JP2000137181A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のマルチビーム走査光学系ではビーム間
を調整するナイフエッジ後にあるフォトセンサーを受光
面積の大きいものを使用し、センサー部のスペース、セ
ンサーの選択余地が少ない。またナイフエッジ部でのビ
ーム径をピッチ調整に適したサイズに変えることができ
ないという問題がある。 【解決手段】 センサー部１１への光路、ビームスプリ
ッタ４とフォトセンサー１２の光路に集光レンズ５１を
設けることで、フォトセンサー１２を省スペース化し、
また集光レンズ５１によってナイフエッジ１３での副走
査方向のビーム径を調整に最適なサイズに調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビーム走査するこ
とで画像を形成する電子写真装置等のビーム走査装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、ビーム走査光学系は電子写真
プロセスおける画像書き込みとして用いられ、コンピュ
ータやファクシミリの出力装置であるレーザビームプリ
ンタ、レーザＦＡＸ等に搭載されている。最近では高
速、高解像度をさらに上げるため、複数のビームによる
走査光学装置への要求が高まりつつある。

【０００３】以下に、従来のマルチビームを走査するマ
ルチビーム走査光学装置について説明する。

【０００４】図７は従来のマルチビーム走査光学装置の
説明図である。図７において、１ａ、１ｂは第一光源、
第二光源、２ａ、２ｂは光源からのビームを概平行光と
するコリメータレンズ、３ａ、３ｂは副走査方向にビー
ムを絞り込むシリンドリカルレンズ、４は２つ光源から
のビームの光軸を合わせるためのビームスプリッタ、５
はビームを偏向する偏向器、６は偏向器５の偏向面、７
は偏向されたビームを被走査面上に結像させる走査レン
ズ系、８はビームを被走査面に導くためのミラー、９は
各ビームの同期を検出する同期検出器、１０は被走査
面、１１は偏向面６と光学的に等価な位置に設けられた
センサー部、１２はフォトセンサー、１３はナイフエッ
ジ、１４はシリンドリカルレンズ３ａを副走査方向に移
動させる光路補正機構、１５は光路補正機構１４を駆動
させる光路補正駆動回路、１６はハウジング、１７は光
源１ａからのビーム、１８は光源１ｂのビーム、１９は
光源１ａの駆動回路、２０は光源１ｂの駆動回路、２１
はフォトセンサー１２の基板である。

【０００５】以上のように構成されたマルチビーム走査
光学装置について以下にその動作を説明する。

【０００６】各光源１ａ、１ｂからのビームはコリメー
タレンズ２ａ、２ｂによって概平行光に整形される。整
形された各々のビームはシリンドリカルレンズ３ａ、３
ｂによって副走査方向のみ集光され、ビームスプリッタ
４によって光軸を合せ、偏向器５の偏向面６に照射させ
る。偏向面６に照射されたビームは偏向器５によって偏
向され、走査レンズ系７により被走査面１０で集光、等
速で走査する。毎回走査されるビームの同期は被走査面
１０の画像領域を走査する前の位置にある同期検出器９
をビームが通過することで検出し、同期検出後、所定の
タイミングで被走査面１０を画像データに応じたビーム
照射を行う。ビーム照射される被走査面１０は副走査方
向に移動するため、被走査面１０上に２次元の画像デー
タに対応したビーム照射像を得ることになる。マルチビ
ーム走査光学装置は走査するビームが２つのビームで行
うため、１のビームで走査する場合に比べ、分解像度、
あるいは印字速度を向上することができる。

【０００７】このようなマルチビーム走査光学装置での
重要な課題は走査される２つのビームピッチ（副走査方
向のビーム間隔）を精度良く合わせることである。

【０００８】図８は、従来のマルチビーム走査光学装置
における走査例の説明図であり、（ａ）はビームピッチ
が所定値に合されている場合の画像、（ｂ）は合わされ
ていない場合の画像を表わしている。図８（ｂ）のよう
にビームピッチが合っていないと、ビームの走査毎にラ
イン間隔の狭い部分と広い部分が表れ、画像を著しく劣
化させていることがわかる。このようなマルチビーム走
査光学装置でのビームピッチを組立時に所定値に合わせ
て固定できれば良い訳であるが、実際は、経時変化、環
境変化等によってビームピッチを長期に亘って精度良く
保つことは難しい。そのため、ビームピッチを何らかの
調整手段によって印字開始前に合わせる方法が用いられ
ている。

