JP2000147198A - 多層膜反射鏡及びその製造方法 - Google Patents

多層膜反射鏡及びその製造方法

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007534970A (ja) * 2003-07-01 2007-11-29 ローズマウント・エアロスペース・インコーポレーテツド 広角度走査用のシリコン基板上の硬く平坦なミラー
JP2010500776A (ja) * 2006-08-16 2010-01-07 サイマー インコーポレイテッド Euv光学器械
JP2010526334A (ja) * 2007-04-26 2010-07-29 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 極端紫外線顕微鏡
JP2011117741A (ja) * 2009-11-30 2011-06-16 Canon Inc X線モノクロメータ、その製造方法及びx線分光装置
JP2013525610A (ja) * 2010-04-30 2013-06-20 コーニング インコーポレイテッド Mo/Si多層プラズマアシスト蒸着
JP2023030637A (ja) * 2021-08-23 2023-03-08 東海光学株式会社 ミラー及びミラーの製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007534970A (ja) * 2003-07-01 2007-11-29 ローズマウント・エアロスペース・インコーポレーテツド 広角度走査用のシリコン基板上の硬く平坦なミラー
JP2010500776A (ja) * 2006-08-16 2010-01-07 サイマー インコーポレイテッド Euv光学器械
JP2010526334A (ja) * 2007-04-26 2010-07-29 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 極端紫外線顕微鏡
JP2011117741A (ja) * 2009-11-30 2011-06-16 Canon Inc X線モノクロメータ、その製造方法及びx線分光装置
JP2013525610A (ja) * 2010-04-30 2013-06-20 コーニング インコーポレイテッド Mo/Si多層プラズマアシスト蒸着
JP2023030637A (ja) * 2021-08-23 2023-03-08 東海光学株式会社 ミラー及びミラーの製造方法
JP7703214B2 (ja) 2021-08-23 2025-07-07 東海光学株式会社 青色レーザー光用ミラーの製造方法

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