JP2000133553A - Method for forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor - Google Patents

Method for forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor

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JP2000133553A
JP2000133553A JP10300895A JP30089598A JP2000133553A JP 2000133553 A JP2000133553 A JP 2000133553A JP 10300895 A JP10300895 A JP 10300895A JP 30089598 A JP30089598 A JP 30089598A JP 2000133553 A JP2000133553 A JP 2000133553A
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liquid
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chip piece
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Shinji Nakamura
伸二 中村
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Rohm Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To surely reduce an occurrence rate of failed products by a method, wherein in a state just before all chip pieces are apart from a liquid face of a solid electrolytic layer forming liquid body among steps of swishing liquid off, each chip piece once relatively approaches the solid electrolytic layer forming liquid body. SOLUTION: A lateral bar 10 is lifted up by the lifting move of both-receiving frame bodies E1, E2, each chip piece 2 is pulled up from a manganic nitrate aqueous solution D and is liquid is swished off. In a state in which all the chip pieces 2 are apart from a liquid face of the manganic nitrate aqueous solution D among the steps, the both-receiving frame bodies E1, E2 are once moved down by an appropriate height, whereby each chip piece 2 relatively approaches the manganic nitrate aqueous solution D and thereafter, it is again lifted. The increase in an amount of the manganic nitrate aqueous solution D adhered to each chip piece 2 is surely avoided in a specified chip piece among the respective chip pieces 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、タンタル又はアル
ミ等の固体電解コンデンサにおいて、そのコンデンサ素
子におけるチップ片に対して陰極側となる固体電解質層
を形成する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a solid electrolyte layer on a cathode side of a chip in a capacitor element of a solid electrolytic capacitor such as tantalum or aluminum.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種の固体電解コンデンサに
は、おおまかに言って、例えば、特開昭60−2209
22号公報等に記載され、且つ、図1及び図2に示すよ
うに構成した固体電解コンデンサ100と、例えば、特
開平2−105513号公報等に記載され、且つ、図3
に示すように構成した安全ヒューズ付き固体電解コンデ
ンサ200とがある。
2. Description of the Related Art Generally, a solid electrolytic capacitor of this type is generally described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-2209.
1 and FIG. 2 and a solid electrolytic capacitor 100 described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-105513 and FIG.
There is a solid electrolytic capacitor 200 with a safety fuse configured as shown in FIG.

【0003】前者の固体電解コンデンサ100は、金属
粉末の焼結体製チップ片2とこのチップ片2の一端面2
aより突出する陽極棒3とから成るコンデンサ素子1
を、左右一対のリード端子4,5の間に、当該コンデン
サ素子1における陽極棒3を一方のリード端子4に対し
て溶接等に固着するように配設し、このコンデンサ素子
1におけるチップ片2の少なくとも外周面2cに形成し
た陰極側電極膜6に、他方のリード端子5を接続する一
方、これらの全体を合成樹脂製のモールド部7にてパッ
ケージして成る構造である。
The former solid electrolytic capacitor 100 has a chip 2 made of a sintered body of metal powder and one end face 2 of the chip 2.
a capacitor element 1 comprising an anode rod 3 projecting from
Is disposed between a pair of left and right lead terminals 4 and 5 so that the anode rod 3 of the capacitor element 1 is fixed to one of the lead terminals 4 by welding or the like. The other lead terminal 5 is connected to the cathode-side electrode film 6 formed on at least the outer peripheral surface 2c of the device, and the whole of these is packaged in a synthetic resin mold part 7.

【0004】また、後者の安全ヒューズ付き固体電解コ
ンデンサ200は、同じく金属粉末の焼結体製チップ片
2とこのチップ片2より突出する陽極棒3とから成るコ
ンデンサ素子1を、左右一対のリード端子4,5の間
に、当該コンデンサ素子1における陽極棒3を一方のリ
ード端子4に対して溶接等に固着するように配設し、こ
のコンデンサ素子1におけるチップ片2の少なくとも外
周面2cに形成した陰極側電極膜6と、他方のリード端
子5との間を、過電流又は温度の上昇によって溶断する
ようにした安全ヒューズ線8を介して接続する一方、こ
れらの全体を合成樹脂製のモールド部7にてパッケージ
して成る構造である。
A solid electrolytic capacitor 200 with a safety fuse is a capacitor element 1 comprising a chip 2 made of a sintered body of a metal powder and an anode rod 3 protruding from the chip 2, and a pair of left and right leads. The anode rod 3 of the capacitor element 1 is disposed between the terminals 4 and 5 so as to be fixed to one of the lead terminals 4 by welding or the like. The formed cathode-side electrode film 6 and the other lead terminal 5 are connected via a safety fuse wire 8 which is blown by an overcurrent or a rise in temperature, and these are entirely made of synthetic resin. This is a structure formed by packaging in the mold part 7.

