JP2000138448A - Electronic part mounting method - Google Patents

Electronic part mounting method

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JP2000138448A
JP2000138448A JP10313621A JP31362198A JP2000138448A JP 2000138448 A JP2000138448 A JP 2000138448A JP 10313621 A JP10313621 A JP 10313621A JP 31362198 A JP31362198 A JP 31362198A JP 2000138448 A JP2000138448 A JP 2000138448A
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敦史 山口
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聡哉 山口
Yoshifumi Kitayama
喜文 北山
Kenichiro Suetsugu
憲一郎 末次
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably solder electronic parts on a film substrate. SOLUTION: A step where a cream solder is applied at a specified point on a land formed on the part mounting surface of a film substrate 1, a step where electronic parts 3 is so provided as to contact the cream solder applied on the film substrate 1, a process where the film substrate 1 is fixed to a stage 2, and a step where the film substrate 1 is heated by a heat source 4 so provided as to face the part mounting surface of the film substrate 1 so that the cream solder is melted and solidified to mount the electronic parts 3 on the film substrate 1, are provided. Here, before the substrate 1 is heated, a shield mask 5 comprising an opening 5a at a place corresponding to the place of the film substrate 1 for soldering is provided between the film substrate 1 and the heat source 4, so that a part of the film substrate 1 which is weak to heat is shielded and protected from the heat source using a shield mask 5 while a soldering part is concentrically heated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム基板に電
子部品をはんだ付けする電子部品実装方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component mounting method for soldering electronic components to a film substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話をはじめとする携帯用電
子機器の小型化、軽量化等の要求を満たすため、電子回
路用の基板としてポリイミド等からなるフィルム基板の
採用が不可欠となっている。従来、フィルム基板は薄く
またカール癖(反り)が生じやすいことから、フィルム
基板上に電子部品を実装する際には、その周辺部をホル
ダで挟み込んでステージ上にその平面が平坦に保たれる
よう固定していた。
2. Description of the Related Art In recent years, a film substrate made of polyimide or the like has become indispensable as a substrate for an electronic circuit in order to satisfy demands for miniaturization and weight reduction of portable electronic devices such as a portable telephone. . Conventionally, since a film substrate is thin and easily curls (warp), when mounting an electronic component on the film substrate, its peripheral portion is sandwiched by a holder and its plane is kept flat on a stage. So it was fixed.

【0003】電子部品をフィルム基板上に実装する方法
としては、従来より基板のランド上にクリームはんだを
塗布させそれに接するように電子部品を配置した後、ク
リームはんだを輻射熱により溶融し、次いで固化させて
電子部品を固定する方法が一般的である。
[0003] As a method of mounting an electronic component on a film substrate, conventionally, a cream solder is applied on a land of a substrate, and the electronic component is arranged so as to be in contact with the land. In general, a method of fixing an electronic component by using a conventional method is used.

【0004】しかしながら、フィルム基板に電子部品を
実装するには、以下のような問題点があった。種々の電
子部品を複数混載したフィルム基板の全体を加熱して電
子部品のすべてを同時にはんだ付けしようとすると、電
子部品の熱容量が異なるために基板全体を均一に加熱す
ることは困難である。したがって、最もはんだ付けし難
い部位すなわち熱容量が最も大きい部位に合わせた条件
でフィルム基板を加熱する必要があり、結果としてその
他の部位は過度に加熱されることになる。過度な加熱
は、IC等の耐熱温度が低い電子部品の破壊を招く。こ
の傾向は、通常の回路基板に用いられるセラミックス基
板や銅張積層板と比べて薄く外部に熱が逃げやすいフィ
ルム基板を用いた場合に特に顕著である。また、フィル
ム基板は熱により変形しやすいという問題点もある。
However, mounting electronic components on a film substrate has the following problems. If it is attempted to simultaneously heat all of the electronic components by heating the entire film substrate on which a plurality of various electronic components are mixed, it is difficult to uniformly heat the entire substrate because the electronic components have different heat capacities. Therefore, it is necessary to heat the film substrate under conditions that are the most difficult to solder, that is, the portion having the largest heat capacity. As a result, the other portions are excessively heated. Excessive heating causes destruction of electronic components such as ICs having a low heat-resistant temperature. This tendency is particularly remarkable when a film substrate that is thin and easily radiates heat to the outside is used as compared with a ceramic substrate or a copper-clad laminate used for an ordinary circuit board. Another problem is that the film substrate is easily deformed by heat.

