JP2000131839A - 光重合性組成物及び光重合性画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で溶剤への溶解性に優れる光重合性組
成物を提供する。 【解決手段】 少なくとも１個のエチレン性不飽和二重
結合を有する付加重合可能な化合物と光重合開始系を含
有する光重合性組成物において、該光重合開始系が、少
なくともラジカル活性剤であるチタノセン化合物と、ア
ルキレン鎖を介してアニリン態窒素原子と結合する二個
のカルボン酸エステル基又はカルボン酸アミド基を有す
る化合物を含有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版、
配線板用銅エッチングレジスト、グラビア用銅エッチン
グレジスト、ドライフィルム、カラーフィルター及びプ
ラズマディスプレー用顔料分散レジスト等各種のパター
ン形成に好適に使用可能な光重合性組成物及び光重合性
画像形成材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤（結着樹脂）等からなる
光重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を支持体
上に塗布して光重合性組成物の層を設けた感光材料を作
成し、所望画像を像露光して露光部分を重合硬化させ、
未露光部分を溶解除去することにより硬化レリーフ画像
を形成する方法、少なくとも一方が透明である二枚の支
持体間に光重合性組成物の層を設け、透明支持体側より
露光し、光による接着強度の変化を惹起させた後、支持
体を剥離することにより画像を形成する画像作成方法、
その他光重合性組成物層の光によるトナー付着性の変化
を利用した画像作成方法等がある。

【０００３】上記の画像形成の方法に応用される光重合
性組成物の光重合開始剤としては、従来、ベンゾイン、
ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケタール、ベン
ゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、あるいはミヒ
ラーケトン等が用いられてきたが、これらの光重合開始
剤は４００ｎｍ以下の紫外線領域を中心とした短波長の
光線に対し感応し得る機能を有していた。近年、画像形
成技術の発展に伴い可視領域の光線に対し高度な感応性
を有するフォトポリマーが強く要請されるようになって
きた。例えば、アルゴンイオンレーザーの４８８ｎｍ及
びＦＤ−ＹＡＧレーザーの５３２ｎｍの発振ビームを用
いたレーザー製版方式は将来有望視される技法の一つで
あり、これに対応して５００ｎｍ前後まで感度域を拡張
した光重合開始系が多数提案されている。しかしながら
それらを応用した光重合性画像形成材料は感度的に充分
ではなかった。

【０００４】一方、光重合性画像形成材料のレーザー製
版以外の新しい使用分野として液晶フラットディスプレ
イの作製があり、表面の接着性の低いガラス支持体上に
高濃度の有機あるいは無機の顔料、蛍光体粉体、ガラス
粉体等を含有する光重合性組成物を塗設した光重合画像
形成材料が注目されている。該光重合性画像形成材料は
高濃度の色材を含有しているため、色材による、照射光
の光吸収あるいは光重合過程の失活等の減感作用に影響
され難く、さらには酸素等による光重合過程の失活等に
も影響され難く、ポリビニルアルコール層等の酸素バリ
アー層を用いなくても高い感応感度を示すことが要求さ
れている。

【０００５】一方、これら光重合性画像形成材料の感度
を向上させる目的で、ラジカル活性剤としてチタノセン
を、また重合加速剤としてＮ−フェニルグリシン等のア
ミノ酸を光開始系に含有させた例（特開平５−１３２５
０７号公報）が報告されているが、Ｎ−フェニルグリシ
ンは一般に塗布溶媒に対する溶解性が比較的低く、未溶
解物による塗布欠陥が発生しやすく添加量が低く抑えら
れるため、あるいは塗布溶媒が限定されるため感度向上
効果が十分得られない場合があり問題であった。また、
特開平８−２５４８２１号公報には高感度化と良好な保
存寿命を目的としてＮ−アリールポリカルボン酸等のポ
リカルボン酸共開始剤を含む光重合開始剤系が報告され
ているが、これについても塗布溶媒に対する溶解性は低
く問題となっていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】かかる問題を解決する
ため、本発明は、高感度・溶剤への溶解性に優れる光重
合性組成物及びこれを用いた光重合性画像形成材料の提
供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため鋭意検討を行った結果、光重合開始系
に、特定のアミノカルボン酸エステル又はアミノカルボ
ン酸アミド系化合物を含有させることにより感度・溶剤
への溶解性が大幅に改善されることを見出し本発明に至
った。即ち本発明は、少なくとも１個のエチレン性不飽
和二重結合を有する付加重合可能な化合物と光重合開始
系を含有する光重合性組成物において、該光重合開始系
が、少なくともラジカル活性剤であるチタノセン化合物
と、アルキレン鎖を介してアニリン態窒素原子と結合す
る２個のカルボン酸エステル基又はカルボン酸アミド基
を有する化合物を含有することを特徴とする光重合性組
成物に存する。

【０００８】本発明の光重合性組成物は、チタノセン化
合物と、アルキレン鎖を介してアニリン態窒素原子と結
合する２個のカルボン酸エステル基又はカルボン酸アミ
ド基を有する化合物「アミノ酸ジエステル化合物」又は
「アミノ酸ジアミド化合物」と称す。）との併用により
高い感度を有する。高感度が発現する理由は明らかでは
ないが、添加された「アミノ酸ジエステル化合物」又は
「アミノ酸ジアミド化合物」が光重合性層と支持体の密
着性を向上させ、また、アルカリ現像時、アルカリ現像
液に未露光の光重合性層が溶出されることを促進させる
機能と共に、チタノセンのラジカル発生で開始されるア
クリレートモノマーの重合過程において、ラジカル連鎖
移動剤として働き、活性ラジカルを発生させる機能、さ
らに、光重合性層に浸透してくる酸素を捕捉し、光重合
時の光重合性層中の酸素濃度を低下させる機能等によ
り、露光部分と未露光部分のアルカリ現像時における高
い溶解性の差を与え、高い感応感度が発現されるものと
考えられる。

【０００９】なお、同様の効果は特開平５−１３２５０
７記載のＮ−フェニルグリシンにも見られるが、Ｎ−フ
ェニルグリシンは塗布溶剤に対する溶解性が低いため、
不溶物による塗布欠陥が発生しやすく、配合量が制限さ
れる、あるいは使用される塗布溶剤が制限される等の欠
点があるが、「アミノ酸ジエステル化合物」及び「アミ
ノ酸ジアミド化合物」は溶剤への溶解性が優れており、
効果が大幅に向上する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下本発明につき詳細に説明す
る。本発明の光重合性組成物に含まれるエチレン性不飽
和二重結合を少なくとも１つ有する付加重合可能な化合
物（以下、「エチレン性化合物」と略す）とは、光重合
性組成物が活性光線の照射を受けた場合、第二の必須成
分である光重合開始系の作用により付加重合し、硬化す
るようなエチレン性不飽和二重結合を有する化合物であ
り、例えばエチレン性不飽和結合を有する単量体、また
は、側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有
する重合体である。なお、本発明における単量体の意味
するところは、いわゆる高分子物質に相対する概念であ
って、従って、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オ
リゴマーをも含有するものである。

【００１１】エチレン性不飽和結合を有する単量体とし
ては例えば不飽和カルボン酸、それとモノヒドロキシ化
合物とのエステル、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽
和カルボン酸とのエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合
物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸
と多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合
物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化
合物とのエステル化反応により得られるエステル、ポリ
イソシアネート化合物と（メタ）アクリロイル含有ヒド
ロキシ化合物とを反応させたウレタン骨格を有するエチ
レン性化合物等が挙げられる。

