JP2000042802A - Guide bush and forming of coat on guide bush - Google Patents

Guide bush and forming of coat on guide bush

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JP2000042802A
JP2000042802A JP10213587A JP21358798A JP2000042802A JP 2000042802 A JP2000042802 A JP 2000042802A JP 10213587 A JP10213587 A JP 10213587A JP 21358798 A JP21358798 A JP 21358798A JP 2000042802 A JP2000042802 A JP 2000042802A
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guide bush
forming
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vacuum chamber
carbon film
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杉山  修
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of a guide bush for forming a hard carbon film with good adhesiveness on the guide bush inner circumferential face, and a forming method of the hard carbon film, capable of forming the hard carbon film with the good adhesiveness and with a uniform film thickness on the opening inner face of the guide bush. SOLUTION: A cemented carbide member 12 is formed on the inner circumferential face of a guide bush 11 equipped with an outer circumferential taper face, a slitting and a screw part, and a hard carbon film 15 is formed on the upper face of the cemented carbide member 12 through an intermediate layer 14, and irregularities are formed on the surface of the hard carbon film 15 so as to copy irregularities of the surface of the cemented carbide member 12.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は自動旋盤に設けて被
加工物を回転可能に支持する回転型や固定型のガイドブ
ッシュの構造と、このガイドブッシュへの中間層と硬質
カーボン膜との被膜を形成する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a rotary or fixed type guide bush provided on an automatic lathe for rotatably supporting a workpiece, and a coating of the guide bush with an intermediate layer and a hard carbon film. To a method of forming

【0002】[0002]

【従来の技術】自動旋盤の自動旋盤コラムに設けて被加
工物を回転可能に支持するガイドブッシュの内周面は、
つねに被加工物と接触して、ともに回転したり、あるい
はその内周面で被加工物が回転したり、さらに軸方向に
摺動する。
2. Description of the Related Art An inner peripheral surface of a guide bush provided on an automatic lathe column of an automatic lathe to rotatably support a workpiece is
The workpiece always contacts and rotates together, or the workpiece rotates on the inner peripheral surface thereof, and further slides in the axial direction.

【0003】この回転や摺動によって被加工物が接触す
るガイドブッシュの内周面に超硬部材やセラミックスを
設けるものが、たとえば特開平4−141303号公報
にて提案されている。耐摩耗性や耐熱性に優れる超硬部
材やセラミックスを内周面に設ける、この公報に記載の
ガイドブッシュにおいては、ある程度の摩耗を抑制する
効果は認められる。
A structure in which a superhard member or ceramics is provided on the inner peripheral surface of a guide bush that comes into contact with a workpiece by rotation or sliding has been proposed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-141303. In the guide bush described in this publication, in which a super-hard member or ceramic having excellent wear resistance and heat resistance is provided on the inner peripheral surface, an effect of suppressing a certain amount of wear is recognized.

【0004】しかしながらこの公報に記載のガイドブッ
シュにおいては、自動旋盤で切削量が大きく加工速度が
大きな重切削にたいして、超硬材料やセラミックスは大
きな摩擦係数や低い熱伝導率に起因して、被加工物にキ
ズが発生したり、ガイドブッシュと被加工物との直径方
向の隙間寸法が減少して焼き付きが発生する。
[0004] However, in the guide bush described in this publication, in the case of heavy cutting in which the amount of cutting is large and the machining speed is large with an automatic lathe, a super hard material or ceramic is processed due to a large friction coefficient and a low thermal conductivity. Scratches are generated on the object, and the diameter of the gap between the guide bush and the workpiece in the diameter direction is reduced, so that seizure occurs.

【0005】そこでガイドブッシュ内周面に設ける超硬
部材上面に硬質カーボン膜を被覆して、内周面の摩耗を
抑制することが提案されている。この硬質カーボン膜は
黒色状の被膜で、ダイヤモンドによく似た性質をもつ。
すなわち硬質カーボン膜は、高い機械的硬度や低い摩擦
係数や良好な電気的絶縁性や高い熱伝導率や高い耐腐食
性という優れた特性をもつ。
Therefore, it has been proposed to cover the upper surface of the super hard member provided on the inner peripheral surface of the guide bush with a hard carbon film to suppress the abrasion of the inner peripheral surface. This hard carbon film is a black film and has properties very similar to diamond.
That is, the hard carbon film has excellent characteristics such as high mechanical hardness, low coefficient of friction, good electrical insulation, high thermal conductivity, and high corrosion resistance.

【0006】そのため装飾品や医療機器や磁気ヘッドや
工具などに硬質カーボン膜を被覆することが提案され実
用化されている。そして、この硬質カーボン膜は水素化
アモルファス・カーボン膜であり、前述のようにダイヤ
モンドとよく似た性質をもつため、ダイヤモンド・ライ
ク・カーボン膜(DLC)と呼ばれたり、あるいはi−
カーボン膜ともよばれている。
For this reason, it has been proposed and put to practical use to coat decorative articles, medical equipment, magnetic heads, tools and the like with a hard carbon film. This hard carbon film is a hydrogenated amorphous carbon film, and has properties similar to diamond as described above, and is therefore called a diamond-like carbon film (DLC) or i-type carbon film.
Also called a carbon film.

【0007】〔従来技術のガイドブッシュへの硬質カー
ボン膜の形成方法:図14〕プラスマ化学気相成長法を
用いた従来技術におけるガイドブッシュへの硬質カーボ
ン膜の形成方法を、図14を用いて説明する。図14は
従来技術における硬質カーボン膜の形成方法を示す断面
図である。
[Prior art method of forming hard carbon film on guide bush: FIG. 14] A conventional method of forming a hard carbon film on guide bush using plasma chemical vapor deposition is described with reference to FIG. explain. FIG. 14 is a cross-sectional view showing a method of forming a hard carbon film according to the prior art.

【0008】図14に示すように、ガス導入口63と排
気口65を有する真空槽61内に、硬質カーボン膜を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このガイドブッ
シュ11は合金工具鋼(SKS)を用いて、外形形状と
内形形状とを形成後、焼き入れ処理と焼きもどし処理を
行っている。そして、このガイドブッシュ11内周面に
は超硬部材を設けている。
As shown in FIG. 14, a guide bush 11 for forming a hard carbon film is arranged in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. The guide bush 11 performs quenching and tempering after forming an outer shape and an inner shape using alloy tool steel (SKS). A super hard member is provided on the inner peripheral surface of the guide bush 11.

【0009】そしてこのガイドブッシュ11には、直流
電源73から直流電圧を印加する。さらにガイドブッシ
ュ11に対向するように配置するアノード79にはアノ
ード電源75から直流電圧を印加し、さらにフィラメン
ト81にはフィラメント電源77から交流電圧を印加す
る。
A DC voltage is applied to the guide bush 11 from a DC power supply 73. Further, a DC voltage is applied from an anode power supply 75 to an anode 79 disposed to face the guide bush 11, and an AC voltage is applied to the filament 81 from a filament power supply 77.

【0010】そして、排気口65から真空槽61内を図
示しない排気手段によって真空排気した後、ガス導入口
63から炭素を含むガスを真空槽61内に導入して、真
空槽61内にプラズマを発生させて、ガイドブッシュ1
1に硬質カーボン膜を形成している。
Then, after the inside of the vacuum chamber 61 is evacuated from the exhaust port 65 by exhaust means (not shown), a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber 61 from the gas inlet port 63, and plasma is generated in the vacuum chamber 61. Generate the guide bush 1
1, a hard carbon film is formed.

【0011】この図14に示す装置を用いる硬質カーボ
ン膜の形成方法においては、ガイドブッシュ11に印加
する直流電圧により発生するプラズマと、交流電圧を印
加するフィラメント81と直流電圧を印加するアノード
79とによって発生するプラズマとが発生する。
In the method of forming a hard carbon film using the apparatus shown in FIG. 14, a plasma generated by a DC voltage applied to the guide bush 11, a filament 81 for applying an AC voltage, and an anode 79 for applying a DC voltage are provided. And the generated plasma.

【0012】そして硬質カーボン膜を形成するときの真
空槽61内の圧力により、ガイドブッシュ11周囲のプ
ラズマか、フィラメント81とアノード79近傍のプラ
ズマかが主になって、硬質カーボン膜を形成している。
The plasma in the vicinity of the guide bush 11 or the plasma in the vicinity of the filament 81 and the anode 79 mainly forms the hard carbon film due to the pressure in the vacuum chamber 61 when the hard carbon film is formed. I have.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】図14を用いて説明し
た硬質カーボン膜の形成方法においては、真空槽61内
の圧力が3×10-3torr以上のときは、ガイドブッ
シュ11の周囲領域に発生するプラズマが主になって、
炭素を含むガスを分解して硬質カーボン膜を形成してい
る。
In the method for forming a hard carbon film described with reference to FIG. 14, when the pressure in the vacuum chamber 61 is 3 × 10 −3 torr or more, the area around the guide bush 11 is reduced. The generated plasma is mainly
The gas containing carbon is decomposed to form a hard carbon film.

【0014】このときガイドブッシュ11の外周部には
硬質カーボン膜を均一性よく形成することができるが、
ガイドブッシュ11の開口内面に形成する硬質カーボン
膜は密着性が悪く、さらに硬度などの膜質が劣る。
At this time, a hard carbon film can be formed on the outer peripheral portion of the guide bush 11 with good uniformity.
The hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 has poor adhesion, and further has poor film quality such as hardness.

【0015】これは、ガイドブッシュ11には同じ電位
が印加されており、開口内面は同電位の電極どうしが対
向している空間となり、その開口内面でのプラズマはホ
ロー放電と呼ばれる異常放電を発生する。
This is because the same potential is applied to the guide bush 11, the inner surface of the opening is a space where electrodes of the same potential face each other, and the plasma on the inner surface of the opening generates an abnormal discharge called hollow discharge. I do.

【0016】このホロー放電によって形成される硬質カ
ーボン膜は、ポリマーライクな密着性の悪い被膜であ
り、ガイドブッシュ11の開口内面から剥離しやすく、
その硬度も低い。
The hard carbon film formed by the hollow discharge is a polymer-like film having poor adhesion, and is easily peeled from the inner surface of the opening of the guide bush 11.
Its hardness is also low.

【0017】これにたいして真空槽61内部の圧力が3
×10-3torrより低いときは、ガイドブッシュ11
周囲のプラズマより、硬質カーボン膜の形成はフィラメ
ント81とアノード79近傍に発生するプラズマがおも
に寄与する。
On the other hand, when the pressure inside the vacuum chamber 61 is 3
When it is lower than × 10 -3 torr, the guide bush 11
The plasma generated in the vicinity of the filament 81 and the anode 79 mainly contributes to the formation of the hard carbon film from the surrounding plasma.

【0018】このときガイドブッシュ11の外周部には
硬質カーボン膜を均一性よく形成することができるが、
ガイドブッシュ11の開口内面に形成する硬質カーボン
膜はガイドブッシュ11の長手方向で膜厚を均一に形成
することができない。
At this time, a hard carbon film can be formed on the outer peripheral portion of the guide bush 11 with good uniformity.
The hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 cannot have a uniform thickness in the longitudinal direction of the guide bush 11.

【0019】ここで、フィラメント81とアノード79
近傍に発生するプラズマでイオン化された炭素イオン
は、ガイドブッシュ11に印加する直流負電位に引っ張
られて堆積し、ガイドブッシュ11に硬質カーボン膜の
被膜形成を行っている。
Here, the filament 81 and the anode 79
The carbon ions ionized by the plasma generated in the vicinity are pulled by the DC negative potential applied to the guide bush 11 and deposited, thereby forming a hard carbon film on the guide bush 11.

【0020】前述の真空槽61内の圧力が3×10-3
orrより高いときは、硬質カーボン膜が化学気相成長
的に形成されるのにたいして、圧力が3×10-3tor
rより低いときは、硬質カーボン膜が物理気相成長的に
形成される。
The pressure in the vacuum chamber 61 is 3 × 10 −3 t.
When the pressure is higher than orr, the pressure is 3 × 10 −3 torr when the hard carbon film is formed by chemical vapor deposition.
When it is lower than r, a hard carbon film is formed by physical vapor deposition.

【0021】このためにフィラメント81とアノード7
9近傍に発生するプラズマがおもに寄与する硬質カーボ
ン膜形成のときは、真空蒸着法などの物理気相成長法と
同様に、ガイドブッシュ11の開口内面には開口端面か
ら開口奥側に向かうにしたがって、硬質カーボン膜の膜
厚が薄くなる。この結果、ガイドブッシュ11の開口内
面に形成する硬質カーボン膜は、ガイドブッシュ11の
長手方向でその膜厚を均一に形成することができない。
For this purpose, the filament 81 and the anode 7
In the case of forming a hard carbon film in which plasma generated in the vicinity of 9 mainly contributes, the inner surface of the opening of the guide bush 11 extends from the opening end face toward the back of the opening, similarly to the physical vapor deposition method such as the vacuum evaporation method. The thickness of the hard carbon film is reduced. As a result, the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 cannot have a uniform thickness in the longitudinal direction of the guide bush 11.

【0022】さらに、内周面に形成した硬質カーボン膜
の耐久性を向上させて、ガイドブッシュの長期使用にた
いする信頼性を高めることも要求されている。
Further, it is also required to improve the durability of the hard carbon film formed on the inner peripheral surface to enhance the reliability of the guide bush for long-term use.

【0023】〔発明の目的〕本発明の目的は、上記課題
を解決して、内周面に形成した硬質カーボン膜の耐久性
を向上させ、ガイドブッシュの長期使用にたいする信頼
性を高めることが可能なガイドブッシュ構造と、このガ
イドブッシュの開口内面に密着性よくしかも均一な膜厚
で硬質カーボン膜を形成することが可能な硬質カーボン
膜の形成方法とを提供することである。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to solve the above problems, improve the durability of the hard carbon film formed on the inner peripheral surface, and improve the reliability of the guide bush for long-term use. An object of the present invention is to provide a simple guide bush structure and a method for forming a hard carbon film capable of forming a hard carbon film with good adhesion and a uniform film thickness on the inner surface of the opening of the guide bush.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のガイドブッシュの構造とこのガイドブッシュ
への被膜の形成方法においては、下記記載の手段を採用
する。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, in the structure of the guide bush of the present invention and the method of forming a coating on the guide bush, the following means are employed.

【0025】本発明のガイドブッシュにおいては、軸方
向に貫通した中心開口を有しほぼ円筒状の形状をもち、
その長手方向の一端部に外周テーパ面とそれに弾力をも
たせるための摺り割りを形成し、他端部に自動旋盤のコ
ラムに取り付けるためのネジ部を有し、外周テーパ面を
形成した部分の内周に被加工物を保持するための内周面
を形成しており、自動旋盤に取り付けられることにより
中心開口に挿入された被加工物を、その被加工物を保持
する内周面によって切削工具の近くにて回転および軸方
向に摺動可能に保持し、内周面に中間層を設け、その中
間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュであ
って、その硬質カーボン膜の表面は、凹凸であることを
特徴とする。
The guide bush of the present invention has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction.
One end in the longitudinal direction is formed with an outer tapered surface and a slit for giving it elasticity, and the other end is provided with a screw portion for attaching to a column of an automatic lathe. An inner peripheral surface for holding the workpiece is formed around the periphery, and the workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is cut by the inner peripheral surface holding the workpiece. Is a guide bush in which an intermediate layer is provided on the inner peripheral surface and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, and the surface of the hard carbon film is It is characterized by being uneven.

【0026】本発明のガイドブッシュにおいては、軸方
向に貫通した中心開口を有しほぼ円筒状の形状をもち、
その長手方向の一端部に外周テーパ面とそれに弾力をも
たせるための摺り割りを形成し、他端部に自動旋盤のコ
ラムに取り付けるためのネジ部を有し、外周テーパ面を
形成した部分の内周に被加工物を保持するための内周面
を形成しており、自動旋盤に取り付けられることにより
中心開口に挿入された被加工物を、その被加工物を保持
する内周面によって切削工具の近くにて回転および軸方
向に摺動可能に保持し、その内周面に超硬部材を設け、
その超硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カ
ーボン膜を形成したガイドブッシュであって、その硬質
カーボン膜の表面は、凹凸であることを特徴とする。
The guide bush of the present invention has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction.
One end in the longitudinal direction is formed with an outer tapered surface and a slit for giving it elasticity, and the other end is provided with a screw portion for attaching to a column of an automatic lathe. An inner peripheral surface for holding the workpiece is formed around the periphery, and the workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is cut by the inner peripheral surface holding the workpiece. , And slidably held in the axial and axial directions, and provided with a superhard member on its inner peripheral surface.
A guide bush having an intermediate layer provided on the superhard member and a hard carbon film formed on the intermediate layer, wherein the surface of the hard carbon film is uneven.

【0027】本発明のガイドブッシュにおいては、軸方
向に貫通した中心開口を有しほぼ円筒状の形状をもち、
その長手方向の一端部に外周テーパ面とそれに弾力をも
たせるための摺り割りを形成し、他端部に自動旋盤のコ
ラムに取り付けるためのネジ部を有し、外周テーパ面を
形成した部分の内周に被加工物を保持するための内周面
を形成しており、自動旋盤に取り付けられることにより
中心開口に挿入された被加工物を、その被加工物を保持
する内周面によって切削工具の近くにて回転および軸方
向に摺動可能に保持し、その内周面に超硬部材を設け、
その超硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カ
ーボン膜を形成したガイドブッシュであって、超硬部材
の表面は、凹凸であり、その超硬部材の表面の凹凸に倣
うように硬質カーボン膜の表面は凹凸であることを特徴
とする。
The guide bush of the present invention has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction.
One end in the longitudinal direction is formed with an outer tapered surface and a slit for giving it elasticity, and the other end is provided with a screw portion for attaching to a column of an automatic lathe. An inner peripheral surface for holding the workpiece is formed around the periphery, and the workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is cut by the inner peripheral surface holding the workpiece. , And slidably held in the axial and axial directions, and provided with a superhard member on its inner peripheral surface.
A guide bush in which an intermediate layer is provided on the super hard member, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, and the surface of the super hard member is uneven, so as to follow the unevenness of the surface of the super hard member. In addition, the surface of the hard carbon film is uneven.

【0028】本発明のガイドブッシュにおいては、軸方
向に貫通した中心開口を有しほぼ円筒状の形状をもち、
その長手方向の一端部に外周テーパ面とそれに弾力をも
たせるための摺り割りを形成し、他端部に自動旋盤のコ
ラムに取り付けるためのネジ部を有し、外周テーパ面を
形成した部分の内周に被加工物を保持するための内周面
を形成しており、自動旋盤に取り付けられることにより
中心開口に挿入された被加工物を、その被加工物を保持
する内周面によって切削工具の近くにて回転および軸方
向に摺動可能に保持し、その内周面にすくなくともコバ
ルトを含む超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を
設け、その中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイド
ブッシュであって、超硬部材の表面は、コバルトが除去
されて凹凸であり、その超硬部材の表面の凹凸に倣うよ
うに硬質カーボン膜の表面は凹凸であることを特徴とす
る。
The guide bush of the present invention has a substantially cylindrical shape with a central opening penetrating in the axial direction.
One end in the longitudinal direction is formed with an outer tapered surface and a slit for giving it elasticity, and the other end is provided with a screw portion for attaching to a column of an automatic lathe. An inner peripheral surface for holding the workpiece is formed around the periphery, and the workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is cut by the inner peripheral surface holding the workpiece. , Which is slidably held in the direction of rotation and axially slidable, and provided with a carbide member containing at least cobalt on the inner peripheral surface thereof, an intermediate layer provided on the carbide member, and a hard carbon film provided on the intermediate layer. Wherein the surface of the super hard member is uneven due to the removal of cobalt, and the surface of the hard carbon film is uneven so as to follow the uneven surface of the super hard member. I do.

【0029】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面により切削工具の近くに
て回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面に
超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、その
中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュへ
の被膜の形成方法であって、その超硬材料の表面をエッ
チングすることにより凹凸を形成する工程と、ガイドブ
ッシュの内周面をターゲットと対向するように真空槽内
に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口からアル
ゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング法により
中間層を形成する工程と、中間層を形成したガイドブッ
シュの開口内面に接地電位と接続する補助電極を挿入す
るようにガイドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内
を排気した後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽
内に導入し、ガイドブッシュに直流電圧を印加しアノー
ドに直流電圧を印加しフィラメントに交流電圧を印加し
てプラズマを発生させてガイドブッシュに硬質カーボン
膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on a guide bush according to the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece is slidably and axially slidably held near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material, and targeting an inner peripheral surface of the guide bush After the inside of the vacuum chamber was evacuated, the argon gas was introduced from the gas inlet into the vacuum chamber to form an intermediate layer by a sputtering method, and the intermediate layer was formed. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. And guy Characterized by a step of forming a hard carbon film DC voltage DC voltage is applied to an AC voltage is applied to the filaments to generate a plasma applied to the anode and to the guide bush to bush.

【0030】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に接地電位と接続する補助電極を挿入するようにガイ
ドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに直流電圧を印加しアノードに直流
電圧を印加しフィラメントに交流電圧を印加してプラズ
マを発生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成
する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has a tapered outer peripheral surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. A step of introducing a gas containing nitrogen into a vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, applying a DC voltage to the anode, applying an AC voltage to the filament to generate plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. And characterized in that:

【0031】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることによって中心開口に挿入された被加工物
を、その被加工物を保持する内周面によって切削工具の
近くにて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内
周面に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設
け、その中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法であって、その超硬材料の表
面をエッチングすることにより凹凸を形成する工程と、
ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気したのち、ガス導入
口からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリン
グ法により中間層を形成する工程と、中間層を形成した
ガイドブッシュの開口内面に接地電位と接続する補助電
極を挿入するようにガイドブッシュを真空槽内に配置
し、真空槽内を排気した後、ガス導入口から炭素を含む
ガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシュに高周波電圧
を印加し、プラズマを発生させてガイドブッシュに硬質
カーボン膜を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. The workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is held slidably and axially in the vicinity of the cutting tool by the inner peripheral surface holding the workpiece, A method for forming a coating on a guide bush in which a super hard member is provided on the inner peripheral surface, an intermediate layer is provided on the super hard member, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, Etching the surface A step of forming a more uneven,
The inner peripheral surface of the guide bush is arranged in a vacuum chamber so as to face the target, and after evacuation of the vacuum chamber, an argon gas is introduced into the vacuum chamber from a gas inlet, and an intermediate layer is formed by a sputtering method. Step and arrange the guide bush in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and after evacuating the vacuum chamber, carbon is introduced from the gas inlet. Introducing a gas containing gas into the vacuum chamber, applying a high-frequency voltage to the guide bush, generating plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush.

【0032】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に接地電位と接続する補助電極を挿入するようにガイ
ドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに高周波電圧を印加し、プラズマを
発生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する
工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on a guide bush according to the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. A gas containing oxygen is introduced into the vacuum chamber, a high frequency voltage is applied to the guide bush, and having a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.

【0033】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることによって中心開口に挿入された被加工物
を、その被加工物を保持する内周面によって切削工具の
近くにて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内
周面に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設
け、その中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法であって、その超硬材料の表
面をエッチングすることにより凹凸を形成する工程と、
ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気したのち、ガス導入
口からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリン
グ法により中間層を形成する工程と、中間層を形成した
ガイドブッシュの開口内面に接地電位と接続する補助電
極を挿入するようにガイドブッシュを真空槽内に配置
し、真空槽内を排気した後、ガス導入口から炭素を含む
ガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシュに直流電圧を
印加し、プラズマを発生させてガイドブッシュに硬質カ
ーボン膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on a guide bush according to the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and is provided with an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. The workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is held slidably and axially in the vicinity of the cutting tool by the inner peripheral surface holding the workpiece, A method for forming a coating on a guide bush in which a super hard member is provided on the inner peripheral surface, an intermediate layer is provided on the super hard member, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, Etching the surface A step of forming a more uneven,
The inner peripheral surface of the guide bush is arranged in a vacuum chamber so as to face the target, and after evacuation of the vacuum chamber, an argon gas is introduced into the vacuum chamber from a gas inlet, and an intermediate layer is formed by a sputtering method. Step and arrange the guide bush in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and after evacuating the vacuum chamber, carbon is introduced from the gas inlet. Introducing a gas containing gas into the vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, and generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.

【0034】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に接地電位と接続する補助電極を挿入するようにガイ
ドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに直流電圧を印加し、プラズマを発
生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工
程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. A gas containing oxygen is introduced into the vacuum chamber, a DC voltage is applied to the guide bush, and having a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.

【0035】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面により切削工具の近くに
て回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面に
超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、その
中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュへ
の被膜の形成方法であって、その超硬材料の表面をエッ
チングすることにより凹凸を形成する工程と、ガイドブ
ッシュの内周面をターゲットと対向するように真空槽内
に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口からアル
ゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング法により
中間層を形成する工程と、中間層を形成したガイドブッ
シュの開口内面に直流正電圧と接続する補助電極を挿入
するようにガイドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽
内を排気した後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空
槽内に導入し、ガイドブッシュに直流電圧を印加しアノ
ードに直流電圧を印加しフィラメントに交流電圧を印加
してプラズマを発生させてガイドブッシュに硬質カーボ
ン膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece is slidably and axially slidably held near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material, and targeting an inner peripheral surface of the guide bush After the inside of the vacuum chamber was evacuated, the argon gas was introduced from the gas inlet into the vacuum chamber to form an intermediate layer by a sputtering method, and the intermediate layer was formed. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, the gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. Introduce and mo Characterized by a step of forming the applied hard carbon film a DC voltage is applied by applying an AC voltage to the filament plasma is generated in the guide bush to the anode of the DC voltage Dobusshu.

【0036】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に直流正電圧と接続する補助電極を挿入するようにガ
イドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに直流電圧を印加しアノードに直流
電圧を印加しフィラメントに交流電圧を印加してプラズ
マを発生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成
する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. A step of introducing a gas containing carbon into a vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, applying a DC voltage to the anode, applying an AC voltage to the filament to generate plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. And characterized in that:

【0037】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面により切削工具の近くに
て回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面に
超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、その
中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュへ
の被膜の形成方法であって、その超硬材料の表面をエッ
チングすることにより凹凸を形成する工程と、ガイドブ
ッシュの内周面をターゲットと対向するように真空槽内
に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口からアル
ゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング法により
中間層を形成する工程と、中間層を形成したガイドブッ
シュの開口内面に直流正電圧と接続する補助電極を挿入
するようにガイドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽
内を排気した後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空
槽内に導入し、ガイドブッシュに高周波電圧を印加し、
プラズマを発生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜
を形成する工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on a guide bush according to the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has a tapered outer peripheral surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece is slidably and axially slidably held near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material, and targeting an inner peripheral surface of the guide bush After the inside of the vacuum chamber was evacuated, the argon gas was introduced from the gas inlet into the vacuum chamber to form an intermediate layer by a sputtering method, and the intermediate layer was formed. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, the gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. Introduce and mo A high-frequency voltage is applied to the Dobusshu,
Forming a hard carbon film on the guide bush by generating plasma.

【0038】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に直流正電圧と接続する補助電極を挿入するようにガ
イドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに高周波電圧を印加し、プラズマを
発生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する
工程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and one end in the longitudinal direction is provided with an outer peripheral tapered surface and elasticity thereto. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. The gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber, a high frequency voltage is applied to the guide bush, and having a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.

