JP2000038393A - メチルクロロシランの直接合成法 - Google Patents
メチルクロロシランの直接合成法Info
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Abstract
媒及び錫−及び/又はアンチモン−助触媒を含有する接
触組成物との反応によりメチルクロロシランを製造する
場合に、反応過程の期間の1〜45%の間、塩化水素を
添加する。
Description
添加する方法によりメチルクロロシランを直接合成する
方法に関する。
直接合成では、塩化メチルと珪素とを銅触媒及び適当な
助触媒の存在下に反応させてメチルクロロシランを生じ
させ、この際、できるだけ高い生産性(単位時間及び使
用珪素当たりの生成シランの量)と並んで、目的生成物
ジメチルジクロロシランに対するできるだけ高い選択性
も求められる。ジメチルジクロロシランは、例えば線状
ポリシロキサンの製造のために必要である。
わらず、その自然科学的背景は部分的になお研究されて
いない。リースケ(Lieske)等によるシリコン フォア
ケミカル インダストリイ(Silicone for Chemica
l Industry,Geiranger-Norway,16.-18.June 1992)に
よれば、その反応での3種の固体、即ち、珪素、触媒及
び助触媒の関係に基づき、この実験の再現性は屡々劣悪
である。実際には、直接合成の種々のバッチが、同じ物
質−及び反応パラメータにも関わらず異なる結果をもた
らす。
施でき、工業的生産では連続的実施形のみが使用されて
いる。連続的直接合成は、流動層反応器中で実施され、
この中で塩化メチルが同時に流動化媒体及び反応成分と
して使用される。必要な珪素をまず20〜700μmの
粒径の粉末になるまで粉砕し、銅触媒及び助触媒と混合
して接触組成物(Kontaktmasse)にする。
onskampagne)は誘導相で開始される。この誘導相の開始
に伴い、塩化メチルが加熱された接触組成物中に導入さ
れる。これに、粗製シラン形成を開始する開始相が引き
続く。この反応は、まず、低い選択性及び反応性で進行
する。引き続き安定な製造相に達する。この製造過程
は、塩化メチルがこの接触組成物中にもはや導入されな
くなったら終了する。
で、充分に安定な製造相の後に、メチルクロロシランに
対する生産率及び目的生成物ジメチルジクロロシランに
対する選択率が低下する。従って、この製造過程は一定
の時間の後に終了されるはずである。従って、1製造過
程は、大抵は、数日〜数週間かかる。
れ、新たに珪素、銅触媒及び助触媒が充填され、再び反
応条件に呈される。このことから、生産率の上昇によっ
ても、一様な選択率における製造過程の時間延長によっ
ても同様に、直接合成の経済性を高めることができるこ
とが明らかである。
反応による接触組成物の活性化は公知である。例えば、
US−A−4864044には、珪素、銅触媒及び場合
によっては錫助触媒が、亜鉛助触媒の不存在下ではある
が、約325℃でHClにより活性化できる方法が記載
されている。この型の活性化の際の欠点は、亜鉛が所定
の反応条件下にHClと容易に昇華可能な塩化亜鉛を形
成するので、亜鉛又は亜鉛化合物が活性化の後に初めて
添加され、これに伴い活性化の間に接触組成物から除去
され、この活性化は塩化メチルとの特有の反応の前にの
み行うことができ、活性化のためには特有の反応器が必
要であり、この活性化からの反応生成物、殊にトリクロ
ロシラン及びテトラクロロシランは、メチルクロロシラ
ン合成の不所望の副生成物であり、この活性化は、使用
された原料珪素の約1〜2%を消費することにある。
の添加は、例えばUS−A−4966986から公知で
ある。このことは、粗製シラン組成に著しい変化をもた
らし、この際、粗製シラン中のメチルジクロロシラン割
合が高められる。しかしながら、これにより、同時にジ
メチルジクロロシランの割合は著しく減少される。
チルジクロロシランに関する選択性の保持下に生産性を
高めることのできる、ミュラー−ロコウによるメチルク
ロロシランの直接合成法を提供することであった。
