JP2000122081A

JP2000122081A - 反射型液晶表示装置

Info

Publication number: JP2000122081A
Application number: JP10297449A
Authority: JP
Inventors: Koushiro Taniike; 康司郎谷池; Akihiro Mihashi; 朗裕三橋
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1998-10-20
Filing date: 1998-10-20
Publication date: 2000-04-28
Anticipated expiration: 2018-10-20
Also published as: JP3895059B2

Abstract

(57)【要約】【課題】凹凸拡散層が液晶層に接して基板に形成され
て反射型液晶表示装置では、スペーサーと凹凸拡散層の
凹凸面の相互作用や表示特性への影響が従来の液晶表示
装置とは全く異なるため、表示品位を損なわないセルギ
ャップ制御技術の検討が必要となっていた。【解決手段】凹凸拡散層３は、凸部の頂点の間隔が６
μｍから２０μｍで、凸部の頂点の高さがランダムに配
置されており、凸部の頂点と凹部の底点との差の平均は
約０．５μｍに規定されている。スペーサー５の基板２
への散布は細管気流型スペーサー散布方式で行い、３０
０個／ｍｍ²の散布密度で直径３μｍの球状粒子のスペ
ーサー５を散布した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は凹凸拡散層を備えた
反射型液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータなどのＯ
Ａ機器、ビデオカメラなどＡＶ機器の小型化、軽量化が
進み携帯情報機器、携帯ＡＶ機器の実用化が進んでい
る。そこに搭載される表示装置として、より小型軽量で
低消費電力化の要求が高まり、反射型液晶表示装置の開
発が盛んに行われている。従来の反射型液晶表示装置
は、偏光のリターデーションによる色変化を利用したマ
ルチカラー表示であるのに対し、現在開発中のものは、
フルカラー表示にも対応できる色づきのないペーパーホ
ワイト表示が可能な表示品位の高いものである。

【０００３】反射型液晶表示装置に設置される反射手段
としては、一般に反射率の高い金属薄膜が使用されてい
る。しかし、反射手段だけでは、入射光が反射されるも
のの、顔や周囲が映り込みペーパーホワイト表示できな
い。そこで、反射光を拡散させる拡散層を併用すること
で、ペーパーホワイト表示が可能となった。この拡散層
の設置方法には、基板の内側（液晶層側）に設置する
方法と、基板の外側に設置する方法との２種類ある。
の方法は、拡散層が基板の内側に設置させるため、製
造方法がに比べて困難であるが、拡散層が液晶層に接
しているため表示のぼやけが低減され、精細でコントラ
ストの高い表示が可能である。

【０００４】の方法は、拡散層を基板の液晶層とは反
対側の面に貼り付けるという設置方法であるため簡単に
設置できるが、ガラス等の基板の厚さを通過してから光
が拡散されるので、表示が滲んだようになって、コント
ラストの高い表示が不可能であった。このため、の方
法が、採用されることが多かったが、凹凸拡散層を設置
する場合、セルギャップ不良の問題が発生した。セルギ
ャップ制御の大きな要因としてスペーサーの散布密度が
考えられる。特開平６−２８１９４１号公報では、スペ
ーサーの散布密度を２０１個／ｍｍ²以上８００個／ｍ
ｍ²とすることでセルギャップを均一に保持するという
技術が開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】通常の液晶表示装置で
は、液晶層のセルギャップを保持するためスペーサーが
両側基板の間に存在している。

【０００６】透過型液晶表示装置の場合、バックライト
から照射された光は、一枚目の偏光板で特定の偏光成分
のみが透過される。液晶材料中を透過する間、偏光成分
はリターデーションの変化を受け、二枚目の偏光板を透
過した光によって表示を行う。即ち、透過型液晶表示装
置内に入射された光は常に直線的に進行することにな
る。そのため、表示装置内で液晶材料の代わりに散布ス
ペーサーが局所的に多く存在しすぎる（凝集）と、光抜
けが生じたり、あるいは光が必要以上に遮断されたりす
ることになる。透過型液晶表示装置では、スペーサーの
凝集は以上のような表示品位を下げる原因となる。

