JP2000082286A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2000082286A
JP2000082286A JP11169311A JP16931199A JP2000082286A JP 2000082286 A JP2000082286 A JP 2000082286A JP 11169311 A JP11169311 A JP 11169311A JP 16931199 A JP16931199 A JP 16931199A JP 2000082286 A JP2000082286 A JP 2000082286A
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circuit
transistor
operating
semiconductor integrated
mos transistor
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JP11169311A
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Japanese (ja)
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Takayuki Kawahara
尊之 河原
Yoshiki Kawajiri
良樹 川尻
Takesada Akiba
武定 秋葉
Shinji Horiguchi
真志 堀口
Takao Watabe
隆夫 渡部
Goro Kitsukawa
五郎 橘川
Yasushi Kawase
靖 川瀬
Riichi Tachibana
利一 立花
Masakazu Aoki
正和 青木
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce current consumption at a standby time by enlarging an operation voltage of a first circuit block than the operation voltage of a second circuit block and providing a current control means controlling a current in a circuit block in both the first and second circuit blocks. SOLUTION: When a switch control terminal T1 of a switch circuit is at a high level, a switch S1 is turned on, and when the T1 is at a low level, the S1 is turned off. At the standby time, the T1 is set to the low level, and the switch S1 is turned off. At this time, the leakage current of the switch S1 is set smaller than a sub-threshold current. Then, a maximum current from a high potential side source VC to a logic circuit or circuits Ci that only a small number are operated once becomes the leakage current of the switch S1. Thus, the current flowing through the circuits Ci is decided by the leakage current of the small switch S1 even when MOS transistors having a low threshold value are used to the circuits Ci for low voltage operation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高集積密度で待機
時の消費電流を低減した半導体集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a high integration density and a reduced current consumption during standby.

【0002】[0002]

【従来の技術】待機時の消費電力が極めて小さい半導体
集積回路としては、CMOS回路が周知である。入力が
ハイレベルの時は、pチャネルMOSトランジスタがオ
フで、nチャネルMOSトランジスタがオンであり、出
力の容量性負荷の放電が完了するとnチャネルMOSト
ランジスタがオフとなり、この状態では消費電力は無視
できる。入力がローレベルの時は、pチャネルMOSト
ランジスタがオンで、nチャネルMOSトランジスタが
オフであり、出力の容量性負荷の充電が完了するとpチ
ャネルMOSトランジスタがオフとなり、この状態でも
消費電力は同様に無視できる 一方、チップ内の内部回路に微細化されたMOSトラン
ジスタを使用し、かつ微細化に伴うMOSトランジスタ
の降伏電圧低下に対処するため外部電源電圧より低い内
部電源電圧をチップ内の電圧降下回路(オンチップ電圧
リミッタ)で発生し、この内部電源電圧を内部回路に供
給するようにした高集積密度で半導体集積回路は、従来
より、特開昭57−172761に記載されている。
2. Description of the Related Art A CMOS circuit is well known as a semiconductor integrated circuit that consumes very little power during standby. When the input is at a high level, the p-channel MOS transistor is off and the n-channel MOS transistor is on. When discharging of the output capacitive load is completed, the n-channel MOS transistor is turned off. In this state, power consumption is ignored. it can. When the input is at a low level, the p-channel MOS transistor is on and the n-channel MOS transistor is off. When the charging of the output capacitive load is completed, the p-channel MOS transistor is turned off. On the other hand, a miniaturized MOS transistor is used for the internal circuit in the chip, and the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage is reduced in the chip to cope with the breakdown voltage drop of the MOS transistor accompanying the miniaturization. A high-density semiconductor integrated circuit that is generated by a circuit (on-chip voltage limiter) and supplies the internal power supply voltage to the internal circuit has been described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-172761.

【0003】一方、特開昭63−140486には、電
源投入直後の内部回路の過渡電流の立上り速度を大きく
する一方、過渡電流のピーク値を抑制するため、外部電
源と内部回路との間にカレントミラー回路を接続して、
内部回路に供給する電流を制限するとともに、帰還によ
って内部回路への供給電圧の上昇を所定値でクランプす
る方式が開示されている。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-140486 discloses that while increasing the rising speed of a transient current in an internal circuit immediately after turning on a power supply, the peak value of the transient current is suppressed. Connect the current mirror circuit,
A method is disclosed in which a current supplied to an internal circuit is limited, and a rise in a voltage supplied to the internal circuit is clamped at a predetermined value by feedback.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
半導体集積回路に用いられる微細加工技術の進展は目覚
ましく、加工寸法0.1μmへと近づきつつある。チャ
ネル長が1μmのMOSトランジスタと比較すると、チ
ャネル長が0.1μm前後のMOSトランジスタはしき
い値電圧が低くなるとともにゲート・ソース間電圧がし
きい値電圧以下となってもドレイン電流は0とならな
い。このゲート・ソース間電圧がしきい値電圧以下の領
域でのリーク電流は、サブスレッショルド電流と呼ば
れ、ゲート・ソース間電圧に指数関数的に比例する。反
対に、しきい値電圧とは、ドレイン電流がゲート・ソー
ス間電圧に指数関数的に比例する領域で定義したもので
あり、例えばゲート幅が10μmの時に10nAのドレ
イン電流が流れるゲート・ソース間電圧である。微細化
にともなって生じるこのサブスレッショルド電流の増大
は集積回路の低消費電力化という要請に反するという問
題がある。特に、微細化されたMOSトランジスタを使
用した半導体集積回路の非動作状態の消費電力は、この
サブスレッショルド電流により決定され、このサブスレ
ッショルド電流を抑えることが低消費電力を達成するた
めに必要である。
However, recent advances in fine processing technology used for semiconductor integrated circuits have been remarkable, and the processing size is approaching 0.1 μm. Compared with a MOS transistor having a channel length of 1 μm, a MOS transistor having a channel length of about 0.1 μm has a lower threshold voltage and a drain current of 0 even when the gate-source voltage is lower than the threshold voltage. No. The leakage current in a region where the gate-source voltage is equal to or lower than the threshold voltage is called a sub-threshold current, and is exponentially proportional to the gate-source voltage. On the other hand, the threshold voltage is defined in a region where the drain current is exponentially proportional to the gate-source voltage. For example, when the gate width is 10 μm, a drain current of 10 nA flows between the gate and the source. Voltage. There is a problem that the increase in the subthreshold current caused by miniaturization is contrary to the demand for lower power consumption of the integrated circuit. In particular, power consumption in a non-operating state of a semiconductor integrated circuit using miniaturized MOS transistors is determined by this sub-threshold current, and it is necessary to suppress this sub-threshold current to achieve low power consumption. .

【0005】ところで、半導体メモリのワード線を駆動
するワードドライバをCMOS回路で構成することによ
り、半導体メモリの低消費電力化が実現される。しか
し、ワードドライバのCMOS回路のMOSトランジス
タを微細化すると下記の如き問題が生じる。すなわち、
ワード線の寄生容量が大きいので、ゲート幅の大きなM
OSトランジスタをワードドライバの駆動トランジスタ
に用いる必要がある。このためワードドライバのゲート
幅の総計は、DRAMチップ全体のゲート幅の総計のお
よそ半分にも達する。しかし、サブスレッショルド電流
はゲート幅に比例して増大するので、大きなゲート幅の
MOSトランジスタをワードドライバの駆動トランジス
タに用いるとワードドライバのCMOS回路の待機時の
消費電力が大きくなると言う問題が生じる。
By configuring a word driver for driving a word line of a semiconductor memory with a CMOS circuit, the power consumption of the semiconductor memory can be reduced. However, when the MOS transistors of the word driver CMOS circuit are miniaturized, the following problems occur. That is,
Since the parasitic capacitance of the word line is large, the gate width M
It is necessary to use an OS transistor as a driving transistor of a word driver. Therefore, the total gate width of the word driver reaches about half of the total gate width of the entire DRAM chip. However, since the subthreshold current increases in proportion to the gate width, the use of a MOS transistor having a large gate width as the drive transistor of the word driver causes a problem that the power consumption of the CMOS circuit of the word driver during standby increases.

【0006】すなわち、半導体メモリは一般に多数のワ
ードドライバを用いているので、CMOS回路で構成さ
れたワードドライバの駆動MOSトランジスタのサブス
レッショルド電流を抑えることが必要となる。例えば、
4MbDRAMを例にすると、リフレッシュ期間16m
sec中約15.9msecの期間(実に99%以上の
期間)は全てのワード線が非選択状態の期間であり、こ
の非選択状態ではワードドライバの駆動MOSトランジ
スタのサブスレッショルド電流が流れることとなるの
で、非選択状態での消費電力は、ワードドライバで微細
化された駆動MOSトランジスタのサブスレッショルド
電流によって決定される。このような問題は、特に、電
池動作の半導体集積回路の場合に深刻な問題となる。
That is, since a semiconductor memory generally uses a large number of word drivers, it is necessary to suppress the subthreshold current of a driving MOS transistor of a word driver constituted by a CMOS circuit. For example,
Taking a 4Mb DRAM as an example, a refresh period of 16 m
During 1sec, a period of about 15.9 msec (a period of 99% or more) is a period in which all the word lines are in a non-selected state. In this non-selected state, a subthreshold current of the driving MOS transistor of the word driver flows. Therefore, the power consumption in the non-selected state is determined by the subthreshold current of the driving MOS transistor miniaturized by the word driver. Such a problem is particularly serious in the case of a battery-operated semiconductor integrated circuit.