【0005】なお、これらの固体電解コンデンサ10
0,200において、その両リード端子4,5は、モー
ルド部7を成形したあとにおいて、二点鎖線で示すよう
に、当該モールド部7の裏面側に折り曲げられている。
また、前記安全ヒューズ線8には、シリコーン樹脂等の
弾性樹脂8aが塗着されている。これらの固体電解コン
デンサ100,200に使用するコンデンサ素子1を製
造するに際しては、以下に述べる方法が採用されてい
る。
[0005] These solid electrolytic capacitors 10
At 0 and 200, the two lead terminals 4 and 5 are bent to the back surface side of the molded part 7 after the molded part 7 is formed, as shown by a two-dot chain line.
The safety fuse wire 8 is coated with an elastic resin 8a such as a silicone resin. In manufacturing the capacitor element 1 used for these solid electrolytic capacitors 100 and 200, the following method is adopted.

【0006】すなわち、先づ、タンタル等の金属粉末
を、図4に示すように、外形寸法d0の断面角型等の多
孔質のチップ片2に、当該チップ片2内にタンタル等の
金属製陽極棒3の一部を埋設するようにして固め成形し
たのち焼結し、このチップ片2の複数個を、図5に示す
ように、金属製の横バー10に対して、当該各チップ片
から突出する陽極棒3を固着することによって、横バー
10の長手方向に適宜間隔で一列に並べて装着する。
That is, first, as shown in FIG. 4, a metal powder such as tantalum is applied to a porous chip piece 2 having an outer shape d0 of square cross section or the like, as shown in FIG. A part of the anode bar 3 is buried so as to be compacted and sintered, and a plurality of the chip pieces 2 are placed on a metal horizontal bar 10 as shown in FIG. The anode bars 3 protruding from the horizontal bar 10 are fixedly arranged in a line at appropriate intervals in the longitudinal direction of the horizontal bar 10.

【0007】次いで、前記横バー10に固着した各チッ
プ片2を、図6に示すように、処理槽A内に入れたりん
酸水溶液等の化成液Bに浸漬した状態で直流電流を印加
して陽極酸化を行うことにより、当該チップ片2におけ
る各金属粉末の表面及び前記陽極棒3における一部の表
面に五酸化タンタル等の誘電体膜を形成する。次に、前
記横バー10に固着した各チップ片2を、図7に示すよ
うに、処理槽C内に装填したのち、処理槽C内に、硝酸
マンガン水溶液Dを、供給弁C1より当該硝酸マンガン
水溶液Dの液面が前記チップ片2における上端面2aと
略同一面になる高さまで供給して、各チップ片2を硝酸
マンガン水溶液D内に浸漬し、次いで、前記処理槽C内
における硝酸マンガン水溶液Dを排出弁C2より順次排
出して、その液面を、図8に示すように、各チップ片2
の下端面2bから下方に下降することにより、各チップ
片2を硝酸マンガン水溶液Dから液切りし、そして、乾
燥・焼成することを複数回にわたって繰り返し、これに
よって、前記五酸化タンタル等の誘電体膜の表面に、二
酸化マンガン等の金属酸化物による固体電解質層6aを
形成する。
Next, as shown in FIG. 6, a direct current is applied to each of the chip pieces 2 fixed to the horizontal bar 10 in a state of being immersed in a chemical conversion solution B such as a phosphoric acid aqueous solution placed in a processing tank A. By performing anodic oxidation, a dielectric film such as tantalum pentoxide is formed on the surface of each metal powder in the chip piece 2 and a part of the surface of the anode bar 3. Next, as shown in FIG. 7, each chip piece 2 fixed to the horizontal bar 10 is loaded into a processing tank C, and an aqueous solution of manganese nitrate D is supplied into the processing tank C through a supply valve C1. The manganese aqueous solution D is supplied to a level at which the liquid level of the manganese aqueous solution D becomes substantially the same as the upper end surface 2a of the chip piece 2, and each chip piece 2 is immersed in the manganese nitrate aqueous solution D. The manganese aqueous solution D was sequentially discharged from the discharge valve C2, and the liquid level was changed to each chip piece 2 as shown in FIG.
Of the manganese nitrate aqueous solution D, and drying and firing are repeated a plurality of times by descending from the lower end face 2b of the dielectric material. A solid electrolyte layer 6a made of a metal oxide such as manganese dioxide is formed on the surface of the film.