【０００７】一方、凹凸形状を有するアルミ反射板を備
えた反射型液晶表示装置の場合、パネル表面（フロント
ライトもしくは自然光）から照射された光は、偏光板で
特定の偏光成分のみが透過される。液晶材料中を透過す
る間、偏光成分はリターデーション変化を受け、凹凸形
状を有するアルミ反射板によって拡散反射される。拡散
反射された光は再び液晶材料中でリターデーション変化
を受けた後、偏光板を通過した光によって表示を行う。
反射型液晶表示装置内に入射された光は、反射板上でラ
ンダムに反射するため、スペーサーの凝集によって散布
スペーサーが局所的に多く存在したとしても、透過型液
晶表示装置に比べて光ぬけや光遮断状態の違いが確認さ
れにくい。

【０００８】一方、凹凸拡散層が液晶層に接して基板に
形成された反射型液晶表示装置では、図３に示すように
スペーサー５は、凹凸拡散層３の凸部と基板１との間に
散布される場合と、凹凸拡散層３の凹部と基板１の間に
散布される場合があり、凹凸拡散層３の凹部と基板１の
間に散布されるスペーサー５は浮いた状態となり、基板
１と基板２の貼り合わせ工程後の液晶注入工程で、液晶
の注入口側から基板の周辺部に向かってスペーサー５が
移動する場合があり、表示面の周辺部でスペーサー５の
凝集が起り、表示面の周辺部と中心部でセルギャップ差
が発生し表示不良として視認されることになる。その一
例として、表示面の周辺部と中心部とのセルギャップ差
による表示ムラが発生した場合を図９に示す。

【０００９】一方、透過型液晶表示装置では、通常、反
射型液晶表示装置に用いられる凹凸拡散層３が形成され
ていないため、図４に示すように基板１と基板２の対向
する面は平面に近い構造となっている。従って、凹凸拡
散層３を有する反射型液晶表示装置の液晶注入時に発生
していたスペーサーの移動が少なく、スペーサーの凝集
によるセルギャップの変化は少ない。

【００１０】このことからも分かるように、透過型液晶
表示装置と凹凸拡散層を有する反射型液晶表示装置で
は、同じ散布密度でスペーサーを散布してもスペーサー
凝集発生のメカニズムやそれによる表示品位への影響が
全く異なる。

【００１１】すなわち、凹凸拡散層３が形成されていな
い表示装置では、特開平６−２８１９４１号公報に示す
ようにスペーサーの分散密度が記載されているが、凹凸
拡散層が液晶層に接して基板に形成された反射型液晶表
示装置では、スペーサーと凹凸拡散層の凹凸面の相互作
用や表示特性への影響が従来の液晶表示装置とは全く異
なるため、表示品位を損なわないスペーサーの散布量は
不明であった。このため、コントラストの高いペーパー
ホワイト表示ができる反射型液晶表示装置のセルギャッ
プ制御技術の検討が必要となっていた。そこで、本発明
は、凹凸拡散層が基板の内側にある反射型液晶表示装置
において、スペーサーの散布密度を最適化することで、
セルギャップを均一し、表示不良のない反射型液晶表示
装置を実現することを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
一対の基板と、該一対の基板間に介在された液晶層と、
一方の基板の内面に形成された凹凸拡散層と、該液晶層
の厚みを調整するためのスペーサを備えた反射型液晶表
示装置において、前記スペーサーは２００個／ｍｍ²以
上４００個／ｍｍ²以下の散布密度で配置されているこ
とを特徴とする。

【００１３】請求項２記載の発明は、前記スペーサーは
球状粒子であり、前記凹凸拡散層は、凸部分の頂点と凹
部分の底点との差の平均値がスペーサーの粒径の１／１
０以上１／３以下で、隣り合う凸部分の頂点の間隔の平
均値がスペーサーの粒径の等倍以上１０倍以下であるこ
とを特徴とする。

