JP2000140779A - 処理液供給ノズル - Google Patents
処理液供給ノズルInfo
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- JP2000140779A JP2000140779A JP10317187A JP31718798A JP2000140779A JP 2000140779 A JP2000140779 A JP 2000140779A JP 10317187 A JP10317187 A JP 10317187A JP 31718798 A JP31718798 A JP 31718798A JP 2000140779 A JP2000140779 A JP 2000140779A
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- cooling
- supply nozzle
- ultrasonic vibrator
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 超音波振動子の放熱効率を向上させることに
よってパーティクルの除去能力を高めることができる。 【解決手段】 超音波振動子１５により処理液に超音波
を付与して吐出する処理液供給ノズル１において、超音
波振動子１５のうち処理液が流通する振動付与側の反対
側に超音波振動子１５を冷却するための冷却フィン２１
を備え、冷却フィン２１に冷却用気体を供給する導入配
管３１とそれを排出する排出配管３３を備えた。超音波
振動子１５の放熱効率を高くすることができ、印加する
高周波信号を高くしてパーティクルの除去能力を高める
ことができる。
よってパーティクルの除去能力を高めることができる。 【解決手段】 超音波振動子１５により処理液に超音波
を付与して吐出する処理液供給ノズル１において、超音
波振動子１５のうち処理液が流通する振動付与側の反対
側に超音波振動子１５を冷却するための冷却フィン２１
を備え、冷却フィン２１に冷却用気体を供給する導入配
管３１とそれを排出する排出配管３３を備えた。超音波
振動子１５の放熱効率を高くすることができ、印加する
高周波信号を高くしてパーティクルの除去能力を高める
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器の基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディス
ク用の基板等（以下、単に基板と称する）に対して洗浄
処理を施すために処理液を供給する処理液供給ノズルに
係り、特に、超音波振動子により処理液に超音波を付与
する処理液供給ノズルに関する。
表示器の基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディス
ク用の基板等（以下、単に基板と称する）に対して洗浄
処理を施すために処理液を供給する処理液供給ノズルに
係り、特に、超音波振動子により処理液に超音波を付与
する処理液供給ノズルに関する。
【０００２】
【従来の技術】基板にパーティクルが付着しているとそ
の基板自身に悪影響を与えたり、他の基板を汚染する相
互汚染の恐れがあるため、通常は基板に付着したパーテ
ィクルを洗浄除去してから次の処理に移行するようにな
っている。
の基板自身に悪影響を与えたり、他の基板を汚染する相
互汚染の恐れがあるため、通常は基板に付着したパーテ
ィクルを洗浄除去してから次の処理に移行するようにな
っている。
【０００３】パーティクルの洗浄除去においては超音波
洗浄が広く採用されており、このとき使用されるノズル
としては、処理液が流通する管路に超音波振動子を埋設
し、流通する処理液に超音波振動子の振動付与側から超
音波を付与するように構成された処理液供給ノズルが用
いられている。しかしながら、半導体の微細化と高集積
化が進むにつれて、除去しなければならないパーティク
ルの数や大きさが現状よりもさらに厳しくなっている。
特に、基板の裏面に付着するパーティクルのほとんどは
基板を支持する際に付着するものであり、素子が形成さ
れる表面に比較して極めて強固に付着していることが多
い関係上、超音波洗浄におけるパーティクルの除去能力
の向上が熱望されている。
洗浄が広く採用されており、このとき使用されるノズル
としては、処理液が流通する管路に超音波振動子を埋設
し、流通する処理液に超音波振動子の振動付与側から超
音波を付与するように構成された処理液供給ノズルが用
いられている。しかしながら、半導体の微細化と高集積
化が進むにつれて、除去しなければならないパーティク
ルの数や大きさが現状よりもさらに厳しくなっている。
特に、基板の裏面に付着するパーティクルのほとんどは
基板を支持する際に付着するものであり、素子が形成さ
れる表面に比較して極めて強固に付着していることが多
い関係上、超音波洗浄におけるパーティクルの除去能力
の向上が熱望されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、高周波信号の出力とパーティクル除去
率の関係を示す図７のグラフ（横軸のベーク温度はパー
