JP2000123725A - 酸化物カソード及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な電子放射がカソード表面から均一に得
られ、モアレ発生が抑制できる酸化物カソード及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 炭酸塩粒子懸濁液に、炭酸塩粒子２より
低温で熱分解するポリメチルメタアクリレート粒子３
を、炭酸塩粒子２に対し１０％以上１５０％以下の体積
比で混合し十分に撹拌する。次に、炭酸塩粒子懸濁液を
スプレー法によりカソードの基体金属１表面に塗布し、
炭酸塩塗布層を形成する。なお、ポリメチルメタアクリ
レート粒子は、体積平均径１μｍ以上１０μｍ以下、最
大粒子径２０μｍ以下とすることにより、加熱処理後の
炭酸塩塗布層中に適当な大きさの空隙が形成され、炭酸
塩粒子が酸化物となる際に発生する炭酸ガスがスムーズ
に放出され、且つ炭酸塩塗布層表面の平坦度が１０μｍ
以下となるため、モアレ発生を抑制でき、十分な電子放
射が均一に得られる酸化物カソードを製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビ用ブラウン
管等に使用される電子銃の電子管用酸化物カソードに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ブラウン管の電子銃等に用いられ
る熱電子放出用のカソードにおいては、熱電子を放出す
るカソード表面に熱電子の放出性能の高いＢａ、Ｓｒ等
の酸化物塗布層が形成されており、カソード表面からの
電子の放出分布が出来るだけ均一となるように、酸化物
塗布層の形成方法が種々検討されている。酸化物塗布層
の形成方法としては、アルカリ土類金属炭酸塩粒子を分
散させた炭酸塩粒子懸濁液をカソード表面に塗布して炭
酸塩塗布層を形成し、この炭酸塩塗布層に加熱処理を行
い炭酸塩粒子を酸化させることにより、カソード表面に
酸化物塗布層を形成する方法が用いられている。カソー
ド表面からの電子の放出分布を均一にするためには、酸
化物塗布層の表面をできるだけ平坦にすることが望まし
いが、一方、酸化物塗布層表面を平坦に形成するために
は、炭酸塩塗布層の嵩密度を高くする必要がある。炭酸
塩塗布層の嵩密度が高くなると、炭酸塩粒子の熱分解が
正常に行われないために十分な量の酸化物が形成され
ず、カソードの寿命が短くなる。

【０００３】上記のような問題を解決する方法として、
例えば特開平９−２１３２１８号公報では、炭酸塩粒子
懸濁液中に、炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華
する粒子を混合したものをカソード表面に塗布し、炭酸
塩塗布層を形成する方法が記載されている。この方法で
は、加熱処理により炭酸塩粒子が酸化物となる前に、炭
酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子が熱分
解あるいは昇華することにより、炭酸塩塗布層中に空隙
が形成され、炭酸塩粒子が酸化物となる際に発生する炭
酸ガスがスムーズに放出されるため、十分な量の酸化物
が生成され、従来より寿命の長い酸化物カソードを製造
することが可能となる。なお、この先行例では、炭酸塩
粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子として、炭
酸塩粒子と同等あるいはそれ以下の粒子径のものが使用
されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような方法で製造された従来の酸化物カソードは、炭酸
塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子の体積比
が炭酸塩粒子に対して大きすぎると、炭酸塩塗布層中に
必要以上の空隙が形成され、炭酸塩粒子相互の被着強度
が弱くなり、剥離して管内放電を誘発し、極度の初期エ
ミッションの劣化を起こすという問題があった。一方、
炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子の体
積比が小さすぎると、炭酸塩塗布層中に形成される空隙
の数が少ないために、炭酸塩粒子が酸化物となる際に発
生する炭酸ガスがスムーズに放出されず、酸化物生成が
十分に行われないため、十分な電子放射を得ることがで
きないという問題があった。