【0007】一方、特開昭57−172761に開示さ
れた電圧降下回路の技術を上記のDRAMの如き半導体
メモリに適用したとすると、サブスレッショルド電流の
大きいMOSトランジスタを含む内部回路の内部電源電
圧はオンチップ電圧リミッタの出力から供給される。し
かし、この場合に、オンチップ電圧リミッタはその出力
電流に関しては電流制限の機能を有していないので、上
記で問題とされたサブスレッショルド電流を低減するこ
とはできない。
On the other hand, if the technique of the voltage dropping circuit disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-172761 is applied to a semiconductor memory such as the above-mentioned DRAM, the internal power supply voltage of an internal circuit including a MOS transistor having a large subthreshold current becomes Supplied from the output of the on-chip voltage limiter. However, in this case, since the on-chip voltage limiter does not have a current limiting function with respect to its output current, the above-mentioned problem of the subthreshold current cannot be reduced.

【0008】一方、特開昭63−140486に開示さ
れたカレントミラー回路の技術を上記のDRAMの如き
半導体メモリに適用したとすると、サブスレッショルド
電流の大きいMOSトランジスタを含む内部回路の内部
電源電圧と内部電源電流とはカレントミラー回路の出力
トランジスタから供給される。しかし、この場合に、カ
レントミラー回路は内部回路の過渡電流のピーク値を所
定値以下に制限すると言う電流制限の機能を有するもの
の、この所定値に対応するサブスレッショルド電流は上
述のサブスレッショルド電流よりはるかに大きな値であ
り、やはり、上記で問題とされたサブスレッショルド電
流を低減することはできない。
On the other hand, if the technique of the current mirror circuit disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-140486 is applied to a semiconductor memory such as the above-mentioned DRAM, the internal power supply voltage of an internal circuit including a MOS transistor having a large sub-threshold current is reduced. The internal power supply current is supplied from the output transistor of the current mirror circuit. However, in this case, although the current mirror circuit has a current limiting function of limiting the peak value of the transient current of the internal circuit to a predetermined value or less, the sub-threshold current corresponding to this predetermined value is smaller than the above-described sub-threshold current. This is a much larger value, and again cannot reduce the subthreshold current which has been considered above.

【0009】従って、本発明の目的は、微細化されたC
MOS回路を使用しても、微細化に伴う大きなサブスレ
ッショルド電流によって待機時の消費電力が決定されな
い半導体集積回路を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a finely divided C
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit in which power consumption during standby is not determined by a large subthreshold current accompanying miniaturization even when a MOS circuit is used.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するに
は、スイッチングMOSトランジスタを、複数のCMO
S回路に共通の第1の電源端子と外部電源端子或いはオ
ンチップ電圧リミッタの出力である内部電源端子との間
に具備し、スイッチングMOSトランジスタのゲート−
ソース間にしきい値電圧の絶対値よりも小さい電圧振幅
の制御信号が印加され、かつ複数のCMOS回路の第1
の電源端子と第2の電源端子が短絡された場合に、外部
電源端子或いはオンチップ電圧リミッタの出力である内
部電源端子から上記スイッチングMOSトランジスタの
ソース−ドレイン経路を通って流れる第1のサブスレッ
ショルド電流が、複数のCMOS回路に含まれるそのソ
ースが電気的に第1の電源端子に接続されたスイッチン
グMOSトランジスタと同導電型チャネルの複数のMO
Sトランジスタのゲート−ソース間にそのしきい値電圧
の絶対値よりも小さい電圧振幅の信号が印加され、かつ
スイッチングMOSトランジスタのソース−ドレイン間
が短絡された場合に、外部電源端子或いはオンチップ電
圧リミッタの出力である内部電源端子から複数のCMO
S回路のMOSトランジスタのソース−ドレイン経路を
通って流れる第2のサブスレッショルド電流よりも小さ
くなるようにスイッチングMOSトランジスタのデバイ
スパラメータを設定する。
In order to achieve the above object, a switching MOS transistor is provided with a plurality of CMOS transistors.
The power supply is provided between a first power supply terminal common to the S circuit and an external power supply terminal or an internal power supply terminal which is an output of an on-chip voltage limiter, and has a
A control signal having a voltage amplitude smaller than the absolute value of the threshold voltage is applied between the sources, and the first of the plurality of CMOS circuits is
A first sub-threshold flowing from the external power supply terminal or the internal power supply terminal which is the output of the on-chip voltage limiter through the source-drain path of the switching MOS transistor when the power supply terminal and the second power supply terminal are short-circuited. The current is supplied to a plurality of CMOS circuits of the same conductivity type as a switching MOS transistor whose source is electrically connected to the first power supply terminal and which is included in a plurality of CMOS circuits.
When a signal having a voltage amplitude smaller than the absolute value of the threshold voltage is applied between the gate and source of the S transistor and the source and drain of the switching MOS transistor are short-circuited, an external power supply terminal or an on-chip voltage Multiple CMOs from the internal power supply terminal that is the output of the limiter
The device parameters of the switching MOS transistor are set to be smaller than the second subthreshold current flowing through the source-drain path of the MOS transistor of the S circuit.

【0011】待機状態では、オフ状態の複数のCMOS
回路の電流はオフ状態のスイッチングMOSトランジス
タのサブスレッショルド電流に制限される。
In a standby state, a plurality of CMOSs in an off state
The current of the circuit is limited to the subthreshold current of the switching MOS transistor in the off state.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明を実施例を用いて具体的に
述べる。なお、特に断らない限り端子名を表す記号は同
時に配線名,信号名も兼ね電源の場合はその電圧値も兼
ねるものとする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described with reference to embodiments. Unless otherwise specified, a symbol representing a terminal name also serves as a wiring name and a signal name, and in the case of a power supply, also serves as a voltage value.

【0013】図1は、本発明の第1の実施例を示す図で
ある。Ci(i=1〜n)はCMOSトランジスタを用
いて構成した論理回路又はドライバであるが、出力端子
Oiの駆動に注目しここでは単純なCMOSインバータ
を例にしている。Iiはその入力端子である。VSとV
Cは外部電源もしくは内部降圧回路又は内部昇圧回路等
の内部電圧変換回路で発生する内部電源からの電源線で
ある。外部電源電圧は、例えば1.5〜3.6V程度で
ある。VCは例えば1.5〜2.5Vに設定される。V
Sは通常0Vである。このCiとVCとの間にスイッチ
回路S1を挿入する。T1はこのスイッチ回路の制御端
子である。スイッチ回路S1には例えばMOSトランジ
スタやバイポーラトランジスタなどを用いる。N1はC
MOSインバータ群の第1の電源端子である。N2はC
MOSインバータ群の第2の電源端子である。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. Ci (i = 1 to n) is a logic circuit or a driver constituted by using CMOS transistors, and a simple CMOS inverter is taken as an example here, focusing on the driving of the output terminal Oi. Ii is its input terminal. VS and V
C is a power supply line from an external power supply or an internal power supply generated by an internal voltage conversion circuit such as an internal step-down circuit or an internal booster circuit. The external power supply voltage is, for example, about 1.5 to 3.6V. VC is set to, for example, 1.5 to 2.5V. V
S is usually 0V. The switch circuit S1 is inserted between Ci and VC. T1 is a control terminal of this switch circuit. For example, a MOS transistor or a bipolar transistor is used for the switch circuit S1. N1 is C
This is a first power supply terminal of the MOS inverter group. N2 is C
This is a second power supply terminal of the MOS inverter group.

【0014】この回路の動作を図2を用いて説明する。
ここでは、動作時には1つの回路(ここではC1)のみ
が動作する場合を考える。すなわち、スイッチS1が動
作時に供給する電流はCiのうちの1回路分(ここでは
C1での消費電流)のみで良い。また、図2では、T1
が高レベルの時S1はオンし、T1が低レベルの時にS
1はオフする場合としている。
The operation of this circuit will be described with reference to FIG.
Here, a case is considered where only one circuit (here, C1) operates during operation. In other words, the current supplied by the switch S1 during operation is only one circuit of Ci (current consumption in C1). In FIG. 2, T1
Is high level, S1 is turned on, and when T1 is low level, S1 is turned on.
1 is the case of turning off.

