JP2000101102A - オプティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法 - Google Patents

オプティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法

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JP2000101102A
JP2000101102A JP10288853A JP28885398A JP2000101102A JP 2000101102 A JP2000101102 A JP 2000101102A JP 10288853 A JP10288853 A JP 10288853A JP 28885398 A JP28885398 A JP 28885398A JP 2000101102 A JP2000101102 A JP 2000101102A
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optical element
element platform
block
channel
manufacturing
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JP10288853A
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Hiroaki Tanji
宏彰 丹治
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Hoya Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光素子や光部品を高精度に位置決め搭載する
ためのオプティカル・エレメント・プラットフォームを
優れた生産性のもとで高精度に製造するための方法等を
提供する。 【解決手段】 製造しようとするオプティカル・エレメ
ント・プラットフォームの最終的な形状を想定し、前記
最終的な形状を複数の部分に分割し、前記複数の部分に
相応する形状を有する複数のブロック(例えば、上部ブ
ロック3、ベースブロック4)を用意し、前記複数のブ
ロックを接合(熱圧着など)して前記最終的な形状を有
するオプティカル・エレメント・プラットフォームを製
造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、光通信用、光計測
用の光素子や光部品などを搭載するためのオプティカル
・エレメント・プラットフォームの製造方法等に関す
る。
【0002】
【従来の技術】光通信用、光計測用の光素子や光部品な
どを搭載、集積し、光集積回路等を作製するための基板
(基体)として、オプティカル・エレメント・プラット
フォーム(OEP)が知られている。このOEPは、例
えば、図1に示すように、ガラス、シリコンなどの材料
からなるブロック形状をした基体1の表面に、数十μm
〜数mm程度の幅と深さの矩形エレメントから構成され
るチャンネル2が形成されている。このチャンネル2の
矩形の窪み部分に、半導体レーザー、フォトダイオード
などの素子が固定される。また、細いチャンネル部分を
形成し、光ファイバー端部を固定する場合もある。搭載
される素子のアライメントを高精度かつ簡便に行うた
め、チャンネルは、搭載素子の位置決めに用いられ、そ
のためチャンネルの位置、形状には、ミクロンオーダー
の精度が要求されることがある。光ファイバー端部を固
定する場合、その位置決めの安定性を考慮し、OEPは
石英に近い熱膨張係数を有する材料が好ましい。このた
めOEP用の材料としてガラスが有望であるが、加工が
容易でない。ガラスモールド法では、型を抜く必要上、
完全に垂直なチャンネル側壁が形成できず、精度に問題
が生じる。またエッチング法で「mm」オーダーの深さ
を有するチャンネルを掘るのは、非常に時間がかかり大
量生産は事実上不可能であるし、また側壁の直線性、垂
直性も劣る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
方法で、光素子や光部品を高精度に位置決め搭載するた
めのオプティカル・エレメント・プラットフォームを優
れた生産性のもとで高精度に製造することは難しかっ
た。
【0004】本発明は上記の問題を解決するためになさ
れたものであり、光素子や光部品を高精度に位置決め搭
載するためのオプティカル・エレメント・プラットフォ
ームを優れた生産性(量産性)のもとで高精度に製造す
るための方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のオプテイカル・エレメント・プラットフォ
