JP2000091082A - Organic el display - Google Patents

Organic el display

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JP2000091082A
JP2000091082A JP10254702A JP25470298A JP2000091082A JP 2000091082 A JP2000091082 A JP 2000091082A JP 10254702 A JP10254702 A JP 10254702A JP 25470298 A JP25470298 A JP 25470298A JP 2000091082 A JP2000091082 A JP 2000091082A
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organic el
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Takayuki Hirano
Tetsuo Nakayama
Naoki Sano
Tatsuya Sasaoka
Mitsunobu Sekiya
徹生 中山
直樹 佐野
貴之 平野
龍哉 笹岡
光信 関谷
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Sony Corp
ソニー株式会社
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    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/28Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including components using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part
    • H01L27/32Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including components using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part with components specially adapted for light emission, e.g. flat-panel displays using organic light-emitting diodes [OLED]
    • H01L27/3241Matrix-type displays
    • H01L27/3281Passive matrix displays

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display having high quality of display, high reliability and high manufacturing yield. SOLUTION: This organic EL display 10 is formed by laminating plural stripe first electrodes 12 made of a transparent conductive material, organic layers 13R, 13G, 13B having at least made of an organic light emitting material, and a second electrode 14 on a transparent board 11 in this order. An inorganic insulating layer 15 is provided between adjacent first electrodes 12, 12 so as to cover a side end of the first electrodes 12.... The organic layers 13R, 13G, 13B are provided at a central part of the first electrode 12 in which the organic layers 13R, 13G, 13B are not covered by the inorganic insulating layer 15, in a state of contacting with the first electrode 12 along the longitudinal direction of the first electrode 12.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機発光層を備えて構成される有機EL素子を有した、有機EL(有機エレクトロルミネセンス)ディスプレイに関する。 The present invention relates had an organic EL element constituted by arranging organic light-emitting layer, an organic EL (organic electroluminescence) display.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、自発光型フラットパネルディスプレイのニーズが高まっており、様々なディスプレイ表示装置の開発が盛んに行われている。 In recent years, there is an increasing need for a self-luminous flat panel displays, the development of a variety of displays display device has been actively conducted. 特に、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)、有機ELディスプレイなどの開発が精力的に進められており、なかでも、自発光型で高精細の表示も可能である方式のものとして有機ELディスプレイが注目され、盛んにその研究開発がなされている。 In particular, liquid crystal display (LCD) or a plasma display panel (PDP), has been promoted energetically development of organic EL display, among others, organic EL as the method is also possible display of high-definition with self-luminous display is attention, have been made actively its research and development.

【0003】有機ELは、文献「Appl.Phys.Lett.51,91 [0003] The organic EL is, the literature "Appl.Phys.Lett.51,91
3(1987) 」に示されるように、酸化インジウムスズ(I 3 as shown in (1987) ", indium tin oxide (I
TO)/有機正孔輸送層/有機発光層/陰極という素子構造を持つものがC. TO) / organic hole transport layer / organic emission layer / cathode to have an element structure that is C. W. W. Tangらによって1987 By Tang et al. 1987
年に提案されたことをきっかけにして、一層広く研究開発がなされるようになってきている。 And the opportunity that it has been proposed in the year, has come to be more widely research and development is carried out.

【0004】一般にマトリクス型の有機ELディスプレイは、図3に示すようにガラス等からなる透明基板1の表面にストライプ状の透明電極2…が陽極として形成され、この上に正孔輸送層、有機蛍光体層(有機発光層) [0004] Generally in a matrix type organic EL display, a transparent electrode of a stripe pattern on the front surface of the transparent substrate 1 made of glass or the like 2 ... are formed as an anode as shown in FIG. 3, a hole transport layer on the organic phosphor layer (organic luminescent layer)
などからなる有機層3…がストライプ状に形成され、さらにこの上に金属等からなるストライプ状の陰極4…が形成されて構成されたものである。 In which the organic layer 3 made of ... are formed in stripes, was constructed by further cathode 4 ... it is formed striped made of metal or the like thereon.

【0005】透明電極2…と陰極4…とは互いに直交して配置されており、有機層3…は通常陰極4…と同じマスクを用いてパターニングされるため、陰極4…と同一の平面視形状に形成されている。 [0005] Transparent electrodes 2 ... and the cathode 4 ... are arranged perpendicular to each other and, since the 3 ... is layer organic is usually patterned using the same mask as the cathode 4 ..., cathode 4 ... same plan view and It is shaped. なお、陰極4上には、 It should be noted that, on the cathode 4,
通常有機層3の劣化を防ぐため、絶縁材料等からなる保護膜(図示略)が形成されている。 To prevent normal deterioration of the organic layer 3, a protective film made of an insulating material such as (not shown) is formed.

【0006】ところで、このようなマトリクス型の有機ELディスプレイでは、透明電極2からなる配線のエッジ、すなわち側端部を、図3に示したように該透明電極2の幅が上から下に行くにつれて広がるようにテーパ状に形成することがしばしば行われている。 [0006] In such a matrix type organic EL display, the wiring of the edge made of a transparent electrode 2, i.e. the side end portion goes below the width of the transparent electrode 2 from the top as shown in FIG. 3 It is often made to be tapered so as to spread brought to. これは、テーパ状に形成しないと、透明電極2の側端部での有機発光層3のステップカバレージが不十分になり、この側端部上にて透明電極2と陰極4との間で電気的な短絡が生じてしまうおそれがあるからである。 This, if not formed in a tapered shape, step coverage of the organic light-emitting layer 3 at the side edge portion of the transparent electrode 2 is insufficient, electricity between the transparent electrode 2 and the cathode 4 at the side end portion on This is because there is a possibility that the short circuit occurs. すなわち、前述したように透明電極2の側端部をテーパ状に形成することにより有機発光層3のステップカバレージを良くし、透明電極2と陰極4との間で電気的な短絡を防いでいるのである。 That is, to prevent electrical shorting between step coverage and good, transparent electrode 2 and the cathode 4 of the organic light-emitting layer 3 by forming a side edge portion of the transparent electrode 2 as described above in a tapered shape than is.