【０００９】次に、このビームピッチ合わせについて説
明する。図７に示すように、ビームピッチ合わせは、光
路補正機構１４が設けられていない第二光源１ｂのビー
ムを基準に第一光源１ａのビームを所定のビームピッチ
に合せるような調整を行う。先ず、第二光源１ｂのビー
ムを照射させ、ビームスプリッタ４によって偏向面６と
は別の方向（センサー部１１への方向）に出射されるビ
ームを用いてビームの位置を検出する。ナイフエッジ１
３は光学的に偏向面６と等価な位置に設けられており、
ナイフエッジ１３のエッジ部は所定の副走査方向の位置
に設定されている。従って、第二光源１ｂからにビーム
はこのナイフエッジ１３によってビームの一部が遮ら
れ、フォトセンサー１２に入射する光量を変化させる。

【００１０】この時のナイフエッジ１３とビームの位置
関係を図９に示す。図９の横軸はナイフエッジ１３を原
点にとったビームまでの距離を示している。ナイフエッ
ジ１３に遮断される方向をマイナス、その反対の方向を
プラスとしている。また縦軸はビームの各位置における
光量に比例するセンサー出力を表わしている。（ａ）位
置にビームがある場合、ビームはナイフエッジ１３に遮
られるので、センサー出力はＰａとなり、（ｂ）、
（ｃ）位置にビームがある場合はそれぞれ、Ｐｂ，Ｐｃ
のセンサー出力を示す。ナイフエッジ１３にビームが近
接すると、ナイフエッジ１３との距離によってセンサー
出力が急激に変化するため、数十μｍ間隔のビーム位置
を精度良く検出することができる。センサー出力の距離
による出力曲線はナイフエッジ１３での副走査方向のビ
ーム径によって決定される。このようにセンサー出力か
らビームがナイフエッジ１３とどの程度離れた距離にあ
るかを検出することが可能となる。

【００１１】図１０（ａ）は従来のマルチビーム走査光
学装置のビームピッチに関係する部分のみ取り出した図
であり、図１０（ｂ）はセンサー部１１のナイフエッジ
１３でのビーム形状を表している。図１０からわかるよ
うに、ナイフエッジ１３でのビーム形状は副走査方向に
はシリンドリカルレンズ３ａ、３ｂで集光された線状で
ある。これは偏向器５の面倒れを補正するためで、副走
査方向に対して偏向面６と被走査面１０を光学的に共役
関係をとる必要があり、副走査方向を点光源に近い構成
とするためである。このような理由で偏向面６及び偏向
面６と光学的に等価な位置にあるナイフエッジ１３での
ビーム形状は横長なビームとなっている。

【００１２】ナイフエッジ１３に対する第二光源１ｂの
位置を検出した後、第二光源１ｂの照射をやめ、第一光
源１ａの照射を行う。第一光源１ａのビームがナイフエ
ッジ１３によって遮られる光量によって第二光源１ｂの
副走査位置を検出し、光路補正機構１４によってシリン
ドリカルレンズ３ａの位置を副走査方向に移動させる。
ビームはシリンドリカルレンズ３ａの副走査方向の移動
に伴って偏向面でのビーム位置を変えていく。

【００１３】例えば、図９で第二光源１ｂからのビーム
がａの位置にあった場合、第一光源１ａビームをシリン
ドリカルレンズ３ａによって移動させ、センサー出力が
Ｐｃとなる点で止めれば、ビームピッチは偏向面６でＬ
の距離で調整されたことになる。ビームピッチに応じた
ビーム移動の制御は、センサー出力Ｐｂよりセンサー出
力が低い時をＬレベル、高い時をＨレベルとし、光路補
正機構１４によってシリンドリカルレンズ３ａを副走査
方向に移動させる。センサー出力がＨの場合はＬレベル
になる方へシリンドリカルレンズ３ａを、またＨレベル
の場合はＬレベルになる方向にシリンドリカルレンズ３
ａを移動させ、レベル変化を生じた点で停止する方法が
ある。Ｐｃレベルの設定には、光学装置を組む際にビー
ムピッチが所定の間隔になるように可変ボリューム等を
調整しておけばよい。一度Ｐｃを設定しておけば、ビー
ム照射前、あるいは定期的にピッチ合わせを実効するこ
とで、長期に亘ってビームピッチの精度を保つことがで
きる。