ームの製造方法等は以下の構成としてある。
【0006】(構成1)光素子や光部品を位置決め搭載
するためのオプティカル・エレメント・プラットフォー
ムの製造方法において、製造しようとするオプティカル
・エレメント・プラットフォームの最終的な形状を想定
し、前記最終的な形状を複数の部分に分割し、前記複数
の部分に相応する形状を有する複数のブロックを用意
し、前記複数のブロックを接合して前記最終的な形状を
有するオプティカル・エレメント・プラットフォームを
得ることを特徴とするオプティカル・エレメント・プラ
ットフォームの製造方法。
【0007】(構成2)前記複数の部分に分割する分割
面の中に、オプティカル・エレメント・プラットフォー
ムにおいて光素子や光部品を位置決めする基準面となる
面が含まれていることを特徴とする構成1に記載のオプ
ティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法。
【0008】(構成3)光素子や光部品を位置決め搭載
するための、底部を有する窪み状のチャンネルを備えオ
プティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法
において、前記チャンネルの深さと同一又は若干厚い厚
みを有する材料に、前記チャンネルと同じ形状であっ
て、底部が貫通した貫通部を形成して、貫通部を備えた
ブロックを得、前記チャンネルの底部となるベースブロ
ックを、前記貫通部を備えたブロックに接合してオプテ
ィカル・エレメント・プラットフォームを得ることを特
徴とするオプティカル・エレメント・プラットフォーム
の製造方法。
【0009】(構成4)前記ブロックの接合方法が、熱
圧着法であることを特徴とする構成1〜3のいずれか一
項に記載のオプティカル・エレメント・プラットフォー
ムの製造方法。
【0010】(構成5)各ブロックを、型を用いて熱圧
着又は接合することを特徴とする構成1〜4のいずれか
一項に記載のオプティカル・エレメント・プラットフォ
ームの製造方法。
【0011】(構成6)各ブロックがガラスからなるこ
とを特徴とする構成1〜5のいずれか一項に記載のオプ
ティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法。
【0012】(構成7)複数のブロックを接合して形成
したオプティカル・エレメント・プラットフォームであ
って、前記複数のブロックのうちに、異なる材料からな
るブロック、あるいは、表面の少なくとも一部が異なる
材料からなるブロックを有することを特徴とするオプテ
ィカル・エレメント・プラットフォーム。
【0013】(構成8)構成1〜6のいずれか一項に記
載の製造方法を用いて作製したオプティカル・エレメン
ト・プラットフォームに、搭載すべき部品を搭載してな
ることを特徴とする光モジュール。
【0014】
【作用】本発明では、最終的な形状を複数のブロックに
分割し、この複数のブロックを接合して最終的な形状を
有するオプティカル・エレメント・プラットフォームを
作製しているので、底面に対する側壁の垂直性、チャン
ネル形状の直線性など高精度なチャンネル有するオプテ
ィカル・エレメント・プラットフォームを得ることがで
きる。また、分割したブロックの一部を厚さの薄いブロ
ックとすることで、この厚さの薄いブロックに貫通孔、
切り込み、切り欠き等を高精度に形成することが可能と
なり、チャンネルの側壁等の高精度な加工が容易に可能
となる。さらに、本発明は従来法に比べ生産性(量産
性)に優れた方法である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0016】本発明の第一の実施の形態は、光素子や光
部品を位置決め搭載するためのオプティカル・エレメン
ト・プラットフォームを製造するために、製造しようと
するオプティカル・エレメント・プラットフォームの最
終的な形状を想定(設計)し、その最終的な形状を、複
数の部分に分割し、分割した形状を想定する。そして、
これらの分割された複数の形状に相応する複数のブロッ
クを実際に用意し、これらのブロックを接合(熱圧着な
ど)して最終的な形状を有するオプティカル・エレメン
ト・プラットフォームを得る。
【0017】ここで、最終的な形状を「複数の部分に分
割」する態様は任意であり無数の態様が考えられるが、
最終製品及びそのチャンネル等の精度や生産性など本発
明の目的を考慮して、合理的な態様となるように分割す
ることが好ましい。例えば、分割された各ブロックは、
より単純な形状(例えば、直方体、立方体など)とした
方が合理的であり、また、なるべく少ない数のブロック
に分割する方が合理的である。具体的には、図2の場合
は上部ブロック3に貫通孔5を形成する加工を必要とす