【0039】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることによって中心開口に挿入された被加工物
を、その被加工物を保持する内周面によって切削工具の
近くにて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内
周面に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設
け、その中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法であって、その超硬材料の表
面をエッチングすることにより凹凸を形成する工程と、
ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気したのち、ガス導入
口からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリン
グ法により中間層を形成する工程と、中間層を形成した
ガイドブッシュの開口内面に直流正電圧と接続する補助
電極を挿入するようにガイドブッシュを真空槽内に配置
し、真空槽内を排気したのち、ガス導入口から炭素を含
むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシュに直流電圧
を印加し、プラズマを発生させてガイドブッシュに硬質
カーボン膜を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity therewith. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. The workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe is held slidably and axially in the vicinity of the cutting tool by the inner peripheral surface holding the workpiece, A method for forming a coating on a guide bush in which a super hard member is provided on the inner peripheral surface, an intermediate layer is provided on the super hard member, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, Etching the surface A step of forming a more uneven,
The inner peripheral surface of the guide bush is arranged in a vacuum chamber so as to face the target, and after evacuation of the vacuum chamber, an argon gas is introduced into the vacuum chamber from a gas inlet, and an intermediate layer is formed by a sputtering method. In the process, the guide bush is arranged in the vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. Is introduced into the vacuum chamber, a DC voltage is applied to the guide bush, plasma is generated, and a hard carbon film is formed on the guide bush.

【0040】本発明のガイドブッシュへの被膜の形成方
法においては、軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ面
とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他端
部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、その超硬材料の表面のコバルトをエッチングするこ
とにより凹凸を形成する工程と、ガイドブッシュの内周
面をターゲットと対向するように真空槽内に配置し、真
空槽内を排気した後、ガス導入口からアルゴンガスを真
空槽内に導入し、スパッタリング法により中間層を形成
する工程と、中間層を形成したガイドブッシュの開口内
面に直流正電圧と接続する補助電極を挿入するようにガ
イドブッシュを真空槽内に配置し、真空槽内を排気した
後、ガス導入口から炭素を含むガスを真空槽内に導入
し、ガイドブッシュに直流電圧を印加し、プラズマを発
生させてガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工
程とを有することを特徴とする。
In the method of forming a coating on the guide bush of the present invention, the guide bush has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, and has an outer peripheral tapered surface at one end in the longitudinal direction and elasticity thereof. The other end has a threaded portion for attaching to the column of the automatic lathe, and the inner peripheral surface for holding the workpiece is formed on the inner periphery of the portion where the outer peripheral tapered surface is formed. Workpiece inserted into the center opening by being attached to the automatic lathe,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush in which the intermediate layer is formed, and the inside of the vacuum chamber is evacuated. The gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber, a DC voltage is applied to the guide bush, and having a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.

【0041】〔作用〕自動旋盤のガイドブッシュ装置に
設けて被加工物を回転可能に支持する本発明におけるガ
イドブッシュは、その内周面に設ける中間層を介して、
硬質カーボン膜を設けるとき、被加工物と接触する硬質
カーボン膜の表面を凹凸とする構成を採用する。あるい
は本発明のガイドブッシュは、その内周面に超硬部材を
設け、その超硬部材上面に形成する中間層を介して、硬
質カーボン膜を設けるとき、被加工物と接触する硬質カ
ーボン膜の表面を凹凸とする構成を採用する。
[Operation] The guide bush according to the present invention, which is provided on a guide bush device of an automatic lathe and rotatably supports a workpiece, is provided with an intermediate layer provided on the inner peripheral surface thereof.
When the hard carbon film is provided, a configuration is employed in which the surface of the hard carbon film that comes into contact with the workpiece is made uneven. Alternatively, the guide bush of the present invention is provided with a super hard member on the inner peripheral surface thereof, and when a hard carbon film is provided via an intermediate layer formed on the upper surface of the super hard member, a hard carbon film which is in contact with a workpiece is formed. A configuration in which the surface is uneven is adopted.

【0042】このように被加工物と接触する硬質カーボ
ン膜の表面を凹凸とすると、従来技術の凹凸面を形成し
ない硬質カーボン膜と比較して、この硬質カーボン膜と
被加工物との接触面積を少なくすることができる。した
がって、硬質カーボン膜が具備する優れた特性である、
低摩擦特性をなおいっそう助長させることが可能とな
る。
When the surface of the hard carbon film in contact with the workpiece is made uneven, the contact area between the hard carbon film and the workpiece is smaller than that of the conventional hard carbon film having no uneven surface. Can be reduced. Therefore, it is an excellent characteristic of the hard carbon film,
It is possible to further promote low friction characteristics.

【0043】さらに、ガイドブッシュ内周面と被加工物
とのあいだに供給する油を表面凹凸を有する硬質カーボ
ン膜の凹部に保持することが可能となる。この結果、ガ
イドブッシュの内周面で回転し軸方向に摺動する被加工
物と、硬質カーボン膜との接触抵抗が低減し、硬質カー
ボン膜の摩耗を抑制することができる。したがって、本
発明のガイドブッシュでは、内周面に形成した硬質カー
ボン膜の耐久性を向上させることができ、ガイドブッシ
ュの長期使用にたいする信頼性を高めることが可能とな
る。
Further, the oil supplied between the inner peripheral surface of the guide bush and the workpiece can be held in the concave portion of the hard carbon film having the surface irregularities. As a result, the contact resistance between the workpiece rotating on the inner peripheral surface of the guide bush and sliding in the axial direction and the hard carbon film is reduced, and wear of the hard carbon film can be suppressed. Therefore, in the guide bush of the present invention, the durability of the hard carbon film formed on the inner peripheral surface can be improved, and the reliability of the guide bush for long-term use can be improved.

【0044】さらに本発明nガイドブッシュでは、タン
グステン(W)と炭素(C)とコバルト(Co)から構
成する超硬部材の中間層と接触する表面のコバルト(C
o)を除去する構成を採用している。そして、このコバ
ルト(Co)を除去した超硬部材上面に中間層を介し
て、硬質カーボン膜を設ける。
Further, according to the n-type guide bush of the present invention, the cobalt (C) on the surface in contact with the intermediate layer of the cemented carbide member composed of tungsten (W), carbon (C) and cobalt (Co)
o) is adopted. Then, a hard carbon film is provided on the upper surface of the super hard member from which cobalt (Co) has been removed, via an intermediate layer.

【0045】このように、本発明におけるガイドブッシ
ュは、コバルト(Co)を除去した超硬部材上面に中間
層を設け、さらにその上に硬質カーボン膜を形成してい
る。このため本発明の硬質カーボン膜は、ガイドブッシ
ュ内周面に密着性よく形成することが可能となり、剥離
するという問題点は発生しない。したがって、ガイドブ
ッシュの使用寿命を従来より大幅に延ばすことができ、
長期使用にたいする信頼性を向上させることが可能とな
る。
As described above, in the guide bush of the present invention, the intermediate layer is provided on the upper surface of the super hard member from which cobalt (Co) has been removed, and the hard carbon film is further formed thereon. Therefore, the hard carbon film of the present invention can be formed with good adhesion on the inner peripheral surface of the guide bush, and the problem of peeling does not occur. Therefore, the service life of the guide bush can be significantly extended,
It is possible to improve reliability for long-term use.

【0046】これらの効果については、発明者らは以下
に記載した理由によって得られていると考えている。中
間層と接触する超硬部材表面のコバルトを除去する前
と、除去したのちとの表面状態を、走査型電子顕微鏡
(SEM)にて観察した。
The inventors believe that these effects are obtained for the following reasons. The surface states before and after removing cobalt on the surface of the superhard member in contact with the intermediate layer were observed with a scanning electron microscope (SEM).

【0047】超硬部材表面のコバルトを除去する前の面
は、この超硬部材の内周面の研磨加工を行った加工痕が
観察された。これにたいして超硬部材表面のコバルトを
除去したのちの面は、その加工痕が観察されなかった。
Before the cobalt was removed from the surface of the cemented carbide member, there was observed a trace of grinding the inner peripheral surface of the cemented carbide member. On the other hand, no machining mark was observed on the surface of the cemented carbide member after removing cobalt.

【0048】またさらに、肉眼で超硬部材表面を観察し
ても、その差は歴然としていた。すなわち、超硬部材表
面のコバルトを除去する前の面は、研磨面で鏡面状態で
あったのにたいして、超硬部材表面のコバルトを除去し
たのちの面は、鏡面ではなく梨地状態であった。
Further, even when the surface of the super hard member was observed with the naked eye, the difference was obvious. That is, the surface of the cemented carbide member before removing cobalt had a polished surface in a mirror-like state, whereas the surface of the cemented carbide member after removing cobalt had a mirror-finished state instead of a mirror-like surface.

【0049】これは、中間層と接触する超硬部材表面の
コバルトを除去すると、このコバルトはバインダーとし
て機能していたので、このバインダーと焼結処理によっ
て結合していたタングステンや炭素も剥落し、前述のよ
うに、加工痕が観察されず、また梨地状態となってい
る。
This is because, when the cobalt on the surface of the cemented carbide member that comes into contact with the intermediate layer is removed, the cobalt functions as a binder, so that tungsten and carbon bonded to the binder by the sintering process also fall off, As described above, no processing marks are observed, and the surface is in a satin state.

【0050】このように、中間層と接触する超硬部材表
面の加工痕が消滅し観察されないことと、梨地状態とな
っていることから、さらにいっそう硬質カーボン膜の密
着性が向上する。とくに加工痕については、その加工痕
箇所に形成される中間層は、その箇所に伸長や圧縮など
の膜ストレスが発生しており、この膜ストレスにより、
中間層の密着性不良が発生していたと考えており、この
加工痕が消滅したことによって、膜ストレスに起因する
密着性が劣化するという現象は発生しない。この結果、
本発明のガイドブッシュにおいては、中間層が剥離する
という現象は発生せず、したがって、その中間層上面に
形成する硬質カーボン膜の密着性も向上し、ガイドブッ
シュの使用寿命を従来より大幅に延ばすことができ、長
期使用にたいする信頼性が向上する。
As described above, since the machining marks on the surface of the cemented carbide member in contact with the intermediate layer disappear and are not observed, and the matte state is obtained, the adhesion of the hard carbon film is further improved. In particular, regarding processing marks, in the intermediate layer formed at the processing mark location, a film stress such as elongation or compression is generated at that location, and due to this film stress,
It is considered that poor adhesion of the intermediate layer has occurred, and the phenomenon that the adhesion is deteriorated due to the film stress does not occur due to the disappearance of the processing mark. As a result,
In the guide bush of the present invention, the phenomenon that the intermediate layer peels does not occur, therefore, the adhesion of the hard carbon film formed on the upper surface of the intermediate layer is also improved, and the service life of the guide bush is greatly extended as compared with the conventional art. And reliability for long-term use is improved.

【0051】この硬質カーボン膜は、黒色状の被膜であ
り、ダイヤモンドによく似た性質をもつ。すなわち硬質
カーボン膜は、高い機械的硬度や低い摩擦係数や良好な
電気的絶縁性や高い熱伝導率や高い耐腐食性という優れ
た特性をもつ。このため本発明のガイドブッシュは、切
削量が大きく加工速度が大きな重切削加工において、被
加工物と接触する内周面の摩耗を抑えることができ、被
加工物へのキズの発生を抑えることが可能となり、さら
にガイドブッシュと被加工物との焼き付きの発生を抑制
することができる。
This hard carbon film is a black film and has properties very similar to diamond. That is, the hard carbon film has excellent characteristics such as high mechanical hardness, low coefficient of friction, good electrical insulation, high thermal conductivity, and high corrosion resistance. For this reason, the guide bush of the present invention can suppress the wear of the inner peripheral surface that comes into contact with the workpiece and suppress the occurrence of scratches on the workpiece in heavy cutting in which the cutting amount is large and the processing speed is large. And the occurrence of seizure between the guide bush and the workpiece can be suppressed.

【0052】さらに本発明のガイドブッシュは、その内
周面の中間層の下層に、硬度の高い超硬部材を介して硬
質カーボン膜を設ける。このように硬質カーボン膜の下
層に硬度の高い超硬部材を設けると、局所的な硬質カー
ボン膜の剥離や摩耗を抑制することができ、ガイドブッ
シュの長期使用に対する信頼性をよりいっそう向上させ
ることができる。
Further, in the guide bush of the present invention, a hard carbon film is provided below the intermediate layer on the inner peripheral surface of the guide bush via a superhard member having high hardness. By providing a high-hardness super-hard member under the hard carbon film in this manner, local peeling and wear of the hard carbon film can be suppressed, and the reliability of the guide bush for long-term use can be further improved. Can be.

【0053】さらにこの超硬部材と硬質カーボン膜との
あいだに、中間層を設ける構造を本発明では採用する。
そしてこの中間層としては、本発明のガイドブッシュで
は、単層膜で構成する構造や積層膜で構成する構造を採
用している。中間層を単層膜で構成するときはシリコン
カーバイト膜(SiC)や炭化タングステン膜(WC)
などの炭素を含む合金材料被膜で構成し、積層膜で構成
するときはチタン膜(Ti)やクロム(Cr)からなる
第1の中間層と、シリコン膜(Si)またはゲルマニウ
ム膜(Ge)で構成する。
Further, in the present invention, a structure in which an intermediate layer is provided between the super hard member and the hard carbon film is employed.
As the intermediate layer, in the guide bush of the present invention, a structure constituted by a single layer film or a structure constituted by a laminated film is adopted. When the intermediate layer is composed of a single layer film, a silicon carbide film (SiC) or a tungsten carbide film (WC)
When it is constituted by an alloy material film containing carbon, such as a titanium film (Ti) or chromium (Cr), and a silicon film (Si) or a germanium film (Ge). Constitute.

【0054】このように超硬部材と硬質カーボン膜との
あいだに中間層を介在させると、硬質カーボン膜の密着
性は高くなる。従来技術のガイドブッシュで中間層や硬
質カーボン膜が剥離してる箇所を詳細に観察したとこ
ろ、中間層や硬質カーボン膜は、超硬部材にバインダー
として含まれるコバルトとの密着性が得られず、その箇
所から剥離していた。その原因はよくわからないが、そ
の原因のひとつとして考えられるのは、コバルトが酸化
して、密着性の悪い酸化膜が形成されて、硬質カーボン
膜や中間層がガイドブッシュ内周面から剥離していると
推察している。
When the intermediate layer is interposed between the super-hard member and the hard carbon film as described above, the adhesion of the hard carbon film increases. When the intermediate layer and the hard carbon film were peeled off in detail using a conventional guide bush, the intermediate layer and the hard carbon film could not obtain the adhesion with cobalt contained as a binder in the super hard member, It was peeled off from that location. The cause is not well understood, but one of the causes is thought to be that cobalt is oxidized, an oxide film with poor adhesion is formed, and the hard carbon film and the intermediate layer peel off from the inner peripheral surface of the guide bush. I guess.

【0055】そこで本発明のガイドブッシュでは、超硬
部材の内周面の中間層を形成する面から、この超硬部材
にバインダーとして含有しているコバルトを除去する。
このように、中間層の密着不良となるコバルトをガイド
ブッシュ内周面から除去している。このためガイドブッ
シュ内周面に密着性よく硬質カーボン膜を形成すること
ができ、その結果、ガイドブッシュ内周面にたいする硬
質カーボン膜の剥離現象は発生しない。
Therefore, in the guide bush of the present invention, cobalt contained as a binder in the super hard member is removed from the surface on which the intermediate layer is formed on the inner peripheral surface of the super hard member.
In this way, cobalt that causes poor adhesion of the intermediate layer is removed from the inner peripheral surface of the guide bush. Therefore, the hard carbon film can be formed on the inner peripheral surface of the guide bush with good adhesion, and as a result, the peeling phenomenon of the hard carbon film on the inner peripheral surface of the guide bush does not occur.

【0056】本発明のガイドブッシュへの硬質カーボン
膜の形成方法においては、ガイドブッシュの開口内面の
開口の中央部に、接地電位に接続する補助電極を配置し
て硬質カーボン膜を形成する。そしてガイドブッシュに
は、負の直流電圧あるいは高周波電圧を印加する。
In the method of forming a hard carbon film on a guide bush according to the present invention, an auxiliary electrode connected to a ground potential is arranged at the center of the opening on the inner surface of the opening of the guide bush to form a hard carbon film. Then, a negative DC voltage or a high-frequency voltage is applied to the guide bush.

【0057】その結果、同電位の電極どうしが対向して
いるガイドブッシュ開口内面に、接地電位に接続する補
助電極を設けることとなり、同電位どうしが対向するこ
とがなくなる。このような電位状態は、プラスマ化学気
相成長法にとって最も望ましい状態であり、ホロー放電
は発生しない。そのため、密着性の良好な硬質カーボン
膜をガイドブッシュに形成することができる。
As a result, an auxiliary electrode connected to the ground potential is provided on the inner surface of the guide bush opening where the electrodes of the same potential face each other, so that the same potential does not face each other. Such a potential state is the most desirable state for plasma enhanced chemical vapor deposition, and no hollow discharge occurs. Therefore, a hard carbon film having good adhesion can be formed on the guide bush.

【0058】そのうえ本発明の硬質カーボン膜の形成方
法においては、前述のようにガイドブッシュの開口内面
に補助電極を配置しており、ガイドブッシュの長手方向
の開口内面で、電位特性が均一になる。この結果、ガイ
ドブッシュの開口内面に形成する硬質カーボン膜の膜厚
分布の発生がなく、開口端面と開口奥側とで均一な膜厚
を形成することができるという効果ももつ。
Furthermore, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, the auxiliary electrode is disposed on the inner surface of the opening of the guide bush as described above, and the potential characteristics become uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction of the guide bush. . As a result, there is no generation of a film thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush, and an effect that a uniform film thickness can be formed between the opening end face and the inner side of the opening.

【0059】さらに本発明の硬質カーボン膜の形成方法
においては、試料の開口内面の中央部に設ける補助電極
に、補助電極電源からの直流の正電圧を印加して硬質カ
ーボン膜を形成している。このために、直流正電圧を印
加する補助電極の周囲領域に電子を集める効果を生じ、
この補助電極の周囲領域は電子密度が高くなる。
Further, in the method for forming a hard carbon film according to the present invention, a DC positive voltage from an auxiliary electrode power source is applied to an auxiliary electrode provided at the center of the inner surface of the sample opening to form the hard carbon film. . For this reason, an effect of collecting electrons in a region around the auxiliary electrode to which a DC positive voltage is applied occurs,
The area around the auxiliary electrode has a high electron density.

【0060】このように電子密度が高くなると、必然的
に炭素を含むガス分子と電子との衝突確率が増え、ガス
分子のイオン化が促進されて、その補助電極の周囲領域
のプラズマ密度が高くなる。このため補助電極に直流の
正電圧を印加して硬質カーボン膜を形成する本発明の被
膜形成方法においては、硬質カーボン膜の膜形成速度
は、補助電極に直流の正電圧を印加しないときと比らべ
て高くなる。
As described above, when the electron density is increased, the collision probability between the gas molecules containing carbon and the electrons is inevitably increased, ionization of the gas molecules is promoted, and the plasma density in the region around the auxiliary electrode is increased. . For this reason, in the film forming method of the present invention in which a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode to form a hard carbon film, the film formation speed of the hard carbon film is smaller than when no DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode. It will be much higher.

【0061】さらに試料の開口大きさが小さくなり、開
口内面と補助電極との隙間寸法が小さくなると、補助電
極に直流の正電圧を印加しないで硬質カーボン膜を形成
すると、開口内面にはプラズマは発生せず、被膜形成で
きない。これにたいして本発明の硬質カーボン膜の形成
方法においては、開口内面に配置する補助電極に補助電
極電源から直流正電圧を印加して電子を強制的に補助電
極の周囲領域の開口内面に集めているので、補助電極の
周囲にプラズマを発生させることができる。
Further, when the size of the opening of the sample becomes smaller and the gap between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode becomes smaller, when a hard carbon film is formed without applying a DC positive voltage to the auxiliary electrode, plasma is generated on the inner surface of the opening. It does not occur and a film cannot be formed. On the other hand, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, a DC positive voltage is applied from an auxiliary electrode power source to an auxiliary electrode disposed on the inner surface of the opening to forcibly collect electrons on the inner surface of the opening around the auxiliary electrode. Therefore, plasma can be generated around the auxiliary electrode.

【0062】したがって、直流の正電圧を印加しない補
助電極を用いる硬質カーボン膜の形成方法では、被膜形
成できない開口大きさが小さい試料にも、直流の正電圧
を印加する補助電極を用いる本発明の硬質カーボン膜の
形成方法を適用すれば被膜形成が可能となる。
Therefore, in the method of forming a hard carbon film using an auxiliary electrode to which a DC positive voltage is not applied, the present invention using an auxiliary electrode to which a DC positive voltage is applied is used even for a sample having a small opening size where a film cannot be formed. If a method for forming a hard carbon film is applied, a film can be formed.

【0063】[0063]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明を実施
するための最良の実施形態におけるガイドブッシュの構
造と、このガイドブッシュへの中間層と硬質カーボン膜
の被膜形成方法とを説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of a guide bush according to a preferred embodiment of the present invention and a method for forming an intermediate layer and a hard carbon film on the guide bush will be described below with reference to the drawings. .

【0064】〔数値制御自動旋盤の構造説明:図8〕本
発明の実施形態におけるガイドブッシュの構造と、この
ガイドブッシュへの硬質カーボン膜の形成方法を説明す
る前に、このガイドブッシュを適用する数値制御自動旋
盤の主軸近傍を示す図8を用いて、ガイドブッシュを適
用するガイドブッシュ装置の構成を説明する。図8はガ
イドブッシュ装置として、ガイドブッシュを固定してこ
のガイドブッシュの内周面で被加工物が回転する状態で
使用する固定型のガイドブッシュ装置を示す断面図であ
る。
[Description of Structure of Numerically Controlled Automatic Lathe: FIG. 8] Before describing the structure of the guide bush and the method of forming a hard carbon film on the guide bush in the embodiment of the present invention, this guide bush will be applied. The configuration of the guide bush device to which the guide bush is applied will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a sectional view showing a fixed type guide bush device which is used as a guide bush device in a state where the guide bush is fixed and a workpiece rotates on the inner peripheral surface of the guide bush.

【0065】主軸台17は図示しない数値制御自動旋盤
のベッド(図示せず)上を、図8の左右方向に摺動可能
となっている。この主軸台17には、軸受21によって
回転可能な状態で支持された主軸19を設けている。そ
してこの主軸19の先端部には、コレットチャック13
を取り付けている。
The headstock 17 is slidable on the bed (not shown) of a numerically controlled automatic lathe (not shown) in the horizontal direction of FIG. The headstock 17 is provided with a spindle 19 rotatably supported by a bearing 21. A collet chuck 13 is provided at the tip of the spindle 19.
Is installed.

【0066】このコレットチャック13は、チャックス
リーブ41の中心穴内に配置する。そしてコレットチャ
ック13の先端の外周テーパ面13aと、チャックスリ
ーブ41の内周テーパ面41aとが互いに面接触してい
る。
The collet chuck 13 is disposed in the center hole of the chuck sleeve 41. The outer tapered surface 13a at the tip of the collet chuck 13 and the inner tapered surface 41a of the chuck sleeve 41 are in surface contact with each other.

【0067】さらに中間スリーブ29内のコレットチャ
ック13の後端部にスプリング25を設ける。そして、
このスプリング25の弾性力の働きによって、中間スリ
ーブ29内からコレットチャック13を押し出すことが
できる。
Further, a spring 25 is provided at the rear end of the collet chuck 13 in the intermediate sleeve 29. And
The collet chuck 13 can be pushed out of the intermediate sleeve 29 by the action of the elastic force of the spring 25.

【0068】コレットチャック13の先端位置は、主軸
19の先端にネジ固定するキャップナット27に接触し
て、その位置を規制している。このキャップナット27
を設けることにより、コレットチャック13がスプリン
グ25のバネ力によって、中間スリーブ29から飛び出
すことを防止している。
The position of the tip of the collet chuck 13 is in contact with a cap nut 27 screwed to the tip of the main shaft 19 to regulate the position. This cap nut 27
Is provided to prevent the collet chuck 13 from jumping out of the intermediate sleeve 29 due to the spring force of the spring 25.

【0069】中間スリーブ29の後端部には、この中間
スリーブ29を介してチャック開閉機構31を設ける。
そしてチャック開閉爪33を開閉動作することによっ
て、コレットチャック13は開閉し、被加工物51を把
持したり解放したりすることができる。
At the rear end of the intermediate sleeve 29, a chuck opening / closing mechanism 31 is provided via the intermediate sleeve 29.
By opening and closing the chuck opening / closing claws 33, the collet chuck 13 is opened / closed, and the workpiece 51 can be gripped or released.

【0070】すなわち、チャック開閉機構31のチャッ
ク開閉爪33の先端部が相互に開くように移動すると、
チャック開閉爪33の中間スリーブ29の接触している
部分が、図7の左方向に移動して中間スリーブ29を左
方向に押す。この中間スリーブ29の左方向への移動に
より、中間スリーブ29の左端に接触しているチャック
スリーブ41が左方向に移動する。
That is, when the distal ends of the chuck opening / closing claws 33 of the chuck opening / closing mechanism 31 move so as to open each other,
The portion of the chuck opening / closing claw 33 in contact with the intermediate sleeve 29 moves leftward in FIG. 7 and pushes the intermediate sleeve 29 leftward. As the intermediate sleeve 29 moves leftward, the chuck sleeve 41 that is in contact with the left end of the intermediate sleeve 29 moves leftward.

【0071】そしてコレットチャック13は、前述のよ
うに主軸19の先端にネジ止めしているキャップナット
27により、主軸19から前方に飛び出すことを防止し
ている。このため、このチャックスリーブ41の左方向
への移動によって、コレットチャック13の外周テーパ
13aと、チャックスリーブ41の内周テーパ41aと
が強く押されてテーパ面に沿って移動することになる。
この結果、コレットチャック13の内周面の直径寸法が
小さくなって、被加工物51を把持することができる。
The collet chuck 13 is prevented from jumping forward from the spindle 19 by the cap nut 27 screwed to the tip of the spindle 19 as described above. Therefore, by the movement of the chuck sleeve 41 to the left, the outer taper 13a of the collet chuck 13 and the inner taper 41a of the chuck sleeve 41 are strongly pushed and move along the tapered surface.
As a result, the diameter of the inner peripheral surface of the collet chuck 13 is reduced, and the workpiece 51 can be gripped.

【0072】コレットチャック13の内周面の直径寸法
を大きくして被加工物51を解放するときは、チャック
開閉爪33の先端部が相互に閉じるように移動すること
によって、チャックスリーブ41を左方向に押す力を除
く。するとスプリング25の復元力によって中間スリー
ブ29とチャックスリーブ41とが、図8の右方向に移
動する。
When the workpiece 51 is released by increasing the diameter of the inner peripheral surface of the collet chuck 13, the chuck sleeve 41 is moved to the left by moving the tips of the chuck opening / closing claws 33 so as to close each other. Excluding the pushing force in the direction. Then, the intermediate sleeve 29 and the chuck sleeve 41 move rightward in FIG. 8 by the restoring force of the spring 25.

【0073】このため、コレットチャック13の外周テ
ーパ面13aと、チャックスリーブ41の内周テーパ面
41aとの押圧力が除かれることになる。この結果、コ
レットチャック13は自己のもつ弾性力で内周面の直径
が大きくなり、被加工物51を解放することができる。
Therefore, the pressing force between the outer peripheral tapered surface 13a of the collet chuck 13 and the inner peripheral tapered surface 41a of the chuck sleeve 41 is eliminated. As a result, the diameter of the inner peripheral surface of the collet chuck 13 is increased by its own elastic force, and the workpiece 51 can be released.

