KR100385463B1 - A word line control circuit of semiconductor memory device - Google Patents

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KR100385463B1
KR100385463B1 KR10-2001-0001076A KR20010001076A KR100385463B1 KR 100385463 B1 KR100385463 B1 KR 100385463B1 KR 20010001076 A KR20010001076 A KR 20010001076A KR 100385463 B1 KR100385463 B1 KR 100385463B1
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Abstract

본 발명의 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어 회로는 계층적 네거티브 전압 워드라인 구동 방식을 사용하고, 부가적인 채널 임플렌테이션(channel implantation) 없이 삼중-웰 구조를 사용하여 N-웰과 P-웰 바이어스로 각각 고전압(VPP)과 저전압(VBB)을 인가하여 높은 문턱전압(high-threshold voltage)을 갖는 모스 트랜지스터를 사용하기 때문에 전원전압(VDD) 단자 및 접지전압(VSS) 단자로 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄이고, 셀프 반전 바이어싱 방식(self-reverse biasing method)을 사용하여 고전압(VPP) 단자와 저전압(VBB) 단자를 통해 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄일 수 있다.The wordline control circuit of the semiconductor memory device of the present invention employs a hierarchical negative voltage wordline driving scheme, and employs a triple-well structure with no N-well and P-well bias without additional channel implantation. Since the MOS transistor with high threshold voltage is applied by applying high voltage (VPP) and low voltage (VBB), respectively, the sub-threshold current flowing through the power supply voltage (VDD) terminal and the ground voltage (VSS) terminal Self-reverse biasing can be used to reduce the subthreshold current flowing through the high voltage (VPP) and low voltage (VBB) terminals.

Description

반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로{A word line control circuit of semiconductor memory device}A word line control circuit of semiconductor memory device

본 발명은 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로에 관한 것으로, 보다 상세하게는 계층적인 네거티브 전압 워드라인 구동방식을 사용하고, 삼중-웰 구조를 사용하여 회로를 구성하고 셀프 반전 바이어싱 방식을 적용함으로써 서브 쓰레솔드 전류를 줄일 수 있는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로에 관한 것이다.The present invention relates to a word line control circuit of a semiconductor memory device, and more particularly, by using a hierarchical negative voltage word line driving method, using a triple-well structure to construct a circuit, and applying a self inversion biasing method. The present invention relates to a word line control circuit of a semiconductor memory device capable of reducing the subthreshold current.

반도체 메모리 장치가 고집적화 됨으로써, 저전압으로 동작시키게 되는데, 저전압 동작에 의해 셀 전하가 줄어들게 되어 리프레시 시간이 줄어들게 되었다.As the semiconductor memory device is highly integrated, the semiconductor memory device is operated at a low voltage. The cell charge is reduced due to the low voltage operation, thereby reducing the refresh time.

이를 개선하기 위해 셀로우(shallow) 백 바이어스 전압 레벨을 사용하여 리프레시 시간을 개선하였다.To improve this, the refresh time is improved by using a shallow back bias voltage level.

그러나 이러한 방법은 셀 트랜지스터의 문턱전압을 낮추게 되어 턴 오프 상태에서의 서브 쓰레솔드(subthreshold) 전류가 증가하는 문제점이 발생하였다.However, this method lowers the threshold voltage of the cell transistor, causing a problem of increasing the subthreshold current in the turn-off state.

따라서, 이를 개선하기 위해 네거티브 전압 워드라인 드라이버를 사용하게 되었다.Therefore, a negative voltage wordline driver is used to improve this.

도 1은 종래 기술에 따른 네거티브 전압 워드라인 드라이버를 보인 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating a negative voltage wordline driver according to the prior art.

이에 도시된 바와 같이, 로우 어드레스(AXij)를 디코딩 하는 로우 디코더(1)와, 로우 디코더(1)에 디코딩 된 신호에 의해 워드라인(WL)을 구동하기 위한 워드라인 드라이버(2)를 포함하여 구성된다.As shown therein, a row decoder 1 for decoding a row address AXij and a word line driver 2 for driving a word line WL by a signal decoded in the row decoder 1 are included. It is composed.

여기서, 워드라인 드라이버(2)는 게이트에 전원전압(VDD)이 인가되어 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)를 선택적으로 전송하는 엔모스 트랜지스터(NM1)와, 게이트에 접지전압(VSS)이 인가되어 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)를 선택적으로 전송하는 피모스 트랜지스터(PM1)와, 소스에 고전압(VPP)이 인가되고 게이트가 서로의 드레인에 연결된 피모스 트랜지스터(PM2, PM3)와, 소스에 저전압(VBB)이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결된 엔모스 트랜지스터(NM2, NM3)를 포함하여 구성된다. 여기서, 엔모스 트랜지스터(NM1)와 피모스 트랜지스터(PM1)는 문턱전압이 낮은 모스 트랜지스터로 구성된다.Here, the word line driver 2 has the NMOS transistor NM1 for selectively transmitting the output signal DX of the row decoder 1 by applying the power supply voltage VDD to the gate, and the ground voltage VSS at the gate. Is applied to selectively transmit the output signal DX of the row decoder 1 to the PMOS transistor PM1 and the PMOS transistors PM2 and PM3 to which a high voltage VPP is applied to a source and the gates are connected to drains of each other. ) And the low voltage VBB is applied to the source, and the NMOS transistors NM2 and NM3 have gates connected to drains of each other. Here, the NMOS transistor NM1 and the PMOS transistor PM1 are constituted of a MOS transistor having a low threshold voltage.