【0008】更に、前記チップ片2における固体電解質
層6aの表面に、グラファイト膜6bを、このグラファ
イト膜6bの表面に銀又はニッケル等の金属膜6cを各
々形成することにより、チップ片2における各側面2c
及び下端面2bに、図9に示すように、これら固体電解
質層6a、グラファイト膜6b及び金属膜6cにて構成
される陰極側電極膜6を形成すると言う方法が採用され
ている。
Further, a graphite film 6b is formed on the surface of the solid electrolyte layer 6a in the chip piece 2, and a metal film 6c such as silver or nickel is formed on the surface of the graphite film 6b. Side 2c
As shown in FIG. 9, a method of forming a cathode-side electrode film 6 composed of the solid electrolyte layer 6a, the graphite film 6b, and the metal film 6c on the lower end surface 2b is adopted.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来における
コンデンサ素子の製造方法では、以下に述べるような問
題があった。すなわち、図5に示すように、金属製の横
バー10に対して複数個の各チップ片2を固着する場合
において、金属製の横バー10の下面から各チップ片2
の下端面2bまでの首下寸法Lを、各チップ片2の各々
について同じに揃えることはきわめて困難で、前記各チ
ップ片2における横バー10からの首下寸法Lには長い
短いのバラ付きが存在するものであることにより、前記
横バー10に固着されている各チップ片2に対して固体
電解質層6aを形成する工程において、前記処理槽C内
における硝酸マンガン水溶液Dを排出弁C2より順次排
出して、その液面を、図8に示すように、各チップ片2
の下端面2bから下方に下降することによって、各チッ
プ片2を硝酸マンガン水溶液Dから液切りするとき、下
降する液面は、各チップ片2における横バー10からの
首下寸法Lにはバラ付きが存在することに起因して各チ
ップ片2の下端面2bから略同時に離れることなく、各
チップ片2のうち首下寸法がL′と最も大きくなってい
る一つのチップ片2については最後に離れることにな
る。
However, the conventional method for manufacturing a capacitor element has the following problems. That is, as shown in FIG. 5, when a plurality of chip pieces 2 are fixed to the metal horizontal bar 10, each chip piece 2 is attached from the lower surface of the metal horizontal bar 10.
It is extremely difficult to make the under-neck dimension L up to the lower end surface 2b the same for each of the chip pieces 2, and the under-neck dimension L from the horizontal bar 10 in each of the chip pieces 2 has a long and short rose. Is present, in the step of forming the solid electrolyte layer 6a for each chip piece 2 fixed to the horizontal bar 10, the manganese nitrate aqueous solution D in the treatment tank C is discharged from the discharge valve C2. The liquid was sequentially discharged, and the liquid level was changed to each chip 2 as shown in FIG.
When each chip piece 2 is drained from the aqueous manganese nitrate solution D by descending from the lower end surface 2b of the chip piece, the descending liquid level is different from the dimension L under the neck from the horizontal bar 10 in each chip piece 2. Due to the presence of the sticking, the chip 2 does not separate from the lower end surface 2b of each chip 2 at substantially the same time. Will be away.

【0010】このとき、首下寸法がL′と最も大きい一
つのチップ片2と硝酸マンガン水溶液Dの液面との間に
は、チップ片2の側面に付着している硝酸マンガン水溶
液と液面との間に表面張力により、図8に示すように、
可成り太い液柱ができて、そして、この太い液柱が、液
面の下降に伴って最後に切れることになるから、前記首
下寸法がL′と最も大きい一つのチップ片2に付着する
硝酸マンガン水溶液Dの量は、各チップ片2のうち先に
液面から離れる他のチップ片2に付着する量より多くな
り、換言すると、首下寸法の最も大きい一つのチップ片
2には、硝酸マンガン水溶液が余剰に多く付着し、そし
て、この余剰に付着する硝酸マンガン水溶液が、チップ
片2の下端面2bに向かって垂れ下がって下端部に水滴
状に溜まった状態になり、この状態で乾燥・焼成するこ
とを繰り返すことになる。
At this time, between the chip piece 2 having the largest neck length L 'and the liquid surface of the manganese nitrate aqueous solution D, the manganese nitrate aqueous solution adhering to the side surface of the chip piece 2 As shown in FIG. 8, due to the surface tension between
A considerably thick liquid column is formed, and the thick liquid column is finally cut off as the liquid level lowers, so that it adheres to one chip piece 2 having the largest under-neck dimension L '. The amount of the manganese nitrate aqueous solution D is larger than the amount attached to the other chip piece 2 that first separates from the liquid surface among the chip pieces 2, in other words, one chip piece 2 having the largest dimension under the neck is An excessive amount of the manganese nitrate aqueous solution adheres, and the excessively adhered manganese nitrate aqueous solution hangs down toward the lower end surface 2b of the chip piece 2 so as to accumulate in the form of water droplets at the lower end.・ Baking will be repeated.