ティクルの密着度に相当）からパーティクルの除去能力
を向上するためには処理液供給ノズルの超音波振動子に
与える高周波信号の出力を大きくすればよいことが判る
が、超音波振動子自体が発熱することになる。超音波振
動子の振動付与側は処理液に触れているため自ずと冷却
されて温度上昇が抑制されるが、その反対側にある電極
側は耐水構造のために密閉されている関係上、温度が上
昇することになる。これにより性能劣化が生じたり、超
音波振動子自体を破壊するという問題が生じるため、現
状では高周波信号の出力を上げることによってパーティ
クルの除去能力を高めることが困難となっている。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、高周波信号の出力とパーティクル除去
率の関係を示す図７のグラフ（横軸のベーク温度はパー
ティクルの密着度に相当）からパーティクルの除去能力
を向上するためには処理液供給ノズルの超音波振動子に
与える高周波信号の出力を大きくすればよいことが判る
が、超音波振動子自体が発熱することになる。超音波振
動子の振動付与側は処理液に触れているため自ずと冷却
されて温度上昇が抑制されるが、その反対側にある電極
側は耐水構造のために密閉されている関係上、温度が上
昇することになる。これにより性能劣化が生じたり、超
音波振動子自体を破壊するという問題が生じるため、現
状では高周波信号の出力を上げることによってパーティ
クルの除去能力を高めることが困難となっている。
【０００５】因みに、超音波振動子が発熱して温度がキ
ュリー点を越えると振動しなくなり、キュリー点に達し
なくても電極が剥がれたり、超音波振動子を保持してい
る部分に緩みなどの不都合が生じる。
ュリー点を越えると振動しなくなり、キュリー点に達し
なくても電極が剥がれたり、超音波振動子を保持してい
る部分に緩みなどの不都合が生じる。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、超音波振動子の放熱効率を向上させる
ことによってパーティクルの除去能力を高めることがで
きる処理液供給ノズルを提供することを目的とする。
たものであって、超音波振動子の放熱効率を向上させる
ことによってパーティクルの除去能力を高めることがで
きる処理液供給ノズルを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の処理液供給装置は、超音波振動子
により処理液に超音波を付与して吐出する処理液供給ノ
ズルにおいて、前記超音波振動子のうち処理液が流通す
る振動付与側の反対側に前記超音波振動子を冷却するた
めの冷却手段を備えたことを特徴とするものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の処理液供給装置は、超音波振動子
により処理液に超音波を付与して吐出する処理液供給ノ
ズルにおいて、前記超音波振動子のうち処理液が流通す
る振動付与側の反対側に前記超音波振動子を冷却するた
めの冷却手段を備えたことを特徴とするものである。
【０００８】また、請求項２に記載の処理液供給装置
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
取り付けられた冷却フィンを備えたことを特徴とするも
のである。
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
取り付けられた冷却フィンを備えたことを特徴とするも
のである。
【０００９】また、請求項３に記載の処理液供給装置
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
取り付けられた冷却フィンと、この冷却フィンに冷却用
流体を供給する流体供給手段とを備えたことを特徴とす
るものである。
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
取り付けられた冷却フィンと、この冷却フィンに冷却用
流体を供給する流体供給手段とを備えたことを特徴とす
るものである。
【００１０】また、請求項４に記載の処理液供給装置
は、請求項３に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反対側
から前記流体供給手段による流体供給側に向かって螺旋
状に形成したことを特徴とするものである。
は、請求項３に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反対側
から前記流体供給手段による流体供給側に向かって螺旋
状に形成したことを特徴とするものである。
【００１１】また、請求項５に記載の処理液供給装置
は、請求項３に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反対側
から前記流体供給手段による流体供給側に向かって多段
に積層された放熱板で構成するとともに、これらの各放
熱板に小孔を形成したことを特徴とするものである。
は、請求項３に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反対側
から前記流体供給手段による流体供給側に向かって多段
