JP2000049051A - Method of forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor - Google Patents

Method of forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor

Info

Publication number
JP2000049051A
JP2000049051A JP10215909A JP21590998A JP2000049051A JP 2000049051 A JP2000049051 A JP 2000049051A JP 10215909 A JP10215909 A JP 10215909A JP 21590998 A JP21590998 A JP 21590998A JP 2000049051 A JP2000049051 A JP 2000049051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
horizontal bar
chip
liquid
chip piece
solid electrolytic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10215909A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3654559B2 (en
Inventor
Takahiro Nakamura
貴広 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP21590998A priority Critical patent/JP3654559B2/en
Publication of JP2000049051A publication Critical patent/JP2000049051A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3654559B2 publication Critical patent/JP3654559B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the possibility that a specific chip piece from among chip pieces becomes defective, because it is out of a specified size/shape due to an excessive liquid for solid electrolytic layer sticking to it when impregnation in the liquid for a solid electrolytic layer, swishing off of the liquid, and baking thereafter are repeated with each of a plurality of chip pieces fitted to a lateral bar for forming a solid electrolytic layer. SOLUTION: When a chip piece 2 at a lateral bar 10 is swished off so as to part from the liquid for a solid electrolytic layer, the lateral bar 10 is so tilted as its one end part is lowered by an appropriate angle, thus much liquid for solid electrolytic layer sticks to at least one chip piece 2 from among chip pieces 2 at the lateral bar 10, which is positioned at one end part of lateral bar 10, while excess liquid for a solid electrolytic layer sticking much to the one chip piece 2 is absorbed with a swishing member contacting or cross to the one chip piece 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、タンタル又はアル
ミ等の固体電解コンデンサにおいて、そのコンデンサ素
子におけるチップ片に対して陰極側となる固体電解質層
を形成する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a solid electrolyte layer on a cathode side of a chip in a capacitor element of a solid electrolytic capacitor such as tantalum or aluminum.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種の固体電解コンデンサに
は、おおまかに言って、例えば、特開昭60−2209
22号公報等に記載され、且つ、図1及び図2に示すよ
うに構成した固体電解コンデンサ100と、例えば、特
開平2−105513号公報等に記載され、且つ、図3
に示すように構成した安全ヒューズ付き固体電解コンデ
ンサ200とがある。
2. Description of the Related Art Generally, a solid electrolytic capacitor of this type is generally described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-2209.
1 and FIG. 2 and a solid electrolytic capacitor 100 described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-105513 and FIG.
There is a solid electrolytic capacitor 200 with a safety fuse configured as shown in FIG.

【0003】前者の固体電解コンデンサ100は、金属
粉末の焼結体製チップ片2とこのチップ片2の一端面2
aより突出する陽極棒3とから成るコンデンサ素子1
を、左右一対のリード端子4,5の間に、当該コンデン
サ素子1における陽極棒3を一方のリード端子4に対し
て溶接等に固着するように配設し、このコンデンサ素子
1におけるチップ片2の少なくとも外周面2cに形成し
た陰極側電極膜6に、他方のリード端子5を接続する一
方、これらの全体を合成樹脂製のモールド部7にてパッ
ケージして成る構造である。
The former solid electrolytic capacitor 100 has a chip 2 made of a sintered body of metal powder and one end face 2 of the chip 2.
a capacitor element 1 comprising an anode rod 3 projecting from
Is disposed between a pair of left and right lead terminals 4 and 5 so that the anode rod 3 of the capacitor element 1 is fixed to one of the lead terminals 4 by welding or the like. The other lead terminal 5 is connected to the cathode-side electrode film 6 formed on at least the outer peripheral surface 2c of the device, and the whole of these is packaged in a synthetic resin mold part 7.

【0004】また、後者の安全ヒューズ付き固体電解コ
ンデンサ200は、同じく金属粉末の焼結体製チップ片
2とこのチップ片2より突出する陽極棒3とから成るコ
ンデンサ素子1を、左右一対のリード端子4,5の間
に、当該コンデンサ素子1における陽極棒3を一方のリ
ード端子4に対して溶接等に固着するように配設し、こ
のコンデンサ素子1におけるチップ片2の少なくとも外
周面2cに形成した陰極側電極膜6と、他方のリード端
子5との間を、過電流又は温度の上昇によって溶断する
ようにした安全ヒューズ線8を介して接続する一方、こ
れらの全体を合成樹脂製のモールド部7にてパッケージ
して成る構造である。
A solid electrolytic capacitor 200 with a safety fuse is a capacitor element 1 comprising a chip 2 made of a sintered body of a metal powder and an anode rod 3 protruding from the chip 2, and a pair of left and right leads. The anode rod 3 of the capacitor element 1 is disposed between the terminals 4 and 5 so as to be fixed to one of the lead terminals 4 by welding or the like. The formed cathode-side electrode film 6 and the other lead terminal 5 are connected via a safety fuse wire 8 which is blown by an overcurrent or a rise in temperature, and these are entirely made of synthetic resin. This is a structure formed by packaging in the mold part 7.