피모스 트랜지스터(PM3)는 게이트에 인가된 엔모스 트랜지스터(NM1)에 의해 선택적으로 전송된 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)에 따라 제어되어 워드라인(WL)을 구동하게 된다.The PMOS transistor PM3 is controlled according to the output signal DX of the row decoder 1 selectively transmitted by the NMOS transistor NM1 applied to the gate to drive the word line WL.

피모스 트랜지스터(PM2)는 게이트에 워드라인(WL)이 연결되어 워드라인(WL)의 레벨 상태에 따라 피모스 트랜지스터(PM3)의 게이트 전압을 조절한다. 즉, 워드라인(WL)의 레벨이 하이 레벨이면 피모스 트랜지스터(PM2)가 턴 오프 되어 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)가 로우 레벨이기 때문에 피모스 트랜지스터(PM3)가 턴 온 상태를 유지하고, 워드라인(WL)의 레벨이 로우 레벨이면 피모스 트랜지스터(PM2)가 턴 온 되어 피모스 트랜지스터(PM3)를 턴 오프 시킨다.In the PMOS transistor PM2, the word line WL is connected to the gate to adjust the gate voltage of the PMOS transistor PM3 according to the level state of the word line WL. That is, when the level of the word line WL is high, the PMOS transistor PM2 is turned off, and the output signal DX of the low decoder 1 is at the low level. Thus, the PMOS transistor PM3 is turned on. If the word line WL is at a low level, the PMOS transistor PM2 is turned on to turn off the PMOS transistor PM3.

엔모스 트랜지스터(NM3)는 게이트에 인가된 피모스 트랜지스터(PM1)에 의해 선택적으로 전송된 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)에 따라 제어되어 워드라인(WL)을 구동하게 된다.The NMOS transistor NM3 is controlled according to the output signal DX of the row decoder 1 selectively transmitted by the PMOS transistor PM1 applied to the gate to drive the word line WL.

엔모스 트랜지스터(NM2)는 워드라인(WL)이 게이트에 연결되어 워드라인(WL)의 레벨 상태에 따라 엔모스 트랜지스터(NM3)의 게이트 전압을 조절한다. 즉, 워드라인(WL)의 레벨이 하이 레벨이면 엔모스 트랜지스터(NM2)가 턴 온 되어 엔모스 트랜지스터(NM3)를 턴 오프 시키고, 워드라인(WL)의 레벨이 로우 레벨이면 엔모스 트랜지스터(NM2)가 턴 오프 되어 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)가 하이 레벨이기 때문에 엔모스 트랜지스터(NM3)가 턴 온 상태를 유지한다.In the NMOS transistor NM2, the word line WL is connected to the gate to adjust the gate voltage of the NMOS transistor NM3 according to the level state of the word line WL. That is, when the level of the word line WL is high, the NMOS transistor NM2 is turned on to turn off the NMOS transistor NM3. When the level of the word line WL is low, the NMOS transistor NM2 is turned on. ) Is turned off so that the output signal DX of the low decoder 1 is at a high level, so the NMOS transistor NM3 remains turned on.

이와 같이 구성된 종래 기술에 따른 네거티브 워드라인 드라이버의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the negative word line driver according to the prior art configured as described above are as follows.

먼저, 워드라인(WL)이 선택되지 않을 경우, 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)가 하이 레벨이 되고, 따라서, 워드라인 드라이버(2)의 엔모스 트랜지스터(NM3)가 턴 온 되어, 워드라인(WL)의 전압이 로우 레벨(VBB)로 설정된다.First, when the word line WL is not selected, the output signal DX of the row decoder 1 is at a high level. Therefore, the NMOS transistor NM3 of the word line driver 2 is turned on. The voltage of the word line WL is set to the low level VBB.

따라서, 피모스 트랜지스터(PM2)가 턴 오프 되어 선택되지 않은 워드라인(WL)의 전압은 셀로우(shallow) 백 바이어스 전압(VBB)(여기서는, 약 -0.5V)으로 유지된다.Therefore, the voltage of the word line WL that is not selected because the PMOS transistor PM2 is turned off is maintained at the shallow back bias voltage VBB (about -0.5V in this case).

한편, 워드라인(WL)이 선택되었을 경우, 로우 디코더(1)의 출력신호(DX)는 로우 레벨이 되어 엔모스 트랜지스터(NM3)는 턴 오프 되고, 피모스 트랜지스터(PM3)는 턴 온 되어 워드라인(WL)의 레벨이 하이 레벨(VPP)이 된다.On the other hand, when the word line WL is selected, the output signal DX of the row decoder 1 is at a low level so that the NMOS transistor NM3 is turned off and the PMOS transistor PM3 is turned on so that the word The level of the line WL becomes the high level VPP.

따라서, 선택된 메모리 셀을 액세스할 수 있게 된다.Thus, the selected memory cell can be accessed.

이러한 종래 기술의 워드라인 구동 방법의 네거티브 전압 워드라인 드라이버는 계층적인 워드라인 구조가 아니기 때문에 워드라인 메탈 피치가 좁기 때문에 공정상의 마진이 없을 뿐만 아니라 스탠바이 시에 워드라인 드라이버(2)에서 발생되는 서브 쓰레솔드(subthreshold) 전류는 반도체 메모리 소자가 고집적화 됨에 따라 무시할 수 없는 문제점으로 발생하였다.Since the negative voltage wordline driver of the prior art wordline driving method does not have a hierarchical wordline structure, the wordline metal pitch is narrow, so that there is no process margin and the sublines generated by the wordline driver 2 at the standby time. Subthreshold currents are a problem that cannot be ignored as semiconductor memory devices are highly integrated.

