JP2000036630A - 光信号源 - Google Patents
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Abstract
与え励起光を第1の光遮断器(18)に案内する励起光
源(14)を具備させて、励起光の後方反射を除去す
る。 【解決手段】 第1の光遮断器(18)から出力される
光が波長多重器(26)に入力され、利得ファイバ(3
4)が前記の波長多重器(26)に接続され、励起光に
より光学的に励起され出力する広帯域光を波長多重器
(26)に伝搬させ、且つ出力光ファイバ(29)が波
長多重器(26)に接続され、利得ファイバ(34)か
ら送出される広帯域光の一部を第2の光遮断器(50)
へ案内し、光ファイバ回転センサに入力するよう構成さ
れる。
Description
サの光信号源、特に光ファイバ回転センサの光信号源に
関する。更に詳しくは、本発明は光励起されて広帯域光
信号を発生する光ファイバを含む光信号源に関する。ま
た本発明は光励起式ダブルパス利得ファイバの励起光の
後方反射を除去する装置に関する。
光を単一パスでファイバを通す場合、より大きな強度の
信号を発生する。利得ファイバは通常光ファイバ回転セ
ンサに使用される光信号周波数を増幅するエルビウムが
添加される。
ダブルパスファイバ源の使用はこれまで制限されてい
た。ダブルパス光励起に関する問題には、ジャイロスコ
ープからのフィードバックによるエルビウムファイバ内
での利得減少、ジャイロスコープ軸間のクロストーク、
及び高出力広帯域ファイバ源を得るため強力励起レーザ
ダイオードによりエルビウムが添加されたファイバを励
起するときの、レイジングの発生開始が挙げられる。こ
のレイジングの問題はエルビウムファイバの長さが短い
ときにより重大となる。長さの短いダブルパスシステム
はエルビウムファイバがイオン化放射線を受ける効果を
最小限に抑えようとする際に望ましい。
代表的な広帯域ファイバ源が逆励起方式シングルパスフ
ァイバ源である。この構成はある波長の光を発光するレ
ーザーダイオードを用いる。この光は2つの入力リード
線及び2つの出力リード線を有する波長多重器(WD
M)を経て移送される。波長多重器の一方の出力リード
線はエルビウムが添加された長いファイバ(EDF)に
物理的に接続される。このエルビウム添加ファイバの一
端部には、光がファイバ内に逆に反射されないようにす
る角度毛細管が設けられる。エルビウム添加ファイバの
コアには、特定の波長で十分に高い強度の光がコア内に
進行されるとき自然発光が生じるように添加される。こ
の発光はエルビウム添加ファイバの両方向で生じる。逆
励起方式シングルパス構成の場合、波長多重器からの光
はエルビウム添加ファイバ内に向けられる。次にエルビ
ウム添加ファイバは両方向で発光する。前進方向の光
は、光がファイバ内で逆向きに反射されないように、角
度再毛管を経てエルビウム添加ファイバから送出され
る。
向けられる。この光はレーザーダイオードにより導入さ
れる励起光の波長と異なる波長を有している。波長多重
器は通常この2波長を分離すべく最適化される。エルビ
ウム添加ファイバからの光は、レーザーダイオードに接
続されていないファイバ脚部内へと結合され得る波長を
有している。本質的に広帯域であるこの光は光ファイバ
ジャイロスコープ内において結合される。
ため、角度毛細管は好ましくはダイクロイックミラーで
ある反射器と置換される。反射器は光ファイバの端部の
ブラッグ格子部あるいは直線劈開部にできる。ダイクロ
イックミラーにより、前進方向の光は逆方向に逆に反射
される。これは短い長さのエルビウム添加ファイバが効
率を損なうことなく使用可能であり、ある励起パワーに
対し広帯域ファイバ源から大きな出力が得られ、広帯域
源の波長が所定域の温度にわたりより安定するという利
点がある。
帯域源が光ファイバ回転センサの光信号源として使用さ
れたときに生じる。ジャイロスコープは光ファイバマル
チプレクサ(MUX)を用いて、入力光と出力光とを分
離するため、ジャイロスコープからの光の半分は広帯域
源内に逆に向けられる。このマルチプレクサは通常50
/50光結合器である。広帯域源内に逆に向けられた光
は利得減少と呼ばれるプロセスにおいてエルビウム添加
ファイバの効率を減少させるよう作用する。この問題は
単一逆励起構成およびダブルパス構成の両方で生じる。
る。3つの光ファイバジャイロスコープが共に連結して
3軸慣性測定装置(IMU)として使用されるとき、3
軸すべては同じ広帯域源を用いる。3個の個々の光源が
必要ではないので、これによりコストが大幅に節約され
る。エルビウム添加ファイバの端部にミラーを有するダ
ブルパス構成の場合、上述したフィードバックのため逆
に反射された1ジャイロスコープからの光は3軸のいず
れか1の軸内に逆に反射されうる。これにより3個のジ
ャイロスコープのそれぞれに対しクロスカップリング誤
差期間が生じる。
パス広帯域源を使用とするときに生じる。この場合エル
ビウム利得ファイバ内での逆反射により、広帯域スペク
トルを極めて狭いスペクトルに変換するエタロンが形成
される。この状態は不安定でありジャイロスコープにバ
イアス及び倍率の不安定性を導入する。更に、スペクト
ルが変換されると、広帯域源の固有長が極めて長くなり
偏光非相反(PNR)バイアス誤差が発生する。
ファイバ内に逆方向に反射されることを防止するダブル
パス光励起光信号源を提供するものであり、エルビウム
添加ファイバ内への逆反射光を除去する構成が採用され
る。
ば、利得ファイバでの逆反射光を除去することにより従
来例での問題を解決する光ファイバ信号源が提供され
る。即ち励起光を入力する第1の光遮断装置(18)
と、第1の光遮断装置(18)を通過する励起光を入力
する波長多重器(26)と、波長多重器(26)と接続
され、利得ファイバ(34)から出る広帯域光の一部を
案内する出力光ファイバ(29)と、出力光ファイバ
(29)に接続される第2の光遮断器(50)とを備
え、利得ファイバ(34)は波長多重器(26)と接続
され、励起光により光学的に励起され波長多重器(2
6)へ伝搬する広帯域光を送出することを特徴とする、
励起光を利得ファイバ(4)に与える励起光源(14)
を含む光信号源(10)により、上記の従来技術におけ
る問題点が克服される。
ウムで添加される長手の光ファイバでなる。
端部に連結される反射器が含まれ、前方及び後方に向け
られた光は、共に利得ファイバ内で波長多重器へ伝搬さ
れ更に出力ファイバへ送られる。反射器は好ましくはダ
イクロイックミラーとして形成される。
ス光信号源10を示す。光信号源10は光信号を光ファ
イバ回転センサ12に与えるよう構成される。
励起光源14は好ましくは励起光を光ファイバ16に与
えるよう構成されたレーザーダイオードでなる。光遮断
器18は光ファイバピグテール20を有し、光ファイバ
ピグテール20はスプライス22で光ファイバ16に接
続されている。励起光は光遮断器18へ伝搬し、光ファ
イバピグテール24を経て光遮断器18から送り出され
る。
イバピグテール28〜31を有している。ピグテール2
8はスプライス32を経てピグテール24に接続され、
光遮断器18を通過した後励起光はWDM結合器26へ
と伝搬する。WDM結合器26は端部同士をスプライス
36を介し、光ファイバピグテール31で連結される利
得ファイバ34内に励起光を案内する。
ては約1480nmの波長を有する。利得ファイバ34
は通常当業者には周知のエルビウム添加ファイバが用い
られる。エルビウム添加利得ファイバ34は3レベル遷
移を有し、1550nmの中心波長を有した広帯域光信
号を発生する。1991年2月8日発行の米国特許第
5,231,465号及び1992年6月2日発行の米
国特許第5,119,229号に、エルビウムが添加さ
れたコアを用いて光ファイバ内に光信号を与える構成が
開示されている。
し、利得ファイバ34内において両方向に長手に伝搬す
る光を発する。励起光の伝搬方向に移動する光は前進光
と呼ぶ。また利得ファイバ34を励起光の伝搬方向の反
対方向に移動する光は逆光と呼ぶ。前進光は利得ファイ
バ34を終端部に有する反射器38から反射する。反射
器38は好ましくはダイクロイックミラーであるが、光
ファイバの端部のブラッグ格子部あるいは直線劈開部に
できる。ダイクロイックミラー38により、前進方向に
移送される光は再び逆方向に反射され、逆光及び前進光
の両方はWDM結合器26へ向けられる。励起光はダイ
クロイックミラー38によって反射されない。
から発せられた光が、光ファイバピグテール29を介し
光ファイバ回転センサ12へ向けられる。光ファイバピ
グテール29はスプライス44を介し光ファイバピグテ
ール48と接続され、光ファイバピグテール48自体は
光遮断器50への入力部として機能する。光遮断器50
は光ファイバピグテール52に対する光出力部を形成す
る。
プレクサ54へ伝搬する。マルチプレクサ54には3つ
の光ファイバピグテール56〜58が含まれる。光遮断
器50の出力光ファイバピグテール52はスプライス6
0で光ファイバ56に対し接着接続される。光信号源1
0からの光信号は次にマルチプレクサ54を経て光ファ
イバピグテール57へ送出される。スプライス62によ
りマルチプレクサピグテール57とピグテール64とが
接続され、ピグテール64自体は多機能一体光学チップ
(MIOC)66に接続され、MIOC66内には光フ
ァイバ回転センサシステムに使用され互いに反対方向に
伝搬する波を形成し処理する周知の構成要素も含まれて
いる。好適なMIOC構造怠については米国特許第4,
915,503号、第4,997,282号及び第5,
037,205号に開示のものを採用し得る。
7、68に接続される。一対のスプライス70、72に
より各々、光ファイバピグテール67、68と光ファイ
バ検出コイル74とが接続される。MIOC66は光信
号源からの入力光を処理し、互いに反対方向に伝搬する
波を検出コイル74へ送る。検出コイル74の平面に対
し垂直な線を中心に光ファイバ回転センサ12を回転さ
せたとき、サニャック効果により互いに反対方向に伝搬
する波に位相差が生じる。互いに反対方向に伝搬する波
は検出コイル74を横断した後、MIOC66内で合流
し干渉パターンを構成する。互いに反対方向に伝搬した
後、流動する合流波は次に、MIOC66を出てマルチ
プレクサ54に入る。マルチプレクサ54の光ファイバ
ピグテール58はスプライス78を介し光ファイバピグ
テール58に接続された光ファイバ76に向かって合流
波を案内する。光ファイバ76は合流波を光検出器80
へ案内する。光検出器80は検出コイルを経て伝搬した
波を合流することにより得られた干渉パターンの強度を
示す電気信号を発生する。また信号処理回路(図示せ
ず)は検出コイルの回転を測定するために使用され得
る。
せるが、広帯光信号源10へ逆に伝搬することを防止す
るよう機能する。
は当業者には周知であるから、ここでは詳述しない。光
遮断器18、50には複数のミクロバルク光部品が含ま
れている。好ましい実施形態では、光遮断器50は2つ
の光ファイバピグテール、入力部の視準レンズ、複屈折
素子、ファラデー施光器、第2の複屈折素子、及び光を
逆に出力ファイバピグテール内に結合させるレンズを有
する。光遮断器に入る光は先ず平行にされ、次に常光ビ
ームおよび異常光ビームに分割される。各光ビームはフ
ァラデー施光器により45度旋回される。この2光ビー
ムは次に第1の複屈折素子に対し45度で整合された第
1の複屈折素子に入射し通過する。光ビームは次に出力
ファイバピグテール内に送られる。逆方向から光遮断器
50に入射する光はファラデー施光器により非相反的に
旋回され、第1の複屈折素子により阻止される。即ちこ
の種の光遮断器では40〜60dBが阻止される。光遮
断器はミクロバルク光構成部品あるいは薄膜構成部品で
構成できる。
ム添加ファイバ構成でレイジングを停止するに十分では
ない。励起光源14をエルビウム添加ファイバ(ED
F)34から遮断するためWDM結合器26を使用する
場合でも、エルビウム添加ファイバ34からの少量の光
はレーザーダイオード12へ逆反射できる。レーザーダ
イオードピグテールにより内部結合部品が利用されるた
め、特に高強度励起が使用される際、レーザーダイオー
ド12からエルビウム添加ファイバ34へ光が反射され
る。この問題を解決するため、本発明による光信号源に
は光遮断器50の他に光遮断器18が具備される。
め、光ファイバ信号源を設けた構成を示す。図2は高励
起パワー(50ミリワットより大きい)で励起される単
一パス広帯域ファイバ源のスペクトルを示す。図2のデ
ータは光遮断器50を含む反面、光遮断器18を含んで
いない光回路に対するものである。単一パス光源はダイ
クロイックミラー38を含んでいないが、代りに通常利
得ファイバ34から出る前進光を案内する角度毛細管を
備えていることが理解されよう。図2に示すスペクトル
図は飽和状態に近い状態で動作する広帯域ファイバ源の
代表的スペクトルである。
ダイクロイックミラーの代えて利得ファイバ34の直線
開部として形成された反射器38を有するダブルパス光
源(図示せず)の示すスペクトルである。直線開部は通
常前進光の4%を反射してダブルパスシステムを構成す
る。図3はスペクトルが光ファイバジャイロスコープ内
において安定しない2本の狭いピークになる状態を示し
ている。
した場合のスペクトルである。またダイクロイックミラ
ー反射器は複数の狭いピーク値になる効率的なダブルパ
ス構成を与える。
ペクトルを示す。励起光源14、好ましくはレーザーダ
イオードとWDM結合器26との間に設けられた光遮断
器18は励起光源14から反射を除去し、従ってレイジ
ングを発生し光信号出力内に多ピーク値を生じさせる空
洞部を除去する。システム内に2個の光遮断器18、5
0を含ませると、図5の広い単一ピークスペクトルが得
られる。この単一ピークスペクトルは光源がイオン化放
射線を受けるとき、ジャイロスコープの倍率安定性を増
加させる利点を有している。
起光の強度及び波長を一定値に保持するよう構成される
サーボシステム82を具備させることができる。このサ
ーボシステムにより励起光源14の出力の温度変動が除
去される。サーボシステム82には、励起光の少量(例
えば1%)を光遮断器18へ更に移送し、光ファイバ8
6へ送るように構成される光結合器84を含ませること
ができる。サーボシステム82は光遮断器18から分離
された光を入力し、励起光源14への入力としてのフィ
ードバック信号を発生して、強度及び波長の一方あるい
は両方を安定化する。
4,792,956号、第4,842,358号、第
4,887,900号、及び第4,890,922号に
開示されており、本願においても採用可能である。
回転センサ構造内の種々の位置に配置可能である。例え
ばこの光結合器は光ファイバ28内の光遮断器18の下
流の位置Aにあるいは光ファイバピグテール31内にお
けるWDM結合器26の下流の点Bに配置可能である。
器26との間の光ファイバ線内に光遮断器を含ませてレ
ーザーダイオードの正面フェーセットから1.56μm
の光の反射を抑制する別の方法として、光をクラッディ
ング層へと分散することにより1.56μmで損失を与
える長周期格子部が使用できよう。これは(a)インラ
イン光遮断器より1480nmの励起波長での伝達損失
が低く、(b)コストが低く、(c)容積及び重量が極
めて小さくでき、また(d)全ファイバ構造および信頼
性を確保可能という利点を有している。長周期格子部の
使用では、2個の格子部が同一のファイバ上を使用で
き、ブラッグ格子部を使用してレーザーダイオードの励
起波長を制御する必要がある場合に特に良好な効果が得
られる。
は、光遮断器としては適切ではないが、レーザーダイオ
ードの正面フェーセットおよびWDMのダブルパスによ
り少なくとも−30dBの戻り損失を既に与えているの
で、10dBの長周期格子部により全域で−50dBの
阻止が容易に得られ、十分に振動を抑制する等々の効果
がある。
す。
るスペクトル出力のグラフである。
形成し、アイソレータを具備しない構成でダブルパス光
ファイバ光信号源のスペクトルグラフである。
タを具備しない構成でダブルパス光ファイバ光信号源の
スペクトルグラフである。
る光ファイバ光信号源のスペクトルグラフである。
Claims (8)
- 【請求項1】 励起光を入力する第1の光遮断装置
(18)と、第1の光遮断装置(18)を通過する励起
光を入力する波長多重器(26)と、波長多重器(2
6)と接続され、利得ファイバ(34)から出る広帯域
光の一部を案内する出力光ファイバ(29)と、出力光
ファイバ(29)に接続される第2の光遮断器(50)
とを備え、利得ファイバ(34)は波長多重器(26)
と接続され、励起光により光学的に励起され波長多重器
(26)へ伝搬する広帯域光を送出することを特徴とす
る、励起光を利得ファイバ(4)に与える励起光源(1
4)を含む光信号源(10)。 - 【請求項2】 利得ファイバ(34)がエルビウムが
添加された長手の光ファイバでなる請求項1の光信号
源。 - 【請求項3】 利得ファイバ(34)の端部に接続さ
れ、前進光及び後進光の両方を利得ファイバ(34)内
において波長多重器(26)へ伝搬させ、出力ファイバ
(29)内に導入させる反射器(38)を備えてなる請
求項2の光信号源。 - 【請求項4】 反射器(38)がダイクロイックミラ
ーとして形成されてなる請求項3の光信号源。 - 【請求項5】 励起光を入力する第1の光遮断装置
(18)を配置する工程と、第1の光遮断装置(18)
を通過する励起光を入力する波長多重器(26)を配置
する工程と、利得ファイバ(34)を波長多重器(2
6)と接続し、励起光により光学的に励起され、利得フ
ァイバ(34)から出る広帯域光波長多重器(26)へ
伝搬させる利得ファイバ(34)を配置する工程と、出
力光ファイバ(29)を波長多重器(26)に接続し、
利得ファイバ(34)から出る広帯域光の一部を案内す
る出力光ファイバ(29)を配置する工程と、第2の光
遮断器(50)を出力光ファイバ(29)と接続する工
程とを包有することを特徴とする、励起光を利得ファイ
バ(4)に与える励起光源(14)を含む光信号源を形
成する方法。 - 【請求項6】 エルビウムが添加された長手の光ファ
イバでなる利得ファイバ(34)を形成する工程を包有
する請求項5の方法。 - 【請求項7】 反射器(38)を利得ファイバ(3
4)の端部と接続し、前進光及び後進光の両方を利得フ
ァイバ(34)内で波長多重器(26)へ伝搬させ出力
ファイバ内に導入させる工程を包有してなる請求項6の
方法。 - 【請求項8】 ダイクロイックミラーとして形成され
る反射器(38)を形成する工程を包有してなる請求項
7の方法。
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