【0005】なお、これらの固体電解コンデンサ10
0,200において、その両リード端子4,5は、モー
ルド部7を成形したあとにおいて、二点鎖線で示すよう
に、当該モールド部7の裏面側に折り曲げられている。
また、前記安全ヒューズ線8には、シリコーン樹脂等の
弾性樹脂8aが塗着されている。これらの固体電解コン
デンサ100,200に使用するコンデンサ素子1を製
造するに際しては、以下に述べる方法が採用されてい
る。
[0005] These solid electrolytic capacitors 10
At 0 and 200, the two lead terminals 4 and 5 are bent to the back surface side of the molded part 7 after the molded part 7 is formed, as shown by a two-dot chain line.
The safety fuse wire 8 is coated with an elastic resin 8a such as a silicone resin. In manufacturing the capacitor element 1 used for these solid electrolytic capacitors 100 and 200, the following method is adopted.

【0006】すなわち、先づ、タンタル等の金属粉末
を、図4に示すように、外形寸法d0の断面角型等の多
孔質のチップ片2に、当該チップ片2内にタンタル等の
金属製陽極棒3の一部を埋設するようにして固め成形し
たのち焼結し、このチップ片2の複数個を、図5に示す
ように、金属製の横バー10に対して、当該各チップ片
から突出する陽極棒3を固着することによって、横バー
10の長手方向に適宜間隔で一列に並べて装着する。
That is, first, as shown in FIG. 4, a metal powder such as tantalum is applied to a porous chip piece 2 having an outer shape d0 of square cross section or the like, as shown in FIG. A part of the anode bar 3 is buried so as to be compacted and sintered, and a plurality of the chip pieces 2 are placed on a metal horizontal bar 10 as shown in FIG. The anode bars 3 protruding from the horizontal bar 10 are fixedly arranged in a line at appropriate intervals in the longitudinal direction of the horizontal bar 10.

【0007】次いで、前記横バー10に固着した各チッ
プ片2を、図6に示すように、処理槽A内に入れたりん
酸水溶液等の化成液Bに浸漬した状態で直流電流を印加
して陽極酸化を行うことにより、当該チップ片2におけ
る各金属粉末の表面及び前記陽極棒3における一部の表
面に五酸化タンタル等の誘電体膜を形成する。次に、前
記横バー10に固着した各チップ片2を、図7に示すよ
うに、処理槽C内に装填したのち、処理槽C内に、硝酸
マンガン水溶液Dを、供給弁C1より当該硝酸マンガン
水溶液Dの液面が前記チップ片2における上端面2aと
略同一面になる高さまで供給して、各チップ片2を硝酸
マンガン水溶液D内に浸漬し、次いで、前記処理槽C内
における硝酸マンガン水溶液Dを排出弁C2より順次排
出して、その液面を、図8に示すように、各チップ片2
の下端面2bから下方に下降することにより、各チップ
片2を硝酸マンガン水溶液Dから液切りし、そして、乾
燥・焼成することを複数回にわたって繰り返し、これに
よって、前記五酸化タンタル等の誘電体膜の表面に、二
酸化マンガン等の金属酸化物による固体電解質層6aを
形成する。
Next, as shown in FIG. 6, a direct current is applied to each of the chip pieces 2 fixed to the horizontal bar 10 in a state of being immersed in a chemical conversion solution B such as a phosphoric acid aqueous solution placed in a processing tank A. By performing anodic oxidation, a dielectric film such as tantalum pentoxide is formed on the surface of each metal powder in the chip piece 2 and a part of the surface of the anode bar 3. Next, as shown in FIG. 7, each chip piece 2 fixed to the horizontal bar 10 is loaded into a processing tank C, and an aqueous solution of manganese nitrate D is supplied into the processing tank C through a supply valve C1. The manganese aqueous solution D is supplied to a level at which the liquid level of the manganese aqueous solution D becomes substantially the same as the upper end surface 2a of the chip piece 2, and each chip piece 2 is immersed in the manganese nitrate aqueous solution D. The manganese aqueous solution D was sequentially discharged from the discharge valve C2, and the liquid level was changed to each chip piece 2 as shown in FIG.
Of the manganese nitrate aqueous solution D, and drying and firing are repeated a plurality of times by descending from the lower end face 2b of the dielectric material. A solid electrolyte layer 6a made of a metal oxide such as manganese dioxide is formed on the surface of the film.

