JP2000146511A - Strain gauge - Google Patents

Strain gauge

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JP2000146511A
JP2000146511A JP31576898A JP31576898A JP2000146511A JP 2000146511 A JP2000146511 A JP 2000146511A JP 31576898 A JP31576898 A JP 31576898A JP 31576898 A JP31576898 A JP 31576898A JP 2000146511 A JP2000146511 A JP 2000146511A
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JP
Japan
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strain gauge
heat
metal resistor
resistant plastic
photosensitive resist
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JP31576898A
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Tadashi Shimazu
正 嶋津
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the strain gauge which is able to precisely measure local stress. SOLUTION: The strain gauge is equipped with a heat-resisting plastic sheet of <=50 μm in thickness and a metal resistance body which is vapor-deposited on the plastic sheet surface to a thickness of 0.2 to 0.5 μm. A polyimide sheet 1 is used as the heat-resisting plastic sheet and an NiCr film 8 is used as the metal resistance body; and the NiCr film 8 is etched preferably to a size of 1 to 0.5 mm in thickness × 50 to 10 μm in width.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、歪を計測する歪ゲ
ージ、例えば蒸気タービン翼の応力集中部等の微小部位
の歪を計測するために用いられて好適な歪ゲージとおよ
びその歪ゲージの製法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a strain gauge for measuring a strain, for example, a strain gauge suitable for measuring a strain in a minute portion such as a stress concentration portion of a steam turbine blade, and a strain gauge of the strain gauge. Regarding the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5及び図6に従来の貼付け式歪ゲージ
の構成図を示す。これは、ポリイミドシート1に歪ゲー
ジ2を形成している。歪ゲージ2は、ポリイミドシート
1の表面にゲージ用金属箔を全面に張りつけて、フォト
リソグラフィー技術とエッチング技術によって、櫛形形
状に加工したものである。しかし、金属箔を貼り付ける
この従来方式では、金属箔を貼り付ける際に必要な金属
箔の機械強度を得る為には、最低でも30μm程度の厚
みが必要となる。このため、正方形での金属箔のシート
抵抗は0.5Ω/□程度と低くなり、120Ωの歪ゲー
ジ2を形成する場合にはゲージ幅に対するゲージ長を1
20/0.5=240倍にしなければならず、線幅0.
1mmのゲージであれば、ゲージ長は12mmとなる。
この為ゲージ長を抑える為に櫛形パターン形状に加工す
る必要性がある。金属箔の厚みが厚い為に、エッチング
によって加工できる線幅の微細化は0.1mm程度が限
界であり、シート抵抗が小さい為にゲージ長を長くする
必要がある。従来の歪ゲージ2の最少寸法は長さ1mm
×幅0.25mm程度である。
2. Description of the Related Art FIGS. 5 and 6 show the configuration of a conventional adhesive strain gauge. This forms the strain gauge 2 on the polyimide sheet 1. The strain gauge 2 is formed by attaching a metal foil for a gauge to the entire surface of the polyimide sheet 1 and processing it into a comb shape by a photolithography technique and an etching technique. However, in this conventional method of attaching a metal foil, a thickness of at least about 30 μm is required in order to obtain the mechanical strength of the metal foil required for attaching the metal foil. For this reason, the sheet resistance of the square metal foil becomes as low as about 0.5 Ω / □, and when forming a 120 Ω strain gauge 2, the gauge length is 1 to the gauge width.
20 / 0.5 = 240 times, and the line width is 0.
If the gauge is 1 mm, the gauge length is 12 mm.
For this reason, it is necessary to process into a comb-shaped pattern shape in order to suppress the gauge length. Since the thickness of the metal foil is large, the line width which can be processed by etching is limited to about 0.1 mm, and the gauge length needs to be increased because the sheet resistance is small. The minimum dimension of the conventional strain gauge 2 is 1 mm in length.
× The width is about 0.25 mm.