【0007】また、このような短絡を防ぐ方法として、 [0007] In addition, as a way to prevent such a short circuit,
他には、ストライプ状に形成された透明電極の側端部を、有機フォトレジストからなる有機絶縁層で覆う方法も知られている。 Other, the side edges of the transparent electrodes formed in stripes, it is also known a method of covering with an organic insulating layer made of an organic photoresist. ただし、この有機絶縁層の形成によって生じる段差でその上に形成される陰極配線に断線が生じるおそれがある場合には、該有機絶縁層の側端部、すなわち透明電極の側端部を覆う箇所をテーパー状に形成し、前記段差をなるべく小さくするといった手法が採られることもある。 Point However, when there is a possibility that disconnection cathode wiring formed thereon by the step caused by the formation of the organic insulating layer occurs, which covers the side end portion of the organic insulating layer, namely the side edge portion of the transparent electrode was tapered, techniques such as small as possible the level difference may also be taken. このように透明電極の側端部を有機フォトレジストからなる有機絶縁層で覆う場合には、一旦、透明電極を覆った状態で透明基板の全面に有機フォトレジストを成膜し、これをフォトリソグラフィーの手法によって露光・現像し、パターニングする必要がある。 Thus in the case of covering the organic insulating layer made of an organic photoresist side edges of the transparent electrodes, once the organic photoresist is formed on the entire surface of the transparent substrate while covering the transparent electrodes, photolithography this of exposure and development by a technique, it is necessary to patterning.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このような露光・現像によるパターニングを行うと、本来清浄になるべき領域である透明電極(陽極)の表面には、フォトレジストの材料である有機物の残渣物が不均一に残ってしまう。 [0006] However, when patterning by such exposure and development, the surface of the transparent electrode is a region to be originally clean (anode), the residue of the organic is a material of photoresist object is left uneven. このように有機物の残渣物が不均一に残ってしまうと、透明電極上に形成された有機発光層は、残渣物の量等に応じてその発光のためのしきい値電圧が上がってしまう。 With such organic matter residue is left uneven, organic light emitting layer formed on the transparent electrode, the threshold voltage for the light emission in accordance with the amount or the like of the residue will up. そして、このようにして透明電極2と陰極4とによって決まる各画素間で、残渣物の量等に応じてその発光のためのしきい値電圧にバラツキが生じてしまうと、有機ELディスプレイにあってはその画面内において輝度むらなどが起こり、表示品位の低下を招いてしまう。 Then, thus to between the pixels determined by the transparent electrode 2 and the cathode 4, when depending on the amount or the like of the residues is a variation in the threshold voltage for the light emission occurs, there on the organic EL display It occurs such as uneven brightness within that screen Te, which leads to deterioration in display quality.

【0009】また、このような有機フォトレジストからなる有機絶縁層では、耐圧の信頼性の問題から薄膜化することができないため、この上に形成される陰極4の配線パターンに大きな段差が生じ易くなってしまい、断線等による歩留りの低下が起こってしまう。 Further, in the organic insulating layer made of such an organic photoresist, it can not be made thinner from the reliability problems of withstand voltage, liable large step to the wiring pattern of the cathode 4 formed on this it will be, will be going on a reduction in yield due to disconnection or the like. このように、 in this way,
製造上歩留りが高く、かつ高品位な有機ELディスプレイパネルは、従来では提供されていないのである。 Manufacturing yield is high, and high-quality organic EL display panel is conventionally is not provided. しかして、近年情報の高密度化、多様化に伴い、有機ELディスプレイにおいても低電力損失でかつ高精細、多色化(フルカラー化)などの高表示品位のものが要求されてきている。 Thus, densification of recent information, with the diversification, of high display quality, such as and low power loss high resolution, multi-color (full-color) has been required also in the organic EL display.

【0010】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、高表示品位であり信頼性も高くしかも製造上歩留りも高い、有機ELディスプレイを提供することにある。 [0010] The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object, a high display quality highly reliable yet manufacturing yield is high, is to provide an organic EL display.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】本発明の有機ELディスプレイでは、透明基板上に、透明導電材料からなるストライプ状の第1の電極複数と、少なくとも有機発光材料からなる層を有した有機層と、第2の電極とがこの順に形成され、前記第1の電極の隣り合う電極間に、該第1 Means for Solving the Problems] In organic EL display of the present invention, on a transparent substrate, a first electrode a plurality striped made of a transparent conductive material, and an organic layer having a layer made of at least an organic luminescent material and a second electrode are formed in this order, between adjacent electrodes of the first electrode, the first
の電極の側端部を覆った状態で無機絶縁層が設けられ、 Inorganic insulating layer is provided in a state of covering the side end portion of the electrode,
前記有機層が、前記無機絶縁層に覆われない第1の電極の中央部にて、該第1の電極の長さ方向に沿ってこれに接した状態で設けられていることを前記課題の解決手段とした。 The organic layer is the at the center portion of the first electrode not covered with the inorganic insulating layer, the object is provided while being in contact thereto along the length of the first electrode It was the solution. ここで、無機絶縁層としては、シリコン酸化物(SiO x )、シリコン窒化物(Si xy )、シリコン酸窒化物(SiO xy )、アルミニウム酸化物(A Here, the inorganic insulating layer, a silicon oxide (SiO x), silicon nitride (Si x N y), silicon oxynitride (SiO x N y), aluminum oxide (A
xy )のいずれか一種あるいは複数種から形成するのが好ましい。 preferably formed from a l x O y) any one or more of.

