JP2000113976A - Organic el element - Google Patents

Organic el element

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JP2000113976A
JP2000113976A JP10300366A JP30036698A JP2000113976A JP 2000113976 A JP2000113976 A JP 2000113976A JP 10300366 A JP10300366 A JP 10300366A JP 30036698 A JP30036698 A JP 30036698A JP 2000113976 A JP2000113976 A JP 2000113976A
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organic
electron injection
injection electrode
layer
hydride
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Akira Ebisawa
晃 海老沢
Osamu Onizuka
理 鬼塚
Michio Arai
三千男 荒井
Hiroyuki Endo
広行 遠藤
Masayuki Kawashima
真祐紀 川島
Toshio Hayakawa
敏雄 早川
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Original Assignee
TDK Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a long-life organic EL element capable of being easily manufactured, excluding the effect of moisture to the utmost, reducing aging deterioration, particularly the expansion of a nonluminescent area and the change of luminance, and capable of maintaining initial performance for a long period. SOLUTION: An organic EL structure provided with a hole injection electrode, an electron injection electrode and organic layers including one or more kinds of luminescence layers provided between these electrodes is stored in an airtight case, and one or more kinds of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and aluminum hydride lithium are arranged in the airtight case to form this organic EL element. The electron injection electrode contains one or more kinds of an alkaline metal and an alkaline earth metal. At least one layer of the organic layers contains one or more kinds of the alkaline metal and the alkaline earth metal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物を用い
た有機EL素子に関する。
[0001] The present invention relates to an organic EL device using an organic compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、有機EL素子が盛んに研究されて
いる。これは、錫ドープ酸化インジウム(ITO)など
の透明電極(ホール注入電極)上にトリフェニルジアミ
ン(TPD)などのホール輸送材料を蒸着により薄膜と
し、その上にアルミキノリノール錯体(Alq3)など
の蛍光物質を発光層として積層し、さらにMgなどの仕
事関数の小さな金属電極(電子注入電極)を形成した基
本構成を有する素子で、10V前後の電圧で数100か
ら数10,000cd/m2ときわめて高い輝度が得られる
ことで注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, organic EL devices have been actively studied. In this method, a hole transport material such as triphenyldiamine (TPD) is formed into a thin film by vapor deposition on a transparent electrode (hole injection electrode) such as tin-doped indium oxide (ITO) and a fluorescent material such as aluminum quinolinol complex (Alq3) is formed thereon. An element having a basic structure in which a substance is laminated as a light emitting layer and a metal electrode (electron injection electrode) having a small work function, such as Mg, is formed. The voltage is about several hundreds to several 10,000 cd / m 2 at a voltage of about 10 V. Attention has been paid to high brightness.

【0003】このような有機EL素子の電子注入電極と
して用いられる材料は、発光層や電子注入輸送層等へ電
子を多く注入するものが有効であると考えられている。
換言すれば、仕事関数の小さい材料ほど電子注入電極と
して適していると言える。仕事関数の小さい材料として
は種々のものがあるが、有機EL素子の電子注入電極と
して用いられるものとしては、例えば、特開平2−15
595号公報には、アルカリ金属以外の複数の金属から
なり、かつ、これらの金属の少なくとも1種の金属の仕
事関数が4eV未満である電子注入電極として、例えばM
gAgが開示されている。
As a material used as an electron injection electrode of such an organic EL device, a material that injects a large amount of electrons into a light emitting layer, an electron injection transport layer, or the like is considered to be effective.
In other words, it can be said that a material having a smaller work function is more suitable as an electron injection electrode. There are various materials having a low work function. Examples of materials used as an electron injection electrode of an organic EL device include, for example, JP-A No. 2-15 / 1990.
No. 595 discloses an electron injecting electrode comprising a plurality of metals other than alkali metals and having a work function of at least one of these metals of less than 4 eV, such as M
gAg is disclosed.

【0004】また、仕事関数の小さいものとしてはアル
カリ金属が好ましく、米国特許第3173050号、同
3382394号明細書には、アルカリ金属として、例
えばNaKが記載されている。特に、電子注入電極にL
iを用いると、高輝度の有機EL素子が得られる。
An alkali metal having a small work function is preferable. US Pat. Nos. 3,173,050 and 3,382,394 disclose, for example, NaK as an alkali metal. In particular, L
When i is used, a high-luminance organic EL element can be obtained.

【0005】アルカリ金属を用いた電子注入電極とし
て、例えば、特開昭60−165771号公報、特開平
4−212287号公報、特開平5−121172号公
報、特開平5−159882号公報に記載されているA
lLi合金を用いた電子注入電極が知られている。これ
らの公報に記載されているAlLi合金のLiの濃度を
挙げると、(1)特開昭60−165771号公報で
は、Li濃度が3.6〜99.8at%(1〜99wt
%)、好ましくは29.5〜79.1at%(10〜50
wt%)のAlLi合金が記載されている。(2)特開平
4−212287号公報では、Li濃度が6at%以上、
好ましくは6〜30at%のAlLi合金が記載されてい
る。(3)特開平5−121172号公報では、Li濃
度が0.0377〜0.38at%(0.01〜0.1:
100wt比)のAlLi合金、また好ましくは、Li濃
度が15.9at%以下(50以下:100wt比)のAl
Li合金が記載されている。(4)特開平5−1598
82号公報では、Li濃度が5〜90at%のAlLi合
金が記載されている。
[0005] Electron injection electrodes using an alkali metal are described, for example, in JP-A-60-165977, JP-A-4-212287, JP-A-5-121172, and JP-A-5-159882. A
An electron injection electrode using an lLi alloy is known. The Li concentration of the AlLi alloy described in these publications is as follows: (1) According to Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-165771, the Li concentration is 3.6 to 99.8 at% (1 to 99 wt%).
%), Preferably 29.5 to 79.1 at% (10 to 50%).
wt%) AlLi alloy is described. (2) In JP-A-4-212287, the Li concentration is 6 at% or more,
Preferably, an AlLi alloy of 6 to 30 at% is described. (3) In JP-A-5-121172, the Li concentration is 0.0377 to 0.38 at% (0.01 to 0.1:
AlLi alloy having a Li concentration of 15.9 at% or less (50 or less: 100 wt ratio).
Li alloys are described. (4) JP-A-5-1598
No. 82 describes an AlLi alloy having a Li concentration of 5 to 90 at%.

【0006】さらには、特開平9−17574号公報で
は、電子注入電極(層)として、アルカリ金属(Li、
Na、K、Rb、Cs)の化合物、特に、アルカリ金属
の酸化物、過酸化物、複合酸化物、ハロゲン化物、窒化
物、アルカリ金属塩が開示されている。具体的には、L
2O、Li22、LiAlO2、LiBO3、LiC
l、Li2CO3等が挙げられている。
Furthermore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-17574, an alkali metal (Li,
Compounds of Na, K, Rb and Cs), in particular, oxides, peroxides, complex oxides, halides, nitrides and alkali metal salts of alkali metals are disclosed. Specifically, L
i 2 O, Li 2 O 2 , LiAlO 2 , LiBO 3 , LiC
1, Li 2 CO 3 and the like.

【0007】また、特開平10−74586号公報で
は、電子注入電極として、アルカリフッ化物、アルカリ
土類フッ化物、具体的にはLiF、MgF2、MgCa2
が開示されている。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-74586, as an electron injection electrode, an alkali fluoride, an alkaline earth fluoride, specifically, LiF, MgF 2 , MgCa 2
Is disclosed.

【0008】しかしながら、Liのように仕事関数の小
さい材料は酸素や水分に対して反応性が高く、化学的に
不安定である。Li等アルカリ金属を含む電子注入電極
を用いた有機EL素子は、非常に高い輝度が得られる
が、駆動中に輝度が上昇していくという問題がある。こ
れは、駆動時の発熱によって電極と有機層の界面がアニ
ールされ、I(電流)−V(電圧)曲線が駆動時間とと
もに変化し、同じ印加電圧でも電流値が大きくなってし
まうためである。なお、I(電流)−L(輝度)曲線は
駆動時間によってほとんど変化しない。
However, a material having a small work function, such as Li, has high reactivity to oxygen and moisture and is chemically unstable. An organic EL element using an electron injection electrode containing an alkali metal such as Li can obtain extremely high luminance, but has a problem that the luminance increases during driving. This is because the interface between the electrode and the organic layer is annealed by the heat generated during driving, the I (current) -V (voltage) curve changes with the driving time, and the current value increases even with the same applied voltage. Note that the I (current) -L (luminance) curve hardly changes with the driving time.

【0009】また、前述のMgAg等、アルカリ土類金
属を電子注入電極に用いた場合にも、アルカリ金属の場
合と同様、駆動中に輝度が上昇していくという問題があ
る。
Also, when an alkaline earth metal such as MgAg is used for the electron injection electrode, there is a problem that the luminance increases during driving, as in the case of the alkali metal.

【0010】ところで、有機EL素子は、水分に非常に
弱いという問題がある。水分の影響により、例えば、発
光層と電極層との間で剥離が生じたり、構成材料が変質
してしまったりして、ダークスポットと称する非発光領
域が生じたり、発光面積が縮小したりして所定の品位の
発光が維持できなくなってしまう。
Incidentally, the organic EL element has a problem that it is very weak to moisture. Due to the influence of moisture, for example, separation occurs between the light-emitting layer and the electrode layer, or a constituent material is altered, a non-light-emitting region called a dark spot is generated, or a light-emitting area is reduced. As a result, light emission of a predetermined quality cannot be maintained.

【0011】この問題を解決するための方法として、例
えば、特開平5−36475号公報、同5−89959
号公報、同7−169567号公報等に記載されている
ように、有機EL積層構造体部分を被う気密ケース、封
止層等を基板上に密着固定して外部と遮断する技術が知
られている。
As a method for solving this problem, for example, JP-A-5-36475 and JP-A-5-89959
As described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-169567 and 7-169567, a technique for tightly fixing an airtight case, a sealing layer, and the like covering an organic EL layered structure portion on a substrate and shutting off the outside is known. ing.

【0012】しかし、このような封止層等を設けたとし
ても、やはり、駆動時間の経過に伴い外部から侵入する
水分の影響によって、発光輝度が減少したり、ダークス
ポットが生じたり、これが拡大したりして発光面積が縮
小し、素子が劣化し、ひいては、発光不良が悪化して使
用不能になってしまう。
However, even if such a sealing layer or the like is provided, the light emission luminance is reduced, a dark spot is formed, or the light spot is enlarged due to the influence of moisture entering from the outside as the drive time elapses. As a result, the light emitting area is reduced, the element is deteriorated, and as a result, the light emitting failure becomes worse and the device becomes unusable.

【0013】また、有機EL構造体を気密ケース内に収
納し、このケース内に乾燥剤を配置することが提案され
ている。例えば、特開平3−261091号公報には、
乾燥剤として五酸化二リン(P25)が開示されてい
る。しかし、P25は水分を吸収してその水に溶解(潮
解)し、リン酸となり、有機EL構造体に悪影響を及ぼ
してしまう。また、P25の封入方法が著しく限られ、
実用的ではない。
It has been proposed that the organic EL structure is housed in an airtight case and a desiccant is placed in the case. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-261091 discloses that
Diphosphorus pentoxide as a drying agent (P 2 O 5) is disclosed. However, P 2 O 5 absorbs water and dissolves (deliquescence) in the water to become phosphoric acid, which adversely affects the organic EL structure. Also, the method of encapsulating P 2 O 5 is extremely limited,
Not practical.

【0014】特開平6−176867号公報には、微粉
末固体脱水剤、具体的には、ゼオライト、活性アルミ
ナ、シリカゲル、酸化カルシウムが挙げられている。し
かし、ゼオライトのような水分を物理吸着する乾燥剤
は、有機EL素子が発光する際の熱で吸着した水分を放
出してしまうので、十分な寿命が得られない。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6-176867 discloses fine powder solid dehydrating agents, specifically, zeolite, activated alumina, silica gel, and calcium oxide. However, a desiccant such as zeolite that physically adsorbs moisture releases the adsorbed moisture due to heat generated when the organic EL element emits light, so that a sufficient life cannot be obtained.

【0015】これに対し、特開平9−148066号公
報には、乾燥剤として化学的に水分を吸着するとともに
吸湿しても固体状態を維持する化合物、具体的には、ア
ルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、
金属ハロゲン化物が挙げられている。これらの化合物は
水分を化学吸着するので、水分の再放出が起こらず、素
子の寿命は長くなる。しかし、素子の寿命としてはまだ
不十分である。
On the other hand, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 9-148066 discloses a compound which adsorbs moisture as a drying agent and maintains a solid state even when it absorbs moisture. Earth metal oxides, sulfates,
Metal halides are mentioned. Since these compounds chemisorb water, no re-release of water occurs and the life of the device is prolonged. However, the life of the device is still insufficient.