【0005】この問題を解決するために、フィルム基板
の加熱上限温度が同等な部位だけを局部的に加熱しては
んだ付けする方法が提案されている。しかし、この方法
によっても、フィルム基板からステージへの放熱の程度
がフィルム基板の部位によって異なるため、均一に加熱
するのは困難である。それぞれの部位を充分に加熱し、
すべてのはんだ付けが正常になされるようにするには、
放熱の程度が大きい部位に合わせて加える熱量を大きく
する必要があるが、その一方で加熱によるフィルム基板
の変形を防ぐ必要もある。
In order to solve this problem, there has been proposed a method of locally heating only portions of the film substrate having the same maximum heating temperature to perform soldering. However, even with this method, it is difficult to perform uniform heating because the degree of heat radiation from the film substrate to the stage varies depending on the portion of the film substrate. Heat each part sufficiently,
To ensure that all soldering is successful,
It is necessary to increase the amount of heat to be applied to a portion where the degree of heat radiation is large, but it is also necessary to prevent deformation of the film substrate due to heating.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
点を解決し、フィルム基板上に電子部品を安定してはん
だ付けすることができる電子部品の実装方法を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a method of mounting an electronic component which can stably solder the electronic component on a film substrate. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の電子部品実装方
法は、フィルム基板のはんだ付けしようとする部位だけ
が輻射熱線に曝されるように、そのほかの部分を遮蔽マ
スクによって保護し、はんだ付け部を集中的に加熱して
電子部品を実装するものである。
According to the electronic component mounting method of the present invention, the other portions are protected by a shielding mask so that only the portion of the film substrate to be soldered is exposed to radiant heat rays. The part is intensively heated to mount the electronic component.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の電子部品実装方法は、フ
ィルム基板の部品実装面に形成されたランド上の所定の
箇所にクリームはんだを塗布する工程と、フィルム基板
上に塗布されたクリームはんだに接するように電子部品
を配置する工程と、フィルム基板をステージ上に固定す
る工程と、フィルム基板の部品実装面に対向して配され
た熱源によりフィルム基板を加熱して、クリームはんだ
を溶融させ、次いで固化させて電子部品をフィルム基板
上に実装する工程とを具備し、フィルム基板の加熱に先
だって、フィルム基板のはんだ付けしようとする箇所に
対応した箇所に開口部を有する遮蔽マスクを、フィルム
基板と前記熱源の間に配する。このようにして、フィル
ム基板の熱に弱い部位を遮蔽マスクによって熱源から遮
蔽し保護することで、はんだ付け部のみを集中的に加熱
することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An electronic component mounting method according to the present invention comprises the steps of: applying a cream solder to a predetermined location on a land formed on a component mounting surface of a film substrate; Arranging the electronic component so as to be in contact with the substrate, fixing the film substrate on the stage, and heating the film substrate by a heat source arranged opposite to the component mounting surface of the film substrate to melt the cream solder And then solidifying and mounting the electronic components on the film substrate, prior to heating the film substrate, a film-forming shielding mask having an opening at a location corresponding to the portion to be soldered on the film substrate, It is arranged between the substrate and the heat source. In this manner, by shielding the heat-sensitive portion of the film substrate from the heat source with the shielding mask and protecting it, only the soldered portion can be heated intensively.

【0009】同じ遮蔽マスクを用いて一定周期で繰り返
し熱輻射によってはんだ付けする場合、遮蔽マスクの熱
容量がはんだ付けに影響する。すなわち、熱容量の大き
い遮蔽マスクでは、はんだ付けを繰り返すにつれて予熱
によって加熱時の基板温度が高くなるため、同一条件で
加熱してもはんだ付け部の温度を上昇させてしまう恐れ
がある。そこで、本発明の好ましい態様においては、
銅、真鍮、アルミニウム等の比熱が小さく熱伝導性が高
い材料からなる遮蔽マスクを用いる。これにより、繰り
返しはんだ付けを行っても遮蔽マスクの温度上昇を抑制
できるため、はんだ付け部の温度上昇を抑制することが
できる。また、遮蔽マスクを薄くすることによっても、
その熱容量を小さくすることができる。本発明の他の好
ましい態様においては、遮蔽マスクの厚さは2mm以下
である。これにより、遮蔽マスクの開口部の壁面で反射
した熱線により生じるはんだ付け部内の温度分布のバラ
ツキを抑制することも可能になる。
[0009] When soldering is repeatedly performed at regular intervals using the same shielding mask by thermal radiation, the heat capacity of the shielding mask affects the soldering. That is, in a shielding mask having a large heat capacity, as the soldering is repeated, the substrate temperature at the time of heating is increased by preheating, so that even if the heating is performed under the same conditions, the temperature of the soldered portion may be increased. Therefore, in a preferred embodiment of the present invention,
A shielding mask made of a material having low specific heat and high thermal conductivity, such as copper, brass, and aluminum, is used. Thereby, even if soldering is repeatedly performed, a rise in the temperature of the shielding mask can be suppressed, so that a rise in the temperature of the soldered portion can be suppressed. Also, by making the shielding mask thinner,
The heat capacity can be reduced. In another preferred embodiment of the present invention, the thickness of the shielding mask is 2 mm or less. Accordingly, it is also possible to suppress the variation in the temperature distribution in the soldering portion caused by the heat ray reflected on the wall surface of the opening of the shielding mask.