【0008】更に、前記チップ片2における固体電解質
層6aの表面に、グラファイト膜6bを、このグラファ
イト膜6bの表面に銀又はニッケル等の金属膜6cを各
々形成することにより、チップ片2における各側面2c
及び下端面2bに、図9に示すように、これら固体電解
質層6a、グラファイト膜6b及び金属膜6cにて構成
される陰極側電極膜6を形成すると言う方法が採用され
ている。
Further, a graphite film 6b is formed on the surface of the solid electrolyte layer 6a in the chip piece 2, and a metal film 6c such as silver or nickel is formed on the surface of the graphite film 6b. Side 2c
As shown in FIG. 9, a method of forming a cathode-side electrode film 6 composed of the solid electrolyte layer 6a, the graphite film 6b, and the metal film 6c on the lower end surface 2b is adopted.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来における
コンデンサ素子の製造方法では、以下に述べるような問
題があった。すなわち、図5に示すように、金属製の横
バー10に対して複数個の各チップ片2を固着する場合
において、金属バー10の下面から各チップ片2の下端
面2bまでの突出寸法Lを、各チップ片2の各々につい
て同じにに揃えることはきわめて困難で、前記各チップ
片2における突出寸法Lには長い短いのバラ付きが存在
するものであることにより、前記横バー10に固着され
ている各チップ片2に対して固体電解質層6aを形成す
る工程において、前記処理槽C内における硝酸マンガン
水溶液Dを排出弁C2より順次排出して、その液面を、
図8に示すように、各チップ片2の下端面2bから下方
に下降することによって、各チップ片2を硝酸マンガン
水溶液Dから液切りするとき、下降する液面は、各チッ
プ片2における突出寸法Lにはバラ付きが存在すること
に起因して各チップ片2の下端面2bから略同時に離れ
ることなく、各チップ片2のうち突出寸法がL′と最も
大きくなっているチップ片2については最後に離れるこ
とになる。
However, the conventional method for manufacturing a capacitor element has the following problems. That is, as shown in FIG. 5, when a plurality of chip pieces 2 are fixed to a horizontal metal bar 10, the protrusion dimension L from the lower surface of the metal bar 10 to the lower end surface 2 b of each chip piece 2 is set. It is extremely difficult to make the same for each of the chip pieces 2, and since the protrusion dimension L of each of the chip pieces 2 has a long and short variation, it is fixed to the horizontal bar 10. In the step of forming the solid electrolyte layer 6a on each of the chip pieces 2, the manganese nitrate aqueous solution D in the treatment tank C is sequentially discharged from the discharge valve C2, and the liquid level is reduced.
As shown in FIG. 8, when each chip 2 is drained from the manganese nitrate aqueous solution D by descending from the lower end surface 2 b of each chip 2, the descending liquid surface is projected on each chip 2. Due to the variation in the dimension L, the chip pieces 2 having the largest protruding dimension L ′ out of the chip pieces 2 are not separated from the lower end surface 2b of each chip piece 2 at substantially the same time due to the variation. Will finally leave.

【0010】このとき、突出寸法がL′と最も大きいチ
ップ片2の下端面2bと液面との間には、表面張力が集
中して液面が大きく盛り上がることにより、図8に示す
ように、可成り太い液柱ができて、そして、この太い液
柱が、液面の下降に伴って最後に切れることにより、前
記突出寸法がL′と最も大きいチップ片2に付着する硝
酸マンガン水溶液Dの量が、各チップ片2のうち先に液
面から離れる他のチップ片2に付着する量より多くな
り、換言すると、突出寸法の最も大きいチップ片2に
は、硝酸マンガン水溶液が余剰に多く付着し、そして、
この余剰に付着する硝酸マンガン水溶液が、チップ片2
の下端面2bに向かって垂れ下がって下端部に水滴状に
溜まった状態になり、この状態で乾燥・焼成することを
繰り返すことになる。
At this time, the surface tension is concentrated between the lower end surface 2b of the chip piece 2 having the largest protrusion L 'and the liquid surface and the liquid surface rises greatly, as shown in FIG. A considerably thick liquid column is formed, and the thick liquid column is cut last as the liquid level lowers, so that the manganese nitrate aqueous solution D adheres to the chip piece 2 having the largest protrusion size L '. Is larger than the amount attached to the other chip piece 2 that first separates from the liquid surface among the chip pieces 2. In other words, the chip piece 2 having the largest protruding dimension has an excessive amount of the manganese nitrate aqueous solution. Adheres, and
This excess manganese nitrate aqueous solution is attached to chip pieces 2
Hangs down toward the lower end surface 2b and accumulates in the form of water droplets at the lower end, and drying and firing in this state are repeated.

【0011】その結果、前記横バー10からの突出寸法
の最も大きいチップ片2における固体電解質層6aの膜
厚さは、図9に示すように、上端面2aから下端面2b
に向かって次第に肉厚状になり、前記チップ片2の下端
部における最大外形寸法d0max が、チップ片2におけ
る上端部における外形寸法よりも可成り大きくなると共
に、チップ片2に対して前記固体電解質層6aを形成し
た後の形状が、図9に示すように、上端部から下端部に
向かって可成り大きく膨らんだ形状になるから、コンデ
ンサ素子の複数個を横バーを使用して同時に製造するに
際、前記した突出寸法の最も大きいチップ片2における
形状及び寸法が、コンデンサ素子における所定の範囲か
ら外れると言う不良品になり易く、不良品の発生率が高
いと言う問題があった。
As a result, the thickness of the solid electrolyte layer 6a in the chip piece 2 having the largest protrusion from the horizontal bar 10 is changed from the upper end face 2a to the lower end face 2b as shown in FIG.
, The maximum outer dimension d0max at the lower end of the chip piece 2 is considerably larger than the outer dimension at the upper end of the chip piece 2, and the solid electrolyte is As shown in FIG. 9, the shape after the formation of the layer 6a is considerably greatly expanded from the upper end to the lower end, so that a plurality of capacitor elements are simultaneously manufactured using the horizontal bar. In this case, there is a problem that the shape and dimensions of the chip piece 2 having the largest protruding dimension are likely to be out of a predetermined range in the capacitor element, resulting in a defective product, and a high incidence of defective products.