【０００５】また、炭酸塩粒子より低温で熱分解あるい
は昇華する粒子の体積平均径が１μｍ以下である場合、
炭酸塩粒子の隙間に埋もれてしまい、形成される空隙が
小さすぎるため、炭酸ガスがスムーズに放出されず、十
分な電子放射を得ることができなかった。一方、１０μ
ｍ以上の場合、加熱処理による熱分解（あるいは昇華）
の際に、表面の粒子によって形成された空隙がカソード
表面の平坦度を悪化してしまうために、電子の放出分布
が不均一となり、モアレ発生の原因になるという問題が
あった。さらに、最大粒子径が２０μｍより大きい場
合、熱分解の際に発生するガスによって炭酸塩塗布層表
面に２０μｍ以上の大きな噴火口状の穴が空いてしま
い、カソード表面の平坦度が局部的に悪化するため、電
子の放出分布が不均一となり、モアレ発生の原因になる
という問題があった。

【０００６】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、十分な電子放射がカソード表面
から均一に得られ、モアレ発生が抑制できる酸化物カソ
ード及びその製造方法を提供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係わる酸化物カ
ソードの製造方法は、少なくともＢａを含むアルカリ土
類金属の炭酸塩粒子を分散させた炭酸塩粒子懸濁液に、
炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子を、
炭酸塩粒子に対し１０％以上１５０％以下の体積比で混
合し十分に撹拌する工程と、炭酸塩粒子懸濁液をカソー
ド表面に塗布し、炭酸塩塗布層を形成する工程と、炭酸
塩塗布層に加熱処理を行い、炭酸塩粒子より低温で熱分
解あるいは昇華する粒子を熱分解あるいは昇華させた
後、さらに加熱処理を行い炭酸塩粒子を酸化させ、カソ
ード表面に酸化物塗布層を形成する工程を含んで製造す
るようにしたものである。

【０００８】また、炭酸塩粒子より低温で熱分解あるい
は昇華する粒子として、体積平均径１μｍ以上１０μｍ
以下のものを用いたものである。また、炭酸塩粒子より
低温で熱分解あるいは昇華する粒子として、最大粒子径
２０μｍ以下のものを用いたものである。さらに、炭酸
塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子として、
ポリメチルメタアクリレートまたはポリビニルアルコー
ルを用いたものである。

【０００９】また、本発明に係わる酸化物カソードは、
上記のいずれかに記載の製造方法によってカソード表面
に炭酸塩塗布層が形成された酸化物カソードであって、
加熱処理前の炭酸塩塗布層中に、炭酸塩粒子より低温で
熱分解あるいは昇華する粒子を、炭酸塩粒子に対し１０
％以上１５０％以下の体積比で分散させたものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態を図について説明する。図１は、本発明の実
施の形態１において作成された酸化物カソードの炭酸塩
塗布層の加熱処理前の状態を示す概略図である。図にお
いて、１は少量のＳｉ、Ｍｇを含有するＮｉよりなるカ
ソードの基体金属、２は基体金属１表面に形成された炭
酸塩塗布層中の炭酸塩粒子であり、少なくともＢａを含
み、他にＳｒ及びＣａを含むアルカリ土類金属炭酸塩を
主成分とする短辺約２μｍ、長辺約１０μｍの針状結晶
である。３は、炭酸塩塗布層中に所定の割合で分散され
た高分子材料であるポリメチルメタアクリレート粒子で
あり、炭酸塩粒子２より低温で熱分解するものである。

【００１１】本実施の形態による酸化物カソードの製造
方法について説明する。まず、３元炭酸塩粉末、酢酸ブ
チル及びニトロセルロースを１００：１０：０. ５の重
量比で混合し、十分に撹拌することにより炭酸塩粒子２
を分散させた炭酸塩粒子懸濁液を作成する。さらに、こ
の炭酸塩粒子懸濁液に、炭酸塩粒子２より低温で熱分解
あるいは昇華する粒子として、本実施の形態ではポリメ
チルメタアクリレート粒子３を炭酸塩粒子２に対し８０
％の体積比で混合し、十分に撹拌する。なお、ここで
は、ポリメチルメタアクリレート粒子３として、体積平
均径が約５μｍ、最大粒子径が１０μｍのものを用い
た。次に、上記の炭酸塩粒子懸濁液を、スプレーガンに
より２．５ｋｇ／ｃｍ³ の圧縮空気で噴霧して、あらか
じめ約６０℃に加熱しておいたカソードの基体金属１表
面に塗布し、厚さ約８０μｍとなったところで噴霧を終
了し、炭酸塩塗布層を形成する。この時、炭酸塩塗布層
中には、図１に示すように、所定量のポリメチルメタア
クリレート粒子３が分散している状態となっている。