【0016】本発明者らは、特願平10−181458
号において、乾燥剤として水素化カルシウムおよび/ま
たは水素化アルミニウムリチウムを用いることを提案し
ている。これらを乾燥剤に用いると、有機EL素子の寿
命が飛躍的に長くなる。しかし、このものは、従来問題
であった非発光面積の拡大による素子劣化に対しては抜
群の効果がある一方で、駆動時間とともに輝度が低下し
ていくという問題がある。これは、I(電流)−V(電
圧)曲線が駆動時間とともに変化し、同じ印加電圧でも
電流値が小さくなってしまうためである。なお、I(電
流)−L(輝度)曲線は駆動時間によってほとんど変化
しない。
The present inventors have disclosed in Japanese Patent Application No. 10-181458.
Proposes to use calcium hydride and / or lithium aluminum hydride as a desiccant. When these are used as a desiccant, the life of the organic EL element is dramatically increased. However, this has a remarkable effect on the element deterioration due to the enlargement of the non-light emitting area, which has been a problem in the past, but has a problem that the luminance decreases with the driving time. This is because the I (current) -V (voltage) curve changes with the driving time, and the current value decreases even with the same applied voltage. Note that the I (current) -L (luminance) curve hardly changes with the driving time.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、容易
に製造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特
に非発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を
長期間維持できる長寿命の有機EL素子を提供すること
である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to make it easy to manufacture, to eliminate the influence of moisture and the like as much as possible, to reduce the deterioration over time, especially to enlarge the non-light-emitting area, to reduce the change in luminance, and to improve the initial performance for a long time. An object of the present invention is to provide a long-life organic EL element that can be maintained.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】このような目的は以下の
構成により達成することができる。
Such an object can be achieved by the following constitution.

【0019】(1) ホール注入電極と、電子注入電極
と、これらの電極間に設けられた1種以上の発光層を含
む有機層とを有する有機EL構造体が気密ケースに収納
されており、前記気密ケース内に、水素化カルシウム、
水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよび水素化ア
ルミニウムリチウムの1種以上が配置されており、前記
電子注入電極がアルカリ金属およびアルカリ土類金属の
いずれか1種以上を含有する有機EL素子。 (2) 前記電子注入電極の膜厚が1nm以下である上記
(1)の有機EL素子。 (3) 前記有機層のうち少なくとも1層がアルカリ
金属およびアルカリ土類金属のいずれか1種以上を含有
する上記(1)または(2)の有機EL素子。 (4) ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの
電極間に設けられた1種以上の発光層を含む有機層とを
有する有機EL構造体が気密ケースに収納されており、
前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
チウムの1種以上が配置されており、前記有機層のうち
少なくとも1層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属
のいずれか1種以上を含有する有機EL素子。 (5) 前記有機層が前記電子注入電極と前記発光層と
の間に電子注入層を有し、前記電子注入層がアルカリ金
属およびアルカリ土類金属のいずれか1種以上を含有す
る上記(3)または(4)の有機EL素子。 (6) 前記電子注入電極がアルカリ金属の合金、これ
らの酸化物、これらのフッ化物、アルカリ土類金属の合
金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物のいずれか
1種以上を含有する上記(1)、(2)、(3)または
(5)のいずれかの有機EL素子。 (7) 前記電子注入電極および/または前記有機層が
リチウムを含有する上記(1)〜(6)のいずれかの有
機EL素子。 (8) 前記電子注入電極がアルミニウムリチウム合
金、酸化リチウムおよびフッ化リチウムのいずれか1種
以上を含有する上記(7)の有機EL素子。 (9) 前記有機層のアルカリ金属および/またはアル
カリ土類金属の含有量が0.1〜10wt%である上記
(3)、(4)、(5)または(7)のいずれかの有機
EL素子。 (10)前記気密ケースが、前記有機EL構造体が積層
されている基板と、前記有機EL構造体上に所定の空隙
を設けて配置された封止板と、前記封止板を前記基板に
密着する封止用接着剤とを有する上記(1)〜(9)の
いずれかの有機EL素子。 (11)前記空隙に窒素が充填されており、前記気密ケ
ース内に水素化カルシウムおよび/または水素化ストロ
ンチウムが配置されている上記(10)の有機EL素
子。
(1) An organic EL structure having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes is housed in an airtight case. In the airtight case, calcium hydride,
An organic EL device in which at least one of strontium hydride, barium hydride, and lithium aluminum hydride is disposed, and wherein the electron injection electrode contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. (2) The organic EL device according to (1), wherein the thickness of the electron injection electrode is 1 nm or less. (3) The organic EL device according to the above (1) or (2), wherein at least one of the organic layers contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. (4) An organic EL structure including a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes is housed in an airtight case,
In the hermetic case, at least one of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride is disposed, and at least one of the organic layers is formed of any one of an alkali metal and an alkaline earth metal. Or an organic EL device containing at least one of them. (5) The method according to (3), wherein the organic layer has an electron injection layer between the electron injection electrode and the light emitting layer, and the electron injection layer contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. ) Or (4). (6) The electron injecting electrode contains one or more of alkali metal alloys, oxides thereof, fluorides thereof, alloys of alkaline earth metals, oxides thereof, and fluorides thereof. The organic EL device according to any one of (1), (2), (3) and (5). (7) The organic EL device according to any one of (1) to (6), wherein the electron injection electrode and / or the organic layer contains lithium. (8) The organic EL device according to (7), wherein the electron injection electrode contains at least one of an aluminum lithium alloy, lithium oxide, and lithium fluoride. (9) The organic EL according to any one of (3), (4), (5) and (7) above, wherein the content of the alkali metal and / or alkaline earth metal in the organic layer is 0.1 to 10% by weight. element. (10) The hermetic case includes a substrate on which the organic EL structure is laminated, a sealing plate provided with a predetermined gap on the organic EL structure, and the sealing plate provided on the substrate. The organic EL device according to any one of the above (1) to (9), further comprising: a sealing adhesive that adheres to the organic EL device. (11) The organic EL device according to the above (10), wherein the void is filled with nitrogen, and calcium hydride and / or strontium hydride is disposed in the airtight case.

【0020】[0020]

【作用】本発明の有機EL素子は、ホール注入電極と、
電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上
の発光層を含む有機層とを有する有機EL構造体が気密
ケースに収納されており、この気密ケース内に、前記有
機EL構造体に非接触の状態で、乾燥剤として水素化カ
ルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよ
び水素化アルミニウムリチウムの1種以上が配置されて
いる。そして、電子注入電極がアルカリ金属およびアル
カリ土類金属のいずれか1種以上を含有する。この電子
注入電極の膜厚は1nm以下であることが好ましい。また
は、有機層のうち少なくとも1層、好ましくは電子注入
層がアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属のい
ずれか1種以上を含有する。その含有量は0.1〜10
wt%、特に1〜3wt%であることが好ましい。
The organic EL device of the present invention comprises a hole injection electrode,
An organic EL structure having an electron injection electrode and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes is housed in an airtight case, and the organic EL structure is contained in the airtight case. And at least one of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride is disposed as a desiccant in a non-contact state. The electron injection electrode contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. The thickness of the electron injection electrode is preferably 1 nm or less. Alternatively, at least one of the organic layers, preferably the electron injection layer, contains at least one of an alkali metal and / or an alkaline earth metal. Its content is 0.1-10
It is preferable that the content is wt%, particularly 1-3 wt%.

【0021】このように気密ケース内に乾燥剤として水
素化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウ
ムおよび水素化アルミニウムリチウムの1種以上、好ま
しくは水素化カルシウムおよび/または水素化ストロン
チウムを配置することにより、特に封止した後、侵入し
てくる水分を除去し、気密ケース内の水分濃度を下げる
ことができるので、非発光面積の拡大が長時間ほとんど
起こらず、素子の寿命が飛躍的に長くなる。
By placing one or more of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride, preferably calcium hydride and / or strontium hydride, as a desiccant in the hermetic case. In particular, after sealing, the intruding moisture can be removed and the moisture concentration in the hermetic case can be reduced, so that the non-light-emitting area hardly expands for a long time, and the life of the element is dramatically increased. .

【0022】水素化カルシウム、水素化アルミニウムリ
チウムは、下記の化学反応式に従って水分を除去する。
水素化ストロンチウム、水素化バリウムは、下記の水素
化カルシウムの式と同様の化学反応式に従って水分を除
去する。
Calcium hydride and lithium aluminum hydride remove water in accordance with the following chemical reaction formula.
Strontium hydride and barium hydride remove water according to the same chemical reaction formula as the following formula for calcium hydride.

【0023】 CaH2 + 2H2O → Ca(OH)2 + 2H2 AlLiH4 + 4H2O → Li(OH) + Al(OH)3 + 4H2 [0023] CaH 2 + 2H 2 O → Ca (OH) 2 + 2H 2 AlLiH 4 + 4H 2 O → Li (OH) + Al (OH) 3 + 4H 2

【0024】水と反応した後の化合物(水酸化物)は安
定に存在するので、一度除去した水分の再放出が起こら
ない。しかも、上記のようなものを乾燥剤に用いること
により、水分除去に伴って水素が発生し、気密ケース内
が還元雰囲気となるので、電極、特に電子注入電極の劣
化が防止され、素子の寿命はさらに延びる。従って、特
開平9−148066号公報の化合物を用いる場合より
も長寿命である。また、上記の式に従い、水蒸気吸着時
に水素が等モル発生するので気密ケース内の内圧の変化
が極めて小さいか、なく、密封性を保つ上でも好まし
い。特開平9−148066号公報の化合物はこの点で
も不利である。
Since the compound (hydroxide) after reacting with water is stably present, the water once removed does not release again. In addition, by using the above-described material as a desiccant, hydrogen is generated along with the removal of water, and the inside of the airtight case becomes a reducing atmosphere. Extends further. Therefore, the life is longer than when the compound disclosed in JP-A-9-148066 is used. Further, according to the above equation, since hydrogen is generated in an equimolar manner when adsorbing water vapor, the change in the internal pressure in the airtight case is extremely small or not, which is preferable in maintaining the hermeticity. The compound disclosed in JP-A-9-148066 is disadvantageous also in this respect.

【0025】しかも、吸湿しても固体状態が保たれるの
で、有機EL構造体と非接触の状態で配置すれば素子に
悪影響を及ぼすことはなく、また、気密ケース内に容易
に封入することができる。
In addition, since the solid state is maintained even when moisture is absorbed, the element is not adversely affected by disposing the element in a non-contact state with the organic EL structure, and is easily sealed in an airtight case. Can be.

【0026】さらに、本発明では、電子注入電極がアル
カリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか1種以上を
含有することにより高輝度が得られるとともに、その膜
厚を1nm以下と従来よりも比較的薄くし、上記のような
乾燥剤と併用することで輝度の変動がほとんど起こら
ず、一定の輝度が長時間得られるようになる。
Further, according to the present invention, high brightness can be obtained by the electron injection electrode containing at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal, and the film thickness is relatively 1 nm or less as compared with the prior art. By making it thinner and using it together with the desiccant as described above, the luminance hardly fluctuates, and a constant luminance can be obtained for a long time.

【0027】または、有機層のうち少なくとも1層、好
ましくは電子注入電極に接する有機層、つまり、電子注
入層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか
1種以上を含有することによっても高輝度が得られ、上
記のような乾燥剤と併用することで輝度の変動がほとん
ど起こらず、一定の輝度が長時間得られるようになる。
この場合、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金
属の含有量が多すぎても少なすぎても輝度の変動が大き
くなる傾向があり、0.1〜10wt%であることが好ま
しい。特に、電子注入電極の界面から0〜50nmの範囲
に1〜3wt%含有することが好ましい。
Alternatively, high brightness can be achieved by at least one of the organic layers, preferably an organic layer in contact with the electron injection electrode, that is, the electron injection layer contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. Is obtained, and when used in combination with the drying agent as described above, the luminance hardly fluctuates, and a constant luminance can be obtained for a long time.
In this case, if the content of the alkali metal and / or the alkaline earth metal is too large or too small, the fluctuation in luminance tends to be large, and the content is preferably 0.1 to 10% by weight. In particular, the content is preferably 1 to 3 wt% in the range of 0 to 50 nm from the interface of the electron injection electrode.

【0028】これは、乾燥剤が水分を吸収・除去する際
に放出する水素がアルカリ金属、アルカリ土類金属に対
して還元効果があり、電子注入電極および/または電子
注入層が含有するアルカリ金属および/またはアルカリ
土類金属が水素化されることで安定化され、輝度変化が
なくなると考えられる。気密ケース内には水素が過剰に
存在するので、水素化物が安定に存在する。
Hydrogen released when the desiccant absorbs and removes moisture has a reducing effect on alkali metals and alkaline earth metals, and the alkali metal contained in the electron injection electrode and / or the electron injection layer. It is considered that the hydrogenation of the alkaline earth metal is stabilized and the luminance does not change. Since hydrogen is excessively present in the airtight case, hydride is stably present.