【0012】本発明は、コンデンサ素子におけるチップ
片に対して陰極側となる固体電解質層を形成するに際し
て、不良品の発生率を確実に低減できるようにした方法
を提供することを技術的課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for forming a solid electrolyte layer on the cathode side of a chip in a capacitor element so as to reliably reduce the incidence of defective products. Is what you do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明の方法は、「多孔質のチップ片の複数個を
横バーに対してその長手方向に沿って適宜間隔で一列状
に並べて固着し、次いで、前記横バーの高さ位置と処理
槽内に入れた固体電解質層形成用液体の液面との相対的
な上昇又は下降にて前記横バーにおける各チップ片を前
記固体電解質層形成用液体中に浸漬する工程と、前記横
バーの高さ位置と前記固体電解質層形成用液体の液面と
の相対的な上昇又は下降にて横バーにおける各チップ片
を前記固体電解質層形成用液体から離すように液切りす
る工程と、前記横バーにおける各チップ片を焼成する工
程とを適宜回数繰り返すようにした固体電解質層の形成
方法において、前記横バーにおける各チップ片を前記固
体電解質層形成用液体から離すように液切りする工程の
うち少なくとも各チップ片が前記固体電解質層形成用液
体の液面から離れるとき、前記横バーを、その一端部が
低く他端部か高くなるように傾斜すると共に、この横バ
ーにおける各チップ片のうち横バーの一端部に位置する
少なくとも一つのチップ片に対して液切り部材を接触又
は近接することを特徴とする。」ことを特徴とするもの
である。
In order to achieve this technical object, the method of the present invention comprises the steps of: "arranging a plurality of porous chip pieces in a row at appropriate intervals along the longitudinal direction of a horizontal bar. Then, each chip piece in the horizontal bar is raised or lowered relative to the height position of the horizontal bar and the level of the liquid for forming a solid electrolyte layer placed in the processing tank, and the solid electrolyte is removed. A step of immersing in a layer forming liquid, and raising or lowering the height position of the horizontal bar and the liquid level of the solid electrolyte layer forming liquid to each chip piece in the horizontal bar by the solid electrolyte layer In the method for forming a solid electrolyte layer, the step of draining the liquid so as to separate from the forming liquid and the step of firing each chip piece in the horizontal bar are repeated as appropriate times. For forming electrolyte layer When at least each chip piece is separated from the liquid surface of the solid electrolyte layer forming liquid in the step of draining away from the body, the horizontal bar is inclined such that one end is lower and the other end is higher. In addition, the liquid draining member contacts or approaches at least one chip piece located at one end of the horizontal bar among the chip pieces in the horizontal bar. " .

【0014】[0014]

【発明の作用・効果】このように、横バーにおける各チ
ップ片を固体電解質層形成用液体から離すように液切り
する工程のうち、少なくとも、各チップ片が前記固体電
解質層形成用液体の液面から離れるとき、前記横バー
を、その一端部が低く他端部が高くなるように傾斜する
ことにより、横バーに固着した各チップ片における横バ
ーからの突出寸法にバラ付きが存在しても、各チップ片
のうち横バーにおける一端部に位置する少なくとも一つ
のチップ片が最も低い高さの位置になるから、前記固体
電解質層形成用液体における液面は、最後において、前
記横バーにおける一端部に位置する少なくとも一つのチ
ップ片から離れることになる。
As described above, in the step of draining each chip piece on the horizontal bar so as to separate the chip piece from the solid electrolyte layer forming liquid, at least each chip piece is a liquid of the solid electrolyte layer forming liquid. When separating from the surface, the horizontal bar is inclined so that one end thereof is lower and the other end thereof is higher, so that there is variation in the protrusion dimension from the horizontal bar in each chip piece fixed to the horizontal bar. Also, since at least one chip piece located at one end of the horizontal bar of each chip piece is located at the lowest height, the liquid level in the solid electrolyte layer forming liquid is finally at the horizontal bar. It will be away from at least one chip piece located at one end.

【0015】そこで、前記横バーにおける各チップ片の
うち横バーの一端部に位置する少なくとも一つのチップ
片に対して液切り部材を接触又は近接することにより、
前記少なくとも一つのチップ片に多く付着するか、付着
しようとしている電解質層形成用液体は、これに接触又
は近接する液切り部材に移行するように吸い取られるこ
とになるから、前記少なくとも一つのチップ片に付着す
る電解質層形成用液体の量を、他のチップ片に付着する
電解質層形成用液体の量に近づけるように少なくするこ
とができるのである。
Therefore, by contacting or approaching the liquid draining member to at least one chip piece located at one end of the horizontal bar among the respective chip pieces in the horizontal bar,
The liquid for forming an electrolyte layer that is attached to or attached to the at least one chip piece is sucked so as to be transferred to a liquid draining member that is in contact with or close to the at least one chip piece, so that the at least one chip piece is removed. The amount of the liquid for forming an electrolyte layer adhering to the chip pieces can be reduced so as to approach the amount of the liquid for forming an electrolyte layer adhering to other chip pieces.