【００１４】請求項３記載の発明は、前記凹凸拡散層
は、前記液晶層に電圧を印加する反射電極であることを
特徴とする。

【００１５】以下に本発明の請求項による作用を説明す
る。請求項１記載の発明ではスペーサーの散布密度を２
００個／ｍｍ²以上４００個／ｍｍ²以下にしたのは、こ
の範囲内にすると、設計されたセルギャップが表示領域
で実現され、表示不良のない均一な表示ができるからで
ある。スペーサーの液晶表示装置内での散布密度の下限
を２００個／ｍｍ²としたのは、２００個／ｍｍ²より少
なくすると、スペーサーの大半がガラス基板上の凹部分
に落ち込み、設計されたセルギャップよりも薄くなり、
表示特性が異なってくるからである。

【００１６】この現象の一例を、偏光モードの反射型液
晶表示装置の表示特性を示した図６から図８を参照しな
がら説明する。図６は反射型液晶表示装置のセルギャッ
プを変化させた場合の彩度の変化を、図７はセルギャッ
プを変化させた場合の色度の変化を、図８はセルギャッ
プを変化させた場合の色度の変化をそれぞれ表してい
る。いずれも、液晶の屈折率異方性（Δｎ）を０．０
８、セルギャップ３μｍのとき、色調と明るさが最適に
なるよう設計され、リターデーション変化に基づく光学
特性の変化をセルギャップに換算して表現している。し
たがって、設計値のリターデーションが同じになるよ
う、Δｎとセルギャップを調整すれば、セルギャップが
３μｍ以外の場合についても同様な現象が起こる。図６
と図７において、設計値からセルギャップが小さくなる
方向にずれると、リターデーションも小さくなるため、
青色の着色が起こる。この時の色調の変化は、セルギャ
ップが大きくなる方向にずれたときよりも小さい。しか
し、図８からわかるように、セルギャップが小さい方向
にずれると、明るさが低下してくる。明るさが低下する
分と、視認性の点で着色現象を感じやすくなる。

【００１７】また、スペーサーの液晶表示装置内での散
布密度の上限を４００個／ｍｍ²としたのは、４００個
／ｍｍ²を超えると、上下基板を支えるのに寄与するペ
ーサー以外の過剰（余剰）スペーサーが、液晶注入時に
移動し、セルギャップを設計値よりも厚くし、色斑が発
生し好ましくない。

【００１８】図６と図７において、一般に、設計値から
セルギャップが大きくなると、リターデーションも大き
くなるため、黄色の着色が起こる。この時の色調の変化
は、セルギャップが小さくなる方向にずれたときよりも
大きく、視認性の点でも着色現象を認識しやすい。

【００１９】したがって、散布密度が小さくなりすぎれ
ば、スペーサーのほとんどが凹部に落ち込んで、その分
表示領域全体のセルギャップが薄くなり、散布密度が大
きくなりすぎれば、基板から圧力を受けない凹部に落ち
込んだ過剰スペーサーが大量に発生し、主として液晶注
入時に移動して凝集をおこし、セルギャップを厚くす
る。セルギャップ不良による表示不良は、上記の偏光モ
ードの例では、着色現象や明るさの不良として観察され
たけれども、モードが異なった（例えば吸収モード）、
あるいは液晶の配向状態などが異なった反射型液晶表示
装置では、それ以外に、暗時の暗さ、応答速度、閾値、
配向状態などの不良として認識されることもある。

【００２０】請求項２に記載の発明では、球状スペーサ
ーの大きさと凹凸拡散層の凹凸形状が上記関係にある
と、スペーサーと凹凸形状とが整合し、相互作用が顕著
になるので、スペーサーの分散効率が大きく向上する。
加えて、凹凸形状が液晶の配向状態に与える悪影響も小
さく、さらに、反射型液晶表示装置の反射光として、効
率良い拡散光が得られるため、たとえ局所的なスペーサ
ーの凝集が存在したとしても、配向異常として認識する
ことはできず、明るく良好なペーパーホワイト表示をす
ることができる。