【0003】図2に蒸気タービン翼3を示す。このよう
な複雑な形状の翼根4では、回転に伴う遠心力によって
発生する静歪は応力集中箇所5で最大歪となる。
FIG. 2 shows a steam turbine blade 3. In the blade root 4 having such a complicated shape, the static strain generated by the centrifugal force due to the rotation becomes the maximum strain at the stress concentration point 5.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】翼根4の集中応力を計
測する為には、応力集中箇所5に歪ゲージ2を貼り付け
なければならないが、端面位置に対する集中応力特性は
接触部で急峻に応力が発生しており、ゲージ面積が大き
いと平均化された歪量しか計測されない為、実際の最大
応力に対して低い値となり、計測誤差が大きくなる。そ
こで、本発明では、局部応力を精度良く計測することが
できる歪ゲージを提供する事を目的とする。
In order to measure the concentrated stress on the blade root 4, the strain gauge 2 must be attached to the stress concentration point 5, but the concentrated stress characteristic with respect to the end face position is steep at the contact portion. Since stress is generated and if the gauge area is large, only the averaged strain amount is measured, the value becomes lower than the actual maximum stress, and the measurement error increases. Therefore, an object of the present invention is to provide a strain gauge capable of measuring a local stress with high accuracy.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明では次の
通りとした。
Therefore, the present invention is as follows.

【0006】(1)厚さ50μm以下の耐熱プラスチッ
クシートと、該プラスチックシート表面に0.2μm〜
0.5μmの厚みで蒸着成膜した金属抵抗体とを備えた
歪ゲージ。
(1) A heat-resistant plastic sheet having a thickness of 50 μm or less and 0.2 μm to
A strain gauge comprising: a 0.5 μm thick metal resistor formed by vapor deposition.

【0007】(2)耐熱プラスチックシートとしてポリ
イミドシートを、金属抵抗体としてNiCr膜を用いた
事を特徴とした(1)の歪ゲージ。
(2) The strain gauge according to (1), wherein a polyimide sheet is used as a heat-resistant plastic sheet and a NiCr film is used as a metal resistor.

【0008】(3)前記NiCr膜は、エッチング処理
により長さ1mm〜0.5mm×幅50μm〜10μm
の大きさに加工された事を特徴とした(1)乃至(2)
の歪ゲージ。
(3) The NiCr film is 1 mm to 0.5 mm long × 50 μm to 10 μm wide by etching.
(1) or (2) characterized in that it was processed to the size of
Strain gauge.

【0009】(4)耐熱プラスチックシート上に、一端
が金属抵抗体と接するように導電材料が蒸着されて配線
及び接続用パッドを形成してなる(1)乃至(3)の歪
ゲージ。
(4) A strain gauge according to any one of (1) to (3), wherein a conductive material is deposited on a heat-resistant plastic sheet so that one end thereof is in contact with the metal resistor to form wiring and connection pads.

【0010】(5)次の工程からなる歪ゲージの製法。
鏡面研磨された半金族またはセラミックス上に接着剤を
塗布する工程。接着剤の塗布面に歪ゲージの基板となる
耐熱プラスチックシールを接着する工程。該耐熱プラス
チックシールの表面に金属抵抗体を蒸着する工程該金属
抵抗体の膜の表面に感光レジスト剤を塗布して硬化する
工程。該感光レジスト剤の表面に歪ゲージパターンのマ
スクガラスを載せて反応光を照射しゲージパターン部以
外の感光レジスト剤を除去する工程。エッチング液によ
り金属抵抗体をエッチングしゲージパターンを形成する
工程。溶剤により感光レジスト剤及び接着剤を除去する
工程。
(5) A method for producing a strain gauge comprising the following steps.
A step of applying an adhesive on a mirror-finished semi-metal or ceramic. A step of bonding a heat-resistant plastic seal serving as a substrate for a strain gauge to the surface to which the adhesive is applied. A step of depositing a metal resistor on the surface of the heat-resistant plastic seal; a step of applying and curing a photosensitive resist agent on the surface of the film of the metal resistor. A step of placing a mask glass having a strain gauge pattern on the surface of the photosensitive resist agent and irradiating reaction light to remove the photosensitive resist agent other than the gauge pattern portion. A step of etching the metal resistor with an etchant to form a gauge pattern; A step of removing the photosensitive resist agent and the adhesive with a solvent;

【0011】(6)接着剤として感光レジスト剤を、耐
熱プラスチックシートとしてポリイミドシートを、金属
抵抗体としてNiCrを用いた事を特徴とした(5)の
歪ゲージの製法。
(6) The method for producing a strain gauge according to (5), wherein a photosensitive resist agent is used as an adhesive, a polyimide sheet is used as a heat-resistant plastic sheet, and NiCr is used as a metal resistor.

