JP2000089688A - レ―ザパタ―ンを生成可能なコ―ティングを有する反射型シ―トディスプレイ - Google Patents
レ―ザパタ―ンを生成可能なコ―ティングを有する反射型シ―トディスプレイInfo
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/1343—Electrodes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザパターン生成可能なコーティングを有
する反射型シートディスプレイを提供する。 【解決手段】 観察者に選択された画像を表示するデ
ィスプレイ１０は、透明基板１２と、透明基板１２を覆
うように形成される透明導電性コーティング１３と、透
明導電層１３を覆うように形成される光変調層３０と、
光変調層３０を覆うように形成され可視化可能導電画像
１６を形成するパターン化可能導電層１４と、を備え
る。光変調層３０は２つの状態において有効であり、第
１状態において、可視化可能導電画像１６を見ることを
阻止し、第２状態において、可視化可能導電画像１６を
見ることを可能とする。
する反射型シートディスプレイを提供する。 【解決手段】 観察者に選択された画像を表示するデ
ィスプレイ１０は、透明基板１２と、透明基板１２を覆
うように形成される透明導電性コーティング１３と、透
明導電層１３を覆うように形成される光変調層３０と、
光変調層３０を覆うように形成され可視化可能導電画像
１６を形成するパターン化可能導電層１４と、を備え
る。光変調層３０は２つの状態において有効であり、第
１状態において、可視化可能導電画像１６を見ることを
阻止し、第２状態において、可視化可能導電画像１６を
見ることを可能とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光を選択して透過
または反射することができる画像ディスプレイに関す
る。
または反射することができる画像ディスプレイに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、情報は耐久性インキを担持する
紙の集合シートを使用して表示、あるいは、たとえば、
陰極線ディスプレイまたは液晶ディスプレイなどの電子
工学による被変調表面に表示される。他のシート材料
は、切符発行または金融情報を担持する磁気書き込み可
能領域を担持することができるが磁気記録データは見る
ことができない。
紙の集合シートを使用して表示、あるいは、たとえば、
陰極線ディスプレイまたは液晶ディスプレイなどの電子
工学による被変調表面に表示される。他のシート材料
は、切符発行または金融情報を担持する磁気書き込み可
能領域を担持することができるが磁気記録データは見る
ことができない。
【０００３】１つの構造が、ＰＣＴ／ＷＯ ９７／０４
３９８、発明の名称“Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｂｏｏｋ
Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａ
ｇｅｓ”に開示されており、この開示は薄型電子書込デ
ィスプレイ技術の技法の完全な詳述である。「ブック」
に製本される多数のディスプレイシートの組立が開示さ
れており、各シートは、各ページを独立に処理する手段
を備える。この特許には、フレキシブルシート、双安定
液晶システムから形成される画像変調材料、および各ペ
ージの細い金属導体線などの薄型電子書込ページを形成
する先行技術が開示されている。導体線を生成する種々
の方法、たとえば、フォトリソグラフィなどが開示され
ているが、感光性エマルジョンから得られるトレースの
選択的露光および写真現像については開示されていな
い。この構造の１つの利点は、独立したページが一緒に
まとめられ、かつ多数の複数層導体がページの端から端
まで通過してブックの背にある相互接続に達することで
ある。
３９８、発明の名称“Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｂｏｏｋ
Ｗｉｔｈ Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａ
ｇｅｓ”に開示されており、この開示は薄型電子書込デ
ィスプレイ技術の技法の完全な詳述である。「ブック」
に製本される多数のディスプレイシートの組立が開示さ
れており、各シートは、各ページを独立に処理する手段
を備える。この特許には、フレキシブルシート、双安定
液晶システムから形成される画像変調材料、および各ペ
ージの細い金属導体線などの薄型電子書込ページを形成
する先行技術が開示されている。導体線を生成する種々
の方法、たとえば、フォトリソグラフィなどが開示され
ているが、感光性エマルジョンから得られるトレースの
選択的露光および写真現像については開示されていな
い。この構造の１つの利点は、独立したページが一緒に
まとめられ、かつ多数の複数層導体がページの端から端
まで通過してブックの背にある相互接続に達することで
ある。
【０００４】フレキシブルな電子書込ディスプレイシー
トの製作は、米国特許第４，４３５，０４７号に開示さ
れている。第１シートは透明なＩＴＯ導電性領域を有
し、第２シートはディスプレイ領域にプリントされる導
電性インキを有する。シートをガラスとすることができ
るが、実際には、マイラー（Ｍｙｌｅｒ）ポリエステル
で作られる。液晶材料をバインダに分散した液で第１シ
ートをコーティングし、第２シートを液晶材料に押し当
てる。対向している導電性領域に印加される電圧は、液
晶材料に作用し、ディスプレイ領域を露光する。電圧印
加を中止すると、ディスプレイは画像の表示を終了す
る。現在では、タリク（Ｔａｌｉｑ）製品は、２枚のシ
ートをオフセットさせ、２枚のシートのそれぞれのトレ
ース導体を接触させることによって、電気相互接続を形
成する。
トの製作は、米国特許第４，４３５，０４７号に開示さ
れている。第１シートは透明なＩＴＯ導電性領域を有
し、第２シートはディスプレイ領域にプリントされる導
電性インキを有する。シートをガラスとすることができ
るが、実際には、マイラー（Ｍｙｌｅｒ）ポリエステル
で作られる。液晶材料をバインダに分散した液で第１シ
ートをコーティングし、第２シートを液晶材料に押し当
てる。対向している導電性領域に印加される電圧は、液
晶材料に作用し、ディスプレイ領域を露光する。電圧印
加を中止すると、ディスプレイは画像の表示を終了す
る。現在では、タリク（Ｔａｌｉｑ）製品は、２枚のシ
ートをオフセットさせ、２枚のシートのそれぞれのトレ
ース導体を接触させることによって、電気相互接続を形
成する。
【０００５】先行技術は、通常、ディスプレイを構成す
るため、多数の独立層を必要とする。通常、電気トレー
スおよび透明導電層は、基板上に材料の真空蒸着とフォ
トリソグラフィを反復することによって形成される。こ
れらの方法は、費用がかかり、資本集約的装置による長
時間処理を必要とする。大部分のディスプレイ構造はガ
ラス製であるため、２枚のシートを使用し、オフセット
させることによって、別々のシートに配置される独立の
露光された２組のトレースを接続することが可能とな
る。
るため、多数の独立層を必要とする。通常、電気トレー
スおよび透明導電層は、基板上に材料の真空蒸着とフォ
トリソグラフィを反復することによって形成される。こ
れらの方法は、費用がかかり、資本集約的装置による長
時間処理を必要とする。大部分のディスプレイ構造はガ
ラス製であるため、２枚のシートを使用し、オフセット
させることによって、別々のシートに配置される独立の
露光された２組のトレースを接続することが可能とな
る。
【０００６】先行技術によって、ディスプレイの別々の
側にある各層を絶縁し、はんだ接続、ワイヤボンディン
グ、または加圧接触を用いてトレースを接続し、エレク
トロニクスを駆動することが開示されている。このよう
な接続は、接続処理のため、２組のトレースが表面上で
露光されることを特に必要とする。一様な多層構造によ
って、内部導電層に対する接続が防止される。
側にある各層を絶縁し、はんだ接続、ワイヤボンディン
グ、または加圧接触を用いてトレースを接続し、エレク
トロニクスを駆動することが開示されている。このよう
な接続は、接続処理のため、２組のトレースが表面上で
