0004】また、レンズホルダ14はレンズ保持部2
3及び円筒部24から成り、円筒部24の内周面24a
はレーザーホルダ12の円筒部18に外嵌している。更
に、レンズ保持部23の取付穴25にはコリメートレン
ズ13が嵌合され、このコリメートレンズ13の後方に
はレーザー光Lを所定のスポット形状に絞るための光学
絞り26が設けられている。
【0005】また、レーザーホルダ12及びレンズホル
ダ14は、円筒部24の内周面24aと円筒部18の外
周面18bの径方向の隙間範囲において、レーザー光L
とコリメートレンズ13の光軸合わせを行い、レンズホ
ルダ14を光軸方向に移動することにより、コリメート
レンズ13の合焦調整を行った後に、レンズホルダ14
とレーザーホルダ12を接着固定等により一体化し光源
装置1とされている。
【0006】図8は半導体レーザー光源11の拡大断面
図を示しており、ステム31にはフォトダイオード3
2、発光部33が配置され、出射開口部34を有する保
護キャップ35により保護されている。また、この出射
開口部34の内側にはガラス板36が接着されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
レーザー光源11から出射したレーザー光Lには、図9
に示すように正規のスポット形状を形成する主ビーム光
束L1と、任意の面で反射し正規のスポット形成に不要
な所謂フレア光束L2が存在することがある。特に、レ
ーザー光Lの放射角度が大きい方向では出射開口部34
のエッジ面等において反射し、このエッジ面が二次的な
光源となり上述したようなフレア光束L2が発生するこ
とになる。
【0008】このフレア光束L2はポリゴンミラーやそ
の周囲面において反射し、結像レンズを介して感光ドラ
ム面まで到達することがあり、フレア光束L2の結像状
態、光量状態によっては、感光ドラム上にこの潜像が形
成されて画像に影響を及ぼすことがある。
【0009】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
高精度で安定的な画像を得ることができる光源装置を提
供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本出願に係る光源装置は、半導体レーザー光源を保持
するレーザーホルダと、前記半導体レーザー光源から出
射するビームレーザー光を所定のビーム形状に成形する
コリメータレンズを保持するレンズホルダとから成り、
該レーザーホルダはレーザー光を通す筒状の光路内に中
心に小径のピンホールを有する遮蔽壁を設けたことを特
徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明を図1〜図5に図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。図1は第1の実施例にお
ける光源装置の断面図を示しており、光源装置は半導体
レーザー光源41、レーザーホルダ43、コリメートレ
ンズ44、レンズホルダ45、回路基板46から構成さ
れており、レーザーホルダ43は光学箱47の壁面に設
けられた嵌合孔48に圧入されている。レーザーホルダ
43にはリードピン49が設けられた半導体レーザー光
源41が、取付部50に圧入保持されている。また、レ
ーザーホルダ43にはレーザー光Lの光路となる円筒部
51内に遮蔽壁52が設けられており、この遮蔽壁52
の半導体レーザー光源41側と反対側の面には半導体レ
ーザー光源41の反対側に拡開するテーパ穴53が形成
されており、テーパ穴53の中心には小径のピンホール
54が形成されている。更に、半導体レーザー光源41
を駆動するためのICを有する回路基板46は、螺子5
5を介して基板固定部56に固定され、レーザーホルダ
43は螺子57、ホルダ固定部58を介して光学箱47
に固定されている。
【0012】レンズホルダ45はレンズ保持部59と円
筒部60から成り、円筒部60はレーザーホルダ43の
円筒部51に外嵌されている。また、レンズ保持部59
に設けられた取付孔61にはコリメートレンズ44が嵌
合され、接着或いは熱溶着等により固定されている。こ
のコリメートレンズ44のレーザー光源41側には、レ
ーザー光を所定のスポット形状に絞るための光学絞り6
2が設けられている。
【0013】レーザーホルダ43とレンズホルダ45
は、円筒部51と円筒部60の径方向の隙間範囲におい
て、半導体レーザー光源41のレーザー光Lとコリメー
トレンズ44の光軸合わせを行い、レンズホルダ45の
光軸方向に移動することにより、コリメートレンズ44
の合焦調整を行う。この合焦調整を行った後に、レンズ
ホルダ45とレーザーホルダ43を接着固定等により一
体化する。
【0014】図2は半導体レーザー光源42の光路図を
示しており、半導体レーザー光源41のステム71には
フォトダイオード72、発光部73が配置され、出射開
口部74を有する保護キャップ75により保護されてい
る。また、この出射開口部74の内側にはガラス板76
が接着されている。また、出射開口部74から前方に間
隔Dだけ離れた位置に遮蔽壁52が配置されている。
【0015】ピンホール54の半径Rpは、エッジ面を
二次的光源とするフレア光束L2を確実に遮蔽するため
に、出射開口部74の半径Rcよりも小径で、主ビーム
光束L1を確実に通過させる寸法とされ、組立加工精度
による位置公差を考慮して決められている。
【0016】本実施例における光源装置は、上述したよ
うな形状に成形することにより、フレア光束L2を遮蔽
壁52により遮光できる。主ビーム光束L1はピンホー
ル54を通過させて射出し、テーパ孔53によってフレ
