JP2000105078A - Airknife and drying treatment apparatus using the same - Google Patents
Airknife and drying treatment apparatus using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は被処理物に付着し
た処理液を除去するためのエア−ナイフおよびそのエア
−ナイフを用いた処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air knife for removing a processing liquid attached to an object to be processed and a processing apparatus using the air knife.
【０００２】[0002]
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造工程においては、被処理物としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハなどの基板に回路パタ−ンを形成する
成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセ
スにおいては、上記基板をそれぞれの処理室で順次異な
る処理液で処理することがある。2. Description of the Related Art For example, in a process of manufacturing a liquid crystal display device or a semiconductor device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a substrate such as a liquid crystal glass substrate or a semiconductor wafer as an object to be processed. . In these processes, the substrate may be sequentially processed with different processing liquids in the respective processing chambers.
【０００３】そのような場合、最初の処理室で用いられ
た処理液が、上記基板に付着してつぎの処理室に持ち込
まれたり、その持ち込まれた処理液が他の処理液に混合
するのを防止するために、基板が最初の処理室からつぎ
の処理室に搬送される際、上記基板にエア−ナイフによ
って圧縮空気を吹き付けて除去乾燥し、上記処理液が他
の処理室に持ち込まれたり、他の処理液と混合するのを
防止するようにしている。In such a case, the processing liquid used in the first processing chamber adheres to the substrate and is brought into the next processing chamber, or the processing liquid brought in is mixed with another processing liquid. When the substrate is transferred from the first processing chamber to the next processing chamber, compressed air is blown onto the substrate by an air knife to remove and dry the substrate, and the processing liquid is brought into another processing chamber. Or mixing with other processing liquids.
【０００４】従来、図６（ａ），（ｂ）に示すように、
基板１に付着した処理液２を確実に乾燥処理するため、
搬送ローラ３によって矢印方向に搬送される上記基板１
の上下面に対向してそれぞれエア−ナイフ４を先端が基
板１の搬送方向後端側に向くよう傾斜させ、かつ基板１
の搬送方向に対して交差する幅方向に対しても図６
（ｂ）に示すよう所定の角度で傾斜させて配置し、その
先端から圧縮空気を噴射させることで、上記基板１の上
下面から処理液を除去するようにしている。Conventionally, as shown in FIGS. 6A and 6B,
In order to surely dry the processing liquid 2 adhered to the substrate 1,
The substrate 1 transported in the direction of the arrow by the transport roller 3
The air knives 4 are inclined so that the front ends face the rear end side of the substrate 1 in the transport direction of the substrate 1, respectively.
6 also in the width direction crossing the conveyance direction of FIG.
As shown in (b), the processing liquid is removed from the upper and lower surfaces of the substrate 1 by arranging it at a predetermined angle and injecting compressed air from its tip.
【０００５】エアーナイフ４を搬送方向後端側に向けて
傾斜させることで、基板１に付着した処理液２を図６
（ａ）に矢印で示す基板１の搬送方向の後端側へ吹き寄
せて除去することが可能となる。しかしながら、エアー
ナイフ４の先端から噴出される圧縮空気は、その長手方
向全長にわたって均一な圧力で噴射されるものでなく、
しかも基板の幅方向における処理液の付着量が均一でな
いなどのことによって処理液が確実に除去乾燥されずに
部分的に残留したり、十分に乾燥されないなどのことが
ある。[0005] By tilting the air knife 4 toward the rear end side in the transport direction, the processing liquid 2 adhering to the substrate 1 is removed as shown in FIG.
(A) It becomes possible to blow and remove to the rear end side of the board | substrate 1 of the conveyance direction shown by the arrow. However, the compressed air jetted from the tip of the air knife 4 is not jetted at a uniform pressure over the entire length in the longitudinal direction.
In addition, the treatment liquid may not be reliably removed and dried, and may partially remain, or may not be sufficiently dried, due to the uneven amount of the treatment liquid deposited in the width direction of the substrate.