露光されることを特に必要とする。一様な多層構造によ
って、内部導電層に対する接続が防止される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】電子ディスプレイ手段
の場合、画像を見るために電力を供給する必要がある。
印刷シートは、インキで書かれ、書き直すことができな
い。クレジットカードの背面の磁気領域などの磁気書込
媒体の場合は、情報を読み取ることができない。
の場合、画像を見るために電力を供給する必要がある。
印刷シートは、インキで書かれ、書き直すことができな
い。クレジットカードの背面の磁気領域などの磁気書込
媒体の場合は、情報を読み取ることができない。
【０００８】したがって、本発明の目的は、書き直しが
可能であり、同時に、前記問題を解決することができる
ディスプレイ装置を提供することである。
可能であり、同時に、前記問題を解決することができる
ディスプレイ装置を提供することである。
【０００９】本発明の他の目的は、コーティング技術を
用いて形成することができるディスプレイ装置を提供す
ることである。
用いて形成することができるディスプレイ装置を提供す
ることである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的は、選択された
画像を観察者に提供するディスプレイによって実現さ
れ、このディスプレイは、（ａ）透明基板と、（ｂ）透
明基板上に形成される透明導電性コーティングと、
（ｃ）透明導電層を覆って形成される光変調層と、
（ｄ）光変調層上に形成され、導電性可視化可能画像を
形成するパターン化導電層と、を備え、光変調層は、２
つの状態において有効であり、第１状態では、導電性可
視化可能画像を見ることを阻止し、第２状態では、導電
性可視化可能画像を見ることを可能とする。
画像を観察者に提供するディスプレイによって実現さ
れ、このディスプレイは、（ａ）透明基板と、（ｂ）透
明基板上に形成される透明導電性コーティングと、
（ｃ）透明導電層を覆って形成される光変調層と、
（ｄ）光変調層上に形成され、導電性可視化可能画像を
形成するパターン化導電層と、を備え、光変調層は、２
つの状態において有効であり、第１状態では、導電性可
視化可能画像を見ることを阻止し、第２状態では、導電
性可視化可能画像を見ることを可能とする。
【００１１】開示される構造は、液晶光変調層を覆うレ
ーザパターン化可能導電性蒸着コーティングを用いる反
射型ディスプレイを提供するという利点を有する。レー
ザパターン化可能蒸着コーティングは、現在の写真コー
ティング技術を用いて生成される液晶ポリマーコーティ
ングを覆って被着される場合は、安価である。このディ
スプレイは、レーザを用いてパターン化し、ディスプレ
イを生成することができる。材料よりなる単独の大型基
板をコーティングし、感光性材料に異なるパターンを露
光し、異なる種類のディスプレイに形成することができ
る。他の利点は、ボンディング法の代わりにコーティン
グ法を用いて、ディスプレイをシートとして形成できる
ことである。
ーザパターン化可能導電性蒸着コーティングを用いる反
射型ディスプレイを提供するという利点を有する。レー
ザパターン化可能蒸着コーティングは、現在の写真コー
ティング技術を用いて生成される液晶ポリマーコーティ
ングを覆って被着される場合は、安価である。このディ
スプレイは、レーザを用いてパターン化し、ディスプレ
イを生成することができる。材料よりなる単独の大型基
板をコーティングし、感光性材料に異なるパターンを露
光し、異なる種類のディスプレイに形成することができ
る。他の利点は、ボンディング法の代わりにコーティン
グ法を用いて、ディスプレイをシートとして形成できる
ことである。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明において使用され
るディスプレイ１０の、処理完了前の断面図である。デ
ィスプレイ１０は、基板１２を備える。基板１２は、た
とえば、ポリエステルプラスチックより形成されるＫｏ
ｄａｋ Ｅｓｔａｒフィルム基材などの透明ポリマー材
料で製作することができ、約２０から２００μｍの範囲
の厚さを有する。例示の実施形態においては、基板１２
は、ポリエステルフィルム基材の厚さ８０μｍのシート
とすることができる。透明ポリカーボネートなどの別の
ポリマーを使用することもできる。光透過性導電層１３
が、基板１２を覆って形成される。透明導電層１３は、
酸化スズまたはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）で形成
することが可能であり、ＩＴＯが好適な材料である。通
常、透明導電層１３は、基板１２上に、方形当たり２５
０オーム未満の抵抗までスパッタリングされる。
るディスプレイ１０の、処理完了前の断面図である。デ
ィスプレイ１０は、基板１２を備える。基板１２は、た
とえば、ポリエステルプラスチックより形成されるＫｏ
ｄａｋ Ｅｓｔａｒフィルム基材などの透明ポリマー材
料で製作することができ、約２０から２００μｍの範囲
の厚さを有する。例示の実施形態においては、基板１２
は、ポリエステルフィルム基材の厚さ８０μｍのシート
とすることができる。透明ポリカーボネートなどの別の
ポリマーを使用することもできる。光透過性導電層１３
が、基板１２を覆って形成される。透明導電層１３は、
酸化スズまたはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）で形成
することが可能であり、ＩＴＯが好適な材料である。通
常、透明導電層１３は、基板１２上に、方形当たり２５
０オーム未満の抵抗までスパッタリングされる。
【００１３】光変調層３０は、透明導電層１３を覆うよ
うに形成される。光変調層３０は、従来の設計の液晶と
することができる。液晶材料は、ネマチック（ドーピン
グされない）とすることが可能であり、高い光学および
電気異方性を示し、材料が電気により配向されるとき、
キャリアポリマーの屈折率と一致することが望ましい。
このようなネマチック材料の例は、Ｍｅｒｃｋ ＢＬ０
０１、ＢＬ００５、およびＢＬ０１１である。
うに形成される。光変調層３０は、従来の設計の液晶と
することができる。液晶材料は、ネマチック（ドーピン
グされない）とすることが可能であり、高い光学および
電気異方性を示し、材料が電気により配向されるとき、
キャリアポリマーの屈折率と一致することが望ましい。
このようなネマチック材料の例は、Ｍｅｒｃｋ ＢＬ０
０１、ＢＬ００５、およびＢＬ０１１である。
【００１４】光変調層は、たとえば、米国特許第５，６
９５，６８２号に開示されている液晶など、キラルをド
ーピングしたネマチック液晶を組み込むこともできる。
このような材料の例は、Ｍｅｒｃｋ ＢＬ１１２および
ＢＬ１２６である。種々の強度および継続時間の電界の
印加によって、キラルをドーピングしたネマチック材料
は反射状態から透過性状態に変化する。これらの材料
は、電界の除去後も所定の状態を無限に持続するという
利点がある。たとえば、マイクロカプセルに入れた強誘
電性（ＦＬＣ）材料など、他の光反射または拡散変調電
気作動材料をコーティングすることもできる。光変調層
３０は、２つの状態において有効であり、この状態につ
いて以下に詳細に述べる。
９５，６８２号に開示されている液晶など、キラルをド
ーピングしたネマチック液晶を組み込むこともできる。
このような材料の例は、Ｍｅｒｃｋ ＢＬ１１２および
ＢＬ１２６である。種々の強度および継続時間の電界の
印加によって、キラルをドーピングしたネマチック材料
は反射状態から透過性状態に変化する。これらの材料
は、電界の除去後も所定の状態を無限に持続するという
利点がある。たとえば、マイクロカプセルに入れた強誘
電性（ＦＬＣ）材料など、他の光反射または拡散変調電
気作動材料をコーティングすることもできる。光変調層
３０は、２つの状態において有効であり、この状態につ
いて以下に詳細に述べる。
【００１５】一実施形態において、液晶材料は、たとえ
ば、脱イオンゼラチンまたはポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）などのポリマーバインダ中で均質化される。１０
％から５０％の範囲のバインダ濃度を有するエマルジョ
ンが生成された。このような化合物は、写真フィルムに
関連した装置によって機械塗布することができる。バイ