【0010】本発明のさらに他の好ましい態様におい
て、遮蔽マスクがその表面に熱源からの熱線を反射する
ための反射膜を有する。使用する光源の波長域での反射
率が高い材料で遮蔽マスク表面を被覆すると、遮蔽マス
クの温度上昇を効果的に抑制でき、はんだ付け部の温度
上昇を抑制することができる。反射膜は、たとえば金か
らなる。反射膜は、たとえば厚さが均一な膜を安定して
形成できるメッキにより形成する。また、物理蒸着法や
化学蒸着法を用いてもよい。これらのいずれの方法によ
っても、母材が表面に露出することなく表面に均一に反
射膜を形成するためには、形成する反射膜の厚さを0.
1μm以上とすることが好ましい。
[0010] In still another preferred embodiment of the present invention, the shielding mask has a reflective film on its surface for reflecting heat rays from a heat source. When the surface of the shielding mask is covered with a material having a high reflectance in the wavelength region of the light source to be used, a rise in the temperature of the shielding mask can be effectively suppressed, and a rise in the temperature of the soldered portion can be suppressed. The reflection film is made of, for example, gold. The reflection film is formed by, for example, plating that can stably form a film having a uniform thickness. Further, a physical vapor deposition method or a chemical vapor deposition method may be used. In any of these methods, in order to form a reflective film uniformly on the surface without exposing the base material to the surface, the thickness of the reflective film to be formed is set to 0.1.
The thickness is preferably 1 μm or more.

【0011】本発明のさらに他の好ましい態様におい
て、遮蔽マスクがその開口部の周縁またはその近傍にフ
ィルム基板側に突出した基板押さえ部を有する。遮蔽マ
スクの開口部の周縁またはその近傍に、基板側に突出し
た基板押さえ部を設け、基板加熱時にフィルム基板のは
んだ付け部の周囲を押圧するようにすると、加熱による
フィルム基板の変形を抑えることができる。この基板押
さえ部を遮蔽マスク開口部の周辺に壁状に設けると、フ
ィルム基板を急激に加熱してもはんだ付け部以外へのフ
ラックスの飛散を抑制することができる。また、フィル
ム基板と基板を固定するステージとの密着性を高めるこ
とができるので、基板の端部からフラックスが基板内部
に浸透して基板が汚染されることを防止することができ
る。
In still another preferred aspect of the present invention, the shielding mask has a substrate pressing portion protruding toward the film substrate at or near the periphery of the opening. By providing a substrate pressing part protruding toward the substrate at or near the periphery of the opening of the shielding mask and pressing around the soldered part of the film substrate when heating the substrate, deformation of the film substrate due to heating can be suppressed Can be. If the substrate holding portion is provided in the form of a wall around the opening of the shielding mask, even if the film substrate is rapidly heated, the scattering of the flux to portions other than the soldering portion can be suppressed. Further, since the adhesion between the film substrate and the stage for fixing the substrate can be improved, it is possible to prevent the flux from penetrating into the substrate from the end of the substrate and contaminating the substrate.