【０００６】そこで、図７（ａ），（ｂ）に示すように
基板１の上下面に、それぞれ２つのエアーナイフ４を基
板の搬送方向に対して所定の間隔で離間させて配置し、
基板１の上下面に圧縮空気を二段階で噴射することで、
処理液２の除去乾燥を行うようにしている。つまり、第
一段のエアーナイフ４で処理液２を基板１から除去し、
第二段のエアーナイフ４で残留する処理液２の除去や除
去された部分の乾燥を行うようにしている。Therefore, as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), two air knives 4 are arranged on the upper and lower surfaces of the substrate 1 at predetermined intervals in the substrate transfer direction, respectively.
By injecting compressed air to the upper and lower surfaces of the substrate 1 in two stages,
The treatment liquid 2 is removed and dried. That is, the processing liquid 2 is removed from the substrate 1 by the first-stage air knife 4,
The remaining processing solution 2 is removed by the second-stage air knife 4, and the removed portion is dried.
【０００７】このように、基板１の上下面にそれぞれ２
つのエアーナイフ４を配置すれば、１つの場合に比べて
処理液２の除去乾燥を確実に行うことが可能となる。し
かしならが、基板１の上下面にそれぞれ２つのエアーナ
イフ４を配置しなければならないことによって構成の複
雑化を招いたり、２つのエアーナイフを配置するスペー
スを確保するために装置が大型化するなどのことがあ
り、さらに使用するエアーナイフの数が多くなることで
コストの増大を招くなどのことがあった。As described above, the upper and lower surfaces of the substrate 1
If two air knives 4 are provided, the removal and drying of the processing liquid 2 can be performed more reliably than in the case of one air knife 4. However, the two air knives 4 must be arranged on the upper and lower surfaces of the substrate 1, respectively, which complicates the configuration and increases the size of the apparatus in order to secure a space for arranging the two air knives. In some cases, the number of air knives to be used increases, which leads to an increase in cost.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】このように、被処理物
に付着した処理液を確実に除去乾燥するために、従来は
被処理物の上下面にそれぞれ２つのエアーナイフを所定
間隔で離間させて配置するようにしていたので、装置の
大型化やコストの増大を招くなどのことがあった。As described above, conventionally, two air knives are provided at predetermined intervals on the upper and lower surfaces of the object to remove and dry the processing solution attached to the object. However, the arrangement is made so that the size of the apparatus is increased and the cost is increased.
【０００９】この発明は装置の大型化やコストの増大を
招くなどのことなく被処理物から処理液を良好に除去乾
燥させることができるようにしたエアーナイフおよびそ
れを用いた処理装置を提供することにある。The present invention provides an air knife and a processing apparatus using the air knife, which can remove and dry a processing liquid from an object to be processed satisfactorily without increasing the size and cost of the apparatus. It is in.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は被処理
物に付着した処理液をエアーの圧力で除去するエアーナ
イフにおいて、圧縮空気が導入される空間部が形成され
たナイフ本体を有し、このナイフ本体には一端が上記空
間部に連通し他端がナイフ本体の下端側に開放して上記
圧縮空気を噴出する一対のスリットが上記ナイフ本体の
厚さ方向に離間しかつ上記ナイフ本体の長手方向に沿っ
て形成されていることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided an air knife for removing a processing liquid adhered to an object to be processed by an air pressure, comprising a knife body having a space into which compressed air is introduced. The knife body has one end communicating with the space and the other end open to the lower end of the knife body, and a pair of slits for ejecting the compressed air are separated in the thickness direction of the knife body, and It is characterized by being formed along the longitudinal direction of the main body.
【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記一対のスリットは、同じ方向に向って傾斜して
いることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the pair of slits are inclined in the same direction.
【００１２】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、上記一対のスリットは、逆方向に向って傾斜してい
ることを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the pair of slits are inclined in opposite directions.
【００１３】請求項４の発明は、処理槽を有し、この処
理槽に搬入される被処理物にエアーナイフから噴出され
る圧縮空気を吹き付けて乾燥処理する処理装置におい
て、上記エアーナイフは請求項１に記載された構成であ
ることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus having a processing tank for drying by blowing compressed air ejected from an air knife on an object to be carried into the processing tank. It is characterized by the configuration described in item 1.