【0015】最初の待機時は、Ciの入力Iiはすべて
高レベルVCで、出力Oiはすべて低レベルVSであ
る。この時、pチャネルMOSトランジスタは通常はオ
フ状態であり、nチャネルMOSトランジスタは通常は
オン状態である。しかし、微細化によってオフ状態のサ
ブスレッショルド電流が問題となる。すなわち、ここで
スイッチS1が無い場合に問題になるサブスレッショル
ド電流は、出力Oiが低レベルの時、オフのpチャネル
MOSトランジスタとオンのnチャネルMOSトランジ
スタを通してVCからVSに向かって流れる電流であ
る。本実施例では待機時にT1を低レベルに設定し、ス
イッチS1をオフさせる。しかし、スイッチS1をオフ
しても、スイッチS1のリーク電流を無視できない。し
かし、スイッチS1のリーク電流が上述のサブスレッシ
ョルド電流より小さく設定されている。従って、この
時、VCからCiへの最大電流はスイッチS1のリーク
電流である。これによって、低電圧動作のためにCiに
低いしきい値電圧を持つMOSトランジスタを用いたと
しても、Ciに流れる電流はサブスレッショルド電流で
決定されるのではなく小さなスイッチS1のリーク電流
によって決定される。よって待機時の消費電流も小さ
い。
During the first standby, all inputs Ii of Ci are at high level VC and all outputs Oi are at low level VS. At this time, the p-channel MOS transistor is normally off, and the n-channel MOS transistor is normally on. However, a subthreshold current in an off state becomes a problem due to miniaturization. That is, the sub-threshold current which becomes a problem when the switch S1 is not provided is a current flowing from VC to VS through the off p-channel MOS transistor and the on n-channel MOS transistor when the output Oi is at a low level. . In the present embodiment, T1 is set to a low level during standby, and the switch S1 is turned off. However, even if the switch S1 is turned off, the leak current of the switch S1 cannot be ignored. However, the leak current of the switch S1 is set smaller than the above-described sub-threshold current. Therefore, at this time, the maximum current from VC to Ci is the leak current of the switch S1. Thus, even if a MOS transistor having a low threshold voltage is used for Ci for low-voltage operation, the current flowing through Ci is not determined by the subthreshold current but by the leak current of the small switch S1. You. Therefore, current consumption during standby is small.

【0016】次に、動作時となるとT1が高レベルとな
りS1がオンし、S1がC1の出力O1を充電するのに
必要な電流を供給する状態となる。ここで、入力I1が
低レベルVSへと変化し、出力O1は電源VCからの電
流によって電圧VCまで上昇する。その後入、力I1は
高レベルVCとなり出力O1は低レベルVSとなる。以
上の動作が完了すると再び待機状態でT1は低レベルと
なり、S1はオフする。
Next, at the time of operation, T1 becomes high level, S1 is turned on, and S1 is in a state of supplying a current necessary for charging the output O1 of C1. Here, the input I1 changes to the low level VS, and the output O1 rises to the voltage VC by the current from the power supply VC. After that, the input I1 becomes the high level VC and the output O1 becomes the low level VS. When the above operation is completed, T1 goes low again in the standby state, and S1 turns off.

【0017】尚、このスイッチS1はpチャネルMOS
トランジスタまたはpnpバイポーラトランジスタで形
成できる。
The switch S1 is a p-channel MOS
It can be formed by a transistor or a pnp bipolar transistor.

【0018】図3は本発明の第2の実施例を示す図であ
る。図1と異なる点は、VCとCiとの間にスイッチS
1を設ける代わりに、VSとCiとの間にスイッチS2
を設けた点と、第1の電源端子N1と第2の電源端子N
2が逆になった点である。その他は図1と同じである。
この回路の動作を図4に示している。
FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. The difference from FIG. 1 is that a switch S is provided between VC and Ci.
1 instead of a switch S2 between VS and Ci.
And the first power supply terminal N1 and the second power supply terminal N
2 is the opposite. Others are the same as FIG.
The operation of this circuit is shown in FIG.

【0019】この図3の回路では、スイッチS2のリー
ク電流が入力Iiに低電位が印加された回路Ciのnチ
ャネルMOSトランジスタのサブスレッショルド電流よ
り小さく設定されている。従って、この時、CiからV
Sへの最大電流はスイッチS2のリーク電流である。こ
れによって、低電圧動作のためにCiに低いしきい値電
圧を持つMOSトランジスタを用いたとしても、Ciに
流れる電流はサブスレッショルド電流で決定されるので
はなく小さなスイッチS2のリーク電流によって決定さ
れる。よって待機時の消費電流も小さい。
In the circuit of FIG. 3, the leak current of the switch S2 is set smaller than the subthreshold current of the n-channel MOS transistor of the circuit Ci in which a low potential is applied to the input Ii. Therefore, at this time, from Ci to V
The maximum current to S is the leakage current of switch S2. Thus, even if a MOS transistor having a low threshold voltage is used for Ci for low-voltage operation, the current flowing through Ci is not determined by the subthreshold current but by the leak current of the small switch S2. You. Therefore, current consumption during standby is small.

【0020】尚、このスイッチS2はnチャネルMOS
トランジスタまたはnpnバイポーラトランジスタで形
成できる。
The switch S2 is an n-channel MOS
It can be formed by a transistor or an npn bipolar transistor.

【0021】図5は、本発明の第3の実施例を示す図で
ある。本実施例では、図1の第1の実施例のスイッチS
1を具体的にpチャネルMOSトランジスタで構成して
いる。このpチャネルMOSトランジスタS1の電流駆
動能力は、低電位の入力Iiに応答して出力Oiを充電
する回路Ciの数を考慮して設定されている。一方、待
機時の消費電流を低減するには、上述のようにスイッチ
S1のリーク電流を小さな値にすることが必要となる。
このために、スイッチS1のpチャネルMOSトランジ
スタのデバイスパラメータを設定する必要がある。例え
ば、スイッチS1のpチャネルMOSトランジスタのゲ
ート幅は、回路C1、C2…Cnの全pチャネルMOS
トランジスタのゲート幅の総和よりも小さく、1つの回
路CiのpチャネルMOSトランジスタのゲート幅より
も大きく設定されている。リーク電流を小さくするため
には、スイッチS1のpチャネルMOSトランジスタの
しきい値電圧を大きくするか、ゲート長を大きくする
か、またはゲート絶縁膜厚を大きくすることでも可能で
ある。これによって、待機時の消費電流を小さく抑える
ことができる。
FIG. 5 is a diagram showing a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the switch S of the first embodiment shown in FIG.
1 is specifically configured by a p-channel MOS transistor. The current driving capability of the p-channel MOS transistor S1 is set in consideration of the number of circuits Ci that charge the output Oi in response to the low-potential input Ii. On the other hand, in order to reduce the current consumption during standby, it is necessary to reduce the leak current of the switch S1 as described above.
Therefore, it is necessary to set device parameters of the p-channel MOS transistor of the switch S1. For example, the gate width of the p-channel MOS transistor of the switch S1 is equal to the total p-channel MOS of the circuits C1, C2,.
The gate width is set smaller than the sum of the gate widths of the transistors and larger than the gate width of the p-channel MOS transistor of one circuit Ci. In order to reduce the leak current, it is possible to increase the threshold voltage of the p-channel MOS transistor of the switch S1, increase the gate length, or increase the gate insulating film thickness. As a result, current consumption during standby can be reduced.

【0022】この回路の動作を図6を用いて説明する。
尚、動作時には1つの回路C1のみ高電位を出力するも
のである。
The operation of this circuit will be described with reference to FIG.
In operation, only one circuit C1 outputs a high potential.

【0023】まず、最初待機時において、先の実施例と
同様に、Ciの入力Iiはすべて高レベルVCとし、出
力Oiはすべて低電位VSである。また、C1,C2…
Cnのサブスレッショルド電流の総和よりもスイッチ素
子S1で流れるサブスレッショルド電流が小さいので、
共通電源端子Nの電位は徐々に低下する。すると例えば
回路C1のpチャネルMOSトランジスタを考えてみる
と、そのゲート電圧はVCであるが、ソース電圧はVC
より低くなる。すなわちpチャネルMOSトランジスタ
はさらに強いオフ状態となるので、サブスレッショルド
電流は大きく減少する。サブスレッショルド電流のゲー
ト・ソース間電圧依存性はおよそDECADE/100
mV程度である。従って、0.2Vも下がればサブスレ
ッショルド電流は1/100となってしまうのである。
従って、待機時の期間がある程度長くなると、端子Nの
電位低下によって消費電流は無視できるほど小さくでき
る。
First, in the first standby mode, all inputs Ii of Ci are at high level VC, and all outputs Oi are at low potential VS, as in the previous embodiment. Also, C1, C2 ...
Since the sub-threshold current flowing through the switch element S1 is smaller than the sum of the sub-threshold currents of Cn,
The potential of the common power supply terminal N gradually decreases. Then, for example, considering the p-channel MOS transistor of the circuit C1, the gate voltage is VC and the source voltage is VC
Lower. That is, since the p-channel MOS transistor is turned off more strongly, the subthreshold current is greatly reduced. The dependency of the subthreshold current on the gate-source voltage is about DECADE / 100
It is about mV. Therefore, if the voltage drops by 0.2 V, the subthreshold current becomes 1/100.
Therefore, when the standby period is extended to some extent, the current consumption can be reduced to a negligible level due to the potential drop of the terminal N.