이와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 계층적인 네거티브 전압 워드라인 구동방식을 사용하여 워드라인 드라이버를 구동함으로써 공정 마진을 확보하고, 서브 쓰레솔드 전류를 줄이는 것이다.An object of the present invention for solving such a problem is to secure the process margin and reduce the sub-threshold current by driving the word line driver using a hierarchical negative voltage word line driving method.

본 발명의 다른 목적은 삼중-웰 구조를 이용하여 N-웰과 P-웰 바이어스로 각각 고전압(VPP)과 저전압(VBB)을 사용하여 전원전압(VDD)과 접지전압(VSS)으로 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄이는 것이다.Another object of the present invention is to use a triple-well structure, the sub-threshold flowing to the power supply voltage (VDD) and the ground voltage (VSS) using the high voltage (VPP) and low voltage (VBB) as the N-well and P-well bias, respectively. Is to reduce the solder current.

본 발명의 또 다른 목적은 셀프 바이어싱 방식을 채택하여 워드라인 드라이버를 구성함으로써 고전압(VPP)과 저전압(VBB) 단자로 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄이는 것이다.Another object of the present invention is to reduce the subthreshold current flowing to the high voltage (VPP) and low voltage (VBB) terminal by configuring a word line driver by adopting a self-biasing scheme.

도 1 은 종래 기술의 네거티브 전압 워드라인 드라이버를 보인 회로도.1 is a circuit diagram showing a negative voltage wordline driver of the prior art.

도 2 는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로의 바람직한 실시예를 보인 블록도.2 is a block diagram showing a preferred embodiment of a word line control circuit of a semiconductor memory device according to the present invention;

도 3 은 도 2의 블록도에서 메인 로우 디코더를 보인 상세 회로도.3 is a detailed circuit diagram illustrating a main row decoder in the block diagram of FIG.

도 4 는 도 2의 블록도에서 서브 워드라인 드라이버를 보인 상세 회로도.4 is a detailed circuit diagram illustrating a sub word line driver in the block diagram of FIG.

도 5 는 도 2의 블록도에서 워드라인 부스팅 신호 발생부를 보인 상세 회로도.FIG. 5 is a detailed circuit diagram illustrating a word line boosting signal generator in the block diagram of FIG. 2.

도 6 은 도 3 및 도 5의 회로도에서 삼중-웰 구조에서 듀얼-문턱전압을 갖는 모스 트랜지스터를 보인 단면도.6 is a cross-sectional view illustrating a MOS transistor having a dual-threshold voltage in a triple-well structure in the circuit diagrams of FIGS. 3 and 5.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

10 : 메인 로우 디코더10: main row decoder

21-24 : 서브 워드라인 드라이버21-24: Sub wordline driver

30 : 워드라인 부스팅 신호 발생부30: word line boosting signal generator

PM11-PM15, PM21, PM31-PM37 : 피모스 트랜지스터PM11-PM15, PM21, PM31-PM37: PMOS Transistor

NM11-NM16, NM21-NM22, NM31-NM39 : 엔모스 트랜지스터NM11-NM16, NM21-NM22, NM31-NM39: NMOS Transistors

INV11-INV12, INV21-INV22 : 인버터INV11-INV12, INV21-INV22: Inverter

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로는, 계층적 워드라인을 갖는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로에 있어서, 백 바이어스로 전원전압보다 높은 고전압을 인가하는 제1 셀프 바이어싱 수단과 상기 고전압 사이에 제1 스위칭 수단이 연결되고, 백 바이어스로 접지전압보다 낮은 저전압을 인가하는 제2 셀프 바이어싱 수단과 상기 저전압 사이에 제2 스위칭수단이 연결되어, 입력된 로우 어드레스를 디코딩 하는 메인 로우 디코더와, 상기 메인 로우 디코더에 의해 디코딩 된 신호에 의해 서브 워드라인을 구동하는 복수개의 서브 워드라인 드라이버와, 백 바이어스로 전원전압보다 높은 고전압을 인가하는 제1 셀프 바이어싱 수단과 상기 고전압 사이에 제1 스위칭 수단이 연결되고, 백 바이어스로 접지전압보다 낮은 저전압을 인가하는 제2 셀프 바이어싱 수단과 상기 저전압 사이에 제2 스위칭 수단이 연결되어, 입력된 상위 로우 어드레스를 디코딩 하여 워드라인 부스팅 신호를 상기 서브 워드라인 드라이버에 인가하는 워드라인 부스팅 신호 발생 수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.A word line control circuit of a semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is a word line control circuit of a semiconductor memory device having a hierarchical word line, the first self to apply a high voltage higher than the power supply voltage as a back bias The first switching means is connected between the biasing means and the high voltage, and the second switching means is connected between the second self biasing means for applying a low voltage lower than the ground voltage as a back bias and the low voltage, and thus the input row address A main row decoder to decode the signal, a plurality of sub word line drivers to drive the sub word line by the signal decoded by the main row decoder, and first self biasing means to apply a high voltage higher than a power supply voltage with a back bias. A first switching means is connected between the high voltage and the high voltage, and the ground voltage A second switching means is connected between the second self biasing means for applying a lower voltage and the lower voltage, and the word line boosting signal for decoding the input upper row address and applying a word line boosting signal to the sub word line driver. Characterized in that it comprises a generating means.

상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해 질 것이다.The above and other objects and features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 계층적 워드라인 구조의 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로의 실시예를 보인 블록도이다.2 is a block diagram illustrating an embodiment of a word line control circuit of a semiconductor memory device having a hierarchical word line structure according to the present invention.