【００１４】以上のような調整を行うことで、２つのビ
ームピッチ精度の良いマルチビーム走査光学装置で提供
することができる。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成ではナイフエッジ１３でのビーム形状が主走査
方向に長い形状となっていたため、ビームのすべての光
量をフォトセンサー１２に照射するには受光面の大きな
ものを用いる必要があり、汎用のフォトセンサー１２で
の選択余地は少ない。また、組立によるフォトセンサー
１２への光路バラツキやフォトセンサー１２の取付位置
バラツキがあるので、フォトセンサー１２へビームの光
量を全て入射することは難しい。更に、ナイフエッジ１
３での副走査方向のビーム径によってピッチ補正できる
範囲が決定されるため、合わせるビームピッチ値によっ
てはピッチ補正可能な範囲を越え、ピッチ補正を精度良
くできないという問題を有していた。

【００１６】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、受光面の小さいセンサーを使用でき、省スペース
化、センサーのＳ／Ｎ比の向上、部品、センサー等の取
付精度の緩和、ピッチ調整範囲の最適化が可能なマルチ
ビーム走査光学装置を提供することを目的としている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、ビームピッチ調整に用いるフォトセンサ
ーの受光面にビームが照射するようビームスプリッタと
フォトセンサーの光路にレンズを設けたことにより、小
さな受光面のフォトセンサーでも光量をほとんど照射で
き、Ｓ／Ｎ比を向上し、また組立時でのセンサー部への
光路ズレも小さくできる。

【００１８】また、レンズとして主走査方向のみ集光さ
せるシリンドリカルレンズを用いることで、副走査方向
のビーム径（パワー分布）はシリンドリカルレンズのな
い状態とほぼ同じであり、副走査方向のピッチを精度良
く検出できる。

【００１９】また、主副走査方向に集光させるレンズを
用いることで、ナイフエッジでビームピッチを調整でき
る範囲を適切なものに設定することができる。

【００２０】また、主走査方向を集光させるシリンドリ
カルレンズを光軸中心に回転させることで、ナイフエッ
ジでのビームピッチ調整に適した副走査方向のビーム径
に簡単に調整することができる。

【００２１】また、センサー部のナイフエッジを副走査
方向に移動できる構成することでビームピッチに適した
ナイフエッジの位置調整が容易となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、２つの光源と、前記２つの光源を独立に駆動する駆
動回路と、前記２つの光源を概平行光に整形する各々の
コリメータレンズと、前記コリメータレンズから出射す
るビームを副走査方向（偏向器の回転軸方向）のみ集光
させるシリンドリカルレンズと、前記２つの光源から出
射されるビームの光軸を概略一致させるビームスプリッ
タと、前記ビームスプリッタから出射されたビームの前
記シリンドリカルレンズの集光点近傍に偏向面を有する
偏向器と、前記偏向器で偏向されたビームを被走査面で
走査させる走査レンズ系と、各々のビームの同期を検出
する同期検出器と、前記光源と前記偏向器の間に設けら
れた前記２つの光源のうち少なくとも１つのビームを副
走査方向に移動させる光路補正機構と、前記ビームスプ
リッタから前記偏向面とは別な方向に出射されるビーム
の前記偏向面と光学的に等価な位置に設けられたナイフ
エッジを有するセンサー部と、前記ビームスプリッタと
前記センサー部の間に設けられた集光レンズと、前記セ
ンサー部の出力により前記光路補正機構を制御する光路
制御回路部を有することを特徴とするマルチビーム走査
光学装置であり、センサー部へのビームを絞ることで受
光面の小さなセンサー使用を可能とし省スペース化、組
立でのセンサー部への光路ズレの低減、センサーのＳ／
Ｎのアップを図る作用を有する。

【００２３】本発明の請求項２に記載の発明は前記集光
レンズが主走査方向を集光するシリンドリカルレンズで
あることを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム走
査光学装置であり、請求項１の作用に加え、主走査方向
のビームのみを絞ることでナイフエッジ部の副走査方向
のビーム径を変えずにフォトセンサーへ照射する光量を
増加させる作用を有する。

【００２４】本発明の請求項３に記載の発明は前記集光
レンズが主走査副及び走査方向に集光するレンズである
ことを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム走査光
学装置であって、請求項２の作用に加えてナイフエッジ
部での副走査方向のビーム径を最適化することで、ナイ
フエッジを用いた位置検出範囲を最適化するし、また小
さな受光面積のフォトセンサーを使用できる作用を有す
る。

