JP2000095774A - 殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法 - Google Patents
殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導
体の新規製造方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体と、アミン類を反
応させることを特徴とする一般式（３）
体の新規製造方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体と、アミン類を反
応させることを特徴とする一般式（３）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は殺虫活性を有するテ
トラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法に関するもの
である。
トラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル
誘導体の製造方法については、例えば特許公報第２７６
６８４８号等に代表されるように、現在までにいくつか
開示されている。しかしながらそれらの製造中間体とし
て多く用いられているイソチオ尿素誘導体は、その分子
内に硫黄原子を含み、アミン類との交換反応により悪臭
を放つメルカプタン類を副生する為、工業的製造を考慮
した場合必ずしも最適な製造中間体とは言えなかった。
誘導体の製造方法については、例えば特許公報第２７６
６８４８号等に代表されるように、現在までにいくつか
開示されている。しかしながらそれらの製造中間体とし
て多く用いられているイソチオ尿素誘導体は、その分子
内に硫黄原子を含み、アミン類との交換反応により悪臭
を放つメルカプタン類を副生する為、工業的製造を考慮
した場合必ずしも最適な製造中間体とは言えなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、悪臭を放つ
メルカプタン類を副生しないＮ−ニトロイソ尿素誘導体
と、アミン誘導体の反応による前記の殺虫活性を有する
テトラヒドロフラニル誘導体の製造方法を提供すること
を課題とする。
メルカプタン類を副生しないＮ−ニトロイソ尿素誘導体
と、アミン誘導体の反応による前記の殺虫活性を有する
テトラヒドロフラニル誘導体の製造方法を提供すること
を課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、テトラヒドロフラニル
誘導体の製造中間体として、その分子内に硫黄原子を含
まず、従って悪臭を放つメルカプタン類を副生しないＮ
−ニトロイソ尿素誘導体を見出し、本発明を完成させ
た。
を解決すべく鋭意検討した結果、テトラヒドロフラニル
誘導体の製造中間体として、その分子内に硫黄原子を含
まず、従って悪臭を放つメルカプタン類を副生しないＮ
−ニトロイソ尿素誘導体を見出し、本発明を完成させ
た。
【０００５】すなわち本発明は以下のとおりである。
【０００６】一般式（１）（化４）
【０００７】
【化４】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6及びＸ7はそれ
ぞれ独立して水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基または
ベンジル基を表し、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基ま
たはベンジル基を表し、Ｒ3 及びＲ4はそれぞれ独立し
て水素原子、炭素数１〜４のアルキル基またはベンジル
基を表す。］で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体と、
一般式（２）（化５）
ぞれ独立して水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基または
ベンジル基を表し、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基ま
たはベンジル基を表し、Ｒ3 及びＲ4はそれぞれ独立し
て水素原子、炭素数１〜４のアルキル基またはベンジル
基を表す。］で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体と、
一般式（２）（化５）
【０００８】
【化５】 ［式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはベンジル基を表す。］で表さ
れるアミン類を反応させることを特徴とする一般式
（３）（化６）
１〜４のアルキル基またはベンジル基を表す。］で表さ
れるアミン類を反応させることを特徴とする一般式
（３）（化６）
【０００９】
【化６】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6、Ｘ7、Ｒ1、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ前記の意味を表す。］で
表されるテトラヒドロフラニル誘導体の製造方法。
3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ前記の意味を表す。］で
表されるテトラヒドロフラニル誘導体の製造方法。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体およ
びその製造方法において、炭素数１〜４のアルキル基と
しては具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ
−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基
等を表す。一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素
誘導体は新規化合物であり、反応式（１）（化７）に示
す方法（参考：特開平１０−１２０６６６等）により製
造することができる。
一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体およ
びその製造方法において、炭素数１〜４のアルキル基と
しては具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ
−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基
等を表す。一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素
誘導体は新規化合物であり、反応式（１）（化７）に示
す方法（参考：特開平１０−１２０６６６等）により製
造することができる。
【００１１】
【化７】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6、Ｘ7、Ｒ1、Ｒ
2、Ｒ3、Ｒ4は一般式（１）（化４）と同じ意味を表
す。］ 反応式（１）において、一般式（４）で表されるＯ−置
換−Ｎ−ニトロイソ尿素類を一般式（５）で表されるア
ミン類またはその塩と溶媒中、ｐＨを６から８に調整し
て反応させることにより一般式（１）で表されるＮ−ニ