【００１２】その後、炭酸塩塗布層が形成されたカソー
ドを電子銃に組み込み、ＣＲＴ製造工程において真空中
で加熱処理が行われる。まず、約４００℃の加熱処理を
行い、炭酸塩塗布層中に分散しているポリメチルメタア
クリレート粒子３をほぼ完全に熱分解させる。これによ
り、ポリメチルメタアクリレート粒子３が存在していた
空間には、図２に示すような適当な数及び大きさの空隙
が形成される。さらに、約９００℃の加熱処理を行い、
炭酸塩塗布層中の炭酸塩粒子３を酸化させ、カソードの
基体金属１表面に酸化物塗布層を形成する。ここで、炭
酸塩粒子２が酸化物となる際に発生する炭酸ガスは、ポ
リメチルメタアクリレート粒子３の熱分解後に形成され
た空隙によってスムーズに放出され、十分な量の酸化物
が生成されるため、十分な電子放射が得られる酸化物カ
ソードを製造することが可能である。

【００１３】次に、炭酸塩塗布層中に分散させるポリメ
チルメタアクリレート粒子の体積比について検討した結
果を記載する。体積平均径が５μｍのポリメチルメタア
クリレート粒子を炭酸塩粒子に対し１２５％、１５０
％、１７５％、２００％の体積比で混合した炭酸塩粒子
懸濁液を用い、上記と同様の方法で炭酸塩塗布層を形成
したカソードをＣＲＴに組み込み、初期エミッションの
測定を行った。その結果、体積比２００％のものは、初
期エミッションの劣化したものが約２０％発生し、体積
比１７５％以下では初期エミッションの劣化は認められ
なかった。次に、ＣＲＴを分解し、カソード表面を実体
顕微鏡で観察すると、体積比２００％の初期エミッショ
ンが劣化したカソード表面は、カソードと対向電極間で
放電が起きた放電跡が確認された。また、体積比２００
％で初期エミッション劣化を起こしていないカソード表
面では、放電跡は認められなかったが、炭酸塩塗布層の
一部が欠落しているものがあった。また、体積比１７５
％のカソード表面も放電跡は認められなかったが、炭酸
塩塗布層の一部が欠落しているものが約１０％の割合で
発生した。また、体積比１２５％、１５０％のカソード
表面は、上記のような異常は全く認められなかった。従
って、ポリメチルメタアクリレート粒子を炭酸塩粒子に
対し１５０％以下の体積比で混合することによって、炭
酸塩塗布層の剥離を防止でき、管内放電を無くすことが
できる。

【００１４】図３(a) は、体積平均径が５μｍのポリメ
チルメタアクリレート粒子３を炭酸塩粒子２に対し２０
０％の体積比で分散させた炭酸塩塗布層を示す概略図で
あり、図３(b) は、図３(a) に加熱処理を行い、ポリメ
チルメタアクリレート粒子３が熱分解した後の炭酸塩塗
布層を示す概略図である。体積平均径が５μｍのポリメ
チルメタアクリレート粒子３を炭酸塩粒子２に対し８０
％の体積比で分散させた炭酸塩塗布層（図１(a) ）で
は、ポリメチルメタアクリレート粒子３が炭酸塩粒子２
間の隙間を埋めるような状態で分散し、加熱処理による
熱分解により炭酸塩粒子２相互間に適当な空隙を形成し
（図１(b) ）、炭酸塩粒子２が酸化物となる際に発生す
る炭酸ガスの放出をスムーズにする役割を果たしてい
る。これに対し、体積比２００％の場合は、ポリメチル
メタアクリレート粒子３の量が多く、炭酸塩粒子２相互
間の結合を引き離すように分散しており（図３(a) ）、
ポリメチルメタアクリレート粒子３が熱分解した後に
は、炭酸塩粒子２相互間の結合部分が少なくなり、加熱
処理前に存在していた炭酸塩粒子２の一部が欠落してい
る（図３(b) ）。