【0029】なお、前述の通り、従来の有機EL素子
は、電子注入電極として仕事関数の小さい材料、つま
り、アルカリ金属、アルカリ土類金属を用いており、駆
動時間とともに輝度が上昇するという問題があった。そ
れに対し、本発明の有機EL素子は、長時間一定の輝度
を安定して得られ、性能の経時変化が非常に小さい。ま
た、その製造も容易である。
As described above, the conventional organic EL element uses a material having a small work function as the electron injection electrode, that is, an alkali metal or an alkaline earth metal, and has a problem that the luminance increases with the driving time. there were. On the other hand, the organic EL element of the present invention can stably obtain a constant luminance for a long time, and has a very small change in performance over time. Also, its manufacture is easy.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子は、ホール
注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けら
れた1種以上の発光層を含む有機層とを有する有機EL
構造体が気密ケースに収納されており、この気密ケース
内に、有機EL構造体に非接触の状態で、水素化カルシ
ウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよび水
素化アルミニウムリチウムの1種以上が配置されてい
る。乾燥剤の水素化カルシウム(CaH2)、水素化ス
トロンチウム(SrH2)、水素化バリウム(Ba
2)、水素化アルミニウムリチウム(AlLiH4)の
当初の組成は、化学量論組成から多少偏倚していてもよ
い。これらは、できるだけ大気中の水分と接触しないよ
うにしてケース内に封入する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An organic EL device according to the present invention comprises an organic EL device having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including at least one light emitting layer provided between these electrodes.
The structure is housed in an airtight case, and one or more of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride, and lithium aluminum hydride are disposed in the airtight case in a non-contact state with the organic EL structure. Have been. Desiccant calcium hydride (CaH 2 ), strontium hydride (SrH 2 ), barium hydride (Ba)
The initial composition of H 2 ) and lithium aluminum hydride (AlLiH 4 ) may deviate slightly from the stoichiometric composition. These are sealed in a case so as not to come into contact with atmospheric moisture as much as possible.

【0031】乾燥剤にCaH2、SrH2、BaH2、A
lLiH4のいずれを用いても同様の効果が得られる
が、反応性の高いAlLiH4は気密ケース内の封止ガ
スにArを用いなければならない場合もあるので、N2
を用いることができるCaH2、SrH2、BaH2の方
が好ましい。また、BaH2は安定性が劣るので、特に
CaH2、SrH2を乾燥剤として用いることが好まし
い。
CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , A
Although the same effect can be obtained by using any of lLiH 4 , since highly reactive AlLiH 4 may require the use of Ar as the sealing gas in the hermetic case, N 2
CaH 2 , SrH 2 , and BaH 2 are more preferable. Since BaH 2 has poor stability, it is particularly preferable to use CaH 2 and SrH 2 as drying agents.

【0032】CaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4
は、気密ケース内に、気密ケース内の空間1mm3当たり
0.0001〜0.5mg程度配置することが好ましい。
配置するCaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4がこ
れより少ないと、水分の除去が十分にはできなくなって
くる。CaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4は多い
ほど水分が除去されて素子の寿命は延びるが、有機EL
構造体に接触すると、逆に悪影響が生じる。通常、配置
できる量の上限は、1mg/mm3程度である。CaH2、S
rH2、BaH2、AlLiH4を併用する場合でも、そ
の合計量が前記の範囲内であることが好ましい。
CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Is in air-tight case, it is preferable to arrange the order of the space 1 mm 3 per 0.0001~0.5mg in airtight case.
If the amount of CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 to be arranged is less than this, the water cannot be sufficiently removed. The higher the content of CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4, the more water is removed and the life of the device is extended.
Contact with the structure adversely affects the structure. Usually, the upper limit of the amount that can be arranged is about 1 mg / mm 3 . CaH 2 , S
Even when rH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are used together, the total amount is preferably within the above range.

【0033】CaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4
は粒子として用いてもよく、その際の平均粒径は、0.
01〜10μm 程度が好ましい。粒径がこれより大きい
と、表面積が減少してくるので、吸水性が低下してく
る。これより小さいと、吸水性を維持したままでの保管
と取り扱いが困難になってくる。
CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
May be used as particles, and the average particle size at that time is 0.1.
It is preferably about 01 to 10 μm. If the particle size is larger than this, the surface area decreases, and the water absorption decreases. If it is smaller than this, storage and handling while maintaining the water absorption becomes difficult.

【0034】CaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4
は、気密ケース内に、悪影響を避けるために有機EL構
造体に接触しないように配置する。配置方法は特に限定
されず、例えば、CaH2、SrH2、BaH2、AlL
iH4を成形体として気密ケース内に固定する方法、多
孔質テフロン等の通気性を有する袋や容器にCaH2
SrH2、BaH2、AlLiH4を入れてケース内に固
定する方法、基板や封止板に窪みや仕切りを設けてそこ
にCaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4を配置する
方法等がある。また、スクリーン印刷や反応性スパッタ
法等で気密ケース内に薄膜ないし厚膜として配置しても
よい。この際、膜の厚さは0.1〜100μm 程度が好
ましい。
CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Are arranged so as not to come into contact with the organic EL structure in the airtight case to avoid adverse effects. The arrangement method is not particularly limited. For example, CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlL
A method of fixing iH 4 as a molded body in an airtight case, CaH 2 , a bag or a container having air permeability such as porous Teflon,
There is a method in which SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are put and fixed in a case, a method in which a dent or a partition is provided in a substrate or a sealing plate, and CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are arranged there. . Further, it may be arranged as a thin film or a thick film in an airtight case by screen printing or reactive sputtering. At this time, the thickness of the film is preferably about 0.1 to 100 μm.

【0035】次に、本発明の有機EL素子を構成する有
機EL構造体について説明する。本発明の有機EL構造
体は、基板上にホール注入電極と、電子注入電極と、こ
れらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有す
る。有機層は、それぞれ少なくとも1層の電子注入層お
よび発光層を有し、その上に電子注入電極を有し、さら
に最上層として保護電極を設けてもよい。なお、電子注
入層はなくてもよい。
Next, the organic EL structure constituting the organic EL device of the present invention will be described. The organic EL structure of the present invention has a hole injection electrode, an electron injection electrode, and one or more organic layers provided between these electrodes on a substrate. The organic layer may have at least one electron injection layer and at least one light emitting layer, an electron injection electrode thereon, and a protective electrode as the uppermost layer. Note that the electron injection layer may not be provided.

【0036】まず、電子注入電極について説明する。First, the electron injection electrode will be described.

【0037】電子注入電極の構成材料としては、電子注
入を効果的に行う低仕事関数の物質、つまり、アルカリ
金属(Li、Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金
属(Mg、Ca、Sr、Ba)のいずれか1種以上を含
有する。特に、Liを用いると高輝度が得られるので、
好ましい。これらは、金属元素単体で用いてもよいが、
これらの合金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物
のいずれかを用いることが好ましい。これらの酸化物、
フッ化物は、通常、その化学量論組成で存在するが、O
量、F量は多少偏倚していてもよい。また、これらは1
種を用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。合金系
としては、特に限定されないが、例えばAg・Mg(A
g:1〜20at%)、Al・Li(Li:0.3〜14
at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、Al・
Ca(Ca:5〜20at%)等が好ましい。
As a constituent material of the electron injection electrode, a substance having a low work function for effectively injecting electrons, that is, an alkali metal (Li, Na, K, Rb, Cs) or an alkaline earth metal (Mg, Ca, Sr, Ba). In particular, since high luminance can be obtained by using Li,
preferable. These may be used alone as a metal element,
It is preferable to use any of these alloys, these oxides and these fluorides. These oxides,
Fluoride is usually present in its stoichiometric composition,
The amount and F amount may be slightly deviated. These are 1
Seeds may be used, or two or more kinds may be used. The alloy system is not particularly limited, but for example, Ag · Mg (A
g: 1 to 20 at%), Al.Li (Li: 0.3 to 14)
at%), In.Mg (Mg: 50-80at%), Al.
Ca (Ca: 5 to 20 at%) and the like are preferable.

【0038】電子注入電極としては、これらの中でも、
特にAl・Li(Li:0.4〜6.5(ただし6.5
を含まず)at%)または(Li:6.5〜14at%)、
Li2O、LiFが好ましい。
As the electron injection electrode, among these,
In particular, Al.Li (Li: 0.4 to 6.5 (however, 6.5
At%) or (Li: 6.5 to 14 at%),
Li 2 O and LiF are preferred.

【0039】また、電子注入電極として、アルカリ金属
の水素化物(LiH、NaH、KH、RbH、Cs
H)、アルカリ土類金属(MgH2、CaH2、Sr
2、BaH2)のいずれか1種以上、好ましくはLiH
を用いることも好ましい。
As an electron injection electrode, a hydride of an alkali metal (LiH, NaH, KH, RbH, Cs
H), alkaline earth metals (MgH 2 , CaH 2 , Sr
H 2 , BaH 2 ), preferably LiH
It is also preferable to use

【0040】また、後述するように、有機層がアルカリ
金属およびアルカリ土類金属のいずれか1種以上を含有
する場合は、上記のようなものも電子注入電極として好
ましく用いられるが、例えば、La、Ce、Al、A
g、In、Sn、Zn、Zr、Er、Eu、Ga、H
f、Nd、Rb、Sc、Sm、Ta、Y、Yb等の金属
元素単体、あるいは、HfC、LaB6、MoC、Nb
C、PbS、TaC、ThC、ThO2、ThS、Ti
C、TiN、UC、UN、UO2、W2C、Y23、Zr
C、ZrN、ZrO2等の化合物を用いてもよい。ま
た、安定性を向上させるためには、金属元素を含む2成
分、3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系と
しては、上記のもの以外に、例えば、Al・In(I
n:1〜10at%)、Al・R〔RはY,Scを含む希
土類元素を表す〕等のアルミニウム系合金等が好まし
い。これらの中でも、特にAl単体やAl・R(R:
0.1〜25、特に0.5〜20at%)等のアルミニウ
ム系合金が、圧縮応力が発生しにくく、好ましい。これ
らの仕事関数は4.5eV以下であり、特に仕事関数が
4.0eV以下の金属、合金が好ましい。
As will be described later, when the organic layer contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal, those described above are also preferably used as an electron injection electrode. , Ce, Al, A
g, In, Sn, Zn, Zr, Er, Eu, Ga, H
f, Nd, Rb, Sc, Sm, Ta, Y, Yb or other metal element alone, or HfC, LaB 6 , MoC, Nb
C, PbS, TaC, ThC, ThO 2 , ThS, Ti
C, TiN, UC, UN, UO 2 , W 2 C, Y 2 O 3 , Zr
Compounds such as C, ZrN and ZrO 2 may be used. In order to improve the stability, it is preferable to use a two-component or three-component alloy system containing a metal element. As alloys, other than the above, for example, Al.In (I
n: 1 to 10 at%), and aluminum alloys such as Al.R (R represents a rare earth element containing Y and Sc) are preferable. Among these, in particular, Al alone or Al.R (R:
Aluminum alloys such as 0.1 to 25 (particularly 0.5 to 20 at%) are preferable because they hardly generate compressive stress. These work functions are 4.5 eV or less, and metals and alloys having a work function of 4.0 eV or less are particularly preferable.

【0041】電子注入電極の厚さは1nm以下、特に0.
5nm以下が好ましい。従来は、均一に成膜するために膜
厚は4nm以上が好ましいとされていたが、一定の輝度が
長時間得られるという本発明の効果は、電子注入電極の
膜厚が1nm以下と薄い方が得られる。また、その下限値
は、通常、0.1nm程度である。電子注入電極は、膜と
して存在せず、有機層表面(界面)にアルカリ金属およ
び/またはアルカリ土類金属の粒子が島状に存在してい
てもかまわない。
The thickness of the electron injecting electrode is 1 nm or less, especially 0.1 nm.
5 nm or less is preferable. Conventionally, it has been considered that the film thickness is preferably 4 nm or more in order to form a uniform film. However, the effect of the present invention that a constant luminance can be obtained for a long time is obtained when the film thickness of the electron injection electrode is 1 nm or less. Is obtained. The lower limit is usually about 0.1 nm. The electron injection electrode does not need to be present as a film, and particles of alkali metal and / or alkaline earth metal may be present in the form of islands on the surface (interface) of the organic layer.

【0042】本発明の電子注入電極は、通常、アモルフ
ァス状態、または、結晶粒径が100nm以下である。
The electron injection electrode of the present invention is usually in an amorphous state or has a crystal grain size of 100 nm or less.

【0043】電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等で成
膜される。
The electron injection electrode is formed by vapor deposition, sputtering or the like.

【0044】電子注入電極を蒸着法で形成する場合、真
空蒸着の条件は特に限定されないが、10-4Pa以下の真
空度とし、蒸着速度は0.01〜1nm/sec 程度とする
ことが好ましい。また、真空中で連続して各層を形成す
ることが好ましい。真空中で連続して形成すれば、各層
の界面に不純物が吸着することを防げるため、高特性が
得られる。
When the electron injecting electrode is formed by a vapor deposition method, the conditions of vacuum vapor deposition are not particularly limited, but it is preferable that the degree of vacuum is 10 −4 Pa or less and the vapor deposition rate is about 0.01 to 1 nm / sec. . Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained.