【００１２】なお、本明細書において、「（メタ）アク
リロイル〜」等は「アクリロイル〜またはメタクリロイ
ル〜」等を意味する。前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物
と不飽和カルボン酸とのエステルは、特に限定されるも
のではないが、具体例としては、エチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の
アクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレート
をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様
にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネ
ートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに
代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。

【００１３】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエ
ステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも
単一物ではなく、混合物であっても良い。代表的な具体
例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸及びエチレングリ
コールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸及びジエチレ
ングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及
びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピ
ン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げ
られる。

【００１４】ポリイソシアネート化合物と（メタ）アク
リロイル基含有ヒドロキシ化合物とを反応させたウレタ
ン骨格を有するエチレン性化合物としては、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート；シクロヘキ
サンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
の脂環式ジイソシアネート；トリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイ
ソシアネート等と２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシ
（１，１，１−トリアクリロイルオキシメチル）プロパ
ン、３−ヒドロキシ（１，１，１−トリメタクリロイル
オキシメチル）プロパン等の（メタ）アクリロイル基含
有ヒドロキシ化合物との反応物が挙げられる。

【００１５】その他本発明に用いられるエチレン性化合
物の例としてはエチレンビスアクリルアミド等のアクリ
ルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；
ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用で
ある。これらのエチレン性化合物の配合率は通常光重合
性組成物の全固形分の１０〜８０重量％、好ましくは２
０〜７０重量％である。

【００１６】本発明の光重合開始系に用いられるチタノ
セン化合物は、光を直接吸収し、あるいは光増感されて
分解し、活性ラジカルを発生する機能を有する。該チタ
ノセン化合物としては、チタノセン構造を有する種々の
ものを用いることができるが、例えば特開昭５９−１５
２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載
されている各種チタノセン類から適宜選んで用いること
ができる。具体的には下記一般式（２）で表されるチタ
ノセン化合物が挙げられる。

【００１７】

【化２】

【００１８】（式中、Ｒ¹⁴〜Ｒ²³はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基
または複素環を示す。） さらに具体的には、例えば、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−
Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ
−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−ト
リフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−
ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
６−ジ−フルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニ−１
−イル等を挙げることができる。

【００１９】チタノセン化合物の配合率は、本発明の光
重合性組成物の全固形分の０．１〜３０重量％、好まし
くは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは０．７〜１
０重量％である。配合率が著しく低いと感度低下を起こ
し、反対に著しく高いと未露光部分の現像液に対する溶
解性が低下し、現像不良を誘起させやすい。本発明の光
重合性組成物中には、必要に応じて、感応感度を高める
目的で、画像露光光源の波長に応じた増感色素を配合さ
せることができる。

【００２０】これら増感色素の例としては、例えば紫外
光光源に対しては、特開平１０−３９５０３号公報に記
載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素が挙げ
られる。紫外光光源に対する増感色素のうち好ましくは
４，４′−ジアルキルアミノベンゾフェノンが好まし
い。

【００２１】４５０ｎｍ以上の光源に対しては、特開平
４−２２１９５８号、同４−２１９７５６号公報に記載
のキサンテン色素、特開平３−２３９７０３号、同５−
２８９３３５号公報に記載の複素環を有するクマリン色
素、特開平６−１９２４０号公報に記載のピロメテン色
素、特開平３−２３９７０３号、同５−２８９３３５号
に記載の３−ケトクマリン化合物、その他、特開昭４７
−２５２８号、同５４−１５５２９２号、特公昭４５−
３７３７７号、特開昭４８−８４１８３号、同５２−１
１２６８１号、同５８−１５５０３号、同６０−８８０
０５号、同５９−５６４０３号、特開平２−６９号、特
開昭５７−１６８０８８号、特開平５−１０７７６１
号、特開平５−２１０２４０号、特開平４−２８８８１
８号に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色
素等を挙げることができる。

【００２２】該４５０ｎｍ以上の光源に対する増感色素
のうち、複素環を有するクマリン色素、ピロメテン色素
が特に感応感度が高く好ましい。これら４５０ｎｍ以上
の光源に対する増感色素は紫外光光源に対する増感色素
として用いることもできる。増感色素の配合率は光重合
性組成物の全固形分の０〜２０重量％、好ましくは０．
２〜１５重量％、さらに好ましくは０．５〜１０重量％
である。

【００２３】また本発明に用いられる光重合開始系には
必要に応じて、特開平１０−３９５０３号公報記載のヘ
キサアリールビイミダゾール誘導体、ハロメチル−ｓ−
トリアジン誘導体等のラジカル活性剤及びＮ，Ｎ−ジメ
チルアミノ安息香酸エチルエステル等のＮ，Ｎ−ジアル
キルアミノ安息香酸アルキルエステル、２−メルカプト
ベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾイミダゾール等の複素環を有
するメルカプト化合物等の加速剤等の付加剤を併用する
ことができる。これら付加剤の配合率は光重合性組成物
の全固形分の０〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０
重量％である。

【００２４】本発明に用いられるアルキレン鎖を介して
アニリン態窒素原子と結合する２個のカルボン酸エステ
ル又はカルボン酸アミド構造を有する化合物（「アミノ
酸ジエステル化合物」又は「アミノ酸ジアミド化合物」
と称す。）としては、置換または非置換のアニリンの窒
素原子に２個の置換オキシカルボニルアルキレン基が置
換した構造を有する種々の化合物から選択される。特に
下記一般式（１）で示される化合物またはこの化合物が
直接または接合基を介して縮合した化合物が挙げられ
る。

【００２５】

【化３】

【００２６】｛式中、ｍ１、ｍ２は、それぞれ独立し
て、１〜１０の整数を表す。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵及びＲ²¹、
Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²は、それぞれ独立して、水素原子、置
換基を有していても良い鎖状もしくは環状のアルキル
基、置換基を有していても良い鎖状もしくは環状のアル
コキシ基、置換基を有していても良い鎖状もしくは環状
のアルキルチオ基、置換基を有していても良いアルキル
カルボニル基、置換基を有していても良いアルケニル
基、置換基を有していても良いアルケニルオキシ基、ハ
ロゲン原子、ホルミル基、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル
基、置換基を有していても良いアルキルカルボニルオキ
シ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、置換基を有して
いても良いアルコキシアルキル基、置換基を有していて
も良いアルコキシアルコキシ基、置換基を有していても
良いアルキルスルホニル基、置換基を有していても良い
アリール基、置換基を有していても良いアリールオキシ
基、置換基を有していても良いアラルキルオキシ基、置
換基を有していても良いアリールチオ基、置換基を有し
ていても良いアリールカルボニル基、置換基を有してい
ても良い芳香族複素環基、−ＣＲ ⁸ ＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ⁹ 基
（Ｒ⁸ は、水素原子又は炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖
アルキル基、Ｒ⁹ はシアノ基又は炭素数２〜７の直鎖又
は分岐鎖アルコキシカルボニル基、炭素数２〜７の直鎖
又は分岐鎖フルオロアルコキシカルボニル基を表
す。）、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹基、−ＣＯＮＲ¹²Ｒ¹³基（Ｒ¹⁰、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、それぞれ独立して、水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、
アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、ヒドロ
キシアルキル基を表す。又、Ｒ¹⁰とＲ¹¹或いはＲ¹²とＲ
¹³は互いに結合して環状基の１部を形成しても良く、或
いはＲ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³はそれぞれ窒素原子と共に
ベンゼン環に縮合して環を形成し得る２価の連結基を示
す。）、置換基を有していても良いフルオロアルキル
基、置換基を有していても良いフルオロアルコキシ基、
置換基を有していても良いフルオロアルキルチオ基、置
換基を有していても良いアクリロイル基、置換基を有し
ていても良いアクリロイルオキシ基を表す。ｍ１、ｍ２
が２以上の場合、複数のＲ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²は同じ
でも異なっていても良い。Ｘは−ＯＲ⁶¹又は−ＮＲ⁶²Ｒ
⁶³基を表し、Ｙは−ＯＲ⁷¹又は−ＮＲ⁷²Ｒ⁷³基を表す
（Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁷¹、Ｒ⁷²、Ｒ⁷³は、それぞれ独
立して、置換基を有していても良いアルキル基、置換基
を有していても良いアリール基、置換基を有していても
良いアルケニル基、置換基を有していても良いアクリロ
イル基を表す。また、Ｒ⁶²とＲ⁶³の何れか一方及び／又
はＲ⁷²とＲ⁷³の何れか一方は水素原子であっても良
い。）｝