【0012】本発明のさらに他の好ましい態様におい
て、遮蔽マスクによりフィルム基板に形成されたスルー
ホールおよびその開口部に形成されたランドを覆った
後、フィルム基板を加熱する。急激にフィルム基板を加
熱して電子部品をはんだ付けする場合、クリームはんだ
中のフラックスが飛散してスルーホールに入り込み、基
板の裏面や基板を固定するステージを汚染する恐れがあ
る。そこで、スルーホールやその開口部に形成されたラ
ンドを覆うように遮蔽マスクを配する。これにより、基
板裏面やステージが汚染されたり、はんだ付け後、基板
がステージからはずれにくくなることを防止することが
できる。なお、本発明は、フィルム基板に限らず、セラ
ミックス基板や銅張積層板等の他の回路基板への電子部
品の実装にも有用である。
In still another preferred embodiment of the present invention, the film substrate is heated after covering the through hole formed in the film substrate and the land formed in the opening thereof with a shielding mask. When the electronic component is soldered by rapidly heating the film substrate, the flux in the cream solder may scatter and enter the through-hole, thereby contaminating the back surface of the substrate and the stage for fixing the substrate. Therefore, a shielding mask is provided so as to cover the through hole and the land formed in the opening. Thereby, it is possible to prevent the back surface of the substrate and the stage from being contaminated and the substrate from being hardly detached from the stage after soldering. The present invention is not limited to a film substrate, but is also useful for mounting an electronic component on another circuit substrate such as a ceramic substrate or a copper-clad laminate.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の好ましい実施例をより詳細に
説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in more detail.

【0014】《実施例1》本実施例における電子部品実
装時の状態を図1に示す。遮蔽マスク5は、一辺が60
mmの正方形で厚さが1mmのステンレス鋼板で、その
周縁部に高さ2mmの枠部5bを有する。また、遮蔽マ
スク5の表面には長さが25mmで幅が10mmの長方
形の開口部5aが形成されている。フィルム基板1は、
厚さが50μmのポリイミド製で、その両面には金メッ
キおよびエッチングにより図2の(a)に示すような回
路パターンが形成されている。フィルム基板1の上面に
は電子部品を実装するためのランド1aが形成されてい
る。ランド1aには図2の(b)に示すようにクリーム
はんだ6が塗布されていて、さらにチップコンデンサ、
チップ抵抗器等の電子部品3が配されている。
Embodiment 1 FIG. 1 shows a state when electronic components are mounted in this embodiment. The shielding mask 5 has a side of 60
It is a stainless steel plate having a square shape of 1 mm and a thickness of 1 mm, and has a frame portion 5b with a height of 2 mm at the periphery. On the surface of the shielding mask 5, a rectangular opening 5a having a length of 25 mm and a width of 10 mm is formed. The film substrate 1
It is made of polyimide having a thickness of 50 μm, and a circuit pattern as shown in FIG. 2A is formed on both surfaces thereof by gold plating and etching. On the upper surface of the film substrate 1, a land 1a for mounting an electronic component is formed. As shown in FIG. 2B, a cream solder 6 is applied to the land 1a.
An electronic component 3 such as a chip resistor is provided.

【0015】フィルム基板1は、図1に示すように、基
板固定ステージ2の上面に配された後、吸気口2bによ
り吸引され、基板固定ステージ2の上面に密着して固定
される。熱源4は、基板固定ステージ2上に配されたフ
ィルム基板1を加熱する。遮蔽マスク5は、はんだ付け
しない電子部品3bを覆いかつその開口部5aがはんだ
付けしようとする電子部品3aの上方に位置するように
配される。
As shown in FIG. 1, the film substrate 1 is arranged on the upper surface of the substrate fixing stage 2, then sucked by the air inlet 2 b, and fixed to the upper surface of the substrate fixing stage 2. The heat source 4 heats the film substrate 1 arranged on the substrate fixing stage 2. The shielding mask 5 covers the electronic component 3b not to be soldered, and is arranged such that the opening 5a is located above the electronic component 3a to be soldered.

【0016】遮蔽マスク5を隔てて対向して配された熱
源4より、フィルム基板1に向けて15秒間熱線を放射
し、そのときのフィルム基板1の温度プロファイルを測
定した。なお、フィルム基板1上の、遮蔽マスク5の開
口部の周縁から1cm外側の遮蔽マスク5で覆われてい
る箇所で温度を測定した。また、比較例として、遮蔽マ
スク5を用いずに、フィルム基板1を直接熱源4に対向
させてフィルム基板1を加熱した。そのときの同箇所に
おける温度プロファイルを同様に測定した。その結果を
図3に示す。図3より明らかなように、遮蔽マスクを用
いることにより、フィルム基板の加熱を必要としない箇
所に加わる熱を低減することができ、フィルム基板の熱
変形を抑制することができる。
A heat ray was radiated toward the film substrate 1 for 15 seconds from the heat source 4 disposed opposite to the light-shielding mask 5 and the temperature profile of the film substrate 1 at that time was measured. The temperature was measured at a position on the film substrate 1 covered by the shielding mask 5 1 cm outside the periphery of the opening of the shielding mask 5. Further, as a comparative example, the film substrate 1 was heated by directly facing the heat source 4 without using the shielding mask 5. At that time, the temperature profile at the same location was measured in the same manner. The result is shown in FIG. As is clear from FIG. 3, by using the shielding mask, heat applied to a portion of the film substrate that does not require heating can be reduced, and thermal deformation of the film substrate can be suppressed.