【0045】電子注入電極をスパッタ法で形成する場
合、スパッタ時のスパッタガスの圧力は、0.1〜5Pa
の範囲が好ましい。また、成膜中にスパッタガスの圧力
を前記範囲内で変化させることにより、濃度勾配を有す
る電子注入電極を容易に得ることができる。また、成膜
ガス圧力と基板ターゲット間距離の積が20〜65Pa・
cmを満たす成膜条件にすることが好ましい。
When the electron injection electrode is formed by the sputtering method, the pressure of the sputtering gas during the sputtering is 0.1 to 5 Pa
Is preferable. Further, by changing the pressure of the sputtering gas within the above range during the film formation, an electron injection electrode having a concentration gradient can be easily obtained. Further, the product of the film forming gas pressure and the distance between the substrate targets is 20 to 65 Pa ·
It is preferable that the film formation conditions satisfy cm.

【0046】スパッタガスは、通常のスパッタ装置に使
用されるAr等の不活性ガスや、反応性スパッタではこ
れに加えてN2、H2、O2、C24、NH3等の反応性ガ
スが使用可能である。
The sputtering gas may be an inert gas such as Ar used in a normal sputtering apparatus, or a reactive sputtering such as N 2 , H 2 , O 2 , C 2 H 4 , NH 3, etc. Neutral gas can be used.

【0047】スパッタ法としてはRF電源を用いた高周
波スパッタ法や、DCスパッタ法等の中から好適なスパ
ッタ法を用いて成膜すればよい。スパッタ装置の電力と
しては、好ましくはDCスパッタで0.1〜10W/cm
2、RFスパッタで1〜10W/cm2の範囲である。ま
た、成膜レートは5〜100nm/min 、特に10〜50
nm/min の範囲が好ましい。
As a sputtering method, a film may be formed by using a suitable sputtering method from a high frequency sputtering method using an RF power source, a DC sputtering method, and the like. The power of the sputtering apparatus is preferably 0.1 to 10 W / cm by DC sputtering.
2, in the range of 1 to 10 W / cm 2 in RF sputtering. The film formation rate is 5 to 100 nm / min, especially 10 to 50 nm.
The range of nm / min is preferred.

【0048】次に、本発明の有機EL構造体に設けられ
る有機物層について述べる。
Next, the organic layer provided in the organic EL structure of the present invention will be described.

【0049】発光層は、ホール(正孔)および電子の輸
送機能、ホールと電子の再結合により励起子を生成させ
る機能を有する。発光層には、比較的電子的にニュート
ラルな化合物を用いることが好ましい。
The light emitting layer has a function of transporting holes (holes) and electrons, and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. It is preferable to use a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer.

【0050】発光層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常5〜500nm
程度、特に10〜300nmとすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer is not particularly limited and varies depending on the forming method.
It is preferable that the thickness be in the range of 10 to 300 nm.

【0051】有機EL素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭63−26469
2号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも1種が挙げられる。また、トリス(8
−キノリノラト)アルミニウム等の8−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、12−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特開平8−12600号の
フェニルアントラセン誘導体、特開平8−12969号
のテトラアリールエテン誘導体等を用いることができ
る。
The light emitting layer of the organic EL device contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of such a fluorescent substance include, for example, JP-A-63-26469.
No. 2 discloses at least one compound selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Also, Tris (8
Quinolinol derivatives such as metal complex dyes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, such as (quinolinolato) aluminum; tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. Further, phenylanthracene derivatives described in JP-A-8-12600, tetraarylethene derivatives described in JP-A-8-12969, and the like can be used.

【0052】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は0.01〜20wt%、さらには0.
1〜15wt%であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。
Further, it is preferable to use in combination with a host substance capable of emitting light by itself, and it is preferable to use it as a dopant. In such a case, the content of the compound in the light emitting layer is 0.01 to 20% by weight, and more preferably 0.1 to 20% by weight.
It is preferably 1 to 15% by weight. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.

【0053】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには8−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭63−26469
2号、特開平3−255190号、特開平5−7073
3号、特開平5−258859号、特開平6−2158
74号等に開示されているものを挙げることができる。
As the host substance, a quinolinolato complex is preferable, and an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand is preferable. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7073
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.

【0054】具体的には、まず、トリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネ
シウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜
鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、
トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−
8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−
キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−
8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜
鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メ
タン]等がある。
Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolatoaluminum, tris (5,7-dibromo-
8-hydroxyquinolinolato) aluminum and poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane].

【0055】また、8−キノリノールまたはその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよく、このようなものとしては、ビス(2−メチル−
8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム(III)
、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(オルト−
クレゾラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−
8−キノリノラト)(メタークレゾラト)アルミニウム
(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(パラ
−クレゾラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル
−8−キノリノラト)(オルト−フェニルフェノラト)
アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラト)(メタ−フェニルフェノラト)アルミニウム(II
I) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(パラ−
フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−
メチル−8−キノリノラト)(2,3−ジメチルフェノ
ラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラト)(2,6−ジメチルフェノラト)アルミニ
ウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)
(3,4−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、
ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(3,5−ジメ
チルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラト)(3,5−ジ−tert−ブチルフ
ェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8
−キノリノラト)(2,6−ジフェニルフェノラト)ア
ルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ト)(2,4,6−トリフェニルフェノラト)アルミニ
ウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)
(2,3,6−トリメチルフェノラト)アルミニウム(I
II) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2,
3,5,6−テトラメチルフェノラト)アルミニウム(I
II) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(1−ナ
フトラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8
−キノリノラト)(2−ナフトラト)アルミニウム(II
I) 、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)
(オルト−フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)(パラ−
フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2,
4−ジメチル−8−キノリノラト)(メタ−フェニルフ
ェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラト)(3,5−ジメチルフェノラ
ト)アルミニウム(III) 、ビス(2,4−ジメチル−8
−キノリノラト)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラ
ト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−4−エチ
ル−8−キノリノラト)(パラ−クレゾラト)アルミニ
ウム(III) 、ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キ
ノリノラト)(パラ−フェニルフェノラト)アルミニウ
ム(III) 、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリ
ノラト)(オルト−クレゾラト)アルミニウム(III) 、
ビス(2−メチル−6−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラト)(2−ナフトラト)アルミニウム(III) 等が
ある。
In addition to 8-quinolinol or its derivative, an aluminum complex having another ligand may be used, such as bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (phenolato) aluminum (III)
, Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-
Cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (meth-cresolate) aluminum
(III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-phenylphenolate)
Aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (meth-phenylphenolato) aluminum (II
I), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) (2,3-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,6-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(3,4-dimethylphenolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III) ), Bis (2-methyl-8)
-Quinolinolato) (2,6-diphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,4,6-triphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(2,3,6-trimethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,
3,5,6-tetramethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-naphthrat) aluminum (III), bis (2-methyl-8
-Quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (II
I), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato)
(Ortho-phenylphenolato) aluminum (III),
Bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,
4-dimethyl-8-quinolinolato) (meta-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2 4-dimethyl-8
-Quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4-ethyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl) -4-methoxy-8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) (ortho-cresolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-6-trifluoromethyl-8-quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (III);

【0056】このほか、ビス(2−メチル−8−キノリ
ノラト)アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス(2−
メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)アルミニウム
(III) −μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス(4−エチル−
2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) −
μ−オキソ−ビス(4−エチル−2−メチル−8−キノ
リノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−4
−メトキシキノリノラト)アルミニウム(III) −μ−オ
キソ−ビス(2−メチル−4−メトキシキノリノラト)
アルミニウム(III) 、ビス(5−シアノ−2−メチル−
8−キノリノラト)アルミニウム(III) −μ−オキソ−
ビス(5−シアノ−2−メチル−8−キノリノラト)ア
ルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−5−トリフルオ
ロメチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) −μ
−オキソ−ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル
−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 等であっても
よい。
In addition, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum
(III) -μ-oxo-bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (4-ethyl-
2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III)-
μ-oxo-bis (4-ethyl-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4
-Methoxyquinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-methyl-4-methoxyquinolinolato)
Aluminum (III), bis (5-cyano-2-methyl-
8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-
Bis (5-cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ
-Oxo-bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) and the like.

【0057】このほかのホスト物質としては、特開平8
−12600号のフェニルアントラセン誘導体、特開平
8−12969号のテトラアリールエテン誘導体なども
好ましい。
Other host materials are disclosed in
Also preferred are a phenylanthracene derivative of No. -12600 and a tetraarylethene derivative of JP-A-8-12969.

【0058】発光層は電子注入層を兼ねたものであって
もよく、このような場合はトリス(8−キノリノラト)
アルミニウム等を使用することが好ましい。これらの蛍
光性物質を蒸着すればよい。
The light emitting layer may also serve as an electron injection layer. In such a case, tris (8-quinolinolato)
It is preferable to use aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited.

【0059】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も1種のホール注入輸送性化合物と少なくとも1種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層におけるドーパントの含有
量は、ホール注入輸送性化合物と電子注入輸送性化合物
との合計量に対して0.01〜20wt%、さらには0.
1〜15wt%とすることが好ましい。
The light emitting layer is preferably a mixed layer of at least one kind of hole injecting and transporting compound and at least one kind of electron injecting and transporting compound, if necessary.
Further, it is preferable that a dopant is contained in the mixed layer. The content of the dopant in such a mixed layer is 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight, based on the total amount of the hole injecting and transporting compound and the electron injecting and transporting compound.
It is preferable that the content be 1 to 15% by weight.

【0060】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。
In the mixed layer, a carrier hopping conduction path is formed, so that each carrier moves in a material having a polar advantage, and carrier injection of the opposite polarity is less likely to occur, so that the organic compound is less likely to be damaged. This has the advantage that the element life is extended. Further, by including the above-described dopant in such a mixed layer, the emission wavelength characteristics of the mixed layer itself can be changed, the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, and the emission intensity is increased, The stability of the device can be improved.

【0061】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物には、例えば、特開昭63−295695号公報、特
開平2−191694号公報、特開平3−792号公
報、特開平5−234681号公報、特開平5−239
455号公報、特開平5−299174号公報、特開平
7−126225号公報、特開平7−126226号公
報、特開平8−100172号公報、EP065095
5A1等に記載されている各種有機化合物を用いること
ができる。例えば、テトラアリールベンジシン化合物
(トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン:
TPD)、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カル
バゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリ
チオフェン等である。これらの化合物は、1種のみを用
いても、2種以上を併用してもよい。
The hole injecting and transporting compounds used in the mixed layer include, for example, JP-A-63-295695, JP-A-2-191694, JP-A-3-792, and JP-A-5-234681. JP-A-5-239
455, JP-A-5-299174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100172, EP065095
Various organic compounds described in 5A1 and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine:
TPD), aromatic tertiary amines, hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, polythiophene, and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0062】ホール注入輸送性の化合物としては、強い
蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジアミ
ン誘導体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合
環を持つアミン誘導体を用いるのが好ましい。
As the compound capable of injecting and transporting holes, an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring is preferably used.

【0063】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには8−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(Alq3)を用いることが好まし
い。また、フェニルアントラセン誘導体、テトラアリー
ルエテン誘導体を用いるのも好ましい。オキサジアゾー
ル誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジ
ン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導
体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることができ
る。これらの化合物は、1種のみを用いても、2種以上
を併用してもよい。
As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use a phenylanthracene derivative or a tetraarylethene derivative. An oxadiazole derivative, a perylene derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoxaline derivative, a diphenylquinone derivative, a nitro-substituted fluorene derivative, or the like can be used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0064】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物/電子注入輸送性化合物の重量
比が、1/99〜99/1、さらに好ましくは10/9
0〜90/10、特に好ましくは20/80〜80/2
0程度となるようにすることが好ましい。
The mixing ratio in this case depends on the respective carrier mobility and carrier concentration. In general, the weight ratio of the compound of the hole injection / transport compound / the electron injection / transport compound is from 1/99 to 99/99. 1, more preferably 10/9
0 to 90/10, particularly preferably 20/80 to 80/2
It is preferable to set the value to about 0.

【0065】また、混合層の厚さは、分子層一層に相当
する厚み以上で、有機化合物層の膜厚未満とすることが
好ましい。具体的には1〜85nmとすることが好まし
く、さらには5〜60nm、特には5〜50nmとすること
が好ましい。
The thickness of the mixed layer is preferably not less than the thickness of one molecular layer and less than the thickness of the organic compound layer. Specifically, the thickness is preferably 1 to 85 nm, more preferably 5 to 60 nm, particularly preferably 5 to 50 nm.

【0066】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧(蒸
発温度)が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。
As a method for forming the mixed layer, co-evaporation in which evaporation is performed from different evaporation sources is preferable. However, when the vapor pressures (evaporation temperatures) are the same or very close, the mixed layers are previously mixed in the same evaporation board. Alternatively, it can be deposited. In the mixed layer, it is preferable that the compounds are uniformly mixed, but in some cases, the compounds may exist in an island shape. The light-emitting layer is generally formed to a predetermined thickness by vapor-depositing an organic fluorescent substance or by dispersing and coating the resin in a resin binder.