【００２１】請求項３記載の発明では、凹凸拡散層が反
射電極の役割を兼ね備えているため、生産上の工程数を
下げることができ、コスト削減となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態の反射型
液晶表示装置を示す断面図である。図１に示すように、
基板１として厚み０．７ｍｍの導電性膜付きのガラスを
用い、基板１にシール材４を印刷している。アルミ反射
板からなる凹凸拡散層３を備えた基板２にスペーサー５
を散布した。凹凸拡散層３は基板１側から入射する光を
拡散させて反射するものであり、凹凸拡散層３は、隣り
合う凸部の頂点の間隔の平均値が１２μｍで、凸部の頂
点の高さがランダムに配置されており、凸部の頂点と凹
部の底点との差の平均は約０．５μｍに規定されてい
る。スペーサー５の基板２への散布は細管気流型スペー
サー散布方式で行い、３００個／ｍｍ²の散布密度で直
径３μｍの球状粒子のスペーサー５を散布した。細管気
流型スペーサー散布方式は、細い金属配管内を高圧ガス
で長時間ブローする際に、配管壁とＰ．Ｂ（プラスチッ
クビーズの散布スペーサー）の間で衝突帯電を起こし、
同一電荷を得たＰ．Ｂ同士が反発することによって分散
効率を向上させる方式である。

【００２３】次に、基板１と基板２をシール材４によっ
て貼り合わせ、基板１と基板２との間にΔｎ＝０．０８
の液晶６を注入して反射型液晶表示装置を作成した。本
実施形態の反射型液晶表示装置を基板１の外側に偏光板
とフロントライトを設けて表示特性を観察したが、表示
特性ムラは発生しなかった。

【００２４】図１に示す凹凸拡散層３を有する反射型液
晶表示装置に散布された直径３μｍの球状スペーサーの
散布密度を変化させた場合に、パネル面内のセルギャッ
プムラによる表示不良が発生するかを観測した。基板１
の外側に偏光板を配置し、偏光板にフロントライトの光
を照射して表示面内の表示特性のムラを目視により観察
した。セルギャップムラの発生する場所では液晶の配向
が他と異なる為、着色状態の違う状態（色斑）として観
察される。スペーサーの散布密度が２００個／ｍｍ²以
上４００個／ｍｍ²以下の範囲において色斑はほとんど
無かったのに対し、５００個／ｍｍ²あたりから、パネ
ル周囲部に色斑の発生が観察された。

【００２５】次に、セルギャップを回転検光子法によっ
て測定した結果を図５に示す。本実施例の反射型液晶表
示装置では、凹凸拡散層である反射板が液晶層に電圧を
印加する反射電極であるため、通常絵素部は光を通過し
ない。このため、絵素部間のの微少領域に光を通過させ
ることで測定を行った。図５では横軸にスペーサーの散
布量、縦軸にセルギャップを示している。パネル中央部
のセルギャップは実線で示しており、パネル周辺部のセ
ルギャップは点線で示している。図５に示すようにパネ
ルの中央部のセルギャップはスペーサーの散布量２００
個／ｍｍ²付近で飽和し、それ以上の散布では約３μｍ
で一定している。すなわち、散布量が２００個／ｍｍ²
より少ない場合は、図２に示すように凹凸部の凹部にス
ペーサーが落ち込んで、セルギャップが設計値よりも小
さくなる。また、スペーサーの散布が多くなりすぎる
と、図３に示すようにスペーサーの凝集が発生し、パネ
ル周辺部のセルギャップは厚くなる。特に、パネル中央
部のセルギャップとの差は、散布量が５００個／ｍｍ²
を越えると大きくなっており、色斑の発生原因になって
いた。パネル周囲部に発生した色斑領域のセルギャップ
を調べたところ、パネル中央部分に比べ、およそ０．５
〜０．６μｍ厚くなっている。