ンダは、低イオン含量であることが重要である。このよ
うなバインダ中にイオンが存在すると、分散液晶材料全
域に対する電界の発生が阻害される。その上、バインダ
中のイオンは、電界の存在下で移行し、光変調層３０を
化学的に損傷する。液晶およびゼラチンエマルジョン
は、５μｍから３０μｍの範囲の厚さまでコーティング
され、光変調層３０の光変調が最適化される。コーティ
ング厚さ、液晶バブルのサイズ、および液晶材料のバブ
ルの濃度は、光の拡散または反射のいずれかを実施する
ように設計される。
ば、脱イオンゼラチンまたはポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）などのポリマーバインダ中で均質化される。１０
％から５０％の範囲のバインダ濃度を有するエマルジョ
ンが生成された。このような化合物は、写真フィルムに
関連した装置によって機械塗布することができる。バイ
ンダは、低イオン含量であることが重要である。このよ
うなバインダ中にイオンが存在すると、分散液晶材料全
域に対する電界の発生が阻害される。その上、バインダ
中のイオンは、電界の存在下で移行し、光変調層３０を
化学的に損傷する。液晶およびゼラチンエマルジョン
は、５μｍから３０μｍの範囲の厚さまでコーティング
され、光変調層３０の光変調が最適化される。コーティ
ング厚さ、液晶バブルのサイズ、および液晶材料のバブ
ルの濃度は、光の拡散または反射のいずれかを実施する
ように設計される。
【００１６】パターン化可能導電層１４は、光変調層３
０を覆うように蒸着される。一実施形態においては、酸
化白金が、液晶−ゼラチンエマルジョンを覆うように約
７μｍの厚さにスパッタリングされた。パターン化可能
導電層１４は、光変調層３０上において作動する電荷を
担持するために十分な導電率の金属層として形成され
た。その他の一般に使用される材料および処理を使用
し、真空蒸着コーティングを形成し、パターン化可能導
電層１４を生成することもできる。真空環境において
は、アルミニウム、スズ、銀、白金、炭素、タングステ
ン、モリブデン、またはインジウムなどの材料を使用す
ることができる。前記金属の酸化物を使用し、パターン
化可能伝導層１４を暗くすることができる。金属材料
は、真空チャンバ内で、抵抗加熱、陰極アーク、電子ビ
ーム、スパッタリングまたはマグネトロン励起からのエ
ネルギーによって励起することができる。酸化スズまた
はインジウムスズ酸化物の使用によって、透明であるパ
ターン化可能導電性コーティング１４をコーティングす
ることが可能となる。光変調層３０を覆うように、方形
当たり２５０オームの抵抗および高度な光透過を有する
ＩＴＯコーティングを形成することができる。
０を覆うように蒸着される。一実施形態においては、酸
化白金が、液晶−ゼラチンエマルジョンを覆うように約
７μｍの厚さにスパッタリングされた。パターン化可能
導電層１４は、光変調層３０上において作動する電荷を
担持するために十分な導電率の金属層として形成され
た。その他の一般に使用される材料および処理を使用
し、真空蒸着コーティングを形成し、パターン化可能導
電層１４を生成することもできる。真空環境において
は、アルミニウム、スズ、銀、白金、炭素、タングステ
ン、モリブデン、またはインジウムなどの材料を使用す
ることができる。前記金属の酸化物を使用し、パターン
化可能伝導層１４を暗くすることができる。金属材料
は、真空チャンバ内で、抵抗加熱、陰極アーク、電子ビ
ーム、スパッタリングまたはマグネトロン励起からのエ
ネルギーによって励起することができる。酸化スズまた
はインジウムスズ酸化物の使用によって、透明であるパ
ターン化可能導電性コーティング１４をコーティングす
ることが可能となる。光変調層３０を覆うように、方形
当たり２５０オームの抵抗および高度な光透過を有する
ＩＴＯコーティングを形成することができる。
【００１７】図２は、レーザ処理後のディスプレイ１０
の断面図である。図２に示すように、パターン化可能導
電層１４は、レーザで線を彫り込まれ可視化可能導電画
像１６と非導電領域１８が生成された。可視化可能導電
画像１６の実効導電率は、方形当たり２５０オーム未満
である。可視化可能導電画像１６は、黒く見え、２．０
Ｄより大きな光学濃度を有する。非導電性領域１８内の
公称導電性金属は、イットリウム−アルミニウムガーネ
ット（ＹＡＧ）レーザを用いて除去され、可視化可能導
電画像１６の範囲を形成した。非導電性領域１８は、通
常、約２５μｍ〜１００μｍ幅の間隙であり、この間隙
によって、電気により可視化が可能となる導電画像１６
が電気的に絶縁される。ＹＡＧレーザは、材料の不透明
および透過性コーティングの両者に対して、パターン化
可能導電層１４にパターンを生成することができる。
の断面図である。図２に示すように、パターン化可能導
電層１４は、レーザで線を彫り込まれ可視化可能導電画
像１６と非導電領域１８が生成された。可視化可能導電
画像１６の実効導電率は、方形当たり２５０オーム未満
である。可視化可能導電画像１６は、黒く見え、２．０
Ｄより大きな光学濃度を有する。非導電性領域１８内の
公称導電性金属は、イットリウム−アルミニウムガーネ
ット（ＹＡＧ）レーザを用いて除去され、可視化可能導
電画像１６の範囲を形成した。非導電性領域１８は、通
常、約２５μｍ〜１００μｍ幅の間隙であり、この間隙
によって、電気により可視化が可能となる導電画像１６
が電気的に絶縁される。ＹＡＧレーザは、材料の不透明
および透過性コーティングの両者に対して、パターン化
可能導電層１４にパターンを生成することができる。
【００１８】接着剤を使用してパターン化導電層１４を
光変調層３０の上に結合することは、先行技術によって
開示されている。一実施形態においては、接着剤で結合
されたディスプレイは、光変調層３０をクリアするため
に３０ボルトを必要とした。同一の光変調層３０を有す
る第２ディスプレイを酸化白金によって真空コーティン
グし、パターン化可能導電層１４を生成した。ＹＡＧレ
ーザによって、パターン化可能導電層１４にパターン化
された料金別納郵便物の証印を生成させた。光変調層３
０をクリアするために必要な駆動電圧は、１ボルト未満
であった。光変調層３０を覆う蒸着金属コーティング
は、接着剤により結合されたパターン化可能導電層１４
より低い駆動電圧を有する。
光変調層３０の上に結合することは、先行技術によって
開示されている。一実施形態においては、接着剤で結合
されたディスプレイは、光変調層３０をクリアするため
に３０ボルトを必要とした。同一の光変調層３０を有す
る第２ディスプレイを酸化白金によって真空コーティン
グし、パターン化可能導電層１４を生成した。ＹＡＧレ
ーザによって、パターン化可能導電層１４にパターン化
された料金別納郵便物の証印を生成させた。光変調層３
０をクリアするために必要な駆動電圧は、１ボルト未満
であった。光変調層３０を覆う蒸着金属コーティング
は、接着剤により結合されたパターン化可能導電層１４
より低い駆動電圧を有する。
【００１９】透明導電層１３によって、光変調層３０全
域に対する連続電極が提供される。可視化可能導電画像
１６および透明導電層１３と交差する電界が、光変調層
３０に作用し、可視化可能導電画像１６への光透過を変
更させる。図３は、回路基板４０に接続されディスプレ
イ１０を形成する処理済みディスプレイ１０の断面図で
ある。回路基板４０は、接触子パッド４７によって可視
化可能導電画像１６に接続される一連のトレースを有す
る。
域に対する連続電極が提供される。可視化可能導電画像
１６および透明導電層１３と交差する電界が、光変調層
３０に作用し、可視化可能導電画像１６への光透過を変
更させる。図３は、回路基板４０に接続されディスプレ
イ１０を形成する処理済みディスプレイ１０の断面図で
ある。回路基板４０は、接触子パッド４７によって可視
化可能導電画像１６に接続される一連のトレースを有す
る。
【００２０】当業者は、本発明はプライバシースクリー
ンとしての使用に適することを理解するであろう。たと
えば、浴室窓を覆って配置し、駆動状態では透明、非駆
動状態では不透明とすることができる。このような場
合、層１３と層１４は、パターン化する必要はない。本
発明の特徴は、ディスプレイ１０をシートとして形成で
きることである。この場合、ディスプレイ１０は、透明
または不透明のいずれかであり、可視化可能画像を表示
する必要はない。