【００２７】前記一般式（１）において、ｍ１、ｍ２は
それぞれ独立に、１〜１０の整数を表し、好ましくは１
〜５、より好ましくは１〜４の整数である。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵
で表される基としては水素原子；メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基、ドデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖
または分岐のアルキル基；前記アルキル基に対応する炭
素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキルチオ基；前記
アルキル基に対応する炭素数１〜２０の直鎖または分岐
のアルキルスルホニル基；前記アルキル基に対応する炭
素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコキシ基；シクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等の炭素数３〜１０のシクロアルキル基；
前記シクロアルキル基に対応する炭素数３〜１０のシク
ロアルキルオキシ基；前記シクロアルキル基に対応する
炭素数３〜１０のシクロアルキルチオ基；アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリ
ル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル
基、ヘプタノイル基等の炭素数２〜２１の直鎖または分
岐のアルキルカルボニル基；ビニル基、プロペニル基、
ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等の炭素数２
〜２０の直鎖または分岐のアルケニル基；シクロペンテ
ニル基、シクロヘキセニル等の炭素数３〜１０のシクロ
アルケニル基；プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ
基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素
数３〜２０の直鎖または分岐のアルケニルオキシ基；フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；ホル
ミル基；ヒドロキシル基；カルボキシル基；メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキ
シカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓ
ｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカル
ボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数
２〜２１の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ
基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカ
ルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカ
ルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、
ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜２１の
直鎖または分岐のアルキルカルボニルオキシ基；ニトロ
基；シアノ基；スルホ基；メトキシメチル基、メトキシ
エチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、ｎ−
プロポキシエチル基、ｎ−プロポキシプロピル基、イソ
プロポキシメチル基、イソプロポキシエチル基等の炭素
数２〜２１の直鎖または分岐のアルコキシアルキル基；
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等の炭素数２
〜２１のアルコキシアルコキシ基；フェニル基等のアリ
ール基；ベンジル基、フェネチル基等の直鎖または分岐
のアラルキル基；フェノキシ基等のアリールオキシ基；
ベンジルオキシ基等の直鎖または分岐のアラルキルオキ
シ基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；フェニ
ルチオ基等のアリールチオ基；チオフェン環、フラン
環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリ
アゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、チアジア
ゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピ
リダジン環、トリアジン環、ベンゾフラン環、インドー
ル環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、キノリン環、クマリン環、キノキサ
リン環、ジベンゾフラン環、カルバゾール環、アクリジ
ン環、フェナントロリン環、フェノチアジン環等の芳香
族複素環基；−ＣＲ⁸ ＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ⁹ （Ｒ⁸ は水素原
子、または上述の如き炭素数１〜６の直鎖または分岐の
アルキル基を表し、Ｒ⁹ はシアノ基または上述の炭素数
２〜７の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基、炭
素数２〜７の直鎖または分岐のフルオロアルコキシカル
ボニル基を表す。）；−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹又は−ＣＯＮＲ¹²Ｒ
¹¹基（Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、それぞれ独立して、
水素原子、上述の如き炭素数１〜１２の直鎖または分岐
のアルキル基、炭素数２〜１２の直鎖または分岐のアル
ケニル基、置換基を有していてもよいフェニル基等のア
リール基、炭素数７〜２０の直鎖または分岐のアラルキ
ル基、炭素数２〜１２の直鎖または分岐のアルコキシア
ルキル基、炭素数２〜１２の直鎖または分岐のアルキル
カルボニル基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のヒド
ロキシアルキル基を表す。Ｒ¹⁰とＲ¹¹或いはＲ¹²とＲ¹³
は互いに結合してピロリジニル基、ピペリジニル基等の
環を形成してもよく、またはベンゼン環に縮合して例え
ばジュロリジン環、トリヒドロキノリン環等の環状基を
形成してもよい）；

【００２８】トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフル
オロイソプロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パ
ーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｓｅ
ｃ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフ
ルオロ−ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖また
は分岐のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ
基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロ−ｎ−
プロポキシ基、ヘプタフルオロイソプロポキシ基、パー
フルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−
ブトキシ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブトキシ基、パー
フルオロ−ｎ−ペンチルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−
ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖または分岐
のフルオロアルコキシ基；トリフルオロメチルチオ基、
ペンタフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロ−ｎ−プ
ロピルチオ基、ヘプタフルオロイソプロピルチオ基、パ
ーフルオロ−ｎ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチルチオ
基、パーフルオロ−ｎ−ペンチルチオ基、パーフルオロ
−ｎ−ヘキシルチオ基等の炭素数１〜２０の直鎖または
分岐のフルオロアルキルチオ基；アクリロイル基；アク
リロイルオキシ基等が挙げられる。これらの基は更に置
換基を有していても良い。

【００２９】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ 及びＲ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²と
して好ましくは、水素原子、置換されていても良い炭素
数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３〜
１０の環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖または
分岐のアルコキシ基、炭素数３〜１０の環状のアルコキ
シ基、炭素数２〜２１の直鎖または分岐のアルコキシア
ルキル基、炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル
チオ基、炭素数３〜１０の環状のアルキルチオ基、フェ
ニル基等のアリール基、直鎖または分岐のアラルキル
基；アリールオキシ基、直鎖または分岐のアラルキルオ
キシ基、アリールチオ基、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹（Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹の
定義は上記に同じ。）等の電子供与性置換基が挙げられ
る。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ として特に好ましくは、水素原子、置換
されていても良い炭素数１〜１０の直鎖または分岐のア
ルコキシ基、炭素数３〜１０の環状のアルコキシ基が挙
げられる。Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²として特に好ましく
は、水素原子、置換されていても良い炭素数１〜１０の
直鎖または分岐のアルキル基が挙げられる。