るがブロックの数は2点で済む。図3の場合はブロック
の数は多くなるが上部ブロック3に貫通孔5を形成する
加工は必要でなく、より単純な形状を有する直方体だけ
で上部ブロック3を構成できる。分割面の中に、オプテ
ィカル・エレメント・プラットフォームにおいて光素子
や光部品を位置決めする基準面となる面が含まれるよう
な分割態様も当然含まれ、合理的である。この場合、分
割面は、オプティカル・エレメント・プラットフォーム
のチャンネルと呼ばれる光素子や光部品を位置決めする
ための、底部を有する窪み状の部分の底面を含む面であ
ってもよいし、側壁に相当する面を含む面であってもよ
い。あるいはチャンネルの底面を含む面と側壁に相当す
る面を含む面をそれぞれ分割面としてもよい。分割面
は、OEPの最終的な外形状が通常直方体であるので、
OEPの底面(上面)又は側面と平行な面を分割面とす
れば、分割されたブロックの外形状は直方体となる。な
お、直方体、立方体など単純な形状のブロックは、大型
のガラスブロックからの切断・研磨など公知の方法で高
精度に容易に再現性良く作製でき、公知の接合方法で容
易に接合できる。また、厚さの薄いブロックに貫通孔、
切り込み、切り欠き等を形成することも容易である。
【0018】チャンネルの底面と側壁のように、双方の
面が基準面であり、かつ基準面同士のなす角度に高い精
度が求められるような場合には、次のようにしてブロッ
クを用意することが好ましい。まず基準面のいずれかを
分割面として、オプテイカル・エレメント・プラットフ
ォームの最終的な形状を複数のブロックに分割する。そ
して各ブロックを熱圧着したときに、基準面同士の角度
が正確に設計値と一致するように各ブロックを形成す
る。具体的には、例えば、ます、ベースブロックと上部
ブロックとに分割する。そして上部ブロックを構成する
各ブロックの基準面となる面と、ベースブロック上の基
準面となる面を含む分割面に熱圧着されることになる面
とのなす角度を、オプティカル・エレメント・プラット
フォームの最終的な形状における基準面同士のなす角の
外角に等しくなるように形成する。このようにして作製
された各ブロックを熱圧着することにより、基準面同士
の角度が正確なオプティカル・エレメント・プラットフ
ォームが得られる。なお、基準面同士の角度の角度は9
0°に限られず、任意の角度とすることができ、例え
ば、図4に示すような態様も含まれる。
【0019】チャンネル2の形状は、窪みに限られず、
図5に示す切り欠きや、図6や図7に示す切り込みな
ど、搭載に適した形状であればよい。
【0020】次に、本発明の第二の実施の形態について
説明する。本発明の第二の実施の形態は、光素子や光部
品を位置決めするための、底部を有する窪み状のチャン
ネルを備えたオプティカル・エレメント・プラットフォ
ーム(例えば、図2に図示されたもの)を製造する場合
に適した製造方法である。まず前記チャンネルの深さに
ほぼ等しい厚みを有する材料に、前記チャンネルと同じ
形状であって、底部が貫通した貫通部を形成して、貫通
部を備えたブロックを得る。そして、前記チャンネルの
底部となるベースブロックを、前記貫通部を備えたブロ
ックに熱圧着してオプティカル・エレメント・プラット
フォームを得るものである。「チャンネルの深さにほぼ
等しい厚みを有する材料」を用いるのは、熱圧着時に変
形して厚さが若干薄くなることがあるので、若干厚くし
て熱圧着後にチャンネルの深さと一致させるためであ
る。熱圧着時の変形がない場合は、チャンネルの深さと
同じ厚みを有する材料を用いることができる。
【0021】ここで、貫通部、すなわちチャンネルパタ
ーンの加工法としては、レーザー加工、ウォータージェ
ット加工、超音波加工などの機械加工法が一般的だがこ
れに限定されない。貫通部の形状は、閉じた形状のもの
に限らず、ブロックに切り欠きが形成されているような
もの(図5参照)や、ブロック同士が離れている(切り
込みがある)ようなもの(図6、図7参照)でもよい。
【0022】さらに、第二の態様の製造方法は、チャン
ネルの底部が段差をなし、チャンネルが複数の段差状の
底面を有するオプティカル・エレメント・プラットフォ
ーム(例えば図8(a)に示されたもの)の製造にも適
用できる。具体的には、例えば、図8(a)に示すよう
に、最終的な形状をチャンネルの底面を含む面で分割
し、チャンネルの底面の数(同一平面上のものは一つに
数える)と同じ数の上部ブロックとなる材料を用意す
る。ここでチャンネルの深さを各底面の段差とし、各上
部ブロックの厚みを対応する各段差分にほぼ等しいもの
とする。図8(b)に示すように、上述したような方法
で、上部ブロックとなる材料に貫通部を形成する。貫通
部の形状は、チャンネル各層のパターンのうち該当する