【００２５】本発明の請求項４に記載の発明は前記集光
レンズが主走査方向を集光するシリンドリカルレンズで
あって、光軸を中心に回転可能であることを特徴とする
請求項１に記載のマルチビーム走査光学装置であって、
ピッチ調整を行う際、副走査方向のビーム径をわずか変
化させ、ピッチ調整に適した副走査方向のビーム径に合
せる作用を有する。

【００２６】本発明の請求項５に記載の発明は前記ナイ
フエッジを副走査方向に移動できる構成であることを特
徴とする請求項１から４に記載のマルチビーム走査光学
装置であって、挿入したレンズによってナイフエッジの
基準位置とセンサーへのビームの位置にズレを生じた場
合、ナイフエッジの副走査方向の補正を行う作用を有す
る。

【００２７】以下、本発明の一実施の形態に係るマルチ
ビーム走査光学装置について説明する。

【００２８】図１は本発明の一実施の形態に係るマルチ
ビーム走査光学装置の構成図であり、本装置のビームピ
ッチに関する部分の構成を示している。従来の技術と異
なる点は、ビームスプリッタとフォトセンサーの間に集
光レンズを設けたことである。図１の５１は集光レン
ズ、５２はフォトセンサーの受光面である。マルチビー
ム走査光学装置の動作は従来の技術と同様であるため、
説明を省略し、集光レンズ５１を用いた場合のピッチ調
整について以下に説明を行う。各光源１ａ、１ｂから射
出されたビームはビームスプリッタ４を通過後、集光レ
ンズ５１によってビームが主走査方向に絞られる。集光
レンズ５１にシリンドリカルレンズを用いた場合、主走
査方向のみビームを絞ることができる。よって、図１の
ようにセンサー部１１で従来線状の形状であったもの
が、小さな円形に近いビームに整形される。このように
ビームを小さくすることで、受光面積が小さいフォトセ
ンサー１２でも光源からのビームの殆どを受光すること
ができる。また、集光レンズ５１にてビームの光路は光
軸方向に補正されるため、組立時によるフォトセンサー
１２への光路バラツキを抑えることになり、作業性の向
上が図られる。

【００２９】更に、ビームの殆どを受光できるので、図
２に示すような受光光量のバラツキによるセンサー出力
曲線が生じることなく、一定のセンサー出力曲線を得る
ことができる。図２はフォトセンサー１２にビームが全
部入射できる位置に調整された場合（ｂ）とフォトセン
サー１２にビームが全て入射できない場合（ａ、ｃ）で
のナイフエッジ１３とセンサー出力曲線の違いを示して
いる。このようにセンサー出力曲線が一定であれば、セ
ンサー出力回路での定数設定、ならびに調整の作業性、
光学装置の不良確認作業を向上できる。また、集光レン
ズ５１の設置位置はビームスプリッタ４とナイフエッジ
１３間、ナイフエッジ１３とフォトセンサー１２間の２
通りが考えられるが、どちらでも良い。前者の場合は、
ナイフエッジ１３とフォトセンサー１２のスペースを小
さくとることと、ナイフエッジ１３での副走査方向のビ
ーム径を変えられる事ができる。後者の場合は、ナイフ
エッジ１３でのビームは偏向面６と全く同じ条件でピッ
チ合せを行える。どちらを選択するかはマルチビーム走
査光学装置レイアウト、ビームピッチ仕様によって決定
すればよい。

【００３０】ここで、偏向面６でのビーム径について簡
単に説明する。従来の技術の欄で述べたように、偏向器
５の面倒れを緩和するため、走査レンズ系７は偏向面６
と被走査面１０が副走査方向に対して光学的に共役関係
になるように設計されている。この関係を図３に示す。
走査レンズ系７の副走査方向の倍率をＭ、被走査面１０
での副走査方向のビーム径をＷとすると、偏向面６での
ビーム径Ｗ０はＷ０＝Ｗ／Ｍとなる。従って被走査面１
０の副走査方向のビーム径が決定すれば、偏向面６での
ビーム径も決定される。ナイフエッジ１３を用いてビー
ムの副走査方向を検出するには、偏向面６での副走査方
向のビームによって精度良く検出できる範囲が左右され
る。図４は偏向面６でのビーム径によってビーム位置と
センサー出力曲線の変化を示している。Ｂ１、Ｂ２，Ｂ
３（Ｂ１＜Ｂ２＜Ｂ３）はナイフエッジ１３でのビーム
径を意味し、順にビーム径が大きくなっている。ビーム
径がＢ１のように小さければ、ナイフエッジで１３のビ
ームの位置に対するセンサー出力曲線はカーブが急とな
り、ビーム位置に対する感度は高くなる代わりに、ビー
ム位置の検出範囲は狭い。反対にナイフエッジ１３での
ビーム径がＢ３のように大きければ、ナイフエッジ１３
でのビームの位置に対するセンサー出力曲線は緩やかに
なり、ビーム位置に対する感度は低くなる代わりに、ビ
ームの位置検出の範囲は広い。