【００１４】請求項１乃至請求項３の発明によれば、ナ
イフ本体に圧縮空気が供給される空間部に連通した一対
のスリットを形成したことで、１つのエアーナイフによ
って２つのエアーナイフと同等の機能を備えることがで
きる。According to the first to third aspects of the present invention, a pair of slits communicating with the space to which compressed air is supplied is formed in the knife body, so that one air knife is equivalent to two air knives. Function can be provided.
【００１５】請求項４の発明によれば、請求項１に記載
されたエアーナイフを用いることで、大型化や構成の複
雑化を招くことなく処理装置を構成することができる。According to the fourth aspect of the present invention, by using the air knife according to the first aspect, the processing apparatus can be configured without increasing the size or complicating the configuration.
【００１６】[0016]
【実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を図１乃
至図３を参照して説明する。図３に示す処理装置は処理
槽１１を備えている。この処理槽１１は上面が開放した
箱型状をなしていて、その一側には搬入口１２が形成さ
れ、他側には搬出口１３が形成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The processing apparatus shown in FIG. The processing tank 11 has a box shape with an open top surface, and has a carry-in port 12 formed on one side and a carry-out port 13 formed on the other side.
【００１７】処理槽１１の内部、搬入口１２側の外部及
び搬出口１３側の外部にはそれぞれ搬送機構を構成する
ローラ１４が同じ高さレベルで回転自在に配設されてい
る。これらローラ１４は図示しない駆動源によって回転
駆動されるようになっている。それによって、上記処理
槽１１内には上記搬入口１２から被処理物としての半導
体ウエハや液晶用ガラス基板などの基板１５が搬入さ
れ、矢印方向へ搬送されるようになっている。Inside the processing tank 11, outside the carry-in port 12 and outside the carry-out port 13, rollers 14 constituting a transport mechanism are rotatably arranged at the same height level. These rollers 14 are driven to rotate by a driving source (not shown). As a result, a substrate 15 such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal as an object to be processed is loaded into the processing tank 11 from the loading port 12 and transported in the direction of the arrow.
【００１８】処理槽１１に搬入される基板１５はその前
工程で薬液や純水などの処理液によって処理されてお
り、その上下面には処理液Ｌが付着している。処理槽１
１には上記基板１５の上下面に対向してそれぞれ基板１
５の幅寸法よりもわずかに長尺なエアーナイフ１６が配
設され、このエアーナイフ１６によって処理液Ｌが後述
するように除去乾燥されるようになっている。The substrate 15 carried into the processing tank 11 has been processed by a processing liquid such as a chemical solution or pure water in a previous step, and a processing liquid L is attached to upper and lower surfaces thereof. Processing tank 1
Each of the substrates 1 faces the upper and lower surfaces of the substrate 15 respectively.
An air knife 16 slightly longer than the width of 5 is provided, and the processing liquid L is removed and dried by the air knife 16 as described later.
【００１９】上記エアーナイフ１６は図１と図２に示す
ように直方体状のナイフ本体１７を有する。このナイフ
本体１７には、その上端面に一端が開放した空間部１８
が形成されている。この空間部１８の他端はナイフ本体
１７の厚さ方向一端側に傾斜した傾斜部１９を介して上
記ナイフ本体１７の下端面に開放している。The air knife 16 has a rectangular parallelepiped knife body 17 as shown in FIGS. The knife body 17 has a space 18 having one end open at its upper end surface.
Are formed. The other end of the space 18 is open to the lower end surface of the knife body 17 via an inclined portion 19 inclined toward one end in the thickness direction of the knife body 17.
【００２０】上記ナイフ本体１７の上端面にはパッキン
グ２１を介して供給ヘッド２２が気密に接合され、ねじ
２３によって固定されている。この供給ヘッド２２は中
空状をなしていて、その下端面には内部空間を上記空間
部１８に連通させる開口部２４が形成されている。A supply head 22 is hermetically joined to the upper end surface of the knife body 17 via a packing 21 and is fixed by screws 23. The supply head 22 has a hollow shape, and has an opening 24 formed at the lower end surface thereof to allow the internal space to communicate with the space 18.