ンとしての使用に適することを理解するであろう。たと
えば、浴室窓を覆って配置し、駆動状態では透明、非駆
動状態では不透明とすることができる。このような場
合、層１３と層１４は、パターン化する必要はない。本
発明の特徴は、ディスプレイ１０をシートとして形成で
きることである。この場合、ディスプレイ１０は、透明
または不透明のいずれかであり、可視化可能画像を表示
する必要はない。
【００２１】パターン化可能導電層１４は、柔軟性を持
つことが可能であり、この場合、回路基板４０とパター
ン化可能導電層１４との接続は、可視化可能導電画像１
６を損傷せずに実施しなければならない。１つの場合
は、インジウム粉末を回路基板４０とパターン化可能導
電層１４の間に被着させ、２つの構成要素を加熱してイ
ンジウムを溶融させ、回路基板４０とパターン化可能導
電層１４の間の電気接続を形成する。別の場合は、導電
性接着剤を使用し、回路基板４０とパターン化可能導電
層１４の間の接続を形成する。
つことが可能であり、この場合、回路基板４０とパター
ン化可能導電層１４との接続は、可視化可能導電画像１
６を損傷せずに実施しなければならない。１つの場合
は、インジウム粉末を回路基板４０とパターン化可能導
電層１４の間に被着させ、２つの構成要素を加熱してイ
ンジウムを溶融させ、回路基板４０とパターン化可能導
電層１４の間の電気接続を形成する。別の場合は、導電
性接着剤を使用し、回路基板４０とパターン化可能導電
層１４の間の接続を形成する。
【００２２】従来設計の外部駆動回路構成（図示してな
い）は、可視化可能導電画像１６を選択して駆動し、デ
ィスプレイ１０の選択された駆動セグメントの光特性を
変更する。光変調層３０は、２つの状態において有効で
ある。第１状態では、光変調層３０は可視化可能導電画
像１６を見ることを阻止し、第２状態では、光変調層３
０によって可視化可能導電画像１６を見ることが可能と
なる。
い）は、可視化可能導電画像１６を選択して駆動し、デ
ィスプレイ１０の選択された駆動セグメントの光特性を
変更する。光変調層３０は、２つの状態において有効で
ある。第１状態では、光変調層３０は可視化可能導電画
像１６を見ることを阻止し、第２状態では、光変調層３
０によって可視化可能導電画像１６を見ることが可能と
なる。
【００２３】ネマチック材料を使用する場合、交流電圧
を透明導電層１３に印加し、電気に関して接地されてい
る可視化可能導電画像１６の全域に電界を加える。光変
調層３０の全域に交流電圧を使用することによって、い
ずれかの層内および層間のイオンの移行による損傷を防
止する。交流電圧の場合、毎秒６０サイクルより大きい
周波数は、光変調層３０内の分子を配向するために十分
である。それ以外の場合、透明パターン化可能導電層１
４は、パターン化されず、電気によって作用され透過性
状態とすることができる連続半透明シートを形成し、電
気によりクリアされるプライバシースクリーンを生成す
る。
を透明導電層１３に印加し、電気に関して接地されてい
る可視化可能導電画像１６の全域に電界を加える。光変
調層３０の全域に交流電圧を使用することによって、い
ずれかの層内および層間のイオンの移行による損傷を防
止する。交流電圧の場合、毎秒６０サイクルより大きい
周波数は、光変調層３０内の分子を配向するために十分
である。それ以外の場合、透明パターン化可能導電層１
４は、パターン化されず、電気によって作用され透過性
状態とすることができる連続半透明シートを形成し、電
気によりクリアされるプライバシースクリーンを生成す
る。
【００２４】光変調材料３０がメモリ特性を有するキラ
ルネマチック材料である場合、接地信号が透明導電層１
３に適用され、選択された可視化可能導電画像１６がト
レース４５によって作用し、画像領域を反射状態または
透過性状態のいずれかとする。第１の場合は、パターン
化可能導電層１４は、蒸着酸化金属であり、光を吸収す
る暗いバックグラウンドを生成する。第２の場合は、パ
ターン化可能導電層１４は、インジウムスズ酸化物より
なる導電性光透過性コーティングである。
ルネマチック材料である場合、接地信号が透明導電層１
３に適用され、選択された可視化可能導電画像１６がト
レース４５によって作用し、画像領域を反射状態または
透過性状態のいずれかとする。第１の場合は、パターン
化可能導電層１４は、蒸着酸化金属であり、光を吸収す
る暗いバックグラウンドを生成する。第２の場合は、パ
ターン化可能導電層１４は、インジウムスズ酸化物より
なる導電性光透過性コーティングである。
【００２５】他の適用分野においては、図１６および図
１７に示すように、可視化可能導電画像１６は、レーザ
によって形成される導電トレース１００となる。すなわ
ち、可視化可能導電画像１６は非導電領域１８の間に形
成され、導電トレース１００を生成する。透明導電層１
３は、レ−ザによって第１方向に彫り込まれる。光変調
層３０は、透明導電層１３を覆ってコーティングされ
る。次に、パターン化可能導電層１４が、光変調層３０
を覆ってコーティングされる。パターン化可能導電層１
４は、レーザによって彫り込まれ、導電トレース１００
の間に非導電領域１８を形成する。透明導電層１３を覆
うコーティングを除去し、透明導電層１３内の導電トレ
ース１００を露光させる。導電トレース１００は、ディ
スプレイ１０を横切って直交して配置され、トレース１
００の交点において接触子パッド９０を生成する。透明
導電領域１３を覆うコーティングを接続領域５２から除
去することによって、透明導電層１３に形成される個々
のトレースに対する接続が可能となる。
１７に示すように、可視化可能導電画像１６は、レーザ
によって形成される導電トレース１００となる。すなわ
ち、可視化可能導電画像１６は非導電領域１８の間に形
成され、導電トレース１００を生成する。透明導電層１
３は、レ−ザによって第１方向に彫り込まれる。光変調
層３０は、透明導電層１３を覆ってコーティングされ
る。次に、パターン化可能導電層１４が、光変調層３０
を覆ってコーティングされる。パターン化可能導電層１
４は、レーザによって彫り込まれ、導電トレース１００
の間に非導電領域１８を形成する。透明導電層１３を覆
うコーティングを除去し、透明導電層１３内の導電トレ
ース１００を露光させる。導電トレース１００は、ディ
スプレイ１０を横切って直交して配置され、トレース１
００の交点において接触子パッド９０を生成する。透明
導電領域１３を覆うコーティングを接続領域５２から除
去することによって、透明導電層１３に形成される個々
のトレースに対する接続が可能となる。
【００２６】２つの導電層のそれぞれから交差する対の
トレースに送られる信号（ｅ１〜ｅ２）によって、所定
の画素要素における動作が可能となる。画素９０を作動
させるため、その内の２つを図示した電気リード１０７
を用いて電圧が印加される。接続領域５２の行ごとにに
リード１０７が取り付けられており、またパターン化可
能導電層１４の列ごとにリード１０７が取り付けられて
いる。図１６に示すように、作動状態の画素９１は、図
１６に示す２つのリード１０７によって作動される。選
択された様式で画素９０を作動させることによって、画
像がディスプレイ１０上に形成される。図１６は、縮尺
で書かれていないことに留意されたい。
トレースに送られる信号（ｅ１〜ｅ２）によって、所定
の画素要素における動作が可能となる。画素９０を作動
させるため、その内の２つを図示した電気リード１０７
を用いて電圧が印加される。接続領域５２の行ごとにに
リード１０７が取り付けられており、またパターン化可
能導電層１４の列ごとにリード１０７が取り付けられて
いる。図１６に示すように、作動状態の画素９１は、図
１６に示す２つのリード１０７によって作動される。選
択された様式で画素９０を作動させることによって、画
像がディスプレイ１０上に形成される。図１６は、縮尺
で書かれていないことに留意されたい。
【００２７】図４および５は、それぞれディスプレイ１
０の２つの部分の平面図である。図４は回路基板４０を
示し、回路基板４０は各可視化可能導電画像１６の下の
位置から通じる回路基板トレース４５を有する。接触子
パッド４７は、各可視化可能導電画像１６の下に配置さ
れ、各導電トレース４５に接続され、ディスプレイ１０
上の各可視化可能導電画像１６への電気相互接続を形成
する。図５は、光変調層３０を有するディスプレイ１０