【００３１】例えば、図４で第二光源１ｂのビーム位置
がＰｏｓ１であり、２つのビームピッチをＬ（第一光源
１ａのビームをＰｏｓ２に合せる）にする場合について
考えてみる。この時、ナイフエッジ１３でのビーム径と
してはＢ１ではビーム位置に関する感度は全体的に高い
が、Ｐｏｓ２の位置で感度は緩やかになっている。Ｂ３
でビーム位置に関する感度は低下しているが、Ｐｏｓ２
の位置ではＢ１より大きな傾きを持つ。Ｂ２ではさらに
Ｐｏｓ２でビーム位置に関する傾きが大きいことからＢ
２のビーム径がビーム位置検出に適していることにな
る。

【００３２】このように、ビームピッチを合わせるには
ナイフエッジ１３での副走査方向のビーム径を最適な径
にすることが望ましいこととなる。従来のマルチ走査光
学装置では偏向面６とナイフエッジ１３でのビーム径は
同じであるため、ビームピッチとビーム径の関係によっ
てはビームの位置検出を精度良く行うことができないこ
とが有り得る。このような場合には、ナイフエッジ１３
のビーム径を位置検出に適した形状に変えるために、主
走査、副走査方向に集光する集光レンズ５１をビームス
プリッタ４とナイフエッジ１３の間に設け、ビーム位置
検出に適したビーム形成することが必要である。

【００３３】このことにより、ナイフエッジ１３でのビ
ーム形状を最適化でき、組立、調整に適した主走査方向
のビーム径とビームピッチ精度の高めるために適した副
走査方向のビーム径を得ることができる。

【００３４】図５は集光レンズ５１にシリンドリカルレ
ンズを用いる方法を示している。請求項１、２で記載し
たように主走査方向のビームを絞り込むために設けたシ
リンドリカルレンズを光軸中心に回転させることによっ
て、ビーム形状は図５のａ、ｂ、ｃのように変化してい
く。シリンドリカルレンズが回転されない時は主走査方
向のみ、ビームを絞るパワーが働いている。これをシリ
ンドリカルレンズの光軸に対し回転をさせることで、主
走査、副走査方向のレンズのパワーを僅かづつ変えるこ
とができる。

【００３５】従って、シリンドリカルレンズを回転し、
ビームピッチ調整に適した副走査方向のビームに調整す
るか、或いはシリンドリカルレンズを予め回転させた状
態で取付くようにすることで、主、副走査方向にパワー
の有る集光レンズ５１を用いた効果を得ることができ
る。

【００３６】ナイフエッジ１３の位置は光学的に基準位
置に設けられているが、光学系の組立によるバラツキ、
部品精度、または上記したように挿入した集光レンズ５
１等の影響で設けられたナイフエッジ１３の位置ではビ
ーム位置を検出できない場合が発生する。例えば、第二
光源１ｂからのビームがナイフエッジ１３によって完全
に遮断されたり、反対にほとんどのビームを透過するよ
うな場合は、ビームの位置を検出することはできない。
そのような場合にナイフエッジ１３を副走査方向に移動
させる機構を設け、ナイフエッジ１３がビームの位置検
出を行える位置に調整しなければならない。

【００３７】図６はナイフエッジを移動させる機構例を
示したものである。５１はベース、５２はシャフトＡ、
５３はシャフトＢ、５４はウオームホイール、５５はウ
オームギア、５６はステッピングモータ、５７はナイフ
エッジホルダーである。ステッピングモータの回転によ
ってウオームギア５５がウオームホイール５４を回転さ
せ、シャフトＡ５２が回転しシャフトＡ５２の下部のネ
ジ部によってナイフエッジホルダーのシャフトＢ５３に
沿って上下（副走査）方向に移動させる。この機構は光
路補正機構１４と同様なものである。第二光源１ｂのビ
ームは光路補正を行わないため、ナイフエッジ１３をこ
のビームの光量が所定値になるようにフォトセンサーか
らの出力を基に調整を行う。制御例としては従来の技術
でビーム位置を調整したと同じ方法で行うことができ
る。ナイフエッジ１３を徐々に副走査方向に移動させ、
フォトセンサー出力があるレベルに達した時点で停止さ
せる。