이에 도시된 바와 같이, 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로의 실시예는, 메인 로우 디코더(10), 4 개의 서브 워드라인 드라이버(21-24) 및 워드라인 부스팅신호 발생부(3)로 구성된다. 여기서는 하나의 메인 로우 디코더(10)에 의해 4 개의 서브 워드라인(SWL0-SWL3)이 구동되는 경우를 예를 들어 설명한다.As shown in the drawing, the embodiment of the word line control circuit of the semiconductor memory device includes a main row decoder 10, four sub word line drivers 21-24, and a word line boosting signal generator 3. . Here, an example in which four sub word lines SWL0-SWL3 are driven by one main row decoder 10 will be described.

메인 로우 디코더(10)는 로우 디코더 프리차지 신호(/XDP)에 의해 프리차지 되고, 액티브 신호(ACT, /ACT)에 의해 인에이블 되어 로우 어드레스(AXij)를 디코딩하여 메인 워드라인 구동신호(/MWL)를 출력하고, 서브 워드라인 드라이버(21-24)는 메인 로우 디코더(10)의 메인 워드라인 구동신호(/MWL)에 의해 구동되어 워드라인 부스팅 신호(PX0-PX3, /PX0-/PX3)에 의해 서브 워드라인(SWL0-SWL3)을 구동하고, 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)는 액티브 신호(ACT, /ACT)에 의해 인에이블 되어 상위 로우 어드레스(AXmn)를 디코딩 하여 워드라인 부스팅 신호(PX<0:3>, /PX<0:3>)를 출력한다.The main row decoder 10 is precharged by the row decoder precharge signal / XDP, and is enabled by the active signals ACT and / ACT to decode the row address AXij to decode the main word line driving signal (/). MWL), and the sub wordline drivers 21-24 are driven by the main wordline drive signal / MWL of the main row decoder 10 to provide the wordline boosting signals PX0-PX3 and / PX0- / PX3. Drive the sub word lines SWL0-SWL3, and the word line boosting signal generator 30 is enabled by the active signals ACT and / ACT to decode the upper row address AXmn to boost the word line. Output signals PX <0: 3> and / PX <0: 3>.

도 3은 도 2의 블록도에서 메인 로우 디코더(10)의 상세 회로도이다.3 is a detailed circuit diagram of the main row decoder 10 in the block diagram of FIG. 2.

이에 도시된 바와 같이, 메인 로우 디코더(10)는 네거티브 전압 워드라인 드라이버로써, 전원전압(VDD)보다 높은 고전압(VPP)과 접지전압(VSS) 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 고전압(VPP)이 인가되고, 로우 디코더 프리차지 신호(/XDP)에 의해 제어되는 피모스 트랜지스터(PM11) 및 로우 어드레스(AXij)가 게이트에 각각 인가되는 엔모스 트랜지스터(NM11-NM13)와, 피모스 트랜지스터(PM11)와 엔모스 트랜지스터(NM11)의 공통 연결된 드레인의 전압(A)을 반전시키는 인버터(INV11)와, 선택된 뱅크를 인에이블 시키기 위한 제어신호인 액티브 신호(ACT)의 반전된 신호(/ACT)에 의해 제어되어 고전압(VPP)을 인버터(INV11)에 인가하는 피모스 트랜지스터(PM12)와, 벌크에 고전압(VPP)이 인가되고, 인버터(INV11)의 출력신호(B)에 의해 제어되어 피모스 트랜지스터(PM11)와 엔모스 트랜지스터(NM11)의 공통 연결된 드레인의 전압(A)을 래치하는 피모스 트랜지스터(PM13)와, 고전압(VPP)이 인가되고, 인버터(INV11)의 출력신호(B)를 반전시키는 인버터(INV12)와, 벌크에 고전압(VPP)이 인가되고, 소스가 각각 인버터(INV11, INV12)의 출력단자에 연결되고, 게이트에 접지전압(VSS)이 인가되는 피모스 트랜지스터(PM14, PM15)와, 벌크에 접지전압(VSS)보다 낮은 저전압(VBB)이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결되어 각각 피모스 트랜지스터(PM14, PM15)의 드레인에 공통 연결되는 엔모스 트랜지스터(NM14) 및 소스가 저전압(VBB)에 연결된 엔모스 트랜지스터(NM15)와, 게이트에 액티브 신호(ACT)가 인가되어 제어되어 엔모스 트랜지스터(NM15)의 소스에 저전압(VBB)을 선택적으로 인가하는 엔모스 트랜지스터(NM16)를 포함하여 구성되며, 피모스 트랜지스터(PM15) 및 엔모스 트랜지스터(NM14)의 공통 연결된 드레인에서 메인 워드라인 구동신호(/MWL)가 출력된다.As shown therein, the main row decoder 10 is a negative voltage wordline driver, which is connected in series between the high voltage VPP and the ground voltage VSS higher than the power supply voltage VDD, and the high voltage VPP is applied to the bulk. NMOS transistors NM11-NM13 and PMOS transistors PM11 to which the PMOS transistor PM11 and the row address AXij, which are applied and controlled by the row decoder precharge signal / XDP, are respectively applied to the gates. And the inverter INV11 for inverting the voltage A of the common connected drain of the NMOS transistor NM11 and the inverted signal / ACT of the active signal ACT, which is a control signal for enabling the selected bank. PMOS transistor PM12 which is controlled to apply high voltage VPP to inverter INV11 and high voltage VPP is applied to bulk and controlled by output signal B of inverter INV11 to control PMOS transistor ( PM11) and NMOS transistor (NM1) PMOS transistor PM13 for latching voltage A of the common connected drain of 1), high voltage VPP is applied, inverter INV12 for inverting output signal B of inverter INV11, and bulk PMOS transistors PM14 and PM15 to which a high voltage VPP is applied, a source is connected to output terminals of the inverters INV11 and INV12, and a ground voltage VSS is applied to a gate, and a ground voltage to bulk. A low voltage VBB lower than VSS is applied, and an NMOS transistor NM14 and a source connected to a drain of each of the PMOS transistors PM14 and PM15 are connected to the drains of the PMOS transistors PM14 and PM15, respectively, and a source connected to the low voltage VBB. And an NMOS transistor NM15 and an NMOS transistor NM16 configured to selectively apply a low voltage VBB to a source of the NMOS transistor NM15 by controlling an active signal ACT applied to a gate thereof. PMOS transistors (PM15) and NMOS transistors The main word line driving signal / MWL is output from the common connected drain of the emitter NM14.