【0012】この有機ELディスプレイの製造方法によれば、前記第1の電極の隣り合う電極間に、ステップカバレージの難しい第1の電極の側端部を覆った状態で無機絶縁層を設けているので、該第1の電極の側端部と第2の電極との間で短絡が生じるのが防止される。 According to the method of manufacturing an organic EL display, between the electrodes neighboring the first electrode, the inorganic insulating layer is provided in a state of covering the side end portion of the hard first electrode of step coverage since, the short circuit between the side edge and the second electrode of the first electrode occurs is prevented. また、 Also,
無機絶縁層を用いることにより、有機絶縁層を用いる場合に比べ耐圧や絶縁性等についての信頼性が高くなる。 By using the inorganic insulating layer, the reliability of the withstand voltage and insulation resistance, etc. compared with the case of using an organic insulating layer is increased.
さらに、製造時に有機物の残渣物が残り易い有機絶縁層を形成することなく、無機絶縁層を用いることにより、 Furthermore, without organic matter residue to form a remainder apt organic insulating layer during production, the use of the inorganic insulating layer,
第1の電極上に残渣物が残るのが抑えられることから、 Since the is suppressed residue remains on the first electrode,
第1の電極と有機層との間に良好な界面が形成され、これによりしきい値電圧が低く抑えられる。 Excellent interface is formed between the first electrode and the organic layer, thereby the threshold voltage is low.

【0013】また、前記無機絶縁層を、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化することで得られるアルミニウム酸化物によって形成すれば、該アルミニウム酸化物はアルマイト化されて黒色で多孔質状の絶縁膜となる。 Further, the inorganic insulating layer, if made of aluminum oxide which metallic aluminum or aluminum alloy obtained by anodic oxidation, the aluminum oxide is a porous insulating film is anodized of black Become. したがって、これをブラックマトリクスとして直接用いれば、非発光エリアを暗色化してコントラストを向上させる可能になる。 Therefore, using this directly as a black matrix, it is possible to improve the contrast of the non-light emitting area and darkening.

【0014】 [0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の有機ELディスプレイを詳しく説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a description will be given of an organic EL display of the present invention in detail. 図1は本発明の有機ELディスプレイの一実施形態例を示す図であり、該有機ELディスプレイの発光エリアの概略構成を示す要部側断面図である。 Figure 1 is a diagram showing an embodiment of an organic EL display of the present invention, is a side cross-sectional view showing a schematic configuration of a light emitting area of ​​the organic EL display. 図1において符号10はRGB方式によるフルカラーのマトリクス型有機ELディスプレイである。 Reference numeral 10 is a matrix type organic EL display a full-color by RGB format in FIG. この有機ELディスプレイ10においては、透明ガラスからなる透明基板11の表面にストライプ状の透明電極(第1の電極)12…が陽極として形成され、この上に正孔輸送層、有機蛍光体層(有機発光層)などからなるストライプ状の有機層13R、13G、13B…が形成され、さらにこの上にストライプ状の陰極(第2の電極) In this organic EL display 10, the stripe-shaped transparent electrode on the surface of the transparent substrate 11 made of transparent glass (first electrode) 12 ... are formed as an anode, a hole transport layer on the organic phosphor layer ( striped organic layer 13R made of an organic light emitting layer), 13G, 13B ... are formed, further stripe-shaped cathode on the (second electrode)
14…が形成されている。 14 ... are formed.

【0015】透明電極(第1の電極)12…は、酸化インジウムスズ(ITO)や酸化スズ(SnO 2 )、酸化亜鉛(ZnO)等の導電性の高い透明導電材料から形成されるもので、本例では酸化インジウムスズによって形成されている。 The transparent electrode (first electrode) 12 ... are those formed from indium tin oxide (ITO) or tin oxide (SnO 2), highly conductive such as zinc oxide (ZnO) transparent conductive material, in the present example it is formed by indium tin oxide. また、これら透明電極12…は、その両側端部が、上から下に行くにつれて該透明電極12の幅が漸次広がるよう、テーパ状に形成されている。 These transparent electrodes 12 ... is, both side ends, so that the width of the transparent electrode 12 as going from top to bottom is widened gradually, is tapered. なお、 It should be noted that,
線順次走査方式のフラットディスプレイの場合では、通常は配線抵抗による電圧降下を抑制するため、電気抵抗の高い透明電極12は大電流の流れる水平方向に走る走査線側には用いられず、垂直方向のデータラインとして用いられる。 In the case of flat display line sequential scanning method, because normally to suppress the voltage drop due to the wiring resistance, high transparency electrode 12 having electric resistance not used for scanning line running in a horizontal direction of the flow of large current, vertical It is used as the data line. したがって、本例においても透明電極12 Thus, the transparent electrode 12 in the present example
…は、垂直方向のデータラインとなっている。 ... it has become a vertical direction of the data line.