トロイソ尿素誘導体を製造することができる。
2、Ｒ3、Ｒ4は一般式（１）（化４）と同じ意味を表
す。］ 反応式（１）において、一般式（４）で表されるＯ−置
換−Ｎ−ニトロイソ尿素類を一般式（５）で表されるア
ミン類またはその塩と溶媒中、ｐＨを６から８に調整し
て反応させることにより一般式（１）で表されるＮ−ニ
トロイソ尿素誘導体を製造することができる。
【００１２】反応式（１）において、一般式（５）で表
されるアミン類と塩形成する酸としては、塩酸・硫酸・
リン酸等の鉱酸類、メタンスルホン酸・ｐ−トルエンス
ルホン酸等のスルホン酸類、蟻酸・酢酸・プロピオン酸
等のカルボン酸類等を挙げることができる。
されるアミン類と塩形成する酸としては、塩酸・硫酸・
リン酸等の鉱酸類、メタンスルホン酸・ｐ−トルエンス
ルホン酸等のスルホン酸類、蟻酸・酢酸・プロピオン酸
等のカルボン酸類等を挙げることができる。
【００１３】反応式（１）で表される反応に用いられる
溶媒としては、水、メタノール・エタノール等のアルコ
ール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）・ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）・１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）等の非プロトン性極性
溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）・１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、アセトニトリル・プロピオニトリ
ル等のニトリル類、アセトン等のケトン類を挙げること
ができる。
溶媒としては、水、メタノール・エタノール等のアルコ
ール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）・ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）・１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）等の非プロトン性極性
溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）・１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、アセトニトリル・プロピオニトリ
ル等のニトリル類、アセトン等のケトン類を挙げること
ができる。
【００１４】反応式（１）で表される反応におけるｐＨ
の調整は、塩酸、硫酸、リン酸等の鉱酸類に代表される
酸類と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化
アルカリ金属類に代表される塩基類の組み合わせや、ま
た、ホウ酸ナトリウム−塩酸等の一般緩衝液やトリス−
塩酸やトリエタノールアミン−塩酸等の特殊緩衝液に代
表される緩衝液を用いることができる。
の調整は、塩酸、硫酸、リン酸等の鉱酸類に代表される
酸類と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化
アルカリ金属類に代表される塩基類の組み合わせや、ま
た、ホウ酸ナトリウム−塩酸等の一般緩衝液やトリス−
塩酸やトリエタノールアミン−塩酸等の特殊緩衝液に代
表される緩衝液を用いることができる。
【００１５】反応式（１）において、一般式（５）で表
されるアミン類およびその塩の当量は一般式（４）で表
されるＯ−置換−Ｎ−ニトロイソ尿素類に対して０．５
〜２当量が好ましく、より好ましくは０．９〜１．１当
量である。
されるアミン類およびその塩の当量は一般式（４）で表
されるＯ−置換−Ｎ−ニトロイソ尿素類に対して０．５
〜２当量が好ましく、より好ましくは０．９〜１．１当
量である。
【００１６】反応式（１）で表される反応の反応温度お
よび反応時間は広範囲に変化させることができる。一般
的には、反応温度は−２０〜２００℃が好ましく、より
好ましくは０〜１００℃、反応時間は０．０１〜５０時
間が好ましく、より好ましくは０．１〜１５時間であ
る。
よび反応時間は広範囲に変化させることができる。一般
的には、反応温度は−２０〜２００℃が好ましく、より
好ましくは０〜１００℃、反応時間は０．０１〜５０時
間が好ましく、より好ましくは０．１〜１５時間であ
る。
【００１７】反応式（１）において、一般式（５）で表
されるアミン類は特許公報第２７６６８４８号等に示さ
れる方法で製造できる。また、一般式（４）で表される
Ｏ−置換−Ｎ−ニトロイソ尿素類は、例えばＲ2がメチ
ル基の場合、特開平１０−１２０６６６等に示されるよ
うにＯ−メチルイソ尿素硫酸塩のニトロ化により製造す
ることができる。
されるアミン類は特許公報第２７６６８４８号等に示さ
れる方法で製造できる。また、一般式（４）で表される
Ｏ−置換−Ｎ−ニトロイソ尿素類は、例えばＲ2がメチ
ル基の場合、特開平１０−１２０６６６等に示されるよ
うにＯ−メチルイソ尿素硫酸塩のニトロ化により製造す
ることができる。
【００１８】次に前記一般式（３）の殺虫活性を有する
テトラヒドロフラニル誘導体は反応式（２）（化８）に
示す方法により製造することができる。
テトラヒドロフラニル誘導体は反応式（２）（化８）に
示す方法により製造することができる。
【００１９】
【化８】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6、Ｘ7、Ｒ1、Ｒ
2、Ｒ3 Ｒ4は一般式（１）（化４）と同じ意味を表し、
Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基及びベンジル基を表す］ 反応式（２）において一般式（１）で表されるＮ−ニト
ロイソ尿素誘導体を一般式（２）で表されるアミン類ま
たはその塩と溶媒中、無塩基若しくは塩基存在下で反応
させることにより、一般式（３）で表されるテトラヒド
ロフラニル誘導体を製造することができる。
2、Ｒ3 Ｒ4は一般式（１）（化４）と同じ意味を表し、
Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基及びベンジル基を表す］ 反応式（２）において一般式（１）で表されるＮ−ニト
ロイソ尿素誘導体を一般式（２）で表されるアミン類ま
たはその塩と溶媒中、無塩基若しくは塩基存在下で反応
させることにより、一般式（３）で表されるテトラヒド
ロフラニル誘導体を製造することができる。
【００２０】反応式（２）で表される反応に用いられる
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
水酸化アルカリ金属類、水酸化マグネシウム、水酸化カ
ルシウム等の水酸化アルカリ土類金属類、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ
金属アルコラート類、酸化ナトリウム等のアルカリ金属
酸化物類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩
類、リン酸三カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸一
水素二カリウム、リン酸一水素二ナトリウム等のリン酸