に積層された放熱板で構成するとともに、これらの各放
熱板に小孔を形成したことを特徴とするものである。
【００１２】また、請求項６に記載の処理液供給装置
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
冷却用流体を供給する流体供給手段を備えたことを特徴
とするものである。
は、請求項１に記載の処理液供給ノズルにおいて、前記
冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対側に
冷却用流体を供給する流体供給手段を備えたことを特徴
とするものである。
【００１３】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、超音波振動子
のうち処理液が流通する振動付与側の反対側に超音波振
動子を冷却するための冷却手段を設けているので、超音
波振動子に与える高周波信号の出力を大きくして発熱し
たとしても温度の上昇が抑制される。
のうち処理液が流通する振動付与側の反対側に超音波振
動子を冷却するための冷却手段を設けているので、超音
波振動子に与える高周波信号の出力を大きくして発熱し
たとしても温度の上昇が抑制される。
【００１４】また、請求項２に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設けて
放熱効率を向上しているので、超音波振動子に与える高
周波信号の出力を大きくして発熱したとしても、超音波
振動子が冷却されて温度の上昇が抑制できる。
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設けて
放熱効率を向上しているので、超音波振動子に与える高
周波信号の出力を大きくして発熱したとしても、超音波
振動子が冷却されて温度の上昇が抑制できる。
【００１５】また、請求項３に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設け、
さらにこの冷却フィンに対して流体供給手段で冷却用の
流体を供給することにより、超音波振動子の温度上昇を
さらに抑制することができる。
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設け、
さらにこの冷却フィンに対して流体供給手段で冷却用の
流体を供給することにより、超音波振動子の温度上昇を
さらに抑制することができる。
【００１６】また、請求項４に記載の発明によれば、流
体供給手段の流体供給側から供給される流体の流れを円
滑にすることができ、冷却フィンからの放熱を効率良く
行わせることができる。
体供給手段の流体供給側から供給される流体の流れを円
滑にすることができ、冷却フィンからの放熱を効率良く
行わせることができる。
【００１７】また、請求項５に記載の発明によれば、多
層の放熱板の各々に小孔を形成したので、流体供給手段
からの流体を全ての放熱板に触れさせることができる。
層の放熱板の各々に小孔を形成したので、流体供給手段
からの流体を全ての放熱板に触れさせることができる。
【００１８】また、請求項６に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に流体供給手段によっ
て冷却用流体を供給するだけでも、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくしたことによる温度上昇が
抑制される。
音波振動子の振動付与側の反対側に流体供給手段によっ
て冷却用流体を供給するだけでも、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくしたことによる温度上昇が
抑制される。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本実施例に係る処理液供給ノズル
の構成を示す縦断面図であり、図２はこの処理液供給ノ
ズルを備えた基板処理装置の概略構成を示すブロック図
である。
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本実施例に係る処理液供給ノズル
の構成を示す縦断面図であり、図２はこの処理液供給ノ
ズルを備えた基板処理装置の概略構成を示すブロック図
である。
【００２０】処理液供給ノズル１は、筒状部材３の下部
が先細り状に形成された吐出部５を有し、筒状部材３の
側面下部には供給管７が形成されている。また、吐出部
５の下面には平面視ほぼ円形の吐出口９が形成されてお
り、供給管７から供給された洗浄液などの処理液が吐出
口９から下方に向けて吐出されるようになっている。
が先細り状に形成された吐出部５を有し、筒状部材３の
側面下部には供給管７が形成されている。また、吐出部
５の下面には平面視ほぼ円形の吐出口９が形成されてお
り、供給管７から供給された洗浄液などの処理液が吐出
口９から下方に向けて吐出されるようになっている。
【００２１】筒状部材３の内周下部には、耐水処理のた
めのＯリング１１を介して超音波振動子１５が取り付け
られている。振動付与側にあたる超音波振動子１５の下
面には第１の電極１７が形成されているが、この第１の