【００３０】Ｒ⁶¹〜Ｒ⁶³、Ｒ⁷¹〜Ｒ⁷³としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜２０の直
鎖または分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル等の炭素
数３〜１０の環状のアルキル基；フェニル基等のアリー
ル基；チオフェン環、フラン環、ピロール環等の芳香族
複素環基；ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペン
テニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜２０の直鎖また
は分岐のアルケニル基；アクリロイル基等が挙げられ
る。これらの基は更に置換基を有していても良い。Ｒ⁶¹
〜Ｒ⁶³、Ｒ⁷¹〜Ｒ⁷³として好ましくは、置換基を有して
いても良い炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル
基、炭素数２〜２０の直鎖または分岐のアルケニル基等
が挙げられる。

【００３１】Ｒ¹ 〜Ｒ⁷³で示される基が有していても良
い好ましい置換基としては、アルキル基、アリール基、
アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アシル基、ア
ルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、ヒドロキ
シル基、シアノ基、アリル基、ビニル基、アリールオキ
シ基、ハロゲン原子、ホルミル基、ニトロ基、スルホ
基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェニル
スルホニル基、アミノ基、アミド基、アクリロイルオキ
シ基が挙げられ、これらの基は更に置換されていても良
い。更に、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³の何れか一方、及び／又はＲ⁷²、
Ｒ⁷³の何れか一方は水素原子であっても良い。

【００３２】本発明のジエステル又はジアミド化合物と
しては上記一般式（１）の化合物の代わりに、２個或い
はそれ以上の一般式（１）の化合物が、直接或いは接合
基を介して縮合した化合物を使用しても良い。接合基と
しては、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、

【００３３】

【化４】

【００３４】等が挙げられる。一般式（１）で示される
化合物またはこの化合物が直接または接合基を介して縮
合した化合物の代表的なものを下記表−１に示す。な
お、本発明の「アミノ酸ジエステル化合物」又は「アミ
ノ酸ジアミド化合物」は表−１の化合物に限定されるも
のではない。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【表２】

【００３７】

【表３】

【００３８】

【表４】

【００３９】

【表５】

【００４０】

【表６】

【００４１】一般式（１）のアミノ酸ジエステル化合物
又はアミノ酸ジアミド化合物は、Ａｃｈｉｌｌｅ Ｂａ
ｒｃｏ，ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３１，Ｎｏ．２１，ｐ３０３９−
３０４２，１９９０年、特開平６−１９２１９０号公報
等に記載の公知の方法によって合成することができる。
アミノ酸ジエステル化合物の合成方法の例としては、下
記に示す通り、相当するアニリン化合物とアクリロイル
化合物またはメタアクリロイル化合物との反応（α）、
相当するアニリン化合物とハロゲン化酢酸エステルとの
反応（β）等を挙げることができる。また、アミノ酸ジ
アミド化合物の合成方法の例としては、相当するジカル
ボン酸とアニリン化合物との反応（γ）等を挙げること
ができる。

【００４２】

【化５】

【００４３】これらアミノ酸ジエステル化合物又はアミ
ノ酸ジアミド化合物、それらの縮合物の配合率は、光重
合性組成物の全固形分に対して０．１〜３０重量％、好
ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは０．５
〜１０重量％である。更に、これらアミノ酸ジエステル
化合物、アミノ酸ジアミド化合物及びそれらの縮合物は
２種以上併用してもよい。本発明の光重合性組成物は前
記の各構成成分の他に本組成物の改質、光硬化後の物性
改善のために結合剤として有機高分子物質をさらに添加
することが好ましい。結合剤は相溶性、皮膜形成性、現
像性、接着性等の改善目的に応じて適宜選択すればよ
い。

【００４４】有機高分子物質の具体的な例としては例え
ば下記の化合物が挙げられる。 １）ポリオレフィン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン等。 ２）ジエン系ポリマー；ポリブタジエン、ポリイソプレ
ン等。 ３）共役ポリエン構造を有するポリマー；ポリアセチレ
ン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー等。 ４）ビニルポリマー；ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、
ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリア
クリロニトリル、ポリビニルフェノール等。 ５）ポリエーテル；ポリフェニレンエーテル、ポリオキ
シラン、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、ポ
リエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
アセタール等。 ６）フェノール樹脂；ノボラック樹脂、レゾール樹脂
等。 ７）ポリエステル；ポリエチレンテレフタレート、ポリ
フェノールフタレインテレフタレート、ポリカーボネー
ト、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等。 ８）ポリアミド；ナイロン−６、ナイロン６６、水溶性
ナイロン、ポリフェニレンアミド等。 ９）ポリペプチド；ゼラチン、カゼイン等。 １０）エポキシ樹脂およびその変性物；ノボラックエポ
キシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹脂、ノボラックエ
ポキシアクリレートおよび酸無水物により変性樹脂等。 １１）その他；ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹
脂、尿素樹脂、ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、
ポリピロール、ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリス
ルホン、セルロース類等。

【００４５】これらの樹脂の中では樹脂側鎖または主鎖
にカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基等を有す
る樹脂を含有すると、光重合性組成物がアルカリ現像可
能なため、公害防止の観点から好ましい。特にカルボキ
シル基を有する樹脂、例えば、アクリル酸（共）重合
体、スチレン／無水マレイン酸樹脂、ノボラックエポキ
シアクリレートの酸無水物変性樹脂等は高アルカリ現像
性なので好ましい。さらに、アクリル系樹脂は現像性に
優れているので好ましく、様々なモノマーを選択して種
々の共重合体を得ることが可能なため、性能および製造
制御の観点からより好ましい。

【００４６】より具体的にはカルボキシル基を含有する
アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸、
（無水）マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル
酸、等のカルボキシル基を有するモノマーとスチレン、
α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、
（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸
ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、（メタ）アク
リルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル
グリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、ク
ロトン酸グリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸クロ
ライド、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリ
ロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、等のコモノマーを共重合させたポリマーが
挙げられる。中でも好ましいのは構成モノマーとして少
なくとも（メタ）アクリル酸あるいは（メタ）アクリル
酸アルキルエーテルを含有するアクリル樹脂であり、さ
らに好ましくは（メタ）アクリル酸およびスチレンを含
有するアクリル樹脂である。

【００４７】また、これらの樹脂は側鎖にエチレン性二
重結合を付加させることもできる。樹脂側鎖に二重結合
を付与することにより光硬化性が高まるため、解像性、
密着性をさらに向上させることができ好ましい。エチレ
ン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、特公
昭５０−３４４４３、特公昭５０−３４４４４等に記載
の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル基や
水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基およ
び（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物やアクリル
酸クロライド等を反応させる方法が挙げられる。例え
ば、（メタ）アクリル酸グリシジル、アリルグリシジル
エーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロトニ
ルグリシジルエーテル、（イソ）クロトン酸グリシジル
エーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル
（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸クロライ
ド、（メタ）アリルクロライド等の化合物を使用し、カ
ルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させることに
より側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。特
に、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メ
タ）アクリレートのような脂環式エポキシ化合物を反応
させた樹脂が好ましい。

【００４８】これらのアクリル樹脂のＧＰＣで測定した
重量平均分子量の好ましい範囲は１，０００〜１００，
０００である。重量平均分子量が１，０００以下である
と均一な塗膜を得るのが難しく、また、１００，０００
を超えると現像性が低下する傾向がある。また、カルボ
キシル基の好ましい含有量の範囲は酸価で５〜２００で
ある。酸価が５以下であるとアルカリ現像液に不溶とな
り、また、２００を超えると感度が低下することがあ
る。