【0017】《実施例2》同一の遮蔽マスクを用いて繰
り返しはんだ付けを行うと、遮蔽マスク自体が高温にな
って、その効果が得られにくくなる。そこで、本実施例
では、遮蔽マスクの材質について検討する。厚さ1mm
の銅板を用いて実施例1と同様に遮蔽マスク5を作製
し、実施例1と同様にはんだ付けを行った。実施例1の
遮蔽マスクの材料に用いたステンレス鋼と比べて、本実
施例の遮蔽マスクの材料に用いた銅は熱伝導率が高く、
高温時の放熱性が高い。
<< Embodiment 2 >> When soldering is repeatedly performed using the same shielding mask, the temperature of the shielding mask itself becomes high, and it is difficult to obtain the effect. Therefore, in the present embodiment, the material of the shielding mask will be examined. 1mm thick
The shielding mask 5 was produced using the copper plate of Example 1 in the same manner as in Example 1, and soldering was performed in the same manner as in Example 1. Compared to stainless steel used for the material of the shielding mask of Example 1, copper used for the material of the shielding mask of this example has a higher thermal conductivity,
High heat dissipation at high temperatures.

【0018】実施例1のステンレス鋼製遮蔽マスクと本
実施例の銅製遮蔽マスクのそれぞれを用いて、15秒間
加熱するはんだ付けを20秒周期で繰り返した。そのと
きの本実施例の銅製遮蔽マスク5の温度プロファイル
を、図4の(a)に示す。あわせて実施例1で用いた遮
蔽マスクを用いたときの遮蔽マスクの温度プロファイル
を、図4の(b)に示す。
Using the stainless steel shielding mask of Example 1 and the copper shielding mask of this example, soldering for 15 seconds was repeated at a cycle of 20 seconds. FIG. 4A shows the temperature profile of the copper shielding mask 5 of this embodiment at that time. FIG. 4B shows a temperature profile of the shielding mask when the shielding mask used in Example 1 is used.

【0019】また、このときのはんだ付け部の温度プロ
ファイルを測定した。本実施例の遮蔽マスクを用いたと
きの結果を図5の(a)に、実施例1の遮蔽マスクを用
いたときの結果を(b)にそれぞれ示す。これらの結果
より明らかなように、放熱性に優れる銅製の遮蔽マスク
を用いることにより、ステンレス鋼製の遮蔽マスクを用
いた場合と比べて、繰り返しはんだ付けを行ったときの
遮蔽マスク5およびはんだ付け部の温度上昇が抑制され
る。すなわち、より熱伝導率の高い材料からなる遮蔽マ
スクを用いることにより、連続したはんだ付けにおいて
も、はんだ付け部の温度を上昇させずに安定して確実な
電子部品の実装が可能になる。
At this time, the temperature profile of the soldered portion was measured. FIG. 5A shows the result when the shielding mask of the present embodiment is used, and FIG. 5B shows the result when the shielding mask of the first embodiment is used. As is clear from these results, the use of the shielding mask made of copper, which is excellent in heat dissipation, makes the shielding mask 5 and the soldering when repeated soldering is performed, as compared with the case where the shielding mask made of stainless steel is used. The temperature rise of the part is suppressed. That is, by using a shielding mask made of a material having higher thermal conductivity, even in continuous soldering, stable and reliable mounting of electronic components can be performed without increasing the temperature of the soldered portion.