の平面図であり、可視化可能導電画像１６を示すために
一部を切り取って示す。ディスプレイ１０のパターン化
可能導電層１４は、レーザによって彫り込まれて可視化
可能導電画像１６を生成した。非導電領域１８は、可視
化可能導電画像１６を電気絶縁する機能を果たす。電力
ピン５０は、透明導電層１３を露光するために先にレー
ザで刻み込まれた接続領域５２に接触される。複数の接
続領域５２に接続される複数の電力ピン５０を使用し、
透明導電層１３の全域を確実に一様な電界とする。
０の２つの部分の平面図である。図４は回路基板４０を
示し、回路基板４０は各可視化可能導電画像１６の下の
位置から通じる回路基板トレース４５を有する。接触子
パッド４７は、各可視化可能導電画像１６の下に配置さ
れ、各導電トレース４５に接続され、ディスプレイ１０
上の各可視化可能導電画像１６への電気相互接続を形成
する。図５は、光変調層３０を有するディスプレイ１０
の平面図であり、可視化可能導電画像１６を示すために
一部を切り取って示す。ディスプレイ１０のパターン化
可能導電層１４は、レーザによって彫り込まれて可視化
可能導電画像１６を生成した。非導電領域１８は、可視
化可能導電画像１６を電気絶縁する機能を果たす。電力
ピン５０は、透明導電層１３を露光するために先にレー
ザで刻み込まれた接続領域５２に接触される。複数の接
続領域５２に接続される複数の電力ピン５０を使用し、
透明導電層１３の全域を確実に一様な電界とする。
【００２８】図６および図７は、ディスプレイ１０の平
面図である。回路基板４０は、外部駆動エレクトロニク
ス（図示してない）への接続を形成する一組の回路基板
トレース４５を有する。各回路基板トレース４５は、個
別の可視化可能導電画像１６の下で終結する。接触子パ
ッド４７は、各可視化可能導電画像１６に押し当てられ
る。
面図である。回路基板４０は、外部駆動エレクトロニク
ス（図示してない）への接続を形成する一組の回路基板
トレース４５を有する。各回路基板トレース４５は、個
別の可視化可能導電画像１６の下で終結する。接触子パ
ッド４７は、各可視化可能導電画像１６に押し当てられ
る。
【００２９】図６は非作動状態を示す図であり、可視化
可能導電画像１６は、光を反射し可視化可能導電画像１
６による吸収を防止する光変調層３０によって覆い隠さ
れている。電力ピン５０によって、交流電圧が接続領域
５２を介して透明導電層１３に供給される。図７は、デ
ィスプレイ１０の１領域の作動状態を示す図である。回
路基板トレース４５は、第１電位を接地に切り換える。
回路基板トレース４５は、接地電位を接触子パッド４７
（図６に示す）を介して可視化可能導電画像１６に伝達
する。電力ピン５０によって、交流電圧が光変調層３０
の他の側の透明導電層１３に供給される。
可能導電画像１６は、光を反射し可視化可能導電画像１
６による吸収を防止する光変調層３０によって覆い隠さ
れている。電力ピン５０によって、交流電圧が接続領域
５２を介して透明導電層１３に供給される。図７は、デ
ィスプレイ１０の１領域の作動状態を示す図である。回
路基板トレース４５は、第１電位を接地に切り換える。
回路基板トレース４５は、接地電位を接触子パッド４７
（図６に示す）を介して可視化可能導電画像１６に伝達
する。電力ピン５０によって、交流電圧が光変調層３０
の他の側の透明導電層１３に供給される。
【００３０】一実施形態において、パターン化可能導電
層１４は、透明インジウムスズ酸化物のスパッタリング
によるコーティングである。回路基板４０は、ディスプ
レイ１０の端部において単独のパターン化可能領域１４
に取り付けられる。光変調層３０は、従来のネマチック
液晶材料であり、透光性プライバシースクリーンを生成
する。電力ピン５０は、交流電圧を透明導電層１３に送
る機能を果たす。交流電界の印加によって、光変調層３
０がクリアされる。光変調層３０を覆うようにスパッタ
リングした透明導体を使用することによって、第２シー
トなしに、クリアする光変調層３０の全域に電界を印加
する簡単でエネルギー効率の良い方法が提供される。
層１４は、透明インジウムスズ酸化物のスパッタリング
によるコーティングである。回路基板４０は、ディスプ
レイ１０の端部において単独のパターン化可能領域１４
に取り付けられる。光変調層３０は、従来のネマチック
液晶材料であり、透光性プライバシースクリーンを生成
する。電力ピン５０は、交流電圧を透明導電層１３に送
る機能を果たす。交流電界の印加によって、光変調層３
０がクリアされる。光変調層３０を覆うようにスパッタ
リングした透明導体を使用することによって、第２シー
トなしに、クリアする光変調層３０の全域に電界を印加
する簡単でエネルギー効率の良い方法が提供される。
【００３１】図８は、拡散するディスプレイ１０の非作
動および作動モードにおける光動作を示す断面図であ
る。交流電圧は、電力ピン５０を介して透明導電層１３
に伝達される。中央部においては、接地信号が可視化可
能導電画像１６に伝達される。光変調層３０の全域に印
加された交流電圧のため、液晶材料は印加された電界に
よって整列する。可視化可能導電画像１６を覆う、光変
調層３０の領域は、透明になり、可視化可能導電画像１
６は吸収光６４を吸収する。パターン化可能導電層１４
に由来する黒色導電材料は、可視化可能導電画像１６中
の光を吸収し、白色バックグラウンドの中で表示領域を
黒色に見えるようにする。両側においては、可視化可能
導電画像１６は接地されず、可視化可能導電画像１６と
透明導電層１３の間には電圧が存在しない。光変調層３
０は、ディスプレイ１０に入射する光を反射して反射光
６０として戻し、「白色」画像を生成する。
動および作動モードにおける光動作を示す断面図であ
る。交流電圧は、電力ピン５０を介して透明導電層１３
に伝達される。中央部においては、接地信号が可視化可
能導電画像１６に伝達される。光変調層３０の全域に印
加された交流電圧のため、液晶材料は印加された電界に
よって整列する。可視化可能導電画像１６を覆う、光変
調層３０の領域は、透明になり、可視化可能導電画像１
６は吸収光６４を吸収する。パターン化可能導電層１４
に由来する黒色導電材料は、可視化可能導電画像１６中
の光を吸収し、白色バックグラウンドの中で表示領域を
黒色に見えるようにする。両側においては、可視化可能
導電画像１６は接地されず、可視化可能導電画像１６と
透明導電層１３の間には電圧が存在しない。光変調層３
０は、ディスプレイ１０に入射する光を反射して反射光
６０として戻し、「白色」画像を生成する。
【００３２】図９は、反射するディスプレイ１０の非作
動および作動モードにおける光動作を示す図である。接
地電圧は、電力ピン５０を介して透明導電層１３に伝達
される。中央部において、信号は可視化可能導電画像１
６に伝達される。この場合、可視化可能導電画像１６
は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）の透明導電コーテ
イングである。ＹＡＧレーザを使用し、非作動領域１８
のＩＴＯ材料を除去した。駆動信号が光変調層３０全域
に適用され、キラルネマチック液晶材料が透明になっ
た。可視化可能導電画像１６を覆う透明光変調層３０
は、透過光６６を透過する。黒色材料をディスプレイ１
０の背面に被着することが可能であり、これによって、
表示領域が黒色に見えるようになる。中央部の両側にお
いて、可視化可能導電画像１６は、作動されて反射状態
となる。光変調層３０は、ディスプレイ１０に入射する
光を反射して反射光６０として戻し、「白色」画像を生
成する。光変調層３０のキラルネマチック材料は、赤、
緑または青などの特定の可視波長において光を反射する
ことができる。反射光６０は、可視色スペクトルの一部
とすることができるので、入射光の一部は反射光６０で
あり、一方、スペクトルの他の部分は透過光６６であ
る。
動および作動モードにおける光動作を示す図である。接
地電圧は、電力ピン５０を介して透明導電層１３に伝達
される。中央部において、信号は可視化可能導電画像１
６に伝達される。この場合、可視化可能導電画像１６
は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）の透明導電コーテ
イングである。ＹＡＧレーザを使用し、非作動領域１８
のＩＴＯ材料を除去した。駆動信号が光変調層３０全域
に適用され、キラルネマチック液晶材料が透明になっ
た。可視化可能導電画像１６を覆う透明光変調層３０