層のパターン形状とする。必要な上部ブロックとべ一ス
ブロックとを用意したら、上述の方法でブロック同士を
熱圧着し、オプティカル・エレメント・プラットフォー
ムを得る(図8(c))。
【0023】第一、第二の実施の形態において、正確な
形状に加工されたブロックを熱圧着する時に、大きく変
形させると、目的とする基準面の精度に影響を生じるこ
とがある。したがって、熱圧着時のブロックの変形を抑
えるために、型を用いることが好ましい。型として、例
えば、材料に、超硬合金、セラミックなどを用い、熱圧
着時にブロックに接触する部分にi−Carbon膜な
どの離型膜等を所望により設けたものを使用することが
できる。この型は、例えば、図9に示すように、チャン
ネルとプラットフォーム上面を規定する雄型11と、プ
ラットフォームの外寸全体を規定する雌型12とからな
る。雄型11はチャンネルを規定する突起13を有す
る。この型に、ベースブロック4、チャンネルを形成す
る上部ブロック3を順次セットし、熱圧着を行う。この
場合、チャンネルは、直方体のブロックの組み合せでも
良い(LEGOのイメージ)し、チャンネルパターンの
切れ込みを有するものの組み合せでも構わない。
【0024】本発明では、オプティカル・エレメント・
プラットフォームに搭載する光素子、光部品との位置合
わせ用マークをパターニングしておくこともできる。マ
ークのパターニングは、熱圧着前のブロックにレーザ
ー、ウォータージェット、超音波加工などの機械加工法
により施すか、あるいは、図9に示すように、プラット
フォーム上部面に対応する雄型11の熱圧着面にマーク
用の突起もしくは窪みをつけておき、熱圧着の際にこの
マークをガラスに転写するというようにマーク転写部1
4を有する型を用いて熱圧着時に位置合わせ用マークを
形成する方法を取っても良い。
【0025】オプティカル・エレメント・プラットフォ
ームに光ファイバーを搭載する場合、その位置決めの安
定性を考慮し、光ファイバーの材料である石英に近い熱
膨張係数を有する材料が好ましい。このような理由に加
え、熱圧着により高精度に最終的な形状を得ることがで
きることから、各ブロックの材料としてガラスが好まし
い。ガラスを用いる場合、熱圧着は、ガラス転移温度
(Tg)以上で行う。ガラスによっても異なるが、Tg
+50〜100℃が適切で、高すぎると型の隙間へのガ
ラスの入り込み(バリの発生)が起きたり、熱圧着時に
ブロックが大きく変形し、所望の直線性、垂直性を有す
るチャンネルの形成が難しくなることがある。
【0026】なお、本発明のオプティカル・エレメント
・プラットフォームにおいては、複数のブロックのうち
に、異なる材料からなるブロック、あるいは、表面の少
なくとも一部が異なる材料からなるブロックを有する構
成とすることができる。これにより、導波路構造を形成
するため、屈折率の異なるガラス部、微粒子分散ガラス
からなる非線型光学素子部、あるいはフィルタや偏光機
能を有する素子部などを組み込むことができる。また、
ブロックの一部をメッキして電極を形成したり、絶縁
性、導電性、放熱性などの向上や帯電防止、素子や部品
の障害回避等を図ることができる。
【0027】なお、上記説明において、光素子とは半導
体レーザー、LEDなどの発光素子、フォトダイオード
などの受光素子、導波路素子などであり、光部品とは光
ファイバー、フィルターなどであるが、特にこれらに限
定されない。また、光ファイバー端部などをオプティカ
ル・エレメント・プラットフォームに固定する場合も、
光ファイバー全体がプラットフォーム上に配置されるわ
けではないが、搭載と表現することにする。同様に光素
子、光部品の一部が配置される場合も、本発明において
搭載と表現することにする。
【0028】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0029】実施例1 実施例1において作製するオプティカル・エレメント・
プラットフォームは、図2に完成品として示されている
ものであり、上面に光素子や光部品を搭載するためのチ
ャンネル2と、位置合わせ用マーク15が形成されたも
のである。チャンネルに光素子や光部品を搭載する際
に、位置決め基準面となる面は、チャンネルの底面と側
壁である。ここで、最終的な形状を、より単純な形状に
分割するために、チャンネル底面を含む分割面(平面)
を想定し、分割面よりも上の部分を上部ブロック、下の
部分をべ一スブロックとし、それぞれの形状を有する2
つのブロックを次のようにして用意する。
【0030】図2に示されているように、石英に近い熱
膨張率を有する厚さ1mmのホウケイ酸ガラス(HOY
A(株)製硝種DFG-1)(Tg=477℃)3’
に、超音波加工によってチャンネルパターンを形成、貫
通部5とし、上部ブロック3とする。貫通部5の内壁