【００２１】上記供給ヘッド２２の一側面にはその内部
空間に連通する複数の接続口体２５が所定間隔で設けら
れている。各接続口体２５にはＬ字状の供給短管２６が
接続され、この供給短管２６には図示しない圧縮空気の
供給ホースが接続されるようになっている。On one side surface of the supply head 22, a plurality of connection ports 25 communicating with the internal space thereof are provided at predetermined intervals. An L-shaped short supply pipe 26 is connected to each connection port 25, and a supply hose for compressed air (not shown) is connected to the short supply pipe 26.
【００２２】上記ナイフ本体１７の傾斜部１９には、こ
の傾斜部１９の厚さ寸法よりも薄い帯板状のスリット部
材２８が長手方向両端部の両側面に所定の厚さのスペー
サ２７を介在させて装着されている。このスペーサ２７
はねじ２９によって上記ナイフ本体１７に固定されてい
る。それによって、上記スリット部材２８の両側面と上
記傾斜部１９の内側面との間には、ナイフ本体１７の長
手方向ほぼ全長にわたる一対のスリット３１が同じ方向
に所定の角度で傾斜して平行に形成されている。In the inclined portion 19 of the knife body 17, a strip-shaped slit member 28 thinner than the thickness of the inclined portion 19 has spacers 27 of a predetermined thickness interposed on both side surfaces at both ends in the longitudinal direction. It has been installed. This spacer 27
Are fixed to the knife body 17 by screws 29. Thereby, between the both side surfaces of the slit member 28 and the inner side surface of the inclined portion 19, a pair of slits 31 extending over the entire length in the longitudinal direction of the knife body 17 are inclined at a predetermined angle in the same direction to be parallel. Is formed.
【００２３】したがって、供給配管２６から供給された
圧縮空気は図２に矢印で示すように流れて一対のスリッ
ト３１から噴出するようになっている。Therefore, the compressed air supplied from the supply pipe 26 flows as shown by the arrow in FIG.
【００２４】上記構成のエアーナイフ１６は、ローラ１
４によって搬送される基板１５の上面と下面とにそれぞ
れ１つずつ配設されている。すなわち、各エアーナイフ
１６は、スリット３１を基板１５の板面に対向させると
ともにスリット３１を基板１５の後端側に向って傾斜さ
せ、さらにナイフ本体１７の長手方向が基板１５の搬送
法呼応に対して所定の角度をなす状態で配設されてい
る。The air knife 16 having the above structure is used for the roller 1.
One is disposed on each of the upper surface and the lower surface of the substrate 15 transported by 4. That is, each air knife 16 makes the slit 31 face the plate surface of the substrate 15 and inclines the slit 31 toward the rear end side of the substrate 15, and furthermore, the longitudinal direction of the knife body 17 corresponds to the transport method of the substrate 15. It is arranged at a predetermined angle with respect to it.
【００２５】このような構成の処理装置においては、前
工程で処理されて処理液Ｌが付着した基板１５が処理槽
１１の搬入口１２からその内部に搬送されてきて、エア
ーナイフ１６に対向位置すると、まず上記エアーナイフ
１６の搬入口１２側に位置するスリット３１から噴射さ
れる圧縮空気によって上記基板１５の上下面に付着した
処理液Ｌが除去され、ついで基板１５が搬送されること
によって上記エアーナイフ１６の搬出口１３側に位置す
るスリット３１から噴出される圧縮空気によって最初に
処理液が除去された部分に圧縮空気が再度、噴射され
る。In the processing apparatus having such a configuration, the substrate 15 which has been processed in the previous process and has the processing liquid L adhered thereto is transported from the loading port 12 of the processing tank 11 into the inside thereof, and is opposed to the air knife 16 at a position opposite thereto. Then, first, the processing liquid L attached to the upper and lower surfaces of the substrate 15 is removed by compressed air injected from the slit 31 located on the side of the entrance 12 of the air knife 16, and then the substrate 15 is transported. The compressed air ejected from the slit 31 located on the carry-out port 13 side of the air knife 16 causes the compressed air to be ejected again to the portion from which the processing liquid was first removed.