【0067】特に発光層として好ましいものに、8−キ
ノリノールまたはその誘導体を配位子とするアルミニウ
ム錯体と、テトラアリールベンジシン化合物に、ルブレ
ン、クマリン等の蛍光物質をドープした混合層が挙げら
れる。8−キノリノールまたはその誘導体を配位子とす
るアルミニウム錯体と、テトラアリールベンジシン化合
物との混合比は上記の範囲内であることが好ましい。ル
ブレン等のドーピング蛍光物質は、この混合層に対し、
0.01〜20mol%であることが好ましい。
Particularly preferred as the light-emitting layer are an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, and a mixed layer in which a tetraarylbendicine compound is doped with a fluorescent substance such as rubrene or coumarin. The mixing ratio of the aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand and the tetraarylbendicine compound is preferably in the above range. The doping fluorescent substance such as rubrene,
Preferably it is 0.01 to 20 mol%.

【0068】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入層は、電子注入電極からの電子の注入を容易に
する機能、電子を安定に輸送する機能およびホールを妨
げる機能を有するものである。これらの層は、発光層に
注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再結合
領域を最適化させ、発光効率を改善する。
The hole injecting / transporting layer has a function of facilitating the injection of holes from the hole injecting electrode, a function of stably transporting holes, and a function of hindering electrons.
The electron injection layer has a function of facilitating injection of electrons from the electron injection electrode, a function of stably transporting electrons, and a function of preventing holes. These layers increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve luminous efficiency.

【0069】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によ
っても異なるが、通常5〜500nm程度、特に10〜3
00nmとすることが好ましい。
The thickness of the hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting layer are not particularly limited and vary depending on the forming method, but are usually about 5 to 500 nm, especially about 10 to 3 nm.
It is preferably set to 00 nm.

【0070】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光層の
厚さと同程度または1/10〜10倍程度とすればよ
い。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分け
る場合は、注入層は1nm以上、輸送層は1nm以上とする
のが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上限
は、通常、注入層で500nm程度、輸送層で500nm程
度である。このような膜厚については、注入輸送層を2
層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. When the hole or electron injection layer and the transport layer are separated from each other, it is preferable that the injection layer has a thickness of 1 nm or more and the transport layer has a thickness of 1 nm or more. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 500 nm for the injection layer and about 500 nm for the transport layer. For such a film thickness, the injection / transport layer is
The same applies when providing layers.

【0071】また、ホール注入輸送層には、例えば、特
開昭63−295695号公報、特開平2−19169
4号公報、特開平3−792号公報、特開平5−234
681号公報、特開平5−239455号公報、特開平
5−299174号公報、特開平7−126225号公
報、特開平7−126226号公報、特開平8−100
172号公報、EP0650955A1等に記載されて
いる各種有機化合物を用いることができる。例えば、テ
トラアリールベンジシン化合物(トリアリールジアミン
ないしトリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級ア
ミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有する
オキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。こ
れらの化合物は、1種のみを用いても、2種以上を併用
してもよい。2種以上を併用するときは、別層にして積
層したり、混合したりすればよい。
The hole injecting and transporting layer is described, for example, in JP-A-63-295695 and JP-A-2-19169.
4, JP-A-3-792, JP-A-5-234
681, JP-A-5-239455, JP-A-5-299174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100
Various organic compounds described in JP-A-172, EP0650955A1, and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine, a hydrazone derivative, a carbazole derivative, a triazole derivative, an imidazole derivative, an oxadiazole derivative having an amino group, polythiophene, etc. . These compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.

【0072】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて設層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極(ITO等)側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を2層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので1〜10nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。
When the hole injecting and transporting layer is provided separately as a hole injecting and transporting layer, a preferred combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to laminate the compounds in order from the hole injecting electrode (ITO or the like) with the smallest ionization potential. Further, it is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the hole injection electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In addition, in the case of forming an element, since a thin film of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used,
Even if a compound having a small ionization potential and having absorption in the visible region is used for the hole injection layer, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color and a decrease in efficiency due to reabsorption. The hole injecting and transporting layer can be formed by vapor deposition of the above compound in the same manner as the light emitting layer and the like.

【0073】また、必要に応じて設けられる電子注入層
には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Al
q3)等の8−キノリノールまたはその誘導体を配位子
とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリ
ミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン
誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることが
できる。電子注入層は発光層を兼ねたものであってもよ
く、このような場合はトリス(8−キノリノラト)アル
ミニウム等を使用することが好ましい。電子注入層の形
成は、発光層と同様に、蒸着等によればよい。
The electron-injecting layer provided as necessary may include tris (8-quinolinolato) aluminum (Al
q3) and other quinoline derivatives such as organometallic complexes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, oxadiazole derivatives, perylene derivatives, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, nitro-substituted fluorene derivatives, etc. Can be used. The electron injection layer may also serve as a light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The electron injection layer may be formed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.

【0074】電子注入層は2層に分けて積層してもよ
く、その場合には、電子注入層用の化合物の中から好ま
しい組み合わせを選択して用いることができる。このと
き、電子注入電極側から電子親和力の値の大きい化合物
の順に積層することが好ましい。このような積層順につ
いては、電子注入層を2層以上設けるときも同様であ
る。
The electron injection layer may be laminated in two layers, and in that case, a preferable combination can be selected from the compounds for the electron injection layer. At this time, it is preferable to stack the compounds in descending order of the electron affinity value from the electron injection electrode side. Such a stacking order is the same when two or more electron injection layers are provided.

【0075】本発明の有機EL素子では、電子注入電極
に接する有機層少なくとも1層にアルカリ金属(Li、
Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金属(Mg、C
a、Sr、Ba)のいずれか1種以上を含有する含有す
ることが好ましい。特に、Liを含有すると高輝度が得
られるので、好ましい。このように電子注入電極に接す
る有機層に仕事関数の小さな金属をドープし、有機物と
相互作用(配位)させることで高輝度が得られる。アル
カリ金属および/またはアルカリ土類金属を含有する有
機層は、通常、電子注入層および/または発光層、好ま
しくは電子注入層である。
In the organic EL device of the present invention, at least one organic layer in contact with the electron injection electrode has an alkali metal (Li,
Na, K, Rb, Cs), alkaline earth metals (Mg, C
a, Sr, and Ba). In particular, it is preferable to contain Li because high luminance can be obtained. As described above, a high brightness can be obtained by doping a metal having a small work function into an organic layer in contact with the electron injection electrode and interacting (coordinating) with an organic substance. The organic layer containing an alkali metal and / or an alkaline earth metal is usually an electron injection layer and / or a light emitting layer, preferably an electron injection layer.

【0076】電子注入層に含有されるアルカリ金属およ
び/またはアルカリ土類金属の含有量は0.1〜10wt
%、特に1〜3wt%が好ましい。含有量がこれより多く
ても少なくても輝度が変動しやすくなる。また、含有量
が少ないと高輝度が得られない。
The content of the alkali metal and / or alkaline earth metal contained in the electron injection layer is 0.1 to 10 wt.
%, Particularly preferably 1 to 3% by weight. If the content is more or less than this, the luminance tends to fluctuate. On the other hand, if the content is small, high luminance cannot be obtained.

【0077】アルカリ金属および/またはアルカリ土類
金属の濃度は均一であってもよいが、電子注入電極側に
存在すればよく、濃度勾配を有していてもよい。特に、
電子注入電極の界面から0〜50nmの範囲に1〜3wt%
含有することが好ましい。
The concentration of the alkali metal and / or the alkaline earth metal may be uniform, but may be present on the electron injection electrode side, and may have a concentration gradient. In particular,
1-3 wt% in the range of 0-50 nm from the interface of the electron injection electrode
It is preferred to contain.

【0078】有機層中のアルカリ金属および/またはア
ルカリ土類金属は、通常、原子状で存在するが、数原子
のクラスターを形成していてもよい。
The alkali metal and / or alkaline earth metal in the organic layer usually exists in an atomic state, but may form a cluster of several atoms.

【0079】アルカリ金属および/またはアルカリ土類
金属を含有する有機層は、有機物とアルカリ金属および
/またはアルカリ土類金属とを共蒸着することによって
形成できる。
The organic layer containing an alkali metal and / or an alkaline earth metal can be formed by co-evaporation of an organic substance and an alkali metal and / or an alkaline earth metal.

【0080】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が0.1μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が0.1μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、電荷の注入効率も著しく
低下する。
For forming the hole injection transport layer, the light emitting layer and the electron injection transport layer, a uniform thin film can be formed.
It is preferable to use a vacuum deposition method. When vacuum deposition is used, the amorphous state or the crystal grain size is 0.1 μm
The following homogeneous thin film is obtained. If the crystal grain size exceeds 0.1 μm, the light emission becomes non-uniform, the driving voltage of the device must be increased, and the charge injection efficiency is significantly reduced.

【0081】真空蒸着の条件は特に限定されないが、1
-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は0.01〜1nm/
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの成長・発生を抑えたりするこ
とができる。
The conditions for vacuum deposition are not particularly limited.
The degree of vacuum is 0 -4 Pa or less, and the deposition rate is 0.01 to 1 nm /
It is preferable to set it to about sec. Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained. Further, the driving voltage of the element can be reduced, and the growth and generation of dark spots can be suppressed.

【0082】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、1層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。
In the case where a plurality of compounds are contained in one layer when a vacuum evaporation method is used for forming each of these layers, it is preferable to co-deposit each boat containing the compounds by individually controlling the temperature.

【0083】ホール注入電極としては、通常、基板側か
ら発光した光を取り出す構造であるため、透明な電極が
好ましく、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO
(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO2 、I
23 等が挙げられるが、好ましくはITO、IZO
が好ましい。In23 に対するSnO2 の混合比は、
1〜20wt%が好ましく、さらに好ましくは5〜12wt
%が好ましい。In23 に対するZnOの混合比は、
1〜20wt%が好ましく、さらに好ましくは5〜12wt
%が好ましい。その他にSn、Ti、Pb等が酸化物の
形で、酸化物換算にして1wt%以下含まれていてもよ
い。
The hole injecting electrode usually has a structure in which light emitted from the substrate side is taken out, so that a transparent electrode is preferable, and ITO (tin-doped indium oxide), IZO
(Zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , I
n 2 O 3 and the like, preferably ITO, IZO
Is preferred. The mixing ratio of SnO 2 to In 2 O 3 is:
1-20 wt% is preferable, and 5-12 wt% is more preferable.
% Is preferred. In 2 O 3 The mixing ratio of ZnO to
1-20 wt% is preferable, and 5-12 wt% is more preferable.
% Is preferred. In addition, Sn, Ti, Pb, and the like may be contained in the form of oxides in an amount of 1% by weight or less in terms of oxides.

【0084】ホール注入電極は、蒸着法等によっても形
成できるが、スパッタ法により形成することが好まし
い。ITO、IZO電極の形成にスパッタ法を用いる場
合、好ましくはIn2 3 にSnO2 やZnOをドープ
したターゲットを用いる。スパッタ法によりITO透明
電極を成膜した場合、蒸着により成膜したものよりも発
光輝度の経時変化が少ない。スパッタ法としてはDCス
パッタが好ましく、その投入電力としては、0.1〜4
W/cm2 の範囲が好ましい。特にDCスパッタ装置の電
力としては、好ましくは0.1〜10W/cm2、特に
0.2〜5W/cm2の範囲が好ましい。また、成膜レー
トは2〜100nm/min 、特に5〜50nm/min の範囲
が好ましい。
The hole injection electrode can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method. When a sputtering method is used for forming the ITO or IZO electrode, a target in which Sn 2 or ZnO is doped into In 2 O 3 is preferably used. When the ITO transparent electrode is formed by the sputtering method, the luminescence luminance has less change with time than that formed by the vapor deposition. DC sputtering is preferable as the sputtering method, and the input power is 0.1 to 4
A range of W / cm 2 is preferred. In particular, the power of the DC sputtering apparatus is preferably in the range of 0.1 to 10 W / cm 2 , particularly preferably in the range of 0.2 to 5 W / cm 2 . Further, the film formation rate is preferably in the range of 2 to 100 nm / min, particularly preferably in the range of 5 to 50 nm / min.

【0085】スパッタガスとしては、特に制限するもの
ではなく、Ar、He、Ne、Kr、Xe等の不活性ガ
ス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。このよ
うなスパッタガスのスパッタ時における圧力としては、
通常0.1〜20Pa程度でよい。
The sputtering gas is not particularly limited, and an inert gas such as Ar, He, Ne, Kr, and Xe, or a mixed gas thereof may be used. As the pressure at the time of sputtering such a sputtering gas,
Usually, it may be about 0.1 to 20 Pa.

【0086】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、通常5〜50
0nm、特に10〜300nmの範囲が好ましい。
The thickness of the hole injecting electrode may be a certain value or more that can sufficiently inject holes, and is usually 5 to 50.
0 nm, preferably in the range of 10 to 300 nm.