【0020】《実施例3》本実施例では、遮蔽マスクの
表面に熱線反射膜を形成することにより、遮蔽マスクの
温度上昇を防ぐ方法について説明する。実施例2で用い
たものと同様の銅製の遮蔽マスクの表面にそれぞれ厚さ
0.5μmの金膜をメッキにより形成した。この金膜を
備えた遮蔽マスクを用いて、実施例2と同様に繰り返し
はんだ付けを行った。そのときの遮蔽マスク5の温度プ
ロファイルを図6の(a)に示す。比較として実施例2
の遮蔽マスク5の温度プロファイルを図6の(b)に示
す。なお、熱源4には波長が0.8〜2.5μmの近赤
外線光源を用いた。また、このときのはんだ付け部の温
度プロファイルをそれぞれ測定した。その結果をそれぞ
れ図7の(a)および(b)に示す。
Embodiment 3 In this embodiment, a method for preventing a rise in the temperature of the shielding mask by forming a heat ray reflective film on the surface of the shielding mask will be described. A 0.5 μm-thick gold film was formed on each surface of a copper shielding mask similar to that used in Example 2 by plating. Using the shielding mask having the gold film, soldering was repeatedly performed in the same manner as in Example 2. FIG. 6A shows a temperature profile of the shielding mask 5 at that time. Example 2 for comparison
The temperature profile of the shielding mask 5 is shown in FIG. Note that a near-infrared light source having a wavelength of 0.8 to 2.5 μm was used as the heat source 4. Further, the temperature profile of the soldered portion at this time was measured. The results are shown in FIGS. 7A and 7B, respectively.

【0021】図6および図7より明らかなように、表面
に金からなる反射膜を備えた遮蔽マスクを用いることに
より遮蔽マスクの温度上昇は抑制され、はんだ付け部分
の温度上昇も抑制される。これは、照射された近赤外線
を反射膜により反射させることができるためである。こ
のように、遮蔽マスク表面に熱線に対する反射膜を形成
することにより、同じ遮蔽マスクを繰り返しはんだ付け
に用いてもはんだ付け温度を上昇させず、安定かつ確実
なはんだ付けが可能になる。また、近赤外線の波長域
(0.8〜2.5μm)に対する反射率が高い銀を遮蔽
マスク5の表面にめっきしても同様の効果が得られた。
As is clear from FIGS. 6 and 7, the use of a shielding mask having a reflective film made of gold on the surface suppresses a rise in the temperature of the shielding mask and a temperature in the soldered portion. This is because the irradiated near infrared rays can be reflected by the reflection film. As described above, by forming the heat-reflective film on the surface of the shielding mask, even if the same shielding mask is repeatedly used for soldering, the soldering temperature does not increase, and stable and reliable soldering can be performed. The same effect was obtained by plating silver on the surface of the shielding mask 5 with high reflectivity in the near-infrared wavelength region (0.8 to 2.5 μm).

【0022】《実施例4》上記実施例のように、フィル
ム基板を局所的に加熱すると、加熱された箇所が熱によ
り変形しやすい。そこで、本実施例では、局所的な加熱
においてフィルム基板の変形を抑えることができる方法
について説明する。本実施例では、図8に示すように、
実施例2で用いたものと同様の銅製でその開口部5aの
周縁部に下方に突出した筒部5cを備えた遮蔽マスク5
を用いた。筒部5cは、フィルム基板1上に配置したと
きにフィルム基板1の上面を下方に押さえつける。これ
により加熱時にフィルム基板1を押さえつけることによ
り、その変形を抑制する。実際にこの遮蔽マスク5を用
いて、実施例2と同様にして繰り返しはんだ付けを行っ
たところ、フィルム基板の 熱変形は実施例2のフィル
ム基板のそれよりも小さかった。また、フラックスの吸
い込みによる汚染も僅かであった。すなわち、本実施例
のように基板押さえ部の形状を筒状にすることにより、
基板を加熱する際に、クリームはんだの中に含まれるフ
ラックスが基板押さえ部により隔てられた部位へ飛散す
るのを抑制する効果も得られる。
Embodiment 4 When the film substrate is locally heated as in the above embodiment, the heated portion is easily deformed by heat. Therefore, in this embodiment, a method for suppressing deformation of the film substrate due to local heating will be described. In this embodiment, as shown in FIG.
A shielding mask 5 made of copper similar to that used in Example 2 and having a cylindrical portion 5c protruding downward at the periphery of the opening 5a.
Was used. The cylindrical portion 5c presses the upper surface of the film substrate 1 downward when placed on the film substrate 1. Thereby, the deformation is suppressed by pressing down the film substrate 1 at the time of heating. When the soldering was actually performed repeatedly using this shielding mask 5 in the same manner as in Example 2, the thermal deformation of the film substrate was smaller than that of the film substrate of Example 2. Further, the contamination due to the suction of the flux was slight. That is, by making the shape of the substrate holding portion cylindrical as in the present embodiment,
When the substrate is heated, an effect of suppressing the flux contained in the cream solder from being scattered to a portion separated by the substrate pressing portion can also be obtained.