【0024】動作時にpチャネルMOSトランジスタS
1をオンとするため、T1が低レベルVSとなることが
先の実施例との相違点であり、その他は先の実施例と同
様である。なお、このスイッチS1をpnpバイポーラ
トランジスタで構成することも可能である。
During operation, p-channel MOS transistor S
The difference from the previous embodiment is that T1 becomes the low level VS because 1 is turned on, and the rest is the same as the previous embodiment. It is to be noted that the switch S1 can be formed by a pnp bipolar transistor.

【0025】バイポーラトランジスタで構成する場合に
は、第1と第2の電源端子を持つ複数のCMOS回路の
少なくとも一方の電源端子と、外部電源端子或いはオン
チップ電圧リミッタの出力である内部電源端子との間に
npnまたはpnpのスイッチングバイポーラトランジ
スタを設ける。そして、この複数のCMOS回路の第1
と第2の電源端子をショートした時のスイッチングバイ
ポーラトランジスタがオフ状態でのリーク電流を、反対
にスイッチングバイポーラトランジスタをショートした
場合の(ショートしない)複数のCMOS回路がオフ状
態でのサブスレッショルド電流よりも小さくなるよう
に、スイッチングバイポーラトランジスタのデバイスパ
ラメータを設定する。デバイスパラメータとは例えばエ
ミッタ幅である。
In the case of using a bipolar transistor, at least one power supply terminal of a plurality of CMOS circuits having first and second power supply terminals and an external power supply terminal or an internal power supply terminal which is an output of an on-chip voltage limiter are provided. An npn or pnp switching bipolar transistor is provided between them. The first of the plurality of CMOS circuits
And the leakage current when the switching bipolar transistor is off when the second power supply terminal is short-circuited, and the sub-threshold current when the plurality of CMOS circuits when the switching bipolar transistor is short-circuited (not short-circuited) when the switching bipolar transistor is short-circuited. The device parameters of the switching bipolar transistor are set so as to reduce The device parameter is, for example, an emitter width.

【0026】図7は、本発明の第4の実施例を示す図で
ある。本実施例では図5で示した第3の実施例のスイッ
チS1と並列に電源VCとCiとの間に第1の電源端子
N1のポテンシャルをVCとVSとの間の所定のポテン
シャルに維持する電圧クランプ回路Lを有することを特
徴とする。
FIG. 7 shows a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, the potential of the first power supply terminal N1 is maintained at a predetermined potential between VC and VS between the power supplies VC and Ci in parallel with the switch S1 of the third embodiment shown in FIG. It is characterized by having a voltage clamp circuit L.

【0027】例えば、この記電圧クランプ回路Lは、ド
レインがVCに設定され、そのゲートが所定の電位に設
定され、そのソースが端子N1に接続されたソースフォ
ロワ動作のnチャネルMOSトランジスタで構成され
る。本実施例では、ゲートとドレインとが短絡されたダ
イオード接続のnチャネルMOSトランジスタによって
この電圧クランプ回路が実現されている。
For example, the voltage clamp circuit L is constituted by a source follower-operating n-channel MOS transistor having a drain set to VC, a gate set to a predetermined potential, and a source connected to the terminal N1. You. In this embodiment, this voltage clamp circuit is realized by a diode-connected n-channel MOS transistor whose gate and drain are short-circuited.

【0028】この回路の特長と動作を図8を用いて説明
する。最初の状態は図5及び図6で説明した場合と同じ
である。この時、Ciの共通電源端子N1の電位は図8
に示すようにと電圧クランプ回路Lの有る場合(実線)
と無い場合(破線)では待機時において異なる。極めて
長い待機時が続くと、電圧クランプ回路Lが無い場合は
Ciで流れるサブスレッショルド電流とその他のリーク
電流によって端子N1の電位は最悪の場合VSまで低下
する。このため、待機時から動作時に移行するには、ま
ず共通電源端子N1を充電しなければならないので、こ
の充電完了まで動作状態への移行に遅延が生じる。これ
に対して、電圧クランプ回路Lを構成しているnチャネ
ルMOSトランジスタのしきい値電圧をVTとすると、
電圧クランプ回路Lがある場合には、共通電源端子Nの
電位はVC−VTまでしか低下しない。従って、動作状
態への移行が短時間で終了する。尚、入力にVCが印加
された待機時のCiのサブスレッショルド電流が先の実
施例と同様に無視できる程度に小さくなるように、N1
のクランプ電位VC−VTのレベルが設定されている。
例えば、VTを0.2Vとし、サブスレッショルド電流
のゲート・ソース間電圧依存性をDECADE/100
mVとするとサブスレッショルド電流を1/100以下
にできる。
The features and operation of this circuit will be described with reference to FIG. The initial state is the same as the case described with reference to FIGS. At this time, the potential of the common power supply terminal N1 of Ci is
As shown in the figure, when there is a voltage clamp circuit L (solid line)
When there is no (dashed line), it is different during standby. If the standby time is extremely long, the potential of the terminal N1 drops to VS in the worst case due to the subthreshold current flowing through Ci and other leak currents when the voltage clamp circuit L is not provided. For this reason, in order to shift from standby to operation, the common power supply terminal N1 must first be charged, so that the shift to the operation state is delayed until the charging is completed. On the other hand, when the threshold voltage of the n-channel MOS transistor constituting the voltage clamp circuit L is VT,
When there is a voltage clamp circuit L, the potential of the common power supply terminal N decreases only to VC-VT. Therefore, the transition to the operation state is completed in a short time. Note that N1 is set so that the sub-threshold current of Ci at the standby time when VC is applied to the input is negligibly small as in the previous embodiment.
Of the clamp potential VC-VT is set.
For example, when VT is set to 0.2 V, the dependence of the sub-threshold current on the gate-source voltage is DECADE / 100.
With mV, the subthreshold current can be reduced to 1/100 or less.

【0029】本発明は、多数の同種のCMOS回路を含
む半導体集積回路が待機状態(電源電圧が実質的に供給
されない状態で、出力から有効データが出力することを
保証できない状態)となる動作モードを有する場合、こ
の待機状態の消費電流を低減するのに好適である。
The present invention provides an operation mode in which a semiconductor integrated circuit including many CMOS circuits of the same type enters a standby state (a state in which output of valid data cannot be guaranteed from an output in a state in which power supply voltage is not substantially supplied). Is suitable for reducing the current consumption in the standby state.

【0030】半導体メモリ、例えば、ダイナミック形ラ
ンダムアクセスメモリ(DRAM)、スタティック形ラ
ンダムアクセスメモリ(SRAM)、或いはEEPRO
Mのような不揮発性メモリはワードデコーダ、ワードド
ライバ、Y系デコーダ、Y系ドライバを有する。従っ
て、出力から有効データが出力することを保証できない
半導体メモリの待機状態で、このようなデコーダやドラ
イバの消費電流を大きく削減すれば、長時間の電池動作
を保証することができる。
A semiconductor memory, for example, a dynamic random access memory (DRAM), a static random access memory (SRAM), or an EEPRO
A non-volatile memory such as M has a word decoder, a word driver, a Y-system decoder, and a Y-system driver. Therefore, if the current consumption of such a decoder or driver is greatly reduced in a standby state of the semiconductor memory in which it is not possible to guarantee that valid data is output from the output, long-term battery operation can be guaranteed.

【0031】本発明のCMOS回路をこのようなデコー
ダやドライバに適用することにより、消費電流が大きく
削減され、長時間の電池動作を保証することができる。
By applying the CMOS circuit of the present invention to such a decoder or driver, current consumption is greatly reduced, and long-term battery operation can be guaranteed.