【0016】従って、本発明によると、コンデン素子の
複数個を横バーを使用して製造する場合において、所定
の寸法・形状から外れて不良品になることが確実に少な
くなり、不良品の発生率を大幅に低減できる効果を有す
る。
Therefore, according to the present invention, when a plurality of the condensed elements are manufactured by using the horizontal bars, the number of defective products deviating from predetermined dimensions and shapes is reliably reduced, and defective products are generated. This has the effect of greatly reducing the rate.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
10及び図11の図面について説明する。これら図11
及び図12に符号Cで示す処理槽は、前記図7及び図8
に示す処理槽Cと同じものであり、また、符号10で示
す金属製の横バーも、前記図5に示す横バー10と同じ
もので、この横バー10には、多孔質のチップ片2の複
数個が、当該各チップ片2から突出する陽極棒3を固着
することによって手方向に適宜間隔で一列に並べて装着
されている。更に、この横バー10における各チップ片
2は、前記従来と同様に、図6に示す陽極酸化により、
五酸化タンタル等の誘電体膜が形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. These FIG.
12 and FIG. 12, the processing tank shown in FIG.
The metal horizontal bar indicated by reference numeral 10 is also the same as the horizontal bar 10 shown in FIG. 5, and the horizontal bar 10 has a porous chip piece 2. Are attached in a line at appropriate intervals in the hand direction by fixing anode rods 3 protruding from the respective chip pieces 2. Further, each chip piece 2 in the horizontal bar 10 is anodized as shown in FIG.
A dielectric film such as tantalum pentoxide is formed.

【0018】先づ、前記横バー10を、前記処理槽Cの
両側に配設した受け枠体E1,E2の上面に載置するこ
とにより、これに固着した各コンデンサ素子1における
チップ片2を、図10に示すように、処理槽C内に挿入
したのち、処理槽C内に、硝酸マンガン水溶液Dを、供
給弁C1より当該硝酸マンガン水溶液Dの液面が前記チ
ップ片2における上端面2aと略同一面になる高さまで
上昇するように供給して、前記各チップ片2を、硝酸マ
ンガン水溶液D中に浸漬して、各チップ片2の内部に、
前記硝酸マンガン水溶液Dを浸透する。
First, the horizontal bar 10 is placed on the upper surfaces of the receiving frames E1 and E2 arranged on both sides of the processing tank C, so that the chip pieces 2 of the respective capacitor elements 1 fixed thereto are removed. As shown in FIG. 10, after being inserted into the processing tank C, a manganese nitrate aqueous solution D is supplied into the processing tank C, and the liquid level of the manganese nitrate aqueous solution D is changed from the supply valve C1 to the upper end surface 2a of the chip piece 2. And each of the chip pieces 2 is immersed in an aqueous solution of manganese nitrate D, and
The manganese nitrate aqueous solution D is permeated.

【0019】次いで、前記処理槽C内における硝酸マン
ガン水溶液Dを排出弁C2より順次排出して、その液面
を、図11に示すように、各チップ片2の下端面2bか
ら下方に下降することにより、各チップ片2を硝酸マン
ガン水溶液Dから液切りする。次いで、各チップ片2を
乾燥・焼成することを複数回にわたって繰り返し、これ
によって、前記五酸化タンタル等の誘電体膜の表面に、
二酸化マンガン等の金属酸化物による固体電解質層6a
を形成する。
Next, the aqueous solution of manganese nitrate D in the processing tank C is sequentially discharged from the discharge valve C2, and the liquid level is lowered from the lower end surface 2b of each chip piece 2 as shown in FIG. Thereby, each chip piece 2 is drained from the manganese nitrate aqueous solution D. Next, the drying and firing of each chip piece 2 is repeated a plurality of times, whereby the surface of the dielectric film such as the tantalum pentoxide,
Solid electrolyte layer 6a made of metal oxide such as manganese dioxide
To form

【0020】そして、本発明においては、前記図11に
示すように、処理槽C内における硝酸マンガン水溶液D
の液面を下降することによって、各チップ片2を硝酸マ
ンガン水溶液Dから液切りする工程のうち、少なくとも
各チップ片2が前記硝酸マンガン水溶液Dの液面から離
れるとき、前記横バーを、その両端を支持する両受け枠
体E1,E2のうち一方の受け枠体E1のみを適宜高さ
だけ上昇動するか、或いは、他方の受け枠体E2のみを
適宜高さだけ下降動することにより、当該横バー10に
おける一端部10aが低く他端部10bが高くなるよう
に水平面に対して適宜角度θに傾斜するように構成す
る。
In the present invention, as shown in FIG.
In the step of draining each chip piece 2 from the manganese nitrate aqueous solution D by lowering the liquid level of the manganese nitrate aqueous solution D, when at least each chip piece 2 separates from the liquid surface of the manganese nitrate aqueous solution D, the horizontal bar is moved. By moving only one of the receiving frames E1 and E2 supporting both ends only by an appropriate height, or by moving only the other receiving frame E2 by an appropriate height, The horizontal bar 10 is configured to be appropriately inclined at an angle θ with respect to a horizontal plane so that one end 10a is low and the other end 10b is high.