【００１５】一方、体積平均径が５μｍのポリメチルメ
タアクリレート粒子を炭酸塩粒子に対し５％、７％、１
０％、１５％の体積比で混合した炭酸塩粒子懸濁液を用
い、上記と同様の方法で炭酸塩塗布層を形成したカソー
ドを、約４００℃で加熱処理し、炭酸塩塗布層中に分散
しているポリメチルメタアクリレート粒子が熱分解した
後の炭酸塩塗布層の嵩密度を測定した。なお、炭酸塩粒
子が酸化物となる際に発生する炭酸ガスがスムーズに放
出され、十分な電子放射を得るためには、カソードの炭
酸塩塗布層の嵩密度を１ｇ／ｃｍ³ 以下にする必要があ
る（参考文献：特開平９−２１３２１８号公報）。測定
の結果、ポリメチルメタアクリレート粒子の体積比が５
％と７％の炭酸塩塗布層の嵩密度は１ｇ／ｃｍ³ よりも
大きくなった。それに対し、体積比１０％と１５％の炭
酸塩塗布層の嵩密度は１ｇ／ｃｍ³ 以下となった。

【００１６】以上の検討結果より、加熱処理前の炭酸塩
塗布層中に、ポリメチルメタアクリレート粒子を炭酸塩
粒子に対し１０％以上１５０％以下の体積比で分散させ
ることにより、加熱処理後の炭酸塩塗布層に十分な数の
空隙が形成され、炭酸塩粒子が酸化物となる際に発生す
る炭酸ガスがスムーズに放出されると共に、炭酸塩粒子
相互間の結合力も保たれるため、炭酸塩塗布層の剥離に
よる管内放電等が発生せず、十分な電子放射が得られる
酸化物カソードを製造することができる。

【００１７】次に、炭酸塩塗布層に分散させるポリメチ
ルメタアクリレート粒子の体積平均径について検討した
結果を記載する。体積平均径が７μｍ、１０μｍ、１３
μｍのポリメチルメタアクリレート粒子を、炭酸塩粒子
に対し８０％の体積比で混合した炭酸塩粒子懸濁液を用
い、上記と同様の方法で炭酸塩塗布層を形成したカソー
ドを、約４００℃で加熱処理し、炭酸塩塗布層中に分散
しているポリメチルメタアクリレート粒子が熱分解した
後の炭酸塩塗布層の平坦度を測定した。なお、モアレ発
生を抑制するためには、カソード表面の平坦度は１０μ
ｍ以下とする必要がある（参考文献：特開平９−２１３
２１８号公報）。測定の結果、体積平均径が７μｍ、１
０μｍ、１３μｍの時の炭酸塩塗布層表面の平坦度はそ
れぞれ６μｍ、８μｍ、１１μｍであった。すなわち、
ポリメチルメタアクリレート粒子の体積平均径を１０μ
ｍ以下とすることにより、モアレ発生を抑制することが
可能である。

【００１８】図４(a) は、体積平均径が１０μｍ以上の
ポリメチルメタアクリレート粒子３を炭酸塩粒子２に対
し８０％の体積比で分散させた炭酸塩塗布層を示す概略
図であり、図４(b) は、図４(a) に加熱処理を行い、ポ
リメチルメタアクリレート粒子３が熱分解した後の炭酸
塩塗布層を示す概略図である。体積平均径が１０μｍ以
上のポリメチルメタアクリレート粒子３を用いた場合、
図４(b) に示すように、熱分解後に形成される空隙が大
きく、炭酸塩塗布層表面の平坦度が悪化してしまうた
め、カソード表面から放出される電子の放出分布が不均
一となり、モアレ発生の原因となり、ＣＲＴの品位が劣
化する。