【００４９】これらの有機高分子物質は、光重合性組成
物の全固形分中、通常、１０〜８０重量％、好ましくは
３０〜８０重量％である。本発明の光重合性組成物は、
必要に応じさらに熱重合防止剤、可塑剤、保存安定剤、
表面保護剤、平滑剤、塗布助剤その他の添加剤を添加す
ることができる。熱重合防止剤としては例えばハイドロ
キノン、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール、カテ
コール、２，６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナ
フトール等が挙げられ、これら熱重合防止剤の配合量は
光重合性組成物の全固形分中、熱重合防止剤が０〜３％
であることが好ましい。

【００５０】また、前記可塑剤としては、例えばジオク
チルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレン
グリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレ
ート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が
あり、光重合性組成物の全固形分中１０％以下添加する
ことができる。

【００５１】本発明の光重合性組成物を無溶媒または好
ましくは適当な溶剤に溶解して溶液とし、これを支持体
上に塗布、乾燥して支持体上に感光性層を塗設すること
により、感光性平板印刷版、プリント配線板、ドライフ
ィルム、カラーフィルター及びプラズマディスプレイ形
成材料等の各種光重合性画像形成材料を製作することが
できる。形成する感光性層は、その用途によっても異な
るが、通常、乾燥膜厚０．１〜５０μｍ、好ましくは
０．３〜１０μｍである。溶剤としては、例えばメチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸ア
ミル、プロピオン酸エチル、トルエン、キシレン、モノ
クロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、ト
リクロロエタン、ジメチルホルムアミド、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、ベント
キソン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が
あり、一種または二種以上を併用して用いることもでき
る。

【００５２】本発明の光重合性画像形成材料に使用され
る支持体は、画像露光、それに続く現像処理時におい
て、未露光部分の除去を容易にし、支持体表面の非画像
部分に光重合性組成物の残留（地汚れ）を防ぐ機能を有
することが好ましい。かかる支持体の具体例としては、
例えばアルミニウム、マグネシウム、銅、亜鉛、クロ
ム、ニッケル、鉄等の金属またはそれらを主成分とした
合金のシート；上質紙、アート紙、剥離紙等の紙類；ガ
ラス、セラミックス等の無機シート；ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、ポリスチレン、６−ナイロン、セルローストリア
セテート、セルロースアセテートブチレート等のポリマ
ーシート等が挙げられる。

【００５３】本発明の光重合性画像形成材料は平版印刷
板にも有利に適用され、この場合の支持体としては、上
記の支持体材料のうち、従来公知の方法に従って、陽極
酸化及び必要により親水化処理（砂目立て処理）を施し
たアルミ支持体が好適に用いられる。また、本発明の光
重合性画像形成材料は、さらに酸素による感度低下や保
存安定性の劣化等の悪影響を防止するための公知の技
術、例えば、感光性層上に剥離可能な透明カバーシート
を設けたり、酸素透過性の小さなロウ状物質、水溶性ポ
リマー等による被膜層を設けることもできる。

【００５４】また、本発明の光重合性画像形成材料は光
重合組成物中に黒色色材を含有する場合には液晶ディス
プレー、プラズマディスプレー用の遮光性を有する感光
性樹脂着色画像形成材料として好適に用いることができ
る。下記に好適な黒色色材について説明する。黒色色材
は単色で黒色の色材の単独もしくは複数の使用または、
赤、緑、青色等の混合による黒色色材が使用可能であ
る。また、これら色材は無機または有機の顔料、染料の
中から適宜選択することができる。無機、有機顔料の場
合には平均粒径１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下
に分散して用いるのが好ましい。

【００５５】混合使用可能な色材の具体例としてはビク
トリアピュアブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４
１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシッ
ク１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダ
ミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００
（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、
Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リ
オノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファ
ーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエ
ロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラーファース
トレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッド７
Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧ
Ｒ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１
５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１
５：６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド
１６８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリ
ーン３６）等が挙げられる（なお、上記の（ ）内の数
字は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味す
る。）。

【００５６】また、さらに他の混合可能な顔料について
Ｃ．Ｉナンバーにて示すと、例えば、Ｃ．Ｉ．黄色顔料
２０、２４、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１
２５、１３７、１３８、１４７、１４８、１５３、１５
４、１６６；Ｃ．Ｉ．オレンジ顔料３６、４３、５１、
５５、５９、６１；Ｃ．Ｉ．赤色顔料９、９７、１２
２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９
２、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２
４、２２６、２２７、２２８、２４０；Ｃ．Ｉ．バイオ
レット顔料１９、２３、２９、３０、３７、４０、５
０；Ｃ．Ｉ．青色顔料１５、１５：１、１５：４、２
２、６０、６４；Ｃ．Ｉ．緑色顔料７；Ｃ．Ｉ．ブラウ
ン顔料２３、２５、２６等を挙げることができる。

【００５７】また、単独使用可能な黒色色材としては、
カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラッ
ク、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、
シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。こ
れらの中で、黒色色材としてはカーボンブラックが遮光
率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの
例としては、以下のようなカーボンブラックが挙げられ
る。

【００５８】三菱化学社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１
１、ＭＡ１００、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、＃５２、＃
５０、＃４７、＃４５、＃２７００、＃２６５０、＃２
２００、＃１０００、＃９９０、＃９００； デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ９５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９
０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉ
ｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４
０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３、Ｐｒｉｎ
ｔｅｘＡ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａ
ｃｋ５５０、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ３５０、Ｓｐ
ｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ２５０、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌ
ａｃｋ１００；

【００５９】キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、
Ｍｏｎａｒｃｈ４３０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎ
ａｒｃｈ１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃ
ｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥ
ＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５
０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＢＬＡＣ
Ｋ ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０；

【００６０】コロンビヤン カーボン社製：ＲＡＶＥＮ
１１、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３
５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４
２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥ
Ｎ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、Ｒ
ＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１
０４０

【００６１】なお、上記のカーボンブラックは、他の黒
色または有色の無機、有機顔料と併用しても良い。本発
明の光重合性組成物は上記遮光膜以外にも赤、緑、青等
の着色画像形成用、また無機の蛍光体及びガラスの微粒
子を配合したプラズマディスプレー用画像形成用として
も使用することが可能である。色材としては上記色材と
同様のものが使用できる。

【００６２】着色色材料の配合率は光重合性組成物の全
固形成分の０〜７０重量％、好ましくは１〜６０重量％
の範囲である。特に、黒色の遮光性着色色材画像形成材
料として使用される場合には、黒色色材の配合率が４０
〜７０重量％、特に４０〜６０重量％の範囲であること
が好ましい。

【００６３】本発明組成物は前記の各構成成分の他に顔
料分散剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤等を
好適に添加することができる。特に、黒色顔料を配合す
る場合には顔料分散剤を添加するのが好ましい。本発明
の光重合組成物を用いたカラーフィルターのブラックマ
トリックス等の遮光膜形成用材料の製造方法について説
明する。通常黒色色材はあらかじめペイントコンディシ
ョナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミ
ル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を
用いて分散処理してインクを調製しておくことが好まし
い。分散処理により黒色色材が微粒子化されるためレジ
ストの遮光能力向上及び塗布特性の向上が達成される。