【0074】さらに主軸台17の前方には、コラム35
の主軸中心線上に配置する固定型のガイドブッシュ装置
37を設ける。図8に示すガイドブッシュ装置37は、
前述のようにガイドブッシュ11を固定してこのガイド
ブッシュ11の内周面11bで被加工物51を回転する
状態で使用する固定型のガイドブッシュ装置37であっ
て、コラム35に固定したホルダ39の中心穴には、ブ
ッシュスリーブ23を配置している。このブッシュスリ
ーブ23の先端部には内周テーパ面23aを設ける。
Further, a column 35 is provided in front of the headstock 17.
The guide bush device 37 of a fixed type which is arranged on the center line of the main shaft is provided. The guide bush device 37 shown in FIG.
A fixed type guide bush device 37 used to fix the guide bush 11 and rotate the workpiece 51 on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 as described above, and the holder 39 fixed to the column 35. The bush sleeve 23 is arranged in the center hole of the. An inner peripheral tapered surface 23a is provided at the tip of the bush sleeve 23.

【0075】そしてこのブッシュスリーブ23の中心穴
には、先端に外周テーパ面11aを形成したガイドブッ
シュ11を配置している。
In the center hole of the bush sleeve 23, a guide bush 11 having a tapered outer peripheral surface 11a at the end is disposed.

【0076】ガイドブッシュ装置37の後端部に設ける
調整ナット43を回転することによって、ガイドブッシ
ュ11の内径と被加工物51の外形との隙間寸法を調整
することができる。これは調整ナット43を回転させる
と、ブッシュスリーブ23の内周テーパ面23aとガイ
ドブッシュ11の外周テーパ面11aは、コレットチャ
ック13と同様に内周テーパ面23aと外周テーパ面1
1aとが相互に押圧されてガイドブッシュ11の内径が
小さくなるためである。
By rotating the adjusting nut 43 provided at the rear end of the guide bush device 37, the gap between the inner diameter of the guide bush 11 and the outer shape of the workpiece 51 can be adjusted. When the adjustment nut 43 is rotated, the inner peripheral taper surface 23a of the bush sleeve 23 and the outer peripheral taper surface 11a of the guide bush 11 become the inner peripheral taper surface 23a and the outer peripheral taper surface 1 like the collet chuck 13.
1a are mutually pressed and the inner diameter of the guide bush 11 is reduced.

【0077】ガイドブッシュ装置37のさらに前方に
は、切削工具45を設ける。そして、被加工物51を主
軸19のコレットチャック13で把持し、ガイドブッシ
ュ装置37で支持し、しかもこのガイドブッシュ装置3
7を貫通して加工領域に突き出した被加工物51を、切
削工具45の前進後退と主軸台17の移動との合成運動
によって所定の形状に切削加工を行なう。
A cutting tool 45 is provided further forward of the guide bush device 37. The workpiece 51 is gripped by the collet chuck 13 of the spindle 19 and supported by the guide bush device 37.
The workpiece 51 protruding into the machining area through the workpiece 7 is cut into a predetermined shape by a combined movement of the forward and backward movement of the cutting tool 45 and the movement of the headstock 17.

【0078】〔回転型のガイドブッシュ装置の構造説
明:図9〕つぎに被加工物を把持するガイドブッシュを
回転する状態で使用する回転型のガイドブッシュ装置の
構成を、図9を用いて説明する。図9は回転型のガイド
ブッシュ装置の構成を示す断面図である。なお図9にお
いて、図8の構成と同一箇所には同一符号を付けてあ
る。
[Description of Structure of Rotary Guide Bush Device: FIG. 9] Next, the configuration of a rotary guide bush device used in a state where the guide bush for gripping a workpiece is rotated will be described with reference to FIG. I do. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a configuration of a rotary type guide bush device. In FIG. 9, the same parts as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals.

【0079】この回転型のガイドブッシュ装置として
は、コレットチャック13とガイドブッシュ11とが同
期して回転するガイドブッシュ装置と、同期しないで回
転するガイドブッシュ装置とがある。図9に示すガイド
ブッシュ装置37は、コレットチャック13とガイドブ
ッシュ11とが同期して回転する回転型のガイドブッシ
ュ装置37を示す。
The rotary guide bush device includes a guide bush device in which the collet chuck 13 and the guide bush 11 rotate in synchronization, and a guide bush device in which the collet chuck 13 and the guide bush 11 rotate without synchronization. The guide bush device 37 shown in FIG. 9 is a rotary type guide bush device 37 in which the collet chuck 13 and the guide bush 11 rotate in synchronization.

【0080】回転型のガイドブッシュ装置37は、主軸
19のキャップナット27から突き出した回転駆動棒4
7によって、ガイドブッシュ装置37を駆動する。この
回転駆動棒47により駆動する他にも、歯車やベルトプ
ーリによってガイドブッシュ装置37を駆動するものも
ある。
The rotary type guide bush device 37 includes a rotary drive rod 4 protruding from the cap nut 27 of the main shaft 19.
7, the guide bush device 37 is driven. In addition to the drive by the rotary drive rod 47, there is also a drive in which the guide bush device 37 is driven by a gear or a belt pulley.

【0081】この回転型のガイドブッシュ装置37は、
コラム35に固定するホルダ39の中心穴に、軸受21
を介して回転可能な状態にブッシュスリーブ23を配置
している。さらに、このブッシュスリーブ23の中心穴
にガイドブッシュ11を配置している。
This rotary type guide bush device 37 is
The center hole of the holder 39 fixed to the column 35 is provided with the bearing 21.
The bush sleeve 23 is arranged so as to be rotatable via the. Further, the guide bush 11 is arranged in the center hole of the bush sleeve 23.

【0082】ブッシュスリーブ23とガイドブッシュ1
1とは、図7を用いて説明した構成と同じ構造である。
そしてガイドブッシュ装置37の後端部に設ける調整ナ
ット43を回転することによって、ガイドブッシュ11
の内径寸法を小さくして、ガイドブッシュ11の内径と
被加工物51の外形との隙間寸法を調整することができ
る。
The bush sleeve 23 and the guide bush 1
1 is the same structure as the structure described with reference to FIG.
The guide bush 11 is rotated by rotating an adjustment nut 43 provided at the rear end of the guide bush device 37.
Of the guide bush 11 and the outer diameter of the workpiece 51 can be adjusted.

【0083】図9を用いて説明したガイドブッシュ装置
は、ガイドブッシュ装置37が回転型である以外の構成
は、図8を用いて説明した構成と同じであるので、構成
とその動作の説明は省略する。
The configuration of the guide bush device described with reference to FIG. 9 is the same as the configuration described with reference to FIG. 8 except that the guide bush device 37 is a rotary type. Omitted.

【0084】〔ガイドブッシュの構造説明:図3〕つぎ
に本発明の実施形態における硬質カーボン膜を形成する
ガイドブッシュの構造を、図3を用いて説明する。以上
の説明から明らかなように、固定型のガイドブッシュと
回転型のガイドブッシュとは、ほぼ同じ構造をもち、同
じように動作する。
[Description of Structure of Guide Bush: FIG. 3] Next, the structure of a guide bush for forming a hard carbon film according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As is apparent from the above description, the fixed type guide bush and the rotary type guide bush have substantially the same structure and operate in the same manner.

【0085】図3は本発明の実施形態におけるガイドブ
ッシュを示す断面図であり、この図3に示すガイドブッ
シュは開いた自由な状態を示す。図3に示すように、ガ
イドブッシュ11は長手方向の一端の外周部に外周テー
パ面11aをもち、他端の外周部にネジ部11fをも
つ。
FIG. 3 is a sectional view showing a guide bush according to the embodiment of the present invention. The guide bush shown in FIG. 3 shows an open and free state. As shown in FIG. 3, the guide bush 11 has an outer peripheral tapered surface 11a at an outer peripheral portion at one end in the longitudinal direction, and has a thread portion 11f at an outer peripheral portion at the other end.

【0086】さらにガイドブッシュ11の中心には開口
径が異なる貫通した開口を設ける。そして外周テーパ面
11aを設ける側の内周に、被加工物51を保持する内
周面11bをもつ。そして、この内周面11b以外の領
域には、内周面11bの内径寸法より大きな内径寸法を
もつ段差部11gとなっている。
Further, a penetrating opening having a different opening diameter is provided at the center of the guide bush 11. An inner peripheral surface 11b for holding the workpiece 51 is provided on the inner periphery on the side where the outer peripheral tapered surface 11a is provided. In the area other than the inner peripheral surface 11b, a step portion 11g having an inner diameter larger than the inner diameter of the inner peripheral surface 11b is formed.

【0087】さらにガイドブッシュ11には外周テーパ
面11aからバネ部11dにまで、摺り割り11cを設
ける。この摺り割り11cは、角度120゜間隔で3箇
所に設けている。
Further, the guide bush 11 is provided with a slit 11c from the outer peripheral tapered surface 11a to the spring portion 11d. The slits 11c are provided at three places at intervals of 120 °.

【0088】そしてブッシュスリーブの内周テーパ面に
ガイドブッシュ11の外周テーパ面11aを押圧するこ
とによって、バネ部11dが撓み、内周面11bと被加
工物51との隙間寸法を調整することができる。
By pressing the outer peripheral taper surface 11a of the guide bush 11 against the inner peripheral taper surface of the bush sleeve, the spring portion 11d bends, and the clearance between the inner peripheral surface 11b and the workpiece 51 can be adjusted. it can.

【0089】さらにガイドブッシュ11には、バネ部1
1dとネジ部11fとの間に嵌合部11eを設ける。そ
してこの嵌合部11eによって、ガイドブッシュ11
は、主軸の中心線上でしかも主軸中心線に平行に配置す
ることができる。
The guide bush 11 has a spring 1
A fitting portion 11e is provided between 1d and the screw portion 11f. The guide bush 11 is formed by the fitting portion 11e.
Can be arranged on the centerline of the spindle and parallel to the centerline of the spindle.

【0090】このガイドブッシュ11材料としては合金
工具鋼(SKS)を用いる。そして外形形状と内形形状
とを形成後、焼き入れと焼きもどし処理とを行なってい
る。さらにガイドブッシュ11の内周面11bには、肉
厚が2mmから5mmの寸法を有する超硬部材をロウ付
け手段により固着して、超硬部材12とする。この超硬
部材は、日本工業規格(JIS)のG種2号が多く使用
され、それはタングステン(W)が87%〜90%と、
炭素(C)が5%〜7%と、バインダーとしてコバルト
(Co)が5%〜7%を含み組成である。
The guide bush 11 is made of alloy tool steel (SKS). After forming the outer shape and the inner shape, quenching and tempering are performed. Further, a superhard member having a thickness of 2 mm to 5 mm is fixed to the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 by brazing means to form a superhard member 12. As the cemented carbide member, Japanese Industrial Standard (JIS) type G No. 2 is often used, and it is 87% to 90% tungsten (W).
The composition contains 5% to 7% of carbon (C) and 5% to 7% of cobalt (Co) as a binder.

【0091】そしてガイドブッシュ11は、このガイド
ブッシュ11が開いた状態では、内周面11bと被加工
物51との半径方向では5μmから10μmの隙間を設
けている。このため被加工物51が出入りすることによ
る、ガイドブッシュ11の内周面11bの摩耗が問題と
なる。さらにまたガイドブッシュ11は、前述のように
内周面11bと被加工物51とのあいだで高速摺動し、
しかも切削負荷による内周面11bへの過大な被加工物
51の押圧力によって焼き付きを発生させる問題点があ
る。
The guide bush 11 has a gap of 5 μm to 10 μm in the radial direction between the inner peripheral surface 11b and the workpiece 51 when the guide bush 11 is open. For this reason, abrasion of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 due to entry and exit of the workpiece 51 poses a problem. Further, the guide bush 11 slides at a high speed between the inner peripheral surface 11b and the workpiece 51 as described above,
In addition, there is a problem that image sticking occurs due to excessive pressing force of the workpiece 51 against the inner peripheral surface 11b due to the cutting load.

【0092】〔ガイドブッシュの第1例:図1〕そこで
本発明のガイドブッシュ11は、図1に示すような構造
を採用する。図1は本発明の実施形態におけるガイドブ
ッシュの内周面を拡大して示す断面図である。硬質カー
ボン膜と中間層、および超硬部材との厚さの比率は10
00倍以上相違しており、この図1においては超硬部材
の厚さは極端に薄くなるように図示している。
[First Example of Guide Bush: FIG. 1] The guide bush 11 of the present invention employs a structure as shown in FIG. FIG. 1 is an enlarged sectional view showing an inner peripheral surface of a guide bush according to an embodiment of the present invention. The thickness ratio of the hard carbon film to the intermediate layer and the super hard member is 10
In FIG. 1, the thickness of the superhard member is shown to be extremely thin.

【0093】図1に示すように、ガイドブッシュ11の
内周面11b(図3参照)には、順次、超硬部材12
と、中間層14と、被加工物51と接触する面に硬質カ
ーボン膜15を設ける。
As shown in FIG. 1, the super hard member 12 is sequentially provided on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 (see FIG. 3).
The hard carbon film 15 is provided on the surface that comes into contact with the intermediate layer 14 and the workpiece 51.

【0094】そして、自動旋盤のガイドブッシュ装置に
設けて被加工物51を回転可能に支持する本発明におけ
るガイドブッシュ11は、その内周面11bに設ける中
間層14を介して、硬質カーボン膜15を設けるとき、
被加工物51と接触する硬質カーボン膜15の表面15
aを凹凸とする構成を採用する。あるいは本発明のガイ
ドブッシュ11は、その内周面11bに超硬部材12を
設け、その超硬部材12上面に形成する中間層14を介
して硬質カーボン膜15を設けるとき、被加工物51と
接触する硬質カーボン膜15の表面15aを凹凸とする
構成を採用する。
The guide bush 11 according to the present invention, which is provided on a guide bush device of an automatic lathe and rotatably supports the workpiece 51, is provided with a hard carbon film 15 via an intermediate layer 14 provided on its inner peripheral surface 11b. When providing
Surface 15 of hard carbon film 15 in contact with workpiece 51
A configuration in which a is uneven is adopted. Alternatively, the guide bush 11 of the present invention is provided with the super hard member 12 on the inner peripheral surface 11b thereof, and when the hard carbon film 15 is provided through the intermediate layer 14 formed on the upper surface of the super hard member 12, the guide bush 11 is A configuration is employed in which the surface 15a of the hard carbon film 15 that makes contact is made uneven.

【0095】このように被加工物51と接触する硬質カ
ーボン膜15の表面15aを凹凸とすると、従来技術の
凹凸面を形成しない硬質カーボン膜と比較して、この硬
質カーボン膜15と被加工物51との接触面積を少なく
することができる。したがって、硬質カーボン膜15が
具備する優れた特性である、低摩擦特性をなおいっそう
助長させることが可能となる。さらに、硬質カーボン膜
15の表面15aを凹凸面としているので、ガイドブッ
シュ11の内周面11bと被加工物51とのあいだに供
給する油を、硬質カーボン膜15表面の凹部にて保持す
ることができ、低摩擦で被加工物51を回転および軸方
向に摺動させることが可能となる。
When the surface 15a of the hard carbon film 15 that is in contact with the workpiece 51 is made uneven, the hard carbon film 15 and the workpiece are harder than the conventional hard carbon film having no uneven surface. The area of contact with 51 can be reduced. Therefore, it is possible to further promote the low friction characteristics, which are the excellent characteristics of the hard carbon film 15. Further, since the surface 15a of the hard carbon film 15 is formed as an uneven surface, the oil supplied between the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 and the workpiece 51 is held in the concave portion on the surface of the hard carbon film 15. The workpiece 51 can be rotated and slid in the axial direction with low friction.

【0096】この結果、ガイドブッシュ11の内周面1
1bで回転し軸方向に摺動する被加工物51と、硬質カ
ーボン膜15との接触抵抗が低減し、硬質カーボン膜1
5の摩耗を抑制することができる。したがって、本発明
のガイドブッシュ11では、内周面11bに形成した硬
質カーボン膜15の耐久性を向上させることができ、ガ
イドブッシュ11の長期使用にたいする信頼性を高める
ことが可能となる。
As a result, the inner peripheral surface 1 of the guide bush 11
1b, the contact resistance between the workpiece 51 rotating in the axial direction and the hard carbon film 15 is reduced.
5 can be suppressed. Therefore, in the guide bush 11 of the present invention, the durability of the hard carbon film 15 formed on the inner peripheral surface 11b can be improved, and the reliability of the guide bush 11 for long-term use can be improved.

【0097】そして、超硬部材12表面の中間層14と
接触する面は、この超硬部材12のバインダーとして機
能しているコバルト(Co)を選択的に除去している。
すなわち、このコバルト(Co)を除去した超硬部材1
2上面に中間層14を介して硬質カーボン膜15を設け
る。
The surface of the superhard member 12 which comes into contact with the intermediate layer 14 selectively removes cobalt (Co) functioning as a binder of the superhard member 12.
That is, the cemented carbide member 1 from which the cobalt (Co) has been removed.
2. A hard carbon film 15 is provided on the upper surface with an intermediate layer 14 interposed therebetween.

【0098】この結果、本発明の硬質カーボン膜15に
おいては、ガイドブッシュ11の内周面11bに密着性
よく形成することが可能となり、剥離するという問題点
は発生しない。したがって、ガイドブッシュ11の使用
寿命を従来より大幅に延ばすことができ、長期使用にた
いする信頼性を向上させることが可能となる。
As a result, the hard carbon film 15 of the present invention can be formed with good adhesion on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11, and the problem of peeling does not occur. Therefore, the service life of the guide bush 11 can be greatly extended as compared with the conventional art, and the reliability for long-term use can be improved.

【0099】このように本発明のガイドブッシュ11の
優れた点ついては、発明者らは以下に記載した理由によ
って得られていると考えている。中間層14と接触する
超硬部材12表面のコバルトを除去する前と、除去した
のちとの表面状態を、走査型電子顕微鏡(SEM)にて
観察した。
The inventors believe that the superior features of the guide bush 11 of the present invention have been obtained for the following reasons. The surface states before and after removing cobalt on the surface of the superhard member 12 in contact with the intermediate layer 14 were observed with a scanning electron microscope (SEM).

【0100】超硬部材12表面のコバルトを除去する前
の面は、この超硬部材12の内周面の研磨加工を行った
加工痕が観察された。これにたいして超硬部材12表面
のコバルトを除去したのちの面は、その加工痕が観察さ
れなかった。
On the surface of the cemented carbide member 12 before removal of cobalt, there was observed a trace of grinding the inner peripheral surface of the cemented carbide member 12. On the other hand, no machining marks were observed on the surface of the superhard member 12 from which cobalt had been removed.

【0101】また、肉眼で超硬部材12表面を観察して
も、その差は歴然としていた。すなわち、超硬部材12
表面のコバルトを除去する前の面は、研磨面で鏡面状態
であったのにたいして、超硬部材12表面のコバルトを
除去したのちの面は、鏡面ではなく梨地状態であった。
When the surface of the super hard member 12 was observed with the naked eye, the difference was obvious. That is, the super hard member 12
The surface of the superhard member 12 from which cobalt had been removed was in a mirror-finished state instead of a mirror-finished surface, whereas the surface before removing cobalt was in a mirror-finished state.

【0102】これは、中間層14と接触する超硬部材1
23表面のコバルトを除去すると、このコバルトはバイ
ンダーとして機能していたので、このバインダーと焼結
処理によって結合していたタングステンや炭素も剥落
し、前述のように、加工痕が観察されず、また梨地状態
となっている。
This is because the super hard member 1 in contact with the intermediate layer 14
When the cobalt on the surface of the 23 was removed, this cobalt functioned as a binder, so that tungsten and carbon bonded by the binder and the sintering process were also peeled off, and as described above, no processing marks were observed. It is in a satin state.

【0103】このように、中間層14と接触する超硬部
材12表面の加工痕が消滅し観察されないことと、梨地
状態となっていることから、さらにいっそう硬質カーボ
ン膜15の密着性が向上する。とくに加工痕について
は、その加工痕箇所に形成される中間層14は、その箇
所に伸長や圧縮などの膜ストレスが発生しており、この
膜ストレスにより、中間層14の密着性不良が発生して
いたと考えており、この加工痕が消滅したことによっ
て、膜ストレスに起因する密着性が劣化するという現象
は発生しない。この結果、本発明のガイドブッシュ11
においては、中間層14が剥離するという現象は発生せ
ず、したがって、その中間層14上面に形成する硬質カ
ーボン膜15の密着性も向上し、ガイドブッシュ11の
使用寿命を従来より大幅に延ばすことができ、長期使用
にたいする信頼性が向上する。
As described above, since the processing marks on the surface of the cemented carbide member 12 that are in contact with the intermediate layer 14 disappear and are not observed, and the matte state is provided, the adhesion of the hard carbon film 15 is further improved. . In particular, regarding the processing mark, the intermediate layer 14 formed at the processing mark position has a film stress such as elongation or compression at the position, and this film stress causes poor adhesion of the intermediate layer 14. It is believed that the disappearance of the processing trace does not cause a phenomenon that the adhesion due to the film stress is deteriorated. As a result, the guide bush 11 of the present invention
In this case, the phenomenon that the intermediate layer 14 is not peeled off does not occur, and therefore, the adhesion of the hard carbon film 15 formed on the upper surface of the intermediate layer 14 is also improved, and the service life of the guide bush 11 is significantly extended. And reliability for long-term use is improved.

【0104】この硬質カーボン膜15は、黒色状の被膜
であり、ダイヤモンドによく似た性質をもつ。すなわち
硬質カーボン膜15は、高い機械的硬度や低い摩擦係数
や良好な電気的絶縁性や高い熱伝導率や高い耐腐食性と
いう優れた特性をもつ。このため本発明のガイドブッシ
ュ11は、切削量が大きく加工速度が大きな重切削加工
において、被加工物51と接触する内周面の摩耗を抑え
ることができ、被加工物へのキズの発生を抑えることが
可能となり、さらにガイドブッシュ11と被加工物51
との焼き付きの発生を抑制することができる。
The hard carbon film 15 is a black film and has properties very similar to diamond. That is, the hard carbon film 15 has excellent characteristics such as high mechanical hardness, low coefficient of friction, good electrical insulation, high thermal conductivity, and high corrosion resistance. For this reason, the guide bush 11 of the present invention can suppress wear of the inner peripheral surface in contact with the workpiece 51 in heavy cutting in which the cutting amount is large and the processing speed is large, and the generation of scratches on the workpiece is reduced. And the guide bush 11 and the workpiece 51
Can be suppressed from occurring.

【0105】さらに本発明のガイドブッシュ11は、そ
の内周面11bの中間層14の下層に、硬度の高い超硬
部材12を形成し、硬質カーボン膜15を設けている。
このように硬質カーボン膜15の下層に硬度の高い超硬
部材12を設けると、局所的な硬質カーボン膜15の剥
離や摩耗を抑制することができ、ガイドブッシュ11の
長期使用に対する信頼性をよりいっそう向上させること
ができる。
Further, in the guide bush 11 of the present invention, a superhard member 12 having high hardness is formed below the intermediate layer 14 on the inner peripheral surface 11b, and a hard carbon film 15 is provided.
When the superhard member 12 having high hardness is provided below the hard carbon film 15, local peeling or wear of the hard carbon film 15 can be suppressed, and the reliability of the guide bush 11 for long-term use can be further improved. Can be further improved.

【0106】さらにこの超硬部材12と硬質カーボン膜
15とのあいだに、中間層14を設ける構造を本発明で
は採用する。そしてこの中間層14としては、本発明の
ガイドブッシュでは、この第1例のように単層膜で構成
するときは、シリコンカーバイト膜(SiC)や炭化タ
ングステン膜(WC)などの炭素を含む合金材料被膜で
構成する。
Further, in the present invention, a structure in which an intermediate layer 14 is provided between the super hard member 12 and the hard carbon film 15 is employed. In the case of the guide bush of the present invention, when the intermediate layer 14 is formed of a single-layer film as in the first example, the intermediate layer 14 contains carbon such as a silicon carbide film (SiC) or a tungsten carbide film (WC). It is composed of an alloy material film.

【0107】このように超硬部材12と硬質カーボン膜
15とのあいだに中間層12を介在させると、硬質カー
ボン膜15の密着性は高くなる。これは、超硬部材12
にバインダーとして含まれるコバルトを、硬質カーボン
膜15のカーボンに溶解してしまうという現象を、中間
層14が抑えているためである。
When the intermediate layer 12 is interposed between the super hard member 12 and the hard carbon film 15, the adhesion of the hard carbon film 15 is increased. This is the super hard member 12
This is because the intermediate layer 14 suppresses the phenomenon that cobalt contained in the hard carbon film 15 is dissolved in the carbon contained in the hard carbon film 15.

【0108】すなわち、超硬部材12にバインダーとし
て含有しているコバルトと硬質カーボン膜15の炭素と
が反応するという現象は発生しない。このためガイドブ
ッシュ11の内周面に11b密着性よく硬質カーボン膜
15を形成することができ、その結果、ガイドブッシュ
内周面における硬質カーボン膜15の剥離現象は発生し
ない。
That is, the phenomenon that cobalt contained as a binder in the super hard member 12 reacts with carbon of the hard carbon film 15 does not occur. For this reason, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface of the guide bush 11 with good adhesion 11b, and as a result, the peeling phenomenon of the hard carbon film 15 on the inner peripheral surface of the guide bush does not occur.

【0109】ガイドブッシュ11の内周面11bに設け
る硬質カーボン膜15の膜厚としては、1μmから10
μmとする。さらに本発明のガイドブッシュ11では、
炭素を含む合金材料被膜からなる中間層14としては
0.5μm程度の膜厚とする。そして後述するように、
本発明においては、中間層14はスパッタリング法で形
成し、硬質カーボン膜15はプラズマ化学的気相成長法
によって形成しているため、前述の中間層14膜厚およ
び硬質カーボン膜15膜厚では、凹凸に倣うように被膜
形成され、硬質カーボン膜15の表面15aに凹凸を形
成できる。
The thickness of the hard carbon film 15 provided on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 is from 1 μm to 10 μm.
μm. Further, in the guide bush 11 of the present invention,
The intermediate layer 14 made of a carbon-containing alloy material film has a thickness of about 0.5 μm. And as described below,
In the present invention, since the intermediate layer 14 is formed by a sputtering method and the hard carbon film 15 is formed by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the above-described intermediate layer 14 and hard carbon film 15 have the following thicknesses. A film is formed so as to follow the irregularities, and irregularities can be formed on the surface 15 a of the hard carbon film 15.

【0110】つぎにこのガイドブッシュへの中間層と硬
質カーボン膜との被膜形成方法における実施形態を説明
する。
Next, an embodiment of a method for forming a film of the intermediate layer and the hard carbon film on the guide bush will be described.

【0111】〔超硬部材表面領域からコバルトを除去方
法の説明〕まずはじめに、ガイドブッシュ11の内周面
11bに形成した超硬部材12の表面領域から、バイン
ダーとして機能するコバルトを除去する。このコバルト
の除去は、ウェットエッチング処理によって行なうこと
が好ましい。
[Description of Method for Removing Cobalt from Carbide Member Surface Region] First, cobalt functioning as a binder is removed from the surface region of the carbide member 12 formed on the inner peripheral surface 11 b of the guide bush 11. This removal of cobalt is preferably performed by wet etching.