【００１９】さらに、図５(a) は、体積平均径が７μ
ｍ、最大粒子径が２０μｍより大きいポリメチルメタア
クリレート粒子３を炭酸塩粒子２に対し８０％の体積比
で分散させた炭酸塩塗布層を示す概略図であり、図５
(b) は、図５(a) に加熱処理を行い、ポリメチルメタア
クリレート粒子３が熱分解した後の炭酸塩塗布層を示す
概略図である。平均体積径が７μｍ、最大粒子径が２０
μｍより大きいポリメチルメタアクリレート粒子３を用
いた場合、ポリメチルメタアクリレート粒子３が熱分解
する際の放出ガスが多く、一気に放出されたために、図
５(b) に示すように、炭酸塩塗布層の一部が吹き飛ばさ
れ、表面に大きな噴火口状の穴が形成される。このよう
な穴は局部的に炭酸塩塗布層の平坦度を悪化させるた
め、例えばこの穴の上にＧ１電極の電子通過孔が配置さ
れた場合、カソード表面から放出される電子の放出分布
が不均一となり、モアレ発生の原因となり、ＣＲＴの品
位が著しく劣化する。また、体積平均径が７μｍで、最
大粒子径が２０μｍ及び１６μｍのポリメチルメタアク
リレート粒子をそれぞれ炭酸塩粒子に対し８０％の体積
比で分散させた炭酸塩塗布層に同様な加熱処理を行った
結果、噴火口状の穴は発生しなかった。従って、ポリメ
チルメタアクリレート粒子の最大粒子径を２０μｍ以下
とすることにより、突発的なモアレ発生を抑制すること
ができる。

【００２０】一方、図６(a) は、体積平均径が１μｍ以
下のポリメチルメタアクリレート粒子３を炭酸塩粒子２
に対し８０％の体積比で分散させた炭酸塩塗布層を示す
概略図であり、図４(b) は、図４(a) に加熱処理を行
い、ポリメチルメタアクリレート粒子３が熱分解した後
の炭酸塩塗布層を示す概略図である。体積平均径が１μ
ｍ以下のポリメチルメタアクリレート粒子３を用いた場
合、図６(b) に示すように、ポリメチルメタアクリレー
ト粒子３による空隙がほとんど形成されていない。これ
は、炭酸塩粒子２が短辺約２μｍ、長辺約１０μｍの針
状結晶をしているために、ポリメチルメタアクリレート
粒子３を分散させなくても１μｍ程度の空隙は既に空い
ており、１μｍ以下のポリメチルメタアクリレート粒子
３を分散させても、十分な大きさの空隙は形成されない
ためである。

【００２１】以上の検討結果より、加熱処理前の炭酸塩
塗布層中に分散させるポリメチルメタアクリレート粒子
の体積平均径を１μｍ以上１０μｍ以下とすることによ
り、加熱処理後の炭酸塩塗布層に適当な大きさの空隙が
形成され、且つ炭酸塩塗布層表面の平坦度が１０μｍ以
下となるため、十分な電子放射がカソード表面から均一
に得られ、モアレ発生を抑制することができる。さら
に、ポリメチルメタアクリレート粒子の最大粒子径を２
０μｍ以下とすることにより、炭酸塩塗布層表面の平坦
度の局部的な悪化を防ぐことができ、突発的なモアレ発
生を抑制することができる。

【００２２】なお、本実施の形態では、炭酸塩粒子より
も低温で熱分解または昇華する粒子としてポリメチルメ
タアクリレート粒子を用いたが、これに限定されるもの
ではなく、例えばポリビニルアルコール等でも良く、同
様の効果が得られる。また、カソード表面に炭酸塩塗布
層を形成する方法としてスプレー法を用いたが、スクリ
ーン印刷法、静電電着法等、他の方法を用いて塗布して
も良い。

【００２３】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、炭酸塩
粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子を、炭酸塩
粒子に対し１０％以上１５０％以下の体積比で混合した
炭酸塩粒子懸濁液をカソード表面に塗布し、炭酸塩塗布
層を形成することにより、加熱処理後の炭酸塩塗布層に
十分な数の空隙が形成され、嵩密度が１ｇ／ｃｍ³ 以下
となるため、炭酸塩粒子が酸化物となる際に発生する炭
酸ガスをスムーズに放出することができると共に、炭酸
塩粒子相互間の結合力も保たれるため、炭酸塩塗布層の
剥離によって誘発される管内放電による極度の初期エミ
ッションの劣化等を防ぎ、十分な電子放射が得られる酸
化物カソードを製造することができる。