電極１７は超音波振動子１５の側面および上面の周縁部
をも覆っている。この上面周縁部は、図示しないケーブ
ルへの接続のための取出電極として設けられているもの
である。また、振動付与側の反対側にあたる超音波振動
子１５の上面中央部には、平面視円形状の第２の電極１
９が形成され、冷却フィン２１を通してケーブル２３に
接続されている。
めのＯリング１１を介して超音波振動子１５が取り付け
られている。振動付与側にあたる超音波振動子１５の下
面には第１の電極１７が形成されているが、この第１の
電極１７は超音波振動子１５の側面および上面の周縁部
をも覆っている。この上面周縁部は、図示しないケーブ
ルへの接続のための取出電極として設けられているもの
である。また、振動付与側の反対側にあたる超音波振動
子１５の上面中央部には、平面視円形状の第２の電極１
９が形成され、冷却フィン２１を通してケーブル２３に
接続されている。
【００２２】冷却フィン２１は、円柱状の支柱２１ａ
と、この支柱２１ａに所定の間隔で取り付けられた５枚
の円板状のフィン２１ｂ（放熱板であり、例えば、銅
製）とを備えている。但し、冷却フィン２１は、図示省
略しているが超音波振動子１５の振動を妨げることがな
いように第２の電極１９に対して導通するように取り付
けられている。上記フィン２１ｂの大きさは、例えば、
半径が１０ｍｍで、厚さが１ｍｍである。
と、この支柱２１ａに所定の間隔で取り付けられた５枚
の円板状のフィン２１ｂ（放熱板であり、例えば、銅
製）とを備えている。但し、冷却フィン２１は、図示省
略しているが超音波振動子１５の振動を妨げることがな
いように第２の電極１９に対して導通するように取り付
けられている。上記フィン２１ｂの大きさは、例えば、
半径が１０ｍｍで、厚さが１ｍｍである。
【００２３】筒状部材３の上部は蓋部材２５によって塞
がれているとともに、超音波振動子１５と冷却フィン２
１が収納されている筒状部材３の内部空間に冷却用気体
（冷却用流体）を導入するための導入配管３１と、導入
された冷却用気体を排出するための排出配管３３とが蓋
部材２５に配設されている。導入配管３１から導入され
る冷却用気体としては、例えば、空気や窒素などが利用
できる。
がれているとともに、超音波振動子１５と冷却フィン２
１が収納されている筒状部材３の内部空間に冷却用気体
（冷却用流体）を導入するための導入配管３１と、導入
された冷却用気体を排出するための排出配管３３とが蓋
部材２５に配設されている。導入配管３１から導入され
る冷却用気体としては、例えば、空気や窒素などが利用
できる。
【００２４】なお、上述した冷却フィン２１と、導入配
管３１および排出配管３３とは本発明の冷却手段に相当
し、導入配管３１と排出配管３３とはさらに本発明の流
体供給手段に相当する。
管３１および排出配管３３とは本発明の冷却手段に相当
し、導入配管３１と排出配管３３とはさらに本発明の流
体供給手段に相当する。
【００２５】処理液供給ノズル１は上記のように構成さ
れているとともに、超音波振動子１９の支柱２１ａに接
続されているケーブル２３は、超音波と呼ばれる周波数
帯で超音波振動子１５を振動させるための高周波信号を
出力する高周波発振回路３５に接続されている。なお、
この高周波発振回路３５は、その高周波信号の出力が図
示しない調整手段を介してオペレータにより調整可能に
構成されている。
れているとともに、超音波振動子１９の支柱２１ａに接
続されているケーブル２３は、超音波と呼ばれる周波数
帯で超音波振動子１５を振動させるための高周波信号を
出力する高周波発振回路３５に接続されている。なお、
この高周波発振回路３５は、その高周波信号の出力が図
示しない調整手段を介してオペレータにより調整可能に
構成されている。
【００２６】また、図２に示すように、供給管７は開閉
弁４１と、フィルタ４３と、ポンプ４５とを介して処理
液供給源４７に接続されている。したがって、開閉弁４
１を開放するとともにポンプ４５を作動すると、処理液
供給源４７からの処理液がフィルタ４３を経て処理液供
給ノズル１の供給管７に送り込まれるようになってい
る。そして、超音波振動子１５により超音波が付与され
て、吐出口９から処理液が吐出されるようになってい
る。
弁４１と、フィルタ４３と、ポンプ４５とを介して処理
液供給源４７に接続されている。したがって、開閉弁４
１を開放するとともにポンプ４５を作動すると、処理液
供給源４７からの処理液がフィルタ４３を経て処理液供
給ノズル１の供給管７に送り込まれるようになってい
る。そして、超音波振動子１５により超音波が付与され
て、吐出口９から処理液が吐出されるようになってい
る。
【００２７】また、導入配管３１は、開閉弁５１とポン
プ５３とを介して冷却用気体供給源５５に連通され、排
出配管３３はクリーンルーム外部の大気に開放されてい
る。したがって、開閉弁５１を開放するとともにポンプ
５３を作動すると、冷却用気体供給源５５からの冷却用
気体（例えば、空気）が導入配管３１に送り込まれ、冷
却フィン２１の各フィン２１ｂの間を通って排出配管３
３から排出されるようになっている。
プ５３とを介して冷却用気体供給源５５に連通され、排
出配管３３はクリーンルーム外部の大気に開放されてい