【0012】(7)前記金属抵抗体は、エッチング処理
により長さ1mm〜0.5mm×幅50μm〜10μm
の大きさに加工された事を特徴とした(5)乃至(6)
の歪ゲージの製法。
(7) The metal resistor is 1 mm to 0.5 mm long × 50 μm to 10 μm wide by etching.
(5) and (6) characterized in that they were processed to the size of
Manufacturing method of strain gauge.

【0013】(8)前記(5)項の発明のカの工程後
に、前記金属抵抗体の一端を接続した配線と接続パッド
を形成するように耐熱プラスチック製粘着テープにて耐
熱プラスチックシート上にマスキングし、導電材料を蒸
着する事を特徴とした(5)乃至(7)の歪ゲージの製
法。
(8) After the step (5), masking is performed on the heat-resistant plastic sheet with a heat-resistant plastic adhesive tape so as to form a connection pad and a wiring connecting one end of the metal resistor. And a method of producing a strain gauge according to any one of (5) to (7), wherein a conductive material is deposited.

【0014】ここで、耐熱プラスチックシートとして
は、エッチングや加熱処理に耐えるものであればよく、
代表的なものとしてはポリイミドシートがある。その厚
さは、応力集中部の歪を適切に金属抵抗体に伝えられる
よう50μm以下とすべきである。
Here, the heat-resistant plastic sheet may be any sheet that can withstand etching or heat treatment.
A typical example is a polyimide sheet. The thickness should be 50 μm or less so that the strain at the stress concentration portion can be appropriately transmitted to the metal resistor.

【0015】また、金属抵抗体としては、蒸着可能で歪
ゲージの抵抗体となれるものであればよく、代表的なも
のとしてはNiCr合金がある。金属抵抗体の厚さは、
極力薄い方が歪に対する感度が向上するので好ましい
が、0.2μm未満では耐熱プラスチックシート面の凹
凸で破断しかねないので、0.2μm以上とすべきであ
り、逆に0.5μmを超えると歪に対する感度が低下
し、所要の金属抵抗体の長さが長くなるので0.5μm
以下とすべきである。
The metal resistor may be any metal resistor that can be deposited and can be used as a strain gauge resistor. A typical example is a NiCr alloy. The thickness of the metal resistor is
It is preferable that the thickness is as thin as possible because the sensitivity to strain is improved. 0.5 μm because the sensitivity to strain decreases and the length of the required metal resistor increases.
Should be:

【0016】導電材料は、金属抵抗体から電気抵抗値を
取り出すために導電性の良い材料により配線部及び接続
用パッドを蒸着により耐熱プラスチック上に形成したも
のである。接続用パッドは、電気抵抗から歪を計測する
計測装置からのケーブルを歪ゲージに導通させるために
半田付け等を可能とする個所であり、前記配線部はこの
接続用パッドと金属抵抗体をつないで導通させる。従っ
て、典型的には導電性の良い銅若しくは銅合金が多用さ
れ、その上、配線部が電気抵抗値に影響を与えないよう
に電流方向に垂直な断面積比で配線部/金属抵抗体は1
00以上の値とすべきである。
The conductive material is obtained by forming wiring portions and connection pads on a heat-resistant plastic by vapor deposition using a material having good conductivity in order to extract an electric resistance value from a metal resistor. The connection pad is a place where soldering or the like can be performed in order to conduct a cable from a measuring device that measures strain from electric resistance to a strain gauge, and the wiring portion connects the connection pad and a metal resistor. To conduct. Therefore, typically, copper or a copper alloy having good conductivity is frequently used. In addition, the wiring portion / metal resistor has a cross-sectional area ratio perpendicular to the current direction so that the wiring portion does not affect the electric resistance value. 1
Should be greater than or equal to 00.