【００２６】すなわち、基板１５は同じ部分が二度にわ
たる圧縮空気の噴射を受けることになるから、最初の噴
射で処理液Ｌが確実に除去されなくとも、二度目の噴射
で確実に除去され、さらには乾燥されることになるか
ら、上記基板１５からの処理液Ｌの除去乾燥処理を確実
に行うことができる。That is, since the same portion of the substrate 15 receives the injection of the compressed air twice, even if the processing liquid L is not reliably removed by the first ejection, it is surely removed by the second ejection. Further, since the drying is performed, the processing for removing the processing liquid L from the substrate 15 can be surely performed.
【００２７】上記エアーナイフ１６には２つのスリット
３１が形成されているから、１つのエアーナイフ１６が
従来の２つのエアーナイフと同等の機能を有することに
なる。したがって、従来であれば基板１５の乾燥処理を
確実に行うために、基板１５の上下面に対向するようそ
れぞれ２つのエアーナイフを配置しなければならなかっ
たが、この発明のエアーナイフ１６を用いれば、基板の
１５の上下面に対向するようそれぞれ１つずつ配置すれ
ばよいから、構成の簡略化や処理装置の小型化を計るこ
とができ、さらにはコストの低減を図ることもできる。Since two slits 31 are formed in the air knife 16, one air knife 16 has the same function as two conventional air knives. Therefore, conventionally, two air knives had to be arranged so as to face the upper and lower surfaces of the substrate 15 in order to surely perform the drying process of the substrate 15, but the air knife 16 of the present invention is used. For example, it is only necessary to dispose one by one so as to face the upper and lower surfaces of the substrate 15, so that the configuration can be simplified, the processing apparatus can be downsized, and the cost can be reduced.
【００２８】図４と図５はこの発明の他の実施の形態の
エアーナイフ１６Ａを示す。なお、上記一実施の形態と
同一部分には同一記号を付して得説明を省略する。すな
わち、この実施の形態のエアーナイフ１６Ａはナイフ本
体１７Ａに形成された空間部１８の他端が漸次拡幅する
テーパ状のスカート部３５を介して上記ナイフ本体１７
Ａの下端面に開放している。FIGS. 4 and 5 show an air knife 16A according to another embodiment of the present invention. The same parts as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. That is, the air knife 16A of this embodiment is provided with the knife body 17A via the tapered skirt portion 35 in which the other end of the space 18 formed in the knife body 17A gradually widens.
A is open to the lower end surface.
【００２９】上記スカート部３５には、このスカート部
３５の開き角度とほぼ同じ角度の頂角を有する三角柱状
のスリット部材３６が装着されている。このスリット部
材３６の頂角を挟む２つの側面の長手方向両端部にはそ
れぞれスペーサ３７が接合固定され、そしてこのスリッ
ト部材３６はナイフ本体１７Ａの外面から螺合されたね
じ３８によって固定されている。The skirt portion 35 is provided with a triangular prism-shaped slit member 36 having a vertical angle substantially equal to the opening angle of the skirt portion 35. Spacers 37 are joined and fixed to both ends in the longitudinal direction of the two side surfaces sandwiching the apex angle of the slit member 36, and the slit member 36 is fixed by screws 38 screwed from the outer surface of the knife body 17A. .
【００３０】それによって、上記スカート部３５の両側
内面とスリット部材３６の２つの側面との間には上記ス
ペーサ３７の厚さに相当する一対のスリット３１Ａがナ
イフ本体１７Ａの長手方向ほぼ全長にわたり、しかも異
なる方向に傾斜して形成されている。Thus, a pair of slits 31A corresponding to the thickness of the spacer 37 is provided between the inner surfaces on both sides of the skirt portion 35 and the two side surfaces of the slit member 36 over substantially the entire length of the knife body 17A in the longitudinal direction. Moreover, they are formed to be inclined in different directions.