【0112】コバルトを選択的に除去するウェットエッ
チング液としては、水酸化ナトリウム(NaOH)と過
酸化水素水(H2 O2 )との混合溶液を使用する。ある
いは過酸化水素水(H2 O2 )でコバルトを選択的にエ
ッチングしてもよい。この混合溶液においては、超硬部
材12の他の構成材料であるタングステンや炭素、およ
びガイドブッシュ11の構成材料である合金工具項(S
KS)はいっさいエッチングされず、コバルトだけを選
択的にエッチングすることができる。
As a wet etching solution for selectively removing cobalt, a mixed solution of sodium hydroxide (NaOH) and hydrogen peroxide solution (H 2 O 2) is used. Alternatively, cobalt may be selectively etched with a hydrogen peroxide solution (H2 O2). In this mixed solution, tungsten and carbon, which are other constituent materials of the super hard member 12, and an alloy tool (S, which is a constituent material of the guide bush 11)
KS) is not etched at all and only cobalt can be selectively etched.

【0113】この水酸化ナトリウム(NaOH)と過酸
化水素水(H2 O2 )との混合溶液によるコバルトのエ
ッチング処理は、液温は室温で行ない、エッチング時間
は3時間から5時間、そのエッチング液中に浸漬する。
過酸化水素水(H2 O2 )を使用したコバルトのエッチ
ングでも、これとほぼ同じ条件で行なえばよい。
The etching of cobalt with a mixed solution of sodium hydroxide (NaOH) and aqueous hydrogen peroxide (H 2 O 2) is performed at a liquid temperature of room temperature, and the etching time is 3 to 5 hours. Soak in
The etching of cobalt using aqueous hydrogen peroxide (H2 O2) may be performed under substantially the same conditions.

【0114】以上の記載では、超硬部材12を構成する
コバルトをウェットエッチング処理することによって除
去する実施形態で説明したが、超硬部材12のほかの構
成材料をエッチングして、超硬部材12の表面に凹凸を
形成してもよい。また、超硬部材12をガイドブッシュ
11の内周面11bに形成しない場合では、ガイドブッ
シュ11を構成する合金工具鋼をエッチングして凹凸を
形成してもよい。
In the above description, the embodiment has been described in which cobalt constituting the superhard member 12 is removed by wet etching, but other constituent materials of the superhard member 12 are etched to form the superhard member 12. May be formed on the surface of the substrate. When the super hard member 12 is not formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11, the alloy tool steel constituting the guide bush 11 may be etched to form the irregularities.

【0115】つぎに、この超硬部材の表面領域からコバ
ルトを除去したガイドブッシュへの中間層の形成方法を
図4を用いて説明する。図4は本発明の実施形態におけ
るガイドブッシュへの中間層の形成方法を示す断面図で
ある。以下、図4と図1とを交互に参照して説明する。
Next, a method of forming an intermediate layer on a guide bush in which cobalt has been removed from the surface region of the superhard member will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method of forming an intermediate layer on a guide bush according to the embodiment of the present invention. Hereinafter, description will be made with reference to FIG. 4 and FIG. 1 alternately.

【0116】〔中間層の形成方法:図4および図1〕図
4に示すように、真空槽61の壁面近傍に、中間層14
材料であるタングステンと炭素とを1対1で合金とした
ターゲット55を配置する。そしてこのターゲット55
に対向するように、超硬部材12上面に中間層14を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このときガイド
ブッシュ11の開口の長手方向がターゲット55表面に
たいして垂直になるように配置する。
[Method of Forming Intermediate Layer: FIGS. 4 and 1] As shown in FIG.
A target 55 made of a one-to-one alloy of tungsten and carbon as materials is arranged. And this target 55
The guide bush 11 that forms the intermediate layer 14 is arranged on the upper surface of the superhard member 12 so as to face the surface. At this time, the guide bush 11 is arranged so that the longitudinal direction of the opening is perpendicular to the surface of the target 55.

【0117】ガイドブッシュ11は直流電源73に接続
する。さらにターゲット55はターゲット電源57に接
続する。そして図示しない排気手段によって真空槽61
内を真空度が3×10-5torr以下になるように、排
気口65から真空排気する。その後、ガス導入口63か
らスパッタガスとしてアルゴン(Ar)ガスを導入し
て、真空槽61内の真空度が3×10-3torrになる
ように調整する。
The guide bush 11 is connected to a DC power supply 73. Further, the target 55 is connected to a target power supply 57. Then, the vacuum chamber 61 is evacuated by an exhaust means (not shown).
The inside is evacuated from the exhaust port 65 so that the degree of vacuum becomes 3 × 10 −5 torr or less. Thereafter, an argon (Ar) gas is introduced as a sputtering gas from the gas inlet 63 to adjust the degree of vacuum in the vacuum chamber 61 to 3 × 10 −3 torr.

【0118】さらにその後、ガイドブッシュ11には直
流電源73からマイナス50Vの直流負電圧を印加し、
ターゲット55にはターゲット電源57からマイナス5
00Vから600Vの直流電圧を印加する。
Thereafter, a negative DC voltage of -50 V is applied to the guide bush 11 from the DC power supply 73,
-5 from the target power supply 57 to the target 55
A DC voltage of 00 V to 600 V is applied.

【0119】すると真空槽61内部にはプラズマが発生
し、プラズマ中のイオンによってターゲット55表面を
スパッタする。そしてこのターゲット55表面から叩き
だされたタングステンと炭素の中間層14材料は、ガイ
ドブッシュ11の内周面に付着してタングステンカーバ
イトからなる中間層14を、ガイドブッシュ11の超硬
部材12上面に形成することができる。
Then, plasma is generated inside the vacuum chamber 61, and the surface of the target 55 is sputtered by ions in the plasma. The material of the intermediate layer 14 of tungsten and carbon that has been hammered from the surface of the target 55 adheres to the inner peripheral surface of the guide bush 11 to form the intermediate layer 14 made of tungsten carbide on the super hard member 12 of the guide bush 11. Can be formed.

【0120】このタングステンカーバイト膜からなる中
間層14のとしては、0.5μm程度の膜厚で形成す
る。そして、前述のように、この0.5μm程度の膜厚
のタングステンカーバイトの形成では、下層の超硬部材
12表面に形成された凹凸に倣うように形成されるため
に中間層14の表面は凹凸が形成される。
The intermediate layer 14 made of the tungsten carbide film is formed with a thickness of about 0.5 μm. As described above, in the formation of the tungsten carbide having a thickness of about 0.5 μm, the surface of the intermediate layer 14 is formed so as to follow the irregularities formed on the surface of the lower super-hard member 12. Irregularities are formed.

【0121】〔硬質カーボン膜の形成方法〕つぎにこの
中間層14を形成したガイドブッシュ11への硬質カー
ボン膜の形成方法を、図5と図6と図7とを用いて説明
する。はじめに図5を用いて硬質カーボン膜の形成方法
の第1例を説明する。図5は本発明の実施形態における
ガイドブッシュへの硬質カーボン膜の形成方法を示す断
面図である。以下、硬質カーボン膜を形成するための装
置を示す図5と、ガイドブッシュを示す図3とを交互に
参照して説明する。
[Method of Forming Hard Carbon Film] Next, a method of forming a hard carbon film on the guide bush 11 on which the intermediate layer 14 has been formed will be described with reference to FIGS. 5, 6 and 7. FIG. First, a first example of a method for forming a hard carbon film will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a sectional view showing a method for forming a hard carbon film on a guide bush according to the embodiment of the present invention. Hereinafter, description will be given with reference to FIG. 5 showing an apparatus for forming a hard carbon film and FIG. 3 showing a guide bush alternately.

【0122】〔硬質カーボン膜の形成方法の第1例:図
5および図3〕図5に示すように、ガス導入口63と排
気口65とを有する真空槽61内に、中間層上面に硬質
カーボン膜を形成するガイドブッシュ11を配置する。
このときガイドブッシュ11の開口端面の外周テーパ面
11a側にはダミー部材53を配置する。
[First Example of Method of Forming Hard Carbon Film: FIGS. 5 and 3] As shown in FIG. 5, a hard carbon film is provided on a top surface of an intermediate layer in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. A guide bush 11 for forming a carbon film is arranged.
At this time, a dummy member 53 is arranged on the outer peripheral tapered surface 11a side of the opening end surface of the guide bush 11.

【0123】このダミー部材53は円柱状の形状を有
し、その中心にガイドブッシュ11の内周面11bの開
口寸法とほぼおなじ内径寸法の開口を設ける。このダミ
ー部材53の外径寸法は、ガイドブッシュ11の端面の
大きさと同じ大きさとする。つまりダミー部材53はリ
ング状の形状を有する。
The dummy member 53 has a columnar shape, and has an opening having an inner diameter substantially the same as the opening of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 at the center thereof. The outer diameter of the dummy member 53 is the same as the size of the end face of the guide bush 11. That is, the dummy member 53 has a ring shape.

【0124】そしてこのガイドブッシュ11の開口内面
には、接地電位に接続する補助電極71を挿入するよう
に設ける。このとき補助電極71はガイドブッシュ11
の開口中央部になるように配置する。
On the inner surface of the opening of the guide bush 11, an auxiliary electrode 71 connected to the ground potential is provided so as to be inserted. At this time, the auxiliary electrode 71 is
Is arranged at the center of the opening.

【0125】そして真空槽61内を真空度が3×10-5
torr以下になるように、図示しない排気手段によっ
て排気口65から真空排気する。その後、ガス導入口6
3から炭素を含むガスとしてベンゼン(C6 H6 )を真
空槽61内に導入して、真空槽61内の圧力を5×10
-3torrになるように制御する。
The degree of vacuum in the vacuum chamber 61 is 3 × 10 −5.
The air is evacuated from the exhaust port 65 by an exhaust means (not shown) so that the pressure is not more than torr. Then, the gas inlet 6
3. Benzene (C6 H6) is introduced into the vacuum chamber 61 as a gas containing carbon from 3 and the pressure in the vacuum chamber 61 is increased to 5.times.10.
-3 torr.

【0126】その後、ガイドブッシュ11には直流電源
73から直流電圧を印加し、さらにアノード79にはア
ノード電源75から直流電圧を印加し、さらにフィラメ
ント81にはフィラメント電源77から交流電圧を印加
する。
Thereafter, a DC voltage is applied to the guide bush 11 from the DC power supply 73, a DC voltage is applied to the anode 79 from the anode power supply 75, and an AC voltage is applied to the filament 81 from the filament power supply 77.

【0127】このとき直流電源73からガイドブッシュ
11に印加する直流電圧はマイナス3kVを印加し、さ
らにアノード電源75からアノード79に印加する直流
電圧はプラス50Vを印加する。さらにフィラメント電
源77からフィラメント81に印加する電圧は30Aの
電流が流れるように10Vの交流電圧を印加する。する
と真空槽61内のガイドブッシュ11の補助電極71の
周囲領域にプラズマが発生して、ガイドブッシュ11の
内周面11bに硬質カーボン膜15を形成している。
At this time, a DC voltage applied from the DC power supply 73 to the guide bush 11 is −3 kV, and a DC voltage applied from the anode power supply 75 to the anode 79 is +50 V. Further, a voltage applied from the filament power supply 77 to the filament 81 is an AC voltage of 10 V so that a current of 30 A flows. Then, plasma is generated in a region around the auxiliary electrode 71 of the guide bush 11 in the vacuum chamber 61, and the hard carbon film 15 is formed on the inner peripheral surface 11 b of the guide bush 11.

【0128】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, and in the film formation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0129】このガイドブッシュ11の開口内面に挿入
するように配置する補助電極71により、開口内面領域
においては同電位どうしが対向することがなくなる。こ
のため、異常放電であるホロー放電の発生はなく、ガイ
ドブッシュ11の開口内面に形成する硬質カーボン膜の
密着性が向上する。さらにガイドブッシュ11の長手方
向の開口内面で、電位特性が均一になり、開口内面に形
成する硬質カーボン膜の膜厚分布の発生がなく、開口端
面と開口奥側とで均一な膜厚を形成することができる。
By the auxiliary electrode 71 arranged to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11, the same potential does not face each other in the inner surface region of the opening. Therefore, there is no occurrence of hollow discharge, which is an abnormal discharge, and the adhesion of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 is improved. Further, the potential characteristics become uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction of the guide bush 11, and the thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening does not occur. can do.

【0130】この補助電極71は、ガイドブッシュ11
の開口大きさより小さければよく、好ましくは4mm程
度の隙間であるプラズマ形成領域を設けるようにする。
そしてこの補助電極71は、ステンレスのような金属材
料で形成すればよい。この補助電極71の断面形状は円
形とし、ガイドブッシュ11に補助電極71を挿入した
とき、ダミー部材53の開口端面と揃えるような長さと
するか、あるいはダミー部材53端面から補助電極71
を突出するような長さとするか、あるいはダミー部材5
3端面より突出せず端面から1mm〜2mm奥側になる
ような長さとなるように構成する。
The auxiliary electrode 71 is connected to the guide bush 11
It is sufficient that the size is smaller than the opening size, and a plasma forming region which is preferably a gap of about 4 mm is provided.
The auxiliary electrode 71 may be made of a metal material such as stainless steel. The sectional shape of the auxiliary electrode 71 is circular, and the auxiliary electrode 71 is inserted into the guide bush 11 so that the auxiliary electrode 71 is aligned with the opening end surface of the dummy member 53 or the auxiliary electrode 71 extends from the dummy member 53 end surface.
Of the dummy member 5
(3) The length is set so as not to protrude from the end face but to be 1 mm to 2 mm deeper than the end face.

【0131】さらに前述のようにガイドブッシュ11の
開口端面にはダミー部材53を配置している。そして前
述のように、このダミー部材53の中心部の開口大きさ
と、ガイドブッシュ11の開口大きさとはほぼ同じ大き
さとしている。このダミー部材53は以下に記載する役
割を果たす。すなわち図5に示す硬質カーボン膜の形成
方法においては、ガイドブッシュ11の内面とガイドブ
ッシュ11の外周部とにプラズマが発生する。
As described above, the dummy member 53 is disposed on the open end surface of the guide bush 11. As described above, the size of the opening at the center of the dummy member 53 and the size of the opening of the guide bush 11 are substantially the same. This dummy member 53 plays a role described below. That is, in the method of forming the hard carbon film shown in FIG. 5, plasma is generated on the inner surface of the guide bush 11 and the outer peripheral portion of the guide bush 11.

【0132】そしてガイドブッシュ11の端面は電荷が
集中しやすく、ガイドブッシュ11の内面に比らべてガ
イドブッシュ11の端面領域は電荷が高い状態、いわゆ
るエッジ効果が発生する。ここでガイドブッシュ11端
面近傍のプラズマ強度は他の領域より大きく、しかも不
安定でもある。さらにガイドブッシュ11の端部領域
は、ガイドブッシュ11内面のプラズマとガイドブッシ
ュ11外周部のプラズマとの双方のプラズマの影響を受
けることになる。
The end face of the guide bush 11 tends to concentrate electric charges, and the end face area of the guide bush 11 has a higher electric charge than the inner surface of the guide bush 11, that is, a so-called edge effect occurs. Here, the plasma intensity in the vicinity of the end face of the guide bush 11 is higher than in other regions, and is also unstable. Further, the end region of the guide bush 11 is affected by both the plasma on the inner surface of the guide bush 11 and the plasma on the outer peripheral portion of the guide bush 11.

【0133】そしてこのような状態で硬質カーボン膜を
形成すると、ガイドブッシュ11の開口端面から数mm
奥側の領域と他の領域とでは、硬質カーボン膜の密着性
が若干劣り、さらに膜質も若干異なる。
When a hard carbon film is formed in such a state, a few mm from the open end face of the guide bush 11
The adhesiveness of the hard carbon film is slightly inferior between the deep region and the other region, and the film quality is slightly different.

【0134】そこでガイドブッシュ11の開口端面にダ
ミー部材53を配置して硬質カーボン膜を形成すれば、
この膜質や密着性が異なる領域はガイドブッシュ11内
面に形成されず、ダミー部材53の開口内面に形成され
ることになる。
Therefore, if a hard carbon film is formed by disposing the dummy member 53 on the open end surface of the guide bush 11,
The region having the different film quality and adhesion is not formed on the inner surface of the guide bush 11, but is formed on the inner surface of the opening of the dummy member 53.

【0135】図5に示すような装置を用いて硬質カーボ
ン膜を形成したときは、実験によればガイドブッシュ1
1の開口端面から4mm程度奥側に、幅寸法が1mmか
ら2mmの膜質や密着性が異なる領域が形成された。そ
こでガイドブッシュ11の開口寸法とほぼ同じ開口寸法
をもち、長さ寸法が10mmのダミー部材53をガイド
ブッシュ11の開口端面に配置して、前述の硬質カーボ
ン膜の形成条件で被膜形成を行った。この結果、膜質や
密着性が異なる領域はダミー部材53に形成され、ガイ
ドブッシュ11の内面には膜質や密着性が異なる領域は
まったく形成されなかった。
When a hard carbon film was formed using an apparatus as shown in FIG.
A region having a width of 1 mm to 2 mm and different film quality and adhesion was formed at a depth of about 4 mm from the opening end face of No. 1. Therefore, a dummy member 53 having an opening size almost the same as the opening size of the guide bush 11 and having a length of 10 mm was arranged on the opening end face of the guide bush 11, and a film was formed under the conditions for forming the hard carbon film described above. . As a result, regions having different film qualities and adhesion were formed on the dummy member 53, and no regions having different film qualities and adhesion were formed on the inner surface of the guide bush 11 at all.

【0136】〔硬質カーボン膜の形成方法の第2例:図
6および図3〕つぎに以上の説明と異なる実施形態にお
ける中間層を形成したガイドブッシュへの硬質カーボン
膜の形成方法を、図6を用いて説明する。図6は本発明
の実施形態における硬質カーボン膜の形成方法を示す断
面図である。以下、図6と図3とを交互に用いてガイド
ブッシュへの硬質カーボン膜の形成方法を説明する。
[Second Example of Method of Forming Hard Carbon Film: FIGS. 6 and 3] Next, a method of forming a hard carbon film on a guide bush having an intermediate layer in an embodiment different from the above description will be described with reference to FIGS. This will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method for forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method of forming a hard carbon film on a guide bush will be described with reference to FIGS. 6 and 3 alternately.

【0137】図6に示すように、ガス導入口63と排気
口65とを有する真空槽61内に、中間層上面に硬質カ
ーボン膜を形成するガイドブッシュ11を配置する。こ
のときガイドブッシュ11の開口端面の外周テーパ面1
1a側には、ダミー部材53を配置する。このダミー部
材53は円柱状の形状を有し、その中心にガイドブッシ
ュ11の内周面11bの開口寸法とほぼおなじ内径の開
口を設ける。このダミー部材53の外径寸法は、ガイド
ブッシュ11の端面の大きさと同じ大きさとする。すな
わちダミー部材53はリング状の外形形状を有する。
As shown in FIG. 6, a guide bush 11 for forming a hard carbon film on the upper surface of an intermediate layer is disposed in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. At this time, the outer peripheral tapered surface 1 of the open end surface of the guide bush 11
On the 1a side, a dummy member 53 is arranged. The dummy member 53 has a columnar shape, and has an opening having an inner diameter substantially the same as the opening size of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 at the center thereof. The outer diameter of the dummy member 53 is the same as the size of the end face of the guide bush 11. That is, the dummy member 53 has a ring-shaped outer shape.

【0138】そして真空槽61内を図6に図示しない排
気手段によって、真空度が3×10-5torr以下にな
るように、排気口65から真空排気した後、ガス導入口
63から炭素を含むガスとしてメタンガス(CH4 )を
真空槽61内に導入して、真空度を0.1torrにな
るように調整する。
Then, the inside of the vacuum chamber 61 is evacuated from the exhaust port 65 by an exhaust means (not shown in FIG. 6) so that the degree of vacuum becomes 3 × 10 -5 torr or less, and then carbon is contained from the gas inlet 63. Methane gas (CH4) is introduced into the vacuum chamber 61 as a gas, and the degree of vacuum is adjusted to 0.1 torr.

【0139】そしてこのガイドブッシュ11には、マッ
チング回路67を介して、発振周波数が13.56MH
zを有する高周波電源69から高周波電圧を印加する。
さらにガイドブッシュ11の開口内面でしかも開口中央
部には、接地電位に接続する補助電極71を挿入するよ
うに配置して、プラズマを発生させる。
The guide bush 11 has an oscillation frequency of 13.56 MHz via a matching circuit 67.
A high frequency voltage is applied from a high frequency power supply 69 having z.
Further, an auxiliary electrode 71 connected to a ground potential is arranged to be inserted in the inner surface of the opening of the guide bush 11 and at the center of the opening to generate plasma.

【0140】このときプラズマは、ガイドブッシュ11
の開口内面に配置した補助電極71の周囲領域に発生さ
せることができ、ガイドブッシュ11の内周面11bに
硬質カーボン膜15を形成することができる。
At this time, the plasma is applied to the guide bush 11
The hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 in the area around the auxiliary electrode 71 disposed on the inner surface of the opening.

【0141】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method. In the film formation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0142】このように本発明の実施形態の硬質カーボ
ン膜の形成方法においては、ガイドブッシュ11の開口
内面に補助電極71を設けている。このため、開口内面
領域においては同電位どうしが対向することがなく、異
常放電であるホロー放電は発生しない。この結果、開口
内面にも密着性よく、均一な硬質カーボン膜を形成する
ことができる。
As described above, in the method for forming a hard carbon film according to the embodiment of the present invention, the auxiliary electrode 71 is provided on the inner surface of the opening of the guide bush 11. Therefore, the same potential does not face each other in the inner surface area of the opening, and the hollow discharge, which is an abnormal discharge, does not occur. As a result, a uniform hard carbon film can be formed with good adhesion even on the inner surface of the opening.

【0143】このようにガイドブッシュ11の開口内面
に補助電極71を設けているのでガイドブッシュ11の
長手方向の開口内面で、電位特性が均一になる。この結
果、ガイドブッシュ11の開口内面に形成する硬質カー
ボン膜の膜厚分布の発生がなく、開口端面と開口奥側と
で均一な膜厚にて硬質カーボン膜を形成することができ
る。
As described above, since the auxiliary electrode 71 is provided on the inner surface of the opening of the guide bush 11, the potential characteristics become uniform on the inner surface of the opening of the guide bush 11 in the longitudinal direction. As a result, there is no occurrence of a film thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11, and the hard carbon film can be formed with a uniform film thickness on the opening end surface and the inner side of the opening.

【0144】この補助電極71は、ガイドブッシュ11
の開口大きさより小さければよく、好ましくは4mm程
度の隙間、すなわちプラズマ形成領域を設けるようにす
る。そしてこの補助電極71は、ステンレスのような金
属材料で形成すればよい。
The auxiliary electrode 71 is connected to the guide bush 11
It is sufficient that the gap is smaller than the opening size, and a gap of about 4 mm, that is, a plasma forming region is provided. The auxiliary electrode 71 may be made of a metal material such as stainless steel.

【0145】さらにこの補助電極71の断面形状は円形
とする。そしてガイドブッシュ11に補助電極71を挿
入したとき、ダミー部材53の開口端面と揃えるような
長さとするか、あるいはダミー部材53端面から補助電
極71を突出するような長さとするか、あるいはダミー
部材53端面より突出せず端面から1mm〜2mm奥側
になるような長さとなるように構成する。
The auxiliary electrode 71 has a circular cross section. When the auxiliary electrode 71 is inserted into the guide bush 11, the length is set so as to be aligned with the opening end face of the dummy member 53, or the length is set so that the auxiliary electrode 71 protrudes from the end face of the dummy member 53. 53 The length is configured so as not to protrude from the end face but to be 1 mm to 2 mm deep from the end face.

【0146】さらに前述のようにガイドブッシュ11の
開口端面にはダミー部材53を配置している。そしてこ
のダミー部材53の中心部の開口大きさと、ガイドブッ
シュ11の開口大きさとはほぼ同じ大きさとする。
Further, as described above, the dummy member 53 is disposed on the open end surface of the guide bush 11. The opening size of the central portion of the dummy member 53 and the opening size of the guide bush 11 are substantially the same.

【0147】このダミー部材53は以下に記載する役割
を果たす。すなわち図6に示す硬質カーボン膜の形成方
法においては、ガイドブッシュ11の内面とガイドブッ
シュ11の外周部とにプラズマが発生する。そしてガイ
ドブッシュ11の端面は電荷が集中しやすく、ガイドブ
ッシュ11の内面に比らべてガイドブッシュ11の端面
領域は電荷が高い状態、いわゆるエッジ効果が発生す
る。ここでガイドブッシュ11端面近傍のプラズマ強度
は他の領域より大きく、しかも不安定でもある。
The dummy member 53 plays a role described below. That is, in the method of forming the hard carbon film shown in FIG. 6, plasma is generated on the inner surface of the guide bush 11 and the outer peripheral portion of the guide bush 11. Then, the charges are easily concentrated on the end face of the guide bush 11, and the end face area of the guide bush 11 has a higher charge than the inner face of the guide bush 11, that is, a so-called edge effect occurs. Here, the plasma intensity in the vicinity of the end face of the guide bush 11 is higher than in other regions, and is also unstable.

【0148】さらにガイドブッシュ11の端部領域は、
ガイドブッシュ11内面のプラズマとガイドブッシュ1
1外周部のプラズマとの双方のプラズマの影響を受ける
ことになる。そしてこのような状態で硬質カーボン膜を
形成すると、ガイドブッシュ11の開口端面から数mm
奥側の領域と他の領域とでは、硬質カーボン膜の密着性
が若干劣り、さらに膜質も若干異なる。
Furthermore, the end area of the guide bush 11
Plasma on guide bush 11 inner surface and guide bush 1
It will be affected by both plasma and the plasma at the outer periphery. When the hard carbon film is formed in such a state, several mm from the open end face of the guide bush 11
The adhesiveness of the hard carbon film is slightly inferior between the deep region and the other region, and the film quality is slightly different.

【0149】そこでガイドブッシュ11の開口端面にダ
ミー部材53を配置して硬質カーボン膜を形成すれば、
この膜質や密着性が異なる領域はガイドブッシュ11内
面に形成されず、ダミー部材53の開口内面に形成され
ることになる。
Therefore, if a hard carbon film is formed by disposing the dummy member 53 on the open end surface of the guide bush 11,
The region having the different film quality and adhesion is not formed on the inner surface of the guide bush 11, but is formed on the inner surface of the opening of the dummy member 53.

【0150】図6に示すような装置を用いて硬質カーボ
ン膜を形成したときは、実験によればガイドブッシュ1
1の開口端面から7mm程度奥側に、幅寸法が1mmか
ら2mmの膜質や密着性が異なる領域が形成された。そ
こでガイドブッシュ11の開口寸法とほぼ同じ開口寸法
をもち、長さ寸法が15mmのダミー部材53をガイド
ブッシュ11の開口端面に配置して、前述の硬質カーボ
ン膜の形成条件で被膜形成を行った。
When a hard carbon film was formed using an apparatus as shown in FIG.
A region having a width of 1 mm to 2 mm and different film quality and adhesion was formed at a depth of about 7 mm from the opening end face of No. 1. Therefore, a dummy member 53 having an opening size substantially equal to the opening size of the guide bush 11 and having a length of 15 mm was disposed on the opening end face of the guide bush 11, and a film was formed under the above-described conditions for forming the hard carbon film. .