【0017】鏡面研磨を行った半金属またはセラミック
スは、歪ゲージを製造する間、歪ゲージを平滑に保つも
のであり、耐熱性や耐酸化性を有するSiウエハ、シリ
カ、アルミナ、石英やガラスなどが好適である。
The mirror-polished semi-metal or ceramic keeps the strain gauge smooth during the production of the strain gauge, and has heat resistance and oxidation resistance such as Si wafer, silica, alumina, quartz and glass. Is preferred.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1に本発明の第1実施形態例に
係る歪ゲージの製作手順を示す流図、図2に微小部位の
1例である蒸気タービン翼の応力集中部を模式的に示す
斜視図、図3に本発明の実施形態例の歪ゲージを蒸気タ
ービン翼に取り付けた模式図、図4に図3の蒸気タービ
ン翼が蒸気タービンに取り付けられた状況を模式的に示
す斜視図を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a flow chart showing a procedure for manufacturing a strain gauge according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 schematically shows a stress concentration portion of a steam turbine blade as an example of a minute portion. , FIG. 3 is a schematic view showing the strain gauge according to the embodiment of the present invention attached to a steam turbine blade, and FIG. 4 is a perspective view schematically showing a situation where the steam turbine blade of FIG. The figure is shown.

【0019】図1を参照しながら、本発明の第1実施形
態例に係る歪ゲージの製作手順を説明する。まず、鏡面
研磨されたSiウエハ6上にフォトリソグラフィー用の
感光レジスト7を1μm程度塗布する。ここで感光レジ
スト7としては、例えば東京応化社製のOMR系レジス
ト剤がある他、各社毎に種種市販されている。該感光レ
ジスト7の上に歪ゲージの基板となる50μmのポリイ
ミドシート1を密着させ、150℃の温度で焼結させ
る。これにより、ポリイミドシート1に適度な張力を印
加させることができ、表面の平坦性を最適にする事が可
能となり、薄膜の成膜が可能となる。更に、150℃で
焼結された感光レジスト材7は、フォトリソ時の現像処
理では溶けないが、金属膜エッチング処理後のレジスト
除去工程時に溶ける為、特に専用の除去処理を実施しな
くとも、ポリイミドシート1はSi板2から容易に取り
外す事が可能となり、ウェットエッチング処理の増加と
はならない。このようにプロセス増加を抑える事がで
き、ゲージの歩留まりが向上される。次にポリイミドシ
ート1の表面にスパッタ蒸着により0.2μmのNiC
r膜8を蒸着成膜する。この後、NiCr膜8表面に
0.5μmのレジスト材を塗布し、80℃で焼結させ
る。ひずみゲージパターンのマスクガラスを上に乗せ、
紫外線照射を行う。この後、感光レジスト7材の専用現
像液で現像処理を行い、ゲージパターン形状の感光レジ
スト7材以外を除去する。例えば感光レジスト材として
OMR系レジスト剤を用いた場合、専用現像液として市
販のOMR現像液(商品名:東京応化社製)を用いるの
が好適である。この後、リン酸と硝酸の混合液によりN
iCr膜8のエッチング処理を行い、ゲージパターン加
工を実施する。その後に、感光レジスト7材の専用除去
材を用いてNiCr膜8表面に残った感光レジスト7材
と、ポリイミドシート1とSi板6の間の感光レジスト
7材を除去し、歪ゲージ本体を完成させる。例えば感光
レジスト材としてOMR系レジスト剤を用いた場合、専
用除去剤として市販のOMR剥離液(商品名:東京応化
社製)を用いるのが好適である。最後に、前記NiCr
膜8に一端が接続し配線と接続パッドを形成するように
耐熱プラスチック製粘着テープとしてのカプトンテープ
にてポリイミドシート上にマスキングし、銅材を蒸着し
て完成する。
With reference to FIG. 1, a procedure for manufacturing a strain gauge according to the first embodiment of the present invention will be described. First, a photosensitive resist 7 for photolithography is applied on a mirror-polished Si wafer 6 to a thickness of about 1 μm. Here, as the photosensitive resist 7, for example, there is an OMR-based resist agent manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., and various types are commercially available for each company. A 50 μm polyimide sheet 1 serving as a substrate for a strain gauge is adhered to the photosensitive resist 7 and sintered at a temperature of 150 ° C. Thereby, an appropriate tension can be applied to the polyimide sheet 1, the flatness of the surface can be optimized, and a thin film can be formed. Furthermore, the photosensitive resist material 7 sintered at 150 ° C. is not melted by the developing process at the time of photolithography, but is melted at the time of the resist removing process after the metal film etching process. The sheet 1 can be easily removed from the Si plate 2, and does not increase wet etching processing. Thus, the increase in the process can be suppressed, and the yield of the gauge is improved. Next, 0.2 μm NiC was formed on the surface of the polyimide sheet 1 by sputtering.
An r film 8 is formed by vapor deposition. Thereafter, a 0.5 μm resist material is applied to the surface of the NiCr film 8 and sintered at 80 ° C. Put the mask glass of the strain gauge pattern on top,
UV irradiation is performed. Thereafter, a developing process is performed with a dedicated developing solution for the photosensitive resist 7 material, and the portions other than the gauge pattern-shaped photosensitive resist 7 material are removed. For example, when an OMR resist is used as a photosensitive resist material, it is preferable to use a commercially available OMR developer (trade name: manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) as a dedicated developer. Thereafter, N 2 is added with a mixed solution of phosphoric acid and nitric acid.
The iCr film 8 is etched, and the gauge pattern processing is performed. After that, the photosensitive resist 7 material remaining on the surface of the NiCr film 8 and the photosensitive resist 7 material between the polyimide sheet 1 and the Si plate 6 are removed by using a dedicated removing material for the photosensitive resist 7, thereby completing the strain gauge body. Let it. For example, when an OMR resist is used as the photosensitive resist material, it is preferable to use a commercially available OMR stripper (trade name: manufactured by Tokyo Ohkasha Co., Ltd.) as the exclusive remover. Finally, the NiCr
Masking is performed on a polyimide sheet with a Kapton tape as a heat-resistant plastic adhesive tape so that one end is connected to the film 8 to form a wiring and a connection pad, and a copper material is vapor-deposited to complete.