る。したがって、開閉弁５１を開放するとともにポンプ
５３を作動すると、冷却用気体供給源５５からの冷却用
気体（例えば、空気）が導入配管３１に送り込まれ、冷
却フィン２１の各フィン２１ｂの間を通って排出配管３
３から排出されるようになっている。
【００２８】上記のように構成された処理液供給ノズル
１を備えている基板処理装置は、基板Ｗを水平姿勢で支
持するスピンチャック６０と、このスピンチャック６０
とともに基板Ｗを水平面内で回転させる電動モータ６１
と、処理液供給ノズル１から供給された処理液が周囲に
飛散するのを防止する飛散防止カップ６３とを備えい
る。この装置では、超音波が付与された処理液を処理液
供給ノズル１の吐出口９から吐出させつつ移動させるこ
とにより、基板Ｗの表面全体を超音波が付与された処理
液で処理するようになっている。
１を備えている基板処理装置は、基板Ｗを水平姿勢で支
持するスピンチャック６０と、このスピンチャック６０
とともに基板Ｗを水平面内で回転させる電動モータ６１
と、処理液供給ノズル１から供給された処理液が周囲に
飛散するのを防止する飛散防止カップ６３とを備えい
る。この装置では、超音波が付与された処理液を処理液
供給ノズル１の吐出口９から吐出させつつ移動させるこ
とにより、基板Ｗの表面全体を超音波が付与された処理
液で処理するようになっている。
【００２９】洗浄除去能力を向上するために処理液供給
ノズル１の超音波振動子１５に与える高周波発振回路３
５の出力を大きくすると超音波振動子１５自体が発熱す
るが、その熱は冷却フィン２１に伝わり、各フィン２１
ｂから放熱されるとともに冷却用気体によって外部に排
出される。したがって、超音波振動子１５の温度上昇が
抑制されるので、高周波発振回路３５の出力を大きくし
てパーティクルの除去能力を向上させることができる。
ノズル１の超音波振動子１５に与える高周波発振回路３
５の出力を大きくすると超音波振動子１５自体が発熱す
るが、その熱は冷却フィン２１に伝わり、各フィン２１
ｂから放熱されるとともに冷却用気体によって外部に排
出される。したがって、超音波振動子１５の温度上昇が
抑制されるので、高周波発振回路３５の出力を大きくし
てパーティクルの除去能力を向上させることができる。
【００３０】なお、上記の実施例では、冷却用気体を冷
却フィン２１に供給して超音波振動子１５を冷却するよ
うにしているが、第１の電極１７と第２の電極１９など
の絶縁をとることができる場合には、冷却用気体に代え
て純水などの冷却用液体を導入配管３１から導入するよ
うに構成してもよい。
却フィン２１に供給して超音波振動子１５を冷却するよ
うにしているが、第１の電極１７と第２の電極１９など
の絶縁をとることができる場合には、冷却用気体に代え
て純水などの冷却用液体を導入配管３１から導入するよ
うに構成してもよい。
【００３１】また、印加する高周波出力によっては、冷
却フィン２１を省略して冷却用気体あるいは冷却用液体
を導入配管３１から導入するようにしてもよい。
却フィン２１を省略して冷却用気体あるいは冷却用液体
を導入配管３１から導入するようにしてもよい。
【００３２】＜変形例＞上述した冷却フィン２１に代え
て図３，４に示すような冷却フィンを採用するようにし
てもよい。
て図３，４に示すような冷却フィンを採用するようにし
てもよい。
【００３３】図３は、冷却フィン２１のフィン２１ｂ
を、冷却用流体の供給側から超音波振動子１５の第２の
電極側１９に向かって螺旋状に形成したものである。こ
のように構成することにより、冷却用流体の流れを円滑
にすることができ、冷却フィン２１からの放熱を効率良
く行わせることができる。
を、冷却用流体の供給側から超音波振動子１５の第２の
電極側１９に向かって螺旋状に形成したものである。こ
のように構成することにより、冷却用流体の流れを円滑
にすることができ、冷却フィン２１からの放熱を効率良
く行わせることができる。
【００３４】図４は、冷却フィン２１の各フィン２１ｂ
（放熱板）にそれぞれ５個の小孔２１ｃを形成したもの
である。このような構成によると冷却用流体を、小孔２
１ｃを通して全てのフィン２１ｂに触れさせることがで
き、冷却用流体の流れを円滑にして放熱を効率良く行わ
せることができる。
（放熱板）にそれぞれ５個の小孔２１ｃを形成したもの
である。このような構成によると冷却用流体を、小孔２
１ｃを通して全てのフィン２１ｂに触れさせることがで
き、冷却用流体の流れを円滑にして放熱を効率良く行わ
せることができる。
【００３５】＜第２実施例＞図５は本実施例に係る処理
液供給ノズルの構成を示す縦断面図である。なお、上述
したノズルと同じ構成については同符号を付すことで詳
細な説明については省略する。
液供給ノズルの構成を示す縦断面図である。なお、上述
したノズルと同じ構成については同符号を付すことで詳
細な説明については省略する。
【００３６】この処理液供給ノズル１は、導入配管３１
と排出配管３３に連通接続された螺旋配管３２（例え
ば、フッ素樹脂製）を備えている。導入配管３１には一
定流量（例えば、１リットル／分）で冷却水（例えば、
２３℃）が導入され、超音波振動子１５の第２の電極１
９側から放射された熱を冷却水で吸収して排出配管３３
から排出するようになっている。なお、導入配管３１