【００６４】分散処理は、黒色色材と溶剤または分散機
能を有するバインダー樹脂、あるいは分散剤をさらに併
用した系にて処理するのが好ましい。特に高分子分散剤
を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。サ
ンドグラインダーで分散させる場合には、０．１から数
ミリ径のガラスビーズまたはジルコニアビーズが好まし
く用いられる。分散させる条件は通常、温度は０℃から
１００℃であり、好ましくは室温から８０℃の範囲であ
る。分散時間はインキの組成（黒色色材、溶剤、分散
剤）及びサンドグラインダーの装置サイズ等により適正
時間が異なるため適宜調整する。

【００６５】次に上記分散処理によって得られた黒色イ
ンキをバインダー樹脂、エチレン性不飽和結合化合物及
び光重合開始剤を配合、混合し均一な溶液とする。製造
工程においては微細なゴミが感光液に混ざることが多い
ため、得られたレジスト感光液はフィルター等によりろ
過処理することが好ましい。続いて、該遮光膜形成用光
重合性組成物を用いたカラーフィルターの製造方法につ
いて説明する。

【００６６】まず、透明基板上に、上記遮光性組成物を
スピナー、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコータ
ー、ロールコーター、スプレー等の塗布装置により塗布
して乾燥した後、該試料の上にフォトマスクを置き、該
フォトマスクを介して画像露光、現像、必要に応じて熱
硬化あるいは光硬化により遮光用ブラックマトリックス
画像を形成させ、さらに同様の操作を赤、緑、青の３色
の着色感光性組成物について各々繰り返し、カラーフィ
ルター画像を形成させる。

【００６７】なお、光重合性組成物を用いてカラーフィ
ルターの画素を形成する場合には、非常に高感度、高解
像力であるため、ポリビニルアルコール等の酸素遮断層
を設けることなしに露光、現像して画像を形成すること
が可能である。ここで用いる透明基板は、カラーフィル
ター用の透明基板であり、その材質は特に限定されるも
のではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等
のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポ
リオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスルホン等の熱可塑性プラスチックシー
ト、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）ア
クリル樹脂等の熱硬化性プラスチックシート、あるいは
各種ガラス板等を挙げることができる。特に、耐熱性の
点からガラス板、耐熱性プラスチックが好ましく用いら
れる。

【００６８】このような透明基板には、表面の接着性等
の物性を改良するために、あらかじめコロナ放電処理、
オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー
等の各種ポリマーの薄膜処理等を行うこともできる。塗
布方法は特に限定されないが、塗布、乾燥後のブラック
マトリックスの膜厚が０．１〜２μｍ、好ましくは０．
１〜１．５μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍの範
囲とするのがよい。乾燥にはホットプレート、ＩＲオー
ブン、コンベクションオーブン等を用いることができ、
好ましい乾燥条件は４０〜１５０℃、乾燥時間は１０秒
〜６０分の範囲である。

【００６９】平版印刷版のアルミ支持体の保水性を改善
するために行われる砂目立て処理方法としては、機械的
に表面を粗面化するいわゆる機械的粗面化法と、電気化
学的に表面を粗面化するいわゆる電気化学的粗面化法が
ある。機械的粗面化法には例えばボール研磨、ブラシ研
磨、ブラスト研磨、ホーニング研磨、パフ研磨等の方法
があるが、ブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。ブ
ラシ研磨では、例えば、毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛
を植毛した円筒状ブラシを回転し、接触面に研磨剤を水
に分散させたスラリーを供給しながら支持体表面に押し
付けて粗面化を行う。ホーニング研磨では、研磨剤を水
に分散させたスラリーをノズルより圧力をかけて射出
し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行う。研
磨剤としては、火山灰、アルミナ、炭化珪素等の一般に
研磨に使用されるものが挙げられ、その粒度は＃２００
〜＃２０００、好ましくは＃４００〜＃８００である。

【００７０】電気化学的粗面化は、一般に酸性電解液中
で交流電流を用いて粗面化を行う方法である。酸性電解
液は、通常、電気化学的粗面化法に用いられるものが使
用できるが、特に塩酸系または硝酸系電解液を用いるの
が好ましい。電気化学的粗面化法については、例えば、
特公昭４８−２８１２３号公報、英国特許第８９６５６
３号明細書、特開昭５３−６７５０７号公報、特開昭５
４−６３９０２号公報に記載されている方法を用いるこ
とができる。

【００７１】硝酸系電解液を用いての電気化学的粗面化
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖがさらに好ましい。電流密度は、１０〜２００
Ａ／ｄｍ² が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ² がさら
に好ましい。電気量は、１００〜２０００ｃ／ｄｍ² 、
好ましくは２００〜１５００ｃ／ｄｍ² 、より好ましく
は２００〜１０００ｃ／ｄｍ² である。温度は１０〜５
０℃が好ましく、１５〜４５℃がさらに好ましい。硝酸
濃度は０．１〜５重量％が好ましい。電解液には必要に
応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、リン
酸、クロム、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができ
る。

【００７２】塩酸系電解液を用いての電気化学的粗面化
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖがさらに好ましい。電流密度は、１０〜２００
Ａ／ｄｍ² が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ² がさら
に好ましい。電気量は、１００〜２０００ｃ／ｄｍ² が
好ましく２００〜１０００ｃ／ｄｍ² がより好ましい。
温度は１０〜５０℃が好ましく、１５〜４５℃がさらに
好ましい。塩酸濃度は０．１〜５重量％が好ましい。電
解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アル
デヒド類、リン酸、クロム、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加
えることができる。

【００７３】電気化学的に粗面化された支持体は、表面
のスマット等を除去したり、ピット形状をコントロール
する等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して
表面をエッチングすることが好ましい。酸としては例え
ば硫酸、過硫酸、フッ酸、リン酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を
用いるのが好ましい。アルカリの水溶液で浸漬処理を行
った場合には、リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、
あるいはそれらの混酸に浸漬し、中和処理を施すことが
好ましい。中和処理の次に陽極酸化処理を行う場合に
は、中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合
わせることが特に好ましい。次に支持体には、耐摩耗
性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化処
理によって酸化被膜を形成させる。この陽極酸化では一
般的に硫酸及び／またはリン酸等を１０〜５０％の濃度
で含む水溶液を電解液として電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ
² で電解することが好ましく用いられるが、他に米国特
許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸
中で高電流密度で電解する方法や米国特許第３，５１
１，６６１号明細書に記載されているリン酸を用いて電
解する方法等がある。該支持体の厚さは１０μｍ〜１０
ｍｍ、好ましくは２０μｍ〜１ｍｍ、さらに好ましくは
５０μｍ〜１ｍｍである。

【００７４】本発明の光重合性組成物あるいはこれを用
いた画像形成材料に適用し得る露光光源は、特に限定さ
れるものではないが、例えばキセノンランプ、ハロゲン
ランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、
カーボンアーク、蛍光ランプ等のランプ光源やアルゴン
イオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、
窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、半導体
レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の波長
のみを使用する場合には光学フィルターを利用すること
もできる。