程の期間の1〜45%の間、塩化水素を添加する方法
で、塩化メチルと珪素、銅触媒、亜鉛−助触媒及び錫−
及び/又はアンチモン−助触媒を含有する接触組成物と
の反応によるメチルクロロシランの直接合成法である。
誘導相、開始相及び製造相の間に行うことができる。
相の間の時間的に限定されたHClの供給により、それ
に引き続く製造相中の反応性を活性化されなかった接触
組成物に比べて高めることができる。製造相の間のHC
lの時間的に限定された供給により、低下性の反応性値
を再び高めることができ、それに引き続く相中で、HC
lを供給することなしに、再び、高められた反応性値が
達成される。
反応性が上昇するが、ジメチルジクロロシランの選択率
は低下する。HCl−供給の終了後には、反応性は高い
まま残り、ジメチルジクロロシラン−選択性が、少なく
とも供給の前に測定された値まで再び上昇する。
供給の後に、活性化されなかった製造過程に比べて高め
られた反応性及び少なくとも同じ高さの選択性が達成さ
れる。いくつかの場合に、高められた選択性値も測定で
きる。
lの好適な濃度は、接触組成物の反応性及び選択性に関
する瞬間的状態に、かつ選択される反応条件にも著しく
依存する。
中のHClの高すぎる濃度は、全体の製造過程に渡って
考慮すると、不所望のメチルクロロシラン、例えばメチ
ルトリクロロシラン又はメチルジクロロシランの高い生
産量をもたらし;HClの短すぎる配量及び/又は塩化
メチル中のHClの低すぎる濃度は、反応性の僅かな上
昇をもたらすだけである。
性化相の間に、それぞれ塩化メチルの質量に対して有利
に少なくとも0.3重量%、殊に少なくとも0.5重量
%、特に有利に少なくとも0.8重量%及び有利に高く
とも5重量%、殊に高くとも3重量%である。
昇に関連してこの反応系がどの程度迅速に反応するかに
依り決まる。この期間は、有利に短かくとも5分、殊に
短かくとも20分、特に有利に短かくとも25分及び有
利に長くとも10時間、殊に長くとも5時間、特に有利
に長くとも2時間であってよい。全製造過程に対してそ
の中にHClが供給される全時間の合計は、有利に少な
くとも3%、殊に少なくとも5%、特に有利に少なくと
も10%、殊に少なくとも45%、殊に高くとも40
%、特に有利に高くとも30%である。
殊に少なくとも3回の個々のHCl−配量を行うのが有
利である。例えば10回以上の個々のHCl−配量を行
うことができる。
特に250〜400℃、殊に250〜360℃の温度範
囲内で実施される。僅かな経費を必要とするので、この
方法は、大抵、環境圧(即ち約0.1MPa)〜0.5M
Paの圧力で実施されるが、より高い圧力を使用するこ
ともできる。
はアルゴンも使用することができる。不活性ガスを使用
しないのが有利である。
物とガスとからの流動層が形成されるようにこのガス流
の量を選択する。珪素、触媒及び助触媒からのこの混合
物を接触組成物と称する。反応しなかったクロロメタン
及び場合によっては不活性ガス及びガス状メチルクロロ
シランがこの反応器から出る。1以上のサイクロンを経
て、所望の場合には、随伴粒子をガス流から分離するこ
とができ、この際、接触組成物からの大きい付随粒子は
再び反応器中に戻される。
子及び反応されなかったクロロメタンから分離され、蒸
留に戻される。精製され、反応しなかったクロロメタン
を再び反応器中に供給することができる。
簡単な混合により行う。引き続き、HClの不存在で、
反応器中への導入の前にこの接触組成物の熱処理が可能
であるが、有利な実施形では実施されない。
することができる。連続的にとは、反応した珪素及び反
応ダストと共に排出される触媒及び助触媒の量が、継続
的に、有利に予備混合された接触組成物として補充され
ことを意味する。
0μmより小さく20μmより大きい粒径、特に有利に
500μmより小さく20μmより大きい粒径の珪素が
使用される。この使用珪素は、通常>98%の純度を有
する。
化銅−混合物の形、酸化銅(II)の形、CuClの形
又はCuCl2の形で使用される。一般式CuOxの混
合酸化物の場合に、xは、0.6〜1、有利に最低0.