と、螺旋配管３２と、排出配管３３とは本発明の流体供
給手段に相当する。
と排出配管３３に連通接続された螺旋配管３２（例え
ば、フッ素樹脂製）を備えている。導入配管３１には一
定流量（例えば、１リットル／分）で冷却水（例えば、
２３℃）が導入され、超音波振動子１５の第２の電極１
９側から放射された熱を冷却水で吸収して排出配管３３
から排出するようになっている。なお、導入配管３１
と、螺旋配管３２と、排出配管３３とは本発明の流体供
給手段に相当する。
【００３７】このような構成の処理液供給ノズル１であ
っても、超音波振動子１５の放熱効率を高くすることが
できて超音波振動子１５に印加する高周波信号を高くす
ることができるので、パーティクルの除去能力を高める
ことができる。
っても、超音波振動子１５の放熱効率を高くすることが
できて超音波振動子１５に印加する高周波信号を高くす
ることができるので、パーティクルの除去能力を高める
ことができる。
【００３８】＜第３実施例＞図６は本実施例に係る処理
液供給ノズルの構成を示す縦断面図である。なお、上述
したノズルと同じ構成については同符号を付すことで詳
細な説明については省略する。
液供給ノズルの構成を示す縦断面図である。なお、上述
したノズルと同じ構成については同符号を付すことで詳
細な説明については省略する。
【００３９】本実施例の処理液供給ノズル１は、上述し
た第１／第２実施例のものとは異なり、冷却用流体を用
いることなく冷却用フィン２２だけで放熱しようとする
ものである。筒状部材３の側面には、貫通した取出孔３
ａが形成されている。そして、第２の電極１９に取り付
けられた冷却フィン２２の腕部材２２ａが取出孔３ａを
通って外部に延出され、その上部に複数枚のフィン２２
ｂが形成されている。なお、取出孔３ａは、防水構造と
なるように処理されている。
た第１／第２実施例のものとは異なり、冷却用流体を用
いることなく冷却用フィン２２だけで放熱しようとする
ものである。筒状部材３の側面には、貫通した取出孔３
ａが形成されている。そして、第２の電極１９に取り付
けられた冷却フィン２２の腕部材２２ａが取出孔３ａを
通って外部に延出され、その上部に複数枚のフィン２２
ｂが形成されている。なお、取出孔３ａは、防水構造と
なるように処理されている。
【００４０】通常、クリーンルーム内には、上方から下
方に向かうダウンフローが存在するので、本実施例のよ
うに冷却フィン２２をノズル１の外部に晒すだけでもあ
る程度の冷却効果が期待できる。したがって、従来例に
比較して放熱効率を高くすることができ、超音波振動子
１５に印加する高周波信号を高くすることができる。し
たがってパーティクルの除去能力を高めることができ
る。
方に向かうダウンフローが存在するので、本実施例のよ
うに冷却フィン２２をノズル１の外部に晒すだけでもあ
る程度の冷却効果が期待できる。したがって、従来例に
比較して放熱効率を高くすることができ、超音波振動子
１５に印加する高周波信号を高くすることができる。し
たがってパーティクルの除去能力を高めることができ
る。
【００４１】なお、上記の各実施例では、吐出部５の下
面に平面視ほぼ円形の吐出口９が形成された処理液供給
ノズル１を例に採って説明したが、吐出口９がスリット
状に形成されたノズルにも本発明を適用することができ
ることは言うまでもない。
面に平面視ほぼ円形の吐出口９が形成された処理液供給
ノズル１を例に採って説明したが、吐出口９がスリット
状に形成されたノズルにも本発明を適用することができ
ることは言うまでもない。
【００４２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、超音波振動子のうち処理液が
流通する振動付与側の反対側から冷却手段により超音波
振動子を冷却するようにしたので、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくして発熱したとしても温度
の上昇を抑制することができる。したがって、高出力の
超音波振動を処理液に付与することができ、パーティク
ルの除去能力を高めることができる。
１に記載の発明によれば、超音波振動子のうち処理液が
流通する振動付与側の反対側から冷却手段により超音波
振動子を冷却するようにしたので、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくして発熱したとしても温度
の上昇を抑制することができる。したがって、高出力の
超音波振動を処理液に付与することができ、パーティク
ルの除去能力を高めることができる。
【００４３】また、請求項２に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却手段としての冷
却フィンを設けて放熱効率を向上したことにより、超音
波振動子に与える高周波信号の出力を大きくして発熱し
たとしても温度の上昇を抑制することができる。したが
って、パーティクルの除去能力を高めることができる。
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却手段としての冷
却フィンを設けて放熱効率を向上したことにより、超音