【0016】陰極14…は、一般にAlによって形成されており、本例においてもAlによって形成されている。 The cathode 14 ... are generally formed by Al, it is formed by Al in this example. なお、この陰極14…の形成材料として他に例えば、AlにLiを適当な方法でドーピングした材料や、 Incidentally, the other as the cathode 14 ... forming material such, materials and doped with Li in a suitable manner to Al,
Mg−Ag系の合金など周期律表第IIa族系アルカリ土類金属含有の合金を用いることもできる。 It can also be used mg-Ag-based periodic table IIa group based alkaline earth metal-containing alloy such as an alloy. これらはいずれも仕事関数の低い材料であり、発光のしきい値電圧を下げる効果を有している。 These are low work function material either has the effect of lowering the threshold voltage of the light emitting. 透明電極12…と陰極14 Transparent electrode 12 ... and the cathode 14
…とは、XYマトリクスを形成すべく互いに直交して配置されており、また陰極14…上には、有機層13…の劣化を防ぐため、絶縁材料等からなる保護膜(図示略) ... and, to form a XY matrix are arranged perpendicular to each other, also to the cathode 14 ... top, to prevent the organic layer 13 ... deterioration of the protective film made of an insulating material such as (not shown)
が形成されている。 There has been formed.

【0017】また、透明電極12…における隣り合う電極12、12間には、無機絶縁層15が形成配置されている。 Further, between each other the electrodes 12 and 12 adjacent the transparent electrode 12 ..., the inorganic insulating layer 15 is formed and arranged. 無機絶縁層15は、前記透明電極12のテーパ状に形成された側端部を覆って配設され、さらに該透明電極12、12間を埋め込んだ状態に形成されたものである。 Inorganic insulating layer 15 is disposed over the side edge portion of the tapered shape of the transparent electrode 12, and is formed on the further element that is inserted between the transparent electrodes 12 and 12. これら無機絶縁層15…には、透明電極12の側端部を覆った箇所に、下側から上側に行くにつれて透明電極12の中央部側から側端部側に向かうテーパ部15a These inorganic insulating layer 15 ..., the portion covering the side edge portions of the transparent electrode 12, a tapered portion 15a toward the side end portion side from the center side of the transparent electrode 12 as going from the lower side to the upper side
が形成されている。 There has been formed.

【0018】また、この無機絶縁層15は、シリコン酸化物(SiO x )、シリコン窒化物(Si xy )、シリコン酸窒化物(SiO xy )、アルミニウム酸化物(Al xy )等の無機絶縁材料のうちの一種あるいは複数種から形成されたものである。 Further, the inorganic insulating layer 15, silicon oxide (SiO x), silicon nitride (Si x N y), silicon oxynitride (SiO x N y), aluminum oxide (Al x O y) it is one or those formed from a plurality of kinds of the inorganic insulating material such as. 特に、シリコン酸化物(SiO x )やシリコン窒化物(Si xy )、シリコン酸窒化物(SiO xy )で形成するのが、これらをプラズマCVD法などで容易に成膜することができ、 In particular, silicon oxide (SiO x) or silicon nitride (Si x N y), to form a silicon oxynitride (SiO x N y) may be easily formed thereof, and the like by a plasma CVD method can,
好ましい。 preferable.

【0019】前記有機層13R、13G、13Bは、有機層13Rが赤色を発光し、有機層13Gが緑色を発光し、有機層13Bが青色を発光するものとなっている。 [0019] The organic layer 13R, 13G, 13B, the organic layer 13R is emitted red, organic layer 13G emits light green, organic layer 13B has become one that emits blue.
これら有機層13R、13G、13Bは、透明電極12 These organic layers 13R, 13G, 13B, the transparent electrode 12
の前記無機絶縁層15に覆われない箇所、すなわち透明電極12の中央部に接した状態で形成されたもので、該透明電極12の長さ方向に沿ってストライプ状に配設されたものである。 The position not covered by the inorganic insulating layer 15, i.e., those formed in a state of being in contact with the central portion of the transparent electrode 12, which has been arranged in stripes along the length of the transparent electrode 12 of the is there.

【0020】このような構成の有機ELディスプレイ1 [0020] The organic EL display 1 of such a configuration
0を作製するには、まず、図2(a)に示すようにガラス等からなる透光性(すなわち透明)の透明基板11を用意し、この透明基板11の上に透明導電材料層(図示略)を成膜する。 To produce a zero, first, providing a transparent substrate 11 of the transmissive (i.e. transparent) made of glass or the like as shown in FIG. 2 (a), a transparent conductive material layer over the transparent substrate 11 (shown depositing a substantially). そして、この透明導電材料層をその両側端部がテーパ状となるストライプ状、すなわちXYマトリクスタイプのディスプレイにおける、データ専用のパターン形状にパターニングし、陽極となる透明電極1 Then, the transparent conductive material layer of a stripe whose both side ends is tapered, i.e. in the XY matrix type of display, and patterned into the data-only pattern shape, the transparent electrode 1 serving as an anode
2…を複数並列した状態に形成する。 Forming 2 ... a multiple parallel state.

【0021】ここで、透明導電材料層の成膜法としては、DCおよびRFマグネトロンスパッタ法が一般的であるが、CVD法や反応性真空蒸着法等を採用することもできる。 [0021] As the film formation method of the transparent conductive material layer, although the DC and RF magnetron sputtering method is generally also possible to adopt a CVD method or a reactive vacuum evaporation method, or the like. また、透明導電材料層のパターニング方法については、特に限定されることはないものの、得られる透明電極12の側端部をテーパ状に形成できるパターニング法が望ましく、例えば、塩酸硝酸系混酸によるウエットエッチングが採用される。 As for the patterning method of a transparent conductive material layer, although especially the never limited to the patterning method capable of forming a side edge portion of the transparent electrode 12 obtained tapered is desirable, for example, wet etching with hydrochloric acid nitric acid mixed acid There are employed.