【0023】《実施例5》フィルム基板に限らずプリン
ト配線板の多くは、その両面に回路が形成されていて、
図9に示すように、両面を電気的に接続するためのスル
ーホール8が設けられている。スルーホール8はその壁
面がめっき処理された貫通孔であるから、このスルーホ
ール8の近傍のランドにクリームはんだを用いて電子部
品を実装すると、クリームはんだ中のフラックスが飛散
する。飛散したフラックスがスルーホール8を通じて基
板裏面に達すると、基板の裏面や基板を固定しているス
テージを汚染したり、はんだ付け後に基板が基板固定ス
テージからはずれにくくなることが懸念される。そこ
で、フィルム基板1の上に電子部品を実装する際に、図
9に破線で示すように、基盤押さえ部を備えた遮蔽マス
クをその開口部5aの下方にスルーホール8が位置しな
いように配すると、クリームはんだ中のフラックスが飛
散してスルーホール8内に侵入するのを防ぐことができ
る。なお、実際の回路設計段階においては、電子部品搭
載用のランドの周縁にはスルーホールを設けないことが
望まれる。
Embodiment 5 Not only a film substrate but also many printed wiring boards have circuits formed on both surfaces thereof.
As shown in FIG. 9, a through hole 8 for electrically connecting both surfaces is provided. Since the through hole 8 is a through hole whose wall surface is plated, when an electronic component is mounted on the land near the through hole 8 using cream solder, the flux in the cream solder is scattered. If the scattered flux reaches the back surface of the substrate through the through hole 8, there is a concern that the back surface of the substrate and the stage that fixes the substrate are contaminated, and that the substrate is less likely to come off the substrate fixing stage after soldering. Therefore, when mounting the electronic component on the film substrate 1, as shown by a broken line in FIG. Then, it is possible to prevent the flux in the cream solder from scattering and entering the through hole 8. In an actual circuit design stage, it is desired that no through-hole is provided on the periphery of the land for mounting electronic components.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、基板の変形やクリーム
はんだに含まれるフラックスによる汚染を防いで安定し
てフィルム基板へ電子部品を実装することができる。
According to the present invention, it is possible to stably mount an electronic component on a film substrate while preventing deformation of the substrate and contamination by flux contained in the cream solder.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例において、フィルム基板上に
電子部品をはんだ付けしている状態を示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a state where an electronic component is soldered on a film substrate in one embodiment of the present invention.

【図2】同フィルム基板上に電子部品を配置した状態を
示す図であって、(a)は平面図であり、(b)は縦断
面図である。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing a state in which electronic components are arranged on the film substrate, wherein FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a longitudinal sectional view.

【図3】同基板加熱時のフィルム基板の温度プロファイ
ルを示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a temperature profile of a film substrate when the substrate is heated.

【図4】本発明の実施例に用いた遮蔽マスクの基板加熱
時の温度プロファイルを示すグラフであって、(a)は
銅製の遮蔽マスクを用いたときを、(b)はステンレス
鋼製の遮蔽マスクを用いたときをそれぞれ示す。
4A and 4B are graphs showing a temperature profile of a shielding mask used in an example of the present invention when a substrate is heated, wherein FIG. 4A shows a case where a copper shielding mask is used, and FIG. The case where a shielding mask is used is shown.

【図5】同基板加熱時のはんだ付け部の温度プロファイ
ルを示すグラフであって、(a)は銅製の遮蔽マスクを
用いたときを、(b)はステンレス鋼製の遮蔽マスクを
用いたときをそれぞれ示す。
5A and 5B are graphs showing a temperature profile of a soldered portion when the substrate is heated, wherein FIG. 5A shows a case where a copper shielding mask is used, and FIG. 5B shows a case where a stainless steel shielding mask is used. Are respectively shown.

【図6】本発明の他の実施例に用いた遮蔽マスクの基板
加熱時の温度プロファイルを示すグラフであって、
(a)は熱線反射膜を有する遮蔽マスクを用いたとき
を、(b)は熱線反射膜を有さない遮蔽マスクを用いた
ときをそれぞれ示す。
FIG. 6 is a graph showing a temperature profile when a substrate is heated by a shielding mask used in another embodiment of the present invention,
(A) shows a case where a shielding mask having a heat ray reflecting film is used, and (b) shows a case where a shielding mask having no heat ray reflecting film is used.