도 4는 도 2의 블록도에서 서브 워드라인 드라이버(21)의 상세 회로도이다. 여기서는 4개의 서브 워드라인 드라이버(21-24)의 구성이 동일하기 때문에 하나의 서브 워드라인 드라이버(21)만의 구성을 설명한다.FIG. 4 is a detailed circuit diagram of the sub word line driver 21 in the block diagram of FIG. Here, since the configurations of the four sub word line drivers 21 to 24 are the same, the configuration of only one sub word line driver 21 will be described.

이에 도시된 바와 같이, 서브 워드라인 드라이버(21)는 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)의 워드라인 부스팅 신호(PX0)와 저전압(VBB) 사이에 직렬 연결되고, 게이트가 공통 연결되어 메인 워드라인 구동신호(/MWL)가 인가되고, 공통 연결된 드레인이 서브 워드라인(SWL0)에 연결되어 서브 워드라인(SWL0)을 구동하는 벌크에 고전압(VPP)이 인가되는 피모스 트랜지스터(PM21) 및 벌크에 저전압(VBB)이 인가되는 엔모스 트랜지스터(NM21)와, 벌크에 저전압(VBB)이 인가되고, 게이트에 반전된 워드라인 부스팅 신호(/PX0)가 인가되어 서브 워드라인(SWL)이 플로우팅 되는 것을 방지하는 엔모스 트랜지스터(NM22)를 포함하여 구성된다.As shown therein, the sub word line driver 21 is connected in series between the word line boosting signal PX0 of the word line boosting signal generator 30 and the low voltage VBB, and the gate is commonly connected to the main word line. The PMOS transistor PM21 and the bulk to which the driving signal / MWL is applied and the drain connected in common are connected to the sub word line SWL0 to apply the high voltage VPP to the bulk driving the sub word line SWL0. The NMOS transistor NM21 to which the low voltage VBB is applied, the low voltage VBB to the bulk, and the inverted word line boosting signal / PX0 are applied to the gate to float the sub word line SWL. And an NMOS transistor NM22 for preventing the damage.

도 5는 도 2의 블록도에서 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)의 상세 회로도이다.5 is a detailed circuit diagram of the word line boosting signal generator 30 in the block diagram of FIG. 2.