【0020】第1図に示すように、本実施形態例では、
従来の貼り付け式では無く、歪ゲージを蒸着技術により
形成する。これにより、0.2μmの極めて薄い金属膜
8をポリイミドシート1上に形成する事ができる。この
為、面積当たりの抵抗値を高める事ができ、小さいゲー
ジパターンで所定のゲージ抵抗を得る事が出来、小型の
歪ゲージ2が形成可能となる。しかし、ポリイミドシー
ト1に蒸着処理をする場合、シートの表面粗さが数μm
程度ある為、通常はこれ以上の膜厚で成膜しなければ良
好な歩留まりは得られない。本実施形態例では、成膜時
及びエッチング処理時のポリイミドシート1の変形を抑
える為、ポリイミドシート1を感光レジスト7剤でSi
板6表面に接着している。これにより、ポリイミドシー
ト1表面に0.2μm程度の薄いゲージ用金属膜8を成
膜する事ができる。この歪ゲージ2を回転中の翼応力計
測に適用した場合の構成図を図3に示す。歪ゲージ2の
形成されたポリイミドシート1は翼根部4の形状に合わ
せている。接続用パッド9からテレメータカプセル10
間を配線し、回転中の翼根部4の集中応力を計測する、
歪ゲージ2の大きさは0.05mm×1mmの大きさし
か無いため、ほぼ翼端の歪を計測する事が可能となる。
As shown in FIG. 1, in this embodiment,
Instead of the conventional bonding type, a strain gauge is formed by a vapor deposition technique. Thereby, an extremely thin metal film 8 of 0.2 μm can be formed on the polyimide sheet 1. For this reason, the resistance value per area can be increased, a predetermined gauge resistance can be obtained with a small gauge pattern, and a small strain gauge 2 can be formed. However, when a vapor deposition process is performed on the polyimide sheet 1, the surface roughness of the sheet is several μm.
Usually, good yield cannot be obtained unless the film is formed with a film thickness larger than this. In this embodiment, in order to suppress deformation of the polyimide sheet 1 at the time of film formation and etching processing, the polyimide sheet 1 is coated with a photosensitive resist 7 agent using Si.
It is adhered to the surface of the plate 6. As a result, a thin gauge metal film 8 of about 0.2 μm can be formed on the surface of the polyimide sheet 1. FIG. 3 shows a configuration diagram when the strain gauge 2 is applied to measurement of blade stress during rotation. The polyimide sheet 1 on which the strain gauge 2 is formed conforms to the shape of the blade root 4. From the connection pad 9 to the telemeter capsule 10
Wiring between them, measuring the concentrated stress of the rotating blade root 4,
Since the size of the strain gauge 2 is only 0.05 mm × 1 mm, it is possible to measure the strain at the wing tip substantially.