は、透過光６６を透過する。黒色材料をディスプレイ１
０の背面に被着することが可能であり、これによって、
表示領域が黒色に見えるようになる。中央部の両側にお
いて、可視化可能導電画像１６は、作動されて反射状態
となる。光変調層３０は、ディスプレイ１０に入射する
光を反射して反射光６０として戻し、「白色」画像を生
成する。光変調層３０のキラルネマチック材料は、赤、
緑または青などの特定の可視波長において光を反射する
ことができる。反射光６０は、可視色スペクトルの一部
とすることができるので、入射光の一部は反射光６０で
あり、一方、スペクトルの他の部分は透過光６６であ
る。
【００３３】個々のシートを使用してカラー〜黒白ディ
スプレイを生成することは可能であり、またはＨａｓｈ
ｉｍｏｔｏらによる“Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｃｏｌｏ
ｒＤｉｓｐｌａｙ Ｕｓｉｎｇ Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉ
ｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ”，ＳＩＤ ９８
Ｄｉｇｅｓｔ，Ａｒｔｉｃｌｅ３１．１、１９９８
年、８９７〜９００ページに開示されているように、個
々のシートを積み重ねて完全カラーディスプレイを生成
することができる。本発明は、ボンディング法の代わり
にコーティング法を使用するという利益を有する。
スプレイを生成することは可能であり、またはＨａｓｈ
ｉｍｏｔｏらによる“Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｃｏｌｏ
ｒＤｉｓｐｌａｙ Ｕｓｉｎｇ Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉ
ｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ”，ＳＩＤ ９８
Ｄｉｇｅｓｔ，Ａｒｔｉｃｌｅ３１．１、１９９８
年、８９７〜９００ページに開示されているように、個
々のシートを積み重ねて完全カラーディスプレイを生成
することができる。本発明は、ボンディング法の代わり
にコーティング法を使用するという利益を有する。
【００３４】図１０〜１３は、どのようにして可視化可
能導電画像１６をパターン化可能導電層１４に形成する
かを示す概略図である。図１０において、透明基板１２
は、スパッタリングされるインジウムスズ酸化物を用い
て透明導電層１３によってコーティングされる。光変調
層３０は、ポリマーバインダ中に液晶材料を含み、透明
導電層１３を覆うようにコーティングされる。
能導電画像１６をパターン化可能導電層１４に形成する
かを示す概略図である。図１０において、透明基板１２
は、スパッタリングされるインジウムスズ酸化物を用い
て透明導電層１３によってコーティングされる。光変調
層３０は、ポリマーバインダ中に液晶材料を含み、透明
導電層１３を覆うようにコーティングされる。
【００３５】図１１において、ディスプレイ１０は、蒸
着技術によって光変調層を覆ってコーティングされた、
たとえば、アルミニウムまたは白金などのパターン化可
能導電層１４を有する。図１２において、イットリウム
−アルミニウム−ガーネット（ＹＡＧ）レーザからの高
出力レーザビーム８０を使用し、パターン化可能層１４
の一部を除去する。レーザビーム８０は、実際に、材料
を、所定のパターンに光変調層３０まで彫り込み、相互
に電気絶縁された可視化可能導電画像１６を形成する。
パターンを作るレーザは、フロリダ州、Ｏｒｌａｎｄｏ
のＬｅｅ Ｌａｓｅｒ，Ｉｎｃ．から入手できる７００
シリーズレーザヘッドとすることができる。このような
レーザは、１０６４ｎｍの波長の光を最高２５ワット放
射する。実験によれば、このレーザは、１００μｍのビ
ーム直径の条件で、１８アンペア、１０キロヘルツで作
動し、毎秒１０００ｍｍで移動し、パターン化可能導電
層１４を完全に彫り込む。作動条件下において、２．３
ワットの電力を使用し、１００μｍの線を毎秒１０００
ｍｍで彫り込む。
着技術によって光変調層を覆ってコーティングされた、
たとえば、アルミニウムまたは白金などのパターン化可
能導電層１４を有する。図１２において、イットリウム
−アルミニウム−ガーネット（ＹＡＧ）レーザからの高
出力レーザビーム８０を使用し、パターン化可能層１４
の一部を除去する。レーザビーム８０は、実際に、材料
を、所定のパターンに光変調層３０まで彫り込み、相互
に電気絶縁された可視化可能導電画像１６を形成する。
パターンを作るレーザは、フロリダ州、Ｏｒｌａｎｄｏ
のＬｅｅ Ｌａｓｅｒ，Ｉｎｃ．から入手できる７００
シリーズレーザヘッドとすることができる。このような
レーザは、１０６４ｎｍの波長の光を最高２５ワット放
射する。実験によれば、このレーザは、１００μｍのビ
ーム直径の条件で、１８アンペア、１０キロヘルツで作
動し、毎秒１０００ｍｍで移動し、パターン化可能導電
層１４を完全に彫り込む。作動条件下において、２．３
ワットの電力を使用し、１００μｍの線を毎秒１０００
ｍｍで彫り込む。
【００３６】別の場合は、従来の感光性エッチングレジ
スト材料は、パターン化可能導電層１４を覆うように塗
布される。化学線放射を使用し、エッチングレジスト材
料を選択して重合させ、エッチングに耐えられる状態と
する。まず、パターン化可能導電層１４を完全にエッチ
ングできる酸エッチングを使用する。次に、ディスプレ
イ１０を溶媒中で洗浄し、エッチングレジストを除く。
スト材料は、パターン化可能導電層１４を覆うように塗
布される。化学線放射を使用し、エッチングレジスト材
料を選択して重合させ、エッチングに耐えられる状態と
する。まず、パターン化可能導電層１４を完全にエッチ
ングできる酸エッチングを使用する。次に、ディスプレ
イ１０を溶媒中で洗浄し、エッチングレジストを除く。
【００３７】図１３において、回路基板４０は、可視化
可能導電画像１６に押し当てられて可視化可能導電画像
１６と電気接続を形成する接触子パッド４７を備える。
導電性接着材料を使用し、回路基板４０をディスプレイ
１０に固定することもできる。プリント回路基板４０内
に形成される電力ピン５０は、透明導電層１３の一部と
接触する。領域５２において、パターン化可能導電層１
４と光変調層３０は除去され、透明導電層１３への直接
電気接続が容易になっていることに留意されたい。
可能導電画像１６に押し当てられて可視化可能導電画像
１６と電気接続を形成する接触子パッド４７を備える。
導電性接着材料を使用し、回路基板４０をディスプレイ
１０に固定することもできる。プリント回路基板４０内
に形成される電力ピン５０は、透明導電層１３の一部と
接触する。領域５２において、パターン化可能導電層１
４と光変調層３０は除去され、透明導電層１３への直接
電気接続が容易になっていることに留意されたい。
【００３８】図１４は、ディスプレイ１０に対する異な
る適用分野を示す部分平面図である。導電性領域１６と
非導電性領域１８がシートの大部分を占め、電力領域２
５はディスプレイ１０の両側に形成されている。電力領
域２５は、透明導電層１３より上のすべてのコーティン
グが除去されている。上を覆う層は、化学エッチングに
よって除去することができる。電力領域２５によって、
透明導電層１３への電気接続が可能となる。
る適用分野を示す部分平面図である。導電性領域１６と
非導電性領域１８がシートの大部分を占め、電力領域２
５はディスプレイ１０の両側に形成されている。電力領
域２５は、透明導電層１３より上のすべてのコーティン
グが除去されている。上を覆う層は、化学エッチングに
よって除去することができる。電力領域２５によって、
透明導電層１３への電気接続が可能となる。
【００３９】図１５は、ディスプレイ１０の表面の拡大
背面図である。導電性領域１６は、ディスプレイ１０上
の画素要素を形成する小さな導電性パッドである。非導
電性領域１８は、導電性領域１６を限定する微細な無導
体網目の形を定める。非導電性領域１８は、透明導電層
１３と導電性領域１６との間に作用する電界を限定する
ために必要とされる。光変調層３０がコレステリック液
晶などの状態メモリを有する材料よりなる場合、シート
を使用し、電気書込可能シートを形成することができ
る。
背面図である。導電性領域１６は、ディスプレイ１０上
