JP2000030606A - Plasma display panel barrier forming composition, barrier forming recessed plate, formation of barrier, and plasma display panel - Google Patents

Plasma display panel barrier forming composition, barrier forming recessed plate, formation of barrier, and plasma display panel

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JP2000030606A
JP2000030606A JP19613798A JP19613798A JP2000030606A JP 2000030606 A JP2000030606 A JP 2000030606A JP 19613798 A JP19613798 A JP 19613798A JP 19613798 A JP19613798 A JP 19613798A JP 2000030606 A JP2000030606 A JP 2000030606A
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forming
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intaglio
display panel
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Isao Kato
功 加藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a barrier, which can be easily released from a recessed plate, for a highly precise and high density display panel at low costs by using water as a solvent. SOLUTION: Slurry 14 is poured into a recessed part of a barrier forming recessed plate 11 by means of a squeegee and the like, and the barrier forming recessed plate 11 is reversed after a glass substrate 13 is pressed to the barrier forming recessed plate 11 upper part. After water content of the slurry 14 is absorbed, the barrier forming recessed plate 11 is lifted up, and the slurry 14 is transferred to the glass substrate 13 so as to be burnt. Desirably, the recessed plate 11 is made of a material with a barrier forming composition solvent absorbing characteristic and provided with a recessed part in a predetermined pattern. For this material, gypsam is suitable, and the recessed plate 11 is provided with a mold releasing layer formed in the recessed part. Preferably, the recessed part face side of the barrier forming recessed plate 11 is pressed to the substrate 13 after a barrier forming composition is applied to the substrate 13, the recessed part is filled with the composition, a solvent in the composition is absorbed so that the composition is hardened, the recessed plate 11 is released from the substrate 13, and then, burning is carried out for forming a barrier.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルの製造工程に関わるものであり、詳しくは、放
電空間としてのセルを構成する障壁を形成するための凹
版およびそれを用いた障壁形成方法およびその方法によ
り製造したプラズマディスプレイパネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a plasma display panel, and more particularly, to an intaglio for forming a barrier constituting a cell as a discharge space, a method of forming a barrier using the same, and a method for forming the same. The present invention relates to a plasma display panel manufactured by the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にガス放電パネルであるプラズマデ
ィスプレイパネルは、2枚の基板に挟まれた微少な放電
空間を多数個持っている。紫外光のクロストークを防ぐ
ためには、確実に前記放電空間を得る必要がある。その
ため、線幅数10μm、高さ150〜200μm程度の
障壁を設ける必要がある。
2. Description of the Related Art A plasma display panel, which is generally a gas discharge panel, has a large number of minute discharge spaces sandwiched between two substrates. In order to prevent crosstalk of ultraviolet light, it is necessary to reliably obtain the discharge space. Therefore, it is necessary to provide a barrier having a line width of about 10 μm and a height of about 150 to 200 μm.

【0003】このような立体構造を有する障壁の作成方
法として、さまざまな手法が現在提案されている。スク
リーン印刷法、フォトリソグラフィ技術を基本とするサ
ンドブラスト法、リフトオフ法、感光性ペースト法など
がその例である。
[0003] Various methods have been proposed as a method for producing a barrier having such a three-dimensional structure. Examples thereof include a screen printing method, a sand blast method based on a photolithography technique, a lift-off method, and a photosensitive paste method.

【0004】フォトリソグラフィ技術を基本とするサン
ドブラスト法、リフトオフ法、感光性ペースト法などで
は、位置精度やパターン形状には優れるが工程が長くな
り、生産コストが高くなるという欠点を持っている。一
方、スクリーン印刷法においては、1回に印刷される障
壁形成用組成物の厚さは数10μmであることから、印
刷を数回繰り返すことの生産性の低さとフォトリソグラ
フィ法で作成した電極部との位置整合が難しいという問
題点を抱えている。
The sand blast method, the lift-off method, the photosensitive paste method, and the like based on the photolithography technique are excellent in positional accuracy and pattern shape, but have disadvantages in that the process is long and the production cost is high. On the other hand, in the screen printing method, since the thickness of the barrier forming composition printed at one time is several tens of μm, the productivity of repeating printing several times is low, and the electrode portion formed by photolithography is low. There is a problem that it is difficult to match the position.