【００２６】反射型液晶表示装置のセルギャップと表示
特性の関係について以下に説明する。

【００２７】（１）着色状態についてセルギャップを変化させた時の着色状態の変化を示すた
めに、図６にセルギャップと彩度の関係を示し、図７に
色度座標を示した。色の違いとして認識されない領域
は、視認性の実験から、彩度では６以下、色度では、ｘ
≦０．３３、ｙ≦０．３６の領域であるとされている。
セルギャップが３．４μｍを超えるような場合色斑とし
てはっきりと観察されることがわかった。

【００２８】（２）明るさについて図８にセルギャップと明るさの関係を示す。図８に示さ
れるように、セルギャップが２．８〜３．７μｍのとき
に明るさが一定になる。

【００２９】したがって、直径３μｍの球状スペーサー
を散布させた場合、青色の着色を考慮すればセルギャッ
プを２．９〜３．４μｍにすることにより良好な表示特
性が得られる。よって、図５に示すように、スペーサー
の散布密度を２００個／ｍｍ²以上４００個／ｍｍ²以下
の範囲に設定することによりセルギャップのばらつきを
低減させることができるので、表示不良も発生しない。

【００３０】本実施形態では、直径３μｍの球状スペー
サーを散布させた場合について述べたけれども、反射型
液晶表示装置に使用される球状スペーサーの直径と凹凸
拡散層３の凹凸との関係が、凸部の頂点と凹部の底点と
差の平均値がスペーサーの粒径の１／１０以上１／３以
下で、隣り合う凸部分の頂点の間隔の平均値がスペーサ
ーの粒径の等倍以上１０倍以下であれば、直径が２〜１
０μｍのスペーサーについて、スペーサーと凹凸形状の
相互作用は同じであるため、散布密度を２００個／ｍｍ
²以上４００個／ｍｍ²以下の範囲とすることで、同様の
作用効果が得られる。

【００３１】本実施形態は凹凸拡散層３が反射電極の役
割を兼ね備えているため、生産上の工程数を下げること
ができ、コスト削減となるが、別途液晶に電圧を印加す
るための電極を設けてもよく、例えば、下側基板に反射
手段を形成し上側基板に凹凸拡散層を設置しても良い。
また、下側基板に反射手段を形成し、その上に凹凸拡散
層を形成しても良い。

【００３２】図１０は、本発明の他の実施の形態におけ
る反射型液晶表示装置の平面図であり、図１１は、Ａ−
Ａ断面による断面構成図である。図１０と図１１に示す
ように、下側基板２には、薄膜トランジスタ２４が形成
されており、層間絶縁膜である散乱層１９を介して、反
射電極１０が、ソースバス配線とゲートバス配線の一部
と重なるようにして形成され、これらに対向する透明電
極４１とカラーフィルタ４０と、これらを支持する基板
１と、これら両基板１、２によって挟持される液晶６
と、基板１の上方（液晶６と対向しない面側）に配置さ
れる位相差板４２と、偏光板４３とを有する構成となっ
ている。

【００３３】図１１で示すように、ガラスなどからなる
絶縁性の基板２上には、ゲート配線１２から分岐したゲ
ート電極１２ａとしてのＴａ、絶縁層１３としてのＳｉ
Ｎｘ、半導体層１４としてのａ−Ｓｉ、ｎ型半導体層１
５としてのｎ型ａ−Ｓｉ、エッチストッパ１６としての
ＳｉＮｘ、ソースバス配線１７から分岐されたソース電
極１７ａとしてのＴｉ、ドレイン電極１８としてのＴｉ
などにより薄膜トランジスタ２４が構成されており、こ
の薄膜トランジスタ２４はスイッチング素子としての機
能を有している。

【００３４】そして、この薄膜トランジスタ２４を覆っ
て基板１上全面には、感光性樹脂からなる散乱層１９が
形成されている。この散乱層１９の反射電極１０が形成
される領域には、薄膜トランジスタ２４上の領域および
ドレイン電極１８上に構成されるコンタクトホール１１
の領域を除いて、複数の凹凸が不規則に形成されてい
る。そして、散乱層１９上の絵素領域には、アルミニウ
ム、銀などからなる反射電極１０が形成され、反射電極
１０はコンタクトホール１１においてドレイン電極１８
と接続されている。