【0011】その結果、前記横バー10からの首下寸法
の最も大きい一つのチップ片2における固体電解質層6
aの膜厚さは、図9に示すように、上端面2aから下端
面2bに向かって次第に肉厚状になり、前記チップ片2
の下端部における最大外形寸法d0max が、チップ片2
における上端部における外形寸法よりも可成り大きくな
ると共に、チップ片2に対して前記固体電解質層6aを
形成した後の形状が、図9に示すように、上端部から下
端部に向かって可成り大きく膨らんだ形状になるから、
コンデンサ素子の複数個を横バーを使用して同時に製造
するに際、前記横バーからの突出寸法の最も大きくて液
面から最後に離れるチップ片2における形状及び寸法
が、コンデンサ素子における所定の範囲から外れると言
う不良品になり易く、不良品の発生率が高いと言う問題
があった。
As a result, the solid electrolyte layer 6 in one chip piece 2 having the largest dimension under the neck from the horizontal bar 10 is formed.
As shown in FIG. 9, the thickness of the chip piece a gradually increases from the upper end face 2a toward the lower end face 2b.
The maximum outer dimension d0max at the lower end of the chip piece 2
And the shape after the solid electrolyte layer 6a is formed on the chip piece 2 becomes larger from the upper end to the lower end as shown in FIG. Because it will be a big swollen shape,
When simultaneously manufacturing a plurality of capacitor elements using the horizontal bar, the shape and size of the chip piece 2 having the largest protrusion from the horizontal bar and leaving the liquid surface last are within a predetermined range of the capacitor element. The problem is that the product is liable to be defective, and the incidence of defective products is high.

【0012】本発明は、コンデンサ素子におけるチップ
片に対して陰極側となる固体電解質層を形成するに際し
て、不良品の発生率を確実に低減できるようにした方法
を提供することを技術的課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for forming a solid electrolyte layer on the cathode side of a chip in a capacitor element so as to reliably reduce the incidence of defective products. Is what you do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明の方法は、「多孔質のチップ片の複数個を
横バーに対してその長手方向に沿って適宜間隔で一列状
に並べて固着し、次いで、前記横バーの高さ位置と処理
槽内に入れた固体電解質層形成用液体の液面との相対的
な上昇又は下降にて前記横バーにおける各チップ片を前
記固体電解質層形成用液体中に浸漬する工程と、前記横
バーの高さ位置と前記固体電解質層形成用液体の液面と
の相対的な上昇又は下降にて横バーにおける各チップ片
を前記固体電解質層形成用液体から離すように液切りす
る工程と、前記横バーにおける各チップ片を焼成する工
程とを適宜回数繰り返すようにした固体電解質層の形成
方法において、前記横バーにおける各チップ片を前記固
体電解質層形成用液体から離すように液切りする工程の
うち各チップ片の全てが前記固体電解質層形成用液体の
液面から離れる直前の状態で、各チップ片と固体電解質
層形成用液体とを相対的に一旦接近することを特徴とす
る。」ものである。
In order to achieve this technical object, the method of the present invention comprises the steps of: "arranging a plurality of porous chip pieces in a row at appropriate intervals along the longitudinal direction of a horizontal bar. Then, each chip piece in the horizontal bar is raised or lowered relative to the height position of the horizontal bar and the level of the liquid for forming a solid electrolyte layer placed in the processing tank, and the solid electrolyte is removed. A step of immersing in a layer forming liquid, and raising or lowering the height position of the horizontal bar and the liquid level of the solid electrolyte layer forming liquid to each chip piece in the horizontal bar by the solid electrolyte layer In the method for forming a solid electrolyte layer, the step of draining the liquid so as to separate from the forming liquid and the step of firing each chip piece in the horizontal bar are repeated as appropriate times. For forming electrolyte layer In the step of draining away from the body, in a state immediately before all of the chip pieces are separated from the liquid surface of the solid electrolyte layer forming liquid, each chip piece and the solid electrolyte layer forming liquid are once relatively It is characterized by approaching. "

【0014】[0014]

