JP2000077005A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
壁面(14)により形成されたアーク室(12)と、イオン化可能ガスを前記アーク室内に導くための入口(16)と、イオン化されたプラズマが引き出される出口開口(22)と、第1,第2脚部(20a,20b) 、および第1,第2脚部のそれぞれに接続される端部を有する熱放射用の中央部分(40)を有するフィラメント(18)とを含み、
前記中央部分(40)は、その全長にわたって反対方向にコイル状に巻かれた2つの半割部(40a,40b)を形成しかつ閉ループの形に形成され、
前記中央部分(40)のコイルは、電流が前記中央部分に流れるとき、閉ループの磁力線(B) を作り出し、かつこの磁力線(B) は、前記中央部分(40)の表面から前記コイルの境界内に放出された電子(E) を閉じ込めることを特徴とするイオン注入用のイオン源。
【請求項2】
前記第1,第2脚部(20a,20b) は、タンタル(Ta)から構成され、前記中央部分(40)は、タングステン(W) から構成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項3】
前記中央部分(40)は、複数のフィラメントストランド(42,44,46)から構成され、これらのストランドは、その全長にわたってねじられていることを特徴とする特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項4】
前記中央部分(40)は、トロイダル形状であることを特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項5】
(a)壁面(33)により形成されたアーク室(32)と、
(b)イオン化可能ガスを前記アーク室内に導くための入口(34)と、
(c)イオン化されたプラズマが引き出される出口開口(38)と、
(d)第1,第2脚部(20a,20b) 、および第1,第2脚部のそれぞれに接続される端部を有する熱放射用の中央部分(40)を有するフィラメント(18)とを含み、
前記中央部分(40)は、その全長にわたって反対方向にコイル状に巻かれた2つの半割部(40a,40b)を形成しかつ閉ループの形に形成され、
前記中央部分(40)のコイルは、電流が前記中央部分に流れるとき、閉ループの磁力線(B) を作り出し、かつこの磁力線(B) は、前記中央部分(40)の表面から前記コイルの境界内に放出された電子(E) を閉じ込めることを特徴とするイオン注入用のプラズマシャワー装置。
【請求項6】
前記第1,第2脚部(20a,20b) は、タンタル(Ta)から構成され、前記中央部分(40)は、タングステン(W) から構成されていることを特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
【請求項7】
前記中央部分(40)は、複数のフィラメントストランド(42,44,46)から構成され、これらのストランドは、その全長にわたってねじられていることを特徴とする特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
【請求項8】
前記中央部分(40)は、トロイダル形状であることを特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
【請求項1】
壁面(14)により形成されたアーク室(12)と、イオン化可能ガスを前記アーク室内に導くための入口(16)と、イオン化されたプラズマが引き出される出口開口(22)と、第1,第2脚部(20a,20b) 、および第1,第2脚部のそれぞれに接続される端部を有する熱放射用の中央部分(40)を有するフィラメント(18)とを含み、
前記中央部分(40)は、その全長にわたって反対方向にコイル状に巻かれた2つの半割部(40a,40b)を形成しかつ閉ループの形に形成され、
前記中央部分(40)のコイルは、電流が前記中央部分に流れるとき、閉ループの磁力線(B) を作り出し、かつこの磁力線(B) は、前記中央部分(40)の表面から前記コイルの境界内に放出された電子(E) を閉じ込めることを特徴とするイオン注入用のイオン源。
【請求項2】
前記第1,第2脚部(20a,20b) は、タンタル(Ta)から構成され、前記中央部分(40)は、タングステン(W) から構成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項3】
前記中央部分(40)は、複数のフィラメントストランド(42,44,46)から構成され、これらのストランドは、その全長にわたってねじられていることを特徴とする特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項4】
前記中央部分(40)は、トロイダル形状であることを特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項5】
(a)壁面(33)により形成されたアーク室(32)と、
(b)イオン化可能ガスを前記アーク室内に導くための入口(34)と、
(c)イオン化されたプラズマが引き出される出口開口(38)と、
(d)第1,第2脚部(20a,20b) 、および第1,第2脚部のそれぞれに接続される端部を有する熱放射用の中央部分(40)を有するフィラメント(18)とを含み、
前記中央部分(40)は、その全長にわたって反対方向にコイル状に巻かれた2つの半割部(40a,40b)を形成しかつ閉ループの形に形成され、
前記中央部分(40)のコイルは、電流が前記中央部分に流れるとき、閉ループの磁力線(B) を作り出し、かつこの磁力線(B) は、前記中央部分(40)の表面から前記コイルの境界内に放出された電子(E) を閉じ込めることを特徴とするイオン注入用のプラズマシャワー装置。
【請求項6】
前記第1,第2脚部(20a,20b) は、タンタル(Ta)から構成され、前記中央部分(40)は、タングステン(W) から構成されていることを特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
【請求項7】
前記中央部分(40)は、複数のフィラメントストランド(42,44,46)から構成され、これらのストランドは、その全長にわたってねじられていることを特徴とする特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
【請求項8】
前記中央部分(40)は、トロイダル形状であることを特徴とする請求項5記載のプラズマシャワー装置。
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US5256947A (en) * | 1990-10-10 | 1993-10-26 | Nec Electronics, Inc. | Multiple filament enhanced ion source |
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