【0087】本発明の有機EL素子は、電子注入電極の
上、つまり有機層と反対側に保護電極を設けてもよい。
保護電極を設けることにより、電子注入電極が外気や水
分等から保護され、構成薄膜の劣化が防止され、電子注
入効率が安定し、素子寿命が飛躍的に向上する。また、
この保護電極は、非常に低抵抗であり、電子注入電極の
抵抗が高い場合には配線電極としての機能も有する。こ
の保護電極は、Al、Alおよび遷移金属(ただしTi
を除く)、Tiまたは窒化チタン(TiN)のいずれか
1種または2種以上を含有し、これらを単独で用いた場
合、それぞれ保護電極中に少なくとも、Al:90〜1
00at%、Ti:90〜100at%、TiN:90〜1
00 mol%程度含有されていることが好ましい。また、
2種以上用いるときの混合比は任意であるが、AlとT
iの混合では、Tiの含有量は10at%以下が好まし
い。また、これらを単独で含有する層を積層してもよ
い。特にAl、Alおよび遷移金属は、後述の配線電極
として用いた場合、良好な効果が得られ、TiNは耐腐
食性が高く、封止膜としての効果が大きい。TiNは、
その化学量論組成から10%程度偏倚していてもよい。
さらに、Alおよび遷移金属の合金は、遷移金属、特に
Sc,Nb,Zr,Hf,Nd,Ta,Cu,Si,C
r,Mo,Mn,Ni,Pd,PtおよびW等を、好ま
しくはこれらの総計が10at%以下、さらに好ましくは
5at%以下、特に好ましくは2at%以下含有していても
よい。遷移金属の含有量が少ないほど、配線材として機
能させた場合の薄膜抵抗は下げられる。
In the organic EL device of the present invention, a protective electrode may be provided on the electron injection electrode, that is, on the side opposite to the organic layer.
By providing the protective electrode, the electron injection electrode is protected from the outside air, moisture, and the like, the deterioration of the constituent thin film is prevented, the electron injection efficiency is stabilized, and the element life is dramatically improved. Also,
This protection electrode has a very low resistance, and also has a function as a wiring electrode when the resistance of the electron injection electrode is high. This protective electrode is made of Al, Al and a transition metal (except for Ti
), Ti or titanium nitride (TiN), and when these are used alone, at least Al: 90-1
00at%, Ti: 90-100at%, TiN: 90-1
It is preferable to contain about 00 mol%. Also,
When two or more kinds are used, the mixing ratio is arbitrary, but Al and T
In the mixing of i, the content of Ti is preferably 10 at% or less. Further, a layer containing these alone may be laminated. In particular, when Al, Al and transition metals are used as wiring electrodes described later, good effects are obtained, and TiN has high corrosion resistance and a large effect as a sealing film. TiN is
It may deviate from the stoichiometric composition by about 10%.
In addition, alloys of Al and transition metals include transition metals, especially Sc, Nb, Zr, Hf, Nd, Ta, Cu, Si, C
Preferably, the total of r, Mo, Mn, Ni, Pd, Pt, W, etc. may contain 10 at% or less, more preferably 5 at% or less, particularly preferably 2 at% or less. The smaller the content of the transition metal, the lower the thin film resistance when functioning as a wiring material.

【0088】保護電極の厚さは、電子注入効率を確保
し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するた
め、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは50nm以
上、さらに好ましくは100nm以上、特に好ましくは1
00〜1000nmの範囲が好ましい。保護電極層が薄す
ぎると、本発明の効果が得られず、また、保護電極層の
段差被覆性が低くなってしまい、端子電極との接続が十
分ではなくなる。一方、保護電極層が厚すぎると、保護
電極層の応力が大きくなるため、ダークスポットの成長
速度が速くなってしまう。なお、配線電極として機能さ
せる場合の厚さは、電子注入電極の膜厚が薄いために膜
抵抗が高く、これを補う場合には通常100〜500nm
程度、その他の配線電極として機能される場合には1
00〜300nm程度である。
The thickness of the protective electrode may be a certain thickness or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, in order to secure electron injection efficiency and to prevent entry of moisture, oxygen or an organic solvent. Particularly preferably, 1
The range of 00 to 1000 nm is preferred. If the protective electrode layer is too thin, the effect of the present invention cannot be obtained, and the step coverage of the protective electrode layer will be low, and the connection with the terminal electrode will not be sufficient. On the other hand, if the protective electrode layer is too thick, the stress of the protective electrode layer increases, so that the growth rate of dark spots increases. The thickness when functioning as a wiring electrode is generally 100 to 500 nm when the film resistance is high because the film thickness of the electron injection electrode is small.
Degree, 1 when functioning as other wiring electrode
It is about 00 to 300 nm.

【0089】電子注入電極と保護電極とを併せた全体の
厚さとしては、特に制限はないが、通常50〜1000
nm程度とすればよい。
The total thickness of the electron injecting electrode and the protective electrode is not particularly limited, but is usually 50 to 1000.
It may be set to about nm.

【0090】電極成膜後に、前記保護電極に加えて、S
iOX 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素
重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよ
い。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の
厚さは50〜1200nm程度とする。保護膜は、前記の
反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着
法、PECVD法等により形成すればよい。
After forming the electrode, in addition to the protective electrode, S
inorganic materials iO X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film may be formed by a general sputtering method, an evaporation method, a PECVD method, or the like, in addition to the reactive sputtering method.

【0091】次に、本発明の有機EL素子について説明
する。本発明の有機EL素子は、基板上に有機EL構造
体が積層されており、この有機EL構造体の上に所定の
空隙を有するように配置される封止板と、この封止板の
接続部に配置され、封止板を基板から所定の距離に維持
するスペーサーと、封止板を固定し、有機EL構造体を
密閉するための封止用接着剤とを有する。そして、その
密閉空間内に、乾燥剤のCaH2、SrH2、BaH2
AlLiH4が有機EL構造体に非接触の状態で配置さ
れており、封止ガスが封入されている。
Next, the organic EL device of the present invention will be described. In the organic EL device of the present invention, an organic EL structure is stacked on a substrate, and a connection between the sealing plate and a sealing plate arranged so as to have a predetermined gap on the organic EL structure is provided. A spacer for maintaining the sealing plate at a predetermined distance from the substrate, and a sealing adhesive for fixing the sealing plate and sealing the organic EL structure. Then, CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , a desiccant,
AlLiH 4 is arranged in a non-contact state with the organic EL structure, and a sealing gas is sealed.

【0092】気密ケース内の封止ガスは、Ar、He、
2等の不活性ガスが用いられる。ただし、乾燥剤にC
aH2、SrH2、BaH2を用いる場合はN2が好ましい
が、乾燥剤にAlLiH4を用いる場合、高温になると
封止ガスにN2を用いることができないので、Arを用
いることが好ましい。この封止ガスの水分含有量は、1
00ppm以下、さらには10ppm以下、特に1ppm以下で
あることが好ましい。この水分含有量に下限値は特にな
いが、通常0.1ppm程度である。このような封止ガス
を用いることにより、有機EL構造体のホール注入電
極、有機層、電子注入電極、または、これらの界面と水
分等との化学反応等による劣化が抑制され、初期性能が
長期間維持できる。
The sealing gas in the airtight case is Ar, He,
Inert gas such as N 2 is used. However, C desiccant
When aH 2 , SrH 2 , or BaH 2 is used, N 2 is preferable. However, when AlLiH 4 is used as a desiccant, N 2 cannot be used as a sealing gas at a high temperature. Therefore, it is preferable to use Ar. The moisture content of this sealing gas is 1
It is preferably at most 00 ppm, more preferably at most 10 ppm, particularly preferably at most 1 ppm. Although there is no particular lower limit for this water content, it is usually about 0.1 ppm. By using such a sealing gas, deterioration due to a chemical reaction between the hole injection electrode, the organic layer, the electron injection electrode, or the interface thereof and moisture or the like of the organic EL structure is suppressed, and the initial performance is increased. Can be maintained for a period.

【0093】封止板の材料としては、ガラスや石英、樹
脂等の透明ないし半透明材料が挙げられるが、より好ま
しくはガラスが好ましい。このようなガラス材として、
例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケ
イ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等の
ガラス組成のものが好ましい。また、封止板は、平板状
であることが好ましい。封止板にほりこみ等を設け、そ
こに乾燥剤を配置してもよいが、ほりこみを設けるのは
コストアップになるので、安価な平板ガラスを用いるこ
とが好ましい。その製板方法としては、ロールアウト
法、ダウンロード法、フュージョン法、フロート法等が
好ましい。ガラス材の表面処理法としては、研磨加工処
理、SiO2バリヤーコート処理等が好ましい。これら
の中でも、フロート法で製板されたソーダ石灰ガラス
で、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、好まし
い。封止板としては、ガラス板以外にも、金属板、プラ
スチック板等を用いることもできる。
Examples of the material for the sealing plate include transparent or translucent materials such as glass, quartz, and resin, and more preferably glass. As such a glass material,
For example, a glass composition such as soda-lime glass, lead-alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is preferable. Further, the sealing plate is preferably flat. Dust and the like may be provided on the sealing plate, and a desiccant may be provided therein. However, since providing the dust increases costs, it is preferable to use inexpensive flat glass. As the plate making method, a roll-out method, a download method, a fusion method, a float method and the like are preferable. As a surface treatment method for the glass material, a polishing treatment, a SiO 2 barrier coat treatment, or the like is preferable. Among them, soda-lime glass produced by a float method and having no surface treatment can be used at a low cost, and is preferable. As the sealing plate, other than a glass plate, a metal plate, a plastic plate, or the like can be used.

【0094】封止板の高さを調整する手段としては、特
に制限されるものではないが、スペーサーを用いること
が好ましい。スペーサーを用いることにより、安価で、
容易に所望の高さを得ることができる。スペーサーの材
料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビー
ズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ
等が好ましい。またその厚さとしては、通常、好ましく
は1〜500μm 、より好ましくは1〜200μm 、特
に1〜20μm 、または100〜200μm 程度ものが
好ましい。
The means for adjusting the height of the sealing plate is not particularly limited, but it is preferable to use a spacer. By using spacers, it is inexpensive,
A desired height can be easily obtained. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable. Further, the thickness is usually preferably about 1 to 500 μm, more preferably about 1 to 200 μm, particularly about 1 to 20 μm, or about 100 to 200 μm.

【0095】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、
特に1〜20μm の範囲が好ましい。接着剤の塗布量
は、使用するスペーサーの大きさなどにより異なるが、
通常1〜100mg/cm2 、より好ましくは1〜10mg/
cm2 程度が好ましい。
When a concave portion is formed in the sealing plate,
Spacers may or may not be used. The preferred size when used is within the above range,
Particularly, the range of 1 to 20 μm is preferable. The amount of adhesive applied depends on the size of the spacer used, etc.
Usually 1 to 100 mg / cm 2 , more preferably 1 to 10 mg / cm 2
It is preferably about cm 2 .

【0096】スペーサーは、封止用の接着剤とともに用
いることが好ましい。封止用接着剤とともに用いること
により、スペーサーの固定と、封止とを同時に行うこと
ができる。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物で
あるが、その形状は特に限定されるものではなく、スペ
ーサーとしての機能に支障のないものであれば種々の形
状であってもよい。なお、スペーサーを接着剤自体が兼
ねても、スペーサーを封止板と一体に形成してもよい。
The spacer is preferably used together with a sealing adhesive. When used together with the sealing adhesive, the fixing of the spacer and the sealing can be performed simultaneously. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited, and may be various shapes as long as it does not hinder the function as the spacer. Note that the adhesive may also serve as the spacer, or the spacer may be formed integrally with the sealing plate.

【0097】接着剤としては、好ましくはカチオン硬化
タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いる。有
機EL積層構造体部分の各層構成材料のガラス転移温度
が140℃以下、特に80〜100℃程度である。その
ため、通常の熱硬化型の接着剤を用いると、その硬化温
度が140〜180℃程度であるので、接着剤の硬化の
際に有機EL構造体が軟化してしまい、特性の劣化が生
じてしまう。一方、紫外線硬化型接着剤の場合は、この
ような有機EL構造体の軟化は生じない。しかし、現在
一般に用いられている紫外線硬化型接着剤は、アクリル
系であるため、硬化の際に成分中のアクリルモノマーが
揮発し、それが上記有機EL構造体の各構成材料に悪影
響を及ぼし、その特性を劣化させてしまう。そこで、本
発明においては、以上のような問題のない、あるいは極
めて少ない接着剤である、上記のカチオン硬化タイプの
紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることが好まし
い。
As the adhesive, a cationically curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesive is preferably used. The glass transition temperature of each layer constituting material of the organic EL laminated structure portion is 140 ° C. or less, particularly about 80 to 100 ° C. Therefore, when a normal thermosetting adhesive is used, the curing temperature is about 140 to 180 ° C., so that the organic EL structure is softened when the adhesive is cured, and the characteristics are deteriorated. I will. On the other hand, in the case of an ultraviolet curable adhesive, such softening of the organic EL structure does not occur. However, currently used ultraviolet curable adhesives are acrylic, so that the acrylic monomer in the components volatilizes during curing, which adversely affects each constituent material of the organic EL structure, The characteristics are degraded. Therefore, in the present invention, it is preferable to use the above-mentioned cationically-curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesive, which does not have the above-described problems or is an extremely small amount of adhesive.