アとなることもなく、コリメートレンズ44に入射させ
ることができる。また、遮蔽壁52をレーザーホルダ4
3と一体的に構成できるため、容易かつ安価に作製で
き、しかも遮蔽壁52がレーザーホルダ43の一定位置
に構成できるため、フレア光束L2を安定的に遮蔽でき
画質の劣化を防止できる。
【0017】図3は第2の実施例における光源装置の断
面図を示しており、第1の実施例と同一の部材には同一
の符号を付している。遮蔽壁52の半導体レーザー光源
41側の遮蔽面52bには反射防止処理が施されてい
る。この反射防止処理手段としては、例えば反射防止用
の黒色つや消し塗料の塗布やショットブラスト吹付けに
よる粗面化等により行われている。
【0018】半導体レーザー光源41からの主ビーム光
束L1以外のフレア光束L2は、反射防止処理が施こさ
れた遮蔽面52bに照射されるが、この遮蔽面52bに
おける反射光は少なく、出射開口部74に再入射し所謂
戻り光として半導体レーザー光源41の特性に影響を及
ぼすことを抑制できる。従って、遮蔽面52bに照射さ
れたフレア光束L2による散乱や反射の影響を制限する
ことができる。
【0019】図4は第3の実施例における光源装置の断
面図を示し、遮蔽壁52にはテーパ穴53が形成されて
いると共に、半導体レーザー光源41側の遮蔽面52b
は半導体レーザー光源41に向かって突出した円錐形状
とされている。
【0020】この実施例においては、図5に示すように
半導体レーザー光源41からの主ビーム光束L1以外の
フレア光束L2は遮蔽面52bにおいて反射し反射光L
3となる。この反射光L3は遮蔽面52bが円錐形状と
されているために、出射開口部74に戻らずに散乱す
る。
【0021】なお、この第3の実施例において第2の実
施例の反射防止手段を併用して、反射による影響低減の
効果を向上することができる。また、レーザーホルダ4
3が亜鉛やアルミニウム等の反射効率が大きい鋳造成形
で構成される場合においても、遮蔽面52bによる反射
による影響を低減できる。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る光源装
置は、安価で容易な手段によってフレア光を遮蔽するこ
とができ、画質向上の効果がある。また、フレア光の遮
蔽で新たに生ずる反射光の画質への影響や戻り光の発生
を抑制し画質劣化防止の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施例の光源装置の断面図である。
【図2】第1の実施例における要部断面図である。
【図3】第2の実施例におけるレーザーホルダの断面図
である。
【図4】第3の実施例におけるレーザーホルダの断面図
である。
【図5】第4の実施例における要部断面図である。
【図6】従来の走査光学装置の斜視図である。
【図7】従来の光源装置の断面図である。
【図8】従来の光源装置の断面図である。
【図9】従来のレーザー光の光路説明図である。
【符号の説明】
42 半導体レーザー光源 43 レーザーホルダ 44 コリメータレンズ 45 レンズホルダ 51、59 円筒部 52 遮蔽壁 54 ピンホール 71 ステム 72 フォトダイオード 73 発光部 74 出射開口部 75 保護キャップ 76 ガラス板 L1 主ビーム光束 L2 フレア光 L3 反射光

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザー光源を保持するレーザー
    ホルダと、前記半導体レーザー光源から出射するビーム
    レーザー光を所定のビーム形状に成形するコリメータレ
    ンズを保持するレンズホルダとから成り、該レーザーホ
    ルダはレーザー光を通す筒状の光路内に中心に小径のピ
    ンホールを有する遮蔽壁を設けたことを特徴とする光源
    装置。
  2. 【請求項2】 前記遮蔽壁の前記半導体レーザー光源側
    の面に反射防止処理を施した請求項1に記載の光源装
    置。
  3. 【請求項3】 前記遮蔽壁の前記半導体レーザー光源側
    と反対側の面に前記半導体レーザー光源の進行方向に向
    けて拡開するテーパ穴を形成した請求項1又は請求項2
    に記載の光源装置。
  4. 【請求項4】 前記遮蔽壁の前記半導体レーザー光源側
    の面は前記半導体レーザー光源に向けて突出する円錐状
    とした請求項1又は2に記載の光源装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体レーザー光源のキャップ面か
    ら前記遮蔽壁までの距離L、前記遮蔽壁のピンホールの
    半径Rpは主レーザー光束を確実に通過させかつフレア
    光を遮蔽するような大きさとした請求項1に記載の光源
    装置。
JP10346604A 1998-11-19 1998-11-19 光源装置 Pending JP2000156537A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100418880B1 (ko) * 2001-04-26 2004-02-19 엘지전자 주식회사 반도체 레이저 다이오드
JP2010210918A (ja) * 2009-03-10 2010-09-24 Nikon Corp ピンホールおよび光学機器
JP6779393B1 (ja) * 2019-05-09 2020-11-04 三菱電機株式会社 レーザ装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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