【0151】この結果、膜質や密着性が異なる領域はダ
ミー部材53に形成され、ガイドブッシュ11の内面に
は膜質や密着性が異なる領域はまったく形成されなかっ
た。
As a result, regions having different film quality and adhesion were formed on the dummy member 53, and no region having different film quality and adhesion was formed on the inner surface of the guide bush 11 at all.

【0152】〔硬質カーボン膜の形成方法の第3例:図
7および図3〕つぎに以上の説明と異なる実施形態にお
けるガイドブッシュの中間層上面への硬質カーボン膜の
形成方法を、図7を用いて説明する。図7は本発明の実
施形態における硬質カーボン膜の形成方法を示す断面図
である。以下、図7と図3とを交互に用いてガイドブッ
シュへの硬質カーボン膜の形成方法を説明する。
[Third Example of Method of Forming Hard Carbon Film: FIGS. 7 and 3] Next, a method of forming a hard carbon film on the upper surface of the intermediate layer of the guide bush in an embodiment different from the above description will be described with reference to FIG. It will be described using FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a method for forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method of forming a hard carbon film on a guide bush will be described with reference to FIGS. 7 and 3 alternately.

【0153】図7に示すように、ガス導入口63と排気
口65とを有する真空槽61内に、硬質カーボン膜を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このときガイド
ブッシュ11の開口端面にはダミー部材53を配置す
る。このダミー部材53は円柱状の形状を有し、その中
心にガイドブッシュ11の内周面11bの開口寸法とほ
ぼおなじ内径寸法の開口を設ける。このダミー部材53
の外径寸法は、ガイドブッシュ11の端面部の大きさと
同じ大きさとする。
As shown in FIG. 7, a guide bush 11 for forming a hard carbon film is arranged in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. At this time, a dummy member 53 is arranged on the open end face of the guide bush 11. The dummy member 53 has a columnar shape, and has an opening having an inner diameter substantially the same as the opening of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 at the center thereof. This dummy member 53
Has the same size as the end face of the guide bush 11.

【0154】そして排気口65から真空槽61内を、真
空度が3×10-5torr以下になるように、図示しな
い排気手段によって真空排気する。その後、ガス導入口
63から炭素を含むガスとしてメタンガス(CH4 )を
真空槽61内に導入し、真空度を0.1torrになる
ように調整する。
Then, the inside of the vacuum chamber 61 is evacuated from the exhaust port 65 by exhaust means (not shown) so that the degree of vacuum is 3 × 10 −5 torr or less. Thereafter, methane gas (CH4) as a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber 61 from the gas inlet 63 to adjust the degree of vacuum to 0.1 torr.

【0155】そしてこのガイドブッシュ11には、直流
電源73からマイナス600Vの直流電圧を印加する。
さらにガイドブッシュ11の開口内面でしかも開口中央
部には、接地電位に接続する補助電極71を挿入するよ
うに配置している。このため補助電極71の周囲領域の
ガイドブッシュ11の開口内面にプラズマを発生させ
て、硬質カーボン膜15を形成している。このとき硬質
カーボン膜15の膜厚としては、1μmから5μmで形
成する。
Then, a DC voltage of −600 V is applied to the guide bush 11 from the DC power supply 73.
Further, an auxiliary electrode 71 connected to the ground potential is arranged to be inserted in the inner surface of the opening of the guide bush 11 and at the center of the opening. For this reason, plasma is generated on the inner surface of the opening of the guide bush 11 in the peripheral region of the auxiliary electrode 71 to form the hard carbon film 15. At this time, the hard carbon film 15 is formed to have a thickness of 1 μm to 5 μm.

【0156】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method. In the film formation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0157】本発明の硬質カーボン膜の形成方法におい
ては、ガイドブッシュ11の開口内面に補助電極71を
配置している。このため、異常放電であるホロー放電は
発生せず、ガイドブッシュ11の開口内面にも密着性よ
く、均一な硬質カーボン膜を形成することができる。
In the method for forming a hard carbon film according to the present invention, the auxiliary electrode 71 is disposed on the inner surface of the opening of the guide bush 11. Therefore, a hollow discharge, which is an abnormal discharge, does not occur, and a uniform hard carbon film can be formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 with good adhesion.

【0158】このように本発明の実施形態の硬質カーボ
ン膜の形成方法においては、ガイドブッシュ11の開口
内面に補助電極71を設けているのでガイドブッシュ1
1の長手方向の開口内面で、電位特性が均一になる。こ
の結果、ガイドブッシュ11の開口内面に形成する硬質
カーボン膜の膜厚分布の発生がなく、開口端面と開口奥
側とで均一な膜厚を形成することができる。
As described above, in the method for forming a hard carbon film according to the embodiment of the present invention, since the auxiliary electrode 71 is provided on the inner surface of the opening of the guide bush 11,
The potential characteristics become uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction. As a result, there is no occurrence of a film thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush 11, and a uniform film thickness can be formed between the opening end surface and the back side of the opening.

【0159】この補助電極71は、ガイドブッシュ11
の開口大きさより小さければよく、好ましくは4mm程
度の隙間、すなわちプラズマ形成領域を設けるようにす
る。そしてこの補助電極71は、ステンレスのような金
属材料で形成すればよい。さらにこの補助電極71の断
面形状は円形とする。そしてガイドブッシュ11に補助
電極71を挿入したとき、ダミー部材53の開口端面と
揃えるような長さとするか、あるいはダミー部材53端
面から補助電極71を突出するような長さとするか、あ
るいはダミー部材53端面より突出せず端面から1mm
〜2mm奥側になるような長さとなるように構成する。
The auxiliary electrode 71 is connected to the guide bush 11
It is sufficient that the gap is smaller than the opening size, and a gap of about 4 mm, that is, a plasma forming region is provided. The auxiliary electrode 71 may be made of a metal material such as stainless steel. Further, the sectional shape of the auxiliary electrode 71 is circular. When the auxiliary electrode 71 is inserted into the guide bush 11, the length is set so as to be aligned with the opening end face of the dummy member 53, or the length is set so that the auxiliary electrode 71 protrudes from the end face of the dummy member 53. 1mm from end face without protruding from end face
It is configured to have a length such that it is 22 mm deeper.

【0160】さらに前述のようにガイドブッシュ11の
開口端面にはダミー部材53を配置している。そしてこ
のダミー部材53の中心部の開口大きさと、ガイドブッ
シュ11の開口大きさとはほぼ同じ大きさとする。
Further, as described above, the dummy member 53 is disposed on the open end surface of the guide bush 11. The opening size of the central portion of the dummy member 53 and the opening size of the guide bush 11 are substantially the same.

【0161】このダミー部材53は以下に記載する役割
を果たす。すなわち図7に示す硬質カーボン膜の形成方
法においては、ガイドブッシュ11の内面とガイドブッ
シュ11の外周部とにプラズマが発生する。
The dummy member 53 plays a role described below. That is, in the method of forming the hard carbon film shown in FIG. 7, plasma is generated on the inner surface of the guide bush 11 and the outer peripheral portion of the guide bush 11.

【0162】そしてガイドブッシュ11の端面は電荷が
集中しやすく、ガイドブッシュ11の内面に比らべてガ
イドブッシュ11の端面領域は電荷が高い状態、いわゆ
るエッジ効果が発生する。ここでガイドブッシュ11端
面近傍のプラズマ強度は他の領域より大きく、しかも不
安定でもある。さらにガイドブッシュ11の端部領域
は、ガイドブッシュ11内面のプラズマとガイドブッシ
ュ11外周部のプラズマとの双方のプラズマの影響を受
けることになる。
The end face of the guide bush 11 tends to concentrate charges, and the end face area of the guide bush 11 has a higher charge than the inner surface of the guide bush 11, that is, a so-called edge effect occurs. Here, the plasma intensity in the vicinity of the end face of the guide bush 11 is higher than in other regions, and is also unstable. Further, the end region of the guide bush 11 is affected by both the plasma on the inner surface of the guide bush 11 and the plasma on the outer peripheral portion of the guide bush 11.

【0163】そしてこのような状態で硬質カーボン膜を
形成すると、ガイドブッシュ11の開口端面から数mm
奥側の領域と他の領域とでは、硬質カーボン膜の密着性
が若干劣り、さらに膜質も若干異なる。
When the hard carbon film is formed in such a state, a few mm from the open end face of the guide bush 11
The adhesiveness of the hard carbon film is slightly inferior between the deep region and the other region, and the film quality is slightly different.

【0164】そこでガイドブッシュ11の開口端面にダ
ミー部材53を配置して硬質カーボン膜を形成すれば、
この膜質や密着性が異なる領域はガイドブッシュ11内
面に形成されず、ダミー部材53の開口内面に形成され
ることになる。
Accordingly, if a hard carbon film is formed by disposing the dummy member 53 on the open end surface of the guide bush 11,
The region having the different film quality and adhesion is not formed on the inner surface of the guide bush 11, but is formed on the inner surface of the opening of the dummy member 53.

【0165】図7に示すような装置を用いて硬質カーボ
ン膜を形成したときは、実験によればガイドブッシュ1
1の開口端面から7mm程度奥側に、幅寸法が1mmか
ら2mmの膜質や密着性が異なる領域が形成された。
When a hard carbon film was formed using an apparatus as shown in FIG.
A region having a width of 1 mm to 2 mm and different film quality and adhesion was formed at a depth of about 7 mm from the opening end face of No. 1.

【0166】そこでガイドブッシュ11の開口寸法とほ
ぼ同じ開口寸法をもち、長さ寸法が15mmのダミー部
材53をガイドブッシュ11の開口端面に配置して、前
述の硬質カーボン膜の形成条件で被膜形成を行った。こ
の結果、膜質や密着性が異なる領域はダミー部材53に
形成され、ガイドブッシュ11の内面には膜質や密着性
が異なる領域はまったく形成されなかった。
Therefore, a dummy member 53 having an opening dimension substantially equal to the opening dimension of the guide bush 11 and a length dimension of 15 mm is arranged on the opening end face of the guide bush 11, and a film is formed under the conditions for forming the hard carbon film described above. Was done. As a result, regions having different film qualities and adhesion were formed on the dummy member 53, and no regions having different film qualities and adhesion were formed on the inner surface of the guide bush 11 at all.

【0167】〔硬質カーボン膜の形成方法の第4例:図
10および図3〕つぎに以上の説明と異なる実施形態に
おける硬質カーボン膜の形成方法を説明する。図10は
本発明の実施形態における硬質カーボン膜の形成方法を
示す断面図である。以下、図10とガイドブッシュを示
す図3とを用いてガイドブッシュへの硬質カーボン膜の
形成方法を説明する。
[Fourth Example of Method of Forming Hard Carbon Film: FIGS. 10 and 3] Next, a method of forming a hard carbon film in an embodiment different from the above description will be described. FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a method for forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method of forming a hard carbon film on a guide bush will be described with reference to FIG. 10 and FIG. 3 showing the guide bush.

【0168】図10に示すように、ガス導入口63と排
気口65を有する真空槽61内に、硬質カーボン膜を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このときガイド
ブッシュ11の開口端面の外周テーパ面11a側にはダ
ミー部材53を配置する。このダミー部材53は円柱形
状を有し、その中心にはガイドブッシュ11の内周面1
1bの開口寸法とほぼ同じ内径の開口を設ける。さらに
このダミー部材53の外形寸法は、ガイドブッシュ11
の端面の大きさと同じ寸法とする。
As shown in FIG. 10, a guide bush 11 for forming a hard carbon film is disposed in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. At this time, a dummy member 53 is arranged on the outer peripheral tapered surface 11a side of the opening end surface of the guide bush 11. The dummy member 53 has a cylindrical shape, and the center thereof has an inner peripheral surface 1 of the guide bush 11.
An opening having an inside diameter substantially equal to the opening size of 1b is provided. Further, the outer dimensions of the dummy member 53 are
The size is the same as the size of the end face.

【0169】そしてこのガイドブッシュ11の開口内面
には、補助電極電源83からの直流正電位に接続する補
助電極71を挿入するように設ける。このとき、補助電
極71がガイドブッシュ11の開口中央部になるように
配置する。
An auxiliary electrode 71 connected to the DC positive potential from the auxiliary electrode power supply 83 is provided on the inner surface of the opening of the guide bush 11. At this time, the auxiliary electrode 71 is arranged so as to be at the center of the opening of the guide bush 11.

【0170】そして真空槽61内部を真空度が3×10
-5torr以下になるように排気口65から、図示しな
い排気手段によって真空排気する。その後、ガス導入口
63から炭素を含むガスとしてベンゼンを真空槽61内
に導入して、真空槽61内の圧力を5×10-3torr
になるように制御する。
Then, the inside of the vacuum chamber 61 is set to a degree of vacuum of 3 × 10
Vacuum is exhausted from the exhaust port 65 to a pressure of -5 torr or less by an exhaust means (not shown). Thereafter, benzene is introduced into the vacuum chamber 61 as a gas containing carbon from the gas inlet 63, and the pressure in the vacuum chamber 61 is increased to 5 × 10 −3 torr.
Control so that

【0171】そしてガイドブッシュ11には直流電源7
3から直流電圧を印加し、さらにアノード79にはアノ
ード電源75から直流電圧を印加し、フィラメント81
にはフィラメント電源77から交流電圧を印加する。さ
らに補助電極71には補助電極電源83から直流の正電
圧を印加する。
The guide bush 11 has a DC power source 7
3, a DC voltage is applied to the anode 79 from the anode power supply 75, and a filament 81 is applied to the anode 79.
, An AC voltage is applied from a filament power supply 77. Further, a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71 from the auxiliary electrode power supply 83.

【0172】このとき、補助電極71には補助電極電源
83から直流のプラス20Vを印加する。さらに直流電
源73からガイドブッシュ11に印加する直流電圧はマ
イナス3kVを印加し、さらにアノード電源75からア
ノード79に印加する直流電圧はプラス10Vを印加す
る。さらにまたフィラメント電源77からフィラメント
81に印加する電圧は30Aの電流が流れるように10
Vの交流電圧を印加する。
At this time, DC +20 V is applied to the auxiliary electrode 71 from the auxiliary electrode power supply 83. Further, a DC voltage applied from the DC power supply 73 to the guide bush 11 is −3 kV, and a DC voltage applied from the anode power supply 75 to the anode 79 is +10 V. Further, the voltage applied from the filament power supply 77 to the filament 81 is adjusted so that a current of 30 A flows.
V AC voltage is applied.

【0173】真空槽61内のガイドブッシュ11の開口
内面に配置する補助電極71の周囲領域にプラズマを発
生させて、ガイドブッシュ11の内周面11bに硬質カ
ーボン膜15を形成している。ガイドブッシュ11の内
周面11bに形成する硬質カーボン膜15は、膜厚1μ
mから5μmで被膜形成する。
The hard carbon film 15 is formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 by generating plasma in the peripheral region of the auxiliary electrode 71 disposed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 in the vacuum chamber 61. The hard carbon film 15 formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 has a thickness of 1 μm.
A film is formed from m to 5 μm.

【0174】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, and in the film formation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0175】このときの補助電極電源83を用いて補助
電極71に印加する直流正電圧と、ガイドブッシュ開口
内面に形成する硬質カーボン膜厚との関係を、図13の
グラフに示す。図13のグラフでは、補助電極71に印
加する直流の正電圧をゼロVから30Vまで変化させ、
さらにガイドブッシュ11の開口内面と補助電極71と
の間の隙間寸法が3mmと5mmのときの硬質カーボン
膜の膜厚を示す。なお、曲線88がガイドブッシュ11
の開口内面と補助電極71との間の隙間が3mmのとき
の特性を示し、曲線91がガイドブッシュ11の開口内
面と補助電極71との間の隙間が5mmのときの特性を
示す。
FIG. 13 is a graph showing the relationship between the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 using the auxiliary electrode power supply 83 and the thickness of the hard carbon film formed on the inner surface of the guide bush opening. In the graph of FIG. 13, the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 is changed from zero V to 30 V,
Further, the thickness of the hard carbon film when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm and 5 mm is shown. Note that the curve 88 is the guide bush 11
The curve 91 shows the characteristics when the gap between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, and the curve 91 shows the characteristics when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 5 mm.

【0176】図13の曲線88、91に示すように、補
助電極電源83から補助電極71に印加する直流正電圧
を増加させると、硬質カーボン膜の膜形成速度は向上す
る。さらにまたガイドブッシュ11の開口内面と補助電
極71との間の隙間寸法が大きいほど、硬質カーボン膜
の膜形成速度は向上している。
As shown by curves 88 and 91 in FIG. 13, when the DC positive voltage applied from the auxiliary electrode power supply 83 to the auxiliary electrode 71 is increased, the film forming speed of the hard carbon film is improved. Furthermore, the larger the gap size between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71, the higher the film forming speed of the hard carbon film.

【0177】そして曲線88、すなわちガイドブッシュ
11の開口内面と補助電極71との間の隙間寸法が3m
mのときは、補助電極71に印加する電位がゼロVの接
地電圧では、ガイドブッシュ23開口内面にプラズマが
発生せず、硬質カーボン膜は形成できない。
A curve 88, that is, the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 m.
In the case of m, with a ground voltage of zero V applied to the auxiliary electrode 71, no plasma is generated on the inner surface of the opening of the guide bush 23, and a hard carbon film cannot be formed.

【0178】しかしガイドブッシュ11の開口内面と補
助電極71との間の隙間が3mmのときでも、補助電極
71に印加する補助電極電源83からの直流正電圧を高
くしていくと、補助電極71周囲の開口内面にプラズマ
が発生し、硬質カーボン膜を形成することができる。
However, even when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, if the DC positive voltage from the auxiliary electrode power supply 83 applied to the auxiliary electrode 71 is increased, the auxiliary electrode 71 Plasma is generated on the inner surface of the surrounding opening, and a hard carbon film can be formed.

【0179】この図10に示す硬質カーボン膜の被膜形
成方法では、ガイドブッシュ11の開口内面に挿入する
ように配置し、しかも直流の正電圧を印加する補助電極
71によって、ガイドブッシュ11の外周部だけでな
く、ガイドブッシュ11開口内面にもプラズマを形成す
ることができる。このガイドブッシュ11の開口内面に
挿入するように配置し、直流正電圧に接続する補助電極
71により、その開口内面においては同電位どうしが対
向することがなくなる。したがって異常放電であるホロ
ー放電の発生はなく、硬質カーボン膜の密着性が向上す
る。
In the method of forming a hard carbon film shown in FIG. 10, the outer peripheral portion of the guide bush 11 is arranged so as to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11 and is further provided with an auxiliary electrode 71 for applying a DC positive voltage. In addition, plasma can be formed also on the inner surface of the guide bush 11 opening. The auxiliary electrode 71 which is arranged to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11 and is connected to the DC positive voltage prevents the same potential from being opposed to the inner surface of the opening. Therefore, there is no occurrence of hollow discharge, which is abnormal discharge, and the adhesion of the hard carbon film is improved.

【0180】さらに開口内に配置する補助電極71によ
ってガイドブッシュ11の長手方向の開口内面で、その
電位特性が均一になり、開口内面に形成する硬質カーボ
ン膜の膜厚分布の発生がなく、開口端面と開口奥側とで
均一な膜厚を形成することができる。
Further, the potential characteristics of the inner surface of the guide bush 11 in the longitudinal direction of the opening are made uniform by the auxiliary electrode 71 disposed in the opening, and there is no thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening. A uniform film thickness can be formed between the end face and the back side of the opening.

【0181】さらにまた本発明の硬質カーボン膜の形成
方法の実施形態においては、ガイドブッシュ11の開口
内面の中央部に設ける補助電極71に、補助電極電源8
3からの直流の正電圧を印加して硬質カーボン膜を形成
している。このため直流正電圧を印加する補助電極71
の周囲領域に電子を集める効果が生じ、この補助電極7
1の周囲領域は電子密度が高くなる。
Further, in the embodiment of the method for forming a hard carbon film of the present invention, the auxiliary electrode 71 provided at the center of the inner surface of the opening of the guide bush 11 is connected to the auxiliary electrode power supply 8.
The hard carbon film is formed by applying a DC positive voltage from Step 3. Therefore, the auxiliary electrode 71 for applying a DC positive voltage
The effect of collecting electrons in the surrounding area of the auxiliary electrode 7 is generated.
The surrounding area of 1 has a higher electron density.

【0182】このように電子密度が高くなると、必然的
に炭素を含むガス分子と電子との衝突確率が増え、ガス
分子のイオン化が促進されて、ガイドブッシュ11の開
口内面領域のプラズマ強度が高くなる。このため補助電
極71に直流の正電圧を印加する本発明の硬質カーボン
膜の形成方法においては、硬質カーボン膜の膜形成速度
は、補助電極71に直流の正電圧を印加しないときと比
らべて高くなる。
When the electron density is increased as described above, the probability of collision between electrons and gas molecules containing carbon is inevitably increased, ionization of gas molecules is promoted, and the plasma intensity in the inner surface area of the opening of the guide bush 11 is increased. Become. Therefore, in the method for forming a hard carbon film of the present invention in which a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71, the film formation speed of the hard carbon film is compared with the case where no DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71. Get higher.

【0183】さらにガイドブッシュ11の開口寸法が小
さくなり、開口内面と補助電極71との隙間寸法が小さ
くなると、補助電極71に直流の正電圧を印加しないで
硬質カーボン膜を形成すると、開口内面にはプラズマが
発生せず、被膜形成ができない。
Further, when the opening size of the guide bush 11 becomes smaller and the gap size between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode 71 becomes smaller, if a hard carbon film is formed without applying a DC positive voltage to the auxiliary electrode 71, Does not generate plasma and cannot form a film.

【0184】これにたいして本発明の硬質カーボン膜の
被膜形成方法においては、ガイドブッシュ11開口内面
に配置する補助電極71に補助電極電源83からの直流
正電圧を印加しているので、電子を強制的に補助電極7
1の周囲領域の開口内面に集めて、補助電極71周囲に
プラズマを発生させることができる。したがって、直流
の正電圧を印加しない補助電極を用いた硬質カーボン膜
の形成では被膜形成ができない開口大きさが小さいガイ
ドブッシュ11にも、補助電極電源83からの直流正電
圧を印加した補助電極71を用いる本発明の硬質カーボ
ン膜の形成方法を適用すれば被膜形成が可能となる。
On the other hand, in the method for forming a hard carbon film according to the present invention, since a DC positive voltage from the auxiliary electrode power supply 83 is applied to the auxiliary electrode 71 disposed on the inner surface of the opening of the guide bush 11, electrons are forcibly applied. Auxiliary electrode 7
Plasma can be generated around the auxiliary electrode 71 by being collected on the inner surface of the opening in the surrounding area of the first electrode. Therefore, even if the guide bush 11 having a small opening size cannot be formed by the formation of the hard carbon film using the auxiliary electrode to which no DC positive voltage is applied, the auxiliary electrode 71 to which the DC positive voltage is applied from the auxiliary electrode power supply 83 is also provided. By applying the method for forming a hard carbon film of the present invention using the method, a film can be formed.

【0185】さらにこのガイドブッシュ11開口内に補
助電極71を挿入したとき、補助電極71の先端部がダ
ミー部材53の開口端面より内側になるように配置し
て、補助電極71の先端部が開口端面から露出しないよ
うに構成する。本発明の実施形態では、補助電極71先
端部はダミー部材53の開口端面より1mm内側になる
ように、補助電極71先端部の長さを設定している。
Further, when the auxiliary electrode 71 is inserted into the opening of the guide bush 11, the auxiliary electrode 71 is disposed so that the front end of the auxiliary electrode 71 is located inside the opening end surface of the dummy member 53. It is configured not to be exposed from the end face. In the embodiment of the present invention, the length of the tip of the auxiliary electrode 71 is set so that the tip of the auxiliary electrode 71 is located 1 mm inside the opening end face of the dummy member 53.

【0186】このように本発明の硬質カーボン膜の形成
方法においては、補助電極71の先端部をダミー部材5
3の開口端面より内側になるように配置している。この
ため補助電極71の先端部がダミー部材53の開口端面
から露出している場合に発生する補助電極71先端部の
異常放電を抑制することができ、膜質が良好な硬質カー
ボン膜15をガイドブッシュ11に形成することができ
る。
As described above, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, the tip of the auxiliary electrode 71 is connected to the dummy member 5.
3 are arranged inside the opening end face. For this reason, abnormal discharge of the tip of the auxiliary electrode 71, which occurs when the tip of the auxiliary electrode 71 is exposed from the opening end face of the dummy member 53, can be suppressed. 11 can be formed.

【0187】〔硬質カーボン膜の形成方法の第5例:図
11および図3〕つぎに以上の説明と異なる実施形態に
おける硬質カーボン膜を中間層上面に形成方法を説明す
る。図11は本発明の実施形態における硬質カーボン膜
の形成方法を示す断面図である。以下、この図11とガ
イドブッシュを示す図3とを用いて本発明の実施形態に
おける硬質カーボン膜の形成方法を説明する。
[Fifth Example of Method of Forming Hard Carbon Film: FIGS. 11 and 3] Next, a method of forming a hard carbon film on the upper surface of the intermediate layer in an embodiment different from the above description will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a method for forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method of forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11 and FIG. 3 showing a guide bush.

【0188】図11に示すように、ガス導入口63と排
気口65を有する真空槽61内に、硬質カーボン膜を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このときガイド
ブッシュ11の開口端面の外周テーパ面11a側には、
ダミー部材53を配置する。このダミー部材53は円柱
状の形状を有し、その中心にはガイドブッシュ11の内
周面11bの開口寸法とほぼ同じ内径の開口を設ける。
さらにこのダミー部材53の外形寸法は、ガイドブッシ
ュ11の端面の大きさと同じ寸法とする。
As shown in FIG. 11, a guide bush 11 for forming a hard carbon film is disposed in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. At this time, on the outer peripheral tapered surface 11a side of the open end surface of the guide bush 11,
The dummy member 53 is arranged. The dummy member 53 has a columnar shape, and an opening having an inner diameter substantially equal to the opening size of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 is provided at the center thereof.
Further, the outer dimension of the dummy member 53 is the same as the size of the end face of the guide bush 11.

【0189】そして排気口65から真空槽61内を図示
しない排気手段によって、真空度が3×10-5torr
以下になるように真空排気後、ガス導入口63から炭素
を含むガスとしてメタンガスを真空槽61内に導入し、
真空度を0.1torrになるように調整する。そして
ガイドブッシュ11に、マッチング回路67を介して1
3.56MHzの発振周波数を有する高周波電源69か
ら400Wの高周波電圧を印加する。
Then, the inside of the vacuum chamber 61 is evacuated from the exhaust port 65 to a degree of vacuum of 3 × 10 −5 torr by an exhaust means not shown.
After evacuation as described below, methane gas was introduced into the vacuum chamber 61 as a gas containing carbon from the gas inlet 63,
Adjust the degree of vacuum to 0.1 torr. The guide bush 11 is connected to the guide bush 11 via the matching circuit 67.
A high-frequency voltage of 400 W is applied from a high-frequency power supply 69 having an oscillation frequency of 3.56 MHz.