【0021】以上説明したように、本実施形態の歪ゲー
ジは、従来ゲージの大きさに比べて、幅で1/5以下に
小型化する事ができる為、局部応力等の微小部位に発生
する歪量を、高い空間分解能で計測する事が可能とな
る。また、ゲージの形成にはフォトリソグラフィー技術
を用いる為、多点計測用のゲージパターン等、計測部位
にオーダーメードの形で専用ゲージを形成する事が可能
である。
As described above, since the strain gauge of the present embodiment can be reduced in size to 1/5 or less in width as compared with the size of the conventional gauge, it is generated at a minute portion such as a local stress. The amount of distortion can be measured with high spatial resolution. Further, since a photolithography technique is used for forming the gauge, it is possible to form a dedicated gauge in a custom-made form at a measurement site, such as a gauge pattern for multipoint measurement.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明の歪ゲージは、小型化する事がで
きる為、局部応力等の微小部位に発生する歪量を、高い
空間分解能で計測する事が可能となる。また、ゲージの
形成にはフォトリソ技術を用いる為、多点計測用のゲー
ジパターン等、計測部位にオーダーメードの形で専用ゲ
ージを形成する事が可能である。
Since the strain gauge of the present invention can be miniaturized, it is possible to measure the amount of strain generated in a minute portion such as local stress with high spatial resolution. Further, since the photolithography technique is used for forming the gauge, it is possible to form a dedicated gauge in a custom-made form at the measurement site, such as a gauge pattern for multipoint measurement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態例に係る歪ゲージの製作
手順を示す流図。
FIG. 1 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a strain gauge according to a first embodiment of the present invention.

【図2】蒸気タービン翼の応力集中部を模式的に示す斜
視図。
FIG. 2 is a perspective view schematically showing a stress concentration portion of the steam turbine blade.

【図3】本発明の第1実施形態例の歪ゲージを蒸気ター
ビン翼に取り付けた模式図。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a strain gauge according to the first embodiment of the present invention attached to a steam turbine blade.

【図4】図3の蒸気タービン翼が蒸気タービンに取り付
けられた状況を模式的に示す斜視図。
FIG. 4 is a perspective view schematically showing a state in which the steam turbine blade of FIG. 3 is attached to a steam turbine.

【図5】従来の歪ゲージの平面図。FIG. 5 is a plan view of a conventional strain gauge.

【図6】従来の歪ゲージの側面図。FIG. 6 is a side view of a conventional strain gauge.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ポリイミドシート 2 歪ゲージ 3 蒸気タービン翼 4 翼根部 5 応力集中個所 6 Si板 7 感光レジスト 8 NiCr 9 接続用パッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polyimide sheet 2 Strain gauge 3 Steam turbine blade 4 Blade root part 5 Stress concentration place 6 Si plate 7 Photoresist 8 NiCr 9 Connection pad