【発明の作用・効果】このように、横バーにおける各チ
ップ片を固体電解質層形成用液体から離すように液切り
する工程のうち各チップ片の全てが前記固体電解質層形
成用液体の液面から離れる直前の状態で、各チップ片と
固体電解質層形成用液体とを相対的に一旦接近すること
により、横バーにおける各チップ片2のうち固体電解質
層形成用液体の液面から最後に離れるチップ片の側面に
付着する固体電解質層形成用液体は、各チップ片と固体
電解質層形成用液体とを相対的に一旦接近している間に
おいて垂れ落ちて、このチップ片と固体電解質層形成用
液体の液面との間に表面張力にて形成される液柱が細く
なり、細くなった状態で切れることになるから、前記各
チップ片における横バーからの首下寸法にバラ付きが存
在することに起因して、各チップ片に付着する電解質層
形成用液体の量が、各チップ片のうち特定のチップ片に
おいて多くなることを確実に回避できるのである。
As described above, in the step of draining each chip piece on the horizontal bar so as to be separated from the solid electrolyte layer forming liquid, all of the chip pieces are at the liquid level of the solid electrolyte layer forming liquid. In the state immediately before leaving, the chip pieces and the solid electrolyte layer forming liquid relatively once approach each other, so that each of the chip pieces 2 on the horizontal bar finally separates from the liquid surface of the solid electrolyte layer forming liquid. The liquid for forming a solid electrolyte layer that adheres to the side surface of the chip piece drips down while the chip pieces and the liquid for forming a solid electrolyte layer relatively approach once, and this chip piece and the liquid for forming a solid electrolyte layer form. Since the liquid column formed by the surface tension between the liquid and the liquid surface becomes thin and cuts in a thin state, there is a variation in the dimension below the neck from the horizontal bar in each of the chip pieces. Due to Te, the amount of the electrolyte layer forming liquid that adheres to the chip piece is able reliably avoid many made possible in certain chip component of each chip component.

【0015】従って、本発明によると、コンデン素子の
複数個を横バーを使用して製造する場合において、所定
の寸法・形状から外れて不良品になることが確実に少な
くなり、不良品の発生率を大幅に低減できる効果を有す
る。
Therefore, according to the present invention, when a plurality of the condensed elements are manufactured using the horizontal bars, the number of defective products deviating from the predetermined size and shape is reduced, and the generation of defective products is reduced. This has the effect of greatly reducing the rate.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
について説明する。図10、図11及び図12は、第1
の実施の形態を示し、この図において符号C′は、処理
槽を示し、この処理槽C′内には、硝酸マンガン水溶液
Dが入っている。また、前記図において符号10で示す
金属製の横バーは、前記図5に示す横バー10と同じも
ので、この横バー10には、多孔質のチップ片2の複数
個が、当該各チップ片2から突出する陽極棒3を固着す
ることによって長手方向に適宜間隔で一列に並べて装着
されている。更に、この横バー10における各チップ片
2は、前記従来と同様に、図6に示す陽極酸化により、
五酸化タンタル等の誘電体膜が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 10, 11 and 12 show the first embodiment.
In this figure, reference numeral C 'indicates a processing tank, and an aqueous manganese nitrate solution D is contained in the processing tank C'. In addition, the horizontal bar made of metal indicated by reference numeral 10 in the figure is the same as the horizontal bar 10 shown in FIG. 5, and a plurality of porous chip pieces 2 are provided on the horizontal bar 10. The anode rods 3 protruding from the pieces 2 are fixed in a line at appropriate intervals in the longitudinal direction by being fixed. Further, each chip piece 2 in the horizontal bar 10 is anodized as shown in FIG.
A dielectric film such as tantalum pentoxide is formed.

【0017】先づ、前記横バー10を、前記処理槽C′
の両側に配設した受け枠体E1,E2の上面に載置し、
この状態で、前記両受け枠体E1,E2を下降動するこ
とにより、これに固着した各コンデンサ素子1における
チップ片2を、図10に示すように、処理槽C′内にお
ける前記硝酸マンガン水溶液D中に、当該各チップ片2
における上端面2aが前記硝酸マンガン水溶液Dの液面
と略同一面になる状態にまで浸漬して、各チップ片2の
内部に、前記硝酸マンガン水溶液Dを浸透する。
First, the horizontal bar 10 is connected to the processing tank C '.
Placed on the upper surfaces of the receiving frames E1, E2 arranged on both sides of
In this state, by lowering the two receiving frames E1 and E2, the chip pieces 2 of the respective capacitor elements 1 fixed to the receiving frames E1 and E2 are removed as shown in FIG. D, the respective chip pieces 2
Is immersed until the upper end surface 2a becomes substantially flush with the liquid surface of the manganese nitrate aqueous solution D, and the manganese nitrate aqueous solution D penetrates into the inside of each chip piece 2.