波振動子に与える高周波信号の出力を大きくして発熱し
たとしても温度の上昇を抑制することができる。したが
って、パーティクルの除去能力を高めることができる。
【００４４】また、請求項３に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設け、
さらにこの冷却フィンに対して流体供給手段で冷却用の
流体を供給する構成としたことにより、超音波振動子の
温度上昇をさらに抑制することができる。したがって、
超音波振動子に与える出力をさらに高くすることがで
き、より高出力の超音波振動を処理液に付与することが
できてパーティクルの除去能力をさらに高めることがで
きる。
音波振動子の振動付与側の反対側に冷却フィンを設け、
さらにこの冷却フィンに対して流体供給手段で冷却用の
流体を供給する構成としたことにより、超音波振動子の
温度上昇をさらに抑制することができる。したがって、
超音波振動子に与える出力をさらに高くすることがで
き、より高出力の超音波振動を処理液に付与することが
できてパーティクルの除去能力をさらに高めることがで
きる。
【００４５】また、請求項４に記載の発明によれば、流
体供給手段の流体供給側から供給される流体の流れを円
滑に冷却フィンに導くことができるため、冷却フィンか
らの放熱を効率良く行わせることができる。
体供給手段の流体供給側から供給される流体の流れを円
滑に冷却フィンに導くことができるため、冷却フィンか
らの放熱を効率良く行わせることができる。
【００４６】また、請求項５に記載の発明によれば、冷
却フィンを構成する多層の放熱板の各々に小孔を形成し
たため、流体供給手段からの流体を全ての放熱板に触れ
させることができ、放熱効率を高めることができる。
却フィンを構成する多層の放熱板の各々に小孔を形成し
たため、流体供給手段からの流体を全ての放熱板に触れ
させることができ、放熱効率を高めることができる。
【００４７】また、請求項６に記載の発明によれば、超
音波振動子の振動付与側の反対側に流体供給手段によっ
て冷却用流体を供給するだけでも、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくしたことによる温度上昇を
抑制することができる。したがって、簡易な構成でパー
ティクルの除去能力を高めることができる。
音波振動子の振動付与側の反対側に流体供給手段によっ
て冷却用流体を供給するだけでも、超音波振動子に与え
る高周波信号の出力を大きくしたことによる温度上昇を
抑制することができる。したがって、簡易な構成でパー
ティクルの除去能力を高めることができる。
【図１】第１実施例に係る処理液供給ノズルの縦断面図
である。
である。
【図２】第１実施例に係る処理液供給ノズルを備えた基
板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】冷却フィンの変形例を示す斜視図である。
【図４】冷却フィンの変形例を示す斜視図である。
【図５】第２実施例に係る処理液供給ノズルの縦断面図
である。
である。
【図６】第３実施例に係る処理液供給ノズルの縦断面図
である。
である。
【図７】超音波振動の出力とパーティクルの除去率の関
係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
Ｗ … 基板 １ … 処理液供給ノズル ３ … 筒状部材 ５ … 吐出部 ７ … 供給管 ９ … 吐出口 １１ … Ｏリング １５ … 超音波振動子 １７ … 第１の電極 １９ … 第２の電極 ２１ … 冷却フィン ２１ａ … 支柱 ２１ｂ … フィン ２３ … ケーブル ２５ … 蓋部材 ３１ … 導入配管 ３３ … 排出配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平得 貞雄 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 AB34 AB47 BB22 BB52 BB85 BB90 BB94 CB01
Claims (6)
- 【請求項１】 超音波振動子により処理液に超音波を付
与して吐出する処理液供給ノズルにおいて、 前記超音波振動子のうち処理液が流通する振動付与側の
反対側に前記超音波振動子を冷却するための冷却手段を
備えたことを特徴とする処理液供給ノズル。 - 【請求項２】 請求項１に記載の処理液供給ノズルにお
いて、 前記冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対
側に取り付けられた冷却フィンを備えたことを特徴とす
る処理液供給ノズル。 - 【請求項３】 請求項１に記載の処理液供給ノズルにお
いて、 前記冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対
側に取り付けられた冷却フィンと、この冷却フィンに冷
却用流体を供給する流体供給手段とを備えたことを特徴
とする処理液供給ノズル。 - 【請求項４】 請求項３に記載の処理液供給ノズルにお
いて、 前記冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反