【0005】この他のプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法として、転写法がある。これは、凹版内の凹
部に埋めた障壁形成用組成物を版内で成形し、これを基
板に転写するという方法である。この方法は、前記した
いずれの障壁形成法と比較して、生産コスト、位置精度
共に優れるという利点を持っている。しかし、実際には
凹版から基板への転写中に障壁形成用組成物が壊れる、
版から抜けないなどの問題点がある。従来の凹版は金属
を切削するなどして作製している。
[0005] Another method of forming a barrier of a plasma display panel is a transfer method. This is a method in which a barrier-forming composition embedded in a concave portion in an intaglio plate is molded in a plate and transferred to a substrate. This method has an advantage that both the production cost and the positional accuracy are superior to any of the above-described barrier forming methods. However, in practice, the composition for barrier formation breaks during the transfer from the intaglio to the substrate,
There are problems such as not getting out of the version. Conventional intaglio is made by cutting metal.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものであり、その課題と
するところは、凹版からの版抜け性に優れ、低コストで
高精度・高密度なプラズマディスプレイパネルの障壁形
成方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve such problems, and it is an object of the present invention to provide a high-precision, low-cost, excellent plate removal from an intaglio. An object of the present invention is to provide a method for forming a barrier of a high density plasma display panel.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明はこの課題を解決
するために以下の手段を講じた。請求項1の発明は、水
を溶媒に用いることを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの障壁形成用組成物、である。
The present invention takes the following measures to solve this problem. The invention according to claim 1 is a composition for forming a barrier of a plasma display panel, wherein water is used as a solvent.

【0008】請求項2の発明は、プラズマディスプレイ
パネルの障壁形成用組成物の溶媒を吸収する性質をもつ
材料で形成されており、所定のパターンの凹部を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形
成用凹版、である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel, comprising a material having a property of absorbing a solvent of a composition for forming a barrier of the plasma display panel, and having a concave portion of a predetermined pattern. Intaglio for barrier formation.

【0009】請求項3の発明は、プラズマディスプレイ
パネルの障壁形成用組成物の溶媒を吸収する性質を持つ
材料が石膏であることを特徴とする、請求項2記載の障
壁形成用凹版、である。
A third aspect of the present invention is the intaglio for barrier formation according to the second aspect, wherein the material having the property of absorbing the solvent of the composition for barrier formation of a plasma display panel is gypsum. .

【0010】請求項4の発明は、請求項2または3に記
載の障壁形成用凹版と該凹版の凹部に形成されている離
型層とからなることを特徴とする障壁形成用凹版、であ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an intaglio for barrier formation, comprising the intaglio for barrier formation according to the second or third aspect and a release layer formed in a concave portion of the intaglio. .

【0011】請求項5の発明は、請求項2または4に記
載の障壁形成用凹版の凹部に障壁形成用組成物を充填し
た後、該障壁形成用組成物中の溶媒を該障壁形成用凹版
に吸収させるとともに該障壁形成用組成物を硬化させ、
硬化物を基上に転写した後、焼成することによって障
壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルの障壁形成方法、である。
According to a fifth aspect of the present invention, after filling the recess-forming composition of the second or fourth aspect with the composition for forming the barrier, the solvent in the composition for forming the barrier is filled with the solvent in the intaglio for forming the barrier. To cure the composition for barrier formation and
After transferring the cured product on a base plate, a barrier forming method, a plasma display panel and forming a barrier by baking.

【0012】請求項6の発明は、基板上に障壁形成用組
成物を塗布し、請求項2または4に記載の障壁形成用凹
版の凹部面側を該障壁形成用組成物が塗布された前記基
板に押しつけ、凹部に該障壁形成用組成物を充填し、該
障壁形成用組成物中の溶媒を該障壁形成用凹版に吸収さ
せ、該障壁形成用組成物を硬化させた後、凹版を基板か
ら離し、基板上に障壁パターンを形成し、焼成すること
によって障壁を形成することを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法、である。
According to a sixth aspect of the present invention, the barrier-forming composition is applied on a substrate, and the barrier-forming intaglio of the second or fourth aspect is coated with the barrier-forming composition. Pressing the substrate, filling the recess with the barrier-forming composition, allowing the solvent in the barrier-forming composition to be absorbed by the barrier-forming intaglio, and curing the barrier-forming composition. And forming a barrier pattern on the substrate by sintering, and forming the barrier by firing.

【0013】請求項7の発明は、請求項5または6に記
載の障壁形成方法によって障壁を形成したことを特徴と
するプラズマディスプレイパネル、である。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel wherein a barrier is formed by the barrier forming method according to the fifth or sixth aspect.

【0014】請求項5の発明は、低コストで高精度なプ
ラズマディスプレイパネルの障壁形成を、凹版内の障壁
形成用組成物を硬化させ、前記硬化物を基板上に転写す
る方法によって行い、凹版として障壁形成用組成物中の
溶媒を吸収する性質を有する材質の凹版を用い、障壁形
成用組成物を収縮、硬化させることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの障壁形成方法としたものであ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, a low-cost and high-precision plasma display panel barrier is formed by a method of curing a barrier-forming composition in an intaglio and transferring the cured product onto a substrate. A method of forming a barrier for a plasma display panel, wherein an intaglio plate made of a material having a property of absorbing a solvent in the barrier forming composition is used, and the barrier forming composition is contracted and cured.

【0015】また、請求項6の発明は、基板上に粘着層
を設け、前記障壁形成用組成物を塗布し、障壁形成用凹
版の凹部を基板に押しつけ凹部に障壁形成用組成物を充
填させた後、障壁形成用凹版を持ち上げパターンを形成
させる場合においても適用できる。接着層としては、粘
着剤、接着剤(熱、UV、電子線硬化など)が使用でき
るが、これらに限るわけではない。
According to a sixth aspect of the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer is provided on a substrate, the composition for forming a barrier is applied, and a concave portion of the intaglio for forming a barrier is pressed against the substrate to fill the concave portion with the composition for forming a barrier. After that, the present invention can be applied to the case where the intaglio for barrier formation is lifted to form a pattern. As the adhesive layer, an adhesive or an adhesive (heat, UV, electron beam curing, etc.) can be used, but is not limited thereto.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。本発明における障壁形成用凹版は障壁形成用組
成物中の溶媒を吸収する性質を持ち、版の加工性と形状
安定性に優れていることが必要であるので例えば石膏型
を用いる。石膏型以外のものであっても、前記条件を満
たす材料であれば障壁形成用凹版の材料として適用でき
る。
Embodiments of the present invention will be described below. The intaglio plate for forming a barrier in the present invention has a property of absorbing a solvent in the composition for forming a barrier, and is required to be excellent in processability and shape stability of the plate. For example, a gypsum mold is used. Even if it is a material other than the gypsum mold, any material that satisfies the above conditions can be applied as a material for the barrier-forming intaglio.

【0017】この障壁形成用凹版の作製方法としては、
モールドを用い転写により作製する方法、サンドブラス
トにより、凹部を削り落とすことによってパターンを形
成する方法があるが、この限りではない。
The method of manufacturing the intaglio for forming the barrier includes the following:
There is a method of forming a pattern by transfer using a mold, and a method of forming a pattern by shaving off a concave portion by sandblasting, but is not limited thereto.

【0018】障壁形成用凹版から基板への転写において
は、障壁形成用凹版として石膏を用いる場合には、障壁
形成用組成物として、水を20重量%から40重量%含
んだ泥しょうを用いることが好ましい。水の他に低融点
ガラスフリット、骨材、結合剤、可塑剤、解膠剤、湿潤
剤等から構成される。低融点ガラスフリットは、鉛系ガ
ラスあるいはリン酸系ガラスが用いられるがこの限りで
はない。さらに、耐水性を付与するため、Al2 3
ZrO2 等の化学的耐久性を高める成分を0.1から1
0重量%の範囲で含むものとする。
In the transfer from the intaglio for forming the barrier to the substrate, when gypsum is used as the intaglio for forming the barrier, a slurry containing 20 to 40% by weight of water is used as the composition for forming the barrier. Is preferred. In addition to water, it is composed of low melting point glass frit, aggregate, binder, plasticizer, deflocculant, wetting agent and the like. As the low melting point glass frit, lead-based glass or phosphate-based glass is used, but not limited thereto. Further, in order to impart water resistance, Al 2 O 3 ,
0.1 to 1 component that enhances chemical durability such as ZrO 2
It shall be contained in the range of 0% by weight.

【0019】この泥しょうあるいは障壁形成用組成物を
障壁形成用凹版の凹部に流し込み、泥しょうあるいは障
壁形成用組成物中の溶媒の障壁形成用凹版への吸収によ
り泥しょうあるいは障壁形成用組成物中の溶質の粒子密
度を向上させる。この粒子密度の向上により泥しょうあ
るいは障壁形成用組成物が収縮、硬化する。この収縮に
より、障壁形成用凹版からの離型性が向上する。また、
硬化時の吸水量を制御することによって、障壁の外表面
と内部との粒子密度を制御することができる。すなわ
ち、型と接触している部分である外表面の粒子密度が向
上し、障壁外表面の緻密性が優れたものとなる。さら
に、焼成後の障壁の形状も制御することができる。
The composition for forming a mud or barrier is poured into the recess of the intaglio for forming a barrier, and the solvent in the composition for forming a mud or barrier is absorbed into the intaglio for forming a barrier. Improve the particle density of the solute in it. Due to the increase in the particle density, the slurry or the composition for forming a barrier shrinks and hardens. Due to this shrinkage, the releasability from the intaglio for barrier formation is improved. Also,
By controlling the amount of water absorbed during curing, it is possible to control the particle density between the outer surface and the inside of the barrier. That is, the particle density of the outer surface, which is the portion in contact with the mold, is improved, and the denseness of the outer surface of the barrier is excellent. Furthermore, the shape of the fired barrier can be controlled.

【0020】請求項1に記載の障壁形成用組成物とはこ
の泥しょうのことを指す。泥しょうと従来の障壁形成用
組成物との違いは溶媒の違いである。請求項1記載の障
壁形成用組成物、すなわち泥しょうは、溶媒が水であ
り、従来の障壁形成用組成物は、溶媒が有機溶剤であ
る。
The composition for forming a barrier according to claim 1 refers to this slurry. The difference between the slurry and the conventional barrier-forming composition is the difference in the solvent. The solvent of the composition for forming a barrier according to claim 1, that is, the slurry is water, and the solvent of the conventional composition for forming a barrier is an organic solvent.

【0021】さらに、障壁形成用凹版からの硬化した障
壁形成用組成物の離型性を向上させるために、障壁形成
用凹版と硬化した障壁形成用組成物との摩擦を小さくす
るため障壁形成用凹版の一部にフッ素樹脂やシリコーン
ゴム等を塗布することによって、離型性を高めることも
できる。型の吸水性を損なわないようにするためには、
スプレー等の手法によりこれらの樹脂を少量噴霧する手
法を用いることが好ましい。
Further, in order to improve the releasability of the cured barrier-forming composition from the barrier-forming intaglio, the friction between the barrier-forming intaglio and the cured barrier-forming composition is reduced so that the barrier-forming intaglio is reduced. By applying a fluororesin, silicone rubber, or the like to a part of the intaglio, the releasability can be enhanced. In order not to impair the water absorption of the mold,
It is preferable to use a technique of spraying a small amount of these resins by a technique such as spraying.

【0022】次に、硬化した泥しょうあるいは障壁形成
用組成物を被印刷物に転写する。これを焼成することに
より、無機物の障壁を形成することが可能となる。本発
明において、泥しょう中あるいは障壁形成用組成物中の
樹脂量を最小限にすることができるので、焼成後の寸法
変化が少なく、高密度な障壁を形成することができる。
Next, the cured slurry or the composition for forming a barrier is transferred to a printing substrate. By firing this, an inorganic barrier can be formed. In the present invention, the amount of resin in the slurry or the composition for forming a barrier can be minimized, so that a dimensional change after firing is small and a high-density barrier can be formed.

【0023】本明細書において、所定のパターンの凹部
の一例としては幅150μm、深さ200μm、ピッチ
420μmのストライプ上の凹部が挙げられるが、この
サイズの凹部に限るわけではない。
In the present specification, an example of a concave portion having a predetermined pattern is a concave portion on a stripe having a width of 150 μm, a depth of 200 μm, and a pitch of 420 μm, but is not limited to this size.

【0024】請求項5及び6に記載した障壁形成用組成
物とは、請求項1に記載した障壁形成用組成物はもちろ
んのこと、本明細書中に記載の障壁形成用凹版に吸収さ
れうる溶媒を使用したその他の障壁形成用組成物も指
す。
The barrier-forming composition described in claims 5 and 6 can be absorbed by the barrier-forming intaglio described in the present specification as well as the barrier-forming composition described in claim 1. It also refers to other barrier-forming compositions using a solvent.

【0025】以上のようにして、本発明により、凹版転
写方法を利用し、高精度・高密度なプラズマディスプレ
イパネル背面板の障壁を形成することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to form a high-precision and high-density barrier on the back plate of a plasma display panel using the intaglio transfer method.

【0026】[0026]

【実施例】図1〜図12に本実施例によるプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法の各工程を示す。
1 to 12 show steps of a method of forming a barrier of a plasma display panel according to this embodiment.

【0027】<実施例1>まず、泥しょうを処方する。
泥しょうの組成は、以下の通りとした。 低融点ガラスフリット 63重量部 B2 3 3重量部 SiO2 35重量部 PbO 56重量部 ZrO2 3重量部 Al2 3 2重量部 CaO 1重量部 Al2 3 10重量部 水 20重量部 ポリビニルアルコール 2重量部 メチルセルロース 3重量部 ブチルベンジルフタレート 1重量部 アリルスルフォン酸 1重量部
<Example 1> First, a slurry is prescribed.
The composition of the slurry was as follows. Low melting glass frit 63 parts by weight B 2 O 3 3 parts by weight SiO 2 35 parts by weight PbO 56 parts by weight ZrO 2 3 parts by weight Al 2 O 3 2 parts by weight CaO 1 part by weight Al 2 O 3 10 parts by weight Water 20 parts by weight Polyvinyl alcohol 2 parts by weight Methylcellulose 3 parts by weight Butylbenzyl phthalate 1 part by weight Allylsulfonic acid 1 part by weight

【0028】障壁形成用凹版として石膏型を用いる。石
膏型は、モールドに対して焼き石膏と水の混合物を鋳込
みすることによって作製した。前記組成をもつ泥しょう
10を障壁形成用凹版11の凹部を図1に示すようにス
キージ12によって流し込む。障壁形成用凹版の上部に
ガラス基板13を押しつけ、図2に示すようにこれを反
転させる。
A gypsum mold is used as an intaglio for forming a barrier. The plaster mold was made by casting a mixture of calcined gypsum and water into the mold. As shown in FIG. 1, a slurry 10 having the above composition is poured into a recess of a barrier-forming intaglio 11 by a squeegee 12. The glass substrate 13 is pressed against the upper part of the intaglio for barrier formation, and is inverted as shown in FIG.

【0029】次に、泥しょうの吸水が進んだ後、図3に
示すように障壁形成用凹版を持ち上げ、パターン14を
基板に転写する。これを580℃で20分間焼成する事
により、図4に示すような幅100μm、高さ120μ
mの障壁15を作製する事が出来た。
Next, after the water absorption of the slurry proceeds, the intaglio for barrier formation is lifted as shown in FIG. 3, and the pattern 14 is transferred to the substrate. This is baked at 580 ° C. for 20 minutes to obtain a width of 100 μm and a height of 120 μm as shown in FIG.
m barriers 15 could be produced.

【0030】<実施例2>まず、泥しょうの処方を行
う。泥しょうの組成は、以下の通りとした。 低融点ガラスフリット 55重量部 B2 3 3重量部 SiO2 35重量部 PbO 56重量部 ZrO2 3重量部 Al2 3 2重量部 CaO 1重量部 Al2 3 10重量部 水 20重量部 ポリビニルアルコール 3重量部 メチルセルロース 5重量部 エチルセルロース 5重量部 ブチルベンジルフタレート 1重量部 アリルスルフォン酸 1重量部
<Example 2> First, a prescription of a slurry is made. The composition of the slurry was as follows. Low-melting glass frit 55 parts by weight B 2 O 3 3 parts by weight SiO 2 35 parts by weight PbO 56 parts by weight ZrO 2 3 parts by weight Al 2 O 3 2 parts by weight CaO 1 part by weight Al 2 O 3 10 parts by weight of water 20 parts by weight Polyvinyl alcohol 3 parts by weight Methyl cellulose 5 parts by weight Ethyl cellulose 5 parts by weight Butylbenzyl phthalate 1 part by weight Allylsulfonic acid 1 part by weight

【0031】ガラス基板13に粘着層16をアプリケー
ターを用いて10μm厚に塗布した後、図5に示すよう
に泥しょうをスクリーン印刷にて塗布する。次に、図6
に示すように前記石膏型を上から押しつける。
After applying the adhesive layer 16 to the glass substrate 13 to a thickness of 10 μm using an applicator, as shown in FIG. 5, a slurry is applied by screen printing. Next, FIG.
The plaster mold is pressed from above as shown in FIG.

【0032】次に、泥しょうの吸水が進んだ後、図7に
示すように凹版を持ち上げ、パターン14を基板に転写
する。これを580℃で20分間焼成する事により粘着
層は蒸発し、図8に示すような幅100μm、高さ12
0μmの障壁15を作製する事が出来た。
Next, after the water absorption of the slurry proceeds, the intaglio is lifted as shown in FIG. 7, and the pattern 14 is transferred to the substrate. By baking this at 580 ° C. for 20 minutes, the adhesive layer was evaporated, and the width was 100 μm and the height was 12 μm as shown in FIG.
The barrier 15 having a thickness of 0 μm was able to be manufactured.

【0033】<実施例3>まず、泥しょうの処方を行
う。泥しょうの組成は、実施例1の〔0021〕に記載
の組成とした。
<Example 3> First, a prescription for the slurry is made. The composition of the slurry was the composition described in [0021] of Example 1.

【0034】障壁形成用凹版には前記石膏型を用いる。
この石膏型の一部にスプレーによって、図9に示すよう
にシリコーン樹脂を噴霧する。この樹脂は、版の吸水性
を損なわない程度に少量噴霧した。次に、前記組成をも
つ泥しょう10を障壁形成用凹版11の凹部にスキージ
12によって流し込む。障壁形成用凹版の上部にガラス
基板13を押しつけ、図10に示すようにこれを反転さ
せる。
The gypsum mold is used for an intaglio for forming a barrier.
A silicone resin is sprayed on a part of the gypsum mold as shown in FIG. This resin was sprayed in a small amount so as not to impair the water absorption of the plate. Next, the slurry 10 having the above composition is poured into the recess of the barrier-forming intaglio 11 by the squeegee 12. The glass substrate 13 is pressed against the upper part of the intaglio for barrier formation, and is inverted as shown in FIG.

【0035】次に、泥しょうの吸水が進んだ後、図11
のように障壁形成用凹版を持ち上げ、パターン14を基
板に転写する。これを580℃で20分間焼成する事に
より、図12に示すような幅100μm、高さ120μ
mの障壁15を作製する事が出来た。
Next, after the water absorption of the slurry has progressed, FIG.
The pattern 14 is transferred to the substrate by lifting up the intaglio for barrier formation as described above. This was baked at 580 ° C. for 20 minutes to obtain a width of 100 μm and a height of 120 μm as shown in FIG.
m barriers 15 could be produced.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネルの
障壁形成方法によれば、障壁形成用組成物中の溶媒を吸
収する性質を有する凹版を利用することにより、熱硬化
や光硬化の手法を用いずに、離型性や保型性に優れた障
壁形成用組成物の転写を行うことができる。また、この
方法は、良好な線幅精度(100μm)を得ることがで
き、パターン焼成後の寸法変化も小さい(20%以下)
ことから、高精度・高密度なプラズマディスプレイ背面
板の障壁の製造方法を提供できる。
According to the method for forming a barrier of a plasma display panel of the present invention, by utilizing an intaglio having a property of absorbing a solvent in a composition for forming a barrier, there is no need to use a thermosetting or photocuring technique. Then, the transfer of the composition for forming a barrier having excellent releasability and retentivity can be performed. In addition, according to this method, good line width accuracy (100 μm) can be obtained, and dimensional change after pattern firing is small (20% or less).
Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing a high-precision and high-density plasma display rear panel barrier.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る泥しょう埋め込み工程
の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a slurry embedding process according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る障壁パターン転写工程
の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a barrier pattern transfer process according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係る障壁パターン転写工程
の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a barrier pattern transfer process according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例に係る障壁の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a barrier according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例に係る泥しょう塗布工程の断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a slurry applying step according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例に係る障壁パターン形成工程
の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a barrier pattern according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施例に係る障壁パターン形成工程
の断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a barrier pattern according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施例に係る障壁の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a barrier according to one embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施例に係る泥しょう埋め込み工程
の断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a slurry embedding step according to an embodiment of the present invention.

【図10】本発明の一実施例に係る障壁パターン転写工
程の断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a barrier pattern transfer step according to one embodiment of the present invention.

【図11】本発明の一実施例に係る障壁パターン転写工
程の断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a barrier pattern transfer step according to one embodiment of the present invention.

【図12】本発明の一実施例に係る障壁の断面図であ
る。
FIG. 12 is a cross-sectional view of a barrier according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…泥しょう 11…障壁形成用凹版 12…スキージ 13…ガラス基板 14…泥しょう 15…障壁 16…粘着層 17…シリコーンゴム Reference Signs List 10: mud 11: intaglio for barrier formation 12: squeegee 13: glass substrate 14: mud 15: barrier 16: adhesive layer 17: silicone rubber

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】水を溶媒に用いることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの障壁形成用組成物。
1. A composition for forming a barrier of a plasma display panel, wherein water is used as a solvent.
【請求項2】プラズマディスプレイパネルの障壁形成用
組成物の溶媒を吸収する性質をもつ材料で形成されてお
り、所定のパターンの凹部を有することを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの障壁形成用凹版。
2. An intaglio plate for forming a barrier of a plasma display panel, wherein the intaglio plate is formed of a material having a property of absorbing a solvent of a composition for forming a barrier of the plasma display panel and has a predetermined pattern of concave portions.
【請求項3】プラズマディスプレイパネルの障壁形成用
組成物の溶媒を吸収する性質を持つ材料が石膏であるこ
とを特徴とする、請求項2記載の障壁形成用凹版。
3. The intaglio for barrier formation according to claim 2, wherein the material having a property of absorbing the solvent of the composition for barrier formation of a plasma display panel is gypsum.
【請求項4】請求項2または3に記載の障壁形成用凹版
と該障壁形成用凹版の凹部に形成されている離型層とか
らなることを特徴とする障壁形成用凹版。
4. An intaglio for barrier formation, comprising the intaglio for barrier formation according to claim 2 and a release layer formed in a concave portion of the intaglio for barrier formation.
【請求項5】請求項2または4に記載の障壁形成用凹版
の凹部に障壁形成用組成物を充填した後、該障壁形成用
組成物中の溶媒を該障壁形成用凹版に吸収させるととも
に該障壁形成用組成物を硬化させ、硬化物を基板上に転
写した後、焼成することによって障壁を形成することを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形成方
法。
5. A barrier-forming intaglio according to claim 2 or 4, wherein after filling the recess-forming composition with the barrier-forming composition, a solvent contained in the barrier-forming composition is absorbed by the barrier-forming intaglio. A method for forming a barrier of a plasma display panel, comprising: curing a barrier-forming composition; transferring the cured product onto a substrate; and baking to form a barrier.
【請求項6】基板上に障壁形成用組成物を塗布し、請求
項2または4に記載の障壁形成用凹版の凹部面側を該障
壁形成用組成物が塗布された前記基板に押しつけ、凹部
に該障壁形成用組成物を充填し、該障壁形成用組成物中
の溶媒を該障壁形成用凹版に吸収させ、該障壁形成用組
成物を硬化させた後、凹版を基板から離し、基板上に障
壁パターンを形成し、焼成することによって障壁を形成
することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法。
6. A barrier-forming composition is applied on a substrate, and the recessed surface side of the barrier-forming intaglio according to claim 2 or 4 is pressed against the substrate on which the barrier-forming composition has been applied. Is filled with the barrier-forming composition, the solvent in the barrier-forming composition is absorbed by the barrier-forming intaglio, and the barrier-forming composition is cured. Forming a barrier pattern by forming a barrier pattern and baking the same.
【請求項7】請求項5または6に記載の障壁形成方法に
よって障壁を形成したことを特徴とするプラズマディス
プレイパネル。
7. A plasma display panel, wherein a barrier is formed by the barrier forming method according to claim 5.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001278906A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Taiyo Ink Mfg Ltd Photo-curing paste composition
US6601629B2 (en) * 1999-11-17 2003-08-05 Fujitsu, Limited Three-dimensional structure transfer method and apparatus
US8377586B2 (en) 2005-10-05 2013-02-19 California Institute Of Technology Fluoride ion electrochemical cell

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6601629B2 (en) * 1999-11-17 2003-08-05 Fujitsu, Limited Three-dimensional structure transfer method and apparatus
JP2001278906A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Taiyo Ink Mfg Ltd Photo-curing paste composition
JP4719332B2 (en) * 2000-03-31 2011-07-06 太陽ホールディングス株式会社 Photo-curable paste composition
US8377586B2 (en) 2005-10-05 2013-02-19 California Institute Of Technology Fluoride ion electrochemical cell
US8968921B2 (en) 2005-10-05 2015-03-03 California Institute Of Technology Fluoride ion electrochemical cell

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