【0018】次いで、前記横バー10を、その両端を載
置した受け枠体E1,E2の上昇動により、図10に二
点鎖線で示すように、当該横バー10における各チップ
片2が硝酸マンガン水溶液Dの液面から離れるように持
ち上げる(引き揚げる)ことにより、各チップ片2を硝
酸マンガン水溶液Dから液切りする。次いで、各チップ
片2を乾燥・焼成することを複数回にわたって繰り返
し、これによって、前記五酸化タンタル等の誘電体膜の
表面に、二酸化マンガン等の金属酸化物による固体電解
質層6aを形成する。
Next, as shown by the two-dot chain line in FIG. 10, each of the chip pieces 2 of the horizontal bar 10 is moved by nitric acid by the ascending movement of the receiving frames E1 and E2 on which both ends are placed. By lifting (pulling) away from the liquid surface of the aqueous manganese solution D, each chip piece 2 is drained from the aqueous manganese nitrate solution D. Next, the drying and firing of each chip piece 2 is repeated a plurality of times, whereby a solid electrolyte layer 6a made of a metal oxide such as manganese dioxide is formed on the surface of the dielectric film such as tantalum pentoxide.

【0019】そして、本発明においては、横バー10を
両受け枠体E1,E2の上昇動にて持ち上げることによ
って、各チップ片2を硝酸マンガン水溶液Dから引き揚
げて液切りする工程のうち各チップ片2の全てが前記硝
酸マンガン水溶液Dの液面から離れる直前の状態のと
き、前記両受け枠体E1,E2を、一旦、適宜高さHだ
け下降動することにより、各チップ片2と硝酸マンガン
水溶液とを相対的に一旦接近したのち、再び、図10に
二点鎖線で示す状態まで上昇動するのである。
In the present invention, each chip piece 2 is lifted up from the aqueous manganese nitrate solution D by raising the horizontal bar 10 by raising and lowering the receiving frames E1 and E2. When all of the pieces 2 are in a state immediately before separating from the liquid surface of the aqueous solution of manganese nitrate D, the both receiving frames E1 and E2 are temporarily moved down by an appropriate height H once, so that After relatively approaching the manganese aqueous solution once, it rises again to the state shown by the two-dot chain line in FIG.

【0020】このように、両受け枠体E1,E2の上昇
動にて、横バー10における各チップ片2を硝酸マンガ
ン水溶液Dから引き揚げて液切りする工程のうち各チッ
プ片の全てが前記硝酸マンガン水溶液Dの液面から離れ
る直前の状態のとき、前記両受け枠体E1,E2を、一
旦、適宜高さHだけ下降動することにより、横バー10
における各チップ片2のうち硝酸マンガン水溶液Dの液
面から最後に離れるチップ片2の側面に付着する硝酸マ
ンガン水溶液は、各チップ片2と硝酸マンガン水溶液D
とを前記したように相対的に一旦接近している間におい
て垂れ落ちて、このチップ片2と硝酸マンガン水溶液D
の液面との間に表面張力にて形成される液柱が細くな
り、細くなった状態で切れることになるから、前記各チ
ップ片2における横バー10からの首下寸法Lにバラ付
きが存在することに起因して、各チップ片2に付着する
硝酸マンガン水溶液の量が、各チップ片2のうち特定の
チップ片において多くなることを確実に回避できるので
ある。
As described above, in the process of lifting each chip piece 2 of the horizontal bar 10 from the manganese nitrate aqueous solution D and draining the liquid by the ascending movement of both the receiving frames E1 and E2, all of the chip pieces are made of the nitric acid. In the state immediately before the manganese aqueous solution D is separated from the liquid surface, the both receiving frames E1 and E2 are temporarily moved down by the height H once, so that the horizontal bar 10 is moved.
The manganese nitrate aqueous solution adhering to the side surface of the chip piece 2 which is lastly separated from the liquid surface of the manganese nitrate aqueous solution D among the respective chip pieces 2 in FIG.
As described above, the tip piece 2 and the manganese nitrate aqueous solution D
The liquid column formed by the surface tension with the liquid surface becomes thin and cuts in a thin state, so that the dimension L under the neck from the horizontal bar 10 in each of the chip pieces 2 varies. Due to the existence, the amount of the manganese nitrate aqueous solution adhering to each chip piece 2 can be reliably prevented from increasing in a specific chip piece among the chip pieces 2.