【0022】次に、図2(b)に示すように、透明電極12…を覆った状態に無機絶縁膜16を形成する。 Next, as shown in FIG. 2 (b), to form an inorganic insulating film 16 in a state where the transparent electrodes 12 ... covering the. この無機絶縁膜16は、前記無機絶縁層15の形成材料からなるもので、前述したようにシリコン酸化物(Si The inorganic insulating film 16 is made of a material for forming the inorganic insulating layer 15, silicon oxide as described above (Si
x )、シリコン窒化物(Si x N y )、シリコン酸窒化物(SiO xy )、アルミニウム酸化物(Al O x), silicon nitride (Si x N y), silicon oxynitride (SiO x N y), aluminum oxide (Al
xy )等の無機絶縁材料からなるものである。 It is made of x O y) or other inorganic insulating material. このような無機絶縁膜16の成膜法としては、通常はプラズマCVD法が用いられるが、これに限定されることなく、 As the film formation method of such inorganic insulating film 16, is usually a plasma CVD method is used, without being limited thereto,
スピンオングラス(SOG)法やゾル−ゲル法などの湿式の成膜法も採用可能である。 Spin-on-glass (SOG) method or a sol - a film forming method of wet gel method or the like can also be employed.

【0023】また、プラズマCVD法を採用した場合においても、当然ながら原料ガスについては限定されることなく、例えばTEOSプラズマCVD法のように、T Further, when employing the plasma CVD method also, without the raw material gas is limited of course, for example as TEOS plasma CVD method, T
EOSなどの液体ソースを蒸気化して成膜させてもよい。 A liquid source such as EOS may be deposited by vaporization. 特に、下地の陽極となる透明電極12…がITOからなっている場合、無機絶縁膜16の成膜の際に該透明電極12…が酸素プラズマや水素プラズマに長時間晒されると、得られる有機ELディスプレイのしきい値電圧が上昇する傾向があることからこれに注意をしなければならないが、TEOSプラズマCVD法などは、通常のプラズマCVDに比べて下地へのダメージが少ないという利点がある。 In particular, when the transparent electrode 12 ... serving as the anode of the base is made of ITO, the transparent electrode 12 ... during the formation of the inorganic insulating film 16 is exposed long to oxygen plasma and hydrogen plasma, obtained organic Although the threshold voltage of the EL display does not need to pay attention to this from the fact that there is a tendency to rise, etc. TEOS plasma CVD method, there is an advantage that is less damage to the underlying compared to the conventional plasma CVD.

【0024】また、無機絶縁膜16の形成材料としてアルミニウム酸化物を用いる場合、その成膜法としては、 Further, when using aluminum oxide as a material for forming the inorganic insulating film 16, as a film forming method,
アルミニウムを成膜してこれをシュウ酸などの溶液中で陽極酸化し、酸化アルミニウム皮膜を形成してこれを無機絶縁膜16とする、といった方法を採用することができる。 This aluminum was deposited to anodic oxidation in a solution such as oxalic acid, which forms the aluminum oxide film and the inorganic insulating film 16, a method may be employed such as. このような成膜法によれば、得られる皮膜を、電界条件によって多孔質状の無機絶縁膜にすることができる。 According to such a deposition method, the resulting coating can be porous inorganic insulating film by an electric field conditions. そして、この無機絶縁膜の孔の径を変えることにより、可視域の光に対する良好な吸収体にすることができるのである。 Then, by changing the diameter of the hole of the inorganic insulating film, it is possible to improve absorption body to light in the visible region. また、これをさらに封孔処理することにより、様々な色に発色した色アルマイトにすることができる。 Also, this further by sealing treatment, it is possible to color alumite was colored in various colors.

【0025】特に、黒色アルマイトにすれば、これから得られる無機絶縁層15により、透明基板11や透明電極12に沿ったルミネッセンスの導波成分を抑えることができ、また外光反射成分を抑制することもできるので、高コントラストでかつクロストークのない高精細な表示を得ることができるようになる。 [0025] In particular, if the black alumite, an inorganic insulating layer 15 obtained therefrom, it is possible to suppress the luminescence of the waveguide components along the transparent substrate 11 and transparent electrode 12, also possible to suppress the external light reflection components since it is also, and it is possible to obtain a high-definition display without cross-talk and high contrast. つまり、このような黒色アルマイトからなる無機絶縁膜16を用いれば、 In other words, the use of the inorganic insulating film 16 made of such a black alumite,
これから得られる無機絶縁層15が、ブラックマトリクスの機能も有するようになるのである。 Inorganic insulating layer 15 obtained therefrom, it become to have also the black matrix features. なお、シリコン含有のアルミ合金を陽極酸化して無機絶縁膜16を形成すれば、特に封孔処理を施さなくても十分に黒化したアルマイト皮膜を得ることもできる。 Incidentally, a silicon-containing aluminum alloy by forming the inorganic insulating film 16 by anodic oxidation, it is also possible to obtain a sufficiently blackened and the anodized aluminum film without particular subjected to a sealing treatment.

【0026】次いで、各画素の周辺部における無機絶縁膜(図示略)を残した状態のままで、発光エリアにおける透明電極12…上の無機絶縁膜16を公知のフォトリソグラフィー技術、エッチング技術によってパターニングし、図2(c)に示すように透明電極12の側端部を覆い、かつその中央部を開口した状態のストライプ状無機絶縁層15…を形成する。 [0026] Then, patterning in the state leaving an inorganic insulating film (not shown) at the periphery of each pixel, an inorganic insulating film 16 of the transparent electrodes 12 ... on the light emitting area known photolithography technique, the etching technique to cover the side edge portion of the transparent electrode 12 as shown in FIG. 2 (c), and to form a stripe-like inorganic insulating layer 15 ... in a state of opening the central portion.