対側から前記流体供給手段による流体供給側に向かって
螺旋状に形成したことを特徴とする処理液供給ノズル。 - 【請求項５】 請求項３に記載の処理液供給ノズルにお
いて、 前記冷却フィンを、前記超音波振動子の振動付与側の反
対側から前記流体供給手段による流体供給側に向かって
多段に積層された放熱板で構成するとともに、これらの
各放熱板に小孔を形成したことを特徴とする処理液供給
ノズル。 - 【請求項６】 請求項１に記載の処理液供給ノズルにお
いて、 前記冷却手段は、前記超音波振動子の振動付与側の反対
側に冷却用流体を供給する流体供給手段を備えたことを
特徴とする処理液供給ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317187A JP2000140779A (ja) | 1998-11-09 | 1998-11-09 | 処理液供給ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317187A JP2000140779A (ja) | 1998-11-09 | 1998-11-09 | 処理液供給ノズル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000140779A true JP2000140779A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=18085433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10317187A Pending JP2000140779A (ja) | 1998-11-09 | 1998-11-09 | 処理液供給ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000140779A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7581553B2 (en) * | 2005-06-17 | 2009-09-01 | Woongjin Coway Co., Ltd. | Domestic injection type ultrasonic washing apparatus |
| CN103071638A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 雾化清洗装置和方法 |
| KR20130129755A (ko) * | 2012-05-21 | 2013-11-29 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 액정토출노즐 조립체 |
| KR20140071069A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 적하장치용 제팅 밸브 |
| TWI511796B (zh) * | 2012-10-16 | 2015-12-11 | Infina Technology Co Ltd | 簾幕式超音波噴塗系統及基板材料噴塗之方法 |
-
1998
- 1998-11-09 JP JP10317187A patent/JP2000140779A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7581553B2 (en) * | 2005-06-17 | 2009-09-01 | Woongjin Coway Co., Ltd. | Domestic injection type ultrasonic washing apparatus |
| KR20130129755A (ko) * | 2012-05-21 | 2013-11-29 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 액정토출노즐 조립체 |
| KR102011753B1 (ko) * | 2012-05-21 | 2019-08-19 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 액정토출노즐 조립체 |
| TWI511796B (zh) * | 2012-10-16 | 2015-12-11 | Infina Technology Co Ltd | 簾幕式超音波噴塗系統及基板材料噴塗之方法 |
| KR20140071069A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 적하장치용 제팅 밸브 |
| KR102045729B1 (ko) * | 2012-12-03 | 2019-11-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 적하장치용 제팅 밸브 |
| CN103071638A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 雾化清洗装置和方法 |
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