【0021】なお、前記第1の実施の形態は、横バー1
0を両受け枠体E1,E2の昇降動にて昇降することに
より、この横バー10における各チップ片2を処理槽
C′内の硝酸マンガン水溶液Dに対して浸漬したのち、
上昇して液切りする場合を示した。この第1の実施の形
態に代えて、図13及び図14に示し、且つ、前記従来
の図7と同様に、前記横バー10に固着した各チップ片
2を、処理槽C内に装填したのち、処理槽C内に、硝酸
マンガン水溶液Dを、供給弁C1より当該硝酸マンガン
水溶液Dの液面が前記チップ片2における上端面2aと
略同一面になる高さまで供給して、各チップ片2を硝酸
マンガン水溶液D内に浸漬し、次いで、前記処理槽C内
における硝酸マンガン水溶液Dを排出弁C2より順次排
出して、その液面を、図8に示すように、各チップ片2
の下端面2bから下方に下降することで、各チップ片2
を硝酸マンガン水溶液Dから液切りする場合において
も、前記横バー10を、前記液切り工程のうち各チップ
片2の全てが前記硝酸マンガン水溶液Dの液面から離れ
る直前の状態のとき、前記両受け枠体E1,E2にて、
一旦、適宜高さHだけ下降動して、各チップ片2と硝酸
マンガン水溶液とを相対的に一旦接近することにより、
前記と同様の効果を得ることができるのである。
In the first embodiment, the horizontal bar 1
0 is raised and lowered by raising and lowering both receiving frames E1 and E2, so that each chip piece 2 in the horizontal bar 10 is immersed in the manganese nitrate aqueous solution D in the processing tank C ′.
The case of rising and draining liquid was shown. Instead of the first embodiment, each chip piece 2 shown in FIGS. 13 and 14 and fixed to the horizontal bar 10 was loaded into the processing tank C in the same manner as in the conventional FIG. Thereafter, the aqueous solution of manganese nitrate D is supplied into the processing tank C from the supply valve C1 until the liquid surface of the aqueous solution of manganese nitrate D becomes substantially flush with the upper end surface 2a of the chip piece 2. 2 is immersed in an aqueous solution of manganese nitrate D, and then the aqueous solution of manganese nitrate D in the treatment tank C is sequentially discharged from a discharge valve C2, and the liquid level is reduced as shown in FIG.
Each chip piece 2 descends from the lower end surface 2b of the
When the liquid is drained from the aqueous manganese nitrate solution D, the horizontal bar 10 is also moved to a position immediately before all the chips 2 are separated from the liquid surface of the aqueous manganese nitrate solution D in the draining step. In the receiving frames E1 and E2,
Once the tip piece 2 and the manganese nitrate aqueous solution once approach each other by lowering the height H as needed,
The same effect as described above can be obtained.

【0022】なお、この第2の実施の形態では、前記横
バー10を両受け枠体E1,E2の適宜高さHだけ下降
動することによって、各チップ片2と硝酸マンガン水溶
液とを相対的に一旦接近することに代えて、排出弁C2
からの硝酸マンガン水溶液Dの排出中の途中で、その排
出を一時的に停止する一方、供給弁C1からの処理槽C
内に硝酸マンガン水溶液Dを適宜量だけ供給することに
より、各チップ片2と硝酸マンガン水溶液とを相対的に
一旦接近するようにしても良いことは勿論である。
In the second embodiment, the tip bar 2 and the aqueous solution of manganese nitrate are relatively moved by moving the horizontal bar 10 down by the appropriate height H of both the receiving frames E1 and E2. Instead of approaching once, the discharge valve C2
During the discharge of the aqueous manganese nitrate solution D from the tank, the discharge is temporarily stopped while the treatment tank C from the supply valve C1 is stopped.
Of course, by supplying an appropriate amount of the aqueous solution of manganese nitrate D therein, each chip piece 2 and the aqueous solution of manganese nitrate may be allowed to relatively approach once.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】固体電解コンデンサの縦断正面図である。FIG. 1 is a vertical sectional front view of a solid electrolytic capacitor.

【図2】図1のII−II視平断面図である。FIG. 2 is a plan sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】安全ヒューズ付き固体電解コンデンサの縦断正
面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional front view of a solid electrolytic capacitor with a safety fuse.

【図4】コンデンサ素子を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a capacitor element.

【図5】前記コンデンサ素子の複数個を横バーに固着し
た状態を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a state in which a plurality of the capacitor elements are fixed to a horizontal bar.

【図6】前記横バーにおける各コンデンサ素子に対して
陽極酸化処理を行っている状態を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a state where an anodizing process is performed on each capacitor element in the horizontal bar.

【図7】前記横バーにおける各コンデンサ素子に従来の
方法にて固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in the horizontal bar by a conventional method.

【図8】前記横バーにおける各コンデンサ素子に従来の
方法にて固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in the horizontal bar by a conventional method.