이에 도시된 바와 같이, 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)는 상위 로우 어드레스(AXmn)를 디코딩 하는 낸드게이트(ND1)와, 낸드게이트(ND1)의 출력신호(D)를 반전시키는 인버터(INV21)와, 액티브 신호(ACT)에 의해 제어되어 저전압(VBB)을 선택적으로 전송하는 엔모스 트랜지스터(NM31)와, 반전된 액티브 신호(/ACT)에 의해 제어되어 고전압(VPP)을 선택적으로 전송하는 피모스 트랜지스터(PM31)와, 벌크에 고전압(VPP)이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결되고, 소스에 고전압(VPP)이 인가된 피모스 트랜지스터(PM32) 및 소스에 피모스 트랜지스터(PM31)에 의해 선택적으로 전송된 고전압(VPP)이 인가되는 피모스 트랜지스터(PM33)와, 벌크에 저전압(VBB)이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결되고, 소스에 저전압(VBB)이 인가된 엔모스 트랜지스터(NM32) 및 소스에 엔모스 트랜지스터(NM31)에 의해 선택적으로 전송된 저전압(VBB)이 인가된 엔모스 트랜지스터(NM33)와, 게이트가 공통 연결되어 전원전압(VDD)이 인가되고, 드레인이 각각 피모스 트랜지스터(PM32, PM33)의 드레인에 공통 연결된 엔모스 트랜지스터(NM34, NM35)와, 게이트가 공통 연결되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 드레인이 각각 엔모스 트랜지스터(NM33, NM32)의 드레인에 공통 연결된 피모스 트랜지스터(PM34, PM35)와, 고전압(VPP)과 엔모스 트랜지스터(NM31) 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 고전압(VPP)이 인가되고, 게이트가 피모스 트랜지스터(PM33) 및 엔모스 트랜지스터(NM35)의 공통 연결된 드레인에 연결된 피모스 트랜지스터(PM36)와 게이트에 전원전압(VDD)이 인가된 엔모스 트랜지스터(NM36)와 벌크에 저전압(VBB)이 인가되고, 게이트가 피모스 트랜지스터(PM35) 및 엔모스 트랜지스터(NM32)의 공통 연결된 드레인에 연결된 엔모스 트랜지스터(NM36)와, 게이트가 공통 연결되어 피모스 트랜지스터(PM36) 및 엔모스 트랜지스터(37)의 공통 연결된 드레인에 연결되고, 벌크에 고전압이 인가된 피모스 트랜지스터(PM37) 및 벌크에 저전압(VBB)이 인가된 엔모스 트랜지스터(NM38)와, 피모스 트랜지스터(PM37)의 드레인과 엔모스 트랜지스터(NM38)의 드레인 사이에 연결되어 게이트에 전원전압(VDD)이 인가된 엔모스 트랜지스터(NM39)를 포함하여 구성된다.As illustrated, the word line boosting signal generator 30 may include a NAND gate ND1 for decoding the upper row address AXmn, and an inverter INV21 for inverting the output signal D of the NAND gate ND1. And an NMOS transistor NM31, which is controlled by the active signal ACT and selectively transmits the low voltage VBB, and which selectively controls the high voltage VPP, which is controlled by the inverted active signal / ACT. A MOS transistor PM31, a PMOS transistor PM32 to which a high voltage VPP is applied to a bulk, a gate is connected to a drain of each other, and a high voltage VPP is applied to a source, and a PMOS transistor PM31 to a source. The PMOS transistor PM33 to which the high voltage VPP selectively transferred by is applied, the low voltage VBB is applied to the bulk, the gate is connected to the drain of each other, and the low voltage VBB is applied to the source. NMOS transistor and NMOS on source The NMOS transistor NM33 to which the low voltage VBB selectively transmitted by the transistor NM31 is applied, the gate is connected in common, and the power supply voltage VDD is applied, and the drain is PMOS transistors PM32 and PM33, respectively. NMOS transistors NM34 and NM35 commonly connected to the drains of the NMOS transistors NM34 and NM35 and gates are commonly connected to the ground voltage VSS, and a PMOS transistor PM34 connected to the drains of the NMOS transistors NM33 and NM32 respectively. PM35 and the high voltage VPP and the NMOS transistor NM31 are connected in series, a high voltage VPP is applied to the bulk, and a gate is commonly connected between the PMOS transistor PM33 and the NMOS transistor NM35. PMOS transistor PM36 connected to the drain, NMOS36 NM36 having a power supply voltage VDD applied to the gate, and a low voltage VBB are applied to the bulk, and a gate is applied to the PMOS transistor PM35 and the NMOS transistor. The NMOS transistor NM36 connected to the common connected drain of NM32 and the gate are connected in common to the common connected drain of the PMOS transistor PM36 and the NMOS transistor 37, and a high voltage is applied to the bulk. It is connected between the NMOS transistor NM38 to which the low voltage VBB is applied to the MOS transistor PM37 and the bulk, the drain of the PMOS transistor PM37 and the drain of the NMOS transistor NM38, and the power supply voltage VDD to the gate. ) Is configured to include the applied NMOS transistor NM39.

여기서, 엔모스 트랜지스터(NM34, NM35) 및 피모스 트랜지스터(PM34, PM35)의 공통 연결된 드레인이 낸드게이트(ND1)의 출력단자 및 인버터(INV21)의 출력단자에 각각 연결된다.Here, the common connected drains of the NMOS transistors NM34 and NM35 and the PMOS transistors PM34 and PM35 are connected to the output terminal of the NAND gate ND1 and the output terminal of the inverter INV21, respectively.

피모스 트랜지스터(PM37)와 엔모스 트랜지스터(NM39)의 공통 연결된 드레인이 출력단자를 형성하여 워드라인 부스팅 신호(PX<0:3>)를 출력하고, 이를 인버터(INV22)를 사용하여 반전된 워드라인 부스팅 신호(/PX<0:3>)를 출력한다.A common connected drain of the PMOS transistor PM37 and the NMOS transistor NM39 forms an output terminal to output the word line boosting signal PX <0: 3>, which is inverted using the inverter INV22. Output a line boosting signal (/ PX <0: 3>).

이와 같이 구성된 본 발명의 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로의 스탠바이 모드(stand-by mode)에서의 동작을 설명하면 다음과 같다. 여기서는, 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로의 스탠바이 모드 상태만을 설명한다. 왜냐하면 서브 쓰레솔드 전류가 흐르는 경우는 스탠바이 모드 상태에서이기 때문이다.The operation in the standby mode of the word line control circuit of the semiconductor memory device of the present invention configured as described above is as follows. Here, only the standby mode state of the word line control circuit of the semiconductor memory device will be described. This is because the sub thrust current flows in the standby mode.

먼저, 스탠바이 모드(stand-by mode)에서 서브 워드라인(SWL0-SWL3)의 전압은 네거티브 전압인 저전압(VBB)으로 설정된다.First, in the standby mode, the voltage of the sub word lines SWL0-SWL3 is set to the low voltage VBB which is a negative voltage.

또한, 스탠바이 모드에서 로우 디코더 프리차지 신호(/XDP)가 로우 레벨이므로 신호(A)는 고전압(VPP), 인버터(INV11)의 출력신호(B)는 접지전압(VSS), 인버터(INV12)의 출력신호(C)는 고전압(VPP), 노드(N11)의 전압은 저전압(VBB)이 된다. 따라서, 메인 워드라인 구동신호(/MWL)는 고전압(VPP)이 된다.In addition, since the low decoder precharge signal / XDP is at a low level in the standby mode, the signal A is a high voltage VPP, the output signal B of the inverter INV11 is a ground voltage VSS, The output signal C becomes the high voltage VPP and the voltage of the node N11 becomes the low voltage VBB. Therefore, the main word line driving signal / MWL becomes the high voltage VPP.