【００３５】したがって、反射電極１０の開口率も向上
し、液晶層６に入射してくる光を拡散反射することがで
き、明るい表示が可能となっている。

【００３６】一方、基板１上には、カラーフィルタ４０
が形成されており、また、カラーフィルタ４０上の全面
には、ＩＴＯなどからなる透明電極４１が形成されてい
る。

【００３７】図１２は、本発明の他の実施の形態におけ
る反射型液晶表示装置の製造工程を示したプロセス断面
図であり、特に凹凸形状を有する反射電極１０を形成す
る工程を説明するものである。

【００３８】図１２（ａ）に示すように、液晶駆動用素
子としての薄膜トランジスタ２４が形成された絶縁性の
基板１上の一方側表面に、ポジ型の感光性樹脂１９（製
品名：ＯＦＰＲ−８００：東京応化社製）を１〜５μｍ
の厚さに塗布する。本実施の形態２では３μｍで成膜し
た。次に、図１３に示すようなフォトマスク２１を配置
して４０ｍｊで第１の露光を行った。このときのフォト
マスク２１のパターンは、図１３に示すように、薄膜ト
ランジスタ２４に対応する部分３１を完全に遮光し、ま
たコンタクトホール部１１に対応する部分３２を完全な
透過部とし、それ以外にも円形の遮光部３３を配置した
構成となっている。なお、この円形透過部３３は、直径
が５〜１０μｍ、隣り合う中心間隔が８〜２０μｍとな
るようにランダムに配置した。そして、このようなフォ
トマスク２１と薄膜トランジスタ２４が形成された基板
２とは、図１３に示すように位置合わせを行った後に露
光を行った。

【００３９】次に、この状態のまま、図１２（ｂ）に示
すように、別のフォトマスク２０を配置して２４０ｍｊ
で第２の露光を行った。このときのフォトマスクのパタ
ーンは、コンタクトホール部１１に対応する部分のみを
完全な透過部とし、それ以外の領域は遮光部とした構成
となっている。

【００４０】その後、図１２（ｃ）に示すように、感光
性樹脂９をＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイド
ロオキサイド：東京応化工業社製）により現像すること
で、第１の露光により光を照射された領域の感光性樹脂
１９は、現像によって完全に除去されずに初期膜厚から
５０〜９０％膜減りした状態となり、また、第２の露光
により光を照射されたコンタクトホール部１１の領域の
感光性樹脂１９は完全に除去され、基板２上にはコンタ
クトホール部１１のみ穴が開いているとともに、不規則
な円形の凹凸を有する感光性樹脂１９が形成される。そ
して、この基板２上の凹凸を２００℃で６０分間の加熱
処理を行うことにより、熱だれ現象によって膜減りした
領域が変形し、角がとれて滑らかな形状の凹凸が形成さ
れる。

【００４１】その後、図１２（ｄ）に示すように、凹凸
が形成された感光性樹脂１９上に反射電極１０としての
Ａｌ薄膜をスパッタリング法によって２０００Å程度の
膜厚に形成し、１つの薄膜トランジスタ２４に対して１
つの反射電極１０が対応するようにパターニングを行
う。

【００４２】また、この反射電極１０は、コンタクトホ
ール１１を介して薄膜トランジスタ２４のドレイン電極
１８と接続されており、感光性樹脂１９に形成された凹
凸に沿って形成されることになるため、この反射電極１
０もまた表示に寄与する表面に感光性樹脂の凹凸に応じ
た不規則な円形の凹凸を有することになる。

【００４３】このような図３（ａ）〜（ｄ）に示した工
程によって、なだらかで高密度の凹凸形状を有する反射
電極１０を形成することができ、平坦部を減少させ正反
射成分の少ない理想的な反射板を作成することが可能と
なっている。