【0027】エッチング法としては、無機絶縁膜16がシリコン酸化膜やシリコン窒化膜などからなっている場合、CF 4等のフッ素系のガスを用いた反応性イオンエッチング(RIE)などのプラズマエッチングを採用することができる。 [0027] As the etching method, when the inorganic insulating film 16 is made of a silicon oxide film or a silicon nitride film, plasma etching such as reactive ion etching (RIE) using a fluorine-based gas such as CF 4 it can be adopted. このようなプラズマエッチングによれば、例えば下地である透明電極12…がITOである場合に十分なエッチング選択比を採ることができ、したがってITO(透明電極12…)をほとんどエッチングすることなく無機絶縁膜16のみをパターニングすることができる。 According to such a plasma etching, for example, when the transparent electrode 12 ... as a base is ITO can take a sufficient etching selectivity, hence an inorganic insulating without substantially etching the ITO (transparent electrode 12 ...) it can be patterned only film 16.

【0028】ただし、無機絶縁層15…の上に形成される陰極14…からなる配線の断線などを抑えるべく、該無機絶縁層15をテーパー状にエッチングするためには、若干の酸素などをエッチングガスに混合することにより、レジストパターンのエッチングレートを上げるなどの方法を採る必要がある。 [0028] However, in order to suppress the inorganic insulating layer 15 ... disconnection of wiring made of the cathode 14 ... formed on the, to etch the inorganic insulating layer 15 in a tapered shape, etching and some oxygen by mixing the gas, it is necessary to adopt a method such as increasing the etching rate of the resist pattern. また、無機絶縁膜16のエッチングについては、RIEなどのドライエッチングに限ることなく、フッ酸系のエッチング液を用いたウエットエッチング法を用いることもできる。 As for the etching of the inorganic insulating film 16 is not limited to dry etching such as RIE, it is also possible to use a wet etching using a hydrofluoric acid etching solution.

【0029】また、特に無機絶縁膜16を陽極酸化法による酸化アルミニウム皮膜、あるいは酸化アルミニウム合金で形成した場合、陽極酸化を行う前にパターニング(エッチング)しておくのが好ましい。 Further, in particular aluminum oxide film of an inorganic insulating film 16 by anodic oxidation or in the case of forming aluminum oxide alloy, preferably keep patterning (etching) before performing the anodic oxidation. なぜなら、単なるエッチングであれば高温のリン酸によりウエットエッチングが可能であるが、パターンエッチングを行う場合には通常フォトレジストがもたず、酸化膜のドライエッチングやウエットエッチングが困難になってしまうことが多いからである。 This is because, although it is possible to wet etching by hot phosphoric acid, if just etching, typically photoresist no when performing pattern etching, the dry etching or wet etching of the oxide film becomes difficult This is because in many cases.

【0030】次に、有機正孔輸送膜(図示略)や有機蛍光体膜(図示略)等の積層膜(図示略)からなる発光材料層(図示略)の成膜、およびこれのパターニングをR Next, the film formation of the organic hole transport layer (not shown) and an organic fluorescent material film comprising a laminated film of (not shown) or the like (not shown) emitting material layer (not shown), and its patterning R
(赤)、G(緑)、B(青)のそれぞれに対応して順次行い、図2(d)に示すように赤色を発光する有機層1 (Red), G (green), performed sequentially in response to respective B (blue), the organic layer 1 to emit red as shown in FIG. 2 (d)
3R、緑色を発光する有機層13G、青色を発光する有機層13Bを所定パターン、すなわち透明電極12の中央部に接し、かつ該透明電極12の長さ方向に沿ったストライプ状に形成する。 3R, organic layer 13G for emitting green light, a predetermined pattern the organic layer 13B for emitting blue light, i.e. in contact with the central portion of the transparent electrode 12, and formed in stripes along the length direction of the transparent electrode 12.

【0031】これら有機層13R、13G、13Bについては、その材料の種類、構成、膜厚、色素のドーピング形態等について特に限定されることはない。 [0031] These organic layers 13R, 13G, for 13B, the type of the material, structure, are not particularly limited in such thickness, the dye doping forms. 例えば、 For example,
緑色を発光する有機層13Gとしては、正孔輸送層としてTPDやα−NPDなどが形成され、電子輸送層かつ発光層としてAlq3等が形成された2層構造のものが用いられるが、これに限定されることはない。 The organic layer 13G that emits green, and TPD and alpha-NPD as a hole-transporting layer is formed, it is used a two-layer structure in which Alq3 and the like as an electron-transporting layer and light emitting layer is formed, in which It is not to be limited. また、発光色によっては、Alq3に適当な色素をドーピングされて用いられる。 Also, depending on the luminescent color used is doped with a suitable dye to Alq3.

【0032】これらの材料は低分子有機材料であるが、 [0032] Although these materials are low molecular weight organic material,
このような低分子系の発光材料は、一般に真空蒸着によって成膜することができる。 Such low molecular weight light emitting material can generally be deposited by vacuum deposition. したがって、ディスプレイパネルを多色化にするべく、赤色(13R)、緑色(1 Therefore, in order to the display panel to multicolor, red (13R), green (1
3G)、青色(13B)の三種類の有機層を形成するには、真空蒸着による成膜時に、蒸着マスクを用いて所定の場所のみに特定の発光材料を成膜するようにし、これを複数回(3回)繰り返してRGBのパターンをそれぞれに形成すればよいのである。 3G), in order to form three kinds of organic layers of blue (13B), at the time of deposition by vacuum evaporation, so as to deposit a specific luminescent material only in place using an evaporation mask, a plurality of which times (3 times) and it's may be formed of RGB patterns for each.