【0190】さらにガイドブッシュ11の開口内面で、
しかも開口中央部には、補助電極電源83から印加する
直流正電圧を接続する補助電極71を挿入するように配
置して、プラズマをガイドブッシュ11の開口内面に配
置した補助電極71の周囲領域に発生させて、ガイドブ
ッシュ11の内周面11bに硬質カーボン膜15を形成
している。ガイドブッシュ11の内周面11bに形成す
る硬質カーボン膜15は、膜厚1μmから5μmで被膜
形成する。
Further, on the inner surface of the opening of the guide bush 11,
In addition, an auxiliary electrode 71 for connecting a DC positive voltage applied from an auxiliary electrode power supply 83 is inserted in the center of the opening, and plasma is applied to a region around the auxiliary electrode 71 arranged on the inner surface of the opening of the guide bush 11. The hard carbon film 15 is formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 by the generation. The hard carbon film 15 formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 is formed with a film thickness of 1 μm to 5 μm.

【0191】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, and in the film formation by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0192】このときの補助電極電源83を用いて補助
電極71に印加する直流正電圧と、ガイドブッシュ11
開口内面に形成する硬質カーボン膜15の膜厚との関係
を、図13のグラフに示す。
At this time, the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 using the auxiliary electrode power supply 83 and the guide bush 11
The relationship with the thickness of the hard carbon film 15 formed on the inner surface of the opening is shown in the graph of FIG.

【0193】図13のグラフでは、補助電極電源83を
用いて補助電極71に印加する直流の正電圧をゼロVか
ら30Vまで変化させ、さらにガイドブッシュ11の開
口内面と補助電極71との間の隙間寸法が3mmと5m
mのときの硬質カーボン膜の膜厚を示す。なお曲線88
がガイドブッシュ11の開口内面と補助電極71との間
の隙間が3mmのときの特性を示し、曲線91がガイド
ブッシュ11の開口内面と補助電極71との間の隙間が
5mmのときの特性を示す。
In the graph of FIG. 13, the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 is changed from zero volts to 30 volts by using the auxiliary electrode power supply 83, and furthermore, the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is changed. The gap size is 3mm and 5m
The thickness of the hard carbon film when m is shown. Note that the curve 88
Shows the characteristic when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, and the curve 91 shows the characteristic when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 5 mm. Show.

【0194】図13の曲線88、91に示すように、補
助電極71に補助電極電源83から印加する直流正電圧
を増加させると、硬質カーボン膜の膜形成速度は向上す
る。さらにまたガイドブッシュ11の開口内面と補助電
極71との間の隙間寸法が大きいほど、硬質カーボン膜
の膜形成速度は向上している。
As shown by the curves 88 and 91 in FIG. 13, when the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 from the auxiliary electrode power supply 83 is increased, the film formation speed of the hard carbon film is improved. Furthermore, the larger the gap size between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71, the higher the film forming speed of the hard carbon film.

【0195】そして曲線88、すなわちガイドブッシュ
11の開口内面と補助電極71との間の隙間寸法が3m
mのときは、補助電極71に印加する電圧がゼロVの接
地電位では、ガイドブッシュ23の開口内面にプラズマ
が発生せず、硬質カーボン膜は形成できない。しかしな
がらガイドブッシュ11の開口内面と補助電極71との
間の隙間寸法が3mmのときでも、補助電極電源83を
用いて補助電極71に印加する直流正電圧を高くしてい
くと、補助電極71周囲の開口内面にプラズマが発生
し、硬質カーボン膜を形成することができる。
A curve 88, that is, the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 m.
In the case of m, when the voltage applied to the auxiliary electrode 71 is the ground potential of zero V, no plasma is generated on the inner surface of the opening of the guide bush 23, and a hard carbon film cannot be formed. However, even when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, if the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 using the auxiliary electrode power supply 83 is increased, the area around the auxiliary electrode 71 is increased. Plasma is generated on the inner surface of the opening, and a hard carbon film can be formed.

【0196】この図11に示す硬質カーボン膜の被膜形
成方法においては、ガイドブッシュ11の開口内面に挿
入するように配置し、補助電極電源83から直流正電圧
を印加する補助電極71によって、ガイドブッシュ11
の外周部だけでなく、ガイドブッシュ11開口内面にも
プラズマを形成することができる。
In the method for forming a hard carbon film shown in FIG. 11, the guide bush 11 is arranged so as to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11, and the auxiliary electrode 71 to which a DC positive voltage is applied from the auxiliary electrode power supply 83 is used. 11
The plasma can be formed not only on the outer peripheral portion but also on the inner surface of the opening of the guide bush 11.

【0197】このガイドブッシュ11の開口内面に挿入
するように配置し、直流正電圧に接続する補助電極71
により、開口内面においては同電位どうしが対向するこ
とがなくなる。このため異常放電であるホロー放電の発
生はなく、硬質カーボン膜の密着性が向上する。
Auxiliary electrode 71 arranged to be inserted into the inner surface of the opening of guide bush 11 and connected to a DC positive voltage
Thereby, the same potential does not face each other on the inner surface of the opening. Therefore, there is no occurrence of hollow discharge, which is abnormal discharge, and the adhesion of the hard carbon film is improved.

【0198】さらに開口内に配置する補助電極71によ
ってガイドブッシュ11の長手方向の開口内面で、電位
特性が均一になり、開口内面に形成する硬質カーボン膜
の膜厚分布の発生がなく、開口端面と開口奥側とで均一
な膜厚を形成することができる。
Further, the auxiliary electrode 71 arranged in the opening makes the potential characteristics uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction of the guide bush 11, and there is no thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening. A uniform film thickness can be formed between the opening and the back side of the opening.

【0199】さらにまた本発明の硬質カーボン膜の形成
方法の実施形態においては、ガイドブッシュ11の開口
内面の中央部に設ける補助電極71に、補助電極電源8
3からの直流の正電圧を印加して硬質カーボン膜を形成
している。このため直流正電圧を印加する補助電極71
の周囲領域に電子を集める効果が生じ、この補助電極7
1の周囲領域は電子密度が高くなる。
Further, in the embodiment of the method for forming a hard carbon film of the present invention, the auxiliary electrode 71 provided at the center of the inner surface of the opening of the guide bush 11 is connected to the auxiliary electrode power supply 8.
The hard carbon film is formed by applying a DC positive voltage from Step 3. Therefore, the auxiliary electrode 71 for applying a DC positive voltage
The effect of collecting electrons in the surrounding area of the auxiliary electrode 7 is generated.
The surrounding area of 1 has a higher electron density.

【0200】このように電子密度が高くなると、必然的
に炭素を含むガス分子と電子との衝突確率が増え、ガス
分子のイオン化が促進されて、ガイドブッシュ11の開
口内面領域のプラズマ強度が高くなる。このため補助電
極71に直流の正電圧を印加する本発明の硬質カーボン
膜の形成方法においては、硬質カーボン膜の膜形成速度
は、補助電極71に直流の正電圧を印加しないときと比
らべて高くなる。
When the electron density is increased as described above, the probability of collision between the gas molecules containing carbon and the electrons is inevitably increased, ionization of the gas molecules is promoted, and the plasma intensity in the inner surface area of the opening of the guide bush 11 is increased. Become. Therefore, in the method for forming a hard carbon film of the present invention in which a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71, the film formation speed of the hard carbon film is compared with the case where no DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71. Get higher.

【0201】さらにガイドブッシュ11の開口寸法が小
さくなり、開口内面と補助電極71との隙間が小さくな
ると、補助電極71に直流の正電圧を印加しないで硬質
カーボン膜を形成すると、開口内面にはプラズマが発生
せず、被膜形成ができない。これにたいして図11に示
す本発明の硬質カーボン膜の形成方法においては、ガイ
ドブッシュ11開口内面に配置する補助電極71に直流
正電圧を印加し、電子を強制的に補助電極71の周囲領
域の開口内面に集めていることから、補助電極71周囲
にプラズマを発生させることができる。
Further, when the opening size of the guide bush 11 becomes smaller and the gap between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode 71 becomes smaller, if a hard carbon film is formed without applying a DC positive voltage to the auxiliary electrode 71, the inner surface of the opening becomes No plasma is generated and a film cannot be formed. On the other hand, in the method for forming a hard carbon film of the present invention shown in FIG. 11, a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71 disposed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 to force electrons to form an opening in the peripheral region of the auxiliary electrode 71. Since it is collected on the inner surface, plasma can be generated around the auxiliary electrode 71.

【0202】したがって直流の正電圧を印加しない補助
電極を用いた硬質カーボン膜の形成では被膜形成ができ
ない開口大きさが小さいガイドブッシュ11にも、補助
電極電源83からの直流正電圧を印加した補助電極71
を用いる本発明の硬質カーボン膜の形成方法を適用すれ
ば被膜形成が可能となる。
Therefore, the guide bush 11 having a small opening cannot be formed by forming a hard carbon film using an auxiliary electrode to which no DC positive voltage is applied. Electrode 71
By applying the method for forming a hard carbon film of the present invention using the method, a film can be formed.

【0203】さらにこのガイドブッシュ11開口内に補
助電極71を挿入したとき、補助電極71の先端部がダ
ミー部材53の開口端面より内側になるように配置し
て、補助電極71の先端部が開口端面から露出しないよ
うに構成する。本発明の実施形態では、補助電極71先
端部はダミー部材53の開口端面より1mm内側になる
ように、補助電極71先端部の長さを設定している。
Further, when the auxiliary electrode 71 is inserted into the opening of the guide bush 11, the auxiliary electrode 71 is disposed so that the front end of the auxiliary electrode 71 is located inside the opening end surface of the dummy member 53. It is configured not to be exposed from the end face. In the embodiment of the present invention, the length of the tip of the auxiliary electrode 71 is set so that the tip of the auxiliary electrode 71 is located 1 mm inside the opening end face of the dummy member 53.

【0204】このように本発明の硬質カーボン膜の形成
方法においては、補助電極71の先端部をダミー部材5
3の開口端面より内側になるように配置している。この
ため補助電極71の先端部がダミー部材53の開口端面
から露出している場合に発生する補助電極71先端部の
異常放電を抑制することができ、膜質が良好な硬質カー
ボン膜15をガイドブッシュ11に形成することができ
る。
As described above, in the method of forming a hard carbon film according to the present invention, the tip of the auxiliary electrode 71 is
3 are arranged inside the opening end face. For this reason, abnormal discharge of the tip of the auxiliary electrode 71, which occurs when the tip of the auxiliary electrode 71 is exposed from the opening end face of the dummy member 53, can be suppressed. 11 can be formed.

【0205】〔硬質カーボン膜の形成方法の第6例:図
12および図3〕つぎに以上の説明と異なる実施形態に
おける硬質カーボン膜を中間層上面に形成する方法を説
明する。図12は本発明の実施形態における硬質カーボ
ン膜の形成方法を示す断面図である。以下、図12とガ
イドブッシュを示す図3とを交互に参照して硬質カーボ
ン膜の形成方法を説明する。
[Sixth Example of Method for Forming Hard Carbon Film: FIGS. 12 and 3] Next, a method of forming a hard carbon film on the upper surface of the intermediate layer in an embodiment different from the above description will be described. FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a method for forming a hard carbon film according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method of forming a hard carbon film will be described with reference to FIG. 12 and FIG. 3 showing a guide bush alternately.

【0206】図12に示すように、ガス導入口63と排
気口65を有する真空槽61内に、硬質カーボン膜を形
成するガイドブッシュ11を配置する。このときガイド
ブッシュ11の開口端面の外周テーパ面11a側には、
ダミー部材53を配置する。このダミー部材53は円柱
状の形状を有し、その中心にはガイドブッシュ11の内
周面11bの開口寸法とほぼ同じ内径の開口を設ける。
さらにこのダミー部材53の外形寸法は、ガイドブッシ
ュ11の端面の大きさと同じ寸法とする。
As shown in FIG. 12, a guide bush 11 for forming a hard carbon film is disposed in a vacuum chamber 61 having a gas inlet 63 and an exhaust port 65. At this time, on the outer peripheral tapered surface 11a side of the open end surface of the guide bush 11,
The dummy member 53 is arranged. The dummy member 53 has a columnar shape, and an opening having an inner diameter substantially equal to the opening size of the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 is provided at the center thereof.
Further, the outer dimension of the dummy member 53 is the same as the size of the end face of the guide bush 11.

【0207】そして排気口65から真空槽61内を図示
しない排気手段によって、真空度が3×10-5torr
以下になるように真空排気後、ガス導入口63から炭素
を含むガスとしてメタンガスを真空槽61内に導入し、
真空度を0.1torrになるように調整する。その
後、このガイドブッシュ11には、直流電源73からマ
イナス600Vの直流電圧を印加する。
The inside of the vacuum chamber 61 is evacuated from the exhaust port 65 to a degree of vacuum of 3 × 10 −5 torr by an exhaust means (not shown).
After evacuation as described below, methane gas was introduced into the vacuum chamber 61 as a gas containing carbon from the gas inlet 63,
Adjust the degree of vacuum to 0.1 torr. Thereafter, a DC voltage of −600 V is applied to the guide bush 11 from the DC power supply 73.

【0208】さらにガイドブッシュ11の開口内面で、
しかも開口中央部には補助電極電源83から印加する直
流正電圧に接続する補助電極71を挿入するように配置
し、プラズマをガイドブッシュ11の開口内面に配置し
た補助電極71の周囲領域に発生させて、ガイドブッシ
ュ11の内周面11bに硬質カーボン膜15を形成して
いる。ガイドブッシュ11の内周面11bに形成する硬
質カーボン膜15は、膜厚1μmから5μmで被膜形成
する。
Further, on the inner surface of the opening of the guide bush 11,
In addition, an auxiliary electrode 71 connected to the DC positive voltage applied from the auxiliary electrode power supply 83 is inserted in the center of the opening, and plasma is generated in a region around the auxiliary electrode 71 arranged on the inner surface of the opening of the guide bush 11. Thus, the hard carbon film 15 is formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11. The hard carbon film 15 formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 is formed with a film thickness of 1 μm to 5 μm.

【0209】このように、硬質カーボン膜15はプラズ
マ化学的気相成長法によって形成しており、このプラズ
マ化学的気相成長法における被膜形成においては、段差
被覆性よく被膜形成することができる。したがって、ガ
イドブッシュ11の内周面11bに、中間層14表面の
凹凸に倣うように硬質カーボン膜15を形成することが
でき、その表面15aに凹凸を形成できる。
As described above, the hard carbon film 15 is formed by the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, and in the film formation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the film can be formed with good step coverage. Therefore, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 so as to follow the unevenness of the surface of the intermediate layer 14, and the unevenness can be formed on the surface 15a.

【0210】このときの補助電極電源83を用いて補助
電極71に印加する直流正電圧と、ガイドブッシュ11
の開口内面に形成する硬質カーボン膜の膜厚との関係
を、図13のグラフに示す。
At this time, the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 using the auxiliary electrode power supply 83 and the guide bush 11
The relationship with the thickness of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening is shown in the graph of FIG.

【0211】図13のグラフでは、補助電極電源83を
用いて補助電極71に印加する直流の正電圧をゼロVか
ら30Vまで変化させ、さらにガイドブッシュ11の開
口内面と補助電極71との間の隙間寸法が3mmと5m
mのときの硬質カーボン膜の膜厚を示す。なお、曲線8
8がガイドブッシュ11の開口内面と補助電極71との
間の隙間が3mmのときの特性を示し、曲線91がガイ
ドブッシュ11の開口内面と補助電極71との間の隙間
が5mmのときの特性を示す。
In the graph of FIG. 13, the DC positive voltage applied to the auxiliary electrode 71 is changed from zero volts to 30 volts by using the auxiliary electrode power supply 83, and furthermore, the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is changed. The gap size is 3mm and 5m
The thickness of the hard carbon film when m is shown. Note that curve 8
8 shows the characteristics when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, and the curve 91 shows the characteristics when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 5 mm. Is shown.

【0212】図14の曲線88、91に示すように、補
助電極電源83から補助電極71に印加する直流正電圧
を増加させると、硬質カーボン膜の膜形成速度は向上す
る。さらにまたガイドブッシュ11の開口内面と補助電
極71との間の隙間寸法が大きいほど、硬質カーボン膜
の膜形成速度は向上している。
As shown by the curves 88 and 91 in FIG. 14, when the DC positive voltage applied from the auxiliary electrode power supply 83 to the auxiliary electrode 71 is increased, the film forming speed of the hard carbon film is improved. Furthermore, the larger the gap size between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71, the higher the film forming speed of the hard carbon film.

【0213】そして曲線88、すなわちガイドブッシュ
11の開口内面と補助電極71との間の隙間寸法が3m
mのときは、補助電極71に印加する電圧がゼロVの接
地電位では、ガイドブッシュ11開口内面にプラズマが
発生せず、硬質カーボン膜は形成できない。しかしガイ
ドブッシュ11の開口内面と補助電極71との間の隙間
が3mmのときでも、補助電極71に印加する補助電極
電源83からの直流正電圧を高くしていくと、補助電極
71周囲の開口内面にプラズマが発生し、硬質カーボン
膜を形成することができる。
The curve 88, that is, the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 m.
In the case of m, if the voltage applied to the auxiliary electrode 71 is a ground potential of zero V, no plasma is generated on the inner surface of the opening of the guide bush 11 and a hard carbon film cannot be formed. However, even when the gap between the inner surface of the opening of the guide bush 11 and the auxiliary electrode 71 is 3 mm, as the DC positive voltage from the auxiliary electrode power supply 83 applied to the auxiliary electrode 71 is increased, the opening around the auxiliary electrode 71 is increased. Plasma is generated on the inner surface, and a hard carbon film can be formed.

【0214】この図12に示す硬質カーボン膜の被膜形
成方法においては、ガイドブッシュ11の開口内面に挿
入するように設け、補助電極電源83から直流正電圧を
印加する補助電極71により、ガイドブッシュ11の外
周部だけでなく、ガイドブッシュ11開口内面にもプラ
ズマを形成することができる。
In the method of forming a hard carbon film shown in FIG. 12, the guide bush 11 is provided so as to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11, and the auxiliary electrode 71 to which a DC positive voltage is applied from the auxiliary electrode power supply 83. The plasma can be formed not only on the outer peripheral portion but also on the inner surface of the opening of the guide bush 11.

【0215】このガイドブッシュ11の開口内面に挿入
するように配置し、直流正電圧に接続する補助電極71
によって、開口内面領域においては同電位どうしが対向
することがなくなる。このため異常放電であるホロー放
電の発生はなく、硬質カーボン膜の密着性が向上する。
An auxiliary electrode 71 arranged to be inserted into the inner surface of the opening of the guide bush 11 and connected to a positive DC voltage
Thereby, the same potential does not face each other in the inner surface area of the opening. Therefore, there is no occurrence of hollow discharge, which is abnormal discharge, and the adhesion of the hard carbon film is improved.

【0216】さらに開口内に配置する補助電極71によ
ってガイドブッシュ11の長手方向の開口内面にて、電
位特性が均一になり、開口内面に形成する硬質カーボン
膜の膜厚分布の発生がなく、開口端面と開口奥側とで均
一な膜厚を形成することができる。
Further, the auxiliary electrode 71 disposed in the opening makes the electric potential characteristics uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction of the guide bush 11, and the thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening does not occur. A uniform film thickness can be formed between the end face and the back side of the opening.

【0217】さらにまた本発明の硬質カーボン膜の形成
方法の実施形態においては、ガイドブッシュ11の開口
内面の中央部に設ける補助電極71に、補助電極電源8
3からの直流の正電圧を印加して硬質カーボン膜を形成
している。このため直流正電圧を印加する補助電極71
の周囲領域に電子を集める効果が生じ、この補助電極7
1の周囲領域は電子密度が高くなる。
Further, in the embodiment of the method for forming a hard carbon film of the present invention, the auxiliary electrode 71 provided at the center of the inner surface of the opening of the guide bush 11 is connected to the auxiliary electrode power supply 8.
The hard carbon film is formed by applying a DC positive voltage from Step 3. Therefore, the auxiliary electrode 71 for applying a DC positive voltage
The effect of collecting electrons in the surrounding area of the auxiliary electrode 7 is generated.
The surrounding area of 1 has a higher electron density.

【0218】このように電子密度が高くなると、必然的
に炭素を含むガス分子と電子との衝突確率が増え、ガス
分子のイオン化が促進されて、ガイドブッシュ11の開
口内面領域のプラズマ強度が高くなる。このため補助電
極71に直流の正電圧を印加する本発明の硬質カーボン
膜の形成方法においては、硬質カーボン膜の膜形成速度
は、補助電極71に直流の正電圧を印加しないときと比
らべて高くなる。
When the electron density is increased as described above, the probability of collision between the gas molecules containing carbon and the electrons is inevitably increased, ionization of the gas molecules is promoted, and the plasma intensity in the inner surface area of the opening of the guide bush 11 is increased. Become. Therefore, in the method for forming a hard carbon film of the present invention in which a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71, the film formation speed of the hard carbon film is compared with the case where no DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71. Get higher.

【0219】さらにガイドブッシュ11の開口寸法が小
さくなり、開口内面と補助電極71との隙間寸法が小さ
くなると、補助電極71に直流の正電圧を印加しないで
硬質カーボン膜を形成すると、開口内面にはプラズマが
発生せず、被膜形成することができない。
Further, when the opening dimension of the guide bush 11 is reduced and the gap dimension between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode 71 is reduced, if a hard carbon film is formed without applying a DC positive voltage to the auxiliary electrode 71, Does not generate plasma and cannot form a film.

【0220】これにたいして本発明の硬質カーボン膜の
被膜形成方法においては、ガイドブッシュ11の開口内
面に配置する補助電極71に補助電極電源83を用いて
直流正電圧を印加し、電子を強制的に補助電極71の周
囲領域の開口内面に集めているので、補助電極71周囲
にプラズマを発生させることができる。
On the other hand, in the method for forming a hard carbon film according to the present invention, a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode 71 disposed on the inner surface of the opening of the guide bush 11 using the auxiliary electrode power supply 83 to forcibly remove electrons. Since the light is collected on the inner surface of the opening around the auxiliary electrode 71, plasma can be generated around the auxiliary electrode 71.

【0221】したがって、直流の正電圧を印加しない補
助電極を用いた硬質カーボン膜の形成では被膜形成がで
きない開口大きさが小さいガイドブッシュ11にも、補
助電極電源83からの直流正電圧を印加する補助電極7
1を用いる本発明の硬質カーボン膜の形成方法を適用す
れば被膜形成が可能となる。
Therefore, a DC positive voltage from the auxiliary electrode power supply 83 is applied to the guide bush 11 having a small opening size, which cannot be formed by forming a hard carbon film using an auxiliary electrode to which no DC positive voltage is applied. Auxiliary electrode 7
By applying the method for forming a hard carbon film of the present invention using No. 1, a film can be formed.

【0222】さらにこのガイドブッシュ11開口内に補
助電極71を挿入したとき、補助電極71の先端部がダ
ミー部材53の開口端面より内側になるように配置し
て、補助電極71の先端部が開口端面から露出しないよ
うに構成する。本発明の実施形態では、補助電極71先
端部はダミー部材53の開口端面より1mm内側になる
ように、補助電極71先端部の長さを設定している。
Further, when the auxiliary electrode 71 is inserted into the opening of the guide bush 11, the auxiliary electrode 71 is disposed so that the front end of the auxiliary electrode 71 is located inside the opening end surface of the dummy member 53. It is configured not to be exposed from the end face. In the embodiment of the present invention, the length of the tip of the auxiliary electrode 71 is set so that the tip of the auxiliary electrode 71 is located 1 mm inside the opening end face of the dummy member 53.

【0223】このように本発明の硬質カーボン膜の形成
方法においては、補助電極71の先端部をダミー部材5
3の開口端面より内側になるように配置している。この
ため補助電極71の先端部がダミー部材53の開口端面
から露出している場合に発生する補助電極71先端部の
異常放電を抑制することができ、膜質が良好な硬質カー
ボン膜15をガイドブッシュ11に形成することができ
る。
As described above, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, the tip of the auxiliary electrode 71 is
3 are arranged inside the opening end face. For this reason, abnormal discharge of the tip of the auxiliary electrode 71, which occurs when the tip of the auxiliary electrode 71 is exposed from the opening end face of the dummy member 53, can be suppressed. 11 can be formed.

【0224】〔ガイドブッシュ構造の第2例:図2〕つ
ぎに以上の説明と異なる実施形態におけるガイドブッシ
ュの構造を、図2を用いて説明する。図2は本発明の別
の実施形態におけるガイドブッシュの内周面を拡大して
示す断面図である。
[Second Example of Guide Bush Structure: FIG. 2] Next, the structure of a guide bush in an embodiment different from the above description will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an enlarged sectional view showing an inner peripheral surface of a guide bush according to another embodiment of the present invention.

【0225】図2に示すように、ガイドブッシュ11の
内周面11b(図3参照)には、順次、超硬部材12
と、第1の中間層14aと、第2の中間層14bと、被
加工物51と接触する面に硬質カーボン膜15を設け
る。
As shown in FIG. 2, the inner surface 11b of the guide bush 11 (see FIG. 3) is
The hard carbon film 15 is provided on a surface that comes into contact with the first intermediate layer 14a, the second intermediate layer 14b, and the workpiece 51.

【0226】そして、自動旋盤のガイドブッシュ装置に
設けて被加工物51を回転可能に支持する本発明におけ
るガイドブッシュ11は、その内周面11bに設ける第
1の中間層14aと第2の中間層14bとを介して、硬
質カーボン膜15を設けるとき、被加工物51と接触す
る硬質カーボン膜15の表面15aを凹凸とする構成を
採用する。あるいは、本発明のガイドブッシュ11にお
いては、その内周面11bに超硬部材12を設け、その
超硬部材12上面に形成する第1の中間層14aと第2
の中間層14bを介して硬質カーボン膜15を設けると
き、被加工物51と接触する硬質カーボン膜15の表面
15aを凹凸とする構成を採用する。
The guide bush 11 according to the present invention, which is provided on a guide bush device of an automatic lathe and rotatably supports the workpiece 51, has a first intermediate layer 14a and a second intermediate layer 14a provided on its inner peripheral surface 11b. When the hard carbon film 15 is provided via the layer 14b, a configuration is adopted in which the surface 15a of the hard carbon film 15 that is in contact with the workpiece 51 has irregularities. Alternatively, in the guide bush 11 of the present invention, the super hard member 12 is provided on the inner peripheral surface 11b, and the first intermediate layer 14a and the second intermediate layer 14a formed on the upper surface of the super hard member 12 are provided.
When the hard carbon film 15 is provided via the intermediate layer 14b, the surface 15a of the hard carbon film 15 that is in contact with the workpiece 51 is made uneven.

【0227】このように被加工物51と接触する硬質カ
ーボン膜15の表面15aを凹凸とすると、従来技術の
凹凸面を形成しない硬質カーボン膜と比較して、この硬
質カーボン膜15と被加工物51との接触面積を少なく
することができる。したがって、硬質カーボン膜15が
具備する優れた特性である、低摩擦特性をなおいっそう
助長させることが可能となる。
When the surface 15a of the hard carbon film 15 that is in contact with the workpiece 51 is made uneven, the hard carbon film 15 and the workpiece are harder than the conventional hard carbon film that does not have an uneven surface. The area of contact with 51 can be reduced. Therefore, it is possible to further promote the low friction characteristics, which are the excellent characteristics of the hard carbon film 15.

【0228】この結果、ガイドブッシュ11の内周面1
1bで回転し軸方向に摺動する被加工物51と、硬質カ
ーボン膜15との接触抵抗が低減し、硬質カーボン膜1
5の摩耗を抑制することができる。したがって、本発明
のガイドブッシュ11では、内周面11bに形成した硬
質カーボン膜15の耐久性を向上させることができ、ガ
イドブッシュ11の長期使用にたいする信頼性を高める
ことが可能となる。
As a result, the inner peripheral surface 1 of the guide bush 11
1b, the contact resistance between the workpiece 51 rotating in the axial direction and the hard carbon film 15 is reduced.
5 can be suppressed. Therefore, in the guide bush 11 of the present invention, the durability of the hard carbon film 15 formed on the inner peripheral surface 11b can be improved, and the reliability of the guide bush 11 for long-term use can be improved.