【0021】更に、前記処理槽C内に、ブラシ等のよう
な液切り部材Fを、当該液切り部材Fが前記横バー10
における各チップ片2のうち横バー10の一端部10a
に位置する少なくとも一つのチップ片2に対して接触又
は近接するようにして設けるのである。このように、処
理槽C内における硝酸マンガン水溶液Dの液面を下降す
ることによって横バー10における各チップ片2を硝酸
マンガン水溶液Dから離すように液切りする工程のう
ち、少なくとも、各チップ片2が前記硝酸マンガン水溶
液Dの液面から離れるとき、前記横バー10を、その一
端部10aが低く他端部10bが高くなるように傾斜す
ることにより、この横バー10に固着した各チップ片2
における横バー10からの突出寸法Lにバラ付きが存在
しても、各チップ片2のうち横バー10における一端部
10aに位置する少なくとも一つのチップ片2が最も低
い高さの位置になるから、前記硝酸マンガン水溶液Dに
おける液面は、最後において、前記横バー10における
一端部10aに位置する少なくとも一つのチップ片2か
ら離れることになる。
Further, in the processing tank C, a liquid draining member F such as a brush or the like is placed.
Of each chip piece 2 at one end 10a of the horizontal bar 10
Is provided so as to be in contact with or close to at least one chip piece 2 located at the position (1). As described above, in the step of lowering the liquid level of the aqueous solution of manganese nitrate D in the processing tank C to drain each chip piece 2 on the horizontal bar 10 so as to be separated from the aqueous solution of manganese nitrate D, at least each of the chip pieces 2 is separated from the liquid surface of the aqueous solution of manganese nitrate D, the chip is fixed to the horizontal bar 10 by inclining the horizontal bar 10 so that one end 10a is low and the other end 10b is high. 2
, Even if there is a variation in the projection dimension L from the horizontal bar 10, at least one of the chip pieces 2 located at one end 10 a of the horizontal bar 10 is at the lowest height position. Finally, the liquid surface of the manganese nitrate aqueous solution D is finally separated from at least one chip piece 2 located at one end 10 a of the horizontal bar 10.

【0022】そこで、前記横バー10における各チップ
片2のうち横バー10の一端部10aに位置する少なく
とも一つのチップ片2に対して、処理槽C内に設けた液
切り部材Fを接触又は近接することにより、前記少なく
とも一つのチップ片2に多く付着するか、付着しようと
している硝酸マンガン水溶液は、これに接触又は近接す
る液切り部材Fに移行するように吸い取られることにな
るから、前記少なくとも一つのチップ片2に付着する硝
酸マンガン水溶液の量を、他のチップ片2に付着する硝
酸マンガン水溶液の量に近づけるように確実に少なくす
ることができるのである。
Therefore, the liquid draining member F provided in the processing tank C contacts or contacts at least one chip piece 2 located at one end 10a of the horizontal bar 10 among the chip pieces 2 of the horizontal bar 10. By approaching, a large amount of the manganese nitrate aqueous solution that adheres to the at least one chip piece 2 or is about to adhere is sucked so as to move to the liquid draining member F that comes into contact with or comes close to the manganese nitrate aqueous solution. The amount of the aqueous manganese nitrate solution adhering to at least one chip piece 2 can be reliably reduced so as to approach the amount of the aqueous manganese nitrate solution adhering to the other chip pieces 2.

【0023】なお、前記実施の形態は、処理槽C内に硝
酸マンガン水溶液Dを供給してその液面を上昇すること
により、この硝酸マンガン水溶液D中に横バー10にお
ける各チップ片2を浸漬し、前記処理槽C内における硝
酸マンガン水溶液Dを排出してその液面を下降すること
により、横バー10における各チップ片2を前記硝酸マ
ンガン水溶液Dから離すように液切りする場合を示した
が、本発明は、これに限らず、前記両受け枠体E1,E
2の下降動にて横バー10を下降することにより、その
各チップ片2を硝酸マンガン水溶液D中に浸漬する一
方、前記両受け枠体E1,E2の上昇動にて横バー10
を上昇することにより、その各チップ片2を硝酸マンガ
ン水溶液Dから離すように液切りし、この途中におい
て、前記横バー10を傾斜するよう構成しても良いので
あり、また、前記液切り部材Fは、前記実施の形態のよ
うに、処理槽C内に設けることに代えて、横バー10に
設けるか、或いは、別のブラケットに設けるようにして
良いことは言うまでもない。
In the above-described embodiment, each chip piece 2 of the horizontal bar 10 is immersed in the aqueous manganese nitrate solution D by supplying the aqueous manganese nitrate solution D into the treatment tank C and raising the liquid level. The manganese nitrate aqueous solution D in the treatment tank C was discharged and the liquid level was lowered, so that each chip piece 2 in the horizontal bar 10 was drained away from the manganese nitrate aqueous solution D. However, the present invention is not limited to this, and the two receiving frames E1, E
2 is immersed in the aqueous manganese nitrate solution D by lowering the horizontal bar 10 by the downward movement of the horizontal bar 10, while the horizontal bar 10 is moved by the upward movement of both the receiving frames E1 and E2.
, The liquid may be drained so as to separate each chip piece 2 from the aqueous solution of manganese nitrate D, and the horizontal bar 10 may be configured to be inclined in the middle of this. Needless to say, F may be provided on the horizontal bar 10 or provided on another bracket instead of being provided in the processing tank C as in the above-described embodiment.