【図9】従来の方法によるコンデンサ素子の縦断正面図
である。
FIG. 9 is a vertical sectional front view of a capacitor element according to a conventional method.

【図10】本発明の第1の実施の形態の方法にて横バー
における各コンデンサ素子に固体電解質層を形成してい
る状態を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in the horizontal bar by the method according to the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第1の実施の形態の方法において横
バーにおける各チップ片を硝酸マンガン水溶液から引き
揚げる途中の状態を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a state in which each chip piece in the horizontal bar is being lifted from the manganese nitrate aqueous solution in the method according to the first embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第1の実施の形態の方法において横
バーおける各チップ片を硝酸マンガン水溶液から引き揚
げる途中前記チップ片と硝酸マンガン水溶液とを相対的
に一旦接近した状態を示す図である。
FIG. 12 is a view showing a state in which the chip pieces and the manganese nitrate aqueous solution are relatively once approached while each chip piece in the horizontal bar is being lifted from the manganese nitrate aqueous solution in the method according to the first embodiment of the present invention. .

【図13】本発明の第2の実施形態の方法において横バ
ーにおける各チップ片を硝酸マンガン水溶液から引き揚
げる途中の状態を示す図である。
FIG. 13 is a view showing a state in which each chip piece in a horizontal bar is being lifted from a manganese nitrate aqueous solution in the method according to the second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2の実施の形態の方法において横
バーおける各チップ片を硝酸マンガン水溶液から引き揚
げる途中前記チップ片と硝酸マンガン水溶液とを相対的
に一旦接近した状態を示す図である。
FIG. 14 is a view showing a state in which the chip pieces and the manganese nitrate aqueous solution are relatively once approached during the lifting of each chip piece in the horizontal bar from the manganese nitrate aqueous solution in the method according to the second embodiment of the present invention. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンデンサ素子 2 チップ片 2a チップ片の上端面 2b チップ片の下端面 3 陽極棒 6 陰極側電極膜 6a 固体電解質層 6b グラファイト膜6b 6c 金属膜 10 横バー C,C′ 処理槽 D 硝酸マンガン水溶液 E1,E2 受け枠体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Capacitor element 2 Chip piece 2a Upper end face of chip piece 2b Lower end face of chip piece 3 Anode rod 6 Cathode side electrode film 6a Solid electrolyte layer 6b Graphite film 6b 6c Metal film 10 Horizontal bar C, C 'Treatment tank D Manganese nitrate aqueous solution E1, E2 Receiving frame

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】多孔質のチップ片の複数個を横バーに対し
てその長手方向に沿って適宜間隔で一列状に並べて固着
し、次いで、前記横バーの高さ位置と処理槽内に入れた
固体電解質層形成用液体の液面との相対的な上昇又は下
降にて前記横バーにおける各チップ片を前記固体電解質
層形成用液体中に浸漬する工程と、前記横バーの高さ位
置と前記固体電解質層形成用液体の液面との相対的な上
昇又は下降にて横バーにおける各チップ片を前記固体電
解質層形成用液体から離すように液切りする工程と、前
記横バーにおける各チップ片を焼成する工程とを適宜回
数繰り返すようにした固体電解質層の形成方法におい
て、 前記横バーにおける各チップ片を前記固体電解質層形成
用液体から離すように液切りする工程のうち各チップ片
の全てが前記固体電解質層形成用液体の液面から離れる
直前の状態で、各チップ片と固体電解質層形成用液体と
を相対的に一旦接近することを特徴とする固体電解コン
デンサ用コンデンサ素子における固体電解質層の形成方
法。
1. A plurality of porous chip pieces are fixedly arranged in a row on a horizontal bar at appropriate intervals along the longitudinal direction thereof, and then placed in a processing tank at a height position of the horizontal bar. Immersing each chip piece in the horizontal bar in the solid electrolyte layer forming liquid at a relative rise or fall with respect to the liquid level of the solid electrolyte layer forming liquid, and the height position of the horizontal bar; A step of draining each chip piece in the horizontal bar so as to be separated from the solid electrolyte layer forming liquid by relative ascent or descent with respect to the liquid surface of the solid electrolyte layer forming liquid, and each chip in the horizontal bar The method of forming a solid electrolyte layer, wherein the step of baking the pieces and the step of baking the pieces are repeated an appropriate number of times. All the above In the state immediately before leaving the liquid surface of the body electrolyte layer forming liquid, each chip piece and the solid electrolyte layer forming liquid relatively once approach each other. Forming method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011129805A (en) * 2009-12-21 2011-06-30 Murata Mfg Co Ltd Solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing the same

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