【図7】同はんだ付け部の温度プロファイルを示すグラ
フであって、(a)は熱線反射膜を有する遮蔽マスクを
用いたときを、(b)は熱線反射膜を有さない遮蔽マス
クを用いたときをそれぞれ示す。
7A and 7B are graphs showing a temperature profile of the soldered portion, in which FIG. 7A shows a case where a shielding mask having a heat ray reflecting film is used, and FIG. 7B shows a case where a shielding mask having no heat ray reflecting film is used. Each time is shown.

【図8】本発明のさらに他の実施例において、フィルム
基板上に電子部品をはんだ付けしている状態を示す縦断
面図である。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a state where an electronic component is soldered on a film substrate in still another embodiment of the present invention.

【図9】本発明のさらに他の実施例において、フィルム
基板上に遮蔽マスクを配置した状態を示す要部の平面図
である。
FIG. 9 is a plan view of a main part showing a state where a shielding mask is arranged on a film substrate in still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フィルム基板 1a ランド 2 基板固定ステージ 2a 吸気口 3、3a、3b 電子部品 4 熱源 5 遮蔽マスク 5a 開口部 5b 枠部 5c 筒部 6 クリームはんだ 8 スルーホール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film board 1a Land 2 Substrate fixed stage 2a Intake port 3, 3a, 3b Electronic component 4 Heat source 5 Shielding mask 5a Opening 5b Frame 5c Tubular part 6 Cream solder 8 Through hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北山 喜文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 末次 憲一郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E319 AA03 AC03 BB05 CC33 CD32 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Yoshifumi Kitayama 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Terms (reference) 5E319 AA03 AC03 BB05 CC33 CD32

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム基板の部品実装面に形成された
ランド上の所定の箇所にクリームはんだを塗布する工程
と、前記クリームはんだに接するように電子部品を配置
する工程と、前記フィルム基板をステージ上に固定する
工程と、前記フィルム基板の部品実装面に対向して配さ
れた熱源により前記フィルム基板を加熱して前記クリー
ムはんだを溶融固化させて、前記電子部品を前記フィル
ム基板上に実装する工程とを具備し、前記フィルム基板
の加熱に先だって、前記フィルム基板のはんだ付けしよ
うとする箇所に対応した箇所に開口部を有する遮蔽マス
クを、前記フィルム基板と前記熱源の間に配することを
特徴とする電子部品実装方法。
A step of applying cream solder to a predetermined location on a land formed on a component mounting surface of the film substrate; a step of arranging an electronic component so as to be in contact with the cream solder; Fixing the electronic component on the film substrate by heating the film substrate with a heat source disposed opposite to the component mounting surface of the film substrate to melt and solidify the cream solder. Prior to heating the film substrate, disposing a shielding mask having an opening at a location corresponding to a location to be soldered on the film substrate between the film substrate and the heat source. Characteristic electronic component mounting method.
【請求項2】 前記遮蔽マスクが、銅、真鍮およびアル
ミニウムからなる群より選択される材料からなる請求項
1記載の電子部品実装方法。
2. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein said shielding mask is made of a material selected from the group consisting of copper, brass and aluminum.
【請求項3】 前記遮蔽マスクの厚さが2mm以下であ
る請求項1記載の電子部品実装方法。
3. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the thickness of the shielding mask is 2 mm or less.
【請求項4】 前記遮蔽マスクが、その表面に前記熱源
からの熱線を反射するための反射膜を備えた請求項1記
載の電子部品実装方法。
4. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the shielding mask has a reflection film on a surface thereof for reflecting heat rays from the heat source.
【請求項5】 前記遮蔽マスクが、前記開口部の周縁部
またはその近傍にフィルム基板側に突出した基板押さえ
部を備えた請求項1記載の電子部品実装方法。
5. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the shielding mask includes a substrate pressing portion protruding toward the film substrate at or near a peripheral portion of the opening.
【請求項6】 前記遮蔽マスクが、前記フィルム基板に
形成されたスルーホールおよびその開口部に形成された
ランドを覆う請求項1記載の電子部品実装方法。
6. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the shielding mask covers a through hole formed in the film substrate and a land formed in the opening.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009212431A (en) * 2008-03-06 2009-09-17 Seiko Epson Corp Reflow device and method of manufacturing semiconductor device

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