7の値を有する。記載の酸化銅は、例えばUS5306
328中に記載の方法で製造することができ、この際、
酸化度は、乾燥温度及びこの温度での滞留時間により、
目的に応じて調節することができる。金属銅及び珪素に
対して0.5〜10重量%、殊に0.7〜7重量%の銅触
媒を使用するのが有利であり、特に1〜5重量%が有利
である。
亜鉛の形でも、銅、錫及び/又はアンチモンとの合金、
酸化亜鉛又は塩化亜鉛としても使用される。使用される
亜鉛の量は、銅に対して有利にZn0.5〜60重量
%、殊に2〜40重量%であり、特にZn5〜30重量
%を使用するのが有利である。
は錫を金属として使用するのが有利である。使用される
アンチモン又は錫の量は、使用される銅に対して200
〜8000ppm、殊に300〜4000ppmであ
り、特にアンチモン及び/又は錫500〜3000pp
mが有利に使用される。
ンとの反応における結果は、接触組成物の組成と共に実
験装置の構造及び実験実施法にも依存する。この最後に
記載の二つのパラメータを排除し、本発明の利点を明白
に高めるために、実施例1〜8に記載の実験で、次の標
準処置法に従って実施した。
40μmの範囲の粒径、 酸化銅:US−A−5306328、例5により製造、
全ての他の使用化学品は、化学品市場から、例えばフル
カ ヘミー(Fluka Chemie GmbH,Germany)から入手
されている。
ト、ブラインクーラー及び受けフラスコ付き蒸留ブリッ
ジを有する実験用−流動層反応器(内径25mm及び高
さ500mmを有する垂直ガラス管)。
媒6g、酸化亜鉛1g及び錫粉末8mgと緊密に混合
し、反応器中に充填し、40リットル/hの窒素気流下
に340℃まで加熱する。引き続き、塩化メチル40リ
ットル/hを反応器に導入し、この接触組成物を395
℃まで加熱する。20〜30分の誘導時間の後に、シラ
ン形成が始まり(始動時間)、反応温度を360℃まで
低下させ、メチルクロロシラン50mlを集める(開始
相)。例3〜6に記載の全てのHCl添加は、もっぱら
誘導相/開始相の間に行った。
ン30mlを集める。この30mlシランの形成のため
の時間は製造相と称され、この生産率(PR2)を次の
式に従って計算する:
を、GC−分析を用いて重量%で測定した。
再生接触組成物の反応経過に関する比較例。標準法に従
い、HClの供給なしで実施、結果は第1表参照。
間にHCl−添加する際に、シランM2の選択率が著し
く減少されることの立証。全反応時間の間に塩化メチル
にHClを3リットル/hの量で供給する(これは、M
eClに対して約5重量%のHClに相当)ことで変更
して標準法により実施。結果は第1表参照。
的に限られたHCl−添加により製造相での生産性を高
めることができることの立証。誘導相で、かつ反応の最
初の5分間にMeClにHClを3リットル/hの量で
添加する(これは全反応時間の約3%に相当)ことで変
更して標準法に従って実施。結果は第1表参照。
ル/h)を25分間供給する(これは、全反応時間の約
15%に相当)ことで変更して例3と同様。結果は第1
表参照。
に限定されたHCl−添加により引き続く製造相での生
産性び選択性が高められうることの立証。反応の始動の
20分後に初めてHCl−添加(3リットル/h)を開
始し、この添加を引き続き20分間実施する(これは全
反応時間の約15%に相当)ことで変更して標準法に従
って実施。結果は第1表参照。
HCl(1.5リットル/h)を供給した(これは全反
応時間の約25%に相当)ことで変更して例5と同様。
結果は、第1表参照。
HClの供給により反応性は、活性化されなかった反応
実施の場合と同様には強く低下されず、HCl配量によ
り、ジメチルジクロロシラン−選択率は不利な負に影響
されないことの立証のために使用する。
に変更した: 実験装置:例1〜6と同じ、20〜400μmの範囲の
粒径を有するSKW−カナダInc.社(Firma SKW-C
anada Inc.)の珪素顆粒120gを、酸化銅−触媒6
g、酸化亜鉛1g及び錫粉末8mgと一緒に緊密に混合
し、反応器中に充填し、40リットル/hの窒素気流下
で340℃まで加熱する。引き続き、塩化メチル40リ
ットル/hをこの反応器に導入し、接触組成物を395
℃まで加熱する。20〜30分の誘導時間の後に、シラ
ン形成が開始し、反応温度は360℃まで低下し、生じ
たメチルクロロシランを集め、かつ分析する。
て、粗製シランの質量及び組成を測定する。
き、HClを1.5リットル/hの量で(これはMeC
lに対して<3重量%に相当)5分間にわたって供給す
る(この期間は、後の表中では考慮されていない)。H
Cl−配量の停止後に、受器を再び交換し、HCl配量
なしで反応を90分間実施する。これに引き続き、再び
前記のようにHCl−配量を行った。
即ち、全反応時間の4%の間の期間HCl−添加を行っ
た。
成される。 反応時間(分) 粗製シランM2重量% 粗製シランM2重量% HCl配量を度外視 例7 例8 0〜90 87.9 87.5 90〜180 87.8 88.1 180〜270 88.4 87.1 270〜360 87.2 85.6
Claims (4)
- 【請求項1】 塩化メチルと珪素、銅触媒、亜鉛−助触
媒及び錫−及び/又はアンチモン−助触媒を含有する接
触組成物との反応によりメチルクロロシランを直接合成
する方法において、製造過程の期間の1〜45%の間、
塩化水素を添加することを特徴とする、メチルクロロシ
ランの直接合成法。 - 【請求項2】 塩化メチル中のHClの濃度は、塩化メ
チルの質量に対して少なくとも0.3重量%である、請
求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 反応過程の経過中に、少なくとも2回の
個々のHCl−配量を行う、請求項1又は2に記載の方
法。 - 【請求項4】 個々のHCl−配量の期間は、少なくと
も5分間である、請求項3に記載の方法。
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