【0033】次いで、図1に示したように前記透明電極12、有機層13R、13G、13Bに直交するストライプ状の陰極14…を形成する。 [0033] Then, the transparent electrode 12 as shown in FIG. 1, the organic layer 13R, 13G, to form a cathode 14 ... striped perpendicular to 13B. なお、この陰極14… In addition, the cathode 14 ...
の配線パターニングとしては、該陰極14…がXYマトリクスの走査線として用いられるようにして行う。 The patterning of the wiring is performed as the cathode 14 ... it is used as a scan line of the XY matrix. これら陰極14…の形成方法としては、マスクを用いてパターン形成する真空蒸着法が好適に採用されるが、他にスパッタ法などを用いることもできる。 These cathode 14 ... forming method, but a vacuum deposition method of patterning using the mask is preferably employed, or the like can be used other sputtering.

【0034】その後、有機層13R、13G、13Bが空気中の酸素や水分に触れないようにこれらを保護するため、例えば低温で低ダメージの成膜が可能な材料によってオーバーコート用の保護膜を形成することなどにより、本発明の有機ELディスプレイ10を得る。 [0034] Thereafter, the organic layer 13R, 13G, 13B is to protect these to touch to oxygen and moisture in the air, for example a protective film for overcoating a material capable deposition of low damage at low temperatures such as by forming, obtaining an organic EL display 10 of the present invention.

【0035】このような有機ELディスプレイ10にあっては、透明電極12…における隣り合う電極12、1 [0035] In such an organic EL display 10, adjacent the transparent electrode 12 ... electrode 12,1
2間に、その側端部を覆った状態で無機絶縁層15を設けているので、この側端部上での透明電極12と陰極1 Between 2 because its side edge while covering the is provided an inorganic insulating layer 15, the transparent electrode 12 and the cathode at the side edge portion on one
4との間の短絡を防止することができる。 A short circuit between the 4 can be prevented. また、無機絶縁層15を用いていることにより、有機絶縁層を用いた場合に比べ耐圧や絶縁性等についての信頼性を高くすることができる。 Moreover, the fact that using the inorganic insulating layer 15, it is possible to increase the reliability of the withstand voltage and insulation resistance, etc. compared with the case of using an organic insulating layer. さらに、無機絶縁層15を用いていることにより透明電極12上に残渣物が残るのを抑えられることから、透明電極12と有機層13R、13G、13 Further, since the suppressed from residue remains on the transparent electrode 12 by which an inorganic insulating layer 15, the transparent electrode 12 and the organic layer 13R, 13G, 13
Bとの間に良好な界面を形成することができ、したがってしきい値電圧が低く抑えることができる。 It is possible to form a good interface between is B, therefore the threshold voltage can be suppressed low.

【0036】なお、前記実施形態例では透明基板11として透明ガラスを用いたが、本発明は透明基板としてその材質や厚さ、サイズについて特に限定されることなく、例えば、透光性のあるポリエステルフィルムのような有機高分子材料を透明基板に用いてもよい。 [0036] Incidentally, the was a transparent glass as the transparent substrate 11 in the exemplary embodiment, the present invention is the material and thickness as the transparent substrate is not particularly limited in size, for example, polyesters with a translucent the organic polymer material may be used a transparent substrate such as a film. また、有機層13R、13G、13Bの形成材料についても、前述したような低分子有機材料に限定されることなく、高分子タイプの材料、例えばポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)や有機ポリシラン系材料を用いることもでき、その場合、成膜方法についても特に限定されることなく、例えばスピンコート法や印刷法、キャスト法などを用いることができる。 The organic layer 13R, 13G, for also forming material 13B, without being restricted to low-molecular organic materials as described above, a polymer type material, such as poly (N- vinylcarbazole) (PVK), organic polysilane it can also be used system material, in which case, without any particular limitation on the film forming method, such as spin-coating method or a printing method, or the like can be used casting.

【0037】また、前記実施形態例では、特にRGB3 [0037] In the above embodiment, particularly RGB3
色をもつフルカラーディスプレイについて延べたが、発光色についてもこれに限定されることはない。 Although total full color display with a color, but is not limited to this also the emission color. また、有機層13R、13G、13Bおよび陰極14のパターニング方法についても、マスク蒸着による方法以外に、リソグラフィー技術とドライエッチング技術によるパターニング法など、従来公知の種々の技術が採用可能である。 The organic layer 13R, 13G, for also patterning method of 13B, and the cathode 14, in addition to the method using the mask deposition, such patterning method by lithography and dry etching techniques, various techniques conventionally known can be employed.

【0038】 [0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明の有機ELディスプレイは、第1の電極の隣り合う電極間にその側端部を覆った状態で無機絶縁層を設けたものであるから、 The organic EL display of the present invention as described in the foregoing, since in which the inorganic insulating layer provided while covering the side end portion between the first electrode of the adjacent electrodes,
該第1の電極の側端部と第2の電極との間で短絡が生じるのを防止することができ、したがって高い信頼性を得ることができるとともに、製造上の歩留りを高めることもできる。 It is possible to prevent a short circuit from occurring between the side edge and the second electrode of the first electrode, thus it is possible to obtain high reliability, it is also possible to increase the yield in manufacturing. また、無機絶縁層を用いることにより、有機絶縁層を用いる場合に比べ耐圧や絶縁性等についての信頼性も高くすることができる。 Moreover, by using the inorganic insulating layer, it can also be reliable for the withstand voltage and insulation resistance, etc. compared with the case of using an organic insulating layer. さらに、製造時に有機物の残渣物が残り易い有機絶縁層を形成することなく、無機絶縁層を用いることにより、第1の電極上に残渣物が残るのが抑えることができることから、第1の電極と有機層との間に良好な界面を形成することができ、これによりしきい値電圧を低く抑えて輝度むらのない高品位の表示を得ることができる。 Furthermore, without organic matter residue to form a prone organic insulating layer remaining at the time of manufacture, by using an inorganic insulating layer, since it can suppress that the residue remains on the first electrode, the first electrode and between the organic layer can be formed a good interface, thereby obtaining a high-quality display without luminance unevenness is suppressed threshold voltage low.

【0039】また、前記無機絶縁層を、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化することで得られるアルミニウム酸化物によって形成すれば、該アルミニウム酸化物はアルマイト化されて黒色で多孔質状の絶縁膜となる。 Further, the inorganic insulating layer, if made of aluminum oxide which metallic aluminum or aluminum alloy obtained by anodic oxidation, the aluminum oxide is a porous insulating film is anodized of black Become. したがって、これをブラックマトリクスとして直接用いれば、非発光エリアを暗色化してコントラストを向上させる効果を持たせることができる。 Therefore, this be used directly as a black matrix may be a non-light emitting area darkened to have an effect of improving the contrast.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の有機ELディスプレイの一実施形態例を示す図であり、有機ELディスプレイの発光エリアの概略構成を示す要部側断面図である。 Figure 1 is a view showing an embodiment of an organic EL display of the present invention, is a side cross-sectional view showing a schematic configuration of a light emitting area of ​​the organic EL display.

【図2】(a)〜(d)は、図1に示した有機ELディスプレイの製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。 Figure 2 (a) ~ (d) is a main portion side sectional view for explaining a method of manufacturing the organic EL display shown in FIG. 1 in order of steps.

【図3】従来の有機ELディスプレイの一例の概略構成を示す要部側断面図である。 3 is a side cross-sectional view showing a schematic structure of an example of a conventional organic EL display.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10…有機ELディスプレイ、11…透明基板、12… 10 ... organic EL display, 11 ... transparent substrate, 12 ...
透明電極、13R,13G,13B…有機層、14…陰極、15…無機絶縁層、15a…テーパ部 Transparent electrode, 13R, 13G, 13B ... organic layer, 14 ... cathode, 15 ... inorganic insulating layer, 15a ... taper portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 徹生 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 関谷 光信 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 笹岡 龍哉 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB00 AB04 AB05 AB07 AB18 BA06 CA01 CB00 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Nakayama Tetsuo, Shinagawa-ku, Tokyo Kita 6-chome No. 7 No. 35 Sony over within Co., Ltd. (72) inventor Mitsunobu Sekiya, Shinagawa-ku, Tokyo Kita 6-chome No. 7 No. 35 Sony over the Co., Ltd. (72) inventor Tatsuya Sasaoka Tokyo, Shinagawa-ku, Kita 6-chome No. 7 No. 35 Sony over Co., Ltd. in the F-term (reference) 3K007 AB00 AB04 AB05 AB07 AB18 BA06 CA01 CB00 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01

Claims (7)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 透明基板上に、透明導電材料からなるストライプ状の第1の電極複数と、少なくとも有機発光材料からなる層を有した有機層と、第2の電極とがこの順に形成され、 前記第1の電極の隣り合う電極間に、該第1の電極の側端部を覆った状態で無機絶縁層が設けられ、 前記有機層が、前記無機絶縁層に覆われない第1の電極の中央部にて、該第1の電極の長さ方向に沿ってこれに接した状態で設けられていることを特徴とする有機EL To 1. A transparent substrate, a first electrode a plurality striped made of a transparent conductive material, and an organic layer having a layer made of at least an organic luminescent material, and the second electrode are formed in this order, between adjacent electrodes of the first electrode, the inorganic insulating layer is provided in a state of covering the side end portion of the first electrode, the first electrode, wherein the organic layer is not covered by the inorganic insulating layer the organic EL in which the at the center portion, and being provided while being in contact thereto along the length of the first electrode
    ディスプレイ。 display.
  2. 【請求項2】 前記無機絶縁層がシリコン酸化物によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイ。 2. The organic EL display of claim 1, wherein said inorganic insulating layer is formed by silicon oxide.
  3. 【請求項3】 前記無機絶縁層がシリコン窒化物によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイ。 3. The organic EL display of claim 1, wherein said inorganic insulating layer is formed of silicon nitride.
  4. 【請求項4】 前記無機絶縁層がシリコン酸窒化物によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイ。 4. The organic EL display of claim 1, wherein said inorganic insulating layer is formed by silicon oxynitride.
  5. 【請求項5】 前記無機絶縁層がアルミニウム酸化物によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイ。 5. The organic EL display of claim 1, wherein said inorganic insulating layer is formed of aluminum oxide.
  6. 【請求項6】 前記無機絶縁層を形成するアルミニウム酸化物が、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化することによって得られたものであることを特徴とする請求項5記載の有機ELディスプレイ。 Wherein said aluminum oxide forming an inorganic insulating layer, an organic EL display according to claim 5, wherein the metallic aluminum or aluminum alloy, characterized in that is obtained by anodizing.
  7. 【請求項7】 前記無機絶縁層における第1の電極の側端部を覆った箇所が、下側から上側に行くにつれて第1 7. A portion covering the side end portion of the first electrode in the inorganic insulating layer, first as going from the lower side to the upper side
    の電極の中央部側から側端部側に向かうテーパ部を有して形成されていることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイ。 The organic EL display of claim 1, wherein a from the central portion of the electrode is formed with a tapered portion toward the side edge side.
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