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】厚さ50μm以下の耐熱プラスチックシー
トと、該プラスチックシート表面に0.2μm〜0.5
μmの厚みで蒸着成膜した金属抵抗体とを備えた歪ゲー
ジ。
1. A heat-resistant plastic sheet having a thickness of 50 μm or less, and 0.2 μm to 0.5 μm
A strain gauge comprising a metal resistor deposited and formed to a thickness of μm.
【請求項2】耐熱プラスチックシートとしてポリイミド
シートを、金属抵抗体としてNiCr膜を用いた事を特
徴とした請求項1の歪ゲージ。
2. The strain gauge according to claim 1, wherein a polyimide sheet is used as the heat-resistant plastic sheet and a NiCr film is used as the metal resistor.
【請求項3】前記NiCr膜は、エッチング処理により
長さ1mm〜0.5mm×幅50μm〜10μmの大き
さに加工された事を特徴とした請求項1乃至請求項2の歪
ゲージ。
3. The strain gauge according to claim 1, wherein said NiCr film is processed into a size of 1 mm to 0.5 mm in length × 50 μm to 10 μm in width by etching.
【請求項4】耐熱プラスチックシート上に、一端が金属
抵抗体と接するように導電材料が蒸着されて配線及び接
続用パッドを形成してなる請求項1乃至請求項3の歪ゲ
ージ。
4. The strain gauge according to claim 1, wherein a conductive material is deposited on the heat-resistant plastic sheet so that one end thereof is in contact with the metal resistor to form wiring and connection pads.
【請求項5】次の工程からなる歪ゲージの製法。鏡面研
磨された半金族またはセラミックス上に接着剤を塗布す
る工程。接着剤の塗布面に歪ゲージの基板となる耐熱プ
ラスチックシールを接着する工程。該耐熱プラスチック
シールの表面に金属抵抗体を蒸着する工程該金属抵抗体
の膜の表面に感光レジスト剤を塗布して硬化する工程。
該感光レジスト剤の表面に歪ゲージパターンのマスクガ
ラスを載せて反応光を照射しゲージパターン部以外の感
光レジスト剤を除去する工程。エッチング液により金属
抵抗体をエッチングしゲージパターンを形成する工程。
溶剤により感光レジスト剤及び接着剤を除去する工程。
5. A method for producing a strain gauge comprising the following steps. A step of applying an adhesive on a mirror-finished semi-metal or ceramic. A step of bonding a heat-resistant plastic seal serving as a substrate for a strain gauge to the surface to which the adhesive is applied. A step of depositing a metal resistor on the surface of the heat-resistant plastic seal; a step of applying and curing a photosensitive resist agent on the surface of the film of the metal resistor.
A step of placing a mask glass having a strain gauge pattern on the surface of the photosensitive resist agent and irradiating reaction light to remove the photosensitive resist agent other than the gauge pattern portion. A step of etching the metal resistor with an etchant to form a gauge pattern;
A step of removing the photosensitive resist agent and the adhesive with a solvent;
【請求項6】接着剤として感光レジスト剤を、耐熱プラ
スチックシートとしてポリイミドシートを、金属抵抗体
としてNiCrを用いた事を特徴とした請求項5の歪ゲ
ージの製法。
6. The method of claim 5, wherein a photosensitive resist agent is used as an adhesive, a polyimide sheet is used as a heat-resistant plastic sheet, and NiCr is used as a metal resistor.
【請求項7】前記金属抵抗体は、エッチング処理により
長さ1mm〜0.5mm×幅50μm〜10μmの大き
さに加工された事を特徴とした請求項5乃至請求項6の
歪ゲージの製法。
7. The strain gauge manufacturing method according to claim 5, wherein said metal resistor is processed into a size of 1 mm to 0.5 mm × 50 μm to 10 μm in width by etching. .
【請求項8】請求項5のカの工程後に、前記金属抵抗体
の一端を接続した配線と接続パッドを形成するように耐
熱プラスチック製粘着テープにて耐熱プラスチックシー
ト上にマスキングし、導電材料を蒸着する事を特徴とし
た請求項5乃至請求項7の歪ゲージの製法。
8. The method according to claim 5, wherein the conductive material is masked on a heat-resistant plastic sheet with a heat-resistant plastic adhesive tape so as to form a wiring and a connection pad connecting one end of the metal resistor. The method for producing a strain gauge according to claim 5, wherein the strain gauge is deposited.
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