【００３１】上記構成のエアーナイフ１６Ａによれば、
上記一実施の形態と同様、２つのスリット３１Ａを有す
るから、１つのエアーナイフで２つのエアーナイフと同
等の機能を有することになる。According to the air knife 16A having the above structure,
Since the two slits 31A are provided as in the above-described embodiment, one air knife has a function equivalent to two air knives.
【００３２】一対のスリット３１Ａが異なる方向を向い
ているという点で上記一実施の形態のエアーナイフ１６
と構成が異なるが、一方のスリット３１Ａから噴射され
る圧縮空気によって基板１５に付着した処理液Ｌを除去
し、他方のスリット３１Ａから噴射される圧縮空気によ
って基板１５に残留する処理液Ｌを乾燥させたり、処理
液Ｌが除去された基板１５の表面を乾燥させることがで
きる。したがって、機能的には上記一実施の形態のエア
ーナイフ１６とほとんど異なることはない。The air knife 16 according to the embodiment described above differs in that the pair of slits 31A face different directions.
Although the configuration is different, the processing liquid L attached to the substrate 15 is removed by compressed air injected from one slit 31A, and the processing liquid L remaining on the substrate 15 is dried by compressed air injected from the other slit 31A. Alternatively, the surface of the substrate 15 from which the processing liquid L has been removed can be dried. Therefore, there is almost no functional difference from the air knife 16 of the above-described embodiment.
【００３３】[0033]
【発明の効果】請求項１乃至請求項３の発明によれば、
ナイフ本体に圧縮空気が供給される空間部を形成すると
ともに、この空間部に連通する一対のスリットを形成す
るようにした。According to the first to third aspects of the present invention,
A space for supplying compressed air is formed in the knife body, and a pair of slits communicating with the space is formed.
【００３４】そのため、２つのスリットを有するエアー
ナイフは、１つで２つのエアーナイフと同等の機能を備
えることができるから、被処理物から処理液を良好に除
去乾燥させることができるばかりか、２つのエアーナイ
フを用いる場合に比べて構成の簡略化や小型化あるいは
コストの低減などを計ることができる。Therefore, an air knife having two slits can have the same function as two air knives with one slit, so that not only can the processing liquid be removed from the object to be processed well and dried, Compared to the case where two air knives are used, the configuration can be simplified, downsized, and the cost can be reduced.
【００３５】請求項４の発明によれば、請求項１に記載
されたエアーナイフを用いることで、大型化や構成の複
雑化を招くことなく処理装置を構成することができる。According to the fourth aspect of the present invention, by using the air knife described in the first aspect, the processing apparatus can be configured without increasing the size or complicating the configuration.
【図１】この発明の一実施の形態のエアーナイフを示す
分解斜視図。FIG. 1 is an exploded perspective view showing an air knife according to an embodiment of the present invention.
【図２】同じく組立て状態の縦断面図。FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the same assembled state.
【図３】同じく処理装置の概略的構成図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the processing apparatus.
【図４】この発明の第２の実施の形態を示すエアーナイ
フの分解斜視図。FIG. 4 is an exploded perspective view of an air knife showing a second embodiment of the present invention.
【図５】同じく組立て状態の縦断面図。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the same assembled state.
【図６】（ａ）は１つのエアーナイフによって基板の乾
燥処理を行う従来の方法を示す側面図、（ｂ）は同じく
平面図。FIG. 6A is a side view showing a conventional method for drying a substrate by using one air knife, and FIG. 6B is a plan view of the same.
【図７】（ａ）は２つのエアーナイフによって基板の乾
燥処理を行う従来の方法を示す側面図、（ｂ）は同じく
平面図。FIG. 7A is a side view showing a conventional method for drying a substrate using two air knives, and FIG. 7B is a plan view of the same.