【0032】図9は本発明をダイナミック形ランダムア
クセスメモリのワードドライバ・デコーダに適用した例
を示す図である。WD1〜WD8はワードドライバであ
り図1のCiに相当し、これに電源VCHから電流を供
給するスイッチがS11である。またXD1はデコーダ
でありこれもまた図1のCiに相当し、これに電源VC
Lから電流を供給するスイッチがS12である。ワード
ドライバWD1〜WD8用の電源電圧VCHはメモリセ
ル(図示せず)の蓄積電圧を充分に取るために必要な高
い電圧に設定される。例えば、メモリセルの蓄積電圧を
1.5Vとすると、VCHは2.5Vにする。デコーダ
XD1用の電源電圧VCLはメモリセルを直接駆動する
必要がないため、消費電流を下げかつスピードがあまり
劣化しないようなできるだけ低い電圧に設定される。例
えば、1.5Vにする。このためVCHはVCLより高
く設定される。VCHは例えば外部電源電圧を昇圧する
ことによっても得られる。WD1〜WD8とXD1とで
回路ブロックXB1を構成し、このような回路ブロック
がXB1〜XBnとn個ある場合を示している。W11
〜Wn8はワード線である。WD1においてpMOSの
MW1とnMOSのMW2がワード線W11を駆動する
CMOSインバータである。また、XDPHはプリチャ
ージ信号である。このWD1の基本的な動作は特開昭6
2−178013に示すようにnMOS MS1がオフ
の状態でXDPHでPMOSMP1をオンさせて端子N
3をVCHにプリチャージしCMOSインバータの出力
であるW11を低レベルVSにしておき、この後nMO
S MS1を選択的にオンさせてN3の電位を低下させ
てCMOSインバータを反転させるというものである。
pMOS MF1は誤動作防止用にCMOSインバータ
の出力から入力へ弱い帰還をかけるものである。MS1
の制御はXmと後述するデコーダの出力N2とで行な
う。従来このようなワードドライバにおいてpMOS
MW1は他のワードドライバと共に電源VCHに直接接
続していた。このMW1は一般にワード線の負荷が大き
いので、ゲート幅の大きいものを用いる。このため多数
あるワードドライバ全体でのゲート幅の総計はチップ全
体の論理回路のゲート幅の総計の大半を占めてしまう。
従来はこのような大きなゲート幅分のMOSが電源VC
Hに接続されていた。このため加工技術の微細化に伴う
MOSのソース・ドレイン間耐圧の低下にあわせて電源
電圧を下げ、この電源電圧下で高速動作を維持するため
にしきい値電圧を下げようとすると、サブスレッショル
ド電流が増加してしまうという問題を有していた。これ
は待機時電流の増加となり低電圧化により電池駆動がで
きても、消費電流の点から障害となる。本発明では、ワ
ードドライバの電源VCHと多数のワードドライバとの
間にスイッチS11を設ける。このスイッチS11の出
力VCHLに多数のワードドライバを接続している。こ
のスイッチS11はpMOSで構成しており、このpM
OSのゲート幅は一度に動作するワードドライバに電流
を供給できれば良いため小さくて済むのである。このp
MOSをVCHに接続しているためサブスレッショルド
電流も小さくて済むことになる。これによって、従来の
課題は解決される。例えば、MW1のゲート幅を20μ
mとし、ワードドライバ512ヶ毎に1ヶのS11を設
けるとすると、このS11内のT11で制御されるpM
OSのゲート幅は200μmもあれば良い。また、この
pMOSのしきい値電圧はMW1よりも絶対値で例えば
0.1V高く設定する。これによりサブスレッショルド
電流を3ケタ低減することができる。
FIG. 9 is a diagram showing an example in which the present invention is applied to a word driver / decoder of a dynamic random access memory. WD1 to WD8 are word drivers corresponding to Ci in FIG. 1, and a switch for supplying a current from the power supply VCH to this is S11. XD1 is a decoder, which also corresponds to Ci in FIG.
The switch that supplies current from L is S12. The power supply voltage VCH for the word drivers WD1 to WD8 is set to a high voltage necessary for sufficiently obtaining a storage voltage of a memory cell (not shown). For example, if the storage voltage of the memory cell is 1.5V, VCH is set to 2.5V. Since the power supply voltage VCL for the decoder XD1 does not need to directly drive the memory cells, the power supply voltage VCL is set to a voltage as low as possible so that current consumption is reduced and speed is not significantly degraded. For example, it is set to 1.5V. Therefore, VCH is set higher than VCL. VCH can also be obtained, for example, by boosting the external power supply voltage. A circuit block XB1 is composed of WD1 to WD8 and XD1, and there is shown a case where there are n such circuit blocks XB1 to XBn. W11
To Wn8 are word lines. In WD1, the pMOS MW1 and the nMOS MW2 are CMOS inverters that drive the word line W11. XDPH is a precharge signal. The basic operation of this WD1 is disclosed in
As shown in 2-178013, while the nMOS MS1 is off, the PMOSMP1 is turned on by the XDPH and the terminal N
3 is precharged to VCH and the output of the CMOS inverter, W11, is set to low level VS.
That is, SMS1 is selectively turned on to lower the potential of N3 to invert the CMOS inverter.
The pMOS MF1 applies weak feedback from the output of the CMOS inverter to the input to prevent malfunction. MS1
Is controlled by Xm and an output N2 of a decoder described later. Conventionally, in such a word driver, pMOS
MW1 was directly connected to the power supply VCH together with other word drivers. Since the MW1 generally has a large load on the word line, a MW1 having a large gate width is used. For this reason, the total gate width of a large number of word drivers occupies most of the total gate width of the logic circuits of the entire chip.
Conventionally, a MOS having such a large gate width has a power supply VC.
H was connected. For this reason, the power supply voltage is lowered in accordance with the reduction in the withstand voltage between the source and drain of the MOS due to the miniaturization of the processing technology, and if the threshold voltage is lowered to maintain the high-speed operation under this power supply voltage, the sub-threshold current is reduced. However, there is a problem in that the number increases. This results in an increase in standby current, and even if the battery can be driven by lowering the voltage, this is an obstacle in terms of current consumption. In the present invention, a switch S11 is provided between the word driver power supply VCH and a number of word drivers. Many word drivers are connected to the output VCHL of the switch S11. The switch S11 is formed of a pMOS, and the pM
The gate width of the OS need only be small as long as it can supply current to the word driver that operates at a time. This p
Since the MOS is connected to VCH, the sub-threshold current can be reduced. Thereby, the conventional problem is solved. For example, the gate width of MW1 is set to 20 μm.
m, and if one S11 is provided for every 512 word drivers, pM controlled by T11 in this S11
The gate width of the OS may be as large as 200 μm. The threshold voltage of the pMOS is set to be higher than MW1 by, for example, 0.1 V in absolute value. Thus, the subthreshold current can be reduced by three digits.

【0033】デコーダXD1の構成も同様である。ワー
ドドライバと異なる点はワードドライバのMS1の代わ
りに2段直列のnMOS MS21、MS22を配置し
ている点のみである。MD1,MD2がデコーダの出力
端子N2を駆動するCMOSインバータであり、MP2
はプリチャージ用のPMOSであり、XDPはプリチャ
ージ信号であり、MF2はCMOSインバータの出力か
ら入力へ弱い帰還をかけているpMOSである。MS2
1とMS22の制御はXiとXjとXkで行なう。従来
このようなデコーダにおいてもMD1は電源VCLに直
接接続されていた。このためVCLに多数のデコーダの
MOSが接続されることになり、加工技術の微細化が進
み電源電圧の低下にあわせてしきい値電圧を小さくする
と大きなサブスレッショルド電流が流れることになって
しまう。本発明を用いて、電源と多数のデコーダとの間
にスイッチS12を設けてやり、この出力VCLLとデ
コーダを接続する。こうすれば、このスイッチを構成す
るpMOSのゲート幅は動作する少数のデコーダに電流
を供給できれば良いので小さくて済む。このpMOSを
VCLに接続するため、サブスレッショルド電流も小さ
くできる。
The same applies to the configuration of the decoder XD1. The only difference from the word driver is that two-stage series nMOSs MS21 and MS22 are arranged in place of the word driver MS1. MD1 and MD2 are CMOS inverters that drive the output terminal N2 of the decoder.
Is a PMOS for precharge, XDP is a precharge signal, and MF2 is a pMOS that applies weak feedback from the output of the CMOS inverter to the input. MS2
1 and MS22 are controlled by Xi, Xj and Xk. Conventionally, even in such a decoder, the MD1 is directly connected to the power supply VCL. For this reason, a large number of MOSs of decoders are connected to the VCL, and a fine sub-threshold current will flow if the threshold voltage is reduced in accordance with a reduction in the power supply voltage as the processing technology becomes finer. Using the present invention, a switch S12 is provided between a power supply and a number of decoders, and this output VCLL is connected to the decoder. In this case, the gate width of the pMOS constituting this switch can be small because it is sufficient to supply a current to a small number of operating decoders. Since this pMOS is connected to VCL, the subthreshold current can be reduced.