【００４４】以上のようにして薄膜トランジスタと凹凸
形状の反射電極とが形成された基板が完成した。これ以
後の、カラーフィルタ４０が形成された対向基板との貼
りあわせ、スペーサーの散布、液晶の注入の工程は、上
述と同じ方法で行った。さらに、位相差板４２、偏光板
４３を基板の外側に設置して反射型液晶表示装置を完成
させた。

【００４５】このように、薄膜トランジスタに接続され
た反射画素電極の下地膜として凹凸散乱層を構成した場
合であっても、スペーサーと凹凸の相互作用の作用効果
にはかわりなく、スペーサーの分散密度を本発明の範囲
に設定することで、より高い表示品位が実現される。

【００４６】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、表示不良
の発生を防ぐことができる。

【００４７】請求項２に記載の発明によれば、スペーサ
ーの大きさと凹凸拡散層の凹凸形状の相互作用が顕著に
なるので、分散効率が大きく向上する。加えて、液晶層
の配向に悪影響を与える事なく、反射型液晶表示装置の
反射光として、効率良い拡散光が得られるため、たとえ
局所的なスペーサーの凝集が存在したとしても、配向異
常として認識することはできず、表示品位を良好に保つ
ことができる。

【００４８】請求項３記載の発明によれば、凹凸拡散層
が電極の役割を兼ね備えているため、生産上の工数を下
げることができ、コスト削減となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】凹凸拡散層を備えた反射型液晶表示装置の断面
図を示す図である。

【図２】スペーサの散布量が少ない反射型液晶表示装置
の断面図を示す図である。

【図３】スペーサの散布量が多い反射型液晶表示装置の
断面図を示す図である。

【図４】従来の液晶表示装置を示す断面図である。

【図５】凹凸拡散層を備えた反射型液晶表示装置のセル
ギャップを回転検光子法によって測定した結果を示す図
である。

【図６】セルギャップと彩度の関係を示す図である。

【図７】色度座標を示す図である。

【図８】セルギャップと明るさの関係を示す図である。

【図９】表示面の周辺部と中心部とのセルギャップ差に
よる表示不良を示す図である。

【図１０】本発明の他の実施の形態における反射型液晶
表示装置の平面図である。

【図１１】図１０のＡ−Ａ断面による断面構成図であ
る。

【図１２】本発明の他の実施の形態における反射型液晶
表示装置の製造工程を示したプロセス断面図である。

【図１３】フォトマスクの配置を示す図である。

【符号の説明】

１、２基板３凹凸拡散層４シール材５スペーサー６液晶層７注入口１０反射電極１１コンタクトホール１２ゲートバス配線１２ａゲート電極１３絶縁層１４半導体層１５ｎ型半導体層１６エッチストッパ１７ソースバス配線１７ａソース電極１８ドレイン電極１９層間絶縁膜（凹凸拡散層）２０フォトマスク２１フォトマスク２２ＵＶ光２４薄膜トランジスタ３１、３３遮光部３２、３４透過部４０カラーフィルタ４１透明電極４２位相差板４３偏光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H089 HA24 LA04 LA07 LA20 NA09 PA02 QA14 TA01 2H091 FA14Y GA08 LA12 LA16 2H092 HA05 NA03 NA24 PA01 PA03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板と、該一対の基板間に介在さ
れた液晶層と、一方の基板の内面に形成された凹凸拡散
層と、該液晶層の厚みを調整するためのスペーサを備え
た反射型液晶表示装置において、前記スペーサーは２００個／ｍｍ²以上４００個／ｍｍ²
以下の散布密度で配置されていることを特徴とする反射
型液晶表示装置。
【請求項２】前記スペーサーは球状粒子であり、前記
凹凸拡散層は、凸部分の頂点と凹部分の底点との差の平
均値がスペーサーの粒径の１／１０以上１／３以下で、
隣り合う凸部分の頂点の間隔の平均値がスペーサーの粒
径の等倍以上１０倍以下であることを特徴とする請求項
１記載の反射型液晶表示装置。
【請求項３】前記凹凸拡散層は、前記液晶層に電圧を
印加する反射電極が形成されていることを特徴とする請
求項１又は請求項２に記載の反射型液晶表示装置。