【0229】そして、超硬部材12表面の中間層14と
接触する面は、この超硬部材12のバインダーとして機
能しているコバルト(Co)を選択的に除去している。
すなわち、このコバルト(Co)を除去した超硬部材1
2上面に中間層14を介して硬質カーボン膜15を設け
る。
The surface of the surface of the super hard member 12 which comes into contact with the intermediate layer 14 selectively removes cobalt (Co) functioning as a binder of the super hard member 12.
That is, the cemented carbide member 1 from which the cobalt (Co) has been removed.
2. A hard carbon film 15 is provided on the upper surface with an intermediate layer 14 interposed therebetween.

【0230】この結果、本発明の硬質カーボン膜15に
おいては、ガイドブッシュ11の内周面11bに密着性
よく形成することが可能となり、剥離するという問題点
は発生しない。したがって、ガイドブッシュ11の使用
寿命を従来より大幅に延ばすことができ、長期使用にた
いする信頼性を向上させることが可能となる。
As a result, the hard carbon film 15 of the present invention can be formed with good adhesion on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11, and the problem of peeling does not occur. Therefore, the service life of the guide bush 11 can be greatly extended as compared with the conventional art, and the reliability for long-term use can be improved.

【0231】このように本発明のガイドブッシュ11の
優れた点ついては、発明者らは以下に記載した理由によ
って得られていると考えている。第1の中間層14aと
接触する超硬部材12表面のコバルトを除去するまえ
と、除去したのちとの表面状態を、走査型電子顕微鏡
(SEM)にて観察した。
The inventors believe that the superior features of the guide bush 11 of the present invention have been obtained for the following reasons. The surface state before and after removing cobalt on the surface of the superhard member 12 in contact with the first intermediate layer 14a was observed with a scanning electron microscope (SEM).

【0232】超硬部材12表面のコバルトを除去する前
の面は、この超硬部材12の内周面の研磨加工を行った
加工痕が観察された。これにたいして超硬部材12表面
のコバルトを除去したのちの面は、その加工痕が観察さ
れなかった。
On the surface of the super-hard member 12 before removing cobalt, a trace of polishing the inner peripheral surface of the super-hard member 12 was observed. On the other hand, no machining marks were observed on the surface of the superhard member 12 from which cobalt had been removed.

【0233】また、肉眼で超硬部材12表面を観察して
も、その差は歴然としていた。すなわち、超硬部材12
表面のコバルトを除去する前の面は、研磨面で鏡面状態
であったのにたいして、超硬部材12表面のコバルトを
除去したのちの面は、鏡面ではなく梨地状態であった。
When the surface of the super hard member 12 was observed with the naked eye, the difference was obvious. That is, the super hard member 12
The surface of the superhard member 12 from which cobalt had been removed was in a mirror-finished state instead of a mirror-finished surface, whereas the surface before removing cobalt was in a mirror-finished state.

【0234】これは、第1の中間層14aと接触する超
硬部材12表面のコバルトを除去すると、このコバルト
はバインダーとして機能していたので、このバインダー
と焼結処理によって結合していたタングステンや炭素も
剥落し、前述のように、加工痕が観察されず、また梨地
状態となっている。
When the cobalt on the surface of the cemented carbide member 12 that comes into contact with the first intermediate layer 14a is removed, the cobalt functions as a binder. The carbon also peeled off, and as described above, no processing marks were observed, and the material was in a satin state.

【0235】このように、第1の中間層14aと接触す
る超硬部材12表面の加工痕が消滅し観察されないこと
と、梨地状態となっていることから、さらにいっそう硬
質カーボン膜15の密着性が向上する。とくに加工痕に
ついては、加工痕箇所に形成される第1の中間層14a
は、その箇所に伸長や圧縮などの膜ストレスが発生して
おり、この膜ストレスにより、第1の中間層14aの密
着性不良が発生していたと考えており、この加工痕が消
滅したことによって、膜ストレスに起因する密着性が劣
化するという現象は発生しない。この結果、本発明のガ
イドブッシュ11においては、中間層14が剥離すると
いう現象は発生せず、したがって、その中間層14上面
に形成する硬質カーボン膜15の密着性も向上し、ガイ
ドブッシュ11の使用寿命を従来より大幅に延ばすこと
ができ、長期使用にたいする信頼性が向上する。
As described above, since the processing marks on the surface of the cemented carbide member 12 in contact with the first intermediate layer 14a disappear and are not observed, and because of the matte state, the adhesion of the hard carbon film 15 is further improved. Is improved. In particular, regarding processing marks, the first intermediate layer 14a formed at the processing mark location
Believes that a film stress such as elongation or compression has occurred at that location, and that the film stress has caused poor adhesion of the first intermediate layer 14a. In addition, the phenomenon that the adhesiveness is deteriorated due to the film stress does not occur. As a result, in the guide bush 11 of the present invention, the phenomenon that the intermediate layer 14 peels does not occur, and therefore, the adhesion of the hard carbon film 15 formed on the upper surface of the intermediate layer 14 is also improved, and The service life can be greatly extended as compared with the prior art, and the reliability for long-term use is improved.

【0236】この硬質カーボン膜15は、黒色状の被膜
であり、ダイヤモンドによく似た性質をもつ。すなわち
硬質カーボン膜15は、高い機械的硬度や低い摩擦係数
や良好な電気的絶縁性や高い熱伝導率や高い耐腐食性と
いう優れた特性をもつ。このため本発明のガイドブッシ
ュ11は、切削量が大きく加工速度が大きな重切削加工
において、被加工物51と接触する内周面の摩耗を抑え
ることができ、被加工物へのキズの発生を抑えることが
可能となり、さらにガイドブッシュ11と被加工物51
との焼き付きの発生を抑制することができる。
The hard carbon film 15 is a black film and has properties very similar to diamond. That is, the hard carbon film 15 has excellent characteristics such as high mechanical hardness, low coefficient of friction, good electrical insulation, high thermal conductivity, and high corrosion resistance. For this reason, the guide bush 11 of the present invention can suppress wear of the inner peripheral surface in contact with the workpiece 51 in heavy cutting in which the cutting amount is large and the processing speed is large, and the generation of scratches on the workpiece is reduced. And the guide bush 11 and the workpiece 51
Can be suppressed from occurring.

【0237】さらに本発明のガイドブッシュ11は、そ
の内周面11bの中間層14の下層に、硬度の高い超硬
部材12を形成し、硬質カーボン膜15を設けている。
このように硬質カーボン膜15の下層に硬度の高い超硬
部材12を設けると、局所的な硬質カーボン膜15の剥
離や摩耗を抑制することができ、ガイドブッシュ11の
長期使用に対する信頼性をよりいっそう向上させること
ができる。
Further, in the guide bush 11 of the present invention, a superhard member 12 having high hardness is formed below the intermediate layer 14 on the inner peripheral surface 11b, and a hard carbon film 15 is provided.
When the superhard member 12 having high hardness is provided below the hard carbon film 15, local peeling or wear of the hard carbon film 15 can be suppressed, and the reliability of the guide bush 11 for long-term use can be further improved. Can be further improved.

【0238】さらに、この超硬部材12と硬質カーボン
膜15とのあいだに、第1の中間層14aと第2の中間
層14bとを設ける構造を本発明では採用する。そし
て、第1の中間層14aとしては、チタン(Ti)また
はクロム(Cr)を適用し、第2の中間層14bとして
は、シリコン膜(Si)またはゲルマニウム(Ge)を
適用する。ここで、第1の中間層14aは、その下層の
超硬部材12との充分な密着力を確保する役割をもち、
これらの被膜は超硬部材12との接着性に優れている、
また第2の中間層14bは、前述のように、周期律表第
IVb族の元素である材料から構成しているので、同じ
第IV族元素の炭素を構成材料とする硬質カーボン膜1
5と共有結合して、高い接着性を示す。
Further, the present invention employs a structure in which a first intermediate layer 14a and a second intermediate layer 14b are provided between the super hard member 12 and the hard carbon film 15. And, as the first intermediate layer 14a, titanium (Ti) or chromium (Cr) is applied, and as the second intermediate layer 14b, a silicon film (Si) or germanium (Ge) is applied. Here, the first intermediate layer 14a has a role of ensuring a sufficient adhesive force with the underlying superhard member 12,
These coatings are excellent in adhesion to the superhard member 12,
Further, since the second intermediate layer 14b is made of a material that is an element of Group IVb of the periodic table as described above, the hard carbon film 1 made of carbon of the same Group IV element is used as the material.
5 and shows high adhesiveness.

【0239】このように、超硬部材12と硬質カーボン
膜15とのあいだに中間層12を介在させると、硬質カ
ーボン膜15の密着性は高くなる。さらに中間層14
は、つぎに記載するような作用も果たす。すなわち、超
硬部材12にバインダーとして含まれるコバルトを、硬
質カーボン膜15のカーボンに溶解してしまうという現
象を、中間層14が抑えているためである。
As described above, when the intermediate layer 12 is interposed between the super hard member 12 and the hard carbon film 15, the adhesion of the hard carbon film 15 becomes high. Further, the intermediate layer 14
Also has the following effect. That is, the intermediate layer 14 suppresses the phenomenon that cobalt contained as a binder in the superhard member 12 is dissolved in the carbon of the hard carbon film 15.

【0240】すなわち、超硬部材12にバインダーとし
て含有しているコバルトと硬質カーボン膜15の炭素と
が反応するという現象は発生しない。このためガイドブ
ッシュ11の内周面に11b密着性よく硬質カーボン膜
15を形成することができ、その結果、ガイドブッシュ
内周面における硬質カーボン膜15の剥離現象は発生し
ない。
That is, the phenomenon that cobalt contained as a binder in the superhard member 12 reacts with carbon in the hard carbon film 15 does not occur. For this reason, the hard carbon film 15 can be formed on the inner peripheral surface of the guide bush 11 with good adhesion 11b, and as a result, the peeling phenomenon of the hard carbon film 15 on the inner peripheral surface of the guide bush does not occur.

【0241】この図2に示す構造を得るための被膜形成
方法は、第1の中間層14aは図4を用いて説明した方
法でチタンまたはクロムを形成し、第2の中間層14b
はターゲット55をシリコンまたはゲルマニウムに変
え、そのほかの条件は第1の中間層14aを形成すると
きと同じ条件で被膜形成すればよい。さらに第2の中間
層14b上面に形成する硬質カーボン膜15の被膜形成
方法は、図5から図7および図10から図12を用いて
説明した被膜形成方法を採用すればよいので、詳細な説
明は省略する。
In the method of forming a film for obtaining the structure shown in FIG. 2, the first intermediate layer 14a is formed by forming titanium or chromium by the method described with reference to FIG.
The target 55 may be changed to silicon or germanium, and other conditions may be used to form a film under the same conditions as when forming the first intermediate layer 14a. Further, as the method of forming the film of the hard carbon film 15 formed on the upper surface of the second intermediate layer 14b, the method of forming the film described with reference to FIGS. 5 to 7 and FIGS. Is omitted.

【0242】なお、第2の中間層14bとしては、シリ
コンやゲルマニウムのかわりにシリコンカーバイト膜
(SiC)や炭化タングステン(WC)膜などの炭素を
含む合金材料被膜も適用することができる。このシリコ
ンカーバイト膜や炭化タングステン膜も、シリコン膜や
ゲルマニウム膜とほぼ同じ機能を有し、第2の中間層1
4bとしてシリコン膜やゲルマニウム膜を用いたときと
ほぼ同じ効果を有する。このシリコンカーバイト膜や炭
化タングステン膜も図4に示す装置を用い、ターゲット
55を変えて被膜形成すればよい。
As the second intermediate layer 14b, an alloy material film containing carbon such as a silicon carbide film (SiC) or a tungsten carbide (WC) film instead of silicon or germanium can be applied. The silicon carbide film and the tungsten carbide film also have substantially the same function as the silicon film and the germanium film, and
4b has almost the same effect as when a silicon film or a germanium film is used. The silicon carbide film and the tungsten carbide film may be formed by using the apparatus shown in FIG.

【0243】以上記した本発明の実施形態では、超硬部
材12を介して、中間層14と硬質カーボン膜15をガ
イドブッシュ11の内周面11bに形成する例で説明し
た。しかしながら、用途によっては、この超硬部材12
は形成していないガイドブッシュ11もあり、このよう
なガイドブッシュ11では、内周面11bに直接中間層
14と硬質カーボン膜15を被膜形成してもよ。
In the embodiment of the present invention described above, an example has been described in which the intermediate layer 14 and the hard carbon film 15 are formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11 via the super hard member 12. However, depending on the application, this super hard member 12
Some guide bushes 11 are not formed. In such a guide bush 11, the intermediate layer 14 and the hard carbon film 15 may be directly formed on the inner peripheral surface 11b.

【0244】さらに以上記載した本発明の実施形態で
は、超硬部材12上に順次中間層14と硬質カーボン膜
15とを形成する例で説明した。しかしながら、この超
硬部材12のかわりに、表面硬化法のひとつである、浸
炭層をガイドブッシュ11の内周面11bに形成しても
よい。
In the embodiment of the present invention described above, an example in which the intermediate layer 14 and the hard carbon film 15 are sequentially formed on the super hard member 12 has been described. However, instead of the super hard member 12, a carburized layer, which is one of the surface hardening methods, may be formed on the inner peripheral surface 11b of the guide bush 11.

【0245】さらに図5から図7および図10から図1
3を用いて説明した本発明の硬質カーボン膜の形成方法
における実施形態の説明においては、炭素を含むガスと
してメタンガスやベンゼンガスを用いる実施形態で説明
したが、メタン以外にエチレンなどの炭素を含むガス
や、あるいはヘキサンなどの炭素を含む液体の蒸発蒸気
も使用することができる。
FIGS. 5 to 7 and FIGS. 10 to 1
In the description of the embodiment of the method for forming a hard carbon film of the present invention described with reference to No. 3, the embodiment using methane gas or benzene gas as the gas containing carbon has been described, but it contains carbon such as ethylene in addition to methane. Evaporation vapor of a gas or a liquid containing carbon such as hexane can also be used.

【0246】また図4を用いて説明した実施形態の被膜
形成において、ガイドブッシュ11を回転させてもよ
く、さらにまたガイドブッシュ11をターゲット55表
面にたいする垂線からある角度傾けて配置して被膜形成
してもよい。
In the film formation of the embodiment described with reference to FIG. 4, the guide bush 11 may be rotated, and the guide bush 11 may be arranged at a certain angle from a perpendicular to the surface of the target 55 to form the film. You may.

【0247】さらに図4、図5、図6、図7、図10、
図11および図12を用いて説明した実施形態の被膜形
成方法においては、ガイドブッシュ11の外周部と開口
内面とに中間層と硬質カーボン膜との被膜を形成する実
施形態で説明したが、開口内面のみに硬質カーボン膜や
中間層の被膜を形成することができる。そのときは、ガ
イドブッシュ11の外周部にこのガイドブッシュ11外
周部を覆うような被覆部材を配置する方法や、簡易的に
はアルミニウム箔をガイドブッシュ11の外周部に巻き
付けるように形成してもよい。
Further, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7, FIG.
In the method of forming a coating film according to the embodiment described with reference to FIGS. 11 and 12, the coating film of the intermediate layer and the hard carbon film is formed on the outer peripheral portion of the guide bush 11 and the inner surface of the opening. A hard carbon film or a coating of an intermediate layer can be formed only on the inner surface. In that case, a method of arranging a covering member on the outer peripheral portion of the guide bush 11 so as to cover the outer peripheral portion of the guide bush 11 or simply forming an aluminum foil around the outer peripheral portion of the guide bush 11 may be employed. Good.

【0248】さらに図5から図7および図10から図1
2を用いて説明した実施形態における硬質カーボン膜の
形成方法においては、ガイドブッシュ11の開口端面に
ダミー部材53を配置して被膜形成する実施の形態で説
明した。しかしながら、開口端面近傍領域の硬質カーボ
ン膜膜質が、そのほかの領域とそれほど差がなければ、
このダミー部材53をガイドブッシュ11の開口端面に
配置することなく、被膜形成することもできる。
FIGS. 5 to 7 and FIGS. 10 to 1
In the method for forming a hard carbon film in the embodiment described using No. 2, the embodiment has been described in which the dummy member 53 is disposed on the open end surface of the guide bush 11 to form a film. However, if the quality of the hard carbon film in the region near the opening end face is not so different from the other regions,
A film can be formed without disposing the dummy member 53 on the open end surface of the guide bush 11.

【0249】[0249]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、自動旋盤
のガイドブッシュ装置に設け被加工物を回転可能に支持
する本発明のガイドブッシュは、その内周面に設ける中
間層を介して、硬質カーボン膜を設けるとき、被加工物
と接触する硬質カーボン膜の表面を凹凸とする構成を採
用する。あるいは本発明のガイドブッシュは、その内周
面に超硬部材を設け、その超硬部材上面に形成する中間
層を介して、硬質カーボン膜を設けるとき、被加工物と
接触する硬質カーボン膜の表面を凹凸とする構成を採用
する。
As is apparent from the above description, the guide bush of the present invention, which is provided on the guide bush device of an automatic lathe and rotatably supports a workpiece, is provided with an intermediate layer provided on the inner peripheral surface thereof. When the hard carbon film is provided, a configuration is employed in which the surface of the hard carbon film that comes into contact with the workpiece is made uneven. Alternatively, the guide bush of the present invention is provided with a super hard member on the inner peripheral surface thereof, and when a hard carbon film is provided via an intermediate layer formed on the upper surface of the super hard member, a hard carbon film which is in contact with a workpiece is formed. A configuration in which the surface is uneven is adopted.

【0250】このように被加工物と接触する硬質カーボ
ン膜の表面を凹凸とすると、従来技術の凹凸面を形成し
ない硬質カーボン膜と比較して、この硬質カーボン膜と
被加工物との接触面積を少なくすることができる。した
がって、硬質カーボン膜が具備する優れた特性である、
低摩擦特性をなおいっそう助長させることが可能とな
る。
When the surface of the hard carbon film in contact with the workpiece is made uneven, the contact area between the hard carbon film and the workpiece is larger than that of the conventional hard carbon film having no uneven surface. Can be reduced. Therefore, it is an excellent characteristic of the hard carbon film,
It is possible to further promote low friction characteristics.

【0251】さらに、ガイドブッシュ内周面と被加工物
とのあいだに供給する油を表面凹凸を有する硬質カーボ
ン膜の凹部に保持することが可能となる。この結果、ガ
イドブッシュの内周面で回転し軸方向に摺動する被加工
物と、硬質カーボン膜との接触抵抗が低減し、硬質カー
ボン膜の摩耗を抑制することができる。したがって、本
発明のガイドブッシュでは、内周面に形成した硬質カー
ボン膜の耐久性を向上させることができ、ガイドブッシ
ュの長期使用にたいする信頼性を高めることが可能とな
る。
Further, the oil supplied between the inner peripheral surface of the guide bush and the workpiece can be held in the concave portion of the hard carbon film having the surface irregularities. As a result, the contact resistance between the workpiece rotating on the inner peripheral surface of the guide bush and sliding in the axial direction and the hard carbon film is reduced, and wear of the hard carbon film can be suppressed. Therefore, in the guide bush of the present invention, the durability of the hard carbon film formed on the inner peripheral surface can be improved, and the reliability of the guide bush for long-term use can be improved.

【0252】さらに本発明nガイドブッシュでは、タン
グステン(W)と炭素(C)とコバルト(Co)から構
成する超硬部材の中間層と接触する表面のコバルト(C
o)を除去する構成を採用している。そして、このコバ
ルト(Co)を除去した超硬部材上面に中間層を介し
て、硬質カーボン膜を設ける。
Further, according to the n-type guide bush of the present invention, the cobalt (C) on the surface in contact with the intermediate layer of the cemented carbide member composed of tungsten (W), carbon (C) and cobalt (Co)
o) is adopted. Then, a hard carbon film is provided on the upper surface of the super hard member from which cobalt (Co) has been removed, via an intermediate layer.

【0253】このように、本発明におけるガイドブッシ
ュは、コバルト(Co)を除去した超硬部材上面に中間
層を設け、さらにその上に硬質カーボン膜を形成してい
る。このため本発明の硬質カーボン膜は、ガイドブッシ
ュ内周面に密着性よく形成することが可能となり、剥離
するという問題点は発生しない。したがって、ガイドブ
ッシュの使用寿命を従来より大幅に延ばすことができ、
長期使用にたいする信頼性を向上させることが可能とな
る。
As described above, in the guide bush of the present invention, the intermediate layer is provided on the upper surface of the super hard member from which cobalt (Co) has been removed, and the hard carbon film is further formed thereon. Therefore, the hard carbon film of the present invention can be formed with good adhesion on the inner peripheral surface of the guide bush, and the problem of peeling does not occur. Therefore, the service life of the guide bush can be significantly extended,
It is possible to improve reliability for long-term use.

【0254】これらの効果については、発明者らは以下
に記載した理由によって得られていると考えている。中
間層と接触する超硬部材表面のコバルトを除去する前
と、除去したのちとの表面状態を、走査型電子顕微鏡
(SEM)にて観察した。
The inventors believe that these effects are obtained for the reasons described below. The surface states before and after removing cobalt on the surface of the superhard member in contact with the intermediate layer were observed with a scanning electron microscope (SEM).

【0255】超硬部材表面のコバルトを除去する前の面
は、この超硬部材の内周面の研磨加工を行った加工痕が
観察された。これにたいして超硬部材表面のコバルトを
除去したのちの面は、その加工痕が観察されなかった。
On the surface of the cemented carbide member before removal of cobalt, a trace of polishing the inner peripheral surface of the cemented carbide member was observed. On the other hand, no machining mark was observed on the surface of the cemented carbide member after removing cobalt.

【0256】またさらに、肉眼で超硬部材表面を観察し
ても、その差は歴然としていた。すなわち、超硬部材表
面のコバルトを除去する前の面は、研磨面で鏡面状態で
あったのにたいして、超硬部材表面のコバルトを除去し
たのちの面は、鏡面ではなく梨地状態であった。
Further, even when the surface of the superhard member was observed with the naked eye, the difference was obvious. That is, the surface of the cemented carbide member before removing cobalt had a polished surface in a mirror-like state, whereas the surface of the cemented carbide member after removing cobalt had a mirror-finished state instead of a mirror-like surface.

【0257】これは、中間層と接触する超硬部材表面の
コバルトを除去すると、このコバルトはバインダーとし
て機能していたので、このバインダーと焼結処理によっ
て結合していたタングステンや炭素も剥落し、前述のよ
うに、加工痕が観察されず、また梨地状態となってい
る。
When the cobalt on the surface of the cemented carbide member in contact with the intermediate layer was removed, the cobalt functioned as a binder, so that tungsten and carbon bonded to the binder by the sintering process also peeled off. As described above, no processing marks are observed, and the surface is in a satin state.

【0258】このように、中間層と接触する超硬部材表
面の加工痕が消滅し観察されないことと、梨地状態とな
っていることから、さらにいっそう硬質カーボン膜の密
着性が向上する。とくに加工痕については、その加工痕
箇所に形成される中間層は、その箇所に伸長や圧縮など
の膜ストレスが発生しており、この膜ストレスにより、
中間層の密着性不良が発生していたと考えており、この
加工痕が消滅したことによって、膜ストレスに起因する
密着性が劣化するという現象は発生しない。この結果、
本発明のガイドブッシュにおいては、中間層が剥離する
という現象は発生せず、したがって、その中間層上面に
形成する硬質カーボン膜の密着性も向上し、ガイドブッ
シュの使用寿命を従来より大幅に延ばすことができ、長
期使用にたいする信頼性が向上する。
As described above, since the machining marks on the surface of the cemented carbide member in contact with the intermediate layer disappear and are not observed, and because of the matte state, the adhesion of the hard carbon film is further improved. In particular, regarding processing marks, in the intermediate layer formed at the processing mark location, a film stress such as elongation or compression is generated at that location, and due to this film stress,
It is considered that poor adhesion of the intermediate layer has occurred, and the phenomenon that the adhesion is deteriorated due to the film stress does not occur due to the disappearance of the processing mark. As a result,
In the guide bush of the present invention, the phenomenon that the intermediate layer peels does not occur, therefore, the adhesion of the hard carbon film formed on the upper surface of the intermediate layer is also improved, and the service life of the guide bush is greatly extended as compared with the conventional art. And reliability for long-term use is improved.

【0259】この硬質カーボン膜は、黒色状の被膜であ
り、ダイヤモンドによく似た性質をもつ。すなわち硬質
カーボン膜は、高い機械的硬度や低い摩擦係数や良好な
電気的絶縁性や高い熱伝導率や高い耐腐食性という優れ
た特性をもつ。このため本発明のガイドブッシュは、切
削量が大きく加工速度が大きな重切削加工において、被
加工物と接触する内周面の摩耗を抑えることができ、被
加工物へのキズの発生を抑えることが可能となり、さら
にガイドブッシュと被加工物との焼き付きの発生を抑制
することができる。
This hard carbon film is a black film and has properties very similar to diamond. That is, the hard carbon film has excellent characteristics such as high mechanical hardness, low coefficient of friction, good electrical insulation, high thermal conductivity, and high corrosion resistance. For this reason, the guide bush of the present invention can suppress the wear of the inner peripheral surface that comes into contact with the workpiece and suppress the occurrence of scratches on the workpiece in heavy cutting in which the cutting amount is large and the processing speed is large. And the occurrence of seizure between the guide bush and the workpiece can be suppressed.

【0260】さらに本発明のガイドブッシュは、その内
周面の中間層の下層に、硬度の高い超硬部材を介して硬
質カーボン膜を設ける。このように硬質カーボン膜の下
層に硬度の高い超硬部材を設けると、局所的な硬質カー
ボン膜の剥離や摩耗を抑制することができ、ガイドブッ
シュの長期使用に対する信頼性をよりいっそう向上させ
ることができる。
Further, the guide bush of the present invention is provided with a hard carbon film under a middle layer on the inner peripheral surface thereof through a superhard member having high hardness. By providing a high-hardness super-hard member under the hard carbon film in this manner, local peeling and wear of the hard carbon film can be suppressed, and the reliability of the guide bush for long-term use can be further improved. Can be.

【0261】さらにこの超硬部材と硬質カーボン膜との
あいだに、中間層を設ける構造を本発明では採用する。
そしてこの中間層としては、本発明のガイドブッシュで
は、単層膜で構成する構造や積層膜で構成する構造を採
用している。中間層を単層膜で構成するときはシリコン
カーバイト膜(SiC)や炭化タングステン膜(WC)
などの炭素を含む合金材料被膜で構成し、積層膜で構成
するときはチタン膜(Ti)やクロム(Cr)からなる
第1の中間層と、シリコン膜(Si)またはゲルマニウ
ム膜(Ge)で構成する。
In the present invention, a structure in which an intermediate layer is provided between the super hard member and the hard carbon film is employed.
As the intermediate layer, in the guide bush of the present invention, a structure constituted by a single layer film or a structure constituted by a laminated film is adopted. When the intermediate layer is composed of a single layer film, a silicon carbide film (SiC) or a tungsten carbide film (WC)
When it is constituted by an alloy material film containing carbon, such as a titanium film (Ti) or chromium (Cr), and a silicon film (Si) or a germanium film (Ge). Constitute.