塩類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類、ピ
リジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチル
アミン、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等の有機
塩基類を挙げることができる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
水酸化アルカリ金属類、水酸化マグネシウム、水酸化カ
ルシウム等の水酸化アルカリ土類金属類、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ
金属アルコラート類、酸化ナトリウム等のアルカリ金属
酸化物類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩
類、リン酸三カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸一
水素二カリウム、リン酸一水素二ナトリウム等のリン酸
塩類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類、ピ
リジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチル
アミン、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等の有機
塩基類を挙げることができる。
【００２１】反応式（２）で表される反応に用いられる
溶媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等のアルコール類、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、１−メチル
−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等の非プロトン性極性溶
媒、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，２−
ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、アセトン、イソプロ
ピルケトン等のケトン類等を挙げることができる。
溶媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等のアルコール類、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、１−メチル
−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等の非プロトン性極性溶
媒、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，２−
ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、アセトン、イソプロ
ピルケトン等のケトン類等を挙げることができる。
【００２２】一般式（２）で表されるアミン類の当量
は、一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体
に対し、１〜２当量が好ましく、より好ましくは１〜
１．２当量である。
は、一般式（１）で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体
に対し、１〜２当量が好ましく、より好ましくは１〜
１．２当量である。
【００２３】反応式（２）で表される反応の反応温度お
よび反応時間は広範囲に変化させることができる。一般
的には、反応温度は−２０℃〜２００℃が好ましく、よ
り好ましくは０〜１００℃、反応時間は０．０１〜５０
時間が好ましく、より好ましくは０．１〜１５時間であ
る。
よび反応時間は広範囲に変化させることができる。一般
的には、反応温度は−２０℃〜２００℃が好ましく、よ
り好ましくは０〜１００℃、反応時間は０．０１〜５０
時間が好ましく、より好ましくは０．１〜１５時間であ
る。
【００２４】次に実施例および参考例により本発明を具
体的に説明するが、本発明は以下の記載内容に限定され
るものではない。参考例１ Ｏ−メチル−Ｎ−（テトラ
ヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿
素（化合物番号１）の製造（化９）
体的に説明するが、本発明は以下の記載内容に限定され
るものではない。参考例１ Ｏ−メチル−Ｎ−（テトラ
ヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿
素（化合物番号１）の製造（化９）
【００２５】
【化９】 （テトラヒドロ−３−フラニル）メチルアミン１２．５
４ｇ（０．１２４ｍｏｌ）を蒸留水５０．０ｇに撹拌懸
濁し、氷冷下３５％塩酸１２．５４ｇ（０．１２４ｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下した。食塩１４．４９ｇ（０．２４
８ｍｏｌ）、Ｏ−メチル−Ｎ−ニトロイソ尿素１４．７
６ｇ（０．１２４ｍｏｌ）、０．１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液５０．１ｇ（０．００５ｍｏｌ）を順次加えて
反応液のｐＨを７．０１に調節した。自動ｐＨコントロ
ーラーを用いて１．０規定水酸化ナトリウム水溶液によ
る反応系のｐＨ制御（ｐＨ７．０〜７．２）を行いなが
ら室温にて１８時間撹拌した。反応終了後、ジクロロメ
タン１００ｇで３回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下溶媒を溜去して得られた粗生成物をｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１（ｖ／ｖ）の混合溶媒より
再結晶し、表題化合物２１．４１ｇ（０．１０５ｍｏ
ｌ）を白色結晶として得た（収率８５％）。 融点 62.4-63.3℃1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.59-1.68(1H,m),2.08-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.33-3.47(1H,m),3.55-3.60(1H,
m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),3.98(3
H,s),9.2(1H,br). IR νKBr max 3274,2982,2883,1603cm-1
４ｇ（０．１２４ｍｏｌ）を蒸留水５０．０ｇに撹拌懸
濁し、氷冷下３５％塩酸１２．５４ｇ（０．１２４ｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下した。食塩１４．４９ｇ（０．２４
８ｍｏｌ）、Ｏ−メチル−Ｎ−ニトロイソ尿素１４．７
６ｇ（０．１２４ｍｏｌ）、０．１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液５０．１ｇ（０．００５ｍｏｌ）を順次加えて
反応液のｐＨを７．０１に調節した。自動ｐＨコントロ