【0034】次に、図10を用いてこの回路の動作を説
明する。/RASは図9には示していないがチップに印
加され、このワードドライバ・デコーダ群を動作させる
か否かを制御する信号である。この信号とやはりチップ
外部から印加するどのワード線を選択するかを指定する
いわゆるアドレス信号から、図9には示していないチッ
プ内の回路によって図9の回路を動作させるのに必要な
信号を発生する。最初、/RASは高レベルでありチッ
プは待機状態となっている。この時、Xiは高レベルV
CLであり、Xj及びXkは低レベルVSであるためM
S21及びMS22はオフしデコーダは非選択状態とな
っている。更にXDPは低レベルVSであるためpMO
S MP2はオンしデコーダのCMOSインバータの入
力N1はVCLにプリチャージされ、このため、デコー
ダの出力N2は低レベルVSとなっている。一方ワード
ドライバにおいてXmは高レベルVCLであり、又N2
は前述の通り低レベルVSであるのでnMOS MS1
はオフしている。また、XDPHは低レベルVSである
ためpMOS MP1はオンしN3は高レベルVCHに
プリチャージされており、よってワード線W11は低レ
ベルとなっている。他の、ワードドライバ・デコーダに
おいても同様であり全ワード線が低レベルVSとなって
いる。次に、動作状態となると/RASが低レベルとな
り、プリチャージ信号XDPは高レベルVCL、XDP
Hは高レベルVCHとなる。T11及びT12も低レベ
ルVSとなりスイッチS11及びS12をオンさせる。
さらに、Xi及びXmが低レベルVSとなりXj及びX
kが高レベルVCLとなる。これによって、M21及び
M22がオンするためにN1は低レベルVSまでXiに
向けて放電される。このため、N2が高レベルVCLと
なり、Xmが低レベルVSとなっているためMS1がオ
ンし、N3は低レベルVSまでXiに向けて放電され
る。これによって、W11が高レベルとなり、これと接
続されているメモリセルが選択されることになる。この
後、/RASが再び高レベルへ変化すると、Xi,X
j,Xk,Xmは待機時の状態に戻り、またXDP及び
XDPHも最初の状態に戻るためワードドライバ・デコ
ーダは非選択状態となり次の動作のためにプリチャージ
されることになる。なお、図9はワードドライバ・デコ
ーダの場合を示しているが、これはYドライバ・デコー
ダにも適用できる。この場合は、メモリセルを直接駆動
する必要がないため、一般に図9におけるVCHはVC
Lと同じ電位とすれば良い。
Next, the operation of this circuit will be described with reference to FIG. Although not shown in FIG. 9, / RAS is a signal which is applied to the chip and controls whether or not to operate the word driver / decoder group. A signal necessary for operating the circuit of FIG. 9 by a circuit in the chip not shown in FIG. 9 is generated from this signal and a so-called address signal for designating which word line to be applied from the outside of the chip. I do. Initially, / RAS is high and the chip is on standby. At this time, Xi is high level V
CL and Xj and Xk are low level VS, so that M
S21 and MS22 are turned off, and the decoder is in a non-selected state. Further, since XDP is a low level VS, pMO
SMP2 is turned on and the input N1 of the CMOS inverter of the decoder is precharged to VCL, so that the output N2 of the decoder is at the low level VS. On the other hand, in the word driver, Xm is high level VCL and N2
Is the low level VS as described above, so the nMOS MS1
Is off. Since XDPH is at the low level VS, the pMOS MP1 is turned on and N3 is precharged to the high level VCH, so that the word line W11 is at the low level. The same applies to other word driver / decoders, and all word lines are at low level VS. Next, in the operating state, / RAS goes low, and the precharge signal XDP becomes high level VCL, XDP
H goes to the high level VCH. T11 and T12 are also at the low level VS, and the switches S11 and S12 are turned on.
Further, Xi and Xm become low level VS and Xj and Xm
k becomes the high level VCL. Thereby, N1 is discharged toward Xi to the low level VS because M21 and M22 are turned on. Therefore, N1 is at the high level VCL, and Xm is at the low level VS, so that MS1 is turned on, and N3 is discharged toward Xi to the low level VS. As a result, W11 becomes high level, and the memory cell connected thereto is selected. Thereafter, when / RAS changes to a high level again, Xi, X
Since j, Xk, and Xm return to the standby state, and XDP and XDPH also return to the initial state, the word driver / decoder is deselected and precharged for the next operation. FIG. 9 shows the case of a word driver / decoder, but this can be applied to a Y driver / decoder. In this case, since it is not necessary to directly drive the memory cells, VCH in FIG.
The potential may be the same as L.

【0035】図11に、図9のスイッチS11及びS1
2の制御回路の例を示す。MAがこの制御回路の入力信
号である。図11ではS11に対してT11をS12に
対してT12を設けていたが、この制御回路では、1つ
の出力信号TによってS11及びS12を制御する。こ
の回路の動作を図12を用いて説明する。/RASが高
レベルである非選択状態では、MAは低レベルVSであ
るため、nMOS MG2はオフしている。また、CM
OSインバータによってM1は高レベルVCLである。
このため、フリップフロップを構成し電源がVCHに接
続されたレベル変換回路において、M2は低レベルVS
となっており、pMOS MG1はオンしている。この
ためTは高レベルVCHとなっており、スイッチS11
及びS12はオフしている。次に/RASが高レベルと
なり、動作状態となるとMAは高レベルVCLとなり、
M1は低レベルVSとなる。これによって、NORのフ
リップフロップは反転し、M2は高レベルVCHとな
る。ここで、MAはnMOSMG2のゲートに入力して
いるため、MAが高レベルになった時点でnMOSMG
2はオンする。上述の動作によってM2が高レベルとな
るためpMOSMG1も遅れてオフするが、MG2のゲ
ート幅をMG1よりも充分に大きく設定しておくことに
よって、MAの高レベルVCLへの変化によってTを低
レベルVSとすることができる。動作時になったときな
るだけ早くスイッチS11及びS12をオンの状態にす
ることが高速動作に必要なことであるためこのような回
路構成を取ると良い。/RASが高レベルとなり非選択
状態に戻る場合には、まずMAが低レベルとなり、MG
2をオフする。ついでフリップフロップが動作してMG
1がオンし、Tを高レベルとする。これによって、スイ
ッチS11及びS12はオフする。
FIG. 11 shows the switches S11 and S1 of FIG.
2 shows an example of the control circuit. MA is an input signal of this control circuit. In FIG. 11, T11 is provided for S11 and T12 is provided for S12, but this control circuit controls S11 and S12 by one output signal T. The operation of this circuit will be described with reference to FIG. In a non-selection state where / RAS is at a high level, nMOS MG2 is off because MA is at a low level VS. Also, CM
M1 is at a high level VCL due to the OS inverter.
For this reason, in the level conversion circuit which constitutes a flip-flop and whose power supply is connected to VCH, M2 is low level VS
And the pMOS MG1 is on. Therefore, T is a high level VCH, and the switch S11
And S12 are off. Next, when / RAS goes high and becomes active, MA goes high VCL,
M1 becomes the low level VS. As a result, the NOR flip-flop is inverted, and M2 becomes the high level VCH. Here, since MA is input to the gate of nMOSMG2, when MA goes high, nMOSMG
2 turns on. The pMOS MG1 is also turned off with a delay because the above operation causes M2 to be at a high level. However, by setting the gate width of MG2 to be sufficiently larger than that of MG1, a change in MA to a high level VCL causes T to become low. VS. Since it is necessary for the high-speed operation that the switches S11 and S12 are turned on as soon as possible at the time of the operation, it is preferable to adopt such a circuit configuration. When / RAS goes high and returns to the unselected state, MA goes low first and MG goes low.
Turn 2 off. Next, the flip-flop operates and the MG
1 turns on and sets T to a high level. As a result, the switches S11 and S12 are turned off.

【0036】図13は本発明の半導体メモリを記憶装置
Mに用いたデータ処理システムの構成を示す図である。
矢印は信号の流れを表わす。Mは本発明を用いたDRA
Mを、CPUはシステム全体を制御する処理装置を、R
AGはリフレッシュアドレス発生装置を、TCは制御信
号発生装置を、SLCTはCPUから送られてくるアド
レス信号とRAGから送られてくるリフレッシュアドレ
ス信号を切り換えるセレクト装置を、PFYはシステム
内の他の装置(例えば外部記憶装置,表示装置,数値演
算装置等)を示すものである。PFYは通信回線を通し
て他の情報処理装置と接続される場合もある。
FIG. 13 is a diagram showing the configuration of a data processing system using the semiconductor memory of the present invention in a storage device M.
Arrows indicate signal flow. M is the DRA using the present invention
M, the CPU is a processing unit that controls the entire system, and R is
AG is a refresh address generator, TC is a control signal generator, SLCT is a selector for switching between an address signal sent from the CPU and a refresh address signal sent from the RAG, and PFY is another device in the system. (For example, an external storage device, a display device, a numerical operation device, etc.). The PFY may be connected to another information processing device through a communication line.