이때, 서브 쓰레솔드 전류는 엔모스 트랜지스터(NM15), 인버터(INV11)의 피모스 트랜지스터(미도시) 및 인버터(INV12)의 엔모스 트랜지스터(미도시)에서 흐르게 되는데, 셀프-반전 바이어싱(self-reverse biasing) 방식을 사용하여 이러한 서브 쓰레솔드 전류 줄일 수 있다. 즉, 고전압(VPP)을 반전된 액티브 신호(/ACT)에 의해 제어되는 피모스 트랜지스터(PM12)에 의해 스탠바이 모드에서는 차단하고, 저전압(VBB)을 액티브 신호(ACT)에 의해 제어되는 엔모스 트랜지스터(NM16)에 의해 스탠바이 모드에서는 차단하여 각각 고전압(VPP)과 저전압(VBB)으로 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄일 수 있다.At this time, the sub-threshold current flows in the NMOS transistor NM15, the PMOS transistor (not shown) of the inverter INV11, and the NMOS transistor (not shown) of the inverter INV12, and self-inverted biasing (self). This subthreshold current can be reduced by using the reverse bias method. That is, the high voltage VPP is cut off in the standby mode by the PMOS transistor PM12 controlled by the inverted active signal / ACT, and the low voltage VBB is controlled by the active signal ACT. By NM16, it is possible to cut off in the standby mode to reduce the sub-threshold current flowing at the high voltage VPP and the low voltage VBB, respectively.

스탠바이 모드에서 액티브 신호(ACT)가 로우 레벨이기 때문에, 피모스 트랜지스터(PM12)와 엔모스 트랜지스터(NM16)는 턴 오프 되어 있다. 따라서, 반복적으로 배치되어 있는 메인 로우 디코더(10)에서 고전압(VPP)과 저전압(VBB)으로 흐르는 서브 쓰레솔드 전류는 피모스 트랜지스터(PM12)와 엔모스 트랜지스터(NM16)의 채널 폭에 의해 결정된다.Since the active signal ACT is at the low level in the standby mode, the PMOS transistor PM12 and the NMOS transistor NM16 are turned off. Therefore, the sub-threshold current flowing in the high voltage VPP and the low voltage VBB in the main row decoder 10 repeatedly arranged is determined by the channel widths of the PMOS transistor PM12 and the NMOS transistor NM16. .

또한, 인버터(INV11)의 피모스 트랜지스터(미도시)의 N-웰(N-well)과 인버터(INV12)의 엔모스 트랜지스터(미도시)의 P-웰(P-well)은 도 6에 도시된 바와 같이, 각각 고전압(VPP)과 저전압(VBB)에 연결되어 있기 때문에 인버터(INV11)의 피모스 트랜지스터(미도시)와 인버터(INV12)의 엔모스 트랜지스터(미도시)는 높은문턱전압(high-Vt)을 갖기 때문에 인버터(INV11, INV12)를 통해 흐르는 서브 쓰레솔드 전류는 무시할 만큼 작아지게 된다.Further, an N-well of a PMOS transistor (not shown) of the inverter INV11 and a P-well of an NMOS transistor (not shown) of the inverter INV12 are shown in FIG. 6. As described above, since the PMOS transistor (not shown) of the inverter INV11 and the NMOS transistor (not shown) of the inverter INV12 are connected to the high voltage VPP and the low voltage VBB, respectively, the high threshold voltage is high. -Vt), the subthreshold current flowing through inverters INV11 and INV12 becomes negligibly small.

또한, 도 5에 도시된 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)의 피모스 트랜지스터(PM33, PM37), 엔모스 트랜지스터(NM33, NM36) 및 인버터(INV21)의 피모스 트랜지스터(미도시)를 통해 서브 쓰레솔드 전류가 흐르게 된다.In addition, the PMOS transistors PM33 and PM37 of the word line boosting signal generator 30, NMOS 33 and NM36 of the word line boosting signal generator 30, and the PMOS transistors (not shown) of the inverter INV21 may be used. Threshold current flows.

여기서, 인버터(INV21)의 피모스 트랜지스터(미도시)를 통해 흐르는 서브 쓰레솔드 전류는 도 6에 도시된 바와 같이 N-웰을 고전압(VPP)에 연결하여 높은 문턱전압을 갖기 때문에 무시할 만큼 작아지게 된다.Here, the sub-threshold current flowing through the PMOS transistor (not shown) of the inverter INV21 becomes negligibly small because it has a high threshold voltage by connecting the N-well to the high voltage VPP as shown in FIG. 6. do.

피모스 트랜지스터(PM33, PM37)를 통해 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄이기 위해 스탠바이 모드에서는 반전된 액티브 신호(/ACT)에 의해 제어되는 피모스 트랜지스터(PM31)가 턴 오프 되어 고전압(VPP)이 피모스 트랜지스터(PM33, PM37)에 인가되지 않도록 한다.In the standby mode, the PMOS transistor PM31, which is controlled by the inverted active signal / ACT, is turned off in order to reduce the sub-threshold current flowing through the PMOS transistors PM33 and PM37, so that the high voltage VPP becomes PMOS. It is not applied to the transistors PM33 and PM37.

마찬가지로, 엔모스 트랜지스터(NM33, NM36)를 통해 흐르는 서브 쓰레솔드 전류를 줄이기 위해 스탠바이 모드에서는 액티브 신호(ACT)에 의해 제어되는 엔모스 트랜지스터(NM31)가 턴 오프 되어 저전압(VBB)이 엔모스 트랜지스터(NM33, NM36)에 인가되지 않도록 한다.Similarly, in the standby mode, the NMOS transistor NM31, which is controlled by the active signal ACT, is turned off in order to reduce the sub-threshold current flowing through the NMOS transistors NM33 and NM36, so that the low voltage VBB becomes the NMOS transistor. Do not apply to (NM33, NM36).