の画素要素を形成する小さな導電性パッドである。非導
電性領域１８は、導電性領域１６を限定する微細な無導
体網目の形を定める。非導電性領域１８は、透明導電層
１３と導電性領域１６との間に作用する電界を限定する
ために必要とされる。光変調層３０がコレステリック液
晶などの状態メモリを有する材料よりなる場合、シート
を使用し、電気書込可能シートを形成することができ
る。
【図１】 本発明による完全な処理前のディスプレイの
断面図である。
断面図である。
【図２】 図１の構造の処理後の断面図である。
【図３】 回路基板に接続されディスプレイを形成す
る、本発明による図２の構造の断面図である。
る、本発明による図２の構造の断面図である。
【図４】 ディスプレイの一部である図３の回路基板の
平面図である。
平面図である。
【図５】 処理後の図２のディスプレイの内部が見える
部分を含む平面図である。
部分を含む平面図である。
【図６】 非作動状態にある完成ディスプレイの平面図
である。
である。
【図７】 作動状態にあるセグメントを有するディスプ
レイの平面図である。
レイの平面図である。
【図８】 拡散するディスプレイのセグメントに入射す
る光を示す断面図である。
る光を示す断面図である。
【図９】 反射するディスプレイのセグメントに入射す
る光を示す断面図である。
る光を示す断面図である。
【図１０】 本発明によるディスプレイの製作工程を示
す図である。
す図である。
【図１１】 本発明によるディスプレイの製作工程を示
す図である。
す図である。
【図１２】 本発明によるディスプレイの製作工程を示
す図である。
す図である。
【図１３】 本発明によるディスプレイの製作工程を示
す図である。
す図である。
【図１４】 第２適用分野において使用される、図４又
は図５の完成ディスプレイの部分平面図である。
は図５の完成ディスプレイの部分平面図である。
【図１５】 図１０の完成ディスプレイの拡大図であ
る。
る。
【図１６】 パターン化された反射型ディスプレイの平
面図である。
面図である。
【図１７】 図１６のパターン化された反射型ディスプ
レイの拡大斜視図である。
レイの拡大斜視図である。
１０ ディスプレイ、１２ 基板、１３ 透明導電層、
１４ パターン化可能導電層、１６ 可視化可能導電画
像、１７ バリア層、１８ 非導電性領域、２５ 電力
領域、３０ 光変調層、４０ 回路基板、４５ 回路基
板トレース、４７ 接触子パッド、５０ 電力ピン、５
２ 接続領域、６０ 反射光、６４ 吸収光、６６ 透
過光、８０ レーザビーム、９０ 画素、９１作動状態
の画素、１００ 導電性トレース、１０７ 電気リー
ド。
１４ パターン化可能導電層、１６ 可視化可能導電画
像、１７ バリア層、１８ 非導電性領域、２５ 電力
領域、３０ 光変調層、４０ 回路基板、４５ 回路基
板トレース、４７ 接触子パッド、５０ 電力ピン、５
２ 接続領域、６０ 反射光、６４ 吸収光、６６ 透
過光、８０ レーザビーム、９０ 画素、９１作動状態
の画素、１００ 導電性トレース、１０７ 電気リー
ド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリストファー マックス コリス アメリカ合衆国 ミネソタ州 セント ポ ール グッドリッチ アベニュー 662
Claims (3)
- 【請求項１】 観察者に選択された画像を表示するディ
スプレイであって、（ａ）透明基板と、（ｂ）前記透明
基板を覆うように形成される透明導電性コーティング
と、（ｃ）前記透明導電層を覆うように形成される光変
調層と、（ｄ）前記光変調層を覆うように形成され、可
視化可能導電画像を形成するパターン化可能導電層と、
を備え、前記光変調層は２つの状態において有効であ
り、第１状態において、可視化可能導電画像を見ること
を阻止し、第２状態において、可視化可能導電画像を見
ることを可能とすることを特徴とするディスプレイ。 - 【請求項２】 観察者に画像を選択して表示することが
できるディスプレイを形成する方法であって、（ａ）透
明基板を準備する工程と、（ｂ）前記透明基板を覆って
透明導電性コーティングを形成する工程と、（ｃ）前記
透明導電性層を覆って、液晶材料を含有するポリマーバ
インダを含む光変調層を形成する工程と、（ｄ）前記光
変調層上に金属導電層を形成し、レーザ光ビームによっ
て前記金属導電層の選択された部分を除去し、可視化可
能導電画像を形成する工程であって、前記光変調層は、
前記可視化可能導電画像を見ることを阻止する第１状態
と、前記可視化可能導電画像を見ることを可能とする第
２状態において有効である可視化可能導電画像を形成す
るステップと、（ｅ）このような可視化可能導電画像の
内の選択された画像と前記透明導電層の間に電界を印加
できるように電気接続を形成し、このような可視化可能
導電画像を観察者が見られるように表示するため、可視
化可能導電画像の内の選択された画像の下にある前記光
変調層を前記第１状態から前記第２状態に変化させるス
テップと、を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項３】 観察者に選択された画像を表示するディ
スプレイであって、（ａ）透明基板と、（ｂ）前記透明
基板を覆うように形成される透明導電性コーティング
と、（ｃ）前記透明導電層を覆うように形成される光変
調層と、（ｄ）前記光変調層と導電画像を覆うように形
成される導電層と、を備え、前記光変調層は２つの状態
において有効であり、第１状態において、可視化可能導
電画像を見ることを阻止し、第２状態において、可視化
可能導電画像を見ることを可能とすることを特徴とする
ディスプレイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/146656 | 1998-09-03 | ||
| US09/146,656 US6236442B1 (en) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | Method of making liquid crystal display having patterned conductive images |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000089688A true JP2000089688A (ja) | 2000-03-31 |
Family
ID=22518376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11239605A Pending JP2000089688A (ja) | 1998-09-03 | 1999-08-26 | レ―ザパタ―ンを生成可能なコ―ティングを有する反射型シ―トディスプレイ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6236442B1 (ja) |
| EP (1) | EP0984313A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000089688A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004078221A (ja) * | 2002-08-16 | 2004-03-11 | Eastman Kodak Co | ディスプレイ |
| JP2009518402A (ja) * | 2005-12-08 | 2009-05-07 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 温度補償キラルドーパント |
| WO2019244871A1 (ja) * | 2018-06-18 | 2019-12-26 | 凸版印刷株式会社 | 調光シート、および、調光シートの製造方法 |
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| DE19835263C2 (de) * | 1998-08-04 | 2000-06-21 | Siemens Ag | Integrierte Schaltung mit durch Energieeinwirkung auftrennbaren elektrischen Verbindungstellen |