【0037】DATAはCPUとMとの間で通信される
データで、AicはCPUで発生するアドレス信号で、
AirはRAGで発生するリフレッシュアドレス信号
で、AiはSLCTで選択されMに送られるアドレス信
号で、STはCPUからRAGに送られるステイタス信
号で、BSはTCからCPUへのビジイ信号で、SEは
TCから送られるSLCTの起動をかける信号で、/R
AS及び/CASは本発明を用いたDRAMの起動をか
ける信号である。SGはCPUとシステム内の他の装置
との信号のやりとりをまとめて表わしたものである。M
としてはSRAMやEEPROM等も考えられる。この
時はもちろんそれに応じた起動信号や制御信号が存在す
る。
DATA is data communicated between the CPU and M, Aic is an address signal generated by the CPU,
Air is a refresh address signal generated by RAG, Ai is an address signal selected by SLCT and sent to M, ST is a status signal sent from CPU to RAG, BS is a busy signal from TC to CPU, and SE is A signal for starting SLCT sent from TC.
AS and / CAS are signals for starting the DRAM using the present invention. The SG collectively represents the exchange of signals between the CPU and other devices in the system. M
For example, an SRAM or an EEPROM may be used. At this time, of course, a start signal and a control signal corresponding thereto exist.

【0038】図13の実施例では、/RAS信号と/C
AS信号とがハイレベルとされ、DRAMの記憶装置M
は先の実施例で説明したように超低消費電流の待機状態
に移行する。また、この時、CPUもスリープ命令によ
って、低消費電力の待機状態に、その他の周辺装置も低
消費電力の待機状態にすることもできる。
In the embodiment of FIG. 13, the / RAS signal and / C
AS signal is set to a high level, and the DRAM storage device M
Shifts to the standby state with very low current consumption as described in the previous embodiment. At this time, the CPU can also be put into the standby state with low power consumption by the sleep command, and the other peripheral devices can also be put into the standby state with low power consumption.

【0039】本発明を用いた半導体集積回路では、電池
駆動に適した低い電源電圧下で、しきい値電圧の小さい
MOSトランジスタのサブスレッショルド電流よりも小
さい消費電流にすることができる。このため、高速で低
電圧でありかつ小さな待機時電流の半導体集積回路を実
現することができる。
In a semiconductor integrated circuit using the present invention, the current consumption can be smaller than the sub-threshold current of a MOS transistor having a small threshold voltage under a low power supply voltage suitable for driving a battery. Therefore, it is possible to realize a semiconductor integrated circuit having a high speed, a low voltage, and a small standby current.

【0040】[0040]

【発明の効果】待機時にオフとされる電源スイッチを構
成するスイッチトランジスタのリーク電流が複数のCM
OS回路のオフ状態のpチャネルまたはnチャネルのM
OSのサブスレッショルド電流の総和より小さくなるよ
うに、スイッチトランジスタのデバイスパラメータが設
定されている。従って、待機時に複数のCMOS回路に
流れる電流はこの複数のCMOS回路のサブスレッショ
ルド電流でなくスイッチトランジスタの小さなリーク電
流で設定される。かくして、CMOS回路を微細化し、
サブスレッショルド電流が大きくなっても、待機時の消
費電流を低減できる。
According to the present invention, the leakage current of the switch transistor constituting the power switch which is turned off during standby is reduced to a plurality of CMs.
P-channel or n-channel M in the off state of the OS circuit
The device parameters of the switch transistor are set so as to be smaller than the sum of the sub-threshold currents of the OS. Therefore, the current flowing through the plurality of CMOS circuits during standby is set not by the subthreshold current of the plurality of CMOS circuits but by the small leak current of the switch transistor. Thus, the CMOS circuit is miniaturized,
Even when the sub-threshold current increases, the current consumption during standby can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment.

【図2】第1の実施例の動作を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the operation of the first embodiment.

【図3】第2の実施例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment.

【図4】第2の実施例の動作を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating the operation of the second embodiment.

【図5】第3の実施例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a third embodiment.

【図6】第3の実施例の動作を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating the operation of the third embodiment.

【図7】第4の実施例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a fourth embodiment.

【図8】第4の実施例の動作を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the operation of the fourth embodiment.

【図9】本発明のワードドライバ・デコーダへの適用を
示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an application of the present invention to a word driver / decoder.

【図10】図9の回路の動作を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the operation of the circuit of FIG. 9;

【図11】制御回路の例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a control circuit.

【図12】図11の回路の動作を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating the operation of the circuit of FIG. 11;

【図13】本発明を用いたシステム構成を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a system configuration using the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

S,S1,S2,S11,S12…スイッチ、T,T
1,T2,T11,T12…スイッチ制御端子、Ci…
1度に少数しか動作しない多数の回路、N1,N2…電
源端子、VC…高電位側電源、VS…低電位側電源、I
…入力、O…出力、VCH…ワードドライバの高電位側
電源、VCL…デコーダの高電位側電源、WD1〜WD
8…ワードドライバ、XD1…デコーダ、XB1〜XB
n…ワードドライバ・デコーダ、W11〜Wn8…ワー
ド線、Xi,Xj,Xk,Xl…ワードドライバ・デコ
ーダ選択信号、MA…制御回路入力信号、M…メモリ,
DRAM、CPU…システム制御処理装置、SLT…ア
ドレスセレクト装置、RAG…リフレッシュアドレス発
生装置、TC…制御信号発生装置、PFY…システム内
の他の装置、DATA…データ信号、Aic,Air,
Ai…アドレス信号、ST…ステイタス信号、BS…ビ
ジイ信号、SE…起動信号、/RAS,/CAS…DR
AMの起動信号。
S, S1, S2, S11, S12... Switch, T, T
1, T2, T11, T12 ... switch control terminal, Ci ...
Numerous circuits operating only a small number at a time, N1, N2 ... power supply terminals, VC ... high potential side power supply, VS ... low potential side power supply, I
.., Input, O, output, VCH, high-potential power supply for word driver, VCL, high-potential power supply for decoder, WD1 to WD
8 Word driver, XD1 Decoder, XB1 to XB
n: word driver / decoder, W11 to Wn8: word line, Xi, Xj, Xk, Xl: word driver / decoder selection signal, MA: control circuit input signal, M: memory,
DRAM, CPU: System control processing device, SLT: Address select device, RAG: Refresh address generator, TC: Control signal generator, PFY: Other devices in the system, DATA: Data signal, Aic, Air,
Ai: Address signal, ST: Status signal, BS: Busy signal, SE: Start signal, / RAS, / CAS: DR
AM start signal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H03K 19/0948 G11C 11/34 354F H03K 19/094 B (72)発明者 川尻 良樹 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 秋葉 武定 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 堀口 真志 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 渡部 隆夫 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 橘川 五郎 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 川瀬 靖 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 立花 利一 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 青木 正和 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H03K 19/0948 G11C 11/34 354F H03K 19/094 B (72) Inventor Yoshiki Kawajiri 1 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Central Research Laboratory Co., Ltd. (72) Inventor Takesada Akiba 3681 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi Devices Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masashi Horiguchi 1-280-1, Higashi-Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. Inside the Central Research Laboratory (72) Inventor Takao Watanabe 1-280 Higashi Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Goro Tachibana 1-280 Higashi-Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo (72) Inventor Yasushi Kawase Mobara, Chiba 3681 Hayano Hitachi Device Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Riichi Tachibana 3681 Hayano Mobara City, Chiba Prefecture Hitachi Device Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masakazu Aoki 1-280 Higashi-Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. Central Research Laboratory