ーラーを用いて１．０規定水酸化ナトリウム水溶液によ
る反応系のｐＨ制御（ｐＨ７．０〜７．２）を行いなが
ら室温にて１８時間撹拌した。反応終了後、ジクロロメ
タン１００ｇで３回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下溶媒を溜去して得られた粗生成物をｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１（ｖ／ｖ）の混合溶媒より
再結晶し、表題化合物２１．４１ｇ（０．１０５ｍｏ
ｌ）を白色結晶として得た（収率８５％）。 融点 62.4-63.3℃1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.59-1.68(1H,m),2.08-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.33-3.47(1H,m),3.55-3.60(1H,
m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),3.98(3
H,s),9.2(1H,br). IR νKBr max 3274,2982,2883,1603cm-1
【００２６】参考例２ Ｏ−エチル−Ｎ−（テトラヒド
ロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素
（化合物番号１３）の製造（化１０）
ロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素
（化合物番号１３）の製造（化１０）
【００２７】
【化１０】 （テトラヒドロ−３−フラニル）メチルアミン２５．０
８ｇ（０．２４８ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシメチ
ル）アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸緩衝
溶液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）１５０．０ｇに撹拌懸
濁し、氷冷下Ｏ−エチル−Ｎ−ニトロイソ尿素３３．０
０ｇ（０．２４８ｍｏｌ）を加えて室温にて２０時間撹
拌した。反応終了後、ジクロロメタン１５０ｇで３回抽
出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜
去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物３６．６２ｇ
（０．１６９ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収
率６８％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.36(3H,t,J=7.2Hz),1.60-1.6
8(1H,m),2.08-2.16(1H,m),2.50-2.60(1H,m),3.29-3.44
(1H,m),3.55-3.60(1H,m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.9
0-3.96(1H,m),3.88(3H,q,J=7.2Hz),9.2(1H,br). IR νfilm max 3276,2990,2888,1607cm-1
８ｇ（０．２４８ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシメチ
ル）アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸緩衝
溶液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）１５０．０ｇに撹拌懸
濁し、氷冷下Ｏ−エチル−Ｎ−ニトロイソ尿素３３．０
０ｇ（０．２４８ｍｏｌ）を加えて室温にて２０時間撹
拌した。反応終了後、ジクロロメタン１５０ｇで３回抽
出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜
去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物３６．６２ｇ
（０．１６９ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収
率６８％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.36(3H,t,J=7.2Hz),1.60-1.6
8(1H,m),2.08-2.16(1H,m),2.50-2.60(1H,m),3.29-3.44
(1H,m),3.55-3.60(1H,m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.9
0-3.96(1H,m),3.88(3H,q,J=7.2Hz),9.2(1H,br). IR νfilm max 3276,2990,2888,1607cm-1
【００２８】参考例３ Ｏ−ベンジル−Ｎ−（テトラヒ
ドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素
（化合物番号２０）の合成（化１１）
ドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素
（化合物番号２０）の合成（化１１）
【００２９】
【化１１】 （テトラヒドロ−３−フラニル）メチルアミン８．３６
ｇ（０．０８３ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシメチル）
アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸緩衝溶
液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）５０．０ｇに撹拌懸濁
し、氷冷下Ｏ−ベンジル−Ｎ−ニトロイソ尿素１６．１
３ｇ（０．２４８ｍｏｌ）を加えて室温にて１５時間撹
拌した。反応終了後、ジクロロメタン５０ｇで３回抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１
（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物１６．６２ｇ
（０．０６０ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収
率７２％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.59-1.67(1H,m),2.07-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.33-3.47(1H,m),3.57-3.62(1H,
m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),4.50(1
H,AB,J=11.7Hz),4.65(1H,AB,J=11.7Hz),7.03-7.52(5H,
m),9.2(1H,br). IR νfilm max 3272,2988,2885,1604cm-1