| EP1058147A3 (en) * | 1999-06-04 | 2002-04-24 | Eastman Kodak Company | Multi-layer dual-polarity light modulating sheet |
| US6394870B1 (en) * | 1999-08-24 | 2002-05-28 | Eastman Kodak Company | Forming a display having conductive image areas over a light modulating layer |
| US6323928B1 (en) * | 2000-06-26 | 2001-11-27 | Eastman Kodak Company | Method of forming a liquid crystal display with color dielectric layer |
| US20030043095A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-06 | Kia Silverbrook | Scanning electronic book |
| DE10212304C1 (de) * | 2002-03-20 | 2003-12-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von metallisierten Kunststoffformteilen und deren Verwendung |
| US6900876B2 (en) | 2003-02-13 | 2005-05-31 | Eastman Kodak Company | Process and structures for selective deposition of liquid-crystal emulsion |
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| US20050237473A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Stephenson Stanley W | Coatable conductive layer |
| US20050253987A1 (en) * | 2004-05-17 | 2005-11-17 | Eastman Kodak Company | Reflectance-matching layer for cholesteric display having dye layer and reflective conductors |
| US7333166B2 (en) * | 2004-05-21 | 2008-02-19 | Industrial Technology Research Institute | Matrix display through thermal treatment |
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| GB2419215A (en) * | 2004-10-14 | 2006-04-19 | Magink Display Technologies In | Display device |
| US7990515B2 (en) * | 2004-12-10 | 2011-08-02 | Industrial Technology Research Institute | Bistable display |
| US7583834B2 (en) * | 2005-03-04 | 2009-09-01 | Eastman Kodak Company | Laser etched fiducials in roll-roll display |
| JP6162717B2 (ja) | 2011-12-21 | 2017-07-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 銀ナノワイヤベースの透明な導電性コーティングのレーザーパターニング |
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| US5187601A (en) * | 1988-03-07 | 1993-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for making a high contrast liquid crystal display including laser scribing opaque and transparent conductive strips simultaneously |
| US5695682A (en) | 1991-05-02 | 1997-12-09 | Kent State University | Liquid crystalline light modulating device and material |
| US5463482A (en) * | 1993-10-18 | 1995-10-31 | Raychem Corporation | Liquid crystal composite with droplets of plural chiral nematic materials with different reflection bands |
| EP0699375B1 (en) * | 1994-02-22 | 1997-07-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Laser etching method |
| US6124851A (en) | 1995-07-20 | 2000-09-26 | E Ink Corporation | Electronic book with multiple page displays |
| JP3146945B2 (ja) * | 1995-09-20 | 2001-03-19 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-09-03 US US09/146,656 patent/US6236442B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-08-19 EP EP99202693A patent/EP0984313A3/en not_active Withdrawn
- 1999-08-26 JP JP11239605A patent/JP2000089688A/ja active Pending
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| WO2019244871A1 (ja) * | 2018-06-18 | 2019-12-26 | 凸版印刷株式会社 | 調光シート、および、調光シートの製造方法 |
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| US11442320B2 (en) | 2018-06-18 | 2022-09-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | Light control sheet and method of producing light control sheet |
| JP7377414B2 (ja) | 2018-06-18 | 2023-11-10 | Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 | 調光シート、および、調光シートの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6236442B1 (en) | 2001-05-22 |
| EP0984313A2 (en) | 2000-03-08 |
| EP0984313A3 (en) | 2004-03-17 |
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