【0098】なお、紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤と
して市販されているものの中には、紫外線加熱硬化併用
型のエポキシ樹脂接着剤が含まれる場合がある。この場
合には、ラジカル硬化タイプのアクリル系樹脂と加熱硬
化タイプのエポキシ樹脂が混合あるいは変性してある場
合が多く、前記のアクリル系樹脂のアクリルモノマーの
揮発の問題や熱硬化型エポキシ樹脂の硬化温度の問題が
解決していないので、本発明の有機EL素子に用いる接
着剤としては好ましくない。
[0098] In some cases, a commercially available ultraviolet-curable epoxy resin adhesive includes an ultraviolet-heat-curable epoxy resin adhesive. In this case, the radical-curing type acrylic resin and the heat-curing type epoxy resin are often mixed or modified, and the above-mentioned problem of volatilization of the acrylic monomer of the acrylic resin and curing of the thermosetting type epoxy resin. Since the problem of temperature has not been solved, it is not preferable as an adhesive used for the organic EL device of the present invention.

【0099】カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキ
シ樹脂接着剤とは、主たる硬化剤として紫外線等の光照
射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸塩型
硬化剤を含み、光照射により発生したルイス酸が触媒と
なって主成分であるエポキシ樹脂がカチオン重合型の反
応機構により重合し、硬化するタイプの接着剤である。
The cationically curable UV-curable epoxy resin adhesive includes a Lewis acid salt type curing agent which releases a Lewis acid catalyst by photolysis by irradiation with light such as ultraviolet rays as a main curing agent, and is generated by light irradiation. This type of adhesive is a type in which an epoxy resin, the main component of which is a Lewis acid as a catalyst, is polymerized and cured by a cationic polymerization type reaction mechanism.

【0100】上記接着剤の主成分であるエポキシ樹脂と
しては、エポキシ化オレフィン樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。また、上
記硬化剤としては、芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩、
ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリアリルスルホ
ニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウムのルイス酸
塩等が挙げられる。
The epoxy resin which is the main component of the adhesive includes an epoxidized olefin resin, an alicyclic epoxy resin, a novolak epoxy resin and the like. Further, as the curing agent, Lewis acid salt of aromatic diazonium,
Examples thereof include Lewis acid salts of diallyliodonium, Lewis acid salts of triallylsulfonium, Lewis acid salts of triallyl selenium, and the like.

【0101】成膜される有機EL素子構造体の高さは、
特に制限されるものではないが、通常100〜1000
nm、特に300〜800nmの範囲が好ましい。また、基
板の有機EL素子構造体成膜面から封止板の下端面まで
の距離としては、好ましくは200μm 以下、特に80
〜150μm 程度の範囲が好ましい。
The height of the organic EL element structure to be formed is
Although not particularly limited, usually 100 to 1000
nm, particularly preferably in the range of 300 to 800 nm. Further, the distance from the organic EL element structure deposition surface of the substrate to the lower end surface of the sealing plate is preferably 200 μm or less, particularly 80 μm or less.
The range is preferably about 150 μm.

【0102】有機EL素子は水分に極めて弱いため、封
止板の密着固定、封止物質の封入は、乾燥N2やAr、
He等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好まし
い。乾燥剤のCaH2、SrH2、BaH2、AlLiH4
は、水と反応しやすいので、封止空間内の水分量を減ら
すために十分に乾燥したものを用いることが好ましい。
有機EL構造体の積層、乾燥剤の配置、封止までを外系
にさらすことなく、インプロセスで行うことが好まし
い。
Since the organic EL element is extremely weak to moisture, the sealing plate is fixed tightly and the sealing substance is sealed with dry N 2 , Ar,
It is preferable to carry out in an atmosphere of an inert gas such as He. Desiccants CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Since it is easy to react with water, it is preferable to use one that is sufficiently dried to reduce the amount of water in the sealed space.
It is preferable that the steps from lamination of the organic EL structure, placement of the desiccant, and sealing be performed in-process without being exposed to an external system.

【0103】基板材料としては、基板側から発光した光
を取り出す構成の場合、ガラスや石英、樹脂等の透明な
いし半透明材料を用いる。また、逆積層の場合には、基
板は透明でも不透明であってもよく、不透明である場合
にはセラミックス等を使用してもよい。
As a substrate material, a transparent or translucent material such as glass, quartz, or resin is used in the case of taking out light emitted from the substrate side. In the case of reverse lamination, the substrate may be transparent or opaque, and when opaque, ceramics or the like may be used.

【0104】また、基板に色フィルター膜や蛍光性物質
を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色
をコントロールしてもよい。
Further, the emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.

【0105】色フィルター膜には、液晶ディスプレイ等
で用いられているカラーフィルターを用いれば良いが、
有機EL素子の発光する光に合わせてカラーフィルター
の特性を調整し、取り出し効率・色純度を最適化すれば
よい。
As the color filter film, a color filter used in a liquid crystal display or the like may be used.
The characteristics of the color filter may be adjusted in accordance with the light emitted from the organic EL element to optimize the extraction efficiency and the color purity.

【0106】また、EL素子材料や蛍光変換層が光吸収
するような短波長の外光をカットできるカラーフィルタ
ーを用いれば、素子の耐光性・表示のコントラストも向
上する。
When a color filter capable of cutting off short-wavelength external light that is absorbed by the EL element material or the fluorescence conversion layer is used, the light resistance of the element and the display contrast are improved.

【0107】また、誘電体多層膜のような光学薄膜を用
いてカラーフィルターの代わりにしても良い。
An optical thin film such as a dielectric multilayer film may be used instead of a color filter.

【0108】蛍光変換フィルター膜は、EL発光の光を
吸収し、蛍光変換膜中の蛍光体から光を放出させること
で、発光色の色変換を行うものであるが、組成として
は、バインダー、蛍光材料、光吸収材料の三つから形成
される。
The fluorescence conversion filter film absorbs EL light and emits light from the phosphor in the fluorescence conversion film to convert the color of the emitted light. It is formed from a fluorescent material and a light absorbing material.

【0109】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高
いものを用いれば良く、EL発光波長域に吸収が強いこ
とが望ましい。実際には、レーザー色素などが適してお
り、ローダミン系化合物・ペリレン系化合物・シアニン
系化合物・フタロシアニン系化合物(サブフタロシアニ
ン等も含む)、ナフタロイミド系化合物・縮合環炭化水
素系化合物・縮合複素環系化合物・スチリル系化合物・
クマリン系化合物等を用いればよい。
As the fluorescent material, basically, a material having a high fluorescence quantum yield may be used, and it is desirable that the fluorescent material has strong absorption in the EL emission wavelength region. In practice, laser dyes and the like are suitable, such as rhodamine-based compounds, perylene-based compounds, cyanine-based compounds, phthalocyanine-based compounds (including subphthalocyanines, etc.), naphthalimide-based compounds, condensed-ring hydrocarbon-based compounds, and condensed heterocyclic-based compounds Compounds, styryl compounds,
A coumarin compound or the like may be used.

【0110】バインダーは、基本的に蛍光を消光しない
ような材料を選べば良く、フォトリソグラフィー・印刷
等で微細なパターニングが出来るようなものが好まし
い。また、ITO、IZOの成膜時にダメージを受けな
いような材料が好ましい。
As the binder, a material which basically does not quench the fluorescence may be selected, and a binder which can be finely patterned by photolithography, printing or the like is preferable. Further, a material that does not suffer damage during the formation of ITO or IZO is preferable.

【0111】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りな
い場合に用いるが、必要のない場合は用いなくても良
い。また、光吸収材料は、蛍光性材料の蛍光を消光しな
いような材料を選べば良い。
The light absorbing material is used when the light absorption of the fluorescent material is insufficient, but need not be used when unnecessary. As the light absorbing material, a material that does not quench the fluorescence of the fluorescent material may be selected.

【0112】本発明の有機EL素子は、通常、直流駆動
型のEL素子として用いられるが、交流駆動またはパル
ス駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、2〜2
0V程度とされる。
The organic EL device of the present invention is generally used as a DC drive type EL device, but it can be AC drive or pulse drive. The applied voltage is usually 2 to 2
It is about 0V.

【0113】[0113]

【実施例】次に実施例を示し、本発明をより具体的に説
明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

【0114】<実施例1>以下のようにして単純マトリ
クス発光素子を作製した。
Example 1 A simple matrix light emitting device was manufactured as follows.

【0115】コーニング社製7059ガラス基板上に、
ITO透明電極(ホール注入電極)を膜厚85nmで64
×256ドットの画素(一画素当たり280×280μ
m )を構成するよう成膜、パターニングした。そして、
ホール注入電極が形成された基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄し、煮沸エタノール
中から引き上げて乾燥した。次いで、表面をUV/O3
洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、
槽内を1×10-4Pa以下まで減圧した。そして、4,
4’,4”−トリス(−N−(3−メチルフェニル)−
N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTD
ATA)を蒸着速度0.2nm/sec.で40nmの厚さに蒸
着し、ホール注入層とした。次に、N,N’−ジフェニ
ル−N,N’−m−トリル−4,4’−ジアミノ−1,
1’−ビフェニル(以下、TPD)を蒸着速度0.2nm
/sec.で35nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。
次に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(以
下、Alq3 )を蒸着速度0.2nm/sec.で50nmの厚
さに蒸着して、発光層とした。次いで、DCスパッタ法
にて、0.5nmの厚さにLi濃度が7.3at%のAlL
i合金膜を成膜して、電子注入電極とした。このとき、
スパッタ時の圧力1.0Paで、スパッタガスにはArを
用い、投入電力は100W、ターゲットの大きさは4イ
ンチ径、基板とターゲットの距離は90mmとした。そし
て、Alターゲットを用いたDCスパッタ法により、A
l保護電極を200nmの厚さに成膜した。
On a Corning 7059 glass substrate,
ITO transparent electrode (hole injection electrode) is 64
× 256 dot pixels (280 × 280μ per pixel)
m) was formed and patterned. And
The substrate on which the hole injection electrode was formed was subjected to ultrasonic cleaning using a neutral detergent, acetone and ethanol, pulled up from boiling ethanol and dried. Then, the surface is UV / O 3
After cleaning, fix it on the substrate holder of the vacuum evaporation device,
The pressure in the tank was reduced to 1 × 10 −4 Pa or less. And 4,
4 ', 4 "-tris (-N- (3-methylphenyl)-
N-phenylamino) triphenylamine (m-MTD
ATA) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec. To a thickness of 40 nm to form a hole injection layer. Next, N, N'-diphenyl-N, N'-m-tolyl-4,4'-diamino-1,
1′-biphenyl (hereinafter, TPD) is deposited at a deposition rate of 0.2 nm.
/ Sec. To form a hole transport layer with a thickness of 35 nm.
Next, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter, Alq3) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec to a thickness of 50 nm to form a light emitting layer. Next, by DC sputtering, an Al layer having a Li concentration of 7.3 at% was formed to a thickness of 0.5 nm.
An i-alloy film was formed to form an electron injection electrode. At this time,
The sputtering pressure was 1.0 Pa, the sputtering gas was Ar, the input power was 100 W, the size of the target was 4 inches in diameter, and the distance between the substrate and the target was 90 mm. Then, by a DC sputtering method using an Al target, A
A protective electrode was formed to a thickness of 200 nm.

【0116】この有機EL構造体が積層された基板を、
2ガスを流通させたグローブボックスに移した。そし
て、乾燥剤としてCaH2粒子をネットに入れて配置、
固定し、ガラス基板上に、紫外線硬化型エポキシ樹脂接
着剤(スリーボンド製30Y296D)を未硬化の状態
で100mg塗布した。そして、封止板として100μm
程度の気密空間を設けるように加工された別のコーニン
グ社製7059ガラスを重ねて、基板同士を摺り合わせ
ながら3kg/cm2 の圧力で加圧し、ガラス基板と封止板
間に接着剤の薄層を形成した。このとき、接着剤中には
7μm のスペーサーを1wt%分散させ、接着剤の膜厚が
7μm となるようにした。そして、UV光を照射し、接
着剤を硬化させて有機EL素子を得た。乾燥剤の量は、
気密ケース内の空間1mm3当たり0.01mg/mm3とし
た。
The substrate on which the organic EL structure is laminated is
It was transferred to a glove box through which N 2 gas was passed. And CaH 2 particles are placed in a net as a desiccant,
It was fixed, and 100 mg of an ultraviolet-curable epoxy resin adhesive (30Y296D manufactured by ThreeBond) was applied to the glass substrate in an uncured state. And 100 μm as a sealing plate
Another 7059 glass manufactured by Corning Co., Ltd. which was processed so as to provide a hermetic space of a degree, was pressed with a pressure of 3 kg / cm 2 while sliding the substrates together, and a thin adhesive was applied between the glass substrate and the sealing plate. A layer was formed. At this time, 1 μm of a 7 μm spacer was dispersed in the adhesive so that the thickness of the adhesive was 7 μm. Then, UV light was irradiated to cure the adhesive, thereby obtaining an organic EL device. The amount of desiccant is
It was 0.01 mg / mm 3 per 1 mm 3 of space in the airtight case.