【００７５】本発明の光重合性組成物は、かかる光源に
て画像露光を行った後、界面活性剤とアルカリを含有す
る水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成する
ことができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝
剤、染料または顔料を含有することができる。適当なア
ルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、及びトリメチルアミン、ジエチルアミン、イソ
プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン類等
の有機アミン化合物等が挙げられ、これらは単独もしく
は組み合わせて使用できる。界面活性剤としては、例え
ば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエ
チレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステ
ル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン
系界面活性剤；アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アル
キルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、ア
ルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等
のアニオン界面活性剤；アルキルベタイン類、アミノ酸
類等の両性界面活性剤が使用可能である。また、有機溶
剤としては例えば、イソプロピルアルコール、ベンジル
アルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フ
ェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトン
アルコール等を必要により含有させることが可能であ
る。現像処理方法については特に制限はないが、通常、
１０〜５０℃、好ましくは１５〜４５℃の現像温度で、
浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の
方法により行われる。

【００７６】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。なお、以下の例におい
て「部」は特記しない限り「重量部」を意味する。ま
た、以下の実施例及び比較例で使用したチタノセン化合
物、「アミノ酸ジエステル」及びアミノ酸の構造を下記
に示す。

【００７７】

【化６】

【００７８】

【化７】

【００７９】

【化８】

【００８０】参考例１（有機高分子物質の合成１） 酸価２００、重量平均分子量５，０００のスチレン・ア
クリル酸樹脂２０部、ｐ−メトキシフェノール０．２
部、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド０．２
部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト４０部をフラスコに仕込み、（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）メチルアクリレート７．６部を滴下し、１
００℃の温度で３０時間反応させた。反応液を水に再沈
殿、乾燥させて側鎖にアクリレート基を導入したスチレ
ン・アクリル酸樹脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定を行
ったところ樹脂の酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【００８１】参考例２（カーボンブラック分散インキの
調製） カーボンブラックＭＡ−２２０（三菱化学（株）製）５
０部、ＢＹＫ−１８２（ビックケミー社製高分子分散
剤）を固形分で５部、さらにプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテートを加えて固形分濃度が５０重
量％の分散液を調製した。この分散液を攪拌機によりよ
く攪拌しプレミキシングを行った。次に、ペイントシェ
ーカーにより２５〜４５℃の範囲で６時間分散処理を行
った。ビーズは０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用
い、分散液と同じ重量を加えた。分散終了後、フィルタ
ーによりビーズと分散液を分離し、分散インキを得た。

【００８２】実施例１〜３ 参考例１で合成した有機高分子物質及び参考例２で調製
したカーボンブラック分散インキを用いて、固形分が下
記の配合割合となるように各成分を加えスターラーによ
り攪拌、溶解させ、遮光性感光性樹脂液を調製した。

【００８３】

【表７】 有機高分子物質（参考例１） ２０部 エチレン性化合物；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １０部 光重合開始剤 ・チタノセン化合物 ３部 ・アミノ酸ジエステル化合物；表２に記載 ５部 ・４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ２部 顔料；カーボンブラック（ＭＡ−２２０） ５０部 溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３００部 高分子分散剤；ＢＹＫ−１８２（ビックケミー社製） ５部 界面活性剤；ＦＣ−４３０（住友３Ｍ社製） １００ｐｐｍ

【００８４】得られた遮光性感光樹脂液をスピンコータ
ーにてガラス基板（７０５９、コーニング社製）に乾燥
膜厚が１μｍになるように塗布してサンプルを形成し
た。次に、このサンプル上にグレースケールフィルムを
重ね、高圧水銀灯で１２００ｍｊ／ｃｍ² の露光量で像
露光した。濃度０．０５％の水酸化カリウム水溶液に浸
漬現像し、水洗して未硬化部分を除去した後、完全硬化
の段階及び現像後のベタ部の光学濃度（ＯＤ値）をマク
ベス透過濃度ＴＲ９２７（コルモルグン社製）で測定し
た。ＯＤ値は遮光能力を示す数値であり、数値が大きい
ほど高遮光性であることを示す。結果を表−２に示し
た。また、所定量の化合物−１〜７を１０ｇのプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテートに加え、１
時間攪拌し、未溶解物が存在するかどうかを評価し、全
く溶け残りのない場合を○、一部未溶解物が存在する場
合を×とした。結果を表−３に示した。

【００８５】比較例１〜２ 実施例において用いたアミノ酸ジエステル化合物をアミ
ノ酸に変更した以外は、実施例と同様にして試料の調
製、評価及び、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテートへの溶解性試験を行ったところ、比較例２
においては感度が低く画像が形成できず、比較例１、２
においてはプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートに対して未溶解物が存在した。結果を表−２に
示した。

【００８６】

【表８】 ステップ感度 １２００ｍｊ／ｃｍ²

【００８７】

【表９】

【００８８】

【表１０】

【００８９】参考例３（有機高分子物質の合成２） メチルメタクリレート／イソブチルメタクリレート／イ
ソブチルアクリレート／メタクリル酸＝３５／２０／１
０／３５モル％（仕込み比）の共重合体（Ｍｗ＝７万、
以下「結合材−１」と称す。）２００部と、（３，４−
エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート７５部、
ｐ−メトキシフェノール２．５部、テトラブチルアンモ
ニウムクロライド８部、及びプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート８００部を反応容器中に加
え、１１０℃で２４時間空気中で撹拌反応させて側鎖に
アクリレート基を導入した高分子結合材（酸価６０、結
合材−１のメタクリル酸成分全体の６割に不飽和基が反
応したもの。以下「結合材−２」と称す。）溶液を得
た。

【００９０】参考例４（有機高分子物質の合成３） （α−メチル）スチレン／アクリル酸の共重合体（商品
名“ＳＣＸ−６９０”Ｊｈｏｎｓｏｎ社製、酸価２４
０、Ｍｗ＝１万５千）８５５部と、（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）メチルアクリレート４９０部、ｐ−メ
トキシフェノール１．３部、テトラブチルアンモニウム
クロライド４．３部、及びプロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート１８００部を反応容器中に加
え、１２０℃で、１５時間空気中で撹拌反応させて高分
子結合材（酸価約１７０、（α−メチル）スチレン／ア
クリル酸の共重合体のアクリル酸成分全体の５割に不飽
和基が反応したもの。以下「結合材−３」と称す。）を
得た。

【００９１】実施例４〜１１ 厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液中で
６０℃で１分間脱脂処理を行った後、０．５モル／リッ
トルの濃度の塩酸水溶液中において、温度２８℃、電流
密度６０Ａ／ｄｍ² 、処理時間４０秒の条件で電解エッ
チング処理を行った。次いで４重量％水酸化ナトリウム
水溶液中で６０℃、１２秒間のデスマット処理を施した
後、２０重量％硫酸溶液中で、温度２０℃、電流密度
３．５Ａ／ｄｍ² 、処理時間１分の条件で陽極酸化処理
を行った。更に、８０℃の熱水で２０秒間熱水封孔処理
を行い、平版印刷版用支持体のアルミニウムシートを作
製した。

【００９２】該アルミニウムシート上に、ホワラーを用
い、下記組成の感光性組成物塗布液を乾燥膜厚２μｍに
なるように塗布し、更に、その表面にポリビニルアルコ
ール水溶液を、乾燥膜厚が３μｍになるように塗布して
感光材試料を作成し、下記方法で感度を評価した。結果
を表−４に示した。

【００９３】 〔感光性組成物塗布液〕 ・（光重合開始剤） 表−４に記載の化合物 表−４に記載の配合量 ・（有機高分子物質） 結合材−２ ３５部 結合材−３ １０部