【００２４】また、炭酸塩粒子より低温で熱分解あるい
は昇華する粒子として、体積平均径１μｍ以上１０μｍ
以下のものを用いることにより、加熱処理後の炭酸塩塗
布層に適当な大きさの空隙が形成されるため、炭酸塩粒
子が酸化物となる際に発生する炭酸ガスをスムーズに放
出することができると共に、炭酸塩塗布層表面の平坦度
が１０μｍ以下となるため、モアレ発生を抑制すること
ができる。

【００２５】さらに、炭酸塩粒子より低温で熱分解ある
いは昇華する粒子として、最大粒子径２０μｍ以下のも
のを用いることにより、炭酸塩塗布層表面の平坦度の局
部的な悪化を防ぐことができ、突発的なモアレ発生を抑
制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１において作成された酸
化物カソードの炭酸塩塗布層の加熱処理前の状態を示す
概略図である。

【図２】 本発明の実施の形態１において作成された酸
化物カソードの炭酸塩塗布層の加熱処理後の状態を示す
概略図である。

【図３】 体積平均径５μｍのポリメチルメタアクリレ
ート粒子を炭酸塩粒子に対し２００％の体積比で分散さ
せた炭酸塩塗布層を示す概略図である。

【図４】 体積平均径１０μｍ以上のポリメチルメタア
クリレート粒子を炭酸塩粒子に対し８０％の体積比で分
散させた炭酸塩塗布層を示す概略図である。

【図５】 体積平均径７μｍ、最大粒子径が２０μｍよ
り大きいポリメチルメタアクリレート粒子を炭酸塩粒子
に対し８０％の体積比で分散させた炭酸塩塗布層を示す
概略図である。

【図６】 体積平均径１μｍ以下のポリメチルメタアク
リレート粒子を炭酸塩粒子に対し８０％の体積比で分散
させた炭酸塩塗布層を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 基体金属、２ 炭酸塩粒子、３ ポリメチルメタア
クリレート粒子。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新庄 孝 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 5C027 CC03 CC11

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともＢａを含むアルカリ土類金属
   の炭酸塩粒子を分散させた炭酸塩粒子懸濁液に、上記炭
   酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇華する粒子を、上
   記炭酸塩粒子に対し１０％以上１５０％以下の体積比で
   混合し十分に撹拌する工程、 上記炭酸塩粒子懸濁液をカソード表面に塗布し、炭酸塩
   塗布層を形成する工程、 上記炭酸塩塗布層に加熱処理を行い、上記炭酸塩粒子よ
   り低温で熱分解あるいは昇華する粒子を熱分解あるいは
   昇華させた後、さらに加熱処理を行い上記炭酸塩粒子を
   酸化させ、上記カソード表面に酸化物塗布層を形成する
   工程を備えたことを特徴とする酸化物カソードの製造方
   法。
2. 【請求項２】 炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇
   華する粒子として、体積平均径１μｍ以上１０μｍ以下
   のものを用いたことを特徴とする請求項１記載の酸化物
   カソードの製造方法。
3. 【請求項３】 炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇
   華する粒子として、最大粒子径２０μｍ以下のものを用
   いたことを特徴とする請求項２記載の酸化物カソードの
   製造方法。
4. 【請求項４】 炭酸塩粒子より低温で熱分解あるいは昇
   華する粒子として、ポリメチルメタアクリレートまたは
   ポリビニルアルコールを用いたことを特徴とする請求項
   １〜請求項３のいずれか一項に記載の酸化物カソードの
   製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜請求項４のいずれか一項に記
   載の製造方法によってカソード表面に炭酸塩塗布層が形
   成された酸化物カソードであって、 加熱処理前の上記炭酸塩塗布層中に、上記炭酸塩粒子よ
   り低温で熱分解あるいは昇華する粒子を、上記炭酸塩粒
   子に対し１０％以上１５０％以下の体積比で分散させた
   ことを特徴とする酸化物カソード。