【0117】得られた有機EL素子に、大気雰囲気中で
直流電圧を印加し、温度70℃の加速条件下、10mA/
cm2 の定電流密度で連続駆動させ、輝度の相対変化、非
発光面積の拡大を測定した。
A DC voltage was applied to the obtained organic EL device in an air atmosphere, and at a temperature of 70 ° C. under an acceleration condition, 10 mA /
Continuous driving was performed at a constant current density of cm 2 , and a relative change in luminance and an increase in a non-light-emitting area were measured.

【0118】この有機EL素子は、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。相対輝度は、初期輝度
を1としたときの輝度の値、つまり、駆動後の輝度/初
期輝度として計算した。非発光面積率は、(非発光面
積)/(画素の面積)×100(%)として計算した。
This organic EL device had a relative luminance of 0.95 to 1.1 after driving for 600 hours. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less. The relative luminance was calculated as the luminance value when the initial luminance was set to 1, that is, as the luminance after driving / initial luminance. The non-light-emitting area ratio was calculated as (non-light-emitting area) / (pixel area) × 100 (%).

【0119】<実施例2>乾燥剤としてCaH2の代わ
りに同量のSrH2を用いた他は実施例1と同様にして
有機EL素子を得、実施例1と同様にして評価した。
<Example 2> An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amount of SrH 2 was used instead of CaH 2 as a drying agent, and was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0120】この有機EL素子も、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。
The relative luminance of this organic EL device after driving for 600 hours was 0.95 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less.

【0121】<実施例3>乾燥剤としてCaH2の代わ
りに同量のAlLiH4を用い、封止ガスとしてN2ガス
の代わりにArガスを用いた他は実施例1と同様にして
有機EL素子を得、実施例1と同様にして評価した。
Example 3 An organic EL was prepared in the same manner as in Example 1 except that the same amount of AlLiH 4 was used instead of CaH 2 as a drying agent, and Ar gas was used instead of N 2 gas as a sealing gas. An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0122】この有機EL素子も、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。
The relative luminance of this organic EL device after driving for 600 hours was 0.95 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less.

【0123】<実施例4>乾燥剤としてCaH2の代わ
りに同量のBaH2を用いた他は実施例1と同様にして
有機EL素子を得、実施例1と同様にして評価したとこ
ろ、この有機EL素子も実施例1と同様の効果が得られ
た。
<Example 4> An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amount of BaH 2 was used instead of CaH 2 as a drying agent. With this organic EL element, the same effects as in Example 1 were obtained.

【0124】<実施例5>電子注入電極をAlLiの代
わりにLi2Oとした他は実施例1と同様にして有機E
L素子を得、実施例1と同様にして評価した。
<Example 5> [0124] Organic E was prepared in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to Li 2 O instead of AlLi.
An L element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0125】この有機EL素子も、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。
The relative luminance of this organic EL device after driving for 600 hours was 0.95 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less.

【0126】<実施例6>電子注入電極をAlLiの代
わりにLiFとした他は実施例1と同様にして有機EL
素子を得、実施例1と同様にして評価した。
Example 6 An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to LiF instead of AlLi.
An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0127】この有機EL素子も、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。
This organic EL device also had a relative luminance after driving for 600 hours of 0.95 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less.

【0128】<比較例1>乾燥剤としてCaH2の代わ
りに同量のゼオライトを用いた他は実施例1と同様にし
て有機EL素子を得、実施例1と同様にして評価した。
<Comparative Example 1> An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amount of zeolite was used instead of CaH 2 as a drying agent, and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0129】この有機EL素子は、100時間駆動後の
相対輝度は1.5以上、300時間駆動後の相対輝度は
2以上だった。また、100時間駆動後の非発光面積率
は5%以上、250時間駆動後の非発光面積率は10%
以上だった。400時間で非発光面積率は20%以上、
600時間で非発光面積率は30%以上になった。
This organic EL device had a relative luminance after driving for 100 hours of 1.5 or more, and a relative luminance after driving for 300 hours of 2 or more. The non-light-emitting area ratio after driving for 100 hours is 5% or more, and the non-light-emitting area ratio after driving for 250 hours is 10%.
That was all. In 400 hours, the non-light emitting area ratio is 20% or more,
The non-light-emitting area ratio became 30% or more in 600 hours.

【0130】<比較例2>電子注入電極の膜厚を4nmと
した他は実施例1と同様にして有機EL素子を得、実施
例1と同様にして評価した。
Comparative Example 2 An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the electron injection electrode was changed to 4 nm, and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0131】この有機EL素子は、1000時間駆動後
の非発光面積率は1%以下だったが、200時間駆動後
の相対輝度は0.8以下、400時間駆動後の相対輝度
は0.5以下、600時間駆動後の相対輝度は0.4以
下だった。
Although the organic EL device had a non-light-emitting area ratio of 1% or less after driving for 1000 hours, the relative luminance after driving for 200 hours was 0.8 or less, and the relative luminance after driving for 400 hours was 0.5. Hereinafter, the relative luminance after driving for 600 hours was 0.4 or less.

【0132】<比較例3>乾燥剤としてCaH2の代わ
りに同量のBaOを用いた他は実施例1と同様にして有
機EL素子を得、実施例1と同様にして評価した。
Comparative Example 3 An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amount of BaO was used instead of CaH 2 as a drying agent, and was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0133】この有機EL素子は、180時間駆動する
と発光しなくなり、素子として機能しなくなった。
The organic EL element stopped emitting light after being driven for 180 hours, and did not function as an element.

【0134】<実施例7>実施例1と同様に、基板上に
ITO透明電極、ホール注入層(m−MTDATA)、
ホール輸送層(TPD)、発光層(Alq3)を成膜し
た後、LiとAlq3 を40nmの厚さに共蒸着して電子
注入層(Li濃度1.5wt%)とし、さらにAl電極
(陰極)を200nmの厚さに成膜し、この有機EL構造
体を実施例1と同様に封止して有機EL素子を得、実施
例1と同様にして評価した。
<Example 7> As in Example 1, an ITO transparent electrode, a hole injection layer (m-MTDATA),
After forming a hole transport layer (TPD) and a light emitting layer (Alq3), Li and Alq3 are co-deposited to a thickness of 40 nm to form an electron injection layer (Li concentration 1.5 wt%), and an Al electrode (cathode). Was formed to a thickness of 200 nm, and the organic EL structure was sealed in the same manner as in Example 1 to obtain an organic EL device.

【0135】この有機EL素子も、600時間駆動後の
相対輝度は0.95〜1.1だった。また、400時間
駆動後の非発光面積率は1%以下、600時間駆動後の
非発光面積率は3%以下だった。
This organic EL element also had a relative luminance of 0.95 to 1.1 after driving for 600 hours. The non-light-emitting area ratio after driving for 400 hours was 1% or less, and the non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 3% or less.

【0136】また、実施例1〜7、比較例1〜3の有機
EL素子に、温度60℃、湿度95%RHの加速条件下
で直流電圧を印加し、10mA/cm2 の定電流密度で10
00時間連続駆動させ、輝度の相対変化、非発光面積の
拡大を測定した。本発明の有機EL素子は、高湿度下に
おいても比較例のものと比較して輝度の相対変化、非発
光面積の拡大は極めて小さかった。
Further, a DC voltage was applied to the organic EL devices of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 under acceleration conditions of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95% RH, and a constant current density of 10 mA / cm 2. 10
The device was continuously driven for 00 hours, and the relative change in luminance and the expansion of the non-light-emitting area were measured. The organic EL device of the present invention showed a very small change in luminance and an increase in the non-light-emitting area, even under high humidity, as compared with the comparative example.

【0137】[0137]

【発明の効果】以上のように、本発明により、容易に製
造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特に非
発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を長期
間維持できる長寿命の有機EL素子を提供できる。
As described above, according to the present invention, it can be easily manufactured, the influence of moisture and the like is eliminated as much as possible, deterioration over time, in particular, enlargement of non-light-emitting area, change in luminance is small, and initial performance is maintained for a long time. It is possible to provide an organic EL device having a long service life.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒井 三千男 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 遠藤 広行 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 川島 真祐紀 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 早川 敏雄 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB13 AB18 BB04 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Michio Arai 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation (72) Inventor Hiroyuki Endo 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK (72) Inventor Mayuki Kawashima 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation (72) Inventor Toshio Hayakawa 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation F term (reference) 3K007 AB13 AB18 BB04 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ホール注入電極と、電子注入電極と、こ
れらの電極間に設けられた1種以上の発光層を含む有機
層とを有する有機EL構造体が気密ケースに収納されて
おり、 前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
チウムの1種以上が配置されており、 前記電子注入電極がアルカリ金属およびアルカリ土類金
属のいずれか1種以上を含有する有機EL素子。
An organic EL structure including a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes is housed in an airtight case, In an airtight case, at least one of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride is disposed, and the electron injection electrode is provided with at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. Organic EL device containing.
【請求項2】 前記電子注入電極の膜厚が1nm以下であ
る請求項1の有機EL素子。
2. The organic EL device according to claim 1, wherein said electron injection electrode has a thickness of 1 nm or less.
【請求項3】 前記有機層のうち少なくとも1層がア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか1種以上
を含有する請求項1または2の有機EL素子。
3. The organic EL device according to claim 1, wherein at least one of the organic layers contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal.
【請求項4】 ホール注入電極と、電子注入電極と、こ
れらの電極間に設けられた1種以上の発光層を含む有機
層とを有する有機EL構造体が気密ケースに収納されて
おり、 前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
チウムの1種以上が配置されており、 前記有機層のうち少なくとも1層がアルカリ金属および
アルカリ土類金属のいずれか1種以上を含有する有機E
L素子。
4. An organic EL structure having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes is housed in an airtight case. At least one of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride is disposed in the airtight case, and at least one of the organic layers is any one of an alkali metal and an alkaline earth metal. Organic E containing at least one kind
L element.
【請求項5】 前記有機層が前記電子注入電極と前記発
光層との間に電子注入層を有し、 前記電子注入層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属
のいずれか1種以上を含有する請求項3または4の有機
EL素子。
5. The method according to claim 1, wherein the organic layer has an electron injection layer between the electron injection electrode and the light emitting layer, and the electron injection layer contains at least one of an alkali metal and an alkaline earth metal. Item 3. The organic EL device according to item 3 or 4.
【請求項6】 前記電子注入電極がアルカリ金属の合
金、これらの酸化物、これらのフッ化物、アルカリ土類
金属の合金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物の
いずれか1種以上を含有する請求項1、2、3または5
のいずれかの有機EL素子。
6. The electron injection electrode contains one or more of an alkali metal alloy, an oxide thereof, a fluoride thereof, an alkaline earth metal alloy, an oxide thereof and a fluoride thereof. Claim 1, 2, 3, or 5
Any one of the organic EL devices.
【請求項7】 前記電子注入電極および/または前記有
機層がリチウムを含有する請求項1〜6のいずれかの有
機EL素子。
7. The organic EL device according to claim 1, wherein the electron injection electrode and / or the organic layer contains lithium.
【請求項8】 前記電子注入電極がアルミニウムリチウ
ム合金、酸化リチウムおよびフッ化リチウムのいずれか
1種以上を含有する請求項7の有機EL素子。
8. The organic EL device according to claim 7, wherein said electron injection electrode contains at least one of an aluminum lithium alloy, lithium oxide and lithium fluoride.
【請求項9】 前記有機層のアルカリ金属および/ま
たはアルカリ土類金属の含有量が0.1〜10wt%であ
る請求項3、4、5または7のいずれかの有機EL素
子。
9. The organic EL device according to claim 3, wherein the content of alkali metal and / or alkaline earth metal in the organic layer is 0.1 to 10% by weight.
【請求項10】 前記気密ケースが、前記有機EL構造
体が積層されている基板と、前記有機EL構造体上に所
定の空隙を設けて配置された封止板と、前記封止板を前
記基板に密着する封止用接着剤とを有する請求項1〜9
のいずれかの有機EL素子。
10. The airtight case comprises: a substrate on which the organic EL structure is laminated; a sealing plate provided with a predetermined gap on the organic EL structure; 10. A sealing adhesive which is in close contact with the substrate.
Any one of the organic EL devices.
【請求項11】 前記空隙に窒素が充填されており、前
記気密ケース内に水素化カルシウムおよび/または水素
化ストロンチウムが配置されている請求項10の有機E
L素子。
11. The organic E according to claim 10, wherein said void is filled with nitrogen, and calcium hydride and / or strontium hydride is disposed in said airtight case.
L element.
JP10300366A 1998-10-07 1998-10-07 Organic el element Withdrawn JP2000113976A (en)

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