は、上部ブロック3の底面すなわちベースブロック4と
熱圧着される面に対し、垂直に形成されている。一方、
ベースブロック4としては、上部プレートと同じ大き
さ、ガラスからなるブロックを用いる。ベースブロック
4の上面は平面であり、上部ブロックに熱圧着される領
域と、熱圧着によりチャンネル底部となる領域とからな
る。
【0031】上部ブロック3とベースブロック4とを熱
圧着するための型には、図9に示されているようなチャ
ンネルとプラットフォーム上面を規定する雄型11と、
プラットフォームの外寸全体を規定する雌型12とが用
いられる。双方の型とも、SiCセラミックにi−カー
ボン膜をコートしたものであり、雄型11の上部ブロッ
クに接触する面には位置合わせ用マークを上部ブロック
に転写するためのマーク用突起14が設けられている。
雌型12にベースブロック4、上部ブロック3をセット
し、図9に示されているように雄型11により加圧して
2つのブロックを熱圧着するとともに、位置合わせ用マ
ークを上部ブロック3の上面に形成する。熱圧着条件
は、温度520℃、圧力40Kg/cm2、保持時間2
分とした。
【0032】その結果、得られたオプティカル・エレメ
ント・プラットフォームのチャンネルは、底面に対する
側壁の垂直性、チャンネル形状の直線性が十分なもので
あった。このオプティカル・エレメント・プラットフォ
ームを用いたところ、光素子、光部品を良好に位置決め
搭載することができた。
【0033】実施例2 実施例2では、図3に示すように、実施例1の上部ブロ
ックをさらに単純な形状に分割する。分割の仕方は、上
部ブロックを基準面となるチャンネル側壁を含む分割面
でさらに分割し、8つの直方体とする。これら8つの直
方体形状のブロックからなる上部ブロック3と、ベース
ブロック4を用意する。各ブロックは実施例1で用いた
ガラスと同じ材料からなる。前記8つの直方体形状のブ
ロックは、それぞれ底面と側面を平坦に、かつ底面に対
し側面が垂直になるように精密に加工されている。これ
らのブロックを実施例1において用いた型にセットし、
同じ条件のもとで熱圧着した。その結果、実施例1と同
じように、上面にチャンネル2と位置合わせ用マーク1
5を有するオプティカル・エレメント・プラットフォー
ムが得られた。
【0034】得られたオプティカル・エレメント・プラ
ットフォームのチャンネルは、底面に対する側壁の垂直
性、チャンネル形状の直線性が十分なものであった。こ
のオプティカル・エレメント・プラットフォームを用い
たところ、光素子、光部品を良好に位置決め搭載するこ
とができた。
【0035】実施例3 実施例3では、図8(a)に示された底面が段差を形成
したオプティカル・エレメント・プラットフォームを作
製した。チャンネルの底面の数(同一平面上のものは一
つに数える)に対応し、2つの上部ブロックとなる材料
を用意する。材料の厚みは、各段差にほぼ等しくした。
それから、上部ブロックとなる材料に貫通部を形成する
(図8(b))。貫通部の形状は、チャンネル各層のパ
ターンのうち該当する層のパターン形状とする。上部ブ
ロック2個とベースブロックとを用意したら、上記実施
例と同じ方法でブロック同士を熱圧着し、オプティカル
・エレメント・プラットフォームを得た(図8
(c))。
【0036】得られたオプティカル・エレメント・プラ
ットフォームのチャンネルは、底面に対する側壁の垂直
性、チャンネル形状の直線性が十分なものであった。こ
のオプティカル・エレメント・プラットフォームを用い
たところ、光素子、光部品を良好に位置決め搭載するこ
とができた。
【0037】
【発明の効果】以上のように、本発明のオプティカル・
エレメント・プラットフォームの製造方法によれば、光
素子や光部品を高精度に位置決め搭載するためのオプテ
ィカル・エレメント・プラットフォームを優れた生産性
(量産性)のもとで高精度に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
を説明するための斜視図である。
【図2】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
の製造方法の一態様を説明するための斜視図である。
【図3】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
の製造方法の他の態様を説明するための斜視図である。
【図4】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
におけるチャンネルの他の態様を説明するための斜視図
である。
【図5】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
におけるチャンネルの他の態様を説明するための斜視図