１１…処理槽 １５…基板（被処理物） １６…エアーナイフ １７…ナイフ本体 １８…空間部 ３１…スリット。 11 processing tank 15 substrate (object to be processed) 16 air knife 17 knife body 18 space 31 slit
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Claims (4)
力で除去するエアーナイフにおいて、 圧縮空気が導入される空間部が形成されたナイフ本体を
有し、このナイフ本体には一端が上記空間部に連通し他
端がナイフ本体の下端側に開放して上記圧縮空気を噴出
する一対のスリットが上記ナイフ本体の厚さ方向に離間
しかつ上記ナイフ本体の長手方向に沿って形成されてい
ることを特徴とするエアーナイフ。1. An air knife for removing a processing liquid attached to an object to be processed by air pressure, the knife having a knife body in which a space for introducing compressed air is formed. A pair of slits communicating with the space and opening the other end to the lower end side of the knife body and ejecting the compressed air are formed apart from each other in the thickness direction of the knife body and formed along the longitudinal direction of the knife body. An air knife characterized by being.
て傾斜していることを特徴とする請求項１記載のエアー
ナイフ。2. The air knife according to claim 1, wherein the pair of slits are inclined in the same direction.
傾斜していることを特徴とする請求項１記載のエアーナ
イフ。3. The air knife according to claim 1, wherein the pair of slits are inclined in opposite directions.
被処理物にエアーナイフから噴出される圧縮空気を吹き
付けて乾燥処理する処理装置において、 上記エアーナイフは請求項１に記載された構成であるこ
とを特徴とする乾燥槽処理装置。4. A processing apparatus having a processing tank, wherein a drying process is performed by spraying compressed air jetted from an air knife onto a processing object carried into the processing tank, wherein the air knife is described in claim 1. Drying tank processing apparatus, characterized in that:
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003001206A (en) * | 2001-06-18 | 2003-01-07 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Method and apparatus for treating substrate |
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| JP2007237363A (en) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Komatsu Machinery Corp | Substrate surface machining apparatus |
| KR100790479B1 (en) * | 2001-12-04 | 2008-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Air Knife Dryer |
| US20080023051A1 (en) * | 2004-08-05 | 2008-01-31 | Shoji Yoshimura | Deposit Removing Device |
| US7701546B2 (en) | 2004-06-22 | 2010-04-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing an LCD |
| JP2010216671A (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Tokai Gokin Kogyo Kk | Slit air nozzle |
| US8322045B2 (en) | 2002-06-13 | 2012-12-04 | Applied Materials, Inc. | Single wafer apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife |
| WO2017219426A1 (en) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | 武汉华星光电技术有限公司 | Liquid knife |
-
1998
- 1998-09-30 JP JP27767098A patent/JP3964556B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003001206A (en) * | 2001-06-18 | 2003-01-07 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Method and apparatus for treating substrate |
| JP4682456B2 (en) * | 2001-06-18 | 2011-05-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| KR100790479B1 (en) * | 2001-12-04 | 2008-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Air Knife Dryer |
| US8322045B2 (en) | 2002-06-13 | 2012-12-04 | Applied Materials, Inc. | Single wafer apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife |
| KR101039028B1 (en) * | 2004-06-22 | 2011-06-03 | 삼성전자주식회사 | Method for manufacturing lcd and apparatus therefor |
| US7701546B2 (en) | 2004-06-22 | 2010-04-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing an LCD |
| US20080023051A1 (en) * | 2004-08-05 | 2008-01-31 | Shoji Yoshimura | Deposit Removing Device |
| US8499410B2 (en) * | 2004-08-05 | 2013-08-06 | Kobe Steel, Ltd. | Deposit removing device |
| KR100753643B1 (en) | 2006-02-13 | 2007-08-30 | 주식회사 씨에이치케이 | Air knife |
| JP2007237363A (en) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Komatsu Machinery Corp | Substrate surface machining apparatus |
| KR100757181B1 (en) | 2006-06-08 | 2007-09-07 | (주) 세아 | Plastic-material air knife for glass flat-plate cleaning preventing deflection |
| JP2010216671A (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Tokai Gokin Kogyo Kk | Slit air nozzle |
| WO2017219426A1 (en) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | 武汉华星光电技术有限公司 | Liquid knife |
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