이와 같이 메인 로우 디코더(10) 및 워드라인 부스팅 신호 발생부(30)에서 흐르게 되는 서브 쓰레솔드 전류를 줄일 수 있다.As such, it is possible to reduce the sub-threshold current flowing through the main row decoder 10 and the word line boosting signal generator 30.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 워드라인제어회로는 계층적인 워드라인 구조를 사용함으로써 메탈 워드라인에서의 공정 마진을 확보하고, 서브 쓰레솔드 전류를 줄이기 위해 계층적인 네거티브 전압 워드라인 구동 방식을 사용하고, 부가적인 채널 임플렌테이션(channel implantation) 없이 삼중-웰(triple-well) 구조를 이용하여 N-웰과 P-웰 바이어스로 각각 고전압(VPP)과 저전압(VBB)을 인가하여 높은 문턱전압을 갖는 모스 트랜지스터를 사용하여 전원전압(VDD) 단자와 접지전압(VSS) 단자로 흐르는 전류를 줄이고, 셀프-반전 바이어싱 방식(self-reverse biasing)을 사용하여 고전압(VPP) 단자와 저전압(VBB) 단자로 흐르는 전류를 줄일 수 있는 효과가 있다.As described above, the word line control circuit of the semiconductor memory device according to the present invention uses a hierarchical word line structure to secure a process margin in the metal word line and to reduce the subthreshold current to hierarchical negative voltage words. Using high voltage (VPP) and low voltage (VBB) with N-well and P-well bias, respectively, using a line drive method and triple-well structure without additional channel implantation To reduce the current flowing through the power supply voltage (VDD) terminal and the ground voltage (VSS) terminal by using a MOS transistor having a high threshold voltage, and to the high voltage (VPP) terminal by using self-reverse biasing. And it can reduce the current flowing to the low voltage (VBB) terminal.

아울러 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.In addition, a preferred embodiment of the present invention is for the purpose of illustration, those skilled in the art will be able to various modifications, changes, substitutions and additions through the spirit and scope of the appended claims, such modifications and changes are the following claims It should be seen as belonging to a range.

Claims (4)

계층적 워드라인을 갖는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로에 있어서,In a word line control circuit of a semiconductor memory device having a hierarchical word line, 백 바이어스로 전원전압보다 높은 고전압이 인가되는 제1 셀프 바이어싱 수단과 상기 고전압 사이에 제1 스위칭 수단이 연결되고, 백 바이어스로 접지전압보다 낮은 저전압이 인가되는 제2 셀프 바이어싱 수단과 상기 저전압 사이에 제2 스위칭 수단이 연결되어, 입력된 로우 어드레스를 디코딩 하는 메인 로우 디코더와,The first switching means is connected between the first self-biasing means and the high voltage is applied to the high voltage higher than the power supply voltage as the back bias, the second self-biasing means and the low voltage is applied to the low voltage lower than the ground voltage as the back bias A second switching means connected between the main row decoder to decode the input row address; 상기 메인 로우 디코더에 의해 디코딩 된 신호에 의해 서브 워드라인을 구동하는 복수개의 서브 워드라인 드라이버와,A plurality of sub word line drivers for driving sub word lines by signals decoded by the main row decoder; 백 바이어스로 상기 고전압이 인가되는 제1 셀프 바이어싱 수단과 상기 고전압 사이에 제1 스위칭 수단이 연결되고, 백 바이어스로 상기 저전압이 인가되는 제2 셀프 바이어싱 수단과 상기 저전압 사이에 제2 스위칭 수단이 연결되어, 입력된 상위 로우 어드레스를 디코딩 하여 워드라인 부스팅 신호를 상기 서브 워드라인 드라이버에 인가하는 워드라인 부스팅 신호 발생 수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로.A first switching means is connected between the first self biasing means to which the high voltage is applied as a back bias and the high voltage, and a second switching means between the second self biasing means and the low voltage to which the low voltage is applied as a back bias. And word line boosting signal generating means for decoding the input upper row address to apply a word line boosting signal to the sub word line driver. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 스탠바이 모드에서,In standby mode, 상기 제1 스위칭 소자는 상기 제1 셀프 바이어싱 수단의 백 바이어스로 고전압이 인가되는 것을 차단하고,The first switching device blocks the high voltage from being applied to the back bias of the first self-biasing means, 상기 제2 스위칭 수단은 상기 제2 셀프 바이어싱 수단의 백 바이어스로 상기 저전압이 인가되는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로.And the second switching means blocks the low voltage from being applied by the back bias of the second self-biasing means. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위칭 소자는 선택된 뱅크를 액티브 시키기 위한 제어신호에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로.And the switching element is controlled by a control signal for activating a selected bank. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 셀프 바이어싱 수단은 삼중 웰 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 워드라인 제어회로.And the self-biasing means is formed in a triple well structure.
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KR100945789B1 (en) * 2007-12-10 2010-03-08 주식회사 하이닉스반도체 Sub-Word Line Driver and Semiconductor Memory Apparatus with the Same
KR100940827B1 (en) * 2008-04-18 2010-02-04 주식회사 하이닉스반도체 Low Power Comsumption Semiconductor Device
KR100920845B1 (en) 2008-06-04 2009-10-08 주식회사 하이닉스반도체 Row address decoder and semiconductor memory apparatus with the same
KR100967095B1 (en) * 2008-12-05 2010-07-01 주식회사 하이닉스반도체 Semiconductor memory device
KR102144871B1 (en) * 2013-12-30 2020-08-14 에스케이하이닉스 주식회사 Semicondutor apparatus controlling back bias

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