【0262】このように超硬部材と硬質カーボン膜との
あいだに中間層を介在させると、硬質カーボン膜の密着
性は高くなる。従来技術のガイドブッシュで中間層や硬
質カーボン膜が剥離してる箇所を詳細に観察したとこ
ろ、中間層や硬質カーボン膜は、超硬部材にバインダー
として含まれるコバルトとの密着性が得られず、その箇
所から剥離していた。その原因はよくわからないが、そ
の原因のひとつとして考えられるのは、コバルトが酸化
して、密着性の悪い酸化膜が形成されて、硬質カーボン
膜や中間層がガイドブッシュ内周面から剥離していると
推察している。
When the intermediate layer is interposed between the super-hard member and the hard carbon film, the adhesion of the hard carbon film increases. When the intermediate layer and the hard carbon film were peeled off in detail using a conventional guide bush, the intermediate layer and the hard carbon film could not obtain the adhesion with cobalt contained as a binder in the super hard member, It was peeled off from that location. The cause is not well understood, but one of the causes is thought to be that cobalt is oxidized, an oxide film with poor adhesion is formed, and the hard carbon film and the intermediate layer peel off from the inner peripheral surface of the guide bush. I guess.

【0263】そこで本発明のガイドブッシュでは、超硬
部材の内周面の中間層を形成する面から、この超硬部材
にバインダーとして含有しているコバルトを除去する。
このように、中間層の密着不良となるコバルトをガイド
ブッシュ内周面から除去している。このためガイドブッ
シュ内周面に密着性よく硬質カーボン膜を形成すること
ができ、その結果、ガイドブッシュ内周面にたいする硬
質カーボン膜の剥離現象は発生しない。
Therefore, in the guide bush of the present invention, cobalt contained as a binder in the super hard member is removed from the surface of the super hard member on which the intermediate layer is formed.
In this way, cobalt that causes poor adhesion of the intermediate layer is removed from the inner peripheral surface of the guide bush. Therefore, the hard carbon film can be formed on the inner peripheral surface of the guide bush with good adhesion, and as a result, the peeling phenomenon of the hard carbon film on the inner peripheral surface of the guide bush does not occur.

【0264】本発明のガイドブッシュへの硬質カーボン
膜の形成方法においては、ガイドブッシュの開口内面の
開口の中央部に、接地電位に接続する補助電極を配置し
て硬質カーボン膜を形成する。そしてガイドブッシュに
は、負の直流電圧あるいは高周波電圧を印加する。
In the method of forming a hard carbon film on a guide bush according to the present invention, an auxiliary electrode connected to a ground potential is disposed at the center of the opening on the inner surface of the guide bush to form a hard carbon film. Then, a negative DC voltage or a high-frequency voltage is applied to the guide bush.

【0265】その結果、同電位の電極どうしが対向して
いるガイドブッシュ開口内面に、接地電位に接続する補
助電極を設けることとなり、同電位どうしが対向するこ
とがなくなる。このような電位状態は、プラスマ化学気
相成長法にとって最も望ましい状態であり、ホロー放電
は発生しない。そのため、密着性の良好な硬質カーボン
膜をガイドブッシュに形成することができる。
As a result, an auxiliary electrode connected to the ground potential is provided on the inner surface of the guide bush opening where the electrodes of the same potential face each other, so that the same potential does not face each other. Such a potential state is the most desirable state for plasma enhanced chemical vapor deposition, and no hollow discharge occurs. Therefore, a hard carbon film having good adhesion can be formed on the guide bush.

【0266】そのうえ本発明の硬質カーボン膜の形成方
法においては、前述のようにガイドブッシュの開口内面
に補助電極を配置しており、ガイドブッシュの長手方向
の開口内面で、電位特性が均一になる。この結果、ガイ
ドブッシュの開口内面に形成する硬質カーボン膜の膜厚
分布の発生がなく、開口端面と開口奥側とで均一な膜厚
を形成することができるという効果ももつ。
In addition, in the method for forming a hard carbon film according to the present invention, the auxiliary electrode is arranged on the inner surface of the opening of the guide bush as described above, and the potential characteristics become uniform on the inner surface of the opening in the longitudinal direction of the guide bush. . As a result, there is no generation of a film thickness distribution of the hard carbon film formed on the inner surface of the opening of the guide bush, and an effect that a uniform film thickness can be formed between the opening end face and the inner side of the opening.

【0267】さらに本発明の硬質カーボン膜の形成方法
においては、試料の開口内面の中央部に設ける補助電極
に、補助電極電源からの直流の正電圧を印加して硬質カ
ーボン膜を形成している。このために、直流正電圧を印
加する補助電極の周囲領域に電子を集める効果を生じ、
この補助電極の周囲領域は電子密度が高くなる。
Further, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, a hard DC film is formed by applying a DC positive voltage from an auxiliary electrode power source to an auxiliary electrode provided at the center of the inner surface of the sample opening. . For this reason, an effect of collecting electrons in a region around the auxiliary electrode to which a DC positive voltage is applied occurs,
The area around the auxiliary electrode has a high electron density.

【0268】このように電子密度が高くなると、必然的
に炭素を含むガス分子と電子との衝突確率が増え、ガス
分子のイオン化が促進されて、その補助電極の周囲領域
のプラズマ密度が高くなる。このため補助電極に直流の
正電圧を印加して硬質カーボン膜を形成する本発明の被
膜形成方法においては、硬質カーボン膜の膜形成速度
は、補助電極に直流の正電圧を印加しないときと比らべ
て高くなる。
When the electron density is increased as described above, the collision probability between the gas molecules containing carbon and the electrons is inevitably increased, ionization of the gas molecules is promoted, and the plasma density in the region around the auxiliary electrode is increased. . For this reason, in the film forming method of the present invention in which a DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode to form a hard carbon film, the film formation speed of the hard carbon film is smaller than when no DC positive voltage is applied to the auxiliary electrode. It will be much higher.

【0269】さらに試料の開口大きさが小さくなり、開
口内面と補助電極との隙間寸法が小さくなると、補助電
極に直流の正電圧を印加しないで硬質カーボン膜を形成
すると、開口内面にはプラズマは発生せず、被膜形成で
きない。これにたいして本発明の硬質カーボン膜の形成
方法においては、開口内面に配置する補助電極に補助電
極電源から直流正電圧を印加して電子を強制的に補助電
極の周囲領域の開口内面に集めているので、補助電極の
周囲にプラズマを発生させることができる。
Further, when the opening size of the sample becomes smaller and the gap between the inner surface of the opening and the auxiliary electrode becomes smaller, when a hard carbon film is formed without applying a DC positive voltage to the auxiliary electrode, plasma is generated on the inner surface of the opening. It does not occur and a film cannot be formed. On the other hand, in the method for forming a hard carbon film of the present invention, a DC positive voltage is applied from an auxiliary electrode power source to an auxiliary electrode disposed on the inner surface of the opening to forcibly collect electrons on the inner surface of the opening around the auxiliary electrode. Therefore, plasma can be generated around the auxiliary electrode.

【0270】したがって、直流の正電圧を印加しない補
助電極を用いる硬質カーボン膜の形成方法では、被膜形
成できない開口大きさが小さい試料にも、直流の正電圧
を印加する補助電極を用いる本発明の硬質カーボン膜の
形成方法を適用すれば被膜形成が可能となる。
Therefore, in the method of forming a hard carbon film using an auxiliary electrode to which a DC positive voltage is not applied, the present invention which uses an auxiliary electrode to which a DC positive voltage is applied even to a sample having a small opening size where a film cannot be formed. If a method for forming a hard carbon film is applied, a film can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態におけるガイドブッシュの内
周面を拡大して示す断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view showing an inner peripheral surface of a guide bush according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態におけるガイドブッシュの内
周面を拡大して示す断面図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view showing an inner peripheral surface of a guide bush in the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態におけるガイドブッシュを示
す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
被膜形成方法のうち中間層の被膜形成方法を示す断面図
である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a coating of an intermediate layer among the methods of forming a coating on a guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を示
す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film among the methods of forming a film on a guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を示
す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film in the method of forming a film on the guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を示
す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film among the methods of forming a film on a guide bush according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
硬質カーボン膜の形成方法により硬質カーボン膜を形成
するガイドブッシュを使用する旋盤の主軸近傍を示す断
面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the vicinity of a main axis of a lathe using a guide bush for forming a hard carbon film by a method for forming a hard carbon film on a guide bush according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへの
硬質カーボン膜の形成方法により硬質カーボン膜を形成
するガイドブッシュを使用する旋盤の主軸近傍を示す断
面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the vicinity of a main shaft of a lathe using a guide bush for forming a hard carbon film on a guide bush according to an embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへ
の被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を
示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film in the method of forming a film on the guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへ
の被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を
示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film among the methods of forming a film on a guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへ
の被膜形成方法のうち硬質カーボン膜の被膜形成方法を
示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a hard carbon film in the method of forming a film on the guide bush according to the embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施形態におけるガイドブッシュへ
の硬質カーボン膜の形成方法における補助電極電圧と膜
厚との関係を示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing a relationship between an auxiliary electrode voltage and a film thickness in a method for forming a hard carbon film on a guide bush according to an embodiment of the present invention.

【図14】従来技術におけるガイドブッシュへの硬質カ
ーボン膜の形成方法を示す断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a method of forming a hard carbon film on a guide bush according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ガイドブッシュ 12 超硬部材 14 中間層 15 硬質カーボン膜 61 真空槽 63 ガス導入口 71 補助電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Guide bush 12 Carbide member 14 Intermediate layer 15 Hard carbon film 61 Vacuum chamber 63 Gas inlet 71 Auxiliary electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸井田 孝志 埼玉県所沢市大字下富字武野840番地 シ チズン時計株式会社所沢事業所内 Fターム(参考) 3C045 FE18 4K029 AA02 BA34 BA56 BA57 BB02 BC02 BD03 CA05 CA13  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Toida 840, Takeno, Shimotomi, Tokorozawa-shi, Saitama F-term in Citizen Watch Co., Ltd. Tokorozawa Office (reference) CA13

Claims (51)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状の形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、内周面に中
間層を設け、その中間層上に硬質カーボン膜を形成した
ガイドブッシュであって、 その硬質カーボン膜の表面は、凹凸であることを特徴と
するガイドブッシュ。
1. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in a longitudinal direction and a slit for providing elasticity thereto, and a slit at the other end. It has a screw part for attaching to the column of the automatic lathe, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed. Workpiece inserted into the opening,
A guide that holds the workpiece in such a manner that it can be rotated and slid in the axial direction near the cutting tool by an inner peripheral surface that holds the workpiece, an intermediate layer is provided on the inner peripheral surface, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer. A guide bush, wherein the surface of the hard carbon film is uneven.
【請求項2】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状の形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
であって、 その硬質カーボン膜の表面は、凹凸であることを特徴と
するガイドブッシュ。
2. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface and a slit for giving elasticity thereto are formed at one end in the longitudinal direction, and at the other end. It has a screw part for attaching to the column of the automatic lathe, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed. Workpiece inserted into the opening,
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A guide bush having a hard carbon film formed on an intermediate layer thereof, wherein the surface of the hard carbon film is uneven.
【請求項3】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状の形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
であって、 超硬部材の表面は、凹凸であり、 その超硬部材の表面の凹凸に倣うように硬質カーボン膜
の表面は凹凸であることを特徴とするガイドブッシュ。
3. It has a substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface and a slit for giving elasticity thereto are formed at one end in the longitudinal direction and at the other end. It has a screw part for attaching to the column of the automatic lathe, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed. Workpiece inserted into the opening,
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A guide bush in which a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein the surface of the super hard member is uneven, and the surface of the hard carbon film is uneven so as to follow the uneven surface of the super hard member. Guide bush characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ円
筒状の形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュであって、 超硬部材の表面は、コバルトが除去されて凹凸であり、 その超硬部材の表面の凹凸に倣うように硬質カーボン膜
の表面は凹凸であることを特徴とするガイドブッシュ。
4. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface and a slit for providing elasticity are formed at one end in the longitudinal direction, and at the other end. It has a screw part for attaching to the column of the automatic lathe, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed. Workpiece inserted into the opening,
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A guide bush in which an intermediate layer is provided, and a hard carbon film is formed on the intermediate layer. The surface of the super hard member is uneven due to the removal of cobalt, so as to follow the uneven surface of the super hard member. A guide bush wherein the surface of the hard carbon film is uneven.
【請求項5】 請求項1から4のいずれかに記載の中間
層は、 1層で構成することを特徴とするガイドブッシュ。
5. The guide bush according to claim 1, wherein the intermediate layer is formed as a single layer.
【請求項6】 請求項5に記載の中間層は、 炭素を含む合金材料からなることを特徴とするガイドブ
ッシュ。
6. The guide bush according to claim 5, wherein the intermediate layer is made of an alloy material containing carbon.
【請求項7】 請求項6に記載の炭素を含む合金材料か
ら中間層は、 シリコンカーバイトまたはタングステンカーバイトから
なることを特徴とするガイドブッシュ。
7. A guide bush, wherein the intermediate layer is made of silicon carbide or tungsten carbide from the carbon-containing alloy material according to claim 6.
【請求項8】 請求項1から4のいずれかに記載の中間
層は、 複数層で構成することを特徴とするガイドブッシュ。
8. The guide bush according to claim 1, wherein the intermediate layer comprises a plurality of layers.
【請求項9】 請求項8に記載の中間層は、 チタンまたはクロムからなる下層の第1の中間層と、シ
リコンまたはゲルマニウムからなる上層の第2の中間層
とから構成することを特徴とするガイドブッシュ。
9. The intermediate layer according to claim 8, comprising a lower first intermediate layer made of titanium or chromium and an upper second intermediate layer made of silicon or germanium. guide bush.
【請求項10】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに直流電圧を印加しアノードに直流電圧を印加しフィ
ラメントに交流電圧を印加してプラズマを発生させてガ
イドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有す
ることを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方
法。
10. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in an axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in a longitudinal direction and a slit for giving elasticity thereto, and an automatic taper at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. And Applying a DC voltage to the guide bush, applying a DC voltage to the anode, applying an AC voltage to the filament to generate plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. The method of forming the coating.
【請求項11】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに直流電圧を印加しアノードに直流電圧を印加しフィ
ラメントに交流電圧を印加してプラズマを発生させてガ
イドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有す
ることを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方
法。
11. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in the longitudinal direction, and a slit for providing elasticity thereto, and an automatic taper at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein. Step of introducing a gas containing carbon into a vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, applying a DC voltage to the anode, applying an AC voltage to the filament, and generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush. A method for forming a coating on a guide bush, comprising:
【請求項12】 請求項11に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
12. The method for forming a coating on a guide bush according to claim 11, wherein the step of removing cobalt by etching is performed by wet etching.
【請求項13】 請求項12に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
13. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 12 is performed using a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項14】 請求項12に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
14. A method for forming a film on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 12 is performed using a hydrogen peroxide solution.
【請求項15】 請求項10または請求項11に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
15. The method for forming a coating on a guide bush, wherein the intermediate layer according to claim 10 or 11 is composed of one or more layers.
【請求項16】 請求項10または請求項11に記載の
炭素を含むガスは、ベンゼンを用いることを特徴とする
ガイドブッシュへの被膜の形成方法。
16. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the gas containing carbon according to claim 10 or 11 uses benzene.
【請求項17】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに高周波電圧を印加し、プラズマを発生させてガイド
ブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有するこ
とを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
17. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in the longitudinal direction, and a slit for giving elasticity thereto, and an automatic taper at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. And The high frequency voltage is applied to the id bush, the method of forming the film into the guide bush, characterized in that a step of forming a hard carbon film on the guide bush by generating plasma.
【請求項18】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに高周波電圧を印加し、プラズマを発生させてガイド
ブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有するこ
とを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
18. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer tapered surface formed at one end in the longitudinal direction, and a slit for providing elasticity thereto, and an automatic taper formed at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein. Introducing a gas containing carbon into the vacuum chamber, applying a high-frequency voltage to the guide bush, generating plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. Forming method.
【請求項19】 請求項18に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
19. The method of forming a coating on a guide bush according to claim 18, wherein the step of removing cobalt by etching is performed by wet etching.
【請求項20】 請求項19に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
20. A method for forming a film on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 19 is performed by a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項21】 請求項19に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
21. A method for forming a film on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 19 is performed with a hydrogen peroxide solution.
【請求項22】 請求項17または請求項18に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
22. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the intermediate layer according to claim 17 or 18 comprises one or more layers.
【請求項23】 請求項17または請求項18に記載の
炭素を含むガスは、 メタンを用いることを特徴とするガイドブッシュへの被
膜の形成方法。
23. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the gas containing carbon according to claim 17 or 18 is methane.
【請求項24】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに直流電圧を印加し、プラズマを発生させてガイドブ
ッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有すること
を特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
24. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in the longitudinal direction and a slit for giving elasticity thereto, and an automatic taper at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, a gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. And Applying a DC voltage to the id bush, the method of forming the film into the guide bush, characterized in that a step of forming a hard carbon film on the guide bush by generating plasma.
【請求項25】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に接地電位
と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュを
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッシ
ュに直流電圧を印加し、プラズマを発生させてガイドブ
ッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有すること
を特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
25. It has a substantially cylindrical shape with a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface is formed at one end in the longitudinal direction and a slit is formed at the other end to make it elastic. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the ground potential is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein. Introducing a gas containing carbon into the vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, and generating a plasma to form a hard carbon film on the guide bush. Forming method.
【請求項26】 請求項25に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
26. A method according to claim 25, wherein the step of removing cobalt by etching is performed by wet etching.
【請求項27】 請求項26に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
27. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 26 is performed using a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項28】 請求項26に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
28. A method according to claim 26, wherein the wet etching is performed using a hydrogen peroxide solution.
【請求項29】 請求項24または請求項25に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
29. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the intermediate layer according to claim 24 or 25 comprises one or more layers.
【請求項30】 請求項24または請求項25に記載の
炭素を含むガスは、 メタンを用いることを特徴とするガイドブッシュへの被
膜の形成方法。
30. A method for forming a coating on a guide bush, wherein methane is used as the gas containing carbon according to claim 24 or 25.
【請求項31】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに直流電圧を印加しアノードに直流電圧を印加しフ
ィラメントに交流電圧を印加してプラズマを発生させて
ガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有
することを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方
法。
31. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface and a slit for giving elasticity thereto are formed at one end in the longitudinal direction, and the other end is automatically formed. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, the gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. Introduce Applying a DC voltage to the guide bush, applying a DC voltage to the anode, applying an AC voltage to the filament to generate plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. The method of forming the coating.
【請求項32】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに直流電圧を印加しアノードに直流電圧を印加しフ
ィラメントに交流電圧を印加してプラズマを発生させて
ガイドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有
することを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方
法。
32. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction, an outer peripheral tapered surface formed at one end in a longitudinal direction and a slit for giving elasticity thereto, and an automatic taper at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein, and after evacuating the vacuum chamber, a gas inlet is provided. A gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber, a DC voltage is applied to the guide bush, a DC voltage is applied to the anode, an AC voltage is applied to the filament to generate plasma, and a hard carbon film is formed on the guide bush. And forming a film on the guide bush.
【請求項33】 請求項32に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
33. The method of forming a coating on a guide bush according to claim 32, wherein the step of removing cobalt by etching according to claim 32 is performed by wet etching.
【請求項34】 請求項33に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
34. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 33 is performed by a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項35】 請求項33に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
35. A method according to claim 33, wherein the wet etching is performed using a hydrogen peroxide solution.
【請求項36】 請求項31または請求項32に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
36. A method for forming a coating on a guide bush, wherein the intermediate layer according to claim 31 or 32 comprises one or more layers.
【請求項37】 請求項31または請求項32に記載の
炭素を含むガスは、 ベンゼンを用いることを特徴とするガイドブッシュへの
被膜の形成方法。
37. A method for forming a film on a guide bush, wherein the gas containing carbon according to claim 31 or 32 is benzene.
【請求項38】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに高周波電圧を印加し、プラズマを発生させてガイ
ドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有する
ことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
38. It has a substantially cylindrical shape with a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface is formed at one end in the longitudinal direction and a slit is formed at the other end to make it elastic. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, the gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. Introduce The high frequency voltage is applied to the guide bush, the method of forming the film into the guide bush, characterized in that it comprises a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.
【請求項39】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに高周波電圧を印加し、プラズマを発生させてガイ
ドブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有する
ことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
39. It has a substantially cylindrical shape with a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface and a slit for giving elasticity thereto are formed at one end in the longitudinal direction, and an automatic slit is formed at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein, and after evacuating the vacuum chamber, a gas inlet is provided. Introducing a gas containing carbon into the vacuum chamber, applying a high-frequency voltage to the guide bush, generating plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. Formation method.
【請求項40】 請求項39に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
40. A method for forming a film on a guide bush according to claim 39, wherein the step of removing cobalt by etching is performed by wet etching.
【請求項41】 請求項40に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
41. A method for forming a film on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 40 is performed using a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項42】 請求項40に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
42. A method according to claim 40, wherein the wet etching is performed using a hydrogen peroxide solution.
【請求項43】 請求項38または請求項39に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
43. A method of forming a coating on a guide bush, wherein the intermediate layer according to claim 38 or 39 is formed of one or more layers.
【請求項44】 請求項38または請求項39に記載の
炭素を含むガスは、 メタンを用いることを特徴とするガイドブッシュへの被
膜の形成方法。
44. A method for forming a film on a guide bush, wherein the gas containing carbon according to claim 38 or 39 is methane.
【請求項45】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
に超硬部材を設け、その超硬部材上に中間層を設け、そ
の中間層上に硬質カーボン膜を形成したガイドブッシュ
への被膜の形成方法であって、 その超硬材料の表面をエッチングすることにより凹凸を
形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに直流電圧を印加し、プラズマを発生させてガイド
ブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有するこ
とを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
45. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface and a slit for giving elasticity thereto are formed at one end in the longitudinal direction, and an automatic slit is formed at the other end. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece slidably and slidably in the axial direction near the cutting tool, a superhard member is provided on the inner peripheral surface, and an intermediate layer is provided on the superhard member. A method of forming a coating on a guide bush in which a hard carbon film is formed on an intermediate layer, the step of forming irregularities by etching the surface of the super-hard material; After evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet and forming an intermediate layer by sputtering, and forming the intermediate layer. The guide bush is arranged in the vacuum chamber so that the auxiliary electrode connected to the DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush, and after exhausting the vacuum chamber, the gas containing carbon is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet. Introduce Applying a DC voltage to the guide bush, the method of forming the film into the guide bush, characterized in that it comprises a step of generating plasma to form a hard carbon film on the guide bush.
【請求項46】 軸方向に貫通した中心開口を有しほぼ
円筒状形状をもち、その長手方向の一端部に外周テーパ
面とそれに弾力をもたせるための摺り割りを形成し、他
端部に自動旋盤のコラムに取り付けるためのネジ部を有
し、外周テーパ面を形成した部分の内周に被加工物を保
持するための内周面を形成しており、自動旋盤に取り付
けられることにより中心開口に挿入された被加工物を、
その被加工物を保持する内周面によって切削工具の近く
にて回転および軸方向に摺動可能に保持し、その内周面
にすくなくともコバルトを含む超硬部材を設け、その超
硬部材上に中間層を設け、その中間層上に硬質カーボン
膜を形成したガイドブッシュへの被膜の形成方法であっ
て、 その超硬材料の表面のコバルトをエッチングすることに
より凹凸を形成する工程と、 ガイドブッシュの内周面をターゲットと対向するように
真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入口
からアルゴンガスを真空槽内に導入し、スパッタリング
法により中間層を形成する工程と、 中間層を形成したガイドブッシュの開口内面に直流正電
圧と接続する補助電極を挿入するようにガイドブッシュ
を真空槽内に配置し、真空槽内を排気した後、ガス導入
口から炭素を含むガスを真空槽内に導入し、ガイドブッ
シュに直流電圧を印加し、プラズマを発生させてガイド
ブッシュに硬質カーボン膜を形成する工程とを有するこ
とを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成方法。
46. A substantially cylindrical shape having a central opening penetrating in the axial direction. An outer peripheral tapered surface is formed at one end in the longitudinal direction and a slit is formed at the other end to make it elastic. It has a screw part for attaching to the lathe column, and has an inner peripheral surface for holding the workpiece on the inner periphery of the part where the outer peripheral taper surface is formed, and the central opening by being attached to the automatic lathe Workpiece inserted in
An inner peripheral surface that holds the workpiece holds the workpiece in a rotatable and axially slidable manner near the cutting tool, and a carbide member containing at least cobalt is provided on the inner peripheral surface. A method of forming a coating on a guide bush in which an intermediate layer is provided and a hard carbon film is formed on the intermediate layer, wherein a step of forming irregularities by etching cobalt on the surface of the super hard material; A step of arranging the inner peripheral surface of the vacuum chamber so as to face the target, evacuating the vacuum chamber, introducing an argon gas into the vacuum chamber from a gas inlet, and forming an intermediate layer by sputtering. The guide bush is arranged in a vacuum chamber so that an auxiliary electrode connected to a DC positive voltage is inserted into the inner surface of the guide bush having the intermediate layer formed therein, and after evacuating the vacuum chamber, a gas inlet is provided. Introducing a gas containing carbon into the vacuum chamber, applying a DC voltage to the guide bush, generating plasma, and forming a hard carbon film on the guide bush. Formation method.
【請求項47】 請求項46に記載のコバルトをエッチ
ングにより除去する工程は、 ウェットエッチングによって行なうことを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
47. A method according to claim 46, wherein the step of removing cobalt by etching is performed by wet etching.
【請求項48】 請求項47に記載のウェットエッチン
グは、 水酸化ナトリウムと過酸化水素水との混合溶液によって
行なうことを特徴とするガイドブッシュへの被膜の形成
方法。
48. A method for forming a film on a guide bush, wherein the wet etching according to claim 47 is performed using a mixed solution of sodium hydroxide and hydrogen peroxide solution.
【請求項49】 請求項47に記載のウェットエッチン
グは、 過酸化水素水によって行なうことを特徴とするガイドブ
ッシュへの被膜の形成方法。
49. A method according to claim 47, wherein the wet etching is performed using a hydrogen peroxide solution.
【請求項50】 請求項45または請求項46に記載の
中間層は、 1層または複数層からなることを特徴とするガイドブッ
シュへの被膜の形成方法。
50. The method for forming a coating on a guide bush according to claim 45, wherein the intermediate layer comprises one or more layers.
【請求項51】 請求項45または請求項46に記載の
炭素を含むガスは、メタンを用いることを特徴とするガ
イドブッシュへの被膜の形成方法。
51. A method for forming a film on a guide bush, wherein the gas containing carbon according to claim 45 or 46 is methane.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014171199A1 (en) * 2013-04-18 2014-10-23 日本アイ・ティ・エフ株式会社 Ball joint and method for manufacturing same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014171199A1 (en) * 2013-04-18 2014-10-23 日本アイ・ティ・エフ株式会社 Ball joint and method for manufacturing same
JP2014211190A (en) * 2013-04-18 2014-11-13 日本アイ・ティ・エフ株式会社 Ball joint and method of manufacturing the same
US9765810B2 (en) 2013-04-18 2017-09-19 Honda Motor Co., Ltd. Ball joint and method for manufacturing same

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