【００９４】

【化９】

【００９５】 ・銅フタルシアニン顔料 ３部 ・アミノ酸ジエステル又はその他の添加剤 （表−４に記載の化合物） 表−４に記載の配合量 ・シクロヘキサノン １００部

【００９６】（感度の測定）感光材試料に、ウシオ電気
社製キセノンランプ：Ｕ１−５０１Ｃを用い、ナルミ社
製分光感度測定装置により横軸が波長、縦軸が対数的に
光強度が弱くなる様に１０秒間照射した。露光試料は、
炭酸ナトリウム０．７重量％及びアニオン性界面活性剤
（花王社製ペレックスＮＢＬ）０．５重量％を含む水溶
液により現像を行い、硬化画像の高さより光硬化画像形
成に必要な最も少ない露光量を算出し、その感光組成物
の感度とした。

【００９７】

【表１１】 ＊１；下記に示す ＊２；カッコ内は配合量（部） ＊３；Ｆ１は光重合性層が全面溶解し画像が形成されなかったことを示す。 ＊４；Ｆ２は不溶物のため、評価できなかったことを示す。

【００９８】

【化１０】

【００９９】

【化１１】

【０１００】

【化１２】

【０１０１】比較例３ 実施例４の塗布液から、化合物−１を除いた以外は同じ
組成の塗布液を使用し、実施例４と同様に感光材試料を
作成し、同様に評価を行ったところ、低感度であった。

【０１０２】比較例４ 実施例４の光重合開始剤のチタノセンを除いた以外、実
施例４と同様にして、感光材料を作成し、同様に評価を
行ったところ、低感度で、画像が形成されなかった。

【０１０３】比較例５〜６ 実施例１０の塗布液で使用した化合物−１の代わりに、
化合物−６又は化合物７を使用した以外は実施例１０と
同様にして感光材料を作成し、同様に評価を行ったとこ
ろ、何れの例も、感光性塗布液中に不溶物が残留し、塗
布欠陥が発生した。特に比較例６の場合は不溶物が多
く、画像形成不良のため、感度評価ができなかった。

【０１０４】

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、高感度で、
かつ光重合開始系に含有させる「アミノ酸ジエステル化
合物」又は「アミノ酸ジアミド化合物」の溶剤への溶解
性が優れるため、塗布欠陥が生じ難く、画像を高感度に
形成させる光重合性画像形成材料を提供することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浦野 年由 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AB03 AB11 AB13 AB15 AB17 AC01 AC04 AC08 AD01 BC31 BC51 CA19 CA22 CA27 CA39 CC12 4J011 QA03 QA04 QA13 QA22 QA23 QA34 SA61 SA77 SA78 SA82 SA85 TA03 TA09 UA01 UA02 WA01 WA05

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１個のエチレン性不飽和二重
   結合を有する付加重合可能な化合物と光重合開始系を含
   有する光重合性組成物において、該光重合開始系が、少
   なくともラジカル活性剤であるチタノセン化合物と、ア
   ルキレン鎖を介してアニリン態窒素原子と結合する２個
   のカルボン酸エステル基又はカルボン酸アミド基を有す
   る化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。
2. 【請求項２】 アルキレン鎖を介してアニリン態窒素原
   子と結合する２個のカルボン酸エステル基又はカルボン
   酸アミド基を有する化合物が、下記一般式（１）のアミ
   ノ酸ジエステル、アミノ酸ジアミドまたはそれらが直接
   または接合基を介して縮合した化合物であることを特徴
   とする請求項１記載の光重合性組成物。 【化１】 ｛式中、ｍ１、ｍ２は、それぞれ独立して、１〜１０の
   整数を表す。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵及びＲ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ
   ³²は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してい
   ても良い鎖状もしくは環状のアルキル基、置換基を有し
   ていても良い鎖状もしくは環状のアルコキシ基、置換基
   を有していても良い鎖状もしくは環状のアルキルチオ
   基、置換基を有していても良いアルキルカルボニル基、
   置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有し
   ていても良いアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、ホル
   ミル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、置換基を有
   していても良いアルコキシカルボニル基、置換基を有し
   ていても良いアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、
   シアノ基、スルホ基、置換基を有していても良いアルコ
   キシアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ
   アルコキシ基、置換基を有していても良いアルキルスル
   ホニル基、置換基を有していても良いアリール基、置換
   基を有していても良いアリールオキシ基、置換基を有し
   ていても良いアラルキルオキシ基、置換基を有していて
   も良いアリールチオ基、置換基を有していても良いアリ
   ールカルボニル基、置換基を有していても良い芳香族複
   素環基、−ＣＲ ⁸ ＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ⁹ 基（Ｒ⁸ は水素原子
   又は炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基を、Ｒ⁹
   はシアノ基又は炭素数２〜７の直鎖又は分岐鎖アルコキ
   シカルボニル基、炭素数２〜７の直鎖又は分岐鎖フルオ
   ロアルコキシカルボニル基を表す。）、−ＮＲ¹⁰Ｒ
   ¹¹基、−ＣＯＮＲ¹²Ｒ¹³基（Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ
   ¹³は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アル
   ケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアル
   キル基、アルキルカルボニル基、ヒドロキシアルキル基
   を表す。又、Ｒ¹⁰とＲ¹¹或いはＲ¹²とＲ¹³は互いに結合
   して環状基の１部を形成しても良く、或いはＲ¹⁰、
   Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³はそれぞれ窒素原子と共にベンゼン環
   に縮合して環を形成し得る２価の連結基を示す。）、置
   換基を有していても良いフルオロアルキル基、置換基を
   有していても良いフルオロアルコキシ基、置換基を有し
   ていても良いフルオロアルキルチオ基、置換基を有して
   いても良いアクリロイル基、置換基を有していても良い
   アクリロイルオキシ基を表す。ｍ１、ｍ２が２以上の場
   合、複数のＲ²¹、Ｒ²²、Ｒ³¹、Ｒ³²は同じでも異ってい
   ても良い。Ｘは−ＯＲ⁶¹又は−ＮＲ⁶²Ｒ⁶³基を表し、Ｙ
   は−ＯＲ⁷¹又は−ＮＲ⁷²Ｒ⁷³基を表す（Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ
   ⁶³、Ｒ⁷¹、Ｒ⁷²、Ｒ⁷³は、それぞれ独立して、置換基を
   有していても良いアルキル基、置換基を有していても良
   いアリール基、置換基を有していても良いアルケニル
   基、置換基を有していても良いアクリロイル基を表す。
   また、Ｒ⁶²とＲ⁶³の何れか一方及び／又はＲ⁷²とＲ⁷³の
   何れか一方が水素原子であってもよい。）｝
3. 【請求項３】 着色材料を全固形分の４０重量％以上含
   有することを特徴とする請求項１又は２記載の光重合性
   組成物。
4. 【請求項４】 着色材料が、カーボンブラックであるこ
   とを特徴とする請求項３記載の光重合性組成物。
5. 【請求項５】 請求項４記載の光重合性組成物からなる
   遮光膜形成用光重合性組成物。
6. 【請求項６】 支持体上に、請求項１乃至５の何れかに
   記載の光重合性組成物により形成されてなる感光性層を
   有することを特徴とする光重合性画像形成材料。
7. 【請求項７】 印刷版用支持体上に、請求項１又は２に
   記載の光重合性組成物により形成されてなる層を有する
   ことを特徴とする光重合性平版印刷版。