【0024】特に、本発明者の実験によると、前記液切
り部材Fとして、スポンジを使用した場合には、硝酸マ
ンガン水溶液Dに泡立ちが発生したが、このスポンジに
代えてブラシを使用した場合には、硝酸マンガン水溶液
Dに泡立ちが発生することを低減できるのであった。
In particular, according to an experiment conducted by the present inventors, when a sponge was used as the liquid draining member F, bubbling occurred in the manganese nitrate aqueous solution D. However, when a brush was used instead of the sponge. Was able to reduce the occurrence of bubbling in the manganese nitrate aqueous solution D.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】固体電解コンデンサの縦断正面図である。FIG. 1 is a vertical sectional front view of a solid electrolytic capacitor.

【図2】図1のII−II視平断面図である。FIG. 2 is a plan sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】安全ヒューズ付き固体電解コンデンサの縦断正
面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional front view of a solid electrolytic capacitor with a safety fuse.

【図4】コンデンサ素子を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a capacitor element.

【図5】前記コンデンサ素子の複数個を横バーに固着し
た状態を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a state in which a plurality of the capacitor elements are fixed to a horizontal bar.

【図6】前記横バーにおける各コンデンサ素子に対して
陽極酸化処理を行っている状態を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a state where an anodizing process is performed on each capacitor element in the horizontal bar.

【図7】前記横バーにとける各コンデンサ素子に従来の
方法にて固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 7 is a view showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in the horizontal bar by a conventional method.

【図8】前記横バーにおける各コンデンサ素子に従来の
方法にて固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in the horizontal bar by a conventional method.

【図9】従来の方法によるコンデンサ素子の縦断正面図
である。
FIG. 9 is a vertical sectional front view of a capacitor element according to a conventional method.

【図10】本発明の方法にて横バーにおける各コンデン
サ素子に固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in a horizontal bar by the method of the present invention.

【図11】本発明の方法にて横バーにおける各コンデン
サ素子に固体電解質層を形成している状態を示す図であ
る。
FIG. 11 is a diagram showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on each capacitor element in a horizontal bar by the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンデンサ素子 2 チップ片 2a チップ片の上端面 2b チップ片の下端面 3 陽極棒 6 陰極側電極膜 6a 固体電解質層 6b グラファイト膜6b 6c 金属膜 10 横バー 10a 横バーの一端部 10b 横バーの他端部 C 処理槽 C1 供給弁 C2 排出弁 D 硝酸マンガン水溶液 E1,E2 受け枠体 F 液切り部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Capacitor element 2 Chip piece 2a Upper end face of chip piece 2b Lower end face of chip piece 3 Anode rod 6 Cathode side electrode film 6a Solid electrolyte layer 6b Graphite film 6b 6c Metal film 10 Horizontal bar 10a One end of horizontal bar 10b Horizontal bar Other end C Treatment tank C1 Supply valve C2 Discharge valve D Manganese nitrate aqueous solution E1, E2 Receiving frame F Fluid draining member