ｇ（０．０８３ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシメチル）
アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸緩衝溶
液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）５０．０ｇに撹拌懸濁
し、氷冷下Ｏ−ベンジル−Ｎ−ニトロイソ尿素１６．１
３ｇ（０．２４８ｍｏｌ）を加えて室温にて１５時間撹
拌した。反応終了後、ジクロロメタン５０ｇで３回抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１
（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物１６．６２ｇ
（０．０６０ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収
率７２％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.59-1.67(1H,m),2.07-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.33-3.47(1H,m),3.57-3.62(1H,
m),3.73-3.86(2H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),4.50(1
H,AB,J=11.7Hz),4.65(1H,AB,J=11.7Hz),7.03-7.52(5H,
m),9.2(1H,br). IR νfilm max 3272,2988,2885,1604cm-1
【００３０】参考例４ Ｏ−メチル−Ｎ−メチル−Ｎ−
（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニト
ロイソ尿素（化合物番号７）の製造（化１２）
（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニト
ロイソ尿素（化合物番号７）の製造（化１２）
【００３１】
【化１２】 Ｎ−メチル（テトラヒドロ−３−フラニル）メチルアミ
ン５．００ｇ（０．０４３ｍｏｌ）をメタノール１５．
０ｇに撹拌溶解し、氷冷下１０％塩酸−メタノール溶液
１５．８３ｇ（０．０４３ｍｏｌ）をゆっくり滴下し
た。食塩５．１ｇ（０．０８７ｍｏｌ）、Ｏ−メチル−
Ｎ−ニトロイソ尿素５．１７ｇ（０．０４３ｍｏｌ）、
０．１規定水酸化ナトリウム水溶液１７．４ｇ（０．０
０２ｍｏｌ）を順次加えて反応液のｐＨを７．１０に調
節した。自動ｐＨコントローラーを用いて１．０規定水
酸化ナトリウム水溶液による反応系のｐＨ制御（ｐＨ
７．０〜７．２）を行いながら室温にて１８時間撹拌し
た。反応終了後、減圧下メタンオールを溜去し、残査を
ジクロロメタン１００ｇに溶解し、水３０ｇで３回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１
（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物７．２６ｇ（０．
０３３ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率７７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.58-1.68(1H,m),2.08-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.31-3.46(1H,m),3.57-3.62(1H,
m),3.70-3.86(5H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),3.98(3
H,s). IR νfilm max 2981,2880,1609cm-1
ン５．００ｇ（０．０４３ｍｏｌ）をメタノール１５．
０ｇに撹拌溶解し、氷冷下１０％塩酸−メタノール溶液
１５．８３ｇ（０．０４３ｍｏｌ）をゆっくり滴下し
た。食塩５．１ｇ（０．０８７ｍｏｌ）、Ｏ−メチル−
Ｎ−ニトロイソ尿素５．１７ｇ（０．０４３ｍｏｌ）、
０．１規定水酸化ナトリウム水溶液１７．４ｇ（０．０
０２ｍｏｌ）を順次加えて反応液のｐＨを７．１０に調
節した。自動ｐＨコントローラーを用いて１．０規定水
酸化ナトリウム水溶液による反応系のｐＨ制御（ｐＨ
７．０〜７．２）を行いながら室温にて１８時間撹拌し
た。反応終了後、減圧下メタンオールを溜去し、残査を
ジクロロメタン１００ｇに溶解し、水３０ｇで３回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１
（ｖ／ｖ））にて精製し、表題化合物７．２６ｇ（０．
０３３ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率７７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.58-1.68(1H,m),2.08-2.16(1
H,m),2.50-2.60(1H,m),3.31-3.46(1H,m),3.57-3.62(1H,
m),3.70-3.86(5H,complex-m),3.90-3.96(1H,m),3.98(3
H,s). IR νfilm max 2981,2880,1609cm-1
【００３２】参考例５ Ｏ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−
（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニト
ロイソ尿素（化合物番号２５）の製造（化１３）
（テトラヒドロフラン−３−イルメチル）−Ｎ’−ニト
ロイソ尿素（化合物番号２５）の製造（化１３）
【００３３】
【化１３】 エチル（テトラヒドロ−３−フラニル）メチルアミン
４．００ｇ（０．０３１ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシ
メチル）アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸
緩衝溶液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）４０．０ｇに撹拌
懸濁し、氷冷下Ｏ−メチル−Ｎ−ニトロイソ尿素３．６
９ｇ（０．０３１ｍｏｌ）を加えて室温にて１７時間撹
拌した。反応終了後、酢酸エチル４０ｇで３回抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（ｖ
／ｖ））にて精製し、表題化合物４．０８ｇ（０．０１
８ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率５７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.23(3H,t,J=7.2Hz),1.58-1.6
8(1H,m),2.08-2.16(1H,m),2.50-2.60(1H,m),3.31-3.46
(1H,m),3.57-3.62(1H,m),3.70-3.86(5H,complex-m),3.9
0-3.96(1H,m),4.00(3H,s). IR νfilm max 2988,2885,1604cm-1
４．００ｇ（０．０３１ｍｏｌ）をトリス（ヒドロキシ
メチル）アミノメタン−塩酸緩衝水溶液（トリス−塩酸
緩衝溶液，１．０Ｍ，ｐＨ＝７．５）４０．０ｇに撹拌
懸濁し、氷冷下Ｏ−メチル−Ｎ−ニトロイソ尿素３．６
９ｇ（０．０３１ｍｏｌ）を加えて室温にて１７時間撹
拌した。反応終了後、酢酸エチル４０ｇで３回抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１（ｖ
／ｖ））にて精製し、表題化合物４．０８ｇ（０．０１
８ｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率５７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.23(3H,t,J=7.2Hz),1.58-1.6
8(1H,m),2.08-2.16(1H,m),2.50-2.60(1H,m),3.31-3.46
(1H,m),3.57-3.62(1H,m),3.70-3.86(5H,complex-m),3.9
0-3.96(1H,m),4.00(3H,s). IR νfilm max 2988,2885,1604cm-1
【００３４】以下に参考例１〜５と同様の操作で製造し
たＮ−ニトロイソ尿素誘導体を第１表（表１、表２）に
示す。
たＮ−ニトロイソ尿素誘導体を第１表（表１、表２）に
示す。
【００３５】
【表１】 表中Ｈは水素原子を、Meはメチル基を、Etはエチル基
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
【００３６】
【表２】 表中Ｈは水素原子を、Meはメチル基を、Etはエチル基
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
【００３７】実施例１ １−｛（テトラヒドロ−３−フ
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３−メチルグアニジン
（化合物番号３１）の製造（化１４）
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３−メチルグアニジン
（化合物番号３１）の製造（化１４）
【００３８】
【化１４】 Ｏ−メチル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−３−イルメチ
ル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素１０．００ｇ（４９．２ｍ
ｍｏｌ）を蒸留水５０．０ｇに懸濁撹拌し、氷冷下４０
％メチルアミン水溶液７．６１ｇ（９８．０ｍｍｏｌ）
をゆっくり滴下した後、室温にて３時間撹拌した。希塩
酸でｐＨ６．５とした後ジクロロメタン３０．０ｇで３
回抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶
媒を溜去して得られた粗生成物を酢酸エチル：メタノー
ル＝５０：１（ｖ／ｖ）より再結晶し、表題化合物９．
０６ｇ（４４．８ｍｍｏｌ）を白色結晶として得た（収
率９１％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.62-1.74(1H,m),2.09-2.22(1
H,m),2.59-2.79(1H,m),2.96(3H,d,J=5.1Hz),3.35(2H,t,
J=5.1Hz),3.66-3.80(3H,m),3.92-4.08(1H,m),6.04(1H,b
r),9.35(1H,br). IR νKBr max 3339,3280,1618,1316,1231,1169cm-1mp.9
9.5-100.7℃
ル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素１０．００ｇ（４９．２ｍ
ｍｏｌ）を蒸留水５０．０ｇに懸濁撹拌し、氷冷下４０
％メチルアミン水溶液７．６１ｇ（９８．０ｍｍｏｌ）
をゆっくり滴下した後、室温にて３時間撹拌した。希塩
酸でｐＨ６．５とした後ジクロロメタン３０．０ｇで３
回抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下溶
媒を溜去して得られた粗生成物を酢酸エチル：メタノー
ル＝５０：１（ｖ／ｖ）より再結晶し、表題化合物９．
０６ｇ（４４．８ｍｍｏｌ）を白色結晶として得た（収
率９１％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.62-1.74(1H,m),2.09-2.22(1
H,m),2.59-2.79(1H,m),2.96(3H,d,J=5.1Hz),3.35(2H,t,
J=5.1Hz),3.66-3.80(3H,m),3.92-4.08(1H,m),6.04(1H,b
r),9.35(1H,br). IR νKBr max 3339,3280,1618,1316,1231,1169cm-1mp.9
9.5-100.7℃
【００３９】実施例２ １−｛（テトラヒドロ−３−フ
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３−ｎ−ブチル−３−
メチルグアニジン（化合物番号４３）の製造（化１５）
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３−ｎ−ブチル−３−
メチルグアニジン（化合物番号４３）の製造（化１５）
【００４０】
【化１５】 Ｏ−エチル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−３−イルメチ
ル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素７．５０ｇ（３４．５ｍｍ
ｏｌ）をテトラヒドロフラン３０．０ｇに溶解撹拌し、
氷冷下Ｎ−メチルブチルアミン６．１０ｇ（７０．０ｍ
ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温にて１時間、４０℃
にて１時間撹拌した後減圧濃縮した。残査に蒸留水５
０．０ｇ、ジクロロメタン５０．０ｇを加えて撹拌しつ
つ希塩酸にてｐＨ６．５に調節し分液した。水層はジク
ロロメタン５０．０ｇで再抽出し、有機層を併せて無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒 ｎ−ヘキサン:酢酸エチル＝２：１（ｖ／
ｖ）)により精製し、表題化合物７．７６ｇ（３０．０
ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率８７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:0.95(3H,t,J=7.3Hz),1.22-1.4
2(2H,m),1.58-1.77(3H,m),2.07-2.18(1H,m),2.50-2.62
(1H,m),3.05(3H,s),3.29-3.46(4H,m),3.65-3.77(3H,m),
3.94(1H,dt,J=5.1,8.1Hz),6.51(1H,br). IR νfilm max 3285,1626,1307cm-1
ル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素７．５０ｇ（３４．５ｍｍ
ｏｌ）をテトラヒドロフラン３０．０ｇに溶解撹拌し、
氷冷下Ｎ−メチルブチルアミン６．１０ｇ（７０．０ｍ
ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温にて１時間、４０℃
にて１時間撹拌した後減圧濃縮した。残査に蒸留水５
０．０ｇ、ジクロロメタン５０．０ｇを加えて撹拌しつ
つ希塩酸にてｐＨ６．５に調節し分液した。水層はジク
ロロメタン５０．０ｇで再抽出し、有機層を併せて無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒 ｎ−ヘキサン:酢酸エチル＝２：１（ｖ／
ｖ）)により精製し、表題化合物７．７６ｇ（３０．０
ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率８７
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:0.95(3H,t,J=7.3Hz),1.22-1.4
2(2H,m),1.58-1.77(3H,m),2.07-2.18(1H,m),2.50-2.62
(1H,m),3.05(3H,s),3.29-3.46(4H,m),3.65-3.77(3H,m),
3.94(1H,dt,J=5.1,8.1Hz),6.51(1H,br). IR νfilm max 3285,1626,1307cm-1
【００４１】実施例３ １−｛（テトラヒドロ−３−フ
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３，３−ジメチルグア
ニジン（化合物番号３８）の製造（化１６）
ラニル）メチル｝−２−ニトロ−３，３−ジメチルグア
ニジン（化合物番号３８）の製造（化１６）
【００４２】
【化１６】 Ｏ−ベンジル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−３−イルメ
チル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素５．００ｇ（１７．９ｍ
ｍｏｌ）をメタノール２０．０ｇに溶解撹拌し、４０％
ジメチルアミン水溶液４．０４ｇ（３５．８ｍｍｏｌ）
を加えて、室温にて５時間撹拌した。減圧濃縮の後残査
にトルエン２５．０ｇを加えて常圧共沸脱水を行った。
反応溶液を冷却することで析出した結晶を濾取し、表題
化合物２．９０ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を白色結晶とし
て得た（収率７５％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.55-1.78(1H,m),2.06-2.23(1
H,m),2.48-2.65(1H,m),3.10(6H,s),3.29-3.50(2H,m),3.
58-3.82(3H,m),3.85-4.00(1H,m),6.77(1H,br). IR νKBr max 3274,2940,1637,1387,1075cm-1 mp.127.1-128.8℃
チル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素５．００ｇ（１７．９ｍ
ｍｏｌ）をメタノール２０．０ｇに溶解撹拌し、４０％
ジメチルアミン水溶液４．０４ｇ（３５．８ｍｍｏｌ）
を加えて、室温にて５時間撹拌した。減圧濃縮の後残査
にトルエン２５．０ｇを加えて常圧共沸脱水を行った。
反応溶液を冷却することで析出した結晶を濾取し、表題
化合物２．９０ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を白色結晶とし
て得た（収率７５％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.55-1.78(1H,m),2.06-2.23(1
H,m),2.48-2.65(1H,m),3.10(6H,s),3.29-3.50(2H,m),3.
58-3.82(3H,m),3.85-4.00(1H,m),6.77(1H,br). IR νKBr max 3274,2940,1637,1387,1075cm-1 mp.127.1-128.8℃
【００４３】実施例４ １，３，３−トリメチル−１−
｛（テトラヒドロ−３−フラニル）メチル｝−２−ニト
ログアニジン（化合物番号３４）の製造（化１７）
｛（テトラヒドロ−３−フラニル）メチル｝−２−ニト
ログアニジン（化合物番号３４）の製造（化１７）
【００４４】
【化１７】 Ｏ−メチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−
３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素６．００ｇ
（２７．６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル５０．０ｇに溶解撹
拌し、４０％ジメチルアミン水溶液１５．５６ｇ（１３
８．０ｍｍｏｌ）を加えて２時間加熱還流した。放冷し
た後分液し、水層を酢酸エチル２５．０ｇで再抽出し
た。有機層を併せて希塩酸、水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
ｎ−ヘキサン:酢酸エチル＝３：１（ｖ／ｖ）)により
精製し、表題化合物４．３２ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）を
淡黄色油状物質として得た（収率６８％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.50-1.62(1H,m),1.95-2.10(1
H,m),2.56-2.69(1H,m),2.96(6H,s),2.99(3H,s),3.26-3.
40(2H,m),3.47(1H,dd,J=5.1,8.8Hz),3.70-4.02(3H,m). IR νfilm max 1439,1244cm-1
３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素６．００ｇ
（２７．６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル５０．０ｇに溶解撹
拌し、４０％ジメチルアミン水溶液１５．５６ｇ（１３
８．０ｍｍｏｌ）を加えて２時間加熱還流した。放冷し
た後分液し、水層を酢酸エチル２５．０ｇで再抽出し
た。有機層を併せて希塩酸、水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下溶媒を溜去して得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
ｎ−ヘキサン:酢酸エチル＝３：１（ｖ／ｖ）)により
精製し、表題化合物４．３２ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）を
淡黄色油状物質として得た（収率６８％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.50-1.62(1H,m),1.95-2.10(1
H,m),2.56-2.69(1H,m),2.96(6H,s),2.99(3H,s),3.26-3.
40(2H,m),3.47(1H,dd,J=5.1,8.8Hz),3.70-4.02(3H,m). IR νfilm max 1439,1244cm-1
【００４５】実施例５ １−エチル−１−｛（テトラヒ
ドロ−３−フラニル）メチル｝−２−ニトログアニジン
（化合物番号３６）の製造（化１８）
ドロ−３−フラニル）メチル｝−２−ニトログアニジン
（化合物番号３６）の製造（化１８）
【００４６】
【化１８】 Ｏ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−
３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素７．００ｇ
（３０．０ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン５０．０ｇ
に溶解撹拌し、２８％アンモニア水９．２１ｇ（１５
１．５ｍｍｏｌ）を加えて５０℃にて１時間撹拌した。
減圧濃縮の後残査シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒 酢酸エチル：メタノール＝５：１（ｖ／
ｖ）)により精製し、表題化合物５．４３ｇ（２５．１
ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率８３
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.20(3H,t,J=7.3Hz),1.55-1.7
1(1H,m),1.97-2.08(1H,m),2.58-2.70(1H,m),3.32(1H,d
d,J=8.1,14.7Hz),3.42-3.50(3H,s),3.56(1H,dd,J=5.1,
8.1Hz),3.71-3.83(2H,m),3.93(1H,dt,J=5.1,8.1Hz),8.2
4(2H,br). IR νfilm max 3385,1616,1575,1263cm-1
３−イルメチル）−Ｎ’−ニトロイソ尿素７．００ｇ
（３０．０ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン５０．０ｇ
に溶解撹拌し、２８％アンモニア水９．２１ｇ（１５
１．５ｍｍｏｌ）を加えて５０℃にて１時間撹拌した。
減圧濃縮の後残査シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒 酢酸エチル：メタノール＝５：１（ｖ／
ｖ）)により精製し、表題化合物５．４３ｇ（２５．１
ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物質として得た（収率８３
％）。1 H-NMR(CDCl3,270MHz)δ:1.20(3H,t,J=7.3Hz),1.55-1.7
1(1H,m),1.97-2.08(1H,m),2.58-2.70(1H,m),3.32(1H,d
d,J=8.1,14.7Hz),3.42-3.50(3H,s),3.56(1H,dd,J=5.1,
8.1Hz),3.71-3.83(2H,m),3.93(1H,dt,J=5.1,8.1Hz),8.2
4(2H,br). IR νfilm max 3385,1616,1575,1263cm-1
【００４７】以下に実施例１〜５と同様の操作でＮ−ニ
トロイソ尿素誘導体（１）より製造したテトラヒドロフ
ラニル誘導体（３）を第２表（表３）に示す。
トロイソ尿素誘導体（１）より製造したテトラヒドロフ
ラニル誘導体（３）を第２表（表３）に示す。
【００４８】
【表３】 表中Ｈは水素原子を、Meはメチル基を、Etはエチル基
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
を、nPrはノルマルプロピル基を、isoPrはイソプロピル
基を、nBuはノルマルブチル基を、Bnはベンジル基を表
す。
【００４９】
【発明の効果】新規製造中間体として一般式（１）で表
されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体を用いることにより、
悪臭を放つメルカプタン類を副生することなく殺虫活性
を有するテトラヒドロフラニル誘導体を製造できる。ま
た、本発明の方法は従来のテトラヒドロフラニル誘導体
の製造工程を簡略化出来る。
されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体を用いることにより、
悪臭を放つメルカプタン類を副生することなく殺虫活性
を有するテトラヒドロフラニル誘導体を製造できる。ま
た、本発明の方法は従来のテトラヒドロフラニル誘導体
の製造工程を簡略化出来る。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１）（化１） 【化１】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6及びＸ7はそれ
ぞれ独立して水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基または
ベンジル基を表し、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基ま
たはベンジル基を表し、Ｒ3 及びＲ4はそれぞれ独立し
て水素原子、炭素数１〜４のアルキル基またはベンジル
基を表す。］で表されるＮ−ニトロイソ尿素誘導体と、
一般式（２）（化２） 【化２】 ［式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはベンジル基を表す。］で表さ
れるアミン類を反応させることを特徴とする一般式
（３）（化３） 【化３】 ［式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、Ｘ5、Ｘ6、Ｘ7、Ｒ1、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ前記の意味を表す。］で
表されるテトラヒドロフラニル誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞ
れ独立して水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を
表し、Ｒ2 が炭素数１〜４のアルキル基を表す、請求項
１記載のテトラヒドロフラニル誘導体の製造方法。 - 【請求項３】 Ｒ1、 Ｒ3 、Ｒ4及びＲ5が水素原子を表
し、Ｒ2 及びＲ6がそれぞれ独立して炭素数１〜４のア
ルキル基を表す請求項１記載のテトラヒドロフラニル誘
導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10271103A JP2000095774A (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10271103A JP2000095774A (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000095774A true JP2000095774A (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=17495395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10271103A Pending JP2000095774A (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 殺虫活性を有するテトラヒドロフラニル誘導体の新規製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000095774A (ja) |
-
1998
- 1998-09-25 JP JP10271103A patent/JP2000095774A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070417 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070419 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070807 |