【００３８】このような機構を設ける利点は、基準とな
る第二光源１ｂのビームとナイフエッジとの距離を常に
一定保つことができるため、第一光源１ａのビームを合
せるためのフォトセンサー出力（図９でのＰｃ）を一定
にできることである。また、このような機構を設けず、
組立時のみナイフエッジ１３を調整し、ナイフエッジ１
３を固定させる簡素な構成でもよい。例えば、ナイフエ
ッジ１３を板バネで構成し、ネジにてナイフエッジ１３
の副走査方向の高さを調整するものでも構わない。

【００３９】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、２つの
ビームを同時に走査する走査光学系での大きな問題であ
る副走査方向のビームピッチを調整するナイフエッジで
のビームを調整しやすいビームに整形できるため、調整
精度、フォトセンサーの省スペース化、センサー出力の
Ｓ／Ｎ比向上、組立性向したマルチビーム走査光学装置
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係るマルチビーム走査
光学装置の構成図

【図２】ナイフエッジとビーム位置によるセンサー出力
曲線図

【図３】偏向面と被走査面との光学関係図

【図４】ナイフエッジとビームの位置関係を示す図

【図５】本発明の一実施の形態による集光レンズの説明
図

【図６】ナイフエッジを移動させる機構例を示す図

【図７】従来のマルチビーム走査光学装置の説明図

【図８】従来のマルチビーム走査光学装置における走査
例の説明図

【図９】ビーム径とビーム位置検出範囲図

【図１０】従来のマルチビーム走査光学装置の説明図

【符号の説明】

１ａ 第一光源 １ｂ 第二光源 ２ａ，２ｂ コリメータレンズ ３ａ，３ｂ シリンドリカルレンズ ４ ビームスプリッタ ５ 偏向器 ６ 偏向面 ７ 走査レンズ系 １１ センサー部 １２ フォトセンサー １３ ナイフエッジ １４ 光路補正機構 ５１ 集光レンズ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】２つの光源と、前記２つの光源を独立に駆
   動する駆動回路と、前記２つの光源を概平行光に整形す
   る各々のコリメータレンズと、前記コリメータレンズか
   ら出射するビームを副走査方向（偏向器の回転軸方向）
   のみ集光させるシリンドリカルレンズと、前記２つの光
   源から出射されるビームの光軸を概略一致させるビーム
   スプリッタと、前記ビームスプリッタから出射されたビ
   ームの前記シリンドリカルレンズの集光点近傍に偏向面
   を有する偏向器と、前記偏向器で偏向されたビームを被
   走査面で走査させる走査レンズ系と、各々のビームの同
   期を検出する同期検出器と、前記光源と前記偏向器の間
   に設けられた前記２つの光源のうち少なくとも１つのビ
   ームを副走査方向に移動させる光路補正機構と、前記ビ
   ームスプリッタから前記偏向面とは別な方向に出射され
   るビームの前記偏向面と光学的に等価な位置に設けられ
   たナイフエッジを有するセンサー部と、前記ビームスプ
   リッタと前記センサー部の間に設けられた集光レンズ
   と、前記センサー部の出力により前記光路補正機構を制
   御する光路制御回路部を有することを特徴とするマルチ
   ビーム走査光学装置。
2. 【請求項２】前記集光レンズは主走査方向を集光するシ
   リンドリカルレンズであることを特徴とする請求項１に
   記載のマルチビーム走査光学装置。
3. 【請求項３】前記集光レンズは主走査副及び走査方向に
   集光するレンズであることを特徴とする請求項１に記載
   のマルチビーム走査光学装置。
4. 【請求項４】前記集光レンズは主走査方向を集光するシ
   リンドリカルレンズであって、光軸を中心に回転可能で
   あることを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム走
   査光学装置。
5. 【請求項５】前記ナイフエッジは副走査方向に移動でき
   る構成であることを特徴とする請求項１から４に記載の
   マルチビーム走査光学装置。