である。
【図6】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
におけるチャンネルの他の態様を説明するための斜視図
である。
【図7】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
におけるチャンネルの他の態様を説明するための斜視図
である。
【図8】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
の製造方法の他の態様を説明するための断面図である。
【図9】オプティカル・エレメント・プラットフォーム
の製造に使用される型を説明するための図である。
【符号の説明】
1 基体 2 チャンネル 3 上部ブロック 4 ベースブロック 5 貫通孔 11 雄型 12 雌型 13 突起 14 マーク転写部 15 位置合わせ用マーク

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光素子や光部品を位置決め搭載するため
    のオプティカル・エレメント・プラットフォームの製造
    方法において、 製造しようとするオプティカル・エレメント・プラット
    フォームの最終的な形状を想定し、前記最終的な形状を
    複数の部分に分割し、前記複数の部分に相応する形状を
    有する複数のブロックを用意し、 前記複数のブロックを接合して前記最終的な形状を有す
    るオプティカル・エレメント・プラットフォームを得る
    ことを特徴とするオプティカル・エレメント・プラット
    フォームの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記複数の部分に分割する分割面の中
    に、オプティカル・エレメント・プラットフォームにお
    いて光素子や光部品を位置決めする基準面となる面が含
    まれていることを特徴とする請求項1に記載のオプティ
    カル・エレメント・プラットフォームの製造方法。
  3. 【請求項3】 光素子や光部品を位置決め搭載するため
    の、底部を有する窪み状のチャンネルを備えオプティカ
    ル・エレメント・プラットフォームの製造方法におい
    て、 前記チャンネルの深さと同一又は若干厚い厚みを有する
    材料に、前記チャンネルと同じ形状であって、底部が貫
    通した貫通部を形成して、貫通部を備えたブロックを
    得、 前記チャンネルの底部となるベースブロックを、前記貫
    通部を備えたブロックに接合してオプティカル・エレメ
    ント・プラットフォームを得ることを特徴とするオプテ
    ィカル・エレメント・プラットフォームの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ブロックの接合方法が、熱圧着法で
    あることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記
    載のオプティカル・エレメント・プラットフォームの製
    造方法。
  5. 【請求項5】 各ブロックを、型を用いて熱圧着又は接
    合することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に
    記載のオプティカル・エレメント・プラットフォームの
    製造方法。
  6. 【請求項6】 各ブロックがガラスからなることを特徴
    とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のオプティカ
    ル・エレメント・プラットフォームの製造方法。
  7. 【請求項7】 複数のブロックを接合して形成したオプ
    ティカル・エレメント・プラットフォームであって、 前記複数のブロックのうちに、異なる材料からなるブロ
    ック、あるいは、表面の少なくとも一部が異なる材料か
    らなるブロックを有することを特徴とするオプティカル
    ・エレメント・プラットフォーム。
  8. 【請求項8】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の製
    造方法を用いて作製したオプティカル・エレメント・プ
    ラットフォームに、搭載すべき部品を搭載してなること
    を特徴とする光モジュール。
JP10288853A 1998-09-26 1998-09-26 オプティカル・エレメント・プラットフォームの製造方法 Pending JP2000101102A (ja)

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