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】多孔質のチップ片の複数個を横バーに対し
てその長手方向に沿って適宜間隔で一列状に並べて固着
し、次いで、前記横バーの高さ位置と処理槽内に入れた
固体電解質層形成用液体の液面との相対的な上昇又は下
降にて前記横バーにおける各チップ片を前記固体電解質
層形成用液体中に浸漬する工程と、前記横バーの高さ位
置と前記固体電解質層形成用液体の液面との相対的な上
昇又は下降にて横バーにおける各チップ片を前記固体電
解質層形成用液体から離すように液切りする工程と、前
記横バーにおける各チップ片を焼成する工程とを適宜回
数繰り返すようにした固体電解質層の形成方法におい
て、 前記横バーにおける各チップ片を前記固体電解質層形成
用液体から離すように液切りする工程のうち少なくとも
各チップ片が前記固体電解質層形成用液体の液面から離
れるとき、前記横バーを、その一端部が低く他端部か高
くなるように傾斜すると共に、この横バーにおける各チ
ップ片のうち横バーの一端部に位置する少なくとも一つ
のチップ片に対して液切り部材を接触又は近接すること
を特徴とする固体電解コンデンサ用コンデンサ素子にお
ける固体電解質層の形成方法。
1. A plurality of porous chip pieces are fixedly arranged in a row on a horizontal bar at appropriate intervals along the longitudinal direction thereof, and then placed in a processing tank at a height position of the horizontal bar. Immersing each chip piece in the horizontal bar in the solid electrolyte layer forming liquid at a relative rise or fall with respect to the liquid level of the solid electrolyte layer forming liquid, and the height position of the horizontal bar; A step of draining each chip piece in the horizontal bar so as to be separated from the solid electrolyte layer forming liquid by relative ascent or descent with respect to the liquid surface of the solid electrolyte layer forming liquid, and each chip in the horizontal bar And a step of baking the piece is repeated as appropriate times. In the method for forming a solid electrolyte layer, at least each chip piece in the step of draining each chip piece in the horizontal bar so as to be separated from the solid electrolyte layer forming liquid Before When the horizontal bar is separated from the liquid surface of the liquid for forming a solid electrolyte layer, the horizontal bar is inclined so that one end thereof is low and the other end is high, and one end of the horizontal bar among the chip pieces in the horizontal bar. Wherein the liquid drain member is brought into contact with or close to at least one chip piece located at the position (1) above.
JP21590998A 1998-07-30 1998-07-30 Method for forming solid electrolyte layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor Expired - Fee Related JP3654559B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21590998A JP3654559B2 (en) 1998-07-30 1998-07-30 Method for forming solid electrolyte layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21590998A JP3654559B2 (en) 1998-07-30 1998-07-30 Method for forming solid electrolyte layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000049051A true JP2000049051A (en) 2000-02-18
JP3654559B2 JP3654559B2 (en) 2005-06-02

Family

ID=16680269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21590998A Expired - Fee Related JP3654559B2 (en) 1998-07-30 1998-07-30 Method for forming solid electrolyte layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3654559B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006115195A1 (en) * 2005-04-21 2006-11-02 Showa Denko K. K. Solid electrolytic capacitor and method for producing same
JP2006324656A (en) * 2005-04-21 2006-11-30 Showa Denko Kk Solid electrolytic capacitor and its manufacturing method
JP2011129805A (en) * 2009-12-21 2011-06-30 Murata Mfg Co Ltd Solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing the same
DE102021004971A1 (en) 2020-10-20 2022-04-21 Sew-Eurodrive Gmbh & Co Kg Transmission with a housing and a shaft unit

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006115195A1 (en) * 2005-04-21 2006-11-02 Showa Denko K. K. Solid electrolytic capacitor and method for producing same
JP2006324656A (en) * 2005-04-21 2006-11-30 Showa Denko Kk Solid electrolytic capacitor and its manufacturing method
JP2011129805A (en) * 2009-12-21 2011-06-30 Murata Mfg Co Ltd Solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing the same
DE102021004971A1 (en) 2020-10-20 2022-04-21 Sew-Eurodrive Gmbh & Co Kg Transmission with a housing and a shaft unit

Also Published As

Publication number Publication date
JP3654559B2 (en) 2005-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7158368B2 (en) Process for producing solid electrolytic capacitor and solid electrolytic capacitor
JP4010447B2 (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JPH10106897A (en) Structure of capacitor element used for solid electrolytic capacitor an solid forming method for chip body of the capacitor element
JPH07320983A (en) Structure for solid electrolytic capacitor
JPH07320982A (en) Manufacture of capacitor element for tantalum solid electrolytic capacitor
JP2000049051A (en) Method of forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor
JP4703444B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
US5693104A (en) Process for making capacitor element for solid electrolytic capacitor
JP2000012395A (en) Method for forming solid electrolyte layer for capacitor element for solid electrolytic capacitor
JP2000133553A (en) Method for forming solid electrolytic layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor
JPH11251189A (en) Manufacture of capacitor element in solid-state electrolytic capacitor
JPH07192978A (en) Structure of solid electrolytic capacitor with safety fuse
JP3980434B2 (en) Capacitor element in solid electrolytic capacitor, method for manufacturing the capacitor element, and solid electrolytic capacitor using the capacitor element
JP2000049048A (en) Chip-type solid electrolytic capacitor and manufacture thereof
JP3294362B2 (en) Structure of solid electrolytic capacitor and method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JPH1197297A (en) Method and apparatus for manufacturing solid electrolyte layer of solid electrolytic capacitor element for solid electrolytic capacitor
JPS60949B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
JP4119167B2 (en) Manufacturing method of capacitor element used for solid electrolytic capacitor
JP2727645B2 (en) Chip-shaped solid electrolytic capacitor
JPH06163331A (en) Manufacture of solid electrolytic capacitor
JP3198749B2 (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP3294361B2 (en) Structure of solid electrolytic capacitor and method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JPH08115852A (en) Method for manufacturing capacitor element in solid electrolytic capacitor
JP2003086466A (en) Method for forming dielectric layer in capacitor element for solid electrolytic capacitor and apparatus thereof
JPH06252009A (en) Structure of solid electrolytic capacitor and manufacture thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050111

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050208

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050225

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees