JP2000092846A - Rectifying circuit and rectifier - Google Patents

Rectifying circuit and rectifier

Info

Publication number
JP2000092846A
JP2000092846A JP10259033A JP25903398A JP2000092846A JP 2000092846 A JP2000092846 A JP 2000092846A JP 10259033 A JP10259033 A JP 10259033A JP 25903398 A JP25903398 A JP 25903398A JP 2000092846 A JP2000092846 A JP 2000092846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input terminal
nmos transistor
gate
voltage
rectifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10259033A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Takagi
哲男 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP10259033A priority Critical patent/JP2000092846A/en
Publication of JP2000092846A publication Critical patent/JP2000092846A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Rectifiers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a highly efficient rectifying circuit enabling integration, by connecting the sources/drains of NMOS transistors with first and second input terminals and negative-pole output terminals, and connecting the first and second input terminals with the gates of the third and fourth NMOS transistors, respectively. SOLUTION: A first input terminal 105 is connected with the gate of a fourth NMOS transistor 4 and the drain of a third NMOS transistor 3. A second input terminal 106 is connected with the gate of the third NMOS transistor 3 and the drain of the fourth NMOS transistor 4. The sources of the NMOS transistors 3 and 4 and sub-electrodes are connected with a negative input terminal 108. When an alternating-current signal is inputted to the first and second input terminals 105 and 106, as mentioned above, the third and fourth NMOS transistors 3 and 4 are repeatedly and alternately turned on and off in conformity with the frequency of the alternating-current signal according to the voltage levels of the input terminals 105 and 106.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、整流回路に関す
る。
[0001] The present invention relates to a rectifier circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より交流電圧を直流電圧に整流する
場合、全波整流回路又は半波整流回路が使用されてい
た。特に整流の効率を優先した場合は全波整流回路が使
用され代表的な回路として4個のダイオードにより構成
されたブリッジ型整流回路が使用されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, when rectifying an AC voltage into a DC voltage, a full-wave rectifier circuit or a half-wave rectifier circuit has been used. Particularly, when priority is given to the efficiency of rectification, a full-wave rectifier circuit is used, and a bridge type rectifier circuit composed of four diodes is used as a typical circuit.

【0003】しかし近年の装置の小型薄型化あるいは低
コスト化の流れの中で整流回路を1チップに集積する方
法が普及しつつある。特に電波を整流しICの駆動電力
として使用するICカードについては薄型化が必須条件
でありICの外部に外付けダイオードを用いる事はカー
ド厚みの仕様を満たさない事になる。
However, with the recent trend toward smaller and thinner devices or lower costs, a method of integrating a rectifier circuit on a single chip is becoming widespread. In particular, for an IC card that rectifies radio waves and uses it as driving power for the IC, it is essential that the IC card be thin, and using an external diode outside the IC does not satisfy the card thickness specification.

【0004】そこで整流回路をIC内部に集積する事が
重要になってくるわけであるが、たとえばCMOSの製
造工程で作り込み可能なダイオードの特性が整流回路に
必要な特性を示すか否か、あるいは必要な特性を製造す
るために製造工程が増加しない事が問題になってくる。
Therefore, it is important to integrate a rectifier circuit inside an IC. For example, whether the characteristics of a diode that can be manufactured in a CMOS manufacturing process show the characteristics required for the rectifier circuit is determined. Another problem is that the number of manufacturing steps does not increase in order to manufacture required characteristics.

【0005】図12の(a)に一般的な市販の整流ダイ
オードの特性、図12の(b)にCMOSの製造工程で
製造されたダイオードの特性を示す。これらの特性図で
バックリカバリータイムが問題になる。すなわち図中の
時間taのタイミングでダイオードに与えるバイアス電
圧を順バイアスから逆バイアスに切り換えた時に一定時
間(ts)に逆バイアス電流が流れ、該電流が収束する
までの時間をバックリカバリータイムと言う。該期間に
流れる逆バイアス電流はすべて電力損失として整流効率
を低下させるのみならず、デバイスの発熱を引き起こし
装置の寿命の劣化につながる。
FIG. 12A shows the characteristics of a general commercially available rectifier diode, and FIG. 12B shows the characteristics of a diode manufactured in a CMOS manufacturing process. Back recovery time becomes a problem in these characteristic diagrams. That is, when the bias voltage applied to the diode is switched from the forward bias to the reverse bias at the timing of time ta in the drawing, a reverse bias current flows for a certain time (ts), and the time until the current converges is called a back recovery time. . All the reverse bias current flowing during this period not only reduces the rectification efficiency as power loss, but also causes the device to generate heat, which leads to a reduction in the life of the device.

【0006】図12でこれら特性を比較した場合、図1
2の(b)のCMOSの製造工程で製造されたダイオー
ドではバックリカバリータイムが極めて長く高効率の整
流回路の実現が困難な事がわかる。この原因はpn接合
に順バイアスを加えるとn領域に多数の正孔(少数キャ
リア)が蓄積れ、逆バイアスを加えた時この正孔はn領
域からp領域に拡散しn領域から一掃される。この時の
少数キャリアの移動が該問題の原因である。この問題を
解決するため整流等、高速スイッチ動作を目的としたダ
イオードを実現するためには正孔がp領域に拡散する前
に金などの不純物に再結合させる方法が取られている。
しかしながら一般的なMOSプロセスで製造されるpn
接合部には該不純物が用いられる事はなく又実現するた
めには専用の工程が必要である。さらに整流ダイオード
とCMOSトランジスターを集積する場合、不純物の注
入を行うとしても製造工程MOSトランジスタへの影響
を押さえるために細心の注意を払わなければならない。
以上の理由から整流回路とその他の機能を1チップに集
積するためにはダイオードは困難である。
When these characteristics are compared in FIG. 12, FIG.
It can be seen that the diode manufactured in the CMOS manufacturing process 2 (b) has a very long back recovery time, and it is difficult to realize a highly efficient rectifier circuit. The cause is that when a forward bias is applied to the pn junction, a large number of holes (minority carriers) are accumulated in the n region, and when a reverse bias is applied, the holes diffuse from the n region to the p region and are wiped out of the n region. . The movement of minority carriers at this time is the cause of the problem. In order to solve this problem, in order to realize a diode for high-speed switching operation such as rectification, a method is employed in which holes are recombined with impurities such as gold before the holes diffuse into the p region.
However, a pn manufactured by a general MOS process
The junction does not use the impurity and requires a dedicated process to realize it. Further, when a rectifier diode and a CMOS transistor are integrated, even if an impurity is implanted, great care must be taken to suppress the influence on the MOS transistor in the manufacturing process.
For the above reasons, a diode is difficult to integrate a rectifier circuit and other functions on one chip.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した様
な問題を鑑みてなされたものであり、その目的は半導体
集積回路において、集積可能な高効率な整流回路を提供
するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a highly efficient rectifier circuit that can be integrated in a semiconductor integrated circuit.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
交流信号を入力する第1及び第2の入力端子と、整流後
の電流を平滑するための平滑コンデンサと、前記コンデ
ンサに接続した正極出力及び負極出力と、前記第1の入
力端子と前記正極出力との間に接続された第1の整流素
子と、前記第2の入力端子と前記正極出力との間に接続
された第2の整流素子と、前記第1の入力端子と前記負
極出力との間に接続された第3の整流素子と、前記第2
の入力端子と前記負極出力の間に接続された第4の整流
素子とで構成される整流回路において、第3、第4の整
流素子はそれぞれ第第3、第4のNMOSトランジスタ
で構成されており、各NMOSトランジスタのソース及
びドレインはそれぞれ第1、第2の入力端子及び負極の
出力端子に接続していると共に、第1の入力端子は第4
のNMOSトランジスタのゲートに接続しており、第2
の入力端子は第3のNMOSトランジスタのゲートに接
続している事により達成される。
According to the first aspect of the present invention,
First and second input terminals for inputting an AC signal, a smoothing capacitor for smoothing the rectified current, a positive output and a negative output connected to the capacitor, the first input terminal and the positive output A first rectifier element connected between the first input terminal and the negative electrode output; a second rectifier element connected between the second input terminal and the positive electrode output; A third rectifying element connected between the second rectifying element and the second rectifying element;
And a fourth rectifier connected between the negative input terminal and the negative output, the third and fourth rectifiers are respectively formed by third and fourth NMOS transistors. The source and drain of each NMOS transistor are connected to first and second input terminals and a negative output terminal, respectively, and the first input terminal is connected to the fourth input terminal.
Connected to the gate of the NMOS transistor
Is connected to the gate of the third NMOS transistor.

【0009】したがって、請求項1記載の整流回路によ
れば、第1、第2の入力端子に交流信号が入力された
時、該入力端子の電圧レベルにより第3、第4のNMO
Sトランジスタは交流信号の周波数に合わせて交互にO
N−OFFを繰り返す。この時NMOSトランジスタの
チャンネル領域には電子の反転層の発生と消滅が繰り返
されるが、消滅時反転層の電子はソース又はドレインに
放出されるため高速なスイッチ機能を持った整流素子が
構成可能となり、該素子は整流回路に不可欠な負極出力
への整流素子となる。なお第1、第2の整流素子は高速
なスイッチ機能が要求される事になる。
Therefore, according to the rectifier circuit of the first aspect, when an AC signal is input to the first and second input terminals, the third and fourth NMOs depend on the voltage level of the input terminal.
The S transistor is alternately turned on in accordance with the frequency of the AC signal.
Repeat N-OFF. At this time, generation and annihilation of the electron inversion layer are repeated in the channel region of the NMOS transistor. However, when the annihilation electron is discharged to the source or drain, a rectifying device having a high-speed switching function can be configured. The element becomes a rectifying element to the negative output which is indispensable for the rectifying circuit. Note that the first and second rectifying elements are required to have a high-speed switching function.

【0010】請求項2記載の発明は、請求項1において
第1、第2の整流素子もそれぞれ第1、第2のNMOS
トランジスタで構成されており、各NMOSトランジス
タのソース及びドレインはそれぞれ第1、第2の入力端
子及び負極の出力端子に接続していると共に、第1のN
MOSトランジスタのゲートは第1の入力端子に接続さ
れ、第2のNMOSトランジスタのゲートは第2の入力
端子に接続されている事により達成される。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the first and second rectifying elements are also respectively a first and a second NMOS.
The source and drain of each NMOS transistor are connected to a first and second input terminal and a negative output terminal, respectively, and a first N
This is achieved by connecting the gate of the MOS transistor to the first input terminal and connecting the gate of the second NMOS transistor to the second input terminal.

【0011】したがって、請求項2記載の整流回路によ
れば第1、第2の入力端子端子に交流信号が入力された
時、該入力端子の電圧レベルにより第1、第2のNMO
Sトランジスタは交流信号の周波数に合わせて交互にO
N−OFFを繰り返す。該NMOSトランジスタも前記
の通り高速なスイッチ機能を持った整流素子となり、該
素子は整流回路に不可欠な正極出力への整流素子とな
る。これらの構成によりNMOSトランジスタで構成さ
れた全波整流回路が実現される。
Therefore, according to the rectifier circuit of the second aspect, when an AC signal is input to the first and second input terminal terminals, the first and second NMOs are changed according to the voltage level of the input terminal.
The S transistor is alternately turned on in accordance with the frequency of the AC signal.
Repeat N-OFF. The NMOS transistor also becomes a rectifying element having a high-speed switching function as described above, and this element becomes a rectifying element for a positive output which is indispensable for a rectifying circuit. With these configurations, a full-wave rectifier circuit composed of NMOS transistors is realized.

【0012】請求項3記載の発明は、請求項2において
第1、第2のNMOSトランジスタは、第3、第4のN
MOSトランジスタのゲート酸化膜厚に対して薄いゲー
ト酸化膜厚を有する事により達成される。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the first and second NMOS transistors are third and fourth N-type transistors.
This is achieved by having a thinner gate oxide thickness than the gate oxide thickness of the MOS transistor.

【0013】したがって、請求項3記載の整流回路によ
れば、構成上第1、第2のNMOSトランジスタはゲー
ト酸化膜厚を薄くする事によりON抵抗が小さくする事
が可能であり、該理由により整流効率が改善される。
According to the rectifier circuit of the third aspect, the ON resistance of the first and second NMOS transistors can be reduced by reducing the thickness of the gate oxide film. Rectification efficiency is improved.

【0014】請求項4記載の発明は、請求項2において
第1、第2のNMOSトランジスタは、第3、第4のN
MOSトランジスタのスレッショルド電圧に対して低い
スレッショルド電圧のNMOSトランジスタを有する事
により達成される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect, the first and second NMOS transistors are third and fourth N-type transistors.
This is achieved by having an NMOS transistor with a low threshold voltage relative to the threshold voltage of the MOS transistor.

【0015】したがって、請求項4記載の整流回路によ
れば、第1、第2のNMOSトランジスタのスレッショ
ルド電圧によって引き起こされる電圧損失が改善され
る。
Therefore, according to the rectifier circuit of the fourth aspect, the voltage loss caused by the threshold voltages of the first and second NMOS transistors is improved.

【0016】請求項5記載の発明は、請求項1におい
て、第1、第2の整流素子はそれぞれ第1、第2のNM
OSトランジスタで構成されており、各NMOSトラン
ジスタのソース及びドレインはそれぞれ第1、第2の入
力端子及び正極の出力端子に接続していると共に、第2
の入力端子の入力電圧に対し第1のNMOSトランジス
タのゲート電圧の差を常にNMOSトランジスタのスレ
ッショルド電圧に応じた電圧差に保つバイアス回路を有
すると共に、第1の入力端子の入力電圧に対し第2のN
MOSトランジスタのゲート電圧の差を常にNMOSト
ランジスタのスレッショルド電圧に応じた電圧差に保つ
バイアス回路を有する事により達成される。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the first and second rectifying elements are respectively a first and a second NM.
The source and drain of each NMOS transistor are connected to first and second input terminals and a positive output terminal, respectively.
A bias circuit that always keeps the difference between the gate voltage of the first NMOS transistor and the input voltage of the input terminal of the first NMOS terminal at a voltage difference corresponding to the threshold voltage of the NMOS transistor. N
This is achieved by having a bias circuit that always keeps the difference between the gate voltages of the MOS transistors at a voltage difference corresponding to the threshold voltage of the NMOS transistor.

【0017】したがって、請求項5記載の整流回路によ
れば、第1、第2のNMOSトランジスタのゲート電圧
が常にスレッショルド電圧分たけバイアスされているの
で見かけ上スレッショルド電圧が0vと等価になる。そ
のためスレッショルド電圧によって引き起こされる電圧
損失が改善される。
Therefore, according to the rectifier circuit of claim 5, since the gate voltages of the first and second NMOS transistors are always biased by the threshold voltage, the threshold voltage is apparently equivalent to 0V. Therefore, the voltage loss caused by the threshold voltage is improved.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下本発明による実施例を説明す
る。図1に本発明による実施の形態1の具体的回路を示
し、全波整流回路の負極出力側の整流素子の動作につい
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 shows a specific circuit according to the first embodiment of the present invention, and the operation of the rectifier on the negative output side of the full-wave rectifier circuit will be described.

【0019】図1において103、104はそれぞれ第
3、第4のNMOSトランジスタ(以降、それぞれTr
3、Tr4と記述し、各トランジスタのスレッショルド
電圧をVth3、Vth4と示す)による整流素子であ
り第1の入力端子105はTr4のゲートとTr3のド
レインに接続されており、また第2の入力端子106は
Tr3のゲートとTr4のドレインに接続されている。
Tr3及びTr4のソース及びサブ電極は負極出力端子
108に接続されている。今、入力端子105、106
に給電を目的とした交流信号が与えられ、入力端子10
6と入力端子105の電圧(以降、V106、V105
と記述する)が相対的に V106>V105+Vth
3 である場合、Tr3はON状態を保持しTr4はO
FF状態を保持する。
In FIG. 1, reference numerals 103 and 104 denote third and fourth NMOS transistors, respectively (hereinafter referred to as Tr transistors, respectively).
3, the threshold voltage of each transistor is denoted as Vth3, Vth4), the first input terminal 105 is connected to the gate of Tr4 and the drain of Tr3, and the second input terminal Reference numeral 106 is connected to the gate of Tr3 and the drain of Tr4.
The sources and sub-electrodes of Tr3 and Tr4 are connected to the negative output terminal 108. Now, input terminals 105 and 106
To the input terminal 10
6 and the voltage of the input terminal 105 (hereinafter, V106, V105
V106> V105 + Vth)
3, Tr3 keeps ON state and Tr4 becomes O
Hold the FF state.

【0020】この状態でのTr3の動作を図2に詳細に
示す。この状態においては整流回路の負荷電流202は
負極出力端子108から入力端子105に向かい流れる
わけであるが、この電流の経路はTr3のチャンネルの
他に、Tr3のドレインの寄生ダイオード201が存在
する事になる。該ダイオードはMOSプロセスで作られ
たシリコンダイオードであり高速動作は困難である事か
ら該ダイオードがONしないようにTr3のON抵抗が
設計される必要がある。すなわち負荷電流に対してTr
3のON抵抗による電圧降下が該ダイオードの順方向電
流よりも小さい条件下ではTr3は良好な整流素子とし
て機能する事になる。以上から V106>V105+
Vth3 の条件下では負極出力端子の電圧は V10
5+[電圧降下]となる。同様にV105>V106+
Vth4 の条件下では負極出力端子の電圧は V10
6+[電圧降下]となる。
FIG. 2 shows the operation of Tr3 in this state in detail. In this state, the load current 202 of the rectifier circuit flows from the negative output terminal 108 to the input terminal 105. The path of this current is that the parasitic diode 201 of the drain of Tr3 exists in addition to the channel of Tr3. become. Since the diode is a silicon diode manufactured by a MOS process and high-speed operation is difficult, it is necessary to design the ON resistance of Tr3 so that the diode does not turn on. That is, Tr
Under the condition that the voltage drop due to the ON resistance of No. 3 is smaller than the forward current of the diode, Tr3 functions as a good rectifying element. From the above, V106> V105 +
Under the condition of Vth3, the voltage of the negative output terminal is V10
5+ [voltage drop]. Similarly, V105> V106 +
Under the condition of Vth4, the voltage of the negative output terminal is V10
6+ [voltage drop].

【0021】以上の動作をより明確にするために図3の
(a)の回路(V106及び交流電源の基準端子は0v
に固定)の場合の負極出力端子108の電圧(V10
8)を図3の(b)に示す。該図により交流波形V10
5によりTr3、及びTr4が交互にON−OFFを繰
り返す事がわかる。
In order to clarify the above operation, the circuit shown in FIG.
), The voltage of the negative output terminal 108 (V10
8) is shown in FIG. According to FIG.
It is understood from FIG. 5 that Tr3 and Tr4 alternately repeat ON-OFF.

【0022】<実施形態2>図4に本発明による実施の
形態2の具体的回路を示し、全波整流回路の正極出力側
の整流素子の動作について説明する。
<Embodiment 2> FIG. 4 shows a specific circuit according to Embodiment 2 of the present invention, and the operation of the rectifier on the positive output side of the full-wave rectifier circuit will be described.

【0023】図4におて401、402はそれぞれ第
1、第2のNMOSトランジスタ(以降、それぞれTr
1、Tr2と記述し、各トランジスタのスレッショルド
電圧をVth1、Vth2と示す)による整流素子であ
り第1の入力端子105及び106はそれぞれTr1の
ゲートとTr2のドレインに接続されている。
In FIG. 4, reference numerals 401 and 402 denote first and second NMOS transistors, respectively (hereinafter referred to as Tr transistors, respectively).
1, the threshold voltage of each transistor is denoted by Vth1 and Vth2), and the first input terminals 105 and 106 are connected to the gate of Tr1 and the drain of Tr2, respectively.

【0024】ここで説明を容易にするために、平滑コン
デンサ110に初期電圧Voutが与えられている場合
を想定する。 Tr1に注目すると、入力端子105、
106に給電を目的とした交流信号が与えられ、入力端
子106と入力端子105の電圧が相対的に V105
―V106≦Vout+Vth1 である場合Tr1の
ゲートバイアス(Vgs1)が0vのためOFF状態を
示すが、V105―V106>Vout+Vth1 の
場合はゲートバイアスが与えられがON状態を示す。こ
の状態のゲートバイアスVgs1は Vgs1=V105―V106―Vout―[電圧降
下] となる。 Tr2についても同様に V106―V10
5≦Vout+Vth2の場合はOFF状態を示すが、
V106―V105>Vout+Vth2の場合はO
N状態を示す。
Here, for ease of explanation, it is assumed that the initial voltage Vout is supplied to the smoothing capacitor 110. Focusing on Tr1, the input terminal 105,
An AC signal for power supply is supplied to the input terminal 106 and the voltage of the input terminal 106 and the voltage of the input terminal 105 are relatively V105.
When −V106 ≦ Vout + Vth1, the gate bias (Vgs1) of Tr1 is 0 V, indicating an OFF state. However, when V105−V106> Vout + Vth1, a gate bias is applied but indicates an ON state. The gate bias Vgs1 in this state is as follows: Vgs1 = V105−V106−Vout− [voltage drop]. Similarly for Tr2, V106-V10
When 5 ≦ Vout + Vth2, the OFF state is indicated.
O when V106-V105> Vout + Vth2
Shows the N state.

【0025】以上、図4の整流回路の動作について、入
力端子105、106の入力電圧に対するTr1、Tr
2、Tr3、Tr4の状態を表(1)に示す。
As described above, the operation of the rectifier circuit of FIG.
Table 1 shows the states of 2, Tr3, and Tr4.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】表1により正極出力107、負極出力10
8に給電が行われるのはTr1とTr4が同時にON状
態になる時すなわち V105―V106>Vout+
Vth1 の場合と、Tr2とTr3が同時にON状態
になる時すなわち V106―V105>Vout+V
th2 の場合の2つの条件である。該条件は入力され
る交流信号の1周期内に2回存在し全波整流機能が行わ
れる事を示している。
According to Table 1, the positive output 107 and the negative output 10
8 is supplied when Tr1 and Tr4 are simultaneously turned on, that is, V105−V106> Vout +
Vth1 and when Tr2 and Tr3 are simultaneously turned on, that is, V106−V105> Vout + V
two conditions for th2. This condition exists twice in one cycle of the input AC signal and indicates that the full-wave rectification function is performed.

【0028】以上の動作をより明確にするために図5の
(a)の回路(V106及び交流電源の基準端子は0v
に固定)の場合のV107及びV108を図5の(b)
に示す。該図により交流波形V105が入力されている
時、1周期内に2回の平滑容量の充電期間が存在し該容
量によってV107−V108が一定電圧を示してい
る。
In order to clarify the above operation, the circuit shown in FIG.
V107 and V108 in the case of FIG.
Shown in According to the figure, when the AC waveform V105 is input, there are two charging periods of the smoothing capacity within one cycle, and V107-V108 show a constant voltage depending on the capacity.

【0029】図6に図4の整流器の断面構造を示す。T
r1はP型基板に作られたN型拡散領域606、605
及びゲート電極607で構成されている。同様にTr
2、Tr3、Tr4はそれそれのN型拡散領域608及
び609、602及び603、611及び612 とそ
れぞれのゲート電極610、604、613で構成され
ている。P型基板はP型拡散領域617により負極出力
端子108に電位的に接続されている。仮にNMOSト
ランジスタがN型基板上のP型拡散領域(P型WEL
L)上に作られている場合、NMOSトランジスタのN
型ソース又はドレインとP型WELLとN型基板で構成
される垂直方向の寄生NPN型バイポーラトランジスタ
が存在する事になる。該バイポーラトランジスタはPW
ELLすなわちベース領域に外部端子からの電流が流入
した場合ON状態となる。この現象を整流回路に置き換
えれば整流回路の正負出力端子が短絡する事を意味す
る。
FIG. 6 shows a cross-sectional structure of the rectifier shown in FIG. T
r1 is an N-type diffusion region 606, 605 formed on a P-type substrate.
And a gate electrode 607. Similarly, Tr
2, Tr3 and Tr4 are composed of respective N-type diffusion regions 608 and 609, 602 and 603, 611 and 612 and respective gate electrodes 610, 604 and 613. The P-type substrate is electrically connected to the negative output terminal 108 by a P-type diffusion region 617. Suppose an NMOS transistor is a P-type diffusion region (P-type WEL) on an N-type substrate.
L) If it is made above, the NMOS transistor N
There is a vertical parasitic NPN-type bipolar transistor composed of a p-type source or drain, a p-type well and an n-type substrate. The bipolar transistor is a PW
When the current from the external terminal flows into the ELL, that is, the base region, the transistor is turned on. Replacing this phenomenon with a rectifier circuit means that the positive and negative output terminals of the rectifier circuit are short-circuited.

【0030】そのため図6の実施形態ではP型基板上の
NMOSトランジスタを採用する事により垂直方向の寄
生バイポーラトランジスタが構成される事を避けてい
る。しかし全NMOSトランジスタの各ソース及びドレ
インとP型基板は水平方向のNPN型バイポーラトラン
ジスタ614、615、616を構成する。該バイポー
ラトランジスタも整流回路の正負出力端子を短絡させる
危険がある。
Therefore, in the embodiment of FIG. 6, the use of the NMOS transistor on the P-type substrate avoids the formation of the vertical parasitic bipolar transistor. However, the source and drain of all the NMOS transistors and the P-type substrate constitute horizontal NPN-type bipolar transistors 614, 615 and 616. The bipolar transistor also risks short-circuiting the positive and negative output terminals of the rectifier circuit.

【0031】そこで各NMOSトランジスタの間にP型
拡散領域617を各NMOSトランジスタに環状に配置
する事により基板電位の安定化と同時にバイポーラトラ
ンジスタのベース長を長く出来、電流増幅率を下げる事
により短絡の危険を回避する。
Therefore, by arranging the P-type diffusion region 617 between each NMOS transistor in an annular shape in each NMOS transistor, the base potential of the bipolar transistor can be increased at the same time as the substrate potential is stabilized, and the short circuit is achieved by lowering the current amplification factor. Avoid danger.

【0032】このように実施の形態2のような構成にす
る事により、NMOSトランジスターで構成される整流
回路を提供する事ができる。
With the configuration as in the second embodiment, a rectifier circuit including an NMOS transistor can be provided.

【0033】<実施形態3>図7(a)に本発明による
実施形態3の整流回路の素子の断面図を示す。該断面図
の特徴はTr1(707)及びTr2(710)の酸化
膜厚とTr3(704)及びTr4(713)の酸化膜
厚の違にある。なお基本概念の説明を容易にするため
に、平滑容量の充電期間のうちの 条件「V105―V
106>Vout+Vth1」について、より詳細な動
作を説明するが他の充電期間についても同様である。該
条件においてはTr2、Tr3はOFF状態である事か
ら動作を示す等価回路は図7(b)となる。
<Embodiment 3> FIG. 7A is a sectional view of an element of a rectifier circuit according to Embodiment 3 of the present invention. The feature of the cross-sectional view lies in the difference between the oxide film thickness of Tr1 (707) and Tr2 (710) and the oxide film thickness of Tr3 (704) and Tr4 (713). In order to facilitate the explanation of the basic concept, the condition “V105−V
106> Vout + Vth1 ", a more detailed operation will be described, but the same applies to other charging periods. Under these conditions, Tr2 and Tr3 are in the OFF state, and the equivalent circuit showing the operation is as shown in FIG. 7B.

【0034】整流効率の低下の原因を考えた場合、平滑
容量110はTr1及びTr4を介して充電されるわけ
であるが、該トランジスタのON抵抗が入力電力の一部
を熱エネルギーに換えてしまう事が主な原因である。ト
ランジスタのON抵抗をrとし整流回路の負荷抵抗をR
Lとした場合、整流回路の効率ηは式(1)で表現され
る。
When considering the cause of the decrease in the rectification efficiency, the smoothing capacitor 110 is charged via Tr1 and Tr4. However, the ON resistance of the transistor converts a part of the input power into thermal energy. Things are the main cause. Let the ON resistance of the transistor be r and the load resistance of the rectifier circuit be R
When L, the efficiency η of the rectifier circuit is expressed by equation (1).

【0035】[0035]

【数1】 (Equation 1)

【0036】式(1)からもトランジスタのON抵抗が
整流効率を悪化させる原因である事がわかる。一方、M
OSトランジスタのON抵抗は(Vgs−Vth)に反
比例する事が知られている。図7(b)においてゲート
バイアス電圧(Vgs)の観点でTr1及びTr4を比
較すると、Tr4の場合は入力電圧Eがゲートバイアス
電圧となるのに比べてTr1のゲートバイアス電圧は
E−Vout である。つまりトランジスタの形状、デ
バイス構造等の条件が同一であればTr1はTr4より
ON抵抗は大きくなる事になる。この事から整流効率η
を改善するにはTr1のON抵抗を低減する事が必要で
ある。式(2)にTr1のON抵抗を示す。
From equation (1), it can be seen that the ON resistance of the transistor causes the rectification efficiency to deteriorate. On the other hand, M
It is known that the ON resistance of the OS transistor is inversely proportional to (Vgs-Vth). 7B, when Tr1 and Tr4 are compared from the viewpoint of the gate bias voltage (Vgs), in the case of Tr4, the gate bias voltage of Tr1 is smaller than the input voltage E becomes the gate bias voltage.
E-Vout. In other words, if the conditions such as the shape of the transistor and the device structure are the same, Tr1 has a higher ON resistance than Tr4. From this, the rectification efficiency η
In order to improve the resistance, it is necessary to reduce the ON resistance of Tr1. Equation (2) shows the ON resistance of Tr1.

【0037】[0037]

【数2】 (Equation 2)

【0038】[0038]

【数3】 (Equation 3)

【0039】式(2)より式内のβを大きくする事によ
りTr1のON抵抗が低減される事が理解されるが、β
を大きくする事は式(3)より以下の方法が考えられ
る。
From equation (2), it is understood that the ON resistance of Tr1 is reduced by increasing β in the equation.
The following method can be considered to increase the value from Equation (3).

【0040】1)W(チャンネル幅)を大きくする。1) Increase W (channel width).

【0041】2)L(チャンネル長)を短くする。2) L (channel length) is shortened.

【0042】しかし1)はサイズが増大するため半導体
集積回路としては不向きであり2)は製造加工上の問題
と耐圧劣化の問題があり困難である。そこで絶縁酸化膜
厚Toxを薄くする事によりON抵抗を低減する事が可
能である。そこで図7に示す通りTr1及びTr2の酸
化膜厚をTr3及びTr4の酸化膜厚と比較して薄くす
る事によりTr1及びTr2のON抵抗を下げる事が可
能である。
However, 1) is unsuitable for a semiconductor integrated circuit due to an increase in size, and 2) is difficult due to problems in manufacturing and processing and deterioration in breakdown voltage. Therefore, it is possible to reduce the ON resistance by reducing the thickness of the insulating oxide film Tox. Therefore, as shown in FIG. 7, the ON resistance of Tr1 and Tr2 can be reduced by making the oxide film thickness of Tr1 and Tr2 smaller than the oxide film thickness of Tr3 and Tr4.

【0043】このように実施の形態3のような構成にす
る事により、変換効率の改善された整流回路を提供する
事ができると共に面積の小さな整流器が実現出来る。
With the configuration as in the third embodiment, a rectifier circuit with improved conversion efficiency can be provided and a rectifier with a small area can be realized.

【0044】<実施形態4>図8に本発明による実施形
態4の整流回路の素子の断面図を示す。該断面図の特徴
はTr1及びTr2のスレッショルド電圧Vth1及び
Vth2を下げるために該トランジスタ領域817、8
18にリン元素が注入されている。
<Embodiment 4> FIG. 8 is a sectional view of an element of a rectifier circuit according to Embodiment 4 of the present invention. The feature of the cross-sectional view is that the transistor regions 817 and 8 are used to reduce threshold voltages Vth1 and Vth2 of Tr1 and Tr2.
18 is doped with a phosphorus element.

【0045】式(2)でも分かる様にVthが小さくな
るとON抵抗は小さくなる。
As can be seen from equation (2), as Vth decreases, the ON resistance decreases.

【0046】一般的なVthの理論式を式(4)、式
(5)、式(6)に示す。
Equations (4), (5), and (6) show general theoretical equations for Vth.

【0047】[0047]

【数4】 (Equation 4)

【0048】[0048]

【数5】 (Equation 5)

【0049】[0049]

【数6】 (Equation 6)

【0050】なお該式中の記号は以下の意味を表す。The symbols in the above formula have the following meanings.

【0051】φf(フェルミ電位)、φMS(ゲートと
シリコンの仕事関数)、Qss(シリコンと酸化膜の界
面電位、εo(真空の誘電率)、εsi(シリコンの比
誘電率)、εox(酸化膜の比誘電率)、Nsub(基
板の不純物濃度)、Vsb(ソース−基板電位) 式(4)で重要な事はVsbが大きくなるとVthが大
きくなるり、ON抵抗が大きくなる事になる。図8にお
いてVsbはVoutそのものである。つまり整流出力
Voutが大きくなればVsbも同時に大きくなりVt
hも増加する事になる。そこでVthの増加を打ち消す
ためにTr1、Tr2のVthをあらかじめ低く作り込
む事により該現象を緩和する効果がある。なおVbsに
よるVthの増加現象は酸化膜厚Toxを薄くする事も
効果的であり、2つを組み合わせる事も有効である。
Φf (Fermi potential), φMS (work function between gate and silicon), Qss (interface potential between silicon and oxide film, εo (dielectric constant of vacuum), εsi (relative dielectric constant of silicon), εox (oxide film The relative dielectric constant of the substrate, Nsub (impurity concentration of the substrate), and Vsb (source-substrate potential) What is important in equation (4) is that as Vsb increases, Vth increases and ON resistance increases. 8, Vsb is Vout itself, that is, if the rectified output Vout increases, Vsb also increases at the same time and Vt
h will also increase. Therefore, in order to cancel the increase in Vth, the Vth of Tr1 and Tr2 is made low in advance, which has the effect of alleviating the phenomenon. It should be noted that the increase in Vth due to Vbs is also effective when the oxide film thickness Tox is reduced, and it is also effective to combine the two.

【0052】このように実施の形態4のような構成にす
る事により、変換効率の改善された整流回路を提供する
事ができると共に面積の小さな整流器が実現出来る。
With the configuration as in the fourth embodiment, a rectifier circuit with improved conversion efficiency can be provided and a rectifier having a small area can be realized.

【0053】<実施形態5>図9に本発明による実施形
態5の整流回路例を示す。該回路図において909、9
10はそれぞれTr1、Tr2のON−OFF制御を行
う為のバイアス回路であり、それぞれのゲート電圧を、
第1の入力端子105又は第2の入力端子106に対し
て常に一定電圧値だけ高くする事により、Tr1及びT
r2のスレッショルド電圧による整流効率の低下を無く
する事が出来る。以下バイアス回路909、910の動
作について詳細に説明する。
<Fifth Embodiment> FIG. 9 shows an example of a rectifier circuit according to a fifth embodiment of the present invention. In the circuit diagram, 909, 9
Reference numeral 10 denotes a bias circuit for performing ON / OFF control of Tr1 and Tr2.
By always increasing the first input terminal 105 or the second input terminal 106 by a constant voltage value, Tr1 and T1
It is possible to prevent a decrease in rectification efficiency due to the threshold voltage of r2. Hereinafter, the operation of the bias circuits 909 and 910 will be described in detail.

【0054】第1の入力端子105の電位が、第2の入
力端子106の電位に対して相対的に低く、Tr2及び
Tr3がON状態であり且つTr1及びTr4がOFF
状態である条件において、平滑コンデンサー907に電
荷が蓄積されていない初期状態では整流ダイオード90
5は順方向にバイアスされる。そのため平滑コンデンサ
907は電荷の充電が開始され、およそ出力端子10
7、108の電位差(Vout)と整流ダイオード90
5の順方向電圧Vfの値で決められる値(Vout−V
F)に充電される。Tr901及びTr902に流れる
電流が平滑コンダンサ907の充電電荷量に対して十分
小さい場合、端子911の電位は常に第1の入力端子に
対して Vout−Vf だけ高い事になる。すなわち
端子911は整流ダイオード905と平滑コンデンサー
907で構成された整流回路の出力として機能する。見
方を変えるとNMOSトランジスタ901と902の直
列回路は該整流回路の出力911により駆動されている
事になる。 NMOSトランジスタ901と902のβ
(式(3)を参照)をそれぞれβ901及びβ902と
した場合、β902がβ901に比べて十分大きい場
合、Tr902のソース−ドレイン電圧はTr902の
スレッショルド電圧に等しい事は公知の事実である。す
なわちTr902とTr1の素子構造を等しくし、スレ
ッショルド電圧が等しく設計した場合、Tr1のゲート
電圧は常に第1の入力端子105に対してスレッショル
ド電圧分高い事になる。
The potential of the first input terminal 105 is relatively lower than the potential of the second input terminal 106, Tr2 and Tr3 are ON, and Tr1 and Tr4 are OFF.
In the initial state where no charge is stored in the smoothing capacitor 907 under the condition that
5 is forward biased. As a result, the smoothing capacitor 907 starts to charge, and the output terminal 10
7, 108 potential difference (Vout) and rectifier diode 90
5, a value determined by the value of the forward voltage Vf (Vout−V
F). When the current flowing through Tr 901 and Tr 902 is sufficiently small with respect to the charge amount of the smoothing conductor 907, the potential of the terminal 911 is always higher than the first input terminal by Vout−Vf. That is, the terminal 911 functions as an output of a rectifier circuit including the rectifier diode 905 and the smoothing capacitor 907. In other words, the series circuit of the NMOS transistors 901 and 902 is driven by the output 911 of the rectifier circuit. Β of NMOS transistors 901 and 902
It is a well-known fact that when β901 and β902 are respectively set to (see Expression (3)) and β902 is sufficiently larger than β901, the source-drain voltage of Tr902 is equal to the threshold voltage of Tr902. That is, when the element structures of Tr902 and Tr1 are made equal and the threshold voltages are designed to be equal, the gate voltage of Tr1 is always higher than the first input terminal 105 by the threshold voltage.

【0055】なおバイアス回路910も同様な動作を示
し、Tr2のゲート電圧は常に第2の入力端子106に
対してスレッショルド電圧分高い事になる。以上からバ
イアス回路909、910によりTr1及びTr2は入
力端子105又は106が正極出力107の電圧を基準
にON−OFF状態が切り替わる。見方をかえると実施
形態5は実施形態4におけるTr1及びTr2のスレッ
ショルド電圧を下げる効果を回路的な手段で実現した事
になる。実施形態4でTr1及びTr2のスレッショル
ド電圧を0vに設定した場合、製造バラツキによりデプ
レッションTrになる場合があり、その場合は逆に平滑
コンデンサ110の電荷が入力端子105、106に放
電する事になり効率低下につながる。しかし実施形態5
の有効性は製造上での素子バラツキが存在する場合でも
Vthによる損失を自己整合で打ち消すため量産性の良
い高効率な整流回路が実現出来る。
The bias circuit 910 operates in the same manner, and the gate voltage of Tr2 is always higher than the second input terminal 106 by the threshold voltage. As described above, the input terminals 105 or 106 of the Tr1 and Tr2 are switched between the ON and OFF states based on the voltage of the positive electrode output 107 by the bias circuits 909 and 910. In other words, in the fifth embodiment, the effect of lowering the threshold voltages of Tr1 and Tr2 in the fourth embodiment is realized by circuit means. When the threshold voltages of Tr1 and Tr2 are set to 0V in the fourth embodiment, the voltage may become depletion Tr due to manufacturing variations. In this case, the charge of the smoothing capacitor 110 is discharged to the input terminals 105 and 106. This leads to lower efficiency. However, Embodiment 5
Is effective in canceling the loss due to Vth in a self-alignment manner even when there is element variation in manufacturing, and a highly efficient rectifier circuit with good mass productivity can be realized.

【0056】バイアス回路910の断面構造を図11に
示す。整流ダイオード906はN基盤上に形成されたN
型WELL領域と該領域上に形成されたP型領域で構成
されている。コンデンサー908はTrゲート材(たと
えばポリ・シリコンゲート材)と、該ゲート材の下のゲ
ート酸化膜を隔てP基盤内に作られたN型領域を電極と
して構成されている。
FIG. 11 shows a sectional structure of the bias circuit 910. The rectifier diode 906 is formed on an N substrate.
It is composed of a type WELL region and a P-type region formed on the region. The capacitor 908 is configured using a Tr gate material (for example, a polysilicon gate material) and an N-type region formed in a P substrate with a gate oxide film below the gate material as an electrode.

【0057】図11は実施形態5の別の実施例である。
該実施例ではバイアス回路1109、1110の整流回
路を、整流トランジスタ1105、1106と平滑コン
デンサー1107,1108で構成している。
FIG. 11 shows another example of the fifth embodiment.
In this embodiment, the rectifier circuits of the bias circuits 1109 and 1110 are composed of rectifier transistors 1105 and 1106 and smoothing capacitors 1107 and 1108.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上の実施例で説明したように本発明を
適用する事によって、ICに内蔵された整流素子をMO
Sトランジスタで構成する事で効率を高める事が可能と
なる。
As described in the above embodiment, by applying the present invention, the rectifying element built in the IC can be
Efficiency can be increased by using an S transistor.

【0059】またMOSトランジスタを整流素子として
使用する場合に問題となるオン抵抗とスレッショルド電
圧による効率低下を整流トランジスタのオン抵抗とスレ
ッショルド電圧の低減で防ぐ事が出来る。またスレッシ
ョルド電圧の対策としてゲートバイアス回路を使用す
る。これらにより高効率の整流回路を内蔵したICを提
供することができる。
Further, a decrease in efficiency due to the ON resistance and the threshold voltage, which is a problem when using a MOS transistor as a rectifying element, can be prevented by reducing the ON resistance and the threshold voltage of the rectifying transistor. A gate bias circuit is used as a measure against the threshold voltage. Thus, an IC having a highly efficient rectifier circuit can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による実施の形態1の基本概念図であ
る。
FIG. 1 is a basic conceptual diagram of Embodiment 1 according to the present invention.

【図2】本発明による実施の形態1の動作の概念図であ
る。
FIG. 2 is a conceptual diagram of the operation of the first embodiment according to the present invention.

【図3】本発明による実施の形態1の動作波形及び動作
条件図である。
FIG. 3 is an operation waveform and operation condition diagram according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明による実施の形態2の基本概念図であ
る。
FIG. 4 is a basic conceptual diagram of a second embodiment according to the present invention.

【図5】本発明による実施の形態2の動作波形図及び動
作条件図である。
FIG. 5 is an operation waveform diagram and an operation condition diagram according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明による実施の形態2の断面構造図であ
る。
FIG. 6 is a sectional structural view of a second embodiment according to the present invention.

【図7】本発明による実施の形態3の断面構造図であ
る。
FIG. 7 is a sectional structural view of a third embodiment according to the present invention.

【図8】本発明による実施の形態4の断面構造図であ
る。
FIG. 8 is a sectional structural view of a fourth embodiment according to the present invention.

【図9】本発明による実施の形態5の一例の回路図であ
る。
FIG. 9 is a circuit diagram of an example of a fifth embodiment according to the present invention.

【図10】本発明による実施の形態5の断面構造図であ
る。
FIG. 10 is a sectional structural view of a fifth embodiment according to the present invention.

【図11】本発明による実施の形態5の一例の回路図で
ある。
FIG. 11 is a circuit diagram of one example of a fifth embodiment according to the present invention;

【図12】ダイオートの電圧−電流特性の比較図であ
る。
FIG. 12 is a comparison diagram of voltage-current characteristics of die auto.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101、102 整流素子 103、104、401、402 整流トラン
ジスタ 105、106 交流信号入
力端子 107、108 正極出力端
子、負極出力端子 110 平滑コンデ
ンサー 909、910、1109、1110 バイアス回
101, 102 Rectifying element 103, 104, 401, 402 Rectifying transistor 105, 106 AC signal input terminal 107, 108 Positive output terminal, negative output terminal 110 Smoothing capacitor 909, 910, 1109, 1110 Bias circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】交流信号を入力する第1及び第2の入力端
子と、整流後の電流を平滑するための平滑コンデンサ
と、前記コンデンサに接続した正極出力及び負極出力
と、前記第1の入力端子と前記正極出力との間に接続さ
れた第1の整流素子と、前記第2の入力端子と前記正極
出力との間に接続された第2の整流素子と、前記第1の
入力端子と前記負極出力との間に接続された第3の整流
素子と、前記第2の入力端子と前記負極出力の間に接続
された第4の整流素子とで構成される整流回路におい
て、第3、第4の整流素子はそれぞれNMOSトランジ
スタで構成されており、各NMOSトランジスタのソー
ス及びドレインはそれぞれ第1、第2の入力端子及び負
極の出力端子に接続していると共に、第1の入力端子は
第4のNMOSトランジスタのゲートに接続しており、
第2の入力端子は第3のNMOSトランジスタのゲート
に接続している事を特徴とする整流回路。
A first input terminal for inputting an AC signal; a smoothing capacitor for smoothing a rectified current; a positive output and a negative output connected to the capacitor; and a first input. A first rectifying element connected between a terminal and the positive output, a second rectifying element connected between the second input terminal and the positive output, and the first input terminal. In a rectifier circuit including a third rectifier connected between the negative output and a fourth rectifier connected between the second input terminal and the negative output, The fourth rectifying element is formed of an NMOS transistor. The source and the drain of each NMOS transistor are respectively connected to the first and second input terminals and the negative output terminal, and the first input terminal is connected to the first input terminal. Fourth NMOS transistor Are connected to the gate of the data,
A rectifier circuit, wherein the second input terminal is connected to a gate of a third NMOS transistor.
【請求項2】請求項1記載の第1、第2の整流素子はそ
れぞれ第1、第2のNMOSトランジスタで構成されて
おり、各NMOSトランジスタのソース及びドレインは
それぞれ第1、第2の入力端子及び正極の出力端子に接
続していると共に、第1のNMOSトランジスタのゲー
トは第1の入力端子に接続され、第2のNMOSトラン
ジスタのゲートは第2の入力端子に接続されている事を
特徴とする整流回路。
2. The first and second rectifiers according to claim 1 are constituted by first and second NMOS transistors, respectively, and the source and the drain of each NMOS transistor are first and second inputs, respectively. And the gate of the first NMOS transistor is connected to the first input terminal, and the gate of the second NMOS transistor is connected to the second input terminal. Rectifier circuit characterized.
【請求項3】請求項2記載の第1、第2のNMOSトラ
ンジスタは、第3、第4のNMOSトランジスタのゲー
ト酸化膜厚に対して薄いゲート酸化膜厚を有する事を特
徴とする整流装置。
3. The rectifier according to claim 2, wherein the first and second NMOS transistors have a smaller gate oxide film thickness than the gate oxide film thickness of the third and fourth NMOS transistors. .
【請求項4】請求項2記載の第1、第2のNMOSトラ
ンジスタは、第3、第4のNMOSトランジスタのスレ
ッショルド電圧に対して低いスレッショルド電圧のNM
OSトランジスタを有する事を特徴とする整流装置。
4. The first and second NMOS transistors according to claim 2, wherein the threshold voltage of the NM is lower than the threshold voltage of the third and fourth NMOS transistors.
A rectifier having an OS transistor.
【請求項5】請求項1記載の第1、第2の整流素子はそ
れぞれ第1、第2のNMOSトランジスタで構成されて
おり、各NMOSトランジスタのソース及びドレインは
それぞれ第1、第2の入力端子及び正極の出力端子に接
続していると共に、第2の入力端子の入力電圧に対し第
1のNMOSトランジスタのゲート電圧を常にNMOS
トランジスタのスレッショルド電圧に応じた電圧差に保
つバイアス回路を有すると共に、第1の入力端子の入力
電圧に対し第2のNMOSトランジスタのゲート電圧を
常にNMOSトランジスタのスレッショルド電圧に応じ
た電圧差に保つバイアス回路を有する事を特徴とする整
流回路。
5. The first and second rectifiers according to claim 1 are composed of first and second NMOS transistors, respectively, and the source and the drain of each NMOS transistor are first and second inputs, respectively. And a gate voltage of the first NMOS transistor with respect to an input voltage of the second input terminal.
A bias circuit for maintaining a voltage difference corresponding to a threshold voltage of the transistor, and a bias for constantly maintaining a gate voltage of the second NMOS transistor at a voltage difference corresponding to a threshold voltage of the NMOS transistor with respect to an input voltage of the first input terminal; A rectifier circuit characterized by having a circuit.
JP10259033A 1998-09-11 1998-09-11 Rectifying circuit and rectifier Withdrawn JP2000092846A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10259033A JP2000092846A (en) 1998-09-11 1998-09-11 Rectifying circuit and rectifier

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10259033A JP2000092846A (en) 1998-09-11 1998-09-11 Rectifying circuit and rectifier

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000092846A true JP2000092846A (en) 2000-03-31

Family

ID=17328409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10259033A Withdrawn JP2000092846A (en) 1998-09-11 1998-09-11 Rectifying circuit and rectifier

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000092846A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014220886A (en) * 2013-05-07 2014-11-20 株式会社リコー Rectifier circuit and dc power supply device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014220886A (en) * 2013-05-07 2014-11-20 株式会社リコー Rectifier circuit and dc power supply device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3875996B2 (en) Active rectifier with very little energy loss
JP4954413B2 (en) Thin gate oxide decoupling capacitor
JP4253052B2 (en) Semiconductor device
US6055193A (en) Charge pump circuits and devices containing such
JP2004519991A (en) Synchronous rectifier
US9673319B2 (en) Power semiconductor transistor with improved gate charge
US7843017B2 (en) Start-up control device
US10547250B2 (en) Rectifier device
US6304007B1 (en) Switcher for switching capacitors
JP6031883B2 (en) Semiconductor integrated circuit and power supply circuit
US9030855B2 (en) Semiconductor device, start-up circuit having first and second circuits and a single voltage output terminal coupled to a second node between the semiconductor unit and the first circuit, and operating method for the same
JPH11233730A (en) Mosfet with rectifying circuit and bias supply circuit
US10666158B2 (en) Rectifier device
JPS6322149B2 (en)
JP2000092846A (en) Rectifying circuit and rectifier
US8294215B2 (en) Low voltage power supply
JP3090132U (en) MOS transistor and switching power supply
JP5055740B2 (en) Semiconductor device
JPH09266281A (en) Step-up circuit
JP3501541B2 (en) Full-wave rectifier circuit
CN107887332B (en) Monolithic integrated semiconductor chip for chopper circuit and preparation method thereof
JP5149023B2 (en) Switching power supply circuit
Lin Analysis and Design of a Low-Power Integrated Controllable High-Voltage Start-Up Current Source
JPS62154663A (en) Voltage generating circuit
JPS5952632B2 (en) rectifier

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050426

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050517

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20050616