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】動作電圧が異なる第1と第2回路ブロック
を少なくとも有し、 上記第1回路ブロックの動作電圧は上記第2回路ブロッ
クの動作電圧よりも大きく、上記第1と第2回路ブロッ
クいずれにも回路ブロック内の電流を制御する電流制御
手段を有することを特徴とする半導体集積回路。
An operating voltage of at least first and second circuit blocks different from each other, wherein an operating voltage of the first circuit block is higher than an operating voltage of the second circuit block, and wherein the first and second circuit blocks are different. A semiconductor integrated circuit having current control means for controlling a current in a circuit block.
【請求項2】上記第1と第2回路ブロックはいずれも第
1と第2動作電位点の間に第1と第2電位点を有し、 上記第1動作電位点と第1電位点の間に上記電流制御手
段を有し、 制御信号の状態により上記第1と第2電位点間に流れる
電流の大きさを変化させることを特徴とする請求項1に
記載の半導体集積回路。
2. The first and second circuit blocks both have first and second potential points between first and second operating potential points, and the first operating potential point and the first potential point are different from each other. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising the current control means between the first and second potential points, wherein a magnitude of a current flowing between the first and second potential points is changed according to a state of a control signal.
【請求項3】上記電流制御手段は第1トランジスタで構
成されることを特徴とする請求項1乃圭請求項2のいず
れかに記載の半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said current control means comprises a first transistor.
【請求項4】上記第1トランジスタはMOSトランジスタ
で構成され、 上記第1回路ブロック及び第2回路ブロックの、第1と
第2電位点間には少なくとも上記第1トランジスタと同
導電型の第2MOSトランジスタを有し、 上記第2MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値は上
記第1トランジスタのしきい値電圧の絶対値よりも小さ
いことを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路。
4. The first transistor comprises a MOS transistor, and a second MOS transistor of the same conductivity type as at least the first transistor is provided between first and second potential points of the first circuit block and the second circuit block. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, further comprising a transistor, wherein an absolute value of a threshold voltage of said second MOS transistor is smaller than an absolute value of a threshold voltage of said first transistor.
【請求項5】上記第1回路ブロック及び第2回路ブロッ
クの、第1と第2電位点間には一つ以上のトランジスタ
を有し、 電流制御手段と電気的に接続されたトランジスタのゲー
ト幅の総和は第1トランジスタのゲート幅よりも大きい
ことを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路。
5. The gate width of a transistor having at least one transistor between first and second potential points of the first circuit block and the second circuit block, the transistor being electrically connected to current control means. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein a sum of the first and second gates is larger than a gate width of the first transistor.
【請求項6】上記第1回路ブロックがワードドライバ回
路で、上記第2回路ブロックがデコーダ回路で構成され
ることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに
記載の半導体集積回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said first circuit block is constituted by a word driver circuit, and said second circuit block is constituted by a decoder circuit.
【請求項7】上記第1回路ブロックの動作電圧が2.5
V以下で、 上記第2回路ブロックの動作電圧は1.5V以下である
ことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記
載の半導体集積回路。
7. An operating voltage of said first circuit block is 2.5
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the operating voltage of the second circuit block is 1.5 V or less. 8.
【請求項8】2電源で駆動されることを特徴とする請求
項1乃至請求項7のいずれかに記載の半導体集積回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is driven by two power supplies.
【請求項9】内部昇圧、若しくは内部降圧により、上記
回路ブロック毎に動作電圧を変化させることを特徴とす
る請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の半導体集積
回路。
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein an operating voltage is changed for each circuit block by an internal boost or an internal voltage drop.
【請求項10】第1回路ブロックを動作させる第1動作
電圧と、第2回路ブロックを動作させる第2動作電圧が
異なる回路において、 上記第1動作電圧は上記第2動作電圧よりも大きく、 上記第2ブロックを動作させている第1動作電位点と第
2動作電位点の間に、第1MOSトランジスタはドレイン
・ソース経路を有し、 上記第1MOSのゲートは上記第1ブロック回路の出力と
接続されることを特徴とする半導体集積回路。
10. A circuit in which a first operating voltage for operating a first circuit block is different from a second operating voltage for operating a second circuit block, wherein the first operating voltage is higher than the second operating voltage. Between the first operating potential point operating the second block and the second operating potential point, the first MOS transistor has a drain-source path, and the gate of the first MOS is connected to the output of the first block circuit. A semiconductor integrated circuit characterized by being performed.
【請求項11】第1回路ブロックと第2回路ブロックを
有し、 上記第1回路ブロックを動作する電圧が、上記第2回路
ブロックを動作する電圧より大きく、 上記第2回路ブロックを動作させる第1動作電位点と第
2動作電位点の間に、第1MOSトランジスタがドレイン
・ソース経路を有し、 上記第1MOSトランジスタのソースは上記第1動作電位
点に接続され、 上記第1MOSトランジスタはP型チャネルMOSトランジス
タであって、 上記第1MOSトランジスタのソース電位がゲート電位よ
り低い状態を有することを特徴とする半導体集積回路。
11. A circuit having a first circuit block and a second circuit block, wherein a voltage for operating the first circuit block is higher than a voltage for operating the second circuit block, and a voltage for operating the second circuit block. Between the first operating potential point and the second operating potential point, the first MOS transistor has a drain-source path, the source of the first MOS transistor is connected to the first operating potential point, and the first MOS transistor is a P-type A semiconductor integrated circuit, which is a channel MOS transistor, wherein a source potential of the first MOS transistor is lower than a gate potential.
【請求項12】上記第1MOSトランジスタのゲートは上
記第1回路ブロックの出力と接続されることを特徴とす
る請求項11に記載の半導体集積回路。
12. The semiconductor integrated circuit according to claim 11, wherein a gate of said first MOS transistor is connected to an output of said first circuit block.
【請求項13】上記第1MOSトランジスタのドレイン
に、少なくとも一つ以上の第2MOSトランジスタのソー
スが接続され、上記第1MOSトランジスタは上記第2MOS
トランジスタのソース・ドレイン経路に流れる電流の大
きさを制御することを特徴とする請求項10乃至請求項
12のいずれかに記載の半導体集積回路。
13. The drain of the first MOS transistor is connected to the source of at least one second MOS transistor, and the first MOS transistor is connected to the second MOS transistor.
13. The semiconductor integrated circuit according to claim 10, wherein a magnitude of a current flowing through a source / drain path of the transistor is controlled.
【請求項14】第1と第2動作電位点の間に第1と第2
電位点を有し、 上記第1動作電位点と第1電位点の間に、上記第1電位
点と第2電位点間の電流を制御する手段を有し、 上記電流制御手段は制御信号により、少なくとも大小二
つの電流の状態を切り替え、 上記制御信号はクロックにより制御されることを特徴と
する半導体集積回路。
14. The first and second operating potential points between the first and second operating potential points.
A potential point; and a means for controlling a current between the first potential point and the second potential point between the first operating potential point and the first potential point. A semiconductor integrated circuit, wherein at least two current states are switched, and the control signal is controlled by a clock.
【請求項15】第1と第2動作電位点の間に第1と第2
電位点を有し、 上記第1動作電位点と第1電位点の間に、上記第1電位
点と第2電位点間の電流を制御する手段を有し、 上記電流制御手段は回路を動作させるか否かを制御する
信号により制御されることを特徴とする半導体集積回
路。
15. A first and a second operating potential between the first and second operating potential points.
A potential point; and a means for controlling a current between the first potential point and the second potential point between the first operating potential point and the first potential point, wherein the current control means operates a circuit. A semiconductor integrated circuit, which is controlled by a signal for controlling whether or not to perform the operation.
【請求項16】上記信号はRAS、CAS信号で有ること
を特徴とし、上記回路はメモリで有ることを特徴とする
請求項15記載の半導体集積回路。
16. The semiconductor integrated circuit according to claim 15, wherein said signals are RAS and CAS signals, and said circuit is a memory.
【請求項17】上記電流制御手段は第1トランジスタで
構成されることを特徴とする請求項14乃圭請求項16
のいずれかに記載の半導体集積回路。
17. The device according to claim 14, wherein said current control means comprises a first transistor.
A semiconductor integrated circuit according to any one of the above.
【請求項18】上記第1トランジスタはMOSトランジ
スタで構成され、 第1と第2電位点間には少なくとも第2MOSトランジス
タを有し、 上記第2MOSトランジスタと上記第1トランジスタは同
導電型であり、 上記第2MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値は上
記第1トランジスタのしきい値電圧の絶対値よりも小さ
いことを特徴とする請求項17記載の半導体集積回路。
18. The first transistor is constituted by a MOS transistor, has at least a second MOS transistor between first and second potential points, and the second MOS transistor and the first transistor are of the same conductivity type. 18. The semiconductor integrated circuit according to claim 17, wherein the absolute value of the threshold voltage of the second MOS transistor is smaller than the absolute value of the threshold voltage of the first transistor.
【請求項19】上記第1トランジスタはMOSトランジ
スタで構成され、 上記第1と第2電位点間には一つ以上のMOSトランジス
タのソース・ドレイン経路を有し、 上記電流制御手段とソースが電気的に接続されたMOSト
ランジスタのゲート幅の総和は、第1トランジスタのゲ
ート幅よりも大きいことを特徴とする請求項17記載の
半導体集積回路。
19. The first transistor comprises a MOS transistor, has a source / drain path of one or more MOS transistors between the first and second potential points, and the current control means and the source are electrically connected. 18. The semiconductor integrated circuit according to claim 17, wherein the sum of the gate widths of the normally connected MOS transistors is larger than the gate width of the first transistor.
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US7088161B2 (en) 2000-09-27 2006-08-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit with reduced leakage current
US7463076B2 (en) 2005-03-31 2008-12-09 Fujitsu Limited Power consumption reduction circuit for clock network
JP2010067343A (en) * 2009-12-21 2010-03-25 Renesas Technology Corp Semiconductor integrated circuit
CN111292777A (en) * 2018-12-07 2020-06-16 三星